JP2526316B2 - 水性または半水性で処理可能なフレキソグラフ印刷板用のレリ―ズ層 - Google Patents

水性または半水性で処理可能なフレキソグラフ印刷板用のレリ―ズ層

Info

Publication number
JP2526316B2
JP2526316B2 JP2514546A JP51454690A JP2526316B2 JP 2526316 B2 JP2526316 B2 JP 2526316B2 JP 2514546 A JP2514546 A JP 2514546A JP 51454690 A JP51454690 A JP 51454690A JP 2526316 B2 JP2526316 B2 JP 2526316B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
aqueous
release layer
semi
photosensitive
layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP2514546A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH05501314A (ja
Inventor
スワツトン,デイビツド・ウイリアム
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
EI Du Pont de Nemours and Co
Original Assignee
EI Du Pont de Nemours and Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=23703856&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=JP2526316(B2) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by EI Du Pont de Nemours and Co filed Critical EI Du Pont de Nemours and Co
Publication of JPH05501314A publication Critical patent/JPH05501314A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2526316B2 publication Critical patent/JP2526316B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/092Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers characterised by backside coating or layers, by lubricating-slip layers or means, by oxygen barrier layers or by stripping-release layers or means

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はフレキソグラフ印刷板用のレリーズ層に関
し、さらに詳細には水性または半水性で処理可能な、フ
レキソグラフ印刷板用のヒドロキシアルキルセルローズ
レリーズ層に関するものである。
従来の技術 レリーズ層は、フレキソグラフ印刷板用エレメントが
ネガチブまたはポジチブの画像−保持フィルムを通じて
像様露光された後に、このエレメントからネガチブまた
はポジチブのフィルムを取り去るのを容易にする。レリ
ーズ層のない場合、このフィルムは通常印刷エレメント
の粘着性表面にくっつき、エレメントの表面を傷つける
ことなしにフィルムをとり除くことは実際上不可能にな
ってしまう。
代表的に、非−水性溶剤中で現像可能なフレキソグラ
フ印刷エレメントを作る際はポリアミドのレリーズ層が
使用されている。しかしながら、水性または半水性で現
像可能なフレキソグラフ印刷用のエレメントにポリアミ
ドのレリーズ層を使用することは、これが現像液中に充
分に溶解しないため適当ではない。
水性または半水性フレキソグラフ印刷用エレメントを
現像するのに用いられる溶液中で充分に可溶性であるレ
リーズ層は、米国特許第4,576,897号および4988年8月3
0日出願の本出願人の米国特許出願第07/238,103号中に
記述されている。
前記の水性または半水性で現像しうるレリーズ層に関
連した問題の1つは、得られる画質、特に反転ラインお
よびドットの達成しうる深さが、ポリアミドレリーズ層
を使用して以前に得られた画質に対して劣ることであ
る。
そこで、水性または半水性処理可能なフレキソグラフ
印刷用エレメントとともに用いたとき、これまでポリビ
ニルアルコールレリーズ層を使用して得ることのできな
かった画質を生じるような、水性または半水性で現像可
能なレリーズ層が提供されることが望ましい。
発明の要点 本発明は、水性または半水性で処理可能なフレキソグ
ラフ印刷用エレメントから、ネガチブまたはポジチブの
画像−保持フィルムを取り去るのを容易とするために、
画像−保持フィルムと感光性層との間に介在させた、C
1-5のアルキル基のヒドロキシアルキルセルローズレリ
ーズ層を使用することからなる方法に関するものであ
る。
本発明はまたこのレリーズ層を含んだ水性または半水
性で処理可能なフレキソグラフ用感光性エレメントと、
このようなエレメントから印刷用レリーフを作成するた
めの方法にも関連するものである。
発明の具体的説明 水性または半水性で処理可能なフレキソグラフ用エレ
メントとともに用いるのに適したレリーズ層は以下の各
特性をもつべきである:(a)それらは現像液中で可溶
性または膨潤可能でなければならない、(b)それらは
フレキソグラフ印刷用エレメントの感光性層の処方に用
いられている、エチレン性の不飽和モノマーとは実質的
に非混和性(incompatible)でなければならない、
(c)それらは画質に不都合な作用をすべきでない、そ
して(d)それらは柔軟性のものでなければならない。
さらに、当業者は理解できるように、レリーズ層は透明
で、塗布可能で、非粘着性であるべきであるが、しかし
それが介在されている両方の層に対して充分に接着性を
有するものでなければならない。
ヒドロキシアルキルセルローズレリーズ層の導入は、
水性処理可能なフレキソグラフ印刷用エレメントから、
ネガチブまたはポジチブの画像−保持フィルムを取り去
るのを容易とすることが認められた。驚くべきことにま
た予期しなかったことに、このヒドロキシアルキルセル
ローズレリーズ層は前述の必要な各特性を備えているの
である。
アルキル成分は1から5までの炭素原子をもつものと
することができ直鎖でもまた分岐したものでも良い。好
ましいアルキル成分はプロピルである。
ヒドロキシアルキルセルローズレリーズ層はうすい水
性アルカリ溶液により容易に除去される。それらはフレ
キソグラフ印刷用エレメントの処方に用いられたエチレ
ン性不飽和化合物と実質的に非混和性である。この非混
和性はモノマーがレリーズ層中に侵入して層を粘着性に
することを防止する。得られる画質、すなわち反転ライ
ンとドットの深さは、ポリビニルアルコールレリーズ層
を用いて得られたものよりも優れている。もし反転ライ
ンとドットの深さが不適切なときは、インキが付着され
るべきでない区域にもインキングが生じよう。
その上、このヒドロキシアルキルセルローズレリーズ
層は実質的に透明で、非粘着性で、普通のバー塗布装置
を用いて容易に塗布され、そして感光性層とカバーシー
トの両者に対して充分な接着性を有している。充分な接
着性とはレリーズ層が普通の取扱い中は両方の層に接着
されており、そしてカバーシートは画像状露光の前にた
易く取り去られることを意味している。
柔軟なカバーシート上のレリーズ層の塗布/ぬれを改
良するために、必要ならば界面活性剤をレリーズ層に対
して添加することができる。界面活性剤は水性または半
水性システム中で取扱うことができる限りどれでも使用
できる。これにはパーフルオロアルキルエトキシレート
のようなフッ素化された界面活性剤を挙げることができ
る。普通レリーズ組成物の全重量を基準に少なくとも1.
