JPS592034A - 感光性樹脂組成物 - Google Patents

感光性樹脂組成物

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JPS592034A
JPS592034A JP11065082A JP11065082A JPS592034A JP S592034 A JPS592034 A JP S592034A JP 11065082 A JP11065082 A JP 11065082A JP 11065082 A JP11065082 A JP 11065082A JP S592034 A JPS592034 A JP S592034A
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JP
Japan
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meth
acrylate
photosensitive resin
ultraviolet rays
irradiated
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Pending
Application number
JP11065082A
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English (en)
Inventor
Makoto Asano
真 浅野
Kiyoharu Hasegawa
長谷川 清春
Michihiro Tsujimoto
辻本 道弘
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsui Toatsu Chemicals Inc
Original Assignee
Mitsui Toatsu Chemicals Inc
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/105Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、フォトクロミック材料を用いた新規な感光性
樹脂組成物に関する。
更に詳細には、光増感剤およびスピロピラン化合物を含
有し電磁波または電子線の照射により変色または着色し
、かつ硬化する感光性樹脂組成物に関する。
近年、感光性樹脂は神々の用途に多用されてきている。
これは、感光性樹脂が速硬化性による工程短縮および生
産性向上の利点、無溶剤であることによる省資源、環境
汚染を生じない利点、あるいは紫外線等により硬化する
ことによる省エネルギー、精密なパターン形成が可能で
ある利点などを有し、従来の熱硬化性樹脂にくらべ実用
」−有利なことによる。
このような機能を有する感光性樹脂は、近年、プリント
回路の加工、IC,LSIなどの集積回路の進展に伴な
い、広く使用されるようになり、史に高機能を要求され
るようになった。
すなわち、印刷回路板の製造には、銅被覆積層板の表面
に、光重合性膜の一方の表面を接着させ、他方の表面に
膜支持物に接着させ、その後予め決ったパターンに従っ
て光重合性層を露光したのち■支持物を除去して適当な
有機溶剤またはアルカリ水浴液などで未露光部分を洗い
去り、銅層を露出させる、あるいは■未露光部と露光部
との支持物との接着性の差を利用して、未霧光部または
露光部を支持物と共にとり除き、銅層を露出させる方式
の、いわゆる「ドライフィルムレジスト」と称される方
式、あるいは銅被a1m層板上にスクリーン印刷等で応
用される、いわゆる[液状フォトレジスト]と称される
方式が適用されている。
上記のような印刷回路板の製造において、露光後、上記
銅被覆積層板の未露光または露光部分9除去前に製品を
検査して、光マスクが適当に(自かれているか、露光し
た光重合性層にきすがないかどうか適切に確認できれば
作業上極めて好ましい。
しかし、従来、このようなことは極めて困難であった。
すなわち、ドライフィルムレジスト膜または液状フォト
レジスト層の現像および銅被覆積層板の銅露出部分のエ
ツチングの前に、露光状態およびきすの有無の検出がで
きるような感光性樹脂組成物が強く望まれていた。
本発明者らは、このような要請をふまえ、露光部および
未露光部のパターン認識を容易にしうるフォトレジスト
材料について鋭意検1t−Jを行なった結果、(0)光
増感剤の存在下に紫外線を照射することによりポリマー
化しうる樹脂、C)紫外線の照射によりラジカルを発生
する光増感剤、および(c)紫外線の照射によりメロシ
アニン色素を可逆的に生ずるスピロピラン系色素を必須
成分とする感光性樹脂組成物が、紫外線照射時に迅速に
着色あるいは変色をおこし、露光部と未露光部のパター
