JPS59193446A - 感光性積層物 - Google Patents
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/105—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Architecture (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、感光性積層物に関する。更に詳しくは、印刷
回路板製造、金属精密加工等に使用し得る優れた性質を
有する保誇被覆形成用感光性積層物に関する。
回路板製造、金属精密加工等に使用し得る優れた性質を
有する保誇被覆形成用感光性積層物に関する。
従来、プリント回路板作成等において、ノ。
キあるいは工、チングの為の保護被膜形成に用い・られ
るフォトレジスト材料として、基板上に直接光重合性液
体全塗布し、乾燥状態となった後、画像露光する液状ホ
トレジストと、可撓性を有する支持体フィルム上に上記
基板と接着性を有する可撓性光重合性層を積層し、片方
の表面を保護フィルムで被い、使用する際は保護フィル
ムを剥離して光重合性層面全基板にf*層し、画像露光
する感光性積層物とが知られている。
るフォトレジスト材料として、基板上に直接光重合性液
体全塗布し、乾燥状態となった後、画像露光する液状ホ
トレジストと、可撓性を有する支持体フィルム上に上記
基板と接着性を有する可撓性光重合性層を積層し、片方
の表面を保護フィルムで被い、使用する際は保護フィル
ムを剥離して光重合性層面全基板にf*層し、画像露光
する感光性積層物とが知られている。
後者の系は、あらかじめフィルム状で提供し得ること、
比較的均一な厚与が得られること、高解像性を宿し、貯
蔵安定性が良いこと等の優れた特性を弔している。
比較的均一な厚与が得られること、高解像性を宿し、貯
蔵安定性が良いこと等の優れた特性を弔している。
このように、支持体フィルムで支持された光重合性層か
らなるフォトレジスト材料は、従来保護フィルム全剥離
した後、光重合性層面を、銅張りエポキシ板等に積層さ
せ、支持体フィルムが不透明な堵1合には支持体フイJ
レムを剥離して画像露光し、透明な場合はその捷ま画像
露光し、次いで支持体フィルムを剥離して、その後現像
用液体を用いて光重合性層の未露光部分を溶解寸たは分
散除去して、基板表面にレジスト像を形成きせ、更にエ
ツチング全行い、目的とするプリント回路を得ている。
らなるフォトレジスト材料は、従来保護フィルム全剥離
した後、光重合性層面を、銅張りエポキシ板等に積層さ
せ、支持体フィルムが不透明な堵1合には支持体フイJ
レムを剥離して画像露光し、透明な場合はその捷ま画像
露光し、次いで支持体フィルムを剥離して、その後現像
用液体を用いて光重合性層の未露光部分を溶解寸たは分
散除去して、基板表面にレジスト像を形成きせ、更にエ
ツチング全行い、目的とするプリント回路を得ている。
上記の使用方法から、例えば穴あき基板に適用した場合
、スルホール部に硬化したレジスト膜を形成し、スルー
ポールの内面を工、チ/グ液から保護する、いわゆるテ
ンティング法に用いられる特徴を有することも良く知ら
れている。
、スルホール部に硬化したレジスト膜を形成し、スルー
ポールの内面を工、チ/グ液から保護する、いわゆるテ
ンティング法に用いられる特徴を有することも良く知ら
れている。
−また該感光性積層物は、一般に黄色の安全光下での取
扱いや識別を容易する為に、染顔料により着色されてお
り、更に画像露光の有無ないしは、露光ムラ等の識別の
為に、紫外光の照射により発色し、色の変化によるツク
ターンを形成する材料が加えられていることも良く知ら
れている。
扱いや識別を容易する為に、染顔料により着色されてお
り、更に画像露光の有無ないしは、露光ムラ等の識別の
為に、紫外光の照射により発色し、色の変化によるツク
ターンを形成する材料が加えられていることも良く知ら
れている。
が望捷れている。
現在フォトレジストの解像力を向上させるには光重合性
層の厚みを薄くすることが有効な方法である。しかしな
がら、光重合性層の厚み全薄くすると、層自身の凝集力
の絶対値が低下し、現像前に支持体フィルムを剥離する
時に光重合性層が破壊されるという現象が発生する。!
iた、薄くした場合、テンティング法に用いた場合に、
硬化したレジスト膜の機械的強度が不足し、工7チング
処理の時に、レジスト膜が破損し、スルーホール内が工
、チング液により浸される問題があり、光重合性層の厚
みに限界があり、従って解像度も制限されていた。
層の厚みを薄くすることが有効な方法である。しかしな
がら、光重合性層の厚み全薄くすると、層自身の凝集力
の絶対値が低下し、現像前に支持体フィルムを剥離する
時に光重合性層が破壊されるという現象が発生する。!