0%の活性剤を存在させるべきで、好ましくは少なくと
も2.5%の活性剤を存在させるべきである。
界面活性剤の他に、塗膜の欠陥の検出を容易とするた
めに、本発明のレリーズ層に着色材を添加することもで
きる。水性または半水性システム中で可溶性の着色材は
どれでも使用することができる。
一般に、水性または半水性で処理可能なフレキソグラ
フエレメントは支持体と感光性組成物の層とからなり、
前記組成物は水性または半水性処理可能なバインダー、
少なくとも1つの重合可能なエチレン性不飽和モノマ
ー、活性放射線(actinic radiation)により活性化さ
れる開始剤または開始剤系から構成されており、そして
柔軟なカバーシートを含んでいる。
ヒドロキシアルキルセルローズレリーズ層は各種の方
法で感光性組成物の表面に付与することができる。好ま
しい方法はこの感光性組成物層に接触する柔軟なカバー
シートの面上にうすい層をバー塗布するのである。レリ
ーズ層は10〜80mg/dm2の範囲の乾燥塗布量を有してい
る。感光性組成物はレリーズ組成物を塗布したこのカバ
ーシートと支持体との間に押し出しをすることができ
る。カバーシートをとり去ったとき、レリーズ層は感光
性層の表面上に残留し実質上平滑な表面を出現させる。
ここに記載する光重合性層は各種の基板に付与するこ
とができる。基板とは各種の天然または合成の支持体を
意味している。適当なベースまたは支持体材料には、例
えばアルミニウム板、シートおよびホイルのような金
属、および付加重合ポリマー特にビニルクロライド、ビ
ニルアセテート、スチレン、イソブチレンおよびアクリ
ロニトリルなどとビニリデンクロライドとのコポリマ
ー;ビニルクロライドのホモポリマーおよびビニルアセ
テート、スチレン、イソブチレンおよびアクリロニトリ
ルなどとのコポリマー;ポリエステル例えばポリエチレ
ンテレフタレート、ポリアミド例えばポリヘキサメチレ
ンセバカミドなどのような線状縮合ポリマー;ポリイミ
ド例えばEdwards氏の米国特許第3,179,634号中で示され
たフィルム、およびポリエステルアミド例えばポリヘキ
サメチレンジパミドアジペートなどのような、各種のフ
ィルム形成性合成樹脂または高分子ポリマーから構成さ
れるフィルムまたは板状体などが含まれる。充填材また
は強化材、例えば木綿、セルローズアセテート、ビスコ
ースレーヨン、紙のようなセルローズ系繊維;ガラス繊
維;ナイロンおよびポリエチレンテレフタレートなどの
各種繊維(合成または天然)のようなものを合成樹脂ま
たはポリマーベース中に存在させることができる。これ
らの強化されたベースはラミネートした形で使用するこ
ともできる。米国特許第2,760,863号中で示されている
各種の下引き層を支持体と感光性層間の強い接着を与え
るため使用でき、また透明な支持体の場合活性放射線に
対して支持体を通じての前露光が有用なこともある。Bu
rg氏の米国特許第3,036,913号中に示された接着組成物
も有効である。
本発明で用いるのに適したフォトポリマー組成物は、
水中または水性あるいは半水性のアルカリ中で現像しう
るものでなければならない。このフォトポリマー組成物
は、プレフォームド高分子ポリマーバインダー、少なく
とも1つの付加重合可能なエチレン性不飽和モノマー、
および開始剤系で構成される。このような感光性の組成
物は、Alles氏の米国特許第3,458,311号、Pohl氏の同第
4,442,302号、Pine氏の同第4,361,640号、Kai氏他の同
第3,794,494号、Proskow氏他の同第4,177,074号、同第
4,431,723号および同第4,272,608号およびWorns氏の同
第4,517,279号中などで教示されており、本発明の実施
に際し用いるのに適したものであり、これらのすべてを
参照によって本明細書に組み入れる。
前述のフォトポリマー組成物に加えて、1988年8月30
日付出願の出願人の米国特許出願第07/238,104号中で述
べられたもののようなコアシェルマイクロゲルまたは予
備成型された高分子ポリマーとコアシェルマイクロゲル
との混合物よりなるバインダーを使用するフォトポリマ
ー組成物を参照によって本明細書に組み入れるものとす
る。
コアシェルマイクロゲルの語は…架橋化したコアと水
性処理可能な架橋化していないシェル…の2つの領域を
もつ粒子を意味している。コアは10%以下の架橋をもち
またシェルは架橋化していない酸変性コポリマーから構
成されている。
コアシェルマイクロゲルは乳化重合により通常に調製
される。マイクロゲルは一般に90〜99.5重量%のポリマ
ー化合物と10〜0.5重量%の架橋化剤から形成されてお
り、これらの材料は連続的な相システムの生成の際に相
溶性のものである。ポリマー成分は、コアが10%未満の
架橋をもつようにまた水性処理可能に設計されるシェル
を作るため酸変性コポリマーが使用されるように、コア
とシェルを作るための重合に際して変化させることがで
きる。代表的に、使用されるマイクロゲルはエラストマ
ー性の架橋化コアと水性処理可能なエラストマー性の非
架橋化シェルまたは熱可塑性の非架橋化シェルとを有し
ている。エラストマーは、定義により、周囲温度以下の
ガラス転位温度をもち、また熱可塑性材料は周囲温度以
上のガラス転位温度をもっている。また熱可塑性の架橋
化したコアと熱可塑性の非架橋化シェルとをもつマイク
ロゲルを使用することも可能である。この選択は感光性
