JP2001133982A

JP2001133982A - パターン形成用積層被膜、その積層被膜の製造方法及びその被膜を使用したパターン形成方法

Info

Publication number: JP2001133982A
Application number: JP31792299A
Authority: JP
Inventors: Daisuke Kojima; 大輔小嶋; Takanobu Komatsu; 隆伸小松; Genji Imai; 玄児今井
Original assignee: Kansai Paint Co Ltd
Current assignee: Kansai Paint Co Ltd
Priority date: 1999-11-09
Filing date: 1999-11-09
Publication date: 2001-05-18

Abstract

(57)【要約】【課題】パターン形成用積層被膜、その積層被膜の製
造方法及びその被膜を使用したパターン形成方法を提供
する。【解決手段】基材表面に可視光線感光性樹脂被膜層
（Ａ）、可視光線を透過するシート層（Ｂ）、現像液に
よりパターン形成可能な可視光線遮蔽層（Ｃ）、及び感
エネルギー線被膜層（Ｄ）を順次積層してなることを特
徴とするパターン形成用積層被膜。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】従来、露光技術を利用した
リソグラフィは、例えばプラスチック、無機質等にパタ
ーンを形成する方法として配線板、ディスプレーパネ
ル、食刻等に利用されている。

【０００２】上記したパターンを形成する方法として、
例えば基材表面に感光性の絶縁性又は導電性組成物を塗
布して感光性絶縁性又は導電性被膜層を形成したのち、
その表面から電子線、可視光線をフォトマスクを介して
照射し、次いで該感光性絶縁性又は導電性被膜層を現像
処理することにより目的のパターンを得る方法が知られ
ている。しかしながら、上記した方法は、絶縁性又は導
電性被膜層の感光性が充分でないためにシャープなパタ
ーンが形成できないといった問題がある。

【０００３】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記し
た問題点を解決するために鋭意研究を重ねた結果、特定
の感光性被膜を積層した被膜を使用することにより上記
した問題点を解消するものであることを見出し、本発明
を完成するに至った。

【０００４】即ち、本発明は、１、基材表面に可視光線感光性樹脂被膜層（Ａ）、可視
光線を透過するシート層（Ｂ）、現像液によりパターン
形成可能な可視光線遮蔽層（Ｃ）、及び感エネルギー線
被膜層（Ｄ）を順次積層してなることを特徴とするパタ
ーン形成用積層被膜、２、可視光線感光性樹脂被膜層（Ａ）がネガ型又はポジ
型の可視光線感光性樹脂被膜層（Ａ）である上記１項に
記載のパターン形成用積層被膜、３、感エネルギー線被膜層（Ｄ）がネガ型又はポジ型の
感エネルギー線被膜層（Ｄ）である上記１項に記載のパ
ターン形成用積層被膜、４、可視光線感光性樹脂被膜層（Ａ）が水、有機溶剤、
酸及びアルカリから選ばれる少なくとも１種類の化合物
を含む処理液に溶解もしくは分散する上記１乃至３のい
ずれか１項に記載のパターン形成用積層被膜、５、可視光線遮蔽層（Ｃ）が水、有機溶剤、酸及びアル
カリから選ばれる少なくとも１種類の化合物を含む処理
液に溶解もしくは分散する上記１乃至４のいずれか１項
に記載のパターン形成用積層被膜、６、ネガ型感エネルギー線被膜層（Ｄ）が水、有機溶
剤、酸及びアルカリから選ばれる少なくとも１種類の化
合物を含む処理液に溶解もしくは分散する上記１乃至５
のいずれか１項に記載のパターン形成用積層被膜、７、可視光線感光性樹脂被膜層（Ａ）が、最終的に形成
されるパターンが導電性被膜であることを特徴とする上
記１乃至６のいずれか１項に記載のパターン形成用積層
被膜、８、可視光線感光性樹脂被膜層（Ａ）が、最終的に形成
されるパターンが絶縁性被膜であることを特徴とする上
記１乃至6のいずれか１項に載のパターン形成用積層被
膜、９、基材表面に可視光線感光性樹脂被膜層（Ａ）を形成
し、次いで可視光線を透過するシート層（Ｂ）を形成
し、更に現像液によりパターン形成可能な可視光線遮蔽
層（Ｃ）、及び感エネルギー線被膜層（Ｄ）を順次積層
することを特徴とするパターン形成用積層被膜の製造方
法、１０、基材表面に、該基材表面と、可視光線感光性樹脂
被膜層（Ａ）、可視光線を透過するシート層（Ｂ）、現
像液によりパターン形成可能な可視光線遮蔽層（Ｃ）、
及び感エネルギー線被膜層（Ｄ）を形成した積層物の被
膜層（Ａ）面とが面接するように積層することを特徴と
するパターン形成用積層被膜の製造方法、１１、基材表面に可視光線感光性樹脂被膜層（Ａ）を形
成し、次いで該被膜層（Ａ）の表面と、可視光線を透過
するシート層（Ｂ）の片面に現像液によりパターン形成
可能な可視光線遮蔽層（Ｃ）、及び感エネルギー線被膜
層（Ｄ）を形成した積層物の該シート層（Ｂ）面とが面
接するように積層することを特徴とするパターン形成用
積層被膜の製造方法、１２、基材表面に可視光線感光性樹脂被膜層（Ａ）を形
成し、次いで該被膜層（Ａ）の表面と、可視光線を透過
するシート層（Ｂ）の片面に現像液によりパターン形成
可能な可視光線遮蔽層（Ｃ）を形成した積層物の該シー
ト層（Ｂ）面とが面接するように積層し、次いで可視光
線遮蔽層（Ｃ）表面に感エネルギー線被膜層（Ｄ）を形
成することを特徴とするパターン形成用積層被膜の製造
方法、１３、基材表面に、該基材表面と、可視光線感光性樹脂
被膜層（Ａ）、可視光線を透過するシート層（Ｂ）を形
成した積層物の被膜層（Ａ）面とが面接するように積層
し、次いでシート層（Ｂ）の表面に現像液によりパター
ン形成可能な可視光線遮蔽層（Ｃ）を形成し、次いで感
エネルギー線被膜層（Ｄ）を形成することを特徴とする
パターン形成用積層被膜の製造方法、１４、基材表面に、該基材表面と、可視光線感光性樹脂
被膜層（Ａ）、可視光線を透過するシート層（Ｂ）、及
び現像液によりパターン形成可能な可視光線遮蔽層
（Ｃ）を形成した積層物の被膜層（Ａ）面とが面接する
ように積層し、次いで該可視光線遮蔽層（Ｃ）の表面に
感エネルギー線被膜層（Ｄ）を形成することを特徴とす
るパターン形成用積層被膜の製造方法、１５、下記工程（１）上記１乃至８のいずれか１項に記載の基材表面に
可視光線感光性樹脂被膜層（Ａ）、可視光線を透過する
シート層（Ｂ）、現像液によりパターン形成可能な可視
光線遮蔽層（Ｃ）、及び感エネルギー線被膜層（Ｄ）を
順次積層してなるパターン形成用積層被膜を使用して、
該積層被膜の感エネルギー線被膜層（Ｄ）表面から所望
のパターンが得られるように活性エネルギー線をマスク
を介して照射もしくは直接に照射させ、（２）感エネル
ギー線被膜層（Ｄ）を現像処理することにより不必要な
部分の被膜層（Ｄ）を除去してレジストパターン被膜を
形成した後、（３）露出した部分の可視光線遮蔽層
（Ｃ）を現像処理して除去し、（４）次いで、可視光線
を全面照射した後、（５）積層被膜の可視光線感光性樹
脂被膜層（Ａ）から可視光線を透過するシート層
（Ｂ）、可視光線遮蔽層（Ｃ）、及び感エネルギー線被
膜層（Ｄ）の積層物を剥離させて、基材表面に可視光線
感光性樹脂被膜層（Ａ）を形成させてなる積層物を製造
し、（６）次いで、シート層（Ｂ）を透過した可視光線
により感光した被膜層（Ａ）を現像液により現像する工
程を含むことを特徴とするパターン形成方法, １６、基材表面に可視光線感光性樹脂被膜層（Ａ）を形
成し、次いで可視光線を透過するシート層（Ｂ）を形成
し、次いでシート層（Ｂ）の表面に現像液によりパター
ン形成可能な可視光線遮蔽層（Ｃ）の片面に、感エネル
ギー線被膜層（Ｄ）を形成した積層物の該シート層
（Ｃ）面とが面接するように積層することを特徴とする
パターン形成用積層被膜の製造方法。１７、基材表面に、該基材表面と、可視光線感光性樹
脂被膜層（Ａ）、可視光線を透過するシート層（Ｂ）を
形成した積層物の被膜層（Ａ）面とが面接するように積
層し、次いでシート層（Ｂ）の表面に現像液によりパタ
ーン形成可能な可視光線遮蔽層（Ｃ）の片面に、感エネ
ルギー線被膜層（Ｄ）を形成した積層物の該シート層
（Ｃ）面とが面接するように積層することを特徴とする
パターン形成用積層被膜の製造方法に係わる。

【０００５】

【発明の実施の形態】本発明積層被膜で使用する基材
は、従来から公知の電気絶縁性のガラスーエポキシ板、
ポリエチレンテレフタレートシート、ポリイミドシート
等のプラスチックシートやプラスチック板；これらのプ
ラスチック板やプラスチックシートの表面に銅、アルミ
ニウム等の金属箔を接着することによって、もしくは
銅、ニッケル、銀等の金属又は酸化インジウムー錫（Ｉ
ＴＯ）に代表される導電性酸化物等の化合物を真空蒸
着、化学蒸着、メッキ等の方法で導電性被膜を形成した
もの：スルーホール部を設けたプラスチック板やプラス
チックシートの表面及びスルーホール部に導電性被膜を
形成したもの：銅板等の金属板、パターン形成されてい
る銅スルーホールプリント配線基板等が挙げられる。