iた、薄くした場合、テンティング法に用いた場合に、
硬化したレジスト膜の機械的強度が不足し、工7チング
処理の時に、レジスト膜が破損し、スルーホール内が工
、チング液により浸される問題があり、光重合性層の厚
みに限界があり、従って解像度も制限されていた。
本発明者らは、このような問題点を解決するため、硬化
したレジスト膜の機械的強度の向上を鋭意研究の結果、
光重合性層に含有される着色成分およびもしくは光発色
成分のレジスト膜の強度に対する効果を見い出し、機械
的強度が高く光重合性層の膜厚を減少させても、エツチ
ング等の処理に耐える硬化レジスト膜を形成し、併せて
解像度の高めることの出来る感光性積層物を得て、本発
明を完成させたものである。
したレジスト膜の機械的強度の向上を鋭意研究の結果、
光重合性層に含有される着色成分およびもしくは光発色
成分のレジスト膜の強度に対する効果を見い出し、機械
的強度が高く光重合性層の膜厚を減少させても、エツチ
ング等の処理に耐える硬化レジスト膜を形成し、併せて
解像度の高めることの出来る感光性積層物を得て、本発
明を完成させたものである。
即ち本発明は、支持体フィルムおよび光重合性層、必要
に応じて保護フィルムを順次積層(て成る感光性積層物
において、光重合性層が、着色成分およびもしくは光発
色成分の異なる、少なくとも2層からなること全特徴と
する感光性積層物に関するものである。
に応じて保護フィルムを順次積層(て成る感光性積層物
において、光重合性層が、着色成分およびもしくは光発
色成分の異なる、少なくとも2層からなること全特徴と
する感光性積層物に関するものである。
前8己の如く、感光性積層物には7着色し、または活性
光線照射によって発色し、着色像を形成することは、レ
ジスト像の修正等に利用されて」、−り、必要な性能で
ある。これに対し、着色成分ち・よびもしくは光発色成
分を均一に添加した場合に、硬化したレジスト膜の強度
が低下XX’メXする理由は、厳密には解明きれていな
いが、2光重合性層を構成する各種成分のうち、特に清
洗 色成分およびもしくは光発色底地が硬化に有効な紫外光
領域に強い吸収を示すことは良く知られており、光重合
性層内において、透過する紫外線が着色成分せたは光発
色成分に吸収され、急激に紫外線の強度が減衰し、光重
合性層の厚み方向に硬化度のムラが生じる為と推定され
る。
光線照射によって発色し、着色像を形成することは、レ
ジスト像の修正等に利用されて」、−り、必要な性能で
ある。これに対し、着色成分ち・よびもしくは光発色成
分を均一に添加した場合に、硬化したレジスト膜の強度
が低下XX’メXする理由は、厳密には解明きれていな
いが、2光重合性層を構成する各種成分のうち、特に清
洗 色成分およびもしくは光発色底地が硬化に有効な紫外光
領域に強い吸収を示すことは良く知られており、光重合
性層内において、透過する紫外線が着色成分せたは光発
色成分に吸収され、急激に紫外線の強度が減衰し、光重
合性層の厚み方向に硬化度のムラが生じる為と推定され
る。
これに対し、本発明では、例えば、支持体フィルム側の
第1層の光重合性層の着色成分および光発色成分の添加
量を少なくし、−1たは全く含有せず、第2層の添加量
を多くした2層で構成した感光性積層物では、紫外線を
照射し、硬化せしめた場合に、第1層内では、厚み方向
の硬化ムラは生じない為に、強靭なレジスト膜全形成し
、第2層では、着色成分および光発色成分によりコント
ラストの充分な露光像全生成する。
第1層の光重合性層の着色成分および光発色成分の添加
量を少なくし、−1たは全く含有せず、第2層の添加量
を多くした2層で構成した感光性積層物では、紫外線を
照射し、硬化せしめた場合に、第1層内では、厚み方向
の硬化ムラは生じない為に、強靭なレジスト膜全形成し
、第2層では、着色成分および光発色成分によりコント
ラストの充分な露光像全生成する。
併せてレジスト膜の側面が垂直に形成されており、露光
パターンの再現性および解像度の向」二が見い出された
。
パターンの再現性および解像度の向」二が見い出された
。
不発明にJ■」いる着色成分としてfd、従来公矢口の
もので良く、例えば酸化チタン、酸化鉄、ツノボノブラ
、り、アゾ系顔料、フタロノアニン系fJf14=(傾
の顔料、クリスタル)くイメージ、1・、メチレンブル
ー、ロータミンB、フクンン、オーラミ7、アゾ系染料
等の染料を用いること75=出来る。本発明に用いる活
性光線の傅射により、発色する系として従来公知のもの
で良く、flえはロイコクリスタルノクイオレ、ト、ロ
イコマラノJイトグリーン等のロイコ体とノ・ロゲン化
物との糾み合せがある。ノ・ロゲン化物として、ヨード
ホルム、テトラブロモメタン、ヘキサクロロエタン、1
.2.3.4−テトラクロロベンゼン等力=あわ」ノド
合せにより着色濃度おJ:びコントラスト75−変イし
する為、適宜選択されるが、高添加量のJ脅において、
バインダーポリマーと架橋硬化性フルポリマー’tたは
モノマーの和が100重量部に7・1して、着色成分お
よび(もしく fd )光発色成分の各々が01ないし
10重量部の範囲で用いられる。また低添加量の層に於
いては、無添加ないしは、高添加量の層に対し弄以下の
昂の範囲で用いられる。
もので良く、例えば酸化チタン、酸化鉄、ツノボノブラ
、り、アゾ系顔料、フタロノアニン系fJf14=(傾
の顔料、クリスタル)くイメージ、1・、メチレンブル
ー、ロータミンB、フクンン、オーラミ7、アゾ系染料