組成物に課せられる用途に関連することだろう。好まし
いマイクロゲルは、エラストマー性架橋化コアとエラス
トマー性の非架橋化シェルとをもつものである。
コアシェルマイクロゲルは広範囲の各種出発材料から
作ることができる。普通、モノ−またはポリ−エチレン
性の不飽和モノマーがマイクロゲルの大部分を作るのに
用いられるが、架橋化剤は少なくとも2個の二重結合を
含んでいる。
適当なモノマーはC1-18のアルコールとアクリルまた
はメタアクリル酸とのエステルである。これらはメチル
メタアクリレート、エチルアクリレート、メタアクリル
酸、ブチルメタアクリレート、エチルメタアクリレー
ト、グリシジルメタアクリレート、スチレンおよびアリ
ルメタアクリレートなどを記載できるが、この他の有用
なモノマーにはアクリロニトリル、メタアクリロニトリ
ル、アクリル酸、ブタジエン(BD)および2−エチルヘ
キシルアクリレートなどが含まれる。コアを作るため好
ましいモノマーは2−エチルヘキシルアクリレートであ
る。シェル用に好ましい酸変性コポリマーはメタアクリ
ル酸−変性n−ブチルアクリレートである。
その他の適当なモノマーには、ビニルエーテルとビニ
ルエステル、アクリルおよびメタアクリル酸のニトリル
とアミドなどが含まれる。
好ましい架橋化剤はブタンジオールジアクリレート
(BDDA)であり;他のものにはエチレングリコールジメ
タアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレ
ート、トリメチロールプロパントリアクリレート、テト
ラエチレングリコールジメタアクリレート、メチレンビ
スアクリルアミド、メチレンビスメタアクリルアミド、
ジビニルベンゼン、ビニルメタアクリレート、ビニルク
ロトネート、ビニルアクリレート、ビニルアセチレン、
トリビニルベンゼン、グリセリントリメタアクリレー
ト、ペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、ト
リアリルシアヌレート、ジビニルアセチレン、ジビニル
エタン、ジビニルサルファイド、ジビニルスルホン、ブ
タジエンのようなジエン類、ヘキサトリエン、トリエチ
レングリコールジメタアクリレート、ジアリルシアナミ
ド、グリコールジアクリレート、エチレングリコールジ
ビニルエーテル、ジアリルフタレート、ジビニルジメチ
ルシラン、グリセロールトリビニルエーテル、その他が
含まれる。
以前に記述したように、架橋化は製造中に調節され
る。従って、10%未満の架橋化のコアをもつコアシェル
マイクロゲルは、コアの架橋のために10%またはそれ以
下の架橋化剤を使用し、シェルを作るためには架橋化剤
を用いないことにより達成される。
慣用的には、マイクロゲルの製造の際は1種またはそ
れ以上のモノマーと架橋化剤とが、適当な乳化剤と開始
剤とともに水中に分散される。通常のアニオン性、カチ
オン性またはノニオン性乳化剤と水溶性の開始剤とが使
用される。乳化剤の例はラウリル硫酸ナトリウム、ラウ
リルピリジンクロライド、ポリオキシエチレン、ポリオ
キシプロピレン、コロイド状シリカ、アニオン性の有機
ホスフェート、マグネシウムモンモリロナイト、12〜13
モルのエチレンオキサイドと1モルのオクチルフェノー
ルとの反応生成物、第2級アルキル硫酸ナトリウムとこ
れらの混合物である。通常反応剤の全重量を基準に0.25
〜4%の乳化剤が使用される。開始剤の例は過硫酸カリ
ウム、過硫酸ナトリウム、過硫酸アンモニウム、t−ブ
チルハイドロパーオキサイド、過酸化水素、アゾビス
(イソブチロニトリル)、アゾビス(イソブチロイミジ
ンハイドロクロライド)、過酸化水素と硫酸第1鉄およ
び良く知られている過硫酸塩−酸性亜硫酸塩のような各
種レドックス(酸化−還元)系などである。普通共重合
可能なモノマーの重量を基準に0.05〜5重量%の開始剤
が使用される。
マイクロゲルは米国特許第3,895,082号で述べられて
いるような乳化重合法により作ることができる(また英
国特許第967,051号も適当な方法を示している)。この
方法は、ポリマーの内部、つまりコアがポリマーの外側
部分つまりシェルと異なるモノマー組成である球状のマ
イクロゲルを作るために、1つの組み合わせのモノマー
で反応を開始し反応の終段でその比を変更するように修
正することができる。シェルが水性処理可能であるよう
にされることが望ましい。これは酸変性コポリマーをも
つようにシェルを構成することにより達成される。コア
はエラストマー性のものとすることができ、シェルはエ
ラストマー性または熱可塑性のいずれともすることがで
きる。
酸化重合の技術は水相中に分散された球状のマイクロ
ゲルを作るための反応条件に関連して良く知られてい
る。この分散物が不都合な不純物や副産物を含まず使用
できるとき以外、普通感光性組成物としてそれを使用す
る前にマイクロゲルを固体に変えることが必要である。
この目的のためには良く知られている凝固、濾過、洗浄
および乾燥という方法を用いることができる。凍結乾燥
が本発明のため特に有用な方法である。一般にマイクロ
ゲル中の架橋化剤の量はマイクロゲル全重量の20重量%
以下、普通10重量%以下である。
コア対シェルの重量比は通常約4:1〜約1:4の範囲内で
ある。
製造しそしてテストして有用性の認められたいくつか
のマイクロゲルの組成を第1表中に示す。すべての部は
重量によるものである。
マイクロゲルと混合して用いることのできるプレフォ
ームド高分子ポリマーは酸性基またはその他の基を充分
