JPS5854335A - 画像形成材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は透明支持体上に特定の光重合性組成物層を設
けてなる画像形成材料に関するもので、さらに詳しくは
画像形成用基板に貼り合わせて露光後、剥離することに
よって未露光部分を支持体と共に取り去り、基板上に残
した露光部分にて画像を形成する際の露光部分の基板に
対する接着性が良好で現像の信頼性が高く、且つ特性の
経時的変化の少ない画像形成材料に係るものである。

従来、プリント配線板作製用フォトレジストとして溶液
タイプのものやフィルム状のものが市販されていたが、
これらはいずれも露光部と未露光部の溶液に対する溶解
性の差を利用して画像を形成するものであった。

しかしながら、近年、現像液を使用する操作が煩雑であ
り、しかも現像液を使用することはその廃液が公衆衛生
を害する恐れのあることから特公昭３８−９６６３号、
特公昭４３−２２９０１号、特開昭４７−７７２８号、
特公昭４８−４３１２６号、特開昭４７−３３６２３号
、特公昭５１−４８５１６号、特公昭５３−４０５３７
号、特公昭５３−１９２０５号、特公昭５３−３５７２
２号の各公報に記載されているような剥離現像可能な画
像形成材料および画像形成方法が提案されている。

これらは露光部分と未露光部分の基材と支持体に対する
接着力の差を利用して剥離によって画像を形成する方法
であるが、剥離現像が可能となるには次の条件が必要で
ある。

すなわち、支持体と感光層の露光部分との単位面積当た
りの接着力を３１、未露光部分とのそれをａ２とし、基
板と感光層の露光部分との単位面積当たりの接着力をｂ
ｌ、未露光部分とのそれをｂ２とすれば、ａｌ〈ｂｔ　
、ａ２’）　ｂ２であることが最低限必要である。さら
に実際の剥離現像では感光層の露光部分と未露光部分と
の界面の切断に要する力を考慮せねばならない。ここで
、上記界面の単位長さ当たりの切断に要する力をＣとす
ると、例えは面積Ａで上記界面の総延長がしてある独立
パターンの露光部分が剥離現像で基板上に残るには、Ａ
−ｂｌ）Ａ−ａｔ　＋Ｌ−Ｃの関係を満足する必要があ
る。この不等式の両辺をＡで除すれば、ｂｌ＞ａ１十Ｌ
−Ｃ／Ａ　−＋　ｂｌ−ａ　１）　Ｌ−Ｃ／Ａとなり、
右辺はＬとＡによって変動することから明らかなように
、面積Ａが小さく界面長さが長くなるほど、つまり画像
パターンが微細化および複雑化するほど上記関係を満足
するためにｂｌとａｔとの差を大きくすることが要求さ
れる。

ところが、従来より剥離現像によって画像形成を行なう
ための感光層組成や材料が種々提案されているか、いず
れも前記接着力ｂ１とａｌとの差が充分に大きくないた
めに、微細なＩ／浅シ複雑な画像パターンを形成する場
合、感光層の露光部分が剥離する支持体と共に取り去ら
れ易（、画像の信頼性に乏しいという欠点があった。

一方、上記欠点を改善するために何らかの手段、例えば
基板と感光層の露光部分との接着力を高めるような添加
剤の配合によって剥離現像時をこ露光部分の剥がれを抑
制するようにしても、微細なＩＩ）し複雑な画像パター
ンに適用する場合、感光層の未露光部分が基板上に残留
し易いという問題がある。すなわち、画像形成材料を保
存中、とくに画像形成材料を基板に貼り合わせた状態で
比較的高温度下で保存中に感光層がゲル化等を生じて特
性変化をきたし、これを露光して剥離現像した際シこ支
持体と共に取り去られるべき感光層の未露光部分が基板
上に付着残留し易くなる傾向があり、これは画像パター
ンが微細ないし複雑となるほど顕著となる。

この発明者らは、上記問題を解決するために鋭意研究を
重ねた結果、光重合性組成物からなる感光層中に特定の
２種の化合物を併用配合することにより、微細ないし複
雑な画像／寸ターンに適用しでも感光層の露光部の剥が
れを生じずに剥離現像を確実に行うことができ、且つ比
較的高温度下で基板に貼り合わせた状態で長期保存を行
なっても感光層の特性変化が少なく剥離現像時に未露光
部が基板に残留しにくくなること究明し、この発明をな
すに至った。