等の染料を用いること75=出来る。本発明に用いる活
性光線の傅射により、発色する系として従来公知のもの
で良く、flえはロイコクリスタルノクイオレ、ト、ロ
イコマラノJイトグリーン等のロイコ体とノ・ロゲン化
物との糾み合せがある。ノ・ロゲン化物として、ヨード
ホルム、テトラブロモメタン、ヘキサクロロエタン、1
.2.3.4−テトラクロロベンゼン等力=あわ」ノド
合せにより着色濃度おJ:びコントラスト75−変イし
する為、適宜選択されるが、高添加量のJ脅において、
バインダーポリマーと架橋硬化性フルポリマー’tたは
モノマーの和が100重量部に7・1して、着色成分お
よび(もしく fd )光発色成分の各々が01ないし
10重量部の範囲で用いられる。また低添加量の層に於
いては、無添加ないしは、高添加量の層に対し弄以下の
昂の範囲で用いられる。
なお、本発明に於いて、光重合性層としては2層または
316以上用いられ、着色成分およびもしくは光発色酸
物の含有量は異なるが、さらに着色成分およびもしくは
光発色成分の種類を変えることも出来る。さらに後記す
るバインダーポリマー、モノマー、光重合開始剤の種類
や含有量を変えることも可能である。
316以上用いられ、着色成分およびもしくは光発色酸
物の含有量は異なるが、さらに着色成分およびもしくは
光発色成分の種類を変えることも出来る。さらに後記す
るバインダーポリマー、モノマー、光重合開始剤の種類
や含有量を変えることも可能である。
本発明に於ける光重合性層に用いられる各ITj成分は
従来公知のものを適宜用いることが出来る。
従来公知のものを適宜用いることが出来る。
例えば光重合性層に用いるバインダーポリマーとしては
、有機浴剤で現像する用途に対しては、例えばアルキル
(メタ)アクリレート重合体または他のビニル化合物と
の共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、塩
素化ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、
セル[」−ス誘縛体宿を挙けることが出来る。アルカリ
水溶液で坊像する用途に対しては、高酸化のポリマー、
例えばスチレン無水マレイン酸t fc tri無水マ
レイン酸モノエステル共重合体、(ツタ)アクリル酸と
他のビニル化合物の共重合体等を挙げることが出来る。
、有機浴剤で現像する用途に対しては、例えばアルキル
(メタ)アクリレート重合体または他のビニル化合物と
の共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、塩
素化ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、
セル[」−ス誘縛体宿を挙けることが出来る。アルカリ
水溶液で坊像する用途に対しては、高酸化のポリマー、
例えばスチレン無水マレイン酸t fc tri無水マ
レイン酸モノエステル共重合体、(ツタ)アクリル酸と
他のビニル化合物の共重合体等を挙げることが出来る。
光重合性層は、実質的にはこれらの有機重合体バインダ
ーと光重合性モノマー、光重合性プレポリマー、増感剤
(光重合開始剤)を適宜選択してなるが、光重合性モノ
マーとしては、エチレン系不飽和化合物、特にアクリル
系多官能性モノマーが適している。これらのモノマーと
しては、活性光の照射にJこり重合して架橋反応を形成
させるため、不飽和結合を2個以上有するイ)のが好せ
しい。不飽和結合を2個有するアクリル系モノマーとし
ては、ポリエチレングリコールジアクリレート等のジア
クリレート類、ポリエチレングリコールジメタクリレー
ト等のジメタクリレ−1・類があり、3個以上有するア
クリル系モノマーとしては、ペンタエリスリトールトリ
アクリレ−1−1)リッチロールプロ/ぐントリアクリ
レート等のトリアクリレート類、ペンタエリスリトール
トリメタクリレート、トリj チ0− ルブロバントリ
メタクリレート等のトリメタクリレート類がある。光重
合性モノマーのバづンダーボリマーに対する量比はモノ
マーの種類、バインダーの種類によって範囲は変るが、
一般には、バインダーポリマー100重量部に対し、1
0重量部ないしは200重量部、好ましくは20重量部
ないし100重量部の範囲である。
ーと光重合性モノマー、光重合性プレポリマー、増感剤
(光重合開始剤)を適宜選択してなるが、光重合性モノ
マーとしては、エチレン系不飽和化合物、特にアクリル
系多官能性モノマーが適している。これらのモノマーと
しては、活性光の照射にJこり重合して架橋反応を形成
させるため、不飽和結合を2個以上有するイ)のが好せ
しい。不飽和結合を2個有するアクリル系モノマーとし
ては、ポリエチレングリコールジアクリレート等のジア
クリレート類、ポリエチレングリコールジメタクリレー
ト等のジメタクリレ−1・類があり、3個以上有するア
クリル系モノマーとしては、ペンタエリスリトールトリ
アクリレ−1−1)リッチロールプロ/ぐントリアクリ
レート等のトリアクリレート類、ペンタエリスリトール
トリメタクリレート、トリj チ0− ルブロバントリ
メタクリレート等のトリメタクリレート類がある。光重
合性モノマーのバづンダーボリマーに対する量比はモノ
マーの種類、バインダーの種類によって範囲は変るが、
一般には、バインダーポリマー100重量部に対し、1
0重量部ないしは200重量部、好ましくは20重量部
ないし100重量部の範囲である。