に含み、そのためバインダーは半水性または水性現像液
中で処理可能である。有用な水性処理可能バインダーに
は米国特許第3,458,311号と同第4,273,857号中に示され
たものが含まれる。有用な両性ポリマーには米国特許第
4,293,635号中で示されたもののような、N−アルキル
アクリルアミドまたはメタクリルアミド、酸性のフィル
ム形成用コモノマーおよびアルキルまたはヒドロキシア
ルキルアクリレートから導かれるインターポリマーが含
まれる。水性現像のために、放射線に対して露光をされ
なかった感光性層の部分は、2重量%の炭酸ナトリウム
を含有する完全な水性溶液のような液体による現像中に
除去されよう。露光をされた部分は現像により影響され
ることはない。
一般に、バインダーはモノマー、開始剤系およびバイ
ンダーの各成分の重量の1〜90重量%の量に存在する。
これらの各成分を基準に感光性組成物中の重量による
適当な濃度は: (a)5〜50%の付加重合可能なエチレン性不飽和モノ
マー; (b)0.01〜15%の活性放射線により活性化される開始
剤系; (c)1〜90重量%のバインダー。
可塑剤が必要とされるならば、マイクロゲルバインダ
ーと両立しうる普通の可塑剤のどれであっても良い。使
用することのできる若干の通常の可塑剤はジアルキルフ
タレート、アルキルホスフェート、ポリエチレングリコ
ール、ポリエチレングリコールエステル、ポリエチレン
グリコールエーテルおよび低分子量のポリブタジエン
(MW<5000)などである。
コアシェルマイクロゲルとプレフォームド高分子ポリ
マーとの混合物が使用されるとき、付加重合可能なエチ
レン性不飽和モノマーがマイクロゲルのコア外側に関与
するのが好ましい。適当なモノマーは一般に水性処理可
能な外部シェルの化学的組成と類似の化学組成をもつも
のを選ぶことができる。適当な1つのクラスはアルコー
ル類のエチレン性不飽和エステルである。以下のものを
記述することができる;トリメチロールプロパントリア
クリレート、ポリオキシエチレートトリメチロールプロ
パントリアクリレート。
活性光線により活性化されそして185℃およびこれ以
下で熱的な安定な、好ましいフリーラジカル発生性付加
重合開始剤には置換または未置換の多核キノン類が含ま
れ、これは共役炭素環リング系中に2つの環内炭素原子
をもつものであり、例えば9,10−アンスラキノン、1−
クロロアンスラキノン、2−クロロアンスラキノン、2
−メチルアンスラキノン、2−エチルアンスラキノン、
2−t−ブチルアンスラキノン、オクタメチルアンスラ
キノン、1,4−ナフトキノン、9,10−フェナンスレンキ
ノン、1,2−ベンズアンスラキノン、2,3−ベンズアンス
ラキノン、2−メチル−1,4−ナフトキノン、2,3−ジク
ロロナフトキノン、1,4−ジメチルアンスラキノン、2,3
−ジメチルアンスラキノン、2−フェニルアンスラキノ
ン、2,3−ジフェニルアンスラキノン、アンスラキノン
アルファ−スルホン酸ナトリウム、3−クロロ−2−メ
チルアンスラキノン、レテンキノン、7,8,9,10−テトラ
ハイドロナフタセンキノンおよび1,2,3,4−テトラハイ
ドロベンズアンスラセン−7,12−ジオンなどである。ま
たその他の有用な光開始剤は、あるものは85℃のような
低い温度においてすら熱的なものもあるが、米国特許第
2,760,863号中で述べられたベンゾイン、ピバロインの
ような隣接ケトアルドニルアルコール類;アシロインエ
ーテル類例えばベンゾインメチルおよびエチルエーテ
ル;アルファ−メチルベンゾイン、アルファ−ベンゾイ
ンとアルファ−フェニルベンゾインを含むアルファ位置
−炭化水素置換芳香族アシロイン類などが含まれる。米
国特許第2,850,445号;同第2,875,047号;同第3,097,09
6号;同第3,074,974号;同第3,097,097号;および同第
3,145,047号中に示されている光還元性の色素類と還元
剤類、同様に米国特許第3,427,161号;同第3,479,185
号;および同第3,549,367号中で述べられているフェナ
ジン、オキサジンおよびキノン類の各色素;ミヒュラー
氏ケトン、ベンゾフェノン、2,4,5−トリフェニル−イ
ミダゾリルダイマー類と水素供与体およびこれらの混合
物などを開始剤として用いることができる。同様に、米
国特許第4,341,860号のシクロヘキサジェノン化合物類
も開始剤として有用である。また光開始剤および光抑制
剤とともに有用なものは米国特許第4,162,162号中に示
されている増感剤である。
光重合性組成物中で用いることのできる熱的重合の抑
制剤はp−ヒドロキシフェノール、ハイドロキノン、ア
ルキルおよびアリール置換したハイドロキノンとキノ
ン、t−ブチルカテコール、ピロガロール、カパーレジ
ネート、ナフチルアミン、ベータ−ナフトール、塩化第
1銅、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、フェノ
チアジン、ピリジン、ニトロベンゼンとジニトロベンゼ
ン、p−トルキノンおよびクロルアニルなどである。ま
た熱的重合の抑制剤として有用なものは、米国特許第4,
168,982号中に示されたニトロソ化合物類である。
ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレンまたは
その他のストリップ可能な材料の薄いフィルムのような
透明なカバーシートが、保存または取扱い中の汚染と損