すなわちこの発明は、透明支持体上に皮膜形成性高分子
物質と付加重合性不飽和結合を少なくとも１個含有する
化合物と光重合開始剤とを必須成分として含有する光重
合性組成物層を設けてなる画像形成材料において、上記
光重合性組成物層中に一般式； ％式％（） 〔但し、Ｒ１は置換もしくは未置換の芳香族残基あるい
は異部環状化合物残基、Ｒ２は）・ロダンあるいはＣＩ
ｆｍＹｎ　（ＹはＩｓロロダ、ｍ　−１−ｎ　＝　３で
ｎは１以上）〕 で表わされる化合物と、一般式； ％式％ 水素原子またはＣ１１３基、Ｒ３はアルキレン基）で表
わされる化合物とを、それぞれが全光重合性組成物（固
形分）の量に対して０．０１〜５重量％の範囲で添加さ
れてなる画像形成材料に係るものである。

上記一般式（Ａ）で示される化合物はその配合によって
光重合性組成物層からなる感光層の露光部分の基板に対
する接着力を大きく向上させる。その理由は明確ではな
いが、露光によってこの化合物よりハロゲンラジカルが
生じ、これがさらに水素引き抜きを行なってハロゲン化
水素となって基板、例えばプリント配線板用銅張り積層
板の表面を活性化することにより、露光部分と基板との
接着力が向上するものと推定される。

このような一般式（Ａ）で示される化合物としては、ｏ
　　　　　　　　　　　　Ｓ　Ｏ２Ｃ１１ Ｃ１（３（ｙＳ０２Ｂｒ　、　ＣＩ　Ｓ０２　（ｙＳ０
２Ｃ１α５ｏ２ｃｃ＋３　　α５ＯｚＣＪ（Ｃ１２α５
Ｏ２ＣＩ−１２Ｃ１α５ＯｚｃＢｒ３（Ｉ）−５Ｏ２Ｃ
ＨＲｒ２　　α５Ｏ２ＣＩ（２Ｂ　ｒなどがあり、前記
の如く全光重合性組成物（固形分）に対して０．０１〜
５重量％の範囲で添加される。添加量が上記範囲より過
少であると接着性の向上効果が充分に得られず、また過
多であると感光層の凝集力等の物性を変えて画像の精度
を低下させる恐れがある。

前記一般式（Ｂ）で示される化合物は、その配合によっ
て、前記一般式（Ａ）で示される化合物の配合効果を損
なうことなく、画像形成材料の保存中における光重合性
組成物感光層の特性変化を大きく抑制する機能を示す。

このような一般式ＣＢ）で示される化合物としては、２
−ヒドロキシエチルアクリロイルホスフェート、２−ヒ
ドロキシエチルメタクリロイルホスフェート、ビス−（
２−ヒドロキシエチルアクリロイル）ホスフェート、ビ
ス−（２−ヒドロキシエチルメタクリロイル）ホスフェ
ート、２−ヒドロキシプロピルアクリロイルホスフェー
ト、２−ヒドロキシプロピルメタクリロイルホスフェー
ト、ビス−（２−ヒドロキシプロピルアクリロイル）ホ
スフェート、ビス−（２−ヒドロキシプロピルメタクリ
ロイル）ホスフェートなどがあり、前記の如く全光重合
性組成物（固形分）に対して０．０１〜５重量％の範囲
で添加され、特に前記一般式ｆＡｌの化合物とほぼ同量
の添加量とすることが推奨される。

この発明の画像形成材料を構成する透明な支持体として
は光重合性組成物層を光重合させうる３００〜５００ｎ
ｍ　の波長域の光の透過性が良好で、表面が均一である
ものが選ばれる。

このような支持体の具体例を挙げるとポリエチレンテレ
フタレート、ポリプロピレン、ポリエチレン、三酢酸セ
ルロース、二酢酸セルロース、ポリ塩化ビニル、ポリビ
ニルアルコール、ポリカルボネート、ポリスチレン、セ
ロファン、ポリ塩化ビニリデン共重合物、ポリアミド（
たとえば６−ナイロン、６・６−ナイロン、６・１０−
ナイロンなど）、ポリイミド、塩化ビニル−酢酸ビニル
共重合物、ポリテトラフルオロエチレン、ポリトリフル
オロエチレン等の多種のプラスチックフィルムが使用で
きる。更にこれ等の二種以上からなる複合材料も使用す
ることができる。