活性光線の照射によって前記光重合モノマー、プレポリ
マーの重合、架橋を開始する光重合開始剤としては、従
来公知のものでよく、例えば、ヘンツイン、ベンゾイン
アルキルエーテル、ベンゾフェノン、アントラキノン、
2−メチルアノトラキン、2−第三ブチルアントラキン
、9゜10−フェナントレンキノン、ベノジル等のカル
ボニル化合物、ジーn−プチルジサルファイド、2−メ
ルカプトベンゾチアゾール等の有機(流黄jL合物、ロ
ーズベンガル、エノスロノン等の光還元色素、クロルメ
チルナフチルクロライドα、α′ーアノ゛ビスイソブチ
ルニトリルプビ2ー2ーメチルブチロニドリレ、p−7
ミノジフエニルアミンのジアゾニウム塩等のアン゛及び
ジアゾ化合物を使用することができる。光W合間始剤の
モノマー、プレポリマーに対する量比はモノマーの種類
、光重合開始剤の種類により適宜選択されるが、一般に
はモノマー、フ“レポリマー100重量部に対し、05
ないし20重量部、望甘しくけ工ないし10重彊゛音す
の範囲である。
マーの重合、架橋を開始する光重合開始剤としては、従
来公知のものでよく、例えば、ヘンツイン、ベンゾイン
アルキルエーテル、ベンゾフェノン、アントラキノン、
2−メチルアノトラキン、2−第三ブチルアントラキン
、9゜10−フェナントレンキノン、ベノジル等のカル
ボニル化合物、ジーn−プチルジサルファイド、2−メ
ルカプトベンゾチアゾール等の有機(流黄jL合物、ロ
ーズベンガル、エノスロノン等の光還元色素、クロルメ
チルナフチルクロライドα、α′ーアノ゛ビスイソブチ
ルニトリルプビ2ー2ーメチルブチロニドリレ、p−7
ミノジフエニルアミンのジアゾニウム塩等のアン゛及び
ジアゾ化合物を使用することができる。光W合間始剤の
モノマー、プレポリマーに対する量比はモノマーの種類
、光重合開始剤の種類により適宜選択されるが、一般に
はモノマー、フ“レポリマー100重量部に対し、05
ないし20重量部、望甘しくけ工ないし10重彊゛音す
の範囲である。
乾燥、貯蔵の間に熱重合反応を起させない安定剤として
熱重合禁止剤を用いてもよい。p−ノトギ/フェノール
、ヒドロキノン、アルキル寸たはアリール置換ヒドロキ
ノン、t−フ゛チルカテコール、ピロガロール、ナフチ
ルアミン、μmナフトール、塩化第一銅、2,6−シー
ブチルp−クレゾール、2,2−メチレンビス(4−エ
チル−6−t−ブチルフェノール)、ヒリシン、ニトロ
ベンゼン、ジニトロベンゼン等を使用することが出来る
。熱重合禁止剤のモノマーに対する量比はモノマー、プ
レポリマーの種類、熱1r合禁止剤の種類により人々る
が、モノマー、プレポリマー100重量Haにatb、
0、01ないし5重量部の範囲である。
熱重合禁止剤を用いてもよい。p−ノトギ/フェノール
、ヒドロキノン、アルキル寸たはアリール置換ヒドロキ
ノン、t−フ゛チルカテコール、ピロガロール、ナフチ
ルアミン、μmナフトール、塩化第一銅、2,6−シー
ブチルp−クレゾール、2,2−メチレンビス(4−エ
チル−6−t−ブチルフェノール)、ヒリシン、ニトロ
ベンゼン、ジニトロベンゼン等を使用することが出来る
。熱重合禁止剤のモノマーに対する量比はモノマー、プ
レポリマーの種類、熱1r合禁止剤の種類により人々る
が、モノマー、プレポリマー100重量Haにatb、
0、01ないし5重量部の範囲である。
また、必要に応じて、密着促進剤として複素環式窒素含
有化合物を添加することもできる。
有化合物を添加することもできる。
複素環式窒素含有化合物としては、従来公知のものでよ
く、例えばベンズイミダゾ−/l/、2−アミノベンズ
イミダゾール、5−ニトロベンズイミダゾール、5−メ
チルベンズイミグゾール、ベンゾトリアゾール、1−ク
ロルベノゾトリアゾール等を挙けることができる。複素
環式窒素含有化合物の量比はバインター−ポリマーと七
ツマー等の和100重量部に対し、001ないし5重量
部、好甘しくは0.01ないし11邦部の範囲が良い。
く、例えばベンズイミダゾ−/l/、2−アミノベンズ
イミダゾール、5−ニトロベンズイミダゾール、5−メ
チルベンズイミグゾール、ベンゾトリアゾール、1−ク
ロルベノゾトリアゾール等を挙けることができる。複素
環式窒素含有化合物の量比はバインター−ポリマーと七
ツマー等の和100重量部に対し、001ないし5重量
部、好甘しくは0.01ないし11邦部の範囲が良い。
更に、必要に応じて従来公知の可塑剤全添加t, 14
−1いてもよく、例えはジノチルフタレート、ジエチル
フタレート雲のフタール酸エステル類、ジノチルグリコ
ールフタレー( 4!;のグリコールニスデル類、トリ
クレジールホスフェ−1・等のリン酸ニスチル、ジイソ
ブチルアジペート等の脂肪族二塩基酸エステル類を挙け
ることができる。可塑剤の量比としでは、バインダーポ
リマーとモノマー智゛の和100重量部に対し、01な
いし20重量部、好捷しくは1ないし5重量部の範囲で
ある。
−1いてもよく、例えはジノチルフタレート、ジエチル
フタレート雲のフタール酸エステル類、ジノチルグリコ
ールフタレー( 4!;のグリコールニスデル類、トリ
クレジールホスフェ−1・等のリン酸ニスチル、ジイソ
ブチルアジペート等の脂肪族二塩基酸エステル類を挙け
ることができる。可塑剤の量比としでは、バインダーポ
リマーとモノマー智゛の和100重量部に対し、01な
いし20重量部、好捷しくは1ないし5重量部の範囲で
ある。
本発明で用いられる光重合性層の全体の厚みは5〜10
0μで、好甘しくil″i′10〜70μである。