【０００６】本発明積層被膜で使用する可視光線感光性
樹脂被膜層（Ａ）は、可視光線照射されなかった部分の
被膜は現像液により溶解もしくは分散して除去されそし
て可視光線照射された部分の被膜は現像液により溶解も
しくは分散せずにレジスト被膜として残るようなネガ型
の被膜層、及び可視光線照射されなかった部分の被膜は
現像液により溶解もしくは分散して除去されずにレジス
ト被膜として残り、そして可視光線照射された部分の被
膜は被膜が分解することにより現像液により溶解もしく
は分散して被膜を除去するようなポジ型の被膜層である
従来から公知のものであれば、特に制限なしに使用する
ことができる。

【０００７】該ネガ型可視光線感光性被膜を形成する樹
脂組成物について、以下に説明する。ネガ型可視光線感
光性被膜樹脂組成物としては、例えば、可視光線硬化性
樹脂、反応開始剤とを含有した従来から公知のものを使
用することができる。上記した可視光線硬化性樹脂とし
ては、一般的に使用されている可視光線照射により架橋
しうる感光基を有する硬化性樹脂であって、該樹脂中に
未露光部の被膜がアルカリ性現像液もしくは酸性現像液
により溶解して除去することができるイオン性基（アニ
オン性基又はカチオン性基）を有しているものであれば
特に限定されるものではない。

【０００８】可視光線硬化性樹脂に含まれる不飽和基と
しては、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、
ビニル基、スチリル基、アリル基等が挙げられる。イオ
ン性基としては、例えば、アニオン性基としてはカルボ
キシル基が代表的なものとして挙げられ、該カルボキシ
ル基の含有量としては樹脂の酸価で約１０〜７００ｍｇ
ＫＯＨ／ｇ、特に約２０〜６００ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲
のものが好ましい。酸価が約１０を下回ると現像液の
処理による未硬化被膜の溶解性が劣るといった欠点があ
り、一方酸価が約７００を上回るとレジスト被膜部（硬
化被膜部）が脱膜し易くなるといった欠点があるので好
ましくない。また、カチオン性基としてはアミノ基が代
表的なものとして挙げられ、該アミノ基の含有量として
は、樹脂のアミン価で約２０〜６５０、特に約３０〜６
００の範囲のものが好ましい。アミン価が約２０を下回
ると上記と同様に、現像液の処理による未硬化被膜の溶
解性が劣る欠点があり、一方、アミン価が約６５０を上
回るとレジスト被膜が脱膜し易くなるといった欠点があ
るので好ましくない。

【０００９】アニオン性樹脂としては、例えば、ポリカ
ルボン酸樹脂に例えば、グリシジル（メタ）アクリレー
ト等のモノマーを反応させて樹脂中に不飽和基とカルボ
キシル基を導入したものが挙げられる。また、カチオン
性樹脂としては、例えば、水酸基及び第３級アミノ基含
有樹脂に、ヒドロキシル基含有不飽和化合物とジイソシ
アネート化合物との反応物を付加反応させてなる樹脂が
挙げられる。

【００１０】上記したアニオン性樹脂及びカチオン性樹
脂については、特開平３−２２３７５９号公報の光硬化
性樹脂に記載されているので引用をもって詳細な記述に
代える。

【００１１】光反応開始剤としては、例えば、ベンゾフ
ェノン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソプ
ロピルエーテル、ベンジルキサントン、チオキサント
ン、アントラキノンなどの芳香族カルボニル化合物；ア
セトフェノン、プロピオフェノン、αーヒドロキシイソ
ブチルフェノン、α，α’ージクロルー４ーフェノキシ
アセトフェノン、１ーヒドロキシー１ーシクロヘキシル
アセトフェノン、ジアセチルアセトフェノン、アセトフ
ェノンなどのアセトフェノン類；ベンゾイルパーオキサ
イド、ｔーブチルパーオキシー２ーエチルヘキサノエー
ト、ｔーブチルハイドロパーオキサイド、ジーｔーブチ
ルジパーオキシイソフタレート、３，３’，４，４’ー
テトラ（ｔーブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェ
ノンなどの有機過酸化物；ジフェニルヨードブロマイ
ド、ジフェニルヨードニウムクロライドなどのジフェニ
ルハロニウム塩；四臭化炭素、クロロホルム、ヨードホ
ルムなどの有機ハロゲン化物；３ーフェニルー５ーイソ
オキサゾロン、２，４，６ートリス（トリクロロメチ
ル）ー１，３，５−トリアジンベンズアントロンなどの
複素環式及び多環式化合物；２，２’ーアゾ（２，４−
ジメチルバレロニトリル）、２，２ーアゾビスイソブチ
ロニトリル、１，１’ーアゾビス（シクロヘキサンー１
ーカルボニトリル）、２，２’ーアゾビス（２ーメチル
ブチロニトリル）などのアゾ化合物；鉄ーアレン錯体
（ヨーロッパ特許152377号公報参照）；チタノセン化合
物（特開昭63-221110号公報参照）ビスイミダゾール系
化合物；Ｎーアリールグリシジル系化合物；アクリジン
系化合物；芳香族ケトン／芳香族アミンの組み合わせ；
ペルオキシケタール（特開平6-321895号公報参照）等が
挙げられる。上記した光ラジカル重合開始剤の中でも、
ジーｔーブチルジパーオキシイソフタレート、３，
３’，４，４’ーテトラ（ｔーブチルパーオキシカルボ
ニル）ベンゾフェノン、鉄−アレン錯体及びチタノセン
化合物は架橋もしくは重合に対して活性が高いのでこの
ものを使用することが好ましい。

【００１２】また、商品名としては、例えば、イルガキ
ュア６５１（チバガイギー社製、商品名、アセトフェノ
ン系光ラジカル重合開始剤）、イルガキュア１８４（チ
バガイギー社製、商品名、アセトフェノン系光ラジカル
重合開始剤）、イルガキュア１８５０（チバガイギー社
製、商品名、アセトフェノン系光ラジカル重合開始
剤）、イルガキュア９０７（チバガイギー社製、商品
名、アミノアルキルフェノン系光ラジカル重合開始
剤）、イルガキュア３６９（チバガイギー社製、商品
名、アミノアルキルフェノン系光ラジカル重合開始
剤）、ルシリンＴＰＯ（ＢＡＳＦ社製、商品名、２，
４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオ
キサイド）、カヤキュアＤＥＴＸＳ（日本化薬（株）社
製、商品名）、ＣＧＩ−７８４（チバガイギ−社製、商
品名、チタン錯体化合物）などが挙げられる。これらの
ものは１種もしくは２種以上組み合わせて使用すること
ができる。光反応開始剤の配合割合は、光硬化性樹脂１
００重量部に対して０．１〜２５重量部、好ましくは
０．２〜１０重量部である。

【００１３】光増感剤としては、従来から公知の光増感
色素を使用することができる。このものとしては、例え
ば、チオキサンテン系、キサンテン系、ケトン系、チオ
ピリリウム塩系、ベーススチリル系、メロシアニン系、
３ー置換クマリン系、３．４ー置換クマリン系、シアニ
ン系、アクリジン系、チアジン系、フェノチアジン系、
アントラセン系、コロネン系、ベンズアントラセン系、
ペリレン系、メロシアニン系、ケトクマリン系、フマリ
ン系、ボレート系等の色素が挙げられる。これらのもの
は１種もしくは２種以上組み合わせて使用することがで
きる。ボレート系光増感色素としては、例えば、特開平
5-241338号公報、特開平7-5685号公報及び特開平7-2254
74号公報等に記載のものが挙げられる。光増感剤の配合
割合は、被膜層中（Ｃ）（固形分）に約０．１〜２０重
量％、好ましくは約０．２〜１０重量％の範囲である。

【００１４】上記した以外に、飽和樹脂を使用すること
ができる。該飽和樹脂としては、光重合性組成物の溶解
性（レジスト被膜のアルカリ現像液に対する溶解性や光
硬化被膜の除去で使用する、例えば、強アルカリ液に対
する溶解性の抑制剤）を抑制するために使用することが
できる。このものとしては、例えば、ポリエステル樹
脂、アルキド樹脂、（メタ）アクリル樹脂、ビニル樹
脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、天然樹脂、合成ゴ
ム、シリコン樹脂、フッ素樹脂、ポリウレタン樹脂等が
包含される。これらの樹脂は１種又は２種以上組合わせ
て用いることができる。

【００１５】該樹脂組成物は有機溶剤、水に溶解もしく
は分散させてなる組成物により得られる。上記した有機
溶剤としては、例えば、ケトン類、エステル類、エーテ
ル類、セロソルブ類、芳香族炭化水素類、アルコール
類、ハロゲン化炭化水素類などが挙げられる。また、こ
のものは、例えば、ローラー、ロールコーター、スピン
コーター、カーテンロールコーター、スプレー、静電塗
装、浸漬塗装、シルク印刷、スピン塗装等の手段により
塗布することができる。次いで、必要に応じてセッテン
グした後、乾燥することによりレジスト被膜を得ること
ができる。

【００１６】また、水性のネガ型可視光線感光性樹脂組
成物は、上記したネガ型可視光線感光性樹脂組成物を水
に溶解もしくは分散することによって得られる。

【００１７】ネガ型可視光線感光性樹脂組成物の水溶化
又は水分散化は、可視光線硬化性樹脂中のアニオン性基
（例えば、カルボキシル基）をアルカリ（中和剤）で中
和、もしくは可視光線硬化性樹脂組成物中のカチオン性
基（例えば、アミノ基）を酸（中和剤）で中和すること
によって行われる。また、水現像可能な組成物はそのま
ま水に分散もしくは水に溶解して製造できる。