支持体は、一般的には１ｏから１５０　ｐｍの厚さのも
の、好ましくは２ｏから５０μｍの厚さのものが使用さ
れるが、上記範囲以外のものでも使用することができる
。

この発明に使用できる皮膜形成性高分子物質としては、
広範な高分子物質の中がら選ぶことができるが他の構成
成分との相溶性が極度に悪いものは好ましくない。

好ましい皮膜形成性高分子物質の例としては、塩素化ポ
リオレフィン（たとえば塩素化ポリエチレン、塩素化ポ
リプロピレン〕、ポリメチル・メタアクリレート、ポリ
メチルアクリレート、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリ
デン、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセテート、
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合物、塩化ピニリデンーア
クリロニ）　ＩＪル共重合物、ポリイソプレン、塩化ゴ
ム、ポリクロロプレン、ポリクロルスルホン化エチレン
およびポリクロルスルホン化プロピレン、溶剤可溶性線
状飽和ポリエステルなどがある。これらの高分子物質は
２種以上を混合しても使用することができる。

この発明に使用される付加重合性不飽和結合を少なくと
も１個有する化合物としては、広範な付加重合性化合物
があげられる。その例としては、アクリル酸エステル類
、アクリルアミド類、メタアクリル酸エステル類、メタ
アクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、
ビニルエステル類、Ｎ−ビニル化合物、スチレン類、ク
ロトン酸エステル類などがある。付加重合性不飽和結合
を１個有する化合物の具体例としては、アクリル酸エス
テル類、例えば、アクリル酸、アルキルアクリレート（
例えばアクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリ
ル酸アミル、アクリル酸エチルヘキシル、アクリル酸オ
クチル）、メタアクリル酸ニステール類、例えば、メタ
アクリル酸、アルキルメタアクリレート（例えばメチル
メタアクリレート、エチルメタアクリレート、プロピル
メタアクリレート、イソプロピルメタアクリレート〕、
アクリルアミドｉ、例えばアクリルアミド、Ｎ−アルキ
ルアクリルアミド、（該アルキル基トシては、例えばメ
チル基、エチル基、ブチル基、イソプロピル基、【−ブ
チル基、エチルヘキシル基などがある）、メタアクリル
アミド類、例えばメタアクリルアミド、Ｎ−アルキルメ
タアクリルアミド（該アルキル基としては、メチル基、
エチル基、イソプロピル基、【−ブチル基、エチルヘキ
シル基などがある）、アリル化合物、例えばアリルエス
テル類（例えば酢酸アリル、カプロン酸アリル、カプリ
ル酸アリル、ラウリン酸アリル、パルミチン酸アリル〕
、ビニルニーデル類、例えばアルキルヒニルエーテル（
例エバヘキシルビニルエーテル、オクチルビニルエーテ
ル、テシルビニルエーテル、エチルヘキシルビニルエー
テル）、ビニルエステル類、例えばビニルブチレート、
ビニルインブチレート、ビニルトリメチルアセテート、
ビニルジエチルアセテート、ビニルバレレート、ビニル
カプロエート等がある。他にスチレン類、例エバスチレ
ン、メチルスチレン、クロルメチルスチレン、アルコキ
シスチレン、ハロゲン化スチレン、安息香酸スチレン等
がある。クロトン酸エステル類としてはクロトン酸メチ
ル、クロトン酸エチル、クロトン酸ブチル、クロトン酸
ヘキシル、クロトン酸イソプロピルなどがある。