傷とを防ぐため表面上のレリーズ層として一般に保存す
る。
ホトポリマーエレメントからフレキソグラフ印刷板を
作るための一般的方法には、画像露光、現像またはウォ
ッシュアウト、乾燥および任意的に、後−現像処理、例
えば後−露光の各工程を含んでいる。もし表面がまだ粘
着性であるならば、任意的の後−現像処理である脱粘着
化処理をすることができる。
透明な支持体をもつエレメントでは裏面フラッシュ露
光を用いることができる。一般に裏面フラッシュには36
0nm付近の主波長を放出する放射線源を使用する。これ
は板を感光させレリーフ版の底を形成させる。裏面フラ
ッシュ法は支持体を通じて一様なかつ比較的短い露光を
フォトポリマー層に与え、これにより支持体区域中でバ
インダーとモノマーとの光架橋化を生じさせるのであ
る。
印刷レリーフは画像−保持原板を通じて感光性層の選
択された区域を、活性放射線に対し露光することによ
り、本発明の感光性組成物から作ることができる。付加
−重合または架橋化により、エチレン性の不飽和化合物
成分は層の放射線−露光部分中で不溶性の状態に変化
し、層の未露光部分または区域中で著しい重合または架
橋化は生じない。この層の未露光部分は水性または半水
性溶剤により取り去られる。この製版用原板はセルロー
ズアセテートフィルムおよび配向したポリエステルフィ
ルムを含む適当な材料で構成されている。
どのようなタイプの光源からの活性放射線もこの光重
合法に際して使用することができる。放射線は点光源か
ら放射されるものでも、あるいは平行光または発散光の
形のものであっても良い。画像保持原板に比較的に近い
広い放射線源を用いることにより、原板の透明区域を通
過した放射線は発散ビーム状で入射し、そして原板の透
明部分の下側の光重合性層中の連続的の発散域を照射す
る。これは光重合性層の底部でより大きな幅をもつポリ
マーレリーフで、レリーフの上部面は原板の透明域の大
きさである。すなわち錐台形のレリーフを生じる。
活性放射線により活性化されるフリーラジカル発生系
が一般に紫外光域にその最高感光性を示すため、放射線
源は好ましく約2500Åと5000Å間の波長範囲をもつ放射
線の効果的量を供給すべきである。適当な放射線源は、
太陽光線の他に炭素アーク、水銀蒸気アーク、紫外線放
射ケイ光体をもつケイ光ランプ、アルゴングローラン
プ、電子フラッシュ装置と写真用光源ランプなどが含ま
れる。適当なマスクを通じての電子線アクセレーターと
電子ビーム源も使用することができる。もちろん水銀蒸
気ランプ、特にサンランプが最適のものである。
放射線露光の時間ほその強度と放射線のスペクトル的
のエネルギー分布、組成物からの距離および使用する組
成物の性質と量などにより、数分の1秒から数分までに
変化しよう。普通は水銀蒸気アークまたはサンランプが
感光性組成物から約1.5〜約60インチ(3.8〜153cm)の
距離で使用される。露光の温度は、好ましく周囲温度ま
たはこれよりいくらか高め、すなわち約20℃〜約35℃で
行われる、 現像は約25℃で行うこともできるが、最良の結果は現
像用溶液を、例えば30゜〜60℃に温めるときに得られ
る。現像時間は変化させることができるが、約3〜25分
の範囲内が好ましい。現像液は浸漬、スプレーおよびブ
ラシまたはローラー付与などを含む、通常の方式のどれ
かで付与することができる。ブラッシングは組成物の未
重合または未架橋の部分の除去を助ける。ウォッシュア
ウトは自動処理装置中でしばしば行われており、これは
板の未露光部分をとり除いて露光された画像と床とから
構成されるレリーフを残すため、溶剤と機械的のブラッ
シング作用とを使用している。
好ましい水性または半水性の現像液はアルカリ性材料
を含んでおり、適当なアルカリ性材料にはアルカリ金属
の水酸化物が含まれる。好ましい現像液は0.5%の水酸
化ナトリウム溶液である。半水性の現像液はアルカリ性
材料の他に水混和性の有機溶剤を含んでいる。適当な水
混和性の有機溶剤にはイソプロパノール、ブタノール、
ダイアセトンアルコール、1−メトキシエタノール、2
−エトキシエタノールおよび2−n−ブトキシエタノー
ルなどが含まれる。使用することのできるその他の水性
または半水性現像液は米国特許第3,796,602号中に説明
されている。
現像後、一般にレリーフ印刷板は液を吸いとりまたは
拭いとり、ついで強制気流または赤外線オーブン中で乾
燥させる。乾燥時間と温度とはまちまちであるが、代表
的には60℃(140゜F)で60〜120分乾燥する。高い温度
は支持体の収縮が位置決め上の問題を生じるので推奨す
ることができない。通常追加的に一晩(16時間またはこ
れ以上)風乾させる。溶剤は周囲条件の乾燥中も印刷用
レリーフから蒸発しつづける。
しかしながら、乾燥後においてすら、ある種のフォト
ポリマーフレキソグラフ印刷板は少なくともある程度の
表面粘着性を、特にレリーフの「肩部」と他の非画像域
に残していることがある。この表面粘着性は印刷用レリ
ーフにおいて望ましくないものである。そこで現在知ら
れているいくつかの脱粘着化または「仕上げ」手段の1
つを採用することが普通である。例えば、塩素または臭
素のうすい水性溶液のいずれかによる化学処理、あるい
は短波長の放射線に対する露光で、この表面粘着性を低
下できることが従来から良く知られている。
水性または半水性溶液中で現像をしたフォトポリマー
板の充分な脱粘着化は、乾燥後に200〜300nmの範囲の波