ン認識が極めて容易に行ない5ることを見出し本発明に
到達した。
すなわち、本発明の感光性樹脂組成物は、従来公知の感
光性樹脂組成物、すなわち露光パターンが認識不可のも
のに、露光により可逆的に色相変化を生ずるスピロピラ
ン系色素を加えてなる新規な感光性樹脂組成物である。
本発明の組成物に用いられる(a)光増感剤の存在下、
感光性樹脂は、電磁波もしくは粒子線、例えば紫外線を
照射することによりポリエーテルしうる樹脂であって、
例えば■ラジカル重合型感光性樹脂類、■付加重合型感
光性樹脂類などが挙げられる。
具体的には、■ラジカル重合型感光性樹脂類としては、
例えば、(1)■無水フタル酸、イノフタル酸、テレフ
タル酸、アジピン酸、セパチン酸、テトラヒドロフタル
酸、メチルテトラヒドロフタル酸、ハイミック酸、トリ
メリット酸、ピロメリット酸、ヘット酸などのような多
塩基酸と@エチレンクリコール、プロピレングリコール
、ポリエチレングリコール、ポリプロピレンクリコール
、113−ブチレンジグリコール、1,4−ブチレンジ
グリコ−/l/、1.6−ヘキサンシフリコール、ネオ
ペンチルグリコール、グリセリン、トリメチロールエタ
ン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、
ジペンタエリスリトール、ビスフェノールAエチレンオ
キサイド付加、水添ビスフェノールA、ポリブチレング
リコール、ポリカプロラクトンなどのような多仙1グリ
コールおよびO(メタ)アクリル酸とのエステル化反応
により得られるポリエステル(メタ)アクリレート樹脂
、また(2)■上記多塩基酸と上記多価グリコールより
得られるポリエステルまたは0ポリエチレングリコール
、ポリプロピレングリコール、ポリブチレングリコール
へポリカプロラクトンなどのようなポリエーテルと0ト
リレンジイソシアネート、4.4′−ジフエ、=ルメタ
ンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ヘ
キサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネー
ト、4,4′−メチレンビス(シクロヘキシルイソシア
ネート)、水素化トリレンジイソシアネート、1.3−
(インシアネートメチル)シクロヘキサン、イソホロン
ジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシ
アネートなどのようなジインシアネートおよび02−ヒ
ドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ
プロピル(メタ)アクリレートなどのようなヒドロキシ
ル基と(メタ)アクリロイル基を有する単量体の反応に
より得られるポリウレタン(メタ)アクリレート樹脂、
さらに(3)■ビスフェノールAジグリシジルエーテル
、脂肪族グリシジルエーテル、ノボラック型エポキシ樹
脂、エポキシ化ポリブタジェン、エポキシ化油脂、脂肪
酸変性エポキシ樹脂、ハロゲン含有エポキシ樹脂などの
エポキシ樹脂と0(メタ)アクリル酸を反応させて得ら
れるエポキシ(メタ)アクリレート樹脂、そのほか(4
)■ポリアセタールと02−ヒドロキシエチル(メタ)
アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリ
レート、(メタ)アクリル酸などのような活性水素と(
メタ)アクリロイル基を有する単量体との反応により得
られるポリアセタール(メタ)アクリレート樹脂、(5
)シリコーンオリゴマーの末端または側鎖に(メタ)ア
クリロイル基を導入したシリコーン(メタ)アクリレー
ト樹脂、(6)■メチル(メタ)アクリレート、エチル
(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレ−°°
ト、イソプロピル(メタ)アクリレート、2−エチルヘ
キシル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(
メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)
アクリレート、(メタ)アクリル酸、マレイン酸、イタ
コン酸、フマール酸、アクリルアミド、グリシジル(メ
タ)アクリレート、スチレン、ビニルトルエン、酢酸ビ
ニル、アクリロニトリル、ジエチルアミノエチル(メタ
)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリ
レート、モルホノエチル(メタ)アクリレートなどのα
、β不飽和単量体を@ビニル共重合することにより得ら
れるビニル共重合体の側鎖の官能基を利用し、例えば■
ビニル共重合体のグリシジル基に対しては、(メタ)ア
クリル酸のようなカルボキシル基と(メタ)アクリロイ