次に、付加重合性不飽和結合を２個以上有する化合物の
具体例を例示するが、これらは上記付加重合性不飽和結
合を１個有する化合物よりも、好適に使用される。先ず
アクリル酸エステル類及びメタアクリル酸エステル類と
しては、多価アルコールのポリアクリレート類及びポリ
メタアクリレート類（ここで「ポ１月とはジアクリレー
トＵ上を指す）がある。上記多価アルコールとしては、
ポリエチレングリコール、ポリプロピレンオキシド、ポ
リブチレンオキシド、（β−ヒドロキ７エトキシ）ベン
ゼン、グリセリン、ジグリセリン、ネオペンチルグリコ
ール、トリメチロールプロパン、トリメチロールプロパ
ン、ペンタエリトリト−ル、ジペンタエリトリトール、
ソルビタン、ソルビトール、１・４−ブタンジオール、
１・２・４−ブタントリオール、２−ブテンート４−ジ
オール、２−ブチル−２−エチル−プロパンジオール、
２−プテンート４−ジオール、１・３−プロパンジオー
ル、トリエタノールアミン、デカリンジオール、３−ク
ロルート２−プロパンジオール等がある。

さらにオリゴエステルアクリレート、オリゴエステルメ
タクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリ
レートなどの名称で市販されているアクリレート、メタ
クリレート類なども好適に使用できる。

かかる付加重合性不飽和結合を少なくとも１個ましくは
３０から２００重量部の範囲で用いられる。

この発明に使用される光重合開始剤としては従来公知の
ものを好適に用いることができ、それらとしてはカルボ
ニル化合物、有機硫黄化合物、過酸化物、レドックス系
化合物、アゾ並びにジアゾ化合物、光還元性色素などが
ある。代表的な具体例を挙げれば、カルボニル化合物と
しては例えばイリテロピルエーテル、ベンゾインイソブ
チルエーテル、ベンジルジメチルケタール、ベンゾフェ
ノン、アントラキノン、２−メチルアントラキノン、２
−【−ブチルアントラキノン、９・１０−７エナントレ
ンキノン、ジアセチル、ベンジル、ミヘシーズケトン、
４・４′−ビスジエチルアミノベンゾフェノン等がある
。

有機硫黄化合物としては、゛ジプチルジスルフィド、ジ
オクチルジスルフィド、ジベンジルジスルフィド、ジフ
ェニルジスルフィド、ジベンゾイルジスルフィド、ジア
セチルジスルフィドなどがある。

過酸化物としては、過酸化水素、ジー【−ブチルペルオ
キシド、過酸化ベンゾイル、メチルエチルケトンペルオ
キシドなどがある。

レドックス系化合物は、過酸化物と還元剤の組合わせか
らなるものであり、第一鉄イオンと過酸化水素、第一鉄
イオンと過硫酸イオン、第二鉄イオンと過酸化物などが
ある。

アゾ及びジアゾ化合物としては、α・α′−アゾビスイ
ソブチロニトリル、２−アゾビス−２−メチルブチロニ
トリル、１−アゾ−ビス−シクロヘキサンカルボニトリ
ル、Ｐ−アミノジフェニルアミンのジアゾニウム塩など
がある。

光還元性色素としては、ローズベンガル、エリスロシン
、エオシン、アクリフラビン、リボフラビン、チオニン
などがある。

これら光重合開始剤は単独であるいは必要に応じて２種
以上を組合せて用いることができる。これらの光重合開
始剤は不飽和化合物１００重量部に対して通常０．１〜
２０重量部の範囲で使用することができる。

この発明の画像形成材料の感光層は、上記したような皮
膜形成性高分子物質、付加重合性不飽和化合物、光重合
開始剤、特定の密着性向上剤および保存性向上剤からな
るものであるが、さらに必要に応じて熱重合防止剤、着
色剤、充てん剤、可塑剤などの各種添加剤を含有させる
事もできる。

この発明に使用される感光層を形成する各成分は、溶剤
に溶解して塗布液となし支持体上に塗布し乾燥される。

塗布液の溶剤としてはアセトン、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトンなどのケトン類、トルエン、ベ
ンゼン、キシレンなどの芳香族炭化水素、酢酸エチル、
酢酸ブチル、酢酸アミルなどのエステル類、四塩化炭素
、クロロホルム、トリクロロエチレン、塩化メチレンな
どのハロゲン化炭化水素、ジエチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールモノメチ
ルエーテルなどのエーテル類、ジメチルホルムアミド、
ジメチルスルホキシドなどがある。

感光層は支持体の上に塗布液を塗り乾燥させた後の厚み
が５〜１００μｍとなる範囲とすることができるが、微
細な画像パターンに適用するという観点からすれば薄い
感光層はど露光部分と未露光部分との界面の切断に要す
る力も少なくてよいため、５〜２５μｍの厚みとするこ
とが望ましい。