【００１８】また、上記した以外に従来から公知の水現
像性可視光線硬化性樹脂組成物を使用することができ
る。このものとしては、例えば、ノボラックフェノール
型エポキシ樹脂に可視光線硬化性不飽和基とイオン形成
基を有する水性樹脂が使用できる。該樹脂は、ノボラッ
クフェノール型エポキシ樹脂が有する一部のエポキシ基
と（メタ）アクリル酸とを付加させることにより光重合
性を樹脂に含有させ、且つ該エポキシ基と例えば第３級
アミン化合物とを反応させることにより水溶性のオニウ
ム塩基とを形成させることにより得られる。このもの
は、露光された部分は可視光線硬化して水に溶解しない
が未露光部分はイオン形成基により水現像が可能とな
る、また、このものを後加熱（例えば、約１４０〜２０
０℃で１０〜３０分間）を行うことにより該イオン形成
基が揮発することにより塗膜が疎水性となるので、上記
したアルカリや酸現像性感光性組成物のようにレジスト
塗膜中に親水基（カルボキシル基、アミノ基等）やこれ
らの塩（現像液による塩）を有さないレジスト性に優れ
た被膜を形成することができる。また、ノボラックフェ
ノールエポキシ樹脂以外に、例えばグリシジル（メタ）
アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルアルキ
ル（メタ）アクリレート、ビニルグリシジルエーテルな
どのエポキシ基含有ラジカル重合性不飽和モノマーの同
重合体もしくはこれらの１種以上のモノマーとその他の
ラジカル重合性不飽和モノマー（例えば、炭素数１〜２
４のアルキル又はシクロアルキル（メタ）アクリル酸エ
ステル類、ラジカル重合性不飽和芳香族化合物など）と
の共重合体と上記と同様にして（メタ）アクリル酸とを
付加させることにより可視光線硬化性樹脂に含有させ、
且つ該エポキシ基と例えば第３級アミン化合物とを反応
させることにより水溶性のオニウム塩基とを形成させる
ことにより得られるラジカル重合体も使用することがで
きる。

【００１９】ネガ型可視光線感光性樹脂被膜の現像処理
としては、ネガ型可視光線感光性樹脂組成物が、アニオ
ン性の場合にはアルカリ性現像処理がおこなわれ、ま
た、カチオン性の場合には酸性現像処理がおこなわれ
る。また、樹脂自体が水に溶解するもの（例えは、オニ
ウム塩基含有樹脂等）は水現像処理を行うことができ
る。

【００２０】また、ネガ型可視光線感光性樹脂被膜はそ
れ自体導電性であっても絶縁性であっても構わない。更
に該被膜に導電性や絶縁性を付与させるために必要に応
じて導電性材料（従来から公知の導電性顔料、例えば
銀、銅、鉄、マンガン、ニッケル、アルミニウム、コバ
ルト、クロム、鉛、亜鉛、ビスマス、ＩＴＯ等の金属
類、これらの１種以上合金類、これらの酸化物、また絶
縁材料表面にこれらの導電材料がコーテング、蒸着物
等）や絶縁性材料（プラスチック微粉末、絶縁性無機粉
末等）を配合することができる。絶縁性被膜は、通常、
最終的に形成される塗膜の体積固有抵抗が１０⁹Ω・ｃ
ｍを越えるもの、特に１０¹⁰Ω・ｃｍ〜１０¹⁸Ω・ｃｍ
の範囲のものであって、そして導電性被膜は、通常、最
終的に形成される塗膜の体積固有抵抗が１０⁹Ω・ｃｍ
未満、特に１Ω・ｃｍ〜１０⁸Ω・ｃｍの範囲のものが
好ましい。

【００２１】該ポジ型可視光線感光性樹脂被膜層を形成
する樹脂組成物について、以下に説明する。該ポジ型可
視光線感光性樹脂組成物としては、例えば、光酸発生剤
及び樹脂を含むものが使用できる。該樹脂は可視光線に
より発生した酸により分解して樹脂の極性、分子量等の
性質が変化し、これによりアルカリ性、酸性水性現像
液、水現像液、有機溶剤現像液に対して溶解性を示すよ
うになるものである。また、これらのものには更に現像
液の溶解性を調製するその他の樹脂等を必要に応じて配
合することができる。

【００２２】ポジ型可視光線感光性樹脂組成物として
は、例えば、イオン形成基を有するアクリル樹脂等の基
体樹脂にキノンジアジドスルホン酸類をスルホン酸エス
テル結合を介して結合させた樹脂を主成分とする組成物
（特開昭61-206293号公報、特開平7-133449号公報等参
照）、即ち照射光によりキノンジアジド基が光分解して
ケテンを経由してインデンカルボン酸を形成する反応を
利用したナフトキノンジアジド感活性エネルギー線系組
成物：加熱によりアルカリ性現像液や酸性現像液に対し
て不溶性の架橋被膜を形成し、更に光線照射により酸基
を発生する光酸発生剤により架橋構造が切断されて照射
部がアルカリ性現像液や酸性現像液に対して可溶性とな
るメカニズムを利用したポジ型感活性エネルギー線性組
成物（特開平6-295064号公報、特開平6-308733号公報、
特開平6-313134号公報、特開平6-313135号公報、特開平
6-313136号公報、特開平7-146552号公報等参照）等が代
表的なものとして挙げられる。

【００２３】上記したポジ型可視光線感光性樹脂につい
ては、上記した公報に記載されているので引用をもって
詳細な記述に代える。

【００２４】また、光酸発生剤は、露光により酸を発生
する化合物であり、この発生した酸を触媒として、樹脂
を分解させるものであり、従来から公知のものを使用す
ることができる。このものとしては、例えば、スルホニ
ウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウ
ム塩、セレニウム塩等のオニウム塩類、鉄−アレン錯体
類、ルテニウムアレン錯体類、シラノ−ル−金属キレー
ト錯体類、トリアジン化合物類、ジアジドナフトキノン
化合物類、スルホン酸エステル類、スルホン酸イミドエ
ステル類、ハロゲン系化合物類等を使用することができ
る。また、上記した以外に特開平7-146552号公報、特願
平9-289218号に記載の光酸発生剤も使用することができ
る。この光酸発生剤成分は、上記した樹脂との混合物で
あっても樹脂に結合したものであっても構わない。光酸
発生剤の配合割合は、樹脂１００重量部に対して約０．
１〜４０重量部、特に約０．２〜２０重量部の範囲で含
有することが好ましい。

【００２５】光増感剤としては、従来から公知の光増感
色素を使用することができる。このものとしては、例え
ば、チオキサンテン系、キサンテン系、ケトン系、チオ
ピリリウム塩系、ベーススチリル系、メロシアニン系、
３ー置換クマリン系、３．４ー置換クマリン系、シアニ
ン系、アクリジン系、チアジン系、フェノチアジン系、
アントラセン系、コロネン系、ベンズアントラセン系、
ペリレン系、メロシアニン系、ケトクマリン系、フマリ
ン系、ボレート系等の色素が挙げられる。これらのもの
は１種もしくは２種以上組み合わせて使用することがで
きる。ボレート系光増感色素としては、例えば、特開平
5-241338号公報、特開平7-5685号公報及び特開平7-2254
74号公報等に記載のものが挙げられる。光増感剤の配合
割合は、被膜層中（Ｃ）（固形分）に約０．１〜２０重
量％、好ましくは約０．２〜１０重量％の範囲である。

【００２６】該樹脂組成物は有機溶剤、水に溶解もしく
は分散させてなる組成物により得られる。上記した有機
溶剤としては、例えば、ケトン類、エステル類、エーテ
ル類、セロソルブ類、芳香族炭化水素類、アルコール
類、ハロゲン化炭化水素類などが挙げられる。

【００２７】また、このものは、例えば、ローラー、ロ
ールコーター、スピンコーター、カーテンロールコータ
ー、スプレー、静電塗装、浸漬塗装、シルク印刷、スピ
ン塗装等の手段により塗布することができる。次いで、
必要に応じてセッテングした後、乾燥することによりレ
ジスト被膜を得ることができる。

【００２８】また、水性のポジ型可視光線感光性樹脂組
成物は、上記したポジ型可視光線感光性樹脂組成物を水
に溶解もしくは分散することによって得られる。

【００２９】ポジ型可視光線感光性樹脂組成物の水溶化
又は水分散化は、樹脂中のアニオン性基（例えば、カル
ボキシル基）をアルカリ（中和剤）で中和、もしくは樹
脂中のカチオン性基（例えば、アミノ基）を酸（中和
剤）で中和することによって行われる。また、水現像可
能な組成物はそのまま水に分散もしくは水に溶解して製
造できる。

【００３０】ポジ型可視光線感光性樹脂組成物は、必要
に応じてセッテング等を行って、約５０〜１３０℃の範
囲の温度で乾燥を行うことによりポジ型可視光線感光性
被膜を形成することができる。

【００３１】上記した現像処理としては、ポジ型可視光
線感光性樹脂組成物が、アニオン性の場合にはアルカリ
現像処理がおこなわれ、また、カチオン性の場合には酸
現像処理がおこなわれる。また、前記したような樹脂自
体が水に溶解するもの（例えは、オニウム塩基含有樹脂
等）は水現像処理を行うことができる。

【００３２】また、ポジ型可視光線感光性樹脂被膜はそ
れ自体導電性であっても絶縁性であっても構わない。更
に該被膜に導電性や絶縁性を付与させるために必要に応
じて導電性材料（従来から公知の導電性顔料、例えば
銀、銅、鉄、マンガン、ニッケル、アルミニウム、コバ
ルト、クロム、鉛、亜鉛、ビスマス、ＩＴＯ等の金属
類、これらの１種以上合金類、これらの酸化物、また絶
縁材料表面にこれらの導電材料がコーテング、蒸着物
等）や絶縁性材料（プラスチック微粉末、絶縁性無機粉
末等）を配合することができる。絶縁性被膜は、通常、
最終的に形成される塗膜の体積固有抵抗が１０⁹Ω・ｃ
ｍを越えるもの、特に１０¹⁰Ω・ｃｍ〜１０¹⁸Ω・ｃｍ
の範囲のものであって、そして導電性被膜は、通常、最
終的に形成される塗膜の体積固有抵抗が１０⁹Ω・ｃｍ
未満、特に１Ω・ｃｍ〜１０⁸Ω・ｃｍの範囲のものが
好ましい。