0μで、好甘しくil″i′10〜70μである。
光重合性層が薄い程、解像力は向上し、硬化しfニレジ
スト月をの機わ夕的強度は逆に膜厚が大きいほど向」ニ
する。各層の厚さは、適宜選択されるが、5〜5 0
/lの範囲が良好である。層の厚さがれりい場合、厚を
が不均一になり゛や1−く、厚い場合、解像力が劣るか
らである。
スト月をの機わ夕的強度は逆に膜厚が大きいほど向」ニ
する。各層の厚さは、適宜選択されるが、5〜5 0
/lの範囲が良好である。層の厚さがれりい場合、厚を
が不均一になり゛や1−く、厚い場合、解像力が劣るか
らである。
支持体フィルムとしては、公知の金桜あるいf/:[重
合体、1ことえばポリアミド、ポリオレフィン、ポリエ
チレンテレフタレート、ビニル重合体およびセルロース
テステルからなる各種のフィルム捷たは金属ホイルの中
から選ぶことができ、透明支持体フィルムの厚みは5〜
50μで、好ましくはJ5〜25μである。
合体、1ことえばポリアミド、ポリオレフィン、ポリエ
チレンテレフタレート、ビニル重合体およびセルロース
テステルからなる各種のフィルム捷たは金属ホイルの中
から選ぶことができ、透明支持体フィルムの厚みは5〜
50μで、好ましくはJ5〜25μである。
保護フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート、
ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリアミド、ポリテト
ラフロロエチレン、紙等を使用することができ、厚みは
5〜50μで、灯才しくけ5〜30μである。
ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリアミド、ポリテト
ラフロロエチレン、紙等を使用することができ、厚みは
5〜50μで、灯才しくけ5〜30μである。
本発明の感光性積層物を使用することにJ:す、未露光
部と露光部との色のコントラスト、プツト膜強度および
解像力との調和が良好になり、再現性の良好なブリット
回路板等を得ることが出来る。
部と露光部との色のコントラスト、プツト膜強度および
解像力との調和が良好になり、再現性の良好なブリット
回路板等を得ることが出来る。
本発明の感光性積層物は、保護フィルムが存在する場合
、保護フィルムを剥離し、光1L合性層面を基板に積層
(必要に応じ加熱、加圧して)し、支持体フィルム全剥
離し、捷たは剥π1せずに活性光線、通常は紫外線、電
子線、全照射する。活性死線照射する側に角色成分およ
びもしくは光発臼成分を含有しない、または含有量の少
ない光重合性層を設けることが好せしい。
、保護フィルムを剥離し、光1L合性層面を基板に積層
(必要に応じ加熱、加圧して)し、支持体フィルム全剥
離し、捷たは剥π1せずに活性光線、通常は紫外線、電
子線、全照射する。活性死線照射する側に角色成分およ
びもしくは光発臼成分を含有しない、または含有量の少
ない光重合性層を設けることが好せしい。
本発明のフォトレジスト材料は、主にプリント回路板の
作成に使用されるが、これに限定されるものではなく、
半導体加工にも利用できるものである。
作成に使用されるが、これに限定されるものではなく、
半導体加工にも利用できるものである。
り下実施例により本発明の詳細な説明する。
なおオぐ発明で述べる解像力とは単位幅当りのレジスト
像の線の太さと線の間の空間を等間隔にした時の隈像出
来た線の太さで表現するものである。例中「部」とけ重
量部を示す。
像の線の太さと線の間の空間を等間隔にした時の隈像出
来た線の太さで表現するものである。例中「部」とけ重
量部を示す。
実施例1
ダイヤナールBR−80(三菱レイヨン■製、アクリル
ビーズレジノ軟化点105℃、分子製概略値lXl0”
)75部、A−TMPT(新中村化学工業Cル製、トリ
メチロールプロパントリアクリレート)12.5部、A
−4E、G(新中村化学工業■製、ポリエチレングリコ
ール+200ジアクリレ−1−)12.5部、ベノゾフ
エノン2部、p。
ビーズレジノ軟化点105℃、分子製概略値lXl0”
)75部、A−TMPT(新中村化学工業Cル製、トリ
メチロールプロパントリアクリレート)12.5部、A
−4E、G(新中村化学工業■製、ポリエチレングリコ
ール+200ジアクリレ−1−)12.5部、ベノゾフ
エノン2部、p。
p′−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノ702部、
ノチルエチルケトン250部からなる第1塗料を厚み2
5μのポリエチレンテレフタレートフィルム((塗布し
、乾燥全行い、厚み40μの第1光重合性層を得た。更
に、上記の第1塗料にロイコクリスタルバイオレ、+−
を部、ヘキサクロロエタン3部全添加した第2塗料を前
述の塗膜の上に塗布し、乾燥を行ない、厚み30μの第
2光重合性層を得た。厚み20μのポリエチレンフィル
ムを加圧積層し、感光性積層物ヲ得り。次いで、保護フ
ィルムのポリエチレンフィルム全剥離して、第2光重合
性層の表面(光発色成分添加層側)を100℃に加熱し
た銅張りカラスエポキシ板(スルホール基板)ニ加圧積
層した。この積層体をフぢトマスクを通して高圧水銀う
/ブによシ、250mJ/c肩の条件で露光した。未露
光部と露光部の色のコントラストは良好であった。次い
でポリエステルフィルム全剥離し、この積層板をスプレ
ーノズルからクロロセノ(ダウケミカル社製 1,1.