この発明の画像形成材料は支持体上に感光層を設けた構
成からなるものであるが、必要に応じて感光層の上に保
護フィルムを設けることもできる。

保護フィルムとしてはポリエチレン、ポリプロピレンあ
るいは非着処理をほどこした各種フィルム、紙などが使
用できる。

この発明の画像形成材料を用いて画像形成する方法につ
いて説明すると、の発明の画像形成材料が保護フィルム
を有している場合は保護フィルムをはがしてから感光層
を所望の基板に圧着させる。

次に透明な支持体を通して画像露光する。

光源としては３５０〜５０００ｍの範囲の波長の光を含
む光源、例えば高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノン灯
、カーボンで−ク灯などを使用することができる。その
他にレーザー光線、電子線、Ｘ線などを光源として使用
してもよい。画像露光後必要ならば熱処理を加えてもよ
いが（５０℃〜１２０℃で１分〜１２０分程反〕、支持
体を基板から剥離すると画像露光における露光部分は硬
化して基板に残り、未露光部分は硬化しないまま支持体
と共に除去され、かくして基板上に所望の画像が形成さ
れる。

なお、どの発明の画像形成材料はプリント配線板作製用
のフォトレジストに好適に使用できるが、さらに平版印
刷、画板印刷等の刷版の作製や他のレリーフ画像の作製
などの用途にも使用することができる。

以下実施例によって具体的に説明するが、この発明はこ
の実施例により限定されるものではない。

実施例１ 塩素化ポリエチレン（出隅国策パルプ社製スーパークロ
ンＣＰＥｇＯ７ＨＡ）　　７０（重量部）ポリメタクリ
ル酸メチル（三菱レーヨン社製ダイヤナールＢＲ−７５
）　　　　　３０ペンタエリスリトールトリアクリレー
ト　５０オリゴエステルアクリレート（東亜合成化学工
業社製アロニツクスＭ−６３００）　　８０ベンゾフエ
ノン　　　　　　　２．０（重量部）ミヘシーズケトン
　　　　　　２．０ パラメトキシフエノール　　　０．１ ２−ナフタレンスルホニルクロライド　０．５２−ヒド
ロキシエチルアクリロイルホスフェート　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　０．５パラメトキシフエノール　　　　　
　　０．１エチルバイオレツト　　　　　　　　　　０
．３トルエン　　　　　　　　　　　　　　４００上記
材料を均一に溶解混合することにより光重合性組成物の
溶液を作成し、この液を厚さ２５μｍのポリエチレンテ
レフタレートフィルム上に乾燥後の厚みが２０μｍにな
るように塗布し、８０℃で５分間乾燥を行なうことによ
り画像形成材料を得た。

この画像形成材料を表面を清浄した銅張りガラスエポキ
シ積層板の銅表面に加圧積層し、さらに画像形成材料の
表面に７５〜３００μｍの各種線幅パターンを有する陰
画原稿を密着させ、３ＫＷの超高圧水銀灯で６０ｍの距
離より１０秒間の露光を行なった。次に基板を３５℃に
加温した状態で画像形成材料の支持体であるポリエチレ
ンテレフタレートフィルムを基板から引き剥がしたとこ
ろ、未露光部分はフィルムと共に基板から除去されて、
基板の銅表面には硬化して残った露光部分からなる陽画
画像が形成された。この画像は７５μｍや１００μｍ等
の細い線幅パターンも剥がれることなく陰画原稿に忠実
に対応するパターンであることが確認された。さらに、
同様の操作によって９枚の基板に画像形成したが、全く
同様の結果を得た。

一方、同様に画像形成材料を積層した基板を２３℃、８
０％の雰囲気中に１日間放置したものおよび３日間放置
したものについて、同様に露光、剥離現像を行なったが
、いずれも放置しないものと変わらぬ良好な画像パター
ンが得られた。

このようにして得られたレジストパターンを有する各銅
張り基板を、塩化第１鉄水溶液を用いて４０℃の温度で
銅層のエツチング処理を行なったが、この処理中もレス
シストは銅表面に強く接着しており、剥がれやピンホー
ルを全く生じていないことか確認された。さらに、エツ
チング後のレジストの除去は塩化メチレンによって容易
に行なうことができた。