長をもつ放射線に対して印刷板面を露光する前に、板の
表面に対して非プロトン性の有機溶剤を施すことにより
得ることができる。これは1989年2月21日付で発行され
た出願人の米国特許第4,806,506号に主題となるもので
あり、これを参照によって本明細書に組み入れる。
表面粘着性をとり除くための仕上げに加えて、大部分
のフレキソグラフ印刷板は、光架橋化を完結させそして
板を保存と印刷の間安定とするために一様な後−露光を
される。この「後−露光」には主露光と同じ紫外放射線
源(普通300〜420nmの波長の)が利用される。後露光は
重合を完結しそして板の硬さと耐久性とを最高とするた
め用いられるが粘着性をとり除くものではない。後露光
は光仕上げの後で、同等におよび/またはその前にする
ことができる。
各露光工程の主要な目的は重合に影響を及ぼすための
ものであり、各種の光源からの放射線を使用することが
でき、これらには市販の紫外線ケイ光灯管、中、高およ
び低圧の水銀蒸気ランプ、アルゴングローランプ、電子
フラッシュ装置、写真用光源ランプ、キセノンパルスラ
ンプ、炭素アークランプなどが含まれる。この放射線源
は230〜450nm、好ましく300〜420nm、さらに好ましくは
340〜400nm範囲の波長をもつ放射線の効果的量を放射し
なければならない。効果的な光重合をするために、この
波長は光重合性層中に存在する光開始剤の吸収特性に対
して一致するようにする。標準的な放射線源はシルバニ
ア350ブラックライトケイ光ランプ(FR48T12/350VL/VHO
/180、115w)であり、これは354nm付近に中心波長をも
つ活性放射線を放射する。露光時間はランプの出力、ラ
ンプからの距離、所要のレリーフの深さ、および板の厚
みなどに依存し、数秒から数分までに変化する。
以下の各実施例を本発明の実際を例示するために示
す。すべてのパーセント、割合および部は特に記載しな
い限り重量によるものである。
実施例1 この実施例は本発明によるレリーズ層の調製とこのレ
リーズ層を使用するカバーシートを示すものである。
360gのクルセール Eヒドロキシプロピルセルローズ
(水中10%液の粘度=340cps、アクアロン社製)、1.08
gのネオザポン レッド色素(C.I.ソルベントレッド109
とベーシックバイオレット10;CAS No.53802−03−2;バ
ズフ社製)、および21gのゾニール FSNパーフルオロア
ルキルエトキシレート界面活性剤(デュポン社製)を、
8618gの脱イオン水にゆっくりと加えることにより溶液
を調製した。この液はついでヒドロキシプロピルセルロ
ーズのすべてが溶解するまで周囲温度で4時間攪拌し
た。この液を厚み5ミル(0.13mm)のポリエチレンテレ
フタレートシート上に、40フィート/分(12.19m/分)
の速度でバー塗布し、乾燥塗布量21mg/dm2の塗膜を得
た。
実施例2 この実施例は感光性フレキソグラフ印刷板プレカーサ
ーとともに実施例1で調製したカバーシートを使用する
のを例示するものである。
光重合性組成物を作るために以下の各成分を使用し
た:成分 重量部 ブチルアクリレート/メタクリル酸コポリマー(80/2
0) 74.7 ヘキサメチレングリコールジアクリレート 10.0 ポリオキシエチレートトリメチロールプロパントリアク
リレート 10.0 ジメトキシフェニルアセトフェノン 4.0 2,6−ジメチル−4−t−ブチルフェノール 1.0 TAOBN 0.05 ヒドロキシエチルメタクリレート 0.10 ネオザポン レッド色素(バズフ社製) 0.01 上記の各成分を28mmのツインスクリュー押し出し機中
に入れ、厚み4ミル(0.10mm)のポリエチレンテレフタ
レート支持体上に塗布されているポリビニリデンクロラ
イド/アクリル接着剤(76レスP546、ユニオンケミカル
社製)層と、実施例1で作ったカバーシートとの間に17
5℃で押し出した。最終の厚み(カバーシートを除い
て)は25ミル(6.35mm)であった。
画像露光に先立ってポリエステルカバーシートをとり
除いたとき、レリーズ層はフォトポリマー層の上に残留
し平滑な表面を示した。
感光性エレメントはまず4秒間裏面露光をし、ついで
写真ネガチブ原板を通じてサイレル 30×40露光装置
(P/N276208−001バルブ)上で2分間露光をした。つい
で、サイレル 水性処理機中0.5%の水酸化ナトリウム
水溶液で75゜F(24℃)において3分間処理し、サイレ
乾燥機中60℃で20分間乾燥した。得られた版はべた
区域上に平滑な面をもつレリーフ像を出現した。反転像
の深さは第2表中に示してある。
比較例3 この例は本発明のものでないレリーズ層を使用するカ
バーシートの調製を示すものである。
1260gの88%加水分解ポリビニルアルコール(ビノー
205、エアープロダクツ社製)を9240gの脱イオン水
にゆっくりと添加して、ポリビニルアルコールの12重量
%溶液を作った。ついでこの液を90℃に加熱して30分間
この温度に保ち、この後攪拌しながら周囲温度に冷却し
た。
この12%ポリビニルアルコール溶液の1488gに対し
て、以下のものを攪拌しながらゆっくりと加えた: 31.5g ポリエチレングリコール、MW=1000(カーボワ
ックス 1000、ユニオンカーバイド社製) 7.8g ゾニール FSN 0.99g ネオザポン レッド色素、メタノール13.8g中に
前もって溶解 1458g 脱イオン水 この液をさらに30分間攪拌し、ついで厚み5ミル(0.