1−トリクロルエタン)を噴射きせ、未露光部をt打解
除去してレジスト像を得た。得られたレジスト像の解像
力を顕微鏡にて測定したところ、35μであった。5陥
φのスルーホール上に形成したレジスト膜の破損は全く
見られず、テンティング法に実用になる強度を有してい
た。
ノチルエチルケトン250部からなる第1塗料を厚み2
5μのポリエチレンテレフタレートフィルム((塗布し
、乾燥全行い、厚み40μの第1光重合性層を得た。更
に、上記の第1塗料にロイコクリスタルバイオレ、+−
を部、ヘキサクロロエタン3部全添加した第2塗料を前
述の塗膜の上に塗布し、乾燥を行ない、厚み30μの第
2光重合性層を得た。厚み20μのポリエチレンフィル
ムを加圧積層し、感光性積層物ヲ得り。次いで、保護フ
ィルムのポリエチレンフィルム全剥離して、第2光重合
性層の表面(光発色成分添加層側)を100℃に加熱し
た銅張りカラスエポキシ板(スルホール基板)ニ加圧積
層した。この積層体をフぢトマスクを通して高圧水銀う
/ブによシ、250mJ/c肩の条件で露光した。未露
光部と露光部の色のコントラストは良好であった。次い
でポリエステルフィルム全剥離し、この積層板をスプレ
ーノズルからクロロセノ(ダウケミカル社製 1,1.
1−トリクロルエタン)を噴射きせ、未露光部をt打解
除去してレジスト像を得た。得られたレジスト像の解像
力を顕微鏡にて測定したところ、35μであった。5陥
φのスルーホール上に形成したレジスト膜の破損は全く
見られず、テンティング法に実用になる強度を有してい
た。
比較例】
実施例1の第2塗料を用いて、25μのポリエチレンテ
レフタレートフィルムに塗布、乾燥を行ない、厚み50
11の光重合性層を得た。他は実施例1と同様にして感
光性積層物(光重合伯層とし、て]層のみ)とし、同様
の操作により露光、3J1.像を行ない、レジスト@全
得た。未露光部と露光部のコントラストは著しく良好で
あっムニが、細い線に現像体溶出し、5 mmφのスル
ーホール上のレジスト膜の一部も破4μした。スルーホ
ール上の残存率はレジスト膜の40%であった。
レフタレートフィルムに塗布、乾燥を行ない、厚み50
11の光重合性層を得た。他は実施例1と同様にして感
光性積層物(光重合伯層とし、て]層のみ)とし、同様
の操作により露光、3J1.像を行ない、レジスト@全
得た。未露光部と露光部のコントラストは著しく良好で
あっムニが、細い線に現像体溶出し、5 mmφのスル
ーホール上のレジスト膜の一部も破4μした。スルーホ
ール上の残存率はレジスト膜の40%であった。
比較例2
実施例1の第1塗料にロイコクリスタルバイオレット0
2部、ヘキサクロロエタノ06部を添加し、比較例1と
同様の操作を行ない、感光性積層物(光重合性層1層の
み)を得た。未露光部と露光部のコントラストの差は小
さく、判別困難である。解像力は色かうすいため、明確
な判別ができなかったが、5mmφのスルーホール上の
レジスト膜の残存率は100%であった。
2部、ヘキサクロロエタノ06部を添加し、比較例1と
同様の操作を行ない、感光性積層物(光重合性層1層の
み)を得た。未露光部と露光部のコントラストの差は小
さく、判別困難である。解像力は色かうすいため、明確
な判別ができなかったが、5mmφのスルーホール上の
レジスト膜の残存率は100%であった。
実施例2
実施例1の塗布の操作を逆に行い、支持体フィルム側ニ
ロイコクリスタルバイオレ、 l−1s、ヘキサクロロ
エタン3部添加した光重合性層、保護フィルム側にロイ
コクリスタルバイオレ。
ロイコクリスタルバイオレ、 l−1s、ヘキサクロロ
エタン3部添加した光重合性層、保護フィルム側にロイ
コクリスタルバイオレ。
81部、ヘキサクロロエタン3部無添加の光重合性層の
2層の光重合性層1層、同様の操作を行なった。未露光
部と露光部どの色のコ/[・ラストは良好である。但し
、5肺φのスルーポール上のレジスト膜の残存率は80
%であった。
2層の光重合性層1層、同様の操作を行なった。未露光
部と露光部どの色のコ/[・ラストは良好である。但し
、5肺φのスルーポール上のレジスト膜の残存率は80
%であった。
従って、ティンティング法には適用できないが、通常の
用途には使用できる。
用途には使用できる。
実施例3
ダイヤナールBR−so 7層部、A−4E030部、
ベンゾフェノン25部、pX p′−ビス(ジエチルア
ミノ)ベンゾフェノン03部、メチルエチルケトン25
0部からなる第1塗料を実施例】と同様に塗布、乾燥を
行ない、厚み25μの第1光重合性層を得た。更に上記
の塗料にロイコマラカイトグリ−708部、ヘキザクロ
ロエタン3部全添加した第2塗料を用い、前述の光重合
性層の」二に12μの第2光重合性層を得た。実施例1
と同様の操作を行ない、露光後のコントラストは良好で
あり、5+nmφのスルーホール」−のレジスト膜の残
存率は100%であった。
ベンゾフェノン25部、pX p′−ビス(ジエチルア
ミノ)ベンゾフェノン03部、メチルエチルケトン25
0部からなる第1塗料を実施例】と同様に塗布、乾燥を
行ない、厚み25μの第1光重合性層を得た。更に上記
の塗料にロイコマラカイトグリ−708部、ヘキザクロ
ロエタン3部全添加した第2塗料を用い、前述の光重合
性層の」二に12μの第2光重合性層を得た。実施例1
と同様の操作を行ない、露光後のコントラストは良好で
あり、5+nmφのスルーホール」−のレジスト膜の残
存率は100%であった。
実施例4
ダイヤナールBR−83(三菱レーヨン(作製、アクリ
ルビーズレジノ、軟化点105℃、分子ii1概略値3
X10’)20部、タイヤナールB Iえ80’、)0
部、A−TMPT l 2.5部、p、−4EG125
部、ベンゾフェノン25部、pX p′−ビス(ジメチ