【００３３】可視光線感光性樹脂被膜の膜厚は、用途に
応じて適宜決定すれば良いが、通常、約１μｍ〜約５ｍ
ｍ、特に約２μｍ〜約５００μｍの範囲内が好ましい。

【００３４】本発明積層被膜で使用するシート層（Ｂ）
は、可視光線を透過するシート層であれば特に制限なし
に従来から公知のものを使用することができる。このも
のとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレートシー
ト、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルブチ
ラール、セルロース系、ポリウレタン、ポリアクリレー
ト、アラミド、カプトン、ポリメチルペンテン、ポリエ
チレン、ポリプロピレン等のシートの何れも使用できる
が、特にポリエチレンテレフタレートシートを使用する
ことが好ましい。シート層の膜厚は、通常約１０μｍ〜
約５ｍｍ、特に約１５μｍ〜約５００μｍの範囲内が好
ましい。本発明で使用する可視光線遮蔽層（Ｃ）は、シ
ート層（Ｂ）と感エネルギー線被膜層（Ｄ）との間に形
成された層であり、該被膜層（Ｄ）の上層表面から照射
した活性エネルギー線を可視光線遮蔽層（Ｃ）を現像処
理によりパターニングされた可視光線遮蔽層により吸収
及び／又は反射することにより下層の感エネルギー線被
膜層（Ｄ）のパターン形成が可能なように設けられた層
である。

【００３５】可視光線遮蔽層（Ｃ）は、上記した様に被
膜層（Ｄ）の上層表面から照射したエネルギー線を吸収
及び／又は反射することにより活性エネルギー線照射に
よる下層の被膜層（Ａ）を実質的に硬化させないよう
に、あるいは分解させないように設けられ、また可視光
線遮蔽層（Ｃ）自体水、有機溶剤、アルカリ、酸等の処
理液に溶解もしくは分散して被膜層（Ａ）と同様のパタ
ーンを形成することができるものである。

【００３６】可視光線遮蔽層（Ｃ）としては、照射され
るエネルギー線を吸収するもの、例えば、吸収剤（紫外
線吸収剤、可視光線吸収剤、熱線吸収剤等）、着色剤
（着色顔料、着色染料等）、充填剤等を可視光線遮蔽層
（Ｃ）中に含有させたものを使用することができる。使
用される吸収剤、着色剤、充填剤の種類は照射されるエ
ネルギー線の種類に応じて適宜選択することができる。

【００３７】上記可視光線吸収剤としては、例えば、ベ
ンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、シュウ酸アニ
リド系、シアノアクリレート系、ベンゾフェノン系、ベ
ンゾトリアゾール系等が挙げられる。

【００３８】上記着色剤としては、例えば、酸化チタ
ン、亜鉛華、鉛白、塩基性硫酸鉛、硫酸鉛、リトポン、
硫化亜鉛、アンチモン白などの白色顔料；カーボンブラ
ック、アセチレンブラック、ランプブラック、ボーンブ
ラック、黒鉛、鉄黒、アニリンブラックなどの黒色顔
料；ナフトールエローＳ、ハンザエロー１０Ｇ、パーマ
ネントエロー、パーマネントオレンジなどの橙色顔料；
酸化鉄、アンバーなどの褐色顔料；ベンガラ、鉛丹、パ
ーマネントレッド、キナクリドン系赤顔料などの赤色顔
料；コバルト紫、マンガン紫、ファストバイオレット
Ｂ、メチルバイオレットレーキなどの紫色顔料、群青、
紺青、コバルトブルー、セルリアンブルー、フタロシア
ニンブルー、ファストスカイブルーなどの青色顔料；ク
ロムグリーン、フタロシアニングリーンなどの緑色顔料
などが挙げられる。

【００３９】上記充填剤としては、例えば、バリタ粉、
沈降性硫酸バリウム、炭酸バリウム、炭酸カルシム、石
膏、クレー、シリカ、ホワイトカーボン、珪藻土、タル
ク、炭酸マグネシウム、アルミナホワイト、マイカ粉な
どが挙げられる。

【００４０】また、使用される吸収剤、着色剤、充填剤
の配合割合は照射されるエネルギー線の強度や可視光線
遮蔽層（Ｃ）膜厚に応じて適宜決めればよいが、通常、
吸収剤では層中に０．０１重量％〜５０重量％、好まし
くは０．０２重量％〜３０重量％の範囲であり、また、
着色剤及び充填剤の場合には０．５重量％〜９０重量
％、好ましくは１重量％〜５０重量％の範囲である。

【００４１】エネルギー線を反射する可視光線遮蔽層
（Ｃ）としては、例えば、、該被膜層（Ａ）に照射され
るエネルギー線を反射する反射剤（燐片状金属顔料等）
等を含有したものを使用することができる。

【００４２】上記反射剤としては、例えば、（鱗片状）
アルミニウム粉、ブロンズ粉、銅粉、錫粉、鉛粉、亜鉛
末、リン化鉄、パール状金属コーティング雲母粉、マイ
カ状酸化鉄などの金属粉顔料および金属光沢顔料が挙げ
られる。

【００４３】また、使用される反射剤の配合割合は照射
されるエネルギー線の強度や可視光線遮蔽層（Ｃ）膜厚
に応じて適宜決めればよいが、通常、層中に０．５重量
％〜９０重量％、好ましくは１重量％〜５０重量％の範
囲内に入ることが望ましい。

【００４４】上記したエネルギー線の吸収剤及び反射剤
はお互いに組み合わせて使用することができる。

【００４５】上記した水に溶解もしくは分散できる可視
光線遮蔽層（Ｃ）としては、例えば、かんしょ澱粉、ば
れいしょ澱粉、小麦澱粉、コーン澱粉などの澱粉質、こ
んにゃくなどのマンナン、ふのり、寒天、アルギン酸ナ
トリウムなど海草類、にかわ、ゼラチン、カゼイン、コ
ラーゲンなどの蛋白質等の如き天然高分子；ビスコー
ス、メチルセルロース、エチルセルロース、ヒドロキシ
エチルセルロース、カルボキシメチルセルロースなどの
セルロース、可溶性澱粉、カルボキシメチル澱粉などの
澱粉などの半合成樹脂類；ポリビニルアルコール、ポリ
ビニルブチラール、ポリエチレンオキシド、水溶性フェ
ノール、水溶性メラミン、ポリアクリル酸ナトリウム、
水溶性ポリエステル樹脂、アクリルエマルション、ポリ
エステルエマルション、エポキシ樹脂エマルションなど
の合成樹脂類などを樹脂成分とするものが挙げられる。

【００４６】上記した有機溶剤に溶解もしくは分散でき
る可視光線遮蔽層（Ｃ）としては、例えば、油用性フェ
ノール、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニル
樹脂、酢酸ビニル樹脂、フタル酸樹脂、アミノ樹脂、エ
ポキシ樹脂、キシレン樹脂、石油樹脂、ケトン樹脂、ク
マロン樹脂、ウレタン樹脂などの有機溶剤に溶解もしく
は分散できる樹脂を成分とするものが挙げられる。

【００４７】上記したアルカリ処理液に溶解もしくは分
散できる可視光線遮蔽層（Ｃ）としては、例えば、カル
ボキシル基、燐酸基等の酸性親水基を有するアニオン系
樹脂成分で形成されたものが挙げられる。このような樹
脂で形成された層はアニオン系樹脂がアルカリ処理液に
より中和されることにより該処理液に分散、溶解してフ
ィルター層が除去される。該可視光線遮蔽層（Ｃ）を形
成する樹脂組成物としては、例えば、アニオン系樹脂を
塩基性化合物（アミン化合物、アンモニア、アルカリ金
属化合物等）で中和してなるアニオン系樹脂中和物で形
成することができる。

【００４８】該アニオン系樹脂としては、例えば、酸基
含有アクリル樹脂、酸基含有ポリエステル樹脂、酸基含
有アルキド樹脂、酸基含有エポキシポリエステル樹脂、
酸基含有ウレタン樹脂、酸基含有ビニル樹脂、酸基含有
有機珪素系樹脂、酸基含有フェノール系樹脂、酸基含有
フッ素系樹脂及びこれらの２種以上の変性樹脂等が挙げ
られる。

【００４９】酸性基としてはカルボキシル基が代表的な
ものとして挙げられ、該カルボキシル基の含有量として
は樹脂の酸価で約１０〜７００ｍｇＫＯＨ／ｇ、特に約
２０〜６００ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲のものが好ましい。
酸価が約１０を下回るとアルカリ現像液の処理による
フィルター層の脱層性が劣り解像度に優れたパターンが
形成できないといった欠点があり、一方酸価が約７００
を上回ると逆にフィルター層が余分な箇所まで脱層され
るので解像度に優れたパターンが形成できないといった
欠点があるので好ましくない。

【００５０】上記した酸処理液に溶解もしくは分散でき
る可視光線遮蔽層（Ｃ）としては、例えば、塩基性基な
どの親水基を有するカチオン系樹脂成分で形成されたも
のが挙げられる。このような樹脂で形成された層はカチ
オン系樹脂が酸処理液により中和されることにより該処
理液に分散、溶解して可視光線遮蔽層（Ｃ）が除去され
る。該可視光線遮蔽層（Ｃ）を形成する樹脂組成物とし
ては、例えば、カチオン系樹脂を酸性化合物（有機酸化
合物、無機酸化合物等）で中和してなるカチオン系樹脂
中和物により形成することができる。

【００５１】該カチオン系樹脂としては、例えば、塩基
性基含有アクリル樹脂、塩基性基含有ポリエステル樹
脂、塩基性基含有アルキド樹脂、塩基性基含有エポキシ
ポリエステル樹脂、塩基性基含有ウレタン樹脂、塩基性
基含有ビニル樹脂、塩基性基含有有機珪素系樹脂、塩基
性基含有フェノール系樹脂、塩基性基含有フッ素系樹
脂、アルカリ珪酸塩樹脂及びこれらの２種以上の変性樹
脂等が挙げられる。

【００５２】アルカリ性基としてはアミノ基が代表的な
ものとして挙げられ、該アミノ基の含有量としては、フ
ィルター層形成用樹脂のアミン価で約２０〜６５０、特
に約３０〜６００の範囲のものが好ましい。アミン価が
約２０を下回ると上記と同様にフィルター層の脱層性が
劣り解像度に優れたパターンが形成できないといった欠
点があり、一方アミン価が約６５０を上回ると逆にフィ
ルター層が余分な箇所まで脱層されるので解像度に優れ
たパターンが形成できないといった欠点があるので好ま
しくない。