ル基を有する単量体を反応さぜ■ビニル共重谷体のヒド
ロキシル基に対しては、ジイソシアネートと2ヒドロキ
シエチル(メタ)アクリレート、2ヒドロキシプロピル
(メタ)アクリレートのようなヒドロキシル基と(メタ
)アクリロイル基を有する単量体を反応させ、あるいは
、■ビニル共重合体の酸無水物基に対l〜て&L上記の
ようブ、cヒドロギシル基と(メタ)アクリロイル基を
有する単量体を反応させることにより(メタ)アクリロ
イル基を導入したビニル共重合体(メタ)アクリレート
樹脂、(7)メラミン(メタ)アクリレート樹脂、(8
)ポリブタジェン(メタ)アクリレート樹脂、あるいは
(9)シクロペンタジェン(メタ)アクリレート樹脂な
どがあげられる。
■上記付加重合型感光性樹脂類としては、ペンタジェン
IJ )−ルテトラキス(チオグリコレート)、トリメ
チロールプロパントリス(β−メルカプトプロピオネー
ト)、エチレングリコールジメルカプトプロビオネート
などのようなポリチオール化合物と上記ラジカル重合型
感光性樹脂類、末端アリル型ウレタン樹脂、末端アリル
型エポキシ樹脂、末端アリル型エポキシ樹脂、末端アリ
ル型メラミン樹脂、ビニル化合物、ジエン系化合物など
の不飽和樹脂との組合せがあげられる。これらの感光性
4ii、l脂は単独で使用しても二種以上混合してもよ
い。
本発明の組成物に用いられる(/り光増感剤としては、
例えば紫外線の照射によりラジカルを発生する化合物で
あればよいが、ラジカルの発生効率のよいことが要求さ
れる。このような光増感剤としては、例えば、(1)ベ
ンゾイン、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソ
プロピルエーテル、ベンゾインη−ブチルエーテル、ベ
ンゾインイソブチルエーテル、ペンツインオクチルエー
テルナトのベンゾイン型光増感剤、(2) 2.5−ジ
メトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2.2−ジェ
トキシアセトフェノン、p−フェノキシ−2,2−ジク
ロルアセトフェノン p −f−ブチル−2,2,2−
トリクロルアセトフェノン p −、t−ブチル−2,
2−ジクロルアセトフェノンなどのアセトフェノン型光
増感剤、(3) 1−フェニル−1,2−プロパンジオ
ン−2−(0−エトキシカルボニル)オキシム、1−フ
ェニル−1,2−プロパンジオン−2−(〇−ヘンソイ
ル)オキシムなどのα−アシロキムエステル型光増感剤
、(4)2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン
、4′−イノプロピル−2−ヒドロキシ−2−メチルプ
ロピオフェノンなどのプロヒオフエノン型光増感剤、 
(5)ベンゾフェノン、4、4’ −ヒスジエチルアミ
ノベンゾフェノン、塩素化ベンゾフェノンなどのベンゾ
フェノン型光増感剤、(6)2−エチルアントラキノン
、2−ズーブチルアントラキノン、2−アミルアントラ
キノン、2−クロルアントラキノンなどのアントラキノ
ン型光増感剤、(7)2−クロルチオキサントン、2−
メチルチオキサトン、2−イソプロビルチオキサントン
、2,4−ジイソプロピルチオキサントンなどのチオキ
サントン型光増感剤、その他(8)メチル−オルソベン
ゾイルベンゾニートナどのベンゾエート型増感剤などが
あげられる。これらの光増感剤は単独で使用しても二種
以上混合して使用してもよい。
本発明の組成物に使用されるスピロピラン化合物とは、
例えば、次式に示ずように、 (スピロピラ/)(メロシアニン色素)ヘテロリティッ
クな光解離によりメロシアニン色素を可逆的に生ずるス
ピロピラン骨格を分子内に有する化合物であって、具体
的には’L3,31”)メチ)L’−インドリノ−2,
2′−スピロ−6−二トローペンゾピラン、1.3.3
− )リメチルインドリノ−2,2’−スピロ−ベンゾ
ピラン、1. s、 3− )リフチルインドリノ−2
,2′−スピロ−6′−ニトロ−8′−メトキシベンゾ
ピラン、1.3.3− )ジメチルインドリノ−2,2
′−スピロ−6′−二トロー8′−メタアクリロキシメ
チル−ベンゾピラン、1.5.3− )ジメチルインド
リノ−2,2′−スピロ−6で8′−ジブロモ−ベンゾ
ピラン、1.ろ、6−ドリメチルインドリノー2.2′
−スピロ−5−7′−ジクロル−6′−と二ニトロベン
ゾピラン、1.1.3−1−ジメチルインドリノ−2,
2′−スピロ−β−ナフトスピロピラン、1゜!l、 
5− )ジメチル下インドリノー2,2′−スピロ−6
−ニトロ−8−ピペリジノメチル−ベンゾピラン、シー
β−ナフl−スピロヒラン、ビス−スピロ−ベンゾピラ
ン、2.2”−スピロ−1?6τ6″−トリメチルイン
ドリノ−6フークロローβ−ナフトスピロピラン、2.