13mm)のポリエチレンテレフタレートシート上に、100
フィート/分(30.5m/分)の速度でバー塗布し、乾燥塗
布量20mg/dm2の塗膜を得た。
比較例4 この例は、実施例2の感光性フレキソグラフ印刷板の
使用との比較として、比較例3のエレメントの使用を示
すものである。感光性組成物は実施例2中で述べたよう
にして調製し、そして比較例3のポリビニルアルコール
を塗布したカバーシートと、厚み4ミル(0.10mm)の接
着層を塗布したポリエチレンテレフタレート支持体との
間に押し出した。最終の厚み(カバーシートを除いて)
は25ミル(0.64mm)であった。
ポリエステルカバーシートをとり除きそして感光性エ
レメントは実施例2で述べたようにして露光と現像をし
た。反転像の深さは第2表中に示してある。
以上のデータから、本発明のレリーズ層をもつ印刷板
をポリビニルアルコールのレリーズ層をもつ板よりもさ
らに深い反転像を有することは明らかである。
実施例5 この例は本発明によるレリーズ層の調製とこのレリー
ズ層を使用するカバーシートの調製とを示している。
12.0gのクルーセル Lヒドロキシプロピルセルロー
ズ(水中50%液の粘度=75〜150cps、アクアロン社製)
と、0.25gのゾニール FSNとを192gの脱イオン水にゆっ
くり加えることにより溶液を作った。この液はついでヒ
ドロキシプロピルセルローズのすべてが溶解するまで周
囲温度で4時間攪拌した。ついで厚み5ミル(0.13mm)
のポリエチレンテレフタレート上にウエット膜厚4ミル
(0.10mm)となるよう塗布ナイフにより塗布した。乾燥
塗布量はほぼ20mg/dm2であった。
実施例6 この例は感光性フレキソグラフ印刷板プレカーサーと
ともに実施例5で作ったカバーシートの使用を例示する
ものである。
感光性組成物を作るために以下の各成分を使用した:成分 重量部 コア/シェルマイクロゲル(a) 65.8 ヘキサメチレングリコールジアクリレート 12.0 ポリオキシエチレートトリメチロールプロパントリアク
リレート 8.0 SR 9720(b) 10.0 ジメトキシフェニルアセトフェノン 3.0 2,6−ジメチル−4−t−ブチルフェノール 1.0 TAOBN(c) 0.05 ヒドロキシエチルメタクリレート 0.10 ネオザポン レッド色素 0.01 注:(a)コアは2−エチルヘキシルアクリレート98
部、アリルメタクリレート1部、1,4−ブチレングリコ
ールジアクリレート1部であり;シェルはn−ブチルア
クリレート80部、メタクリル酸20部であり;コア対シェ
ル比は2:1である。
(b)ザルトマーケミカル社製、ウレタンアクリレート
モノマー。
(c)1,4,4−トリメチル−2,3−ジアゾビシクロ−(3.
2.2)−ノン−2−エン−2,3−ジオキサイド。
上記各成分を28mm径のツインスクリュー押し出し機中
に入れ、85/15ビノール 205/カーボワックス1000のレ
リーズ層を塗布したポリエチレンテレフタレートカバー
シートと、76レスP546接着剤を塗布した厚み4ミル(0.
10mm)のポリエチレンテレフタレート支持体との間に押
し出した。このレリーズ層は水で洗うことにより除去さ
れる。実施例5のカバーシートとレリーズ層とをこの押
し出されているポリマーの表面上にラミネートした。
この感光性エレメントをついでP/N276208−001露光ラ
ンプを備えたサイレル 30×40露光装置で露光した。板
はまず黄色フィルターを通じて15秒間裏面露光をし、つ
いでネガチブ原板を通じて2.5分間露光をした。つぎに
板は実施例2のように処理した。得られた版はべた区域
上に平滑な面をもつレリーフ像を出現した。反転像の深
さは第3表中に示してある。
比較例7 比較例3のポリビニルアルコール液を厚み5ミル(0.
13mm)のポリエチレンテレフタレート上に押し出しダイ
で、乾燥塗布量がほぼ40mg/dm2となるように塗布した。
この塗膜を実施例6のフォトポリマーを押し出したもの
の表面上にラミネートし、実施例6で述べたように露光
し処理をした。反転像の深さは第3表中に示してある。
第 3 表 5ミルラインの深さ(μm) 実施例6 23〜25 比較例7 8 以上のデータから、本発明のレリーズ層をもつ印刷板
はポリビニルアルコールのレリーズ層をもつ板よりもさ
らに深い反転像を有することが明らかである。
本発明の要旨およびその実施態様を以下に要約して示
す。
1. 水性または半水性で処理可能なフレキソグラフ印刷
用エレメントから、ネガチブまたはポジチブの画像−保
持フィルムを取り去るのを容易とするために、画像−保
持フィルムと感光性層との間に介在させた、C1-5のアル
キル基のヒドロキシアルキルセルローズレリーズ層を使
用することからなる方法。
2. レリーズ層がヒドロキシプロピルセルローズからな
るものである、前項1記載の方法。
3. レリーズ層がさらに界面活性剤を含むものである前
項1または2記載の方法。
4. レリーズ層がさらに着色材を含むものである、前項
1、2または3記載の方法。
5. 支持体、感光性組成物の層および柔軟なカバーシー
トよりなり、前記感光性組成物が: (a)水性または半水性の処理可能なバインダー; (b)少なくとも1つの付加重合可能なエチレン性不飽
和モノマー;および (c)活性放射線により活性化される開始剤から構成さ
れる感光性エレメントであって、前記のカバーシートと
感光性組成物との間に、C1-5アルキルのヒドロキシアル
キルセルロースのレリーズ層が介在されている水性また
は半水性で処理可能な感光性エレメント。
6. レリーズ層がヒドロキシプロピルセルローズであ
る、前項5記載のエレメント。
7. レリーズ層はまた界面活性剤を含むものである、前
項5または6記載のエレメント。
8. レリーズ層がさらに着色材を含むものである、前項
5、6または7記載のエレメント。
9.(a)少なくとも1つの光重合可能なエチレン性不飽
和モノマー;活性放射線により活性化される光開始材;
および水性処理可能のバインダー、を含む水性または半
水性で処理可能な感光性組成物の選定された部分を画像
状に露光し; (b)未露光の部分を取り除き;そして (c)工程(b)の生成物を乾燥する ことからなる、水性または半水性で処理可能なフレキソ
グラフ感光性エレメントから印刷用のレリーフを作るた
めの方法において、前記の工程(a)以前に、感光性組
成物と画像−保持フィルムとの間に、C1-5のアルキル基
のヒドロキシアルキルセルローズのレリーズ層を介在さ
せることからなる改良方法。
10. 後現像処理をするものである、前項9記載の方
法。
11. レリーズ層がヒドロキシプロピルセルローズであ
る、前項9記載の方法。
12. レリーズ層がさらに界面活性剤を含むものであ
る、前項9または11記載の方法。
13. レリーズ層がさらに着色材を含むものである、前
項9、11または12記載の方法。

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】水性または半水性で処理可能なフレキソグ
    ラフ印刷用エレメントから、ネガチブまたはポジチブの
    画像−保持フィルムを取り去るのを容易とするために、
    画像−保持フィルムと感光性層との間に介在させた、C
    1-5のアルキル基のヒドロキシアルキルセルローズレリ
    ーズ層を使用することからなる方法。
  2. 【請求項2】支持体、感光性組成物の層および柔軟なカ
    バーシートよりなり、前記感光性組成物が: (a)水性または半水性の処理可能なバインダー; (b)少なくとも1つの付加重合可能なエチレン性不飽
    和モノマー;および (c)活性放射線により活性化される開始剤 から構成される感光性エレメントであって、前記のカバ
    ーシートと感光性組成物との間に、C1-5アルキルのヒド
    ロキシアルキルセルローズのレリーズ層が介在されてい
    る水性または半水性で処理可能な感光性エレメント。
JP2514546A 1989-10-31 1990-10-11 水性または半水性で処理可能なフレキソグラフ印刷板用のレリ―ズ層 Expired - Lifetime JP2526316B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US42958489A 1989-10-31 1989-10-31
US429584 1989-10-31

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH05501314A JPH05501314A (ja) 1993-03-11