【００５３】アルカリ性処理液としては、例えば、モノ
メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モ
ノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、
モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリ
イソプロピルアミン、モノブチルアミン、ジブチルアミ
ン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリ
エタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、ジエチ
ルアミノエタノール、アンモニア、苛性ソーダー、苛性
カリ、メタ珪酸ソーダー、メタ珪酸カリ、炭酸ソーダ
ー、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド等の水性液
が挙げられる。

【００５４】酸性処理液としては、例えば、ギ酸、クロ
トン酸、酢酸、プロピオン酸、乳酸、塩酸、硫酸、硝
酸、燐酸等の水性液が挙げられる。

【００５５】これらの処理液の酸性又はアルカリ性物質
の濃度は、通常０．０５〜１０重量％の範囲が好まし
い。

【００５６】有機溶剤としては、例えば、ヘキサン、ヘ
プタン、オクタン、トルエン、キシレン、ジクロロメタ
ン、クロロホルム、四塩化炭素、トリクロロエチレンな
どの炭化水素系、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、ブタノールなどのアルコール系、ジエチルエーテ
ル、ジプロピルエーテル、ジブチルエーテル、エチルビ
ニルエーテル、ジオキサン、プロピレンオキシド、テト
ラヒドロフラン、セロソルブ、メチルセロソルブ、ブチ
ルセロソルブ、メチルカルビトール、ジエチレングルコ
ールモノエチルエーテル等のエーテル系、アセトン、メ
チルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロ
ン、シクロヘキサノン等のケトン系、酢酸メチル、酢酸
エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のエステル系、ピ
リジン、ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
等のその他の溶剤等が挙げられる。

【００５７】現像処理液の処理条件は、特に制限される
ものではないが、通常、感エネルギー線被膜層の現像は
現像液温度１０〜５０℃程度、好ましくは１５〜４０℃
程度で現像時間１０秒〜２０分程度、好ましくは１５秒
〜１５分程度でおこなうことができる。

【００５８】本発明で使用する感エネルギー線被膜層
（Ｄ）は、活性エネルギー線が照射された箇所が硬化も
しくは分解することにより現像液による溶解性が異な
り、それによりレジストパターン被膜を形成することが
できるものであれば、従来から公知のものを特に制限な
しに使用することができる。

【００５９】上記したものとしては、例えば、有機溶剤
系ポジ型感光性樹脂組成物、有機溶剤系ネガ型感光性樹
脂組成物、水性ポジ型感光性樹脂組成物、水性ネガ型感
光性樹脂組成物等の液状レジスト感光性樹脂組成物、ネ
ガ型感熱線性樹脂組成物、ポジ型感熱線性樹脂組成物等
が挙げられる。

【００６０】上記した感エネルギー線の組成物におい
て、特に感光性樹脂組成物として可視光線型及び可視光
線硬化型のネガ型もしくはポジ型のタイプが好ましい。
ネガ型及びポジ型において感可視光線タイプとしては前
記可視光線感光性樹脂被膜層（Ａ）を形成する樹脂組成
物と同様のものを使用することができる。また、ネガ型
及びポジ型の感可視光線型のものとしては、上記被膜層
（Ａ）を形成する樹脂組成物に光増感剤を配合したもの
を使用することができる。該光増感剤としては、従来か
ら公知の光増感色素を使用することができる。このもの
としては、例えば、チオキサンテン系、キサンテン系、
ケトン系、チオピリリウム塩系、ベーススチリル系、メ
ロシアニン系、３ー置換クマリン系、３．４ー置換クマ
リン系、シアニン系、アクリジン系、チアジン系、フェ
ノチアジン系、アントラセン系、コロネン系、ベンズア
ントラセン系、ペリレン系、メロシアニン系、ケトクマ
リン系、フマリン系、ボレート系等の色素が挙げられ
る。これらのものは１種もしくは２種以上組み合わせて
使用することができる。ボレート系光増感色素として
は、例えば、特開平5-241338号公報、特開平7-5685号公
報及び特開平7-225474号公報等に記載のものが挙げられ
る。光増感剤の配合割合は、被膜層中（Ｄ）（固形分）
に約０．１〜２０重量％、好ましくは約０．２〜１０重
量％の範囲である。

【００６１】また、感熱線性樹脂組成物である感熱線性
樹脂組成物は、赤外線等の熱線により架橋もしくは分解
する樹脂組成物を有機溶剤もしくは水に溶解もしくは分
散したものである。この樹脂組成物としては、従来から
公知のものを使用することができ、例えば、水酸基含有
樹脂／アミノ樹脂、水酸基含有樹脂／ブロックイソシア
ネート、メラミン樹脂、加水分解性基（アルコキシシリ
ル基、ヒドロキシシリル基等）含有珪素樹脂やアクリル
系樹脂、エポキシ樹脂／フェノール樹脂、エポキシ樹脂
／（無水）カルボン酸、エポキシ樹脂／ポリアミン、不
飽和樹脂／ラジカル重合触媒（パーオキサイド等）、カ
ルボキシル基（及び／又は）ヒドロキシフェニル基／エ
ーテル結合含有オレフィン性不飽和化合物等が挙げられ
る。また、これらのものに熱酸発生剤（例えば、上記光
酸発生剤と同様のもの）を配合してポジ型として使用す
ることができる。

【００６２】感エネルギー線被膜層（Ｄ）を形成するは
該樹脂組成物は有機溶剤、水に溶解もしくは分散させて
なる組成物が使用できる。

【００６３】上記した有機溶剤としては、例えば、ケト
ン類、エステル類、エーテル類、セロソルブ類、芳香族
炭化水素類、アルコール類、ハロゲン化炭化水素類など
が挙げられる。

【００６４】また、このものは、例えば、ローラー、ロ
ールコーター、スピンコーター、カーテンロールコータ
ー、スプレー、静電塗装、浸漬塗装、シルク印刷、スピ
ン塗装等の手段により塗布することができる。次いで、
必要に応じてセッテングした後、乾燥することによりレ
ジスト被膜を得ることができる。

【００６５】また、レジスト被膜は光で露光する前の材
料表面に予めカバーコート層を設けておくことができ
る。このカバーコート層は空気中の酸素を遮断して露光
によって発生したラジカルが酸素によって失活するのを
防止し、露光による感光材料の硬化を円滑に進めるため
に形成されるものである。

【００６６】感エネルギー線被膜層（Ｄ）の膜厚は、通
常、約１μｍ〜約５００μｍ、特に約２μｍ〜約１００
μｍの範囲内が好ましい。

【００６７】本発明のパターン形成用積層被膜の製造方
法は、下記１〜８のいずれの方法においても製造するこ
とができる。１、基材表面に可視光線感光性樹脂被膜層（Ａ）を形成
し、次いで可視光線を透過するシート層（Ｂ）を形成
し、更に現像液によりパターン形成可能な可視光線遮蔽
層（Ｃ）、及び感エネルギー線被膜層（Ｄ）を順次積層
することにより製造できる。被膜層（Ａ）は上記した如
く被膜層（Ａ）を形成する樹脂組成物を基材表面に塗装
するか、あるいはラミネートするか、もしくは必要に応
じて被膜層（Ａ）に感光性、または感熱性の粘着剤（接
着剤）層を設けることにより、また、シート層（Ｂ）は
被膜層（Ａ）の表面に該シートを熱ラミネートするかも
しくは必要に応じてシート層（Ｂ）表面に感圧性又は感
熱性の粘着剤（接着剤）層を設けておき、そしてこの層
を利用して貼り付けることができる。また、可視光線遮
蔽層（Ｃ）は可視光線遮蔽層（Ｃ）を形成する組成物を
塗装するか、あるいはラミネートするか、もしくは必要
に応じて被膜層（Ｃ）に感光性、または感熱性の粘着剤
（接着剤）層を設けることにより、感エネルギー線被膜
層（Ｃ）は可視光線遮蔽層（Ｃ）の表面に感エネルギー
線被膜層（Ｄ）を形成する樹脂組成物を塗装するか、あ
るいはラミネートするか、もしくは必要に応じて被膜層
（Ｄ）に感光性、または感熱性の粘着剤（接着剤）層を
設けることにより積層することができる。２、基材表面に、該基材表面と、可視光線感光性樹脂被
膜層（Ａ）、可視光線を透過するシート層（Ｂ）、現像
液によりパターン形成可能な可視光線遮蔽層（Ｃ）、及
び感エネルギー線被膜層（Ｄ）を形成した積層物の被膜
層（Ａ）面とが面接するように積層することにより製造
できる。該積層物は、例えば、シート層（Ｂ）の片面に
被膜層（Ａ）用樹脂組成物を塗装し必要に応じて乾燥し
た後、次いでもう一方の片面に遮蔽層（Ｃ）用樹脂組成
物を塗装、乾燥し、次いで感エネルギー線被膜層（Ｄ）
用樹脂組成物を塗装することにより製造できる。更に、
該積層物の被膜層（Ａ）を基材表面に貼付けるには、例
えば、熱ラミネートすることにより、又は粘着剤、接着
剤を介して貼付けることができる。

【００６８】３、基材表面に可視光線感光性樹脂被膜層
（Ａ）を形成し、次いで該被膜層（Ａ）の表面と、可視
光線を透過するシート層（Ｂ）の片面に現像液によりパ
ターン形成可能な可視光線遮蔽層（Ｃ）、及び感エネル
ギー線被膜層（Ｄ）を形成した積層物の該シート層
（Ｂ）面とが面接することにより製造できる。可視光線
感光性樹脂被膜層（Ａ）は可視光線感光性樹脂被膜層
（Ａ）用樹脂組成物を基材表面に塗装、乾燥するか、あ
るいはラミネートするか、もしくは必要に応じて被膜層
（Ａ）に感光性、または感熱性の粘着剤（接着剤）層を
設けることにより得られる。上記積層物は可視光線を透
過するシート層（Ｂ）の片面に可視光線遮蔽層（Ｃ）用
樹脂組成物を塗装、乾燥し、次いで感エネルギー線被膜
層（Ｄ）用樹脂組成物を塗装、乾燥することにより得ら
れる。更に、該積層物のシート層（Ｂ）と被膜層（Ａ）
を貼付けるには、例えば、熱ラミネートすることによ
り、又は粘着剤、接着剤を介して貼付けることができ
る。