ルアミノ)ベンゾフェノ:’ 0.3 ffB、メチル
エチルケトン250部からなる第1塗別′fr実施例1
と同様に塗布、乾燥を行ない、厚み25μの第1元重合
性層を得た。
ルビーズレジノ、軟化点105℃、分子ii1概略値3
X10’)20部、タイヤナールB Iえ80’、)0
部、A−TMPT l 2.5部、p、−4EG125
部、ベンゾフェノン25部、pX p′−ビス(ジメチ
ルアミノ)ベンゾフェノ:’ 0.3 ffB、メチル
エチルケトン250部からなる第1塗別′fr実施例1
と同様に塗布、乾燥を行ない、厚み25μの第1元重合
性層を得た。
前記の第1塗料にロイコクリスタルバイ側レッド05部
、sym−テトラブロモエタン15部添加した第2塗#
Jlヲ前述の塗膜の」二に塗膜Dし、乾燥全行ない、厚
み12μの第2光重合性層を得た。実施例1と同様の操
作を行なった。露光後の未露部と露光部の色のコノトラ
スl−は鮮明であり、解像力は25μ、5陥φのスルー
ホール上のレジスト膜の残存率は100係であった。
、sym−テトラブロモエタン15部添加した第2塗#
Jlヲ前述の塗膜の」二に塗膜Dし、乾燥全行ない、厚
み12μの第2光重合性層を得た。実施例1と同様の操
作を行なった。露光後の未露部と露光部の色のコノトラ
スl−は鮮明であり、解像力は25μ、5陥φのスルー
ホール上のレジスト膜の残存率は100係であった。
実施例5
ダイーヤナールBR−8050部、ダイヤナールBR−
8325部、A−TMPT25部、ベンゾイノエチルエ
ーテル025部、メチルエチルケト7250部、ロイニ
ア りl)スタルバイオレ、l・04部、sym−テト
ラブロモエタン】、0部からなる第2塗料を厚み25μ
のポリエチレンテレフタレートフィルムに塗布し、乾燥
を行い、厚み25μの第2光重合性層を得た。別に上記
の第2塗10ロイコクリスタルバイオレ、ト04部’Q
0.2部に、sym−テトラブロモエタン1.0部k
0.4部にした第1塗料を表面処理20μのポリエチ
レンフィルムに塗布し、乾燥を行ない厚み25μの第1
光重合性層を得た。両者の感光層が内側になるように加
圧積層し、2層の感光1仲積層物を得た。実施例1と同
様の操作を行なった。露光後の色のコントラストは良好
でアリ、解像力は35μで、5個φのスルーホール上の
レジスト燥の残存率は100%であった。レジスト像の
側面を顕微鏡にて調べると重置であった。
8325部、A−TMPT25部、ベンゾイノエチルエ
ーテル025部、メチルエチルケト7250部、ロイニ
ア りl)スタルバイオレ、l・04部、sym−テト
ラブロモエタン】、0部からなる第2塗料を厚み25μ
のポリエチレンテレフタレートフィルムに塗布し、乾燥
を行い、厚み25μの第2光重合性層を得た。別に上記
の第2塗10ロイコクリスタルバイオレ、ト04部’Q
0.2部に、sym−テトラブロモエタン1.0部k
0.4部にした第1塗料を表面処理20μのポリエチ
レンフィルムに塗布し、乾燥を行ない厚み25μの第1
光重合性層を得た。両者の感光層が内側になるように加
圧積層し、2層の感光1仲積層物を得た。実施例1と同
様の操作を行なった。露光後の色のコントラストは良好
でアリ、解像力は35μで、5個φのスルーホール上の
レジスト燥の残存率は100%であった。レジスト像の
側面を顕微鏡にて調べると重置であった。
実施例6
メチルメタクリレート70係、アクリル酸30φの共1
層合体65部、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト20部、テトラエチレングリコールジアクリレート1
5部、ベンゾフェノン2部、ミヒラーズケトン04部、
メチルエチルケトン250部からなる第1塗料全作成し
、25μのポリエステルフィルムに塗布し、乾燥全行い
、無着色の40μの第1光重合性層を得た。
層合体65部、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト20部、テトラエチレングリコールジアクリレート1
5部、ベンゾフェノン2部、ミヒラーズケトン04部、
メチルエチルケトン250部からなる第1塗料全作成し
、25μのポリエステルフィルムに塗布し、乾燥全行い
、無着色の40μの第1光重合性層を得た。
次いで、上記の第1塗料に、ビス) IJアブルー05
部を溶解した第2塗料全塗布、乾燥し、厚さ10μの着
色した第2光重合性層を作成した。
部を溶解した第2塗料全塗布、乾燥し、厚さ10μの着
色した第2光重合性層を作成した。
積層体を7オトマスクを通して高圧水銀ランプを用い1
60mJ/crlの紫外光全照射し露光しない部分’t
1.5%炭酸ナトリウム水溶液をスプレーノズルから噴
射させ、溶解除去し、レジスト像を得た。得られたレジ
スト像の解、偉力は30μであった。また5τφのスル
ーホール上のレジスト膜の残存率は100%であった。
60mJ/crlの紫外光全照射し露光しない部分’t
1.5%炭酸ナトリウム水溶液をスプレーノズルから噴
射させ、溶解除去し、レジスト像を得た。得られたレジ
スト像の解、偉力は30μであった。また5τφのスル
ーホール上のレジスト膜の残存率は100%であった。
比較例3
実施例6の無着色第1塗料にピクト17アブル一01部
を溶解し、ポリエステルフィルム」二に塗布乾燥し、厚
さ50μの着色した光重合性層を形成した。実施例6と
同様の方法で基板に積層、露光、現像を行い、し♀スト
像を得た。得らね、たレジストイ象の解イ象力ば35μ
であった。
を溶解し、ポリエステルフィルム」二に塗布乾燥し、厚
さ50μの着色した光重合性層を形成した。実施例6と
同様の方法で基板に積層、露光、現像を行い、し♀スト
像を得た。得らね、たレジストイ象の解イ象力ば35μ
であった。
’k 7j 5 mmφのスルーホール上のレジス)M