2″−スピロ−1?ろ? 3/7  )ジメチルインド
リノ−6′−プロモーβ−ナフトスピロピラン、キサン
ト−β−ナフト−スピロピラン、2.2’−スピロ−ベ
ンゾピラノ−β−ナフトピランなどがあげられる。もち
ろんこれらの化合物に限定されるものではない。
本発明の組成物における(a)、(りおよび(O)t、
it分の含有鼠は、(a)感光性樹脂100重量部に対
し、(4)光増感剤が005〜20重量部好ましくは0
1〜15重量部、(O)スピロピラン系化合物が005
〜15重坩部好ましくは01〜5重佃部である。
本発明の組成物は、上記(a)、ψ)および(o)の必
須成分のほかに、必要に応じて、(α)次のような不飽
和化合物、例えば、(1)2−ヒドロキシエチル(メタ
)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アク
リレート、セロソルブ(メタ)アクリレート、メチルセ
ロソルブ(メタ)アクリレート、プチルセロンルプ(メ
タ)アクリレート、カルピトール(メタ)アクリレート
、メチルカルピトール(メタ)アクリレート、ブチルカ
ルピトール(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(
メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、
ジシクロペンタジェニル(メタ)アクリレート、ジシク
ロペンタジェニルオキシエチル(メタ)アクリレート、
酢酸ビニル、N−ビニルピロリドン、テトラヒドロフル
フリル(メタ)アクリレート、ノニルフェノキシエチル
(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−6−クロルプ
ロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フ
ェノキシプロビル(メタ)アクリレート、フェニルセロ
ソルブ(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(
メタ)アクリロイルホスフェート、などの単宜能(メタ
)アクリレート、(2)ネオベンチルグリコールジ(メ
タ)アクリレート、1.6−ヘキサングリコールジ(メ
タ)アクリレート、1.4−プチレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、1,3−プチレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)ア
クリレート、ポリエチレングリコール、ジ(メタ)アク
リレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレ
ート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート
、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポ
リカプロラクトンジ(メタ)アクリレート、ビスフェノ
ールAジオキシジエチレングリコールエーテルジアクリ
レート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレ
ート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート
、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、
ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートな
どがあげられる。
本発明の組成物は、主として次のようにプリント基盤用
バタン形成フォトレジスト材料とl〜て使用される。す
なわち、 ■ドライフィルムレジストとして使用する場合は本発明
の組成物をメチルエチルケトン等の低沸点層剤に溶解希
釈したのち、ポリアミド、ポリオレフィン、ポリエステ
ル、ビニル重合体、セルロースエステルなどの各種のフ
ィルム(以下「支持体フィルム」と称する)上に連続式
ウェブ塗装材などで被覆し、低温で乾燥して薄膜とし、
更に上層にポリオレフィン、ポリエステル等の保護膜で
加IEローラー等を用いて積層したサンドインチ構造と
したものを調製する。これを実際の使用に際しては、保
護膜をとり除し・て、銅被覆積層板の清浄な胴衣I用と
重ね合わせて、ロールを用(・て積1&させ、更に、所
望のパターン部分の光を透過させるマスクを通じて紫外