【００６９】４、基材表面に可視光線感光性樹脂被膜層
（Ａ）を形成し、次いで該被膜層（Ａ）の表面と、可視
光線を透過するシート層（Ｂ）の片面に現像液によりパ
ターン形成可能な可視光線遮蔽層（Ｃ）を形成した積層
物の該シート層（Ｂ）面とが面接するように積層し、次
いで可視光線遮蔽層（Ｃ）表面に感エネルギー線被膜層
（Ｄ）を形成することにより製造できる。可視光線感光
性樹脂被膜層（Ａ）は可視光線感光性樹脂被膜層（Ａ）
用樹脂組成物を基材表面に塗装、乾燥することにより得
られる。

【００７０】可視光線を透過するシート層（Ｂ）の片面
に現像液によりパターン形成可能な可視光線遮蔽層
（Ｃ）を形成した積層物はシート層（Ｂ）表面に遮蔽層
（Ｃ）用樹脂組成物を塗装、乾燥することにより得られ
る。また、被膜層（Ａ）と積層物の該シート層（Ｂ）
は、例えば、熱ラミネートすることにより、又は粘着
剤、接着剤を介して貼付けることができる。次いで得ら
れた可視光線遮蔽層（Ｃ）表面に感エネルギー線被膜層
（Ｄ）用樹脂組成物を塗装、乾燥するか、あるいはラミ
ネートするか、もしくは必要に応じて被膜層（Ｄ）に感
光性、または感熱性の粘着剤（接着剤）層を設けること
により得られる。

【００７１】５、基材表面に、該基材表面と、可視光線
感光性樹脂被膜層（Ａ）、可視光線を透過するシート層
（Ｂ）を形成した積層物の被膜層（Ａ）面とが面接する
ように積層し、次いでシート層（Ｂ）の表面に現像液に
よりパターン形成可能な可視光線遮蔽層（Ｃ）を形成
し、次いで感エネルギー線被膜層（Ｄ）を形成すること
により製造できる。可視光線感光性樹脂被膜層（Ａ）と
可視光線を透過するシート層（Ｂ）を形成した積層物は
シート層（Ｂ）表面に被膜層（Ａ）用樹脂組成物を塗
装、乾燥することにより得られる。基材表面と積層物の
被膜層（Ａ）面との面接は、例えば、熱ラミネートする
ことにより、又は粘着剤、接着剤を介して貼付けること
ができる。可視光線遮蔽層（Ｃ）及び感エネルギー線被
膜層（Ｄ）はこれらの層を形成する樹脂組成物を塗装、
乾燥するか、あるいはラミネートするか、もしくは必要
に応じて被膜層（Ｃ）及び（Ｄ）に感光性、または感熱
性の粘着剤（接着剤）層を設けることにより製造でき
る。

【００７２】６、基材表面に、該基材表面と、可視光線
感光性樹脂被膜層（Ａ）、可視光線を透過するシート層
（Ｂ）、及び現像液によりパターン形成可能な可視光線
遮蔽層（Ｃ）を形成した積層物の被膜層（Ａ）面とが面
接するように積層し、次いで該可視光線遮蔽層（Ｃ）の
表面に感エネルギー線被膜層（Ｄ）を形成することによ
り製造できる。

【００７３】可視光線感光性樹脂被膜層（Ａ）、可視光
線を透過するシート層（Ｂ）及び可視光線遮蔽層（Ｃ）
を形成した積層物はシート層（Ｂ）表面に被膜層（Ａ）
用樹脂組成物を塗装、乾燥し、シート層（Ｂ）のもう一
方の片面に可視光線遮蔽層（Ｃ）用樹脂組成物を塗装、
乾燥することにより得られる。基材表面と積層物の被膜
層（Ａ）面との面接は、例えば、熱ラミネートすること
により、又は粘着剤、接着剤を介して貼付けることがで
きる。感エネルギー線被膜層（Ｄ）はこの層を形成する
樹脂組成物を塗装、乾燥するか、あるいはラミネートす
るか、もしくは必要に応じて被膜層（Ｄ）に感光性、ま
たは感熱性の粘着剤（接着剤）層を設けることにより製
造できる。

【００７４】７、基材表面に、可視光線感光性樹脂被膜
層（Ａ）を形成し、次いで可視光線を透過するシート層
（Ｂ）を形成し、次いで該被膜層（Ｂ）の表面と、現像
液によりパターン形成可能な可視光線遮蔽層（Ｃ）の片
面に感エネルギー線被膜層（Ｄ）を形成した積層物の該
シート層（Ｃ）面とが面接するように積層することによ
り製造できる。被膜層（Ａ）は上記した如く被膜層
（Ａ）を形成する樹脂組成物を基材表面に塗装するか、
あるいはラミネートするか、もしくは必要に応じて被膜
層（Ａ）に感光性、または感熱性の粘着剤（接着剤）層
を設けることにより、また、シート層（Ｂ）は被膜層
（Ａ）の表面に該シートを熱ラミネートするかもしくは
必要に応じてシート層（Ｂ）表面に感圧性又は感熱性の
粘着剤（接着剤）層を設けておき、そしてこの層を利用
して貼り付けることができる。現像液によりパターン形
成可能な可視光線遮蔽層（Ｃ）及びを感エネルギー線被
膜層（Ｄ）形成した積層物は、可視光線遮蔽層（Ｃ）の
片面に感エネルギー線被膜層（Ｄ）用樹脂組成物を塗装
することにより得られる。シート層（Ｂ）表面と積層物
の被膜層（Ｃ）面との面接は、例えば、熱ラミネートす
ることにより、又は粘着剤、接着剤を介して貼付けるこ
とができる。

【００７５】８、基材表面に、該基材表面と、可視光線
感光性樹脂被膜層（Ａ）、可視光線を透過するシート層
（Ｂ）を形成した積層物の被膜層（Ａ）面とが面接する
ように積層し、次いで該被膜層（Ｂ）の表面と、現像液
によりパターン形成可能な可視光線遮蔽層（Ｃ）の片面
に感エネルギー線被膜層（Ｄ）を形成した積層物の該シ
ート層（Ｃ）面とが面接するように積層することにより
製造できる。可視光線感光性樹脂被膜層（Ａ）と可視光
線を透過するシート層（Ｂ）を形成した積層物はシート
層（Ｂ）表面に被膜層（Ａ）用樹脂組成物を塗装、乾燥
することにより得られる。基材表面と積層物の被膜層
（Ａ）面との面接は、例えば、熱ラミネートすることに
より、又は粘着剤、接着剤を介して貼付けることができ
る。現像液によりパターン形成可能な可視光線遮蔽層
（Ｃ）及びを感エネルギー線被膜層（Ｄ）形成した積層
物は、可視光線遮蔽層（Ｃ）の片面に感エネルギー線被
膜層（Ｄ）用樹脂組成物を塗装することにより得られ
る。シート層（Ｂ）表面と積層物の被膜層（Ｃ）面との
面接は、例えば、熱ラミネートすることにより、又は粘
着剤、接着剤を介して貼付けることができる。

【００７６】本発明のパターン形成方法は、下記工程（１）基材表面に可視光線感光性樹脂被膜層（Ａ）、可
視光線を透過するシート層（Ｂ）、現像液によりパター
ン形成可能な可視光線遮蔽層（Ｃ）、及び感エネルギー
線被膜層（Ｄ）を順次積層してなるパターン形成用積層
被膜を使用して、該積層被膜の感エネルギー線被膜層
（Ｄ）表面から所望のパターンが得られるように活性エ
ネルギー線をマスクを介して照射もしくは直接に照射さ
せ、（２）感エネルギー線被膜層（Ｄ）を現像処理する
ことにより不必要な部分の被膜層（Ｄ）を除去してレジ
ストパターン被膜を形成した後、（３）露出した部分の
可視光線遮蔽層（Ｃ）を現像処理して除去し、（４）次
いで、可視光線を全面照射した後、（５）積層被膜の可
視光線感光性樹脂被膜層（Ａ）から可視光線を透過する
シート層（Ｂ）、可視光線遮蔽層（Ｃ）、及び感エネル
ギー線被膜層（Ｄ）の積層物を剥離させて、基材表面に
可視光線感光性樹脂被膜層（Ａ）を形成させてなる積層
物を製造し、（６）次いで、シート層（Ｂ）を透過した
可視光線により感光した被膜層（Ａ）を現像液により現
像する工程を含むパターン形成方法である。

【００７７】活性エネルギー線に使用される光源として
は、例えば、特に制限なしに超高圧、高圧、中圧、低圧
の水銀灯、ケミカルランプ灯、カーボンアーク灯、キセ
ノン灯、メタルハライド灯、タングステン灯等やアルゴ
ンレーザー（４８８ｎｍ）、ＹＡＧーＳＨＧレーザー
（５３２ｎｍ）、ＵＶレーザー（３５１〜３６４ｎｍ）
に発振線を持つレーザーも使用できる。熱線としては、
例えば、半導体レーザー（８３０ｎｍ）、ＹＡＧレーザ
ー（１．０６μｍ）、赤外線等が挙げられる。

【００７８】可視光線としては、従来から使用されてい
るもの、例えば、超高圧、高圧、中圧、低圧の水銀灯、
ケミカルランプ、カーボンアーク灯、キセノン灯、メタ
ルハライド灯、蛍光灯、タングステン灯、太陽光等の光
を紫外カットフィルターによりカットした可視領域の光
線や、可視領域に発振線を持つ各種レーザー等が使用で
きる。被膜（Ａ）、遮蔽層（Ｃ）及び被膜層（Ｄ）に使
用される現像液は被膜がアニオン性の場合にはアルカリ
性現像液で処理がおこなわれ、また、カチオン性の場合
には酸性現像液で処理がおこなわれる。また、被膜の性
質に応じて有機溶剤や水でも現像することができる。

【００７９】現像処理は、例えば現像液を約１０〜８
０℃、好ましくは約１５〜５０℃の液温度で約１０秒〜
６０分間、好ましくは約３０秒〜３０分間吹き付けや浸
漬することにより行うことができる。