の残存率は30係であり、テンティング法に用いるには
不適出であった。
の残存率は30係であり、テンティング法に用いるには
不適出であった。
特許出願人
東洋インキ製造株式会社
279−
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 支持体フィルムおよび光重合性層、必要に応じて保
護フィルムを順次積層してなる感光性積層物において、
光重合性層が、着色成分およびもしくは光発色成分の含
有量の異なる、少なくとも2層からなることを特徴とす
る感光性積層物。 2 支持体フィルム、着色成分およびもしくは光発色成
分の含有量が低い光重合性層、および着色成分およびも
しくは光発色成分の含有量゛が窩い光重合性層、必要に
応じて保護フィルムを順次狽層してなる特許請求の範囲
第1項記載の感光性Jalfi物。 3 支持体フィルム、着色成分および光発色成分を含有
しない光重合性層、および着色成分−iたは光発色成分
全含有する光重合性層、必要に応じて保護フィルムを順
次積層してなる特許請求の範囲第2項記載の感光性積層
物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6696583A JPS59193446A (ja) | 1983-04-18 | 1983-04-18 | 感光性積層物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6696583A JPS59193446A (ja) | 1983-04-18 | 1983-04-18 | 感光性積層物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59193446A true JPS59193446A (ja) | 1984-11-02 |
Family
ID=13331240
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6696583A Pending JPS59193446A (ja) | 1983-04-18 | 1983-04-18 | 感光性積層物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59193446A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5348846A (en) * | 1990-02-15 | 1994-09-20 | Mitsubishi Paper Mills Limited | Silver halide photographic photosensitive material |
CN101958246A (zh) * | 2010-07-16 | 2011-01-26 | 上海集成电路研发中心有限公司 | 延长光刻胶有效使用寿命的方法 |
JP5639697B1 (ja) * | 2013-08-08 | 2014-12-10 | 東海神栄電子工業株式会社 | 識別文字・記号及び絵等の視認が可能な回路基板の製造方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4945326A (ja) * | 1972-09-09 | 1974-04-30 | ||
JPS5230428A (en) * | 1975-09-03 | 1977-03-08 | Hitachi Ltd | Photoresist exposure method |
JPS5382501A (en) * | 1976-12-10 | 1978-07-21 | Mitsubishi Rayon Co | Support for photosensitive resin plate |
-
1983
- 1983-04-18 JP JP6696583A patent/JPS59193446A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4945326A (ja) * | 1972-09-09 | 1974-04-30 | ||
JPS5230428A (en) * | 1975-09-03 | 1977-03-08 | Hitachi Ltd | Photoresist exposure method |
JPS5382501A (en) * | 1976-12-10 | 1978-07-21 | Mitsubishi Rayon Co | Support for photosensitive resin plate |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5348846A (en) * | 1990-02-15 | 1994-09-20 | Mitsubishi Paper Mills Limited | Silver halide photographic photosensitive material |
CN101958246A (zh) * | 2010-07-16 | 2011-01-26 | 上海集成电路研发中心有限公司 | 延长光刻胶有效使用寿命的方法 |
CN101958246B (zh) * | 2010-07-16 | 2015-08-12 | 上海集成电路研发中心有限公司 | 延长光刻胶有效使用寿命的方法 |
JP5639697B1 (ja) * | 2013-08-08 | 2014-12-10 | 東海神栄電子工業株式会社 | 識別文字・記号及び絵等の視認が可能な回路基板の製造方法 |
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