線を照射し、銅板上にパターン認識可能な着色像を描か
せる。
■液状レジストとして使用する場合は、本発明の組成物
よりなる液状フォトレジストを金属、プラスティックス
、紙、カラスなどの累月上に、谷神の方法で塗装または
印刷したのち紫外線で硬化させる方法。あるいは上記組
成物をロールコータ−、ナイフコーター、フローコータ
ーなどにより塗装したフィルムを銅板上に圧着させるか
、または銅被)i 積N 板上にロールコータ−、スプ
レー、フローコーター、スクリーン印刷、グラビア印刷
、オフセット印刷、浸漬などにより直接塗布し、紫外線
を全面露光または所望のパターン部分の光を透過させる
マスクを通じて照射し、銅板上に全面新色させるかまた
はパターン認識可能な着色像を描かせる。
本発明の感光性樹脂組成物は電磁波または粒子線により
着色とポリマー化をさせることができる。
紫外線、近紫外線、γ線、X線などの光線およびβ線(
電子線)α線などの質量を有する放射線があげられる。
実用的には5O−400W/Cmの高圧水銀灯、超高圧
水銀灯、メタルノ・ライドランプ、カーボンアーク、紫
外線放射けいリン光体を有する螢光灯、アルゴングロー
灯、太陽灯、亀子フラッシュ装置、写真フラッシュ灯な
どの紫外線またはβ線(電子線)の照射が多用される。
以下、実施例および比較例により本発明を説明する。
実施例−1 ポリプロピレングリコール(分子−1:1000)50
0、!II+、  2−ヒドロキシエチルアクリレート
116g、ヘキサメチレンジイソシアナート168Lを
撹1≧1′機つきフラスコに入れ、80°Cでウレタン
化反応を行ないウレタンアクリレートを得た。
該ウレタンアクリレート100g、増感剤としての2−
クロルアントラキノン3gおよび、1゜3、3− )リ
フチルインドリノ−2,2′−スピロ−6フー二トロー
87−メドキシーベンゾヒラン10gを混合浴解し、紫
色の感光性樹脂組成物を得た。
該組成物を銅被覆積層板上に20μの厚さにスクリーン
印刷して、淡紫色の樹脂層を形成させたのち、1oow
/cmの高圧水銀ランプにより紫外線を6秒間照射した
ところ完全に硬化し黄かつ色となった。
このようにして得堕た硬化被膜は折曲げ性、表面硬化、
密着性が良好であった。
実施例−2 重匍暗1( スチレン75係とメタクリル酸25係の共   60合
体 ペンタエ1μリトールテトラアクリレート     2
0p−フェノキシ−2,2−ジクロルアセトフェノン 
3メチルエチルケトン          2000重
媚組酸物を有する組成物を1ミル厚さのポリエステルフ
ィルムに12μm、の乾燥厚みを与えるように塗布し風
乾したのち乾燥膜を1ミル厚さのポリエチレンフィルム
でおおった。
上記のサンドイッチしたフォトレジストのポリエチレン
カバーフィルムを除去し、フォトレジスト露出面を銅被
覆積層板(ユニバーサルオイルプロダクト社製)の清浄
銅表面に積層し、ゴムカベ−ロールでプレスして密着さ
せた。
導電性パターンが不透明バックグラウンドの透明区域と
なる高コントラストフィルム(アークライト社製ジアゾ
フィルム)を上部に密着させたのち250 W 7cm
の超高圧水銀灯により紫外線を1分間照射したところ紫
外線の露光部分は完全に硬化し濃い橙黄色となった。積
層板上の着色したパターンはマスクフィルムのパターン
通りに形成されていることが容易に識別された。
未露光部分を常法により除去し、所望の濃い橙黄色の着
色パターンが得られた。
実施例 ビスフェノール型エポキシ(商品名シェル社、エピコー
ト828)195.9にアクリル+i& 72 g、促
進剤としてのトリエチルアミン0.5gを加え、エポキ
シ基の開環付加反応によりエポキシアクリレートを得た
該エポキシアクリレート80,9.ネオペンチルグリコ
ールジアクリレート20g、増感剤としてのベンゾイン
ブチルエーテル25yおよび、ジ−β−ナフト−スピロ
ピラン11!jを混合溶解して感光性樹脂組成物を得た
該組成物をバーコーターによりボンデ処理鋼板上に70
μの厚さに塗布し、100 W/Cmのメタルハライド
ランプにより5秒間紫外線を照射したところ完全に硬化
し、硬化被膜は無色から紫色に変化した。
特許出願人 三井東圧化学株式会社

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 ) (0,)感光性樹脂、(9光増感剤に(C)ス
    ピロピラン系化合物を含有させてなることを特徴とする
    感光性樹脂組成物。
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