【００８０】アルカリ性現像液としては、例えば、モノ
メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モ
ノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、
モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリ
イソプロピルアミン、モノブチルアミン、ジブチルアミ
ン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリ
エタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、ジエチ
ルアミノエタノール、アンモニア、苛性ソーダー、苛性
カリ、メタ珪酸ソーダー、メタ珪酸カリ、炭酸ソーダ
ー、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド等の水性液
が挙げられる。

【００８１】酸性現像液としては、例えば、ギ酸、クロ
トン酸、酢酸、プロピオン酸、乳酸、塩酸、硫酸、硝
酸、燐酸等の水性液が挙げられる。

【００８２】有機溶剤としては、例えば、ヘキサン、ヘ
プタン、オクタン、トルエン、キシレン、ジクロロメタ
ン、クロロホルム、四塩化炭素、トリクロロエチレンな
どの炭化水素系、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、ブタノールなどのアルコール系、ジエチルエーテ
ル、ジプロピルエーテル、ジブチルエーテル、エチルビ
ニルエーテル、ジオキサン、プロピレンオキシド、テト
ラヒドロフラン、セロソルブ、メチルセロソルブ、ブチ
ルセロソルブ、メチルカルビトール、ジエチレングルコ
ールモノエチルエーテル等のエーテル系、アセトン、メ
チルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロ
ン、シクロヘキサノン等のケトン系、酢酸メチル、酢酸
エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のエステル系、ピ
リジン、ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
等のその他の溶剤等が挙げられる。

【００８３】本発明方法は、例えば、ブラックマトリッ
クスパターン、カラーフィルター用パターン、電子部品
被覆用パターン（ソルダー用被膜）、セラミックや蛍光
体のパターン、表示パネルの隔壁パターン等の如き基材
表面に形成するパターンや配線用プラスチック基板、ビ
ルドアップ用プラスチック基板等の如き絶縁性基材やこ
れらに設けられる導電性パターン等に適用することがで
きる。

【００８４】

【実施例】実施例により本発明をさらに具体的に説明す
る。なお、部及び％は重量基準である。可視光線感光性組成物（ｉ）の製造例可視光線硬化性樹脂（高分子バインダー）として、アク
リル樹脂（樹脂酸価１５５ｍｇＫＯＨ／ｇ、メチルメタ
クリレート／ブチルアクリレート／アクリル酸＝４０／
４０／２０重量比）にグリシジルメタクリレート２４重
量部を反応させてなる可視光線硬化性樹脂（樹脂固形分
５５重量％、プロピレングリコールモノメチルエーテル
有機溶媒、樹脂酸価５０ｍｇＫＯＨ／ｇ、数平均分子量
約２万）１００部（固形分）に光重合性開始剤（ＣＧＩ
ー７８４、商品名、チバガイギー社製、チタノセン化合
物）１０部を配合して感光液を調製して組成物（ｉ）
（固形分１５％）を得た。

【００８５】可視光線遮蔽層用樹脂組成物（ｉｉ）の製
造例ポリビニルアルコール１００重量部、カーボンブラック
顔料２０重量部の黒ペースト組成を水に溶解、分散した
固形分４０％の水溶性組成物。

【００８６】可視光線感光性組成物（ｉｉｉ）の製造例上記可視光線感光性組成物（ｉ）固形分１００重量部に
対して光増感色素としてＮＫＸー１５９５（光増感色
素、（株）日本感光色素研究所社製、クマリン系色素、
商品名）１．５部を配合して感光液を調製して組成物
（ｉｉｉ）（固形分１５％）を得た。

【００８７】実施例１（１）銅箔（２００×２００×１．１ｍｍ）上に可視光
線感光性組成物（ｉ）をバーコーターにて塗布し、８０
℃で１０分間予備乾燥させて膜厚約３０μｍの可視光線
感光性樹脂被膜（ｉ）を形成した。次いで形成した被膜
表面にポリエチレンテレフタレートシート（３８μ
ｍ）を貼付け、次いで可視光線遮蔽用樹脂組成物（ｉ
ｉ）を乾燥膜厚が６μｍになるようにローラー塗装し、
６５℃で１０分間乾燥させて可視光線遮蔽層（ｉｉ）を
形成し、更にこの上から可視光感光性組成物（ｉｉｉ）
をバーコーターにて塗布し、８０℃で１０分間予備乾燥
させて膜厚約３０μｍの可視光感光性被膜（ｉｉｉ）を
形成した。（２）次いで、被膜（ｉｉｉ）表面からアルゴンイオン
レーザー（５ｍｊ／ｃｍ ²）をパターン状に直接照射し
露光した。次いでアルカリ現像液ａ（炭酸ナトリウム水
溶液０．２５重量％）に２５℃で６０秒間浸漬して露光
部の被膜（ｉｉｉ）及び露光部の被膜（ｉｉｉ）の下層
部の可視光線遮蔽層（ｉｉ）を同時に現像処理して除去
した。（３）得られた被膜の表面から超高圧水銀灯（３００ｍ
ｊ／ｃｍ²）を照射した。（４）次いで、シート層、可視光線遮蔽層（ｉｉ）及び
被膜層（ｉｉｉ）の積層物を可視光線感光性樹脂被膜層
（ｉ）から剥離して、銅箔と可視光線感光性樹脂被膜
（ｉ）との積層物を得た。（５）次いで０．７５重量％の炭酸ナトリウム水溶液に
２５℃で６０秒間浸漬して未硬化（未露光部）の可視光
線感光性樹脂被膜層（ｉ）を現像処理して除去した。得
られたパターンはライン（パターン幅）／スペース＝１
００μｍ／２０μｍのストライプ状にパターニングされ
良好であった。

【００８８】実施例２実施例１の（１）において、ポリエチレンテレフタレー
トシート（３８μｍ）の片面に組成物（ｉ）をローラ
ー塗装し８０℃１０分間乾燥した後、次いでもう一方の
シートの片面に組成物（ｉｉ）をローラー塗装し８０℃
１０分間乾燥し、次いで組成物（ｉｉｉ）をローラー塗
装し、８０℃１０分乾燥して積層物を得た。該積層物の
組成物（ｉ）の被膜を銅箔表面に８０℃で加圧すること
により熱ラミネートして貼付けたものを使用した以外は
実施例１と同様にして試験を行なった。その結果、得ら
れたパターンはライン（パターン幅）／スペース＝１０
０μｍ／２０μｍのストライプ状にパターニングされ良
好であった。

【００８９】実施例３上記銅箔上に可視光線感光性組成物（ｉ）をバーコータ
ーにて塗布し、８０℃で１０分間予備乾燥させて膜厚約
３０μｍの被膜（ｉ）を形成した。ポリエチレンテレフ
タレートシート（３８μｍ）の片面に組成物（ｉｉ）
をローラー塗装し８０℃１０分間乾燥し、次いで組成物
（ｉｉｉ）をローラー塗装し、８０℃１０分間乾燥して
積層物を得た。次いで、該積層物のシート層と被膜
（ｉ）を８０℃で加圧することにより熱ラミネートして
貼付けた。上記で得られたものを使用して実施例１と同
様にして試験（２）〜（５）を行なった。その結果、得
られたパターンはライン（パターン幅）／スペース＝１
００μｍ／２０μｍのストライプ状にパターニングされ
良好であった。

【００９０】実施例４上記銅箔上に可視光線感光性組成物（ｉ）をバーコータ
ーにて塗布し、８０℃で１０分間予備乾燥させて膜厚約
３０μｍの被膜（ｉ）を形成した。ポリエチレンテレフ
タレートシート（３８μｍ）の片面に組成物（ｉｉ）
をローラー塗装し８０℃１０分間乾燥して積層物を得
た。次いで積層物のシート層と被膜（ｉ）を８０℃で加
圧することにより熱ラミネートして貼付けた。次いで、
組成物（ｉｉ）の被膜表面に組成物（ｉｉｉ）をローラ
ー塗装し、８０℃１０分間乾燥した。上記で得られたも
のを使用して実施例１と同様にして試験（２）〜（５）
を行なった。その結果、得られたパターンはライン（パ
ターン幅）／スペース＝１００μｍ／２０μｍのストラ
イプ状にパターニングされ良好であった。

【００９１】実施例５ポリエチレンテレフタレートシート（３８μｍ）の片
面に組成物（ｉ）をローラー塗装し８０℃１０分間乾燥
して積層物を得た。次いで積層物のシート層と銅箔を８
０℃で加圧することにより熱ラミネートして貼付けた。
次いで、該シート面に組成物（ｉｉ）をローラー塗装し
８０℃１０分間乾燥し、更に組成物（ｉｉ）の被膜表面
に組成物（ｉｉｉ）をローラー塗装し、８０℃１０分間
乾燥した。上記で得られたものを使用して実施例１と同
様にして試験（２）〜（５）を行なった。その結果、得
られたパターンはライン（パターン幅）／スペース＝１
００μｍ／２０μｍのストライプ状にパターニングされ
良好であった。

【００９２】実施例６ポリエチレンテレフタレートシート（３８μｍ）の片
面に組成物（ｉ）をローラー塗装し８０℃１０分間乾燥
した後、次いでもう一方のシートの片面に組成物（ｉ
ｉ）をローラー塗装し８０℃１０分間乾燥して積層物を
得た。次いで、該積層物の組成物（ｉ）の被膜を銅箔表
面に８０℃で加圧することにより熱ラミネートして貼付
けた更に、積層物の組成物（ｉｉ）の被膜表面に組成物
（ｉｉｉ）をローラー塗装し、８０℃１０分乾燥した。
上記で得られたものを使用して実施例１と同様にして試
験（２）〜（５）を行なった。その結果、得られたパタ
ーンはライン（パターン幅）／スペース＝１００μｍ／
２０μｍのストライプ状にパターニングされ良好であっ
た。

【００９３】実施例７離型処理されたポリエチレンテレフタレートシート（
３８μｍ）の片面に組成物（ｉｉｉ）をローラー塗装し
８０℃１０分間乾燥した後、次いで組成物（ｉｉ）をロ
ーラー塗装し８０℃１０分間乾燥して積層物を得た。次
いで、銅箔表面に組成物（ｉｉ）をローラー塗装し、８
０℃１０分乾燥した。次いでポリエチレンテレフタレー
トシート（３８μｍ）８０℃で加圧することにより熱
ラミネートして貼付けた更に、積層物の組成物（ｉｉ）の被膜表面とポリエチレ
ンテレフタレートシート表面を面接し、８０℃で加圧す
ることにより熱ラミネートして貼付け、離型ポリエチレ
ンテレフタレートシート剥離した。上記で得られたもの
を使用して実施例１と同様にして試験（２）〜（５）を
行なった。その結果、得られたパターンはライン（パタ
ーン幅）／スペース＝１００μｍ／２０μｍのストライ
プ状にパターニングされ良好であった。

【００９４】実施例８離型処理されたポリエチレンテレフタレートシート（
３８μｍ）の片面に組成物（ｉｉｉ）をローラー塗装し
８０℃１０分間乾燥した後、次いで組成物（ｉｉ）をロ
ーラー塗装し８０℃１０分間乾燥して積層物を得た。次
いで、ポリエチレンテレフタレートシート（３８μ
ｍ）の片面に組成物（ｉ）をローラー塗装し８０℃１０
分間乾燥して積層物を得た。銅箔表面と組成物（ｉ）被
膜の表面が面接するようにし、８０℃で加圧することに
より熱ラミネートして貼付けた更に、積層物の組成物（ｉｉ）の被膜表面とポリエチレ
ンテレフタレートシート表面を面接し、８０℃で加圧す
ることにより熱ラミネートして貼付け、離型ポリエチレ
ンテレフタレートシート剥離した。上記で得られたもの
を使用して実施例１と同様にして試験（２）〜（５）を
行なった。その結果、得られたパターンはライン（パタ
ーン幅）／スペース＝１００μｍ／２０μｍのストライ
プ状にパターニングされ良好であった。

【００９５】比較例１〜８実施例１〜８において、それぞれ組成物（ｉｉ）の被膜
を形成しない以外は実施例１〜８とそれぞれ同様にして
積層被膜を形成し、実施例と同様にして試験を行なっ
た。その結果、得られた被膜は、１〜８全てライン残存
性は不良、スペース現像性は不可で悪かった。

【００９６】

【発明の効果】本発明は上記した構成を有することか
ら、単独の感光性樹脂被膜では用途に応じては適用でき
ない面もあったがこのものを複層に分離することによ
り、機能を分離して設計することができるので幅広い用
途が可能となった。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者今井玄児神奈川県平塚市東八幡４丁目17番１号関西ペイント株式会社内Ｆターム(参考） 2H025 AA19 AA20 AB17 AC01 AD01 AD03 BC31 BE01 CA00 CC09 DA13 DA33 DA40 EA08 FA06 FA17 FA28 FA30 2H096 AA27 BA01 BA09 CA09 CA16 CA20 EA02 GA08 HA03 HA30 5E339 BE13 CC01 CC02 CD01 CE11 CE12 CE16 CE19 CF02 CF15 CG04 DD02

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基材表面に可視光線感光性樹脂被膜層
（Ａ）、可視光線を透過するシート層（Ｂ）、現像液に
よりパターン形成可能な可視光線遮蔽層（Ｃ）、及び感
エネルギー線被膜層（Ｄ）を順次積層してなることを特
徴とするパターン形成用積層被膜。
【請求項２】可視光線感光性樹脂被膜層（Ａ）がネガ型
又はポジ型の可視光線感光性樹脂被膜層（Ａ）である請
求項１に記載のパターン形成用積層被膜。
【請求項３】感エネルギー線被膜層（Ｄ）がネガ型又は
ポジ型の感エネルギー線被膜層（Ｄ）である請求項１に
記載のパターン形成用積層被膜。
【請求項４】可視光線感光性樹脂被膜層（Ａ）が水、有
機溶剤、酸及びアルカリから選ばれる少なくとも１種類
の化合物を含む処理液に溶解もしくは分散する請求項１
乃至３のいずれか１項に記載のパターン形成用積層被
膜。
【請求項５】可視光線遮蔽層（Ｃ）が水、有機溶剤、酸
及びアルカリから選ばれる少なくとも１種類の化合物を
含む処理液に溶解もしくは分散する請求項１乃至４のい
ずれか１項に記載のパターン形成用積層被膜。
【請求項６】ネガ型又はポジ型感エネルギー線被膜層
（Ｄ）が水、有機溶剤、酸及びアルカリから選ばれる少
なくとも１種類の化合物を含む処理液に溶解もしくは分
散する請求項１乃至５のいずれか１項に記載のパターン
形成用積層被膜。
【請求項７】可視光線感光性樹脂被膜層（Ａ）が、最終
的に形成されるパターンが導電性被膜であることを特徴
とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載のパターン
形成用積層被膜。
【請求項８】可視光線感光性樹脂被膜層（Ａ）が、最終
的に形成されるパターンが絶縁性被膜であることを特徴
とする請求項１乃至６のいずれか１項に載のパターン形
成用積層被膜。
【請求項９】基材表面に可視光線感光性樹脂被膜層
（Ａ）を形成し、次いで可視光線を透過するシート層
（Ｂ）を形成し、更に現像液によりパターン形成可能な
可視光線遮蔽層（Ｃ）、及び感エネルギー線被膜層
（Ｄ）を順次積層することを特徴とするパターン形成用
積層被膜の製造方法。
【請求項１０】基材表面に、該基材表面と、可視光線
感光性樹脂被膜層（Ａ）、可視光線を透過するシート層
（Ｂ）、現像液によりパターン形成可能な可視光線遮蔽
層（Ｃ）、及び感エネルギー線被膜層（Ｄ）を形成した
積層物の被膜層（Ａ）面とが面接するように積層するこ
とを特徴とするパターン形成用積層被膜の製造方法。
【請求項１１】基材表面に可視光線感光性樹脂被膜層
（Ａ）を形成し、次いで該被膜層（Ａ）の表面と、可視
光線を透過するシート層（Ｂ）の片面に現像液によりパ
ターン形成可能な可視光線遮蔽層（Ｃ）、及び感エネル
ギー線被膜層（Ｄ）を形成した積層物の該シート層
（Ｂ）面とが面接するように積層することを特徴とする
パターン形成用積層被膜の製造方法。
【請求項１２】基材表面に可視光線感光性樹脂被膜層
（Ａ）を形成し、次いで該被膜層（Ａ）の表面と、可視
光線を透過するシート層（Ｂ）の片面に現像液によりパ
ターン形成可能な可視光線遮蔽層（Ｃ）を形成した積層
物の該シート層（Ｂ）面とが面接するように積層し、次
いで可視光線遮蔽層（Ｃ）表面に感エネルギー線被膜層
（Ｄ）を形成することを特徴とするパターン形成用積層
被膜の製造方法。
【請求項１３】基材表面に、該基材表面と、可視光線
感光性樹脂被膜層（Ａ）、可視光線を透過するシート層
（Ｂ）を形成した積層物の被膜層（Ａ）面とが面接する
ように積層し、次いでシート層（Ｂ）の表面に現像液に
よりパターン形成可能な可視光線遮蔽層（Ｃ）を形成
し、次いで感エネルギー線被膜層（Ｄ）を形成すること
を特徴とするパターン形成用積層被膜の製造方法。
【請求項１４】基材表面に、該基材表面と、可視光線
感光性樹脂被膜層（Ａ）、可視光線を透過するシート層
（Ｂ）、及び現像液によりパターン形成可能な可視光線
遮蔽層（Ｃ）を形成した積層物の被膜層（Ａ）面とが面
接するように積層し、次いで該可視光線遮蔽層（Ｃ）の
表面に感エネルギー線被膜層（Ｄ）を形成することを特
徴とするパターン形成用積層被膜の製造方法。
【請求項１５】下記工程（１）請求項１乃至８のいずれか１項に記載の基材表面
に可視光線感光性樹脂被膜層（Ａ）、可視光線を透過す
るシート層（Ｂ）、現像液によりパターン形成可能な可
視光線遮蔽層（Ｃ）、及び感エネルギー線被膜層（Ｄ）
を順次積層してなるパターン形成用積層被膜を使用し
て、該積層被膜の感エネルギー線被膜層（Ｄ）表面から
所望のパターンが得られるように活性エネルギー線をマ
スクを介して照射もしくは直接に照射させ、（２）感エ
ネルギー線被膜層（Ｄ）を現像処理することにより不必
要な部分の被膜層（Ｄ）を除去してレジストパターン被
膜を形成した後、（３）露出した部分の可視光線遮蔽層
（Ｃ）を現像処理して除去し、（４）次いで、可視光線
を全面照射した後、（５）積層被膜の可視光線感光性樹
脂被膜層（Ａ）から可視光線を透過するシート層
（Ｂ）、可視光線遮蔽層（Ｃ）、及び感エネルギー線被
膜層（Ｄ）の積層物を剥離させて、基材表面に可視光線
感光性樹脂被膜層（Ａ）を形成させてなる積層物を製造
し、（６）次いで、シート層（Ｂ）を透過した可視光線
により感光した被膜層（Ａ）を現像液により現像する工
程を含むことを特徴とするパターン形成方法。
【請求項１６】基材表面に可視光線感光性樹脂被膜層
（Ａ）を形成し、次いで可視光線を透過するシート層
（Ｂ）を形成し、次いでシート層（Ｂ）の表面に現像液
によりパターン形成可能な可視光線遮蔽層（Ｃ）の片面
に、感エネルギー線被膜層（Ｄ）を形成した積層物の該
シート層（Ｃ）面とが面接するように積層することを特
徴とするパターン形成用積層被膜の製造方法。
【請求項１７】基材表面に、該基材表面と、可視光線
感光性樹脂被膜層（Ａ）、可視光線を透過するシート層
（Ｂ）を形成した積層物の被膜層（Ａ）面とが面接する
ように積層し、次いでシート層（Ｂ）の表面に現像液に
よりパターン形成可能な可視光線遮蔽層（Ｃ）の片面
に、感エネルギー線被