JP2526316B2 true JP2526316B2 (ja) 1996-08-21

Family

ID=23703856

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2514546A Expired - Lifetime JP2526316B2 (ja) 1989-10-31 1990-10-11 水性または半水性で処理可能なフレキソグラフ印刷板用のレリ―ズ層

Country Status (7)

Country Link
EP (1) EP0497819B1 (ja)
JP (1) JP2526316B2 (ja)
AU (1) AU6601590A (ja)
BR (1) BR9007786A (ja)
CA (1) CA2069317A1 (ja)
DE (1) DE69026510T2 (ja)
WO (1) WO1991006893A1 (ja)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0529697B1 (en) * 1991-07-12 1995-05-24 Agfa-Gevaert N.V. Stripping film material
NZ247942A (en) * 1992-06-29 1994-08-26 Grace W R & Co Composition comprising aqueous-processable polymer binder and a non-migrating surface active agent and its use as a slip film in a photo-curable element; manufacture of printing reliefs
EP0665471A3 (en) * 1994-01-28 1996-11-06 Minnesota Mining & Mfg Skinning layer for thermally developed flexographic plate.
US6238837B1 (en) 1995-05-01 2001-05-29 E.I. Du Pont De Nemours And Company Flexographic element having an infrared ablatable layer
US7507525B2 (en) 2005-05-10 2009-03-24 Fujifilm Corporation Polymerizable composition and lithographic printing plate precursor

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE547923A (ja) * 1955-06-27
US3492121A (en) * 1967-05-10 1970-01-27 Eastman Kodak Co Gravure etch resist film
NL7403403A (ja) * 1973-03-15 1974-09-17
BR8008724A (pt) * 1979-06-21 1981-04-28 Minnesota Mining & Mfg Estrutura fotografica composita
JPS5734557A (en) * 1980-08-07 1982-02-24 Toray Ind Inc Preventing method for sticking of surface of water-developable photosensitive polyamide resin layer
JPS60200249A (ja) * 1984-03-23 1985-10-09 Toyobo Co Ltd 感光性積層体
JPS60263141A (ja) * 1984-06-12 1985-12-26 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性感光材料
JPS6117148A (ja) * 1984-07-03 1986-01-25 Fuotopori Ouka Kk 感光性樹脂版
EP0356954A3 (en) * 1988-08-30 1991-05-08 E.I. Du Pont De Nemours And Company A plasticized polyvinyl alcohol release layer for a flexographic printing plate

Also Published As

Publication number Publication date
CA2069317A1 (en) 1991-05-01
BR9007786A (pt) 1992-09-01
AU6601590A (en) 1991-05-31
EP0497819B1 (en) 1996-04-10
JPH05501314A (ja) 1993-03-11
DE69026510D1 (de) 1996-05-15
EP0497819A1 (en) 1992-08-12
WO1991006893A1 (en) 1991-05-16
DE69026510T2 (de) 1996-09-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CA1335543C (en) Aqueous processible photosensitive compositions containing core shell microgels
JP2772055B2 (ja) 柔軟性が増大したフレキソ印刷版の製法
JP2793963B2 (ja) 水性現像可能なフレキソグラフ印刷板
NL8100061A (nl) Fotopolymeriseerbaar preparaat en daaruit verkregen drukplaat.
DE2558528A1 (de) Aufzeichnungsmaterial
US3718473A (en) Photopolymerizable elements containing hydro philic colloids and polymerizable monomers for making gravure printing plate resists
JPS6130253B2 (ja)
JPH04221958A (ja) 光重合性混合物およびこれから製造した記録材料
US5075192A (en) Aqueous processible photosensitive compositions containing core shell microgels
US3879204A (en) Two-layer photopolymerizable gravure resist film
US5077175A (en) Plasticized polyvinyl alcohol release layer for a flexographic printing plate
US3380825A (en) Process for producing images
AU613519B2 (en) A plasticized polyvinyl alcohol release layer for a flexographic printing plate
EP0504824B1 (en) Photosensitive printing element
JP2526316B2 (ja) 水性または半水性で処理可能なフレキソグラフ印刷板用のレリ―ズ層
JPH02161442A (ja) 光重合性組成物
KR100770527B1 (ko) 복합 감광 소자
JP2982398B2 (ja) 新規な感光性樹脂組成物
JP2700391B2 (ja) 感光性組成物
US5032486A (en) Method for forming printing plates and plate-making element
JPS6332176B2 (ja)
JPS59193446A (ja) 感光性積層物
US4454217A (en) Opaque image formation in toned photopolymer layers using leaching solution
JPH02161443A (ja) 光重合性組成物
JPH0784362A (ja) 水性現像可能なフレキソグラフ印刷板