比較例１ 実施例１の光重合性組成物中の２−ナフタレンスルホニ
ルクロライドおよび２−ヒドロキシエチルアクリロイル
ホスフェートを除いた以外は実施例１と同様にして画像
形成材料を得た。これを用いて実施例１と同様の操作に
よって１０枚の基板上にレジストパターンを形成したと
ころ、５枚の基板のレジストパターンに７５μｍおよび
１００μｍ　ノ線幅パターンの剥がれが確認された。

比較例２ 実施例１の光重合性組成物中の２−ヒドロキシエチルア
クリロイルホスフェートを除いた以外は実施例１と同様
にして画像形成材料を得た。これを用いて実施例１と同
様の操作で１０枚の基板上にレジストパターンを形成し
たところ、比較的良好な画像パターンが得られたが、画
像形成材料を１日間放置した後に露光、剥離現像したも
のでは未露光部分が半ばゲル化した状態で基板上に残留
していることが確認された。

実施例２ 塩化ゴム（山間国策パルプ社製スーパークロンＣＲ−５
）　　　　　　　　　　８０（重量部）ポリメタクリル
酸メチル（三菱レーヨン社製ダイヤナールＢＲ−８０）
　　　　２０ オリゴエステルアクリレート（東亜合成化学工業社製ア
ロニックスＭ−８０６０）　　４０オリゴエステルアク
リレート（東亜合成化学工業社製７０．１ｍ　’７クス
Ｍ−６１００）　　１００２−【−ブチルアントラキノ
ン　　　２．０４・４′−ビスジエチルアミノベンゾフ
ェノン２．０ トリブロモメチルフェニルスルホン　１．０２−ヒドロ
キシアクリロイルボスフェート１．０ パラメトキシフェノール　　　　　　０．１エチルバイ
オレート０．３（重量部） トルエン　　　　　　　　　４００ 上記材料を用いて実施例１と同様にして画像形成材料を
得た。これを実施例１と同様の方法でレジストパターン
を形成したところ、全く剥がれのない良好な画像パター
ンが得られ、また実施例１と同様の放置を行なったもの
も特性の変化が認められず良好な画像パターンが得られ
た。

比較例３ 実施例２の光重合性組成物中のトリブロモフェニルスル
ホンおよび２−ヒドロキシエチルアクリロイルホスフェ
ートを除いた以外は実施例２と同様にして画像形成材料
を得た。これを用いて実施例２と同様の操作で１０枚の
基板上にレジストパターンを形成したところ、８枚の基
板のレジストパターンに７５μｍ　、　ｌ　Ｑ　９μｍ
、および１２５μｍの線幅パターンの剥がれが確認され
た。

比較例４ 実施例２の光重合性組成物中の２−ヒドロヤシエチルア
クリロイルホスフェートを除いた以外は実施例１と同様
にして画像形成材料を得た。これを用いて実施例２と同
様の操作で１０枚の基板上にレジストパターンを形成し
たところ、いずれも比較的良好な画像パターンが得られ
たが、画像形成材料を積層した基板を２３℃、８０％Ｒ
Ｈの雰囲気中で１日間放置した後に露光現像したもので
は比較例２と同様に未露光部分が半はゲル化した状態で
基板上に残留していることが確認された。

特許出願人　　日東電気工業株式会社

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）透明支持体上に皮膜形成性高分子物質と付加重合
   性不飽和結合を少なくとも１個含有する化合物と光重合
   開始剤とを必須成分として含有する光重合性組成物層を
   設けてなる画像形成材料において、上記光重合性組成物
   層中に一般式； ％式％（） 〔但し、ｋｌは置換もしくは未置換の芳香族残基あるい
   は異部環状化合物残基、ｋ２は）・ロダンあるいはＣ）
   ｈｎＹｎ　（ＹはＩ−６ゲン、ｍ　−４−ｎ＝３でｎは
   １以上）〕 で表わされる化合物と、一般式； ％式％ は水素原子またはＣＨ３基、Ｒ３はアルキレン船で表わ
   される化合物とを、それぞれが全光重合性組成物（固形
   分）の量に対して０，０１〜５重量％の範囲で添加され
   てなる画像形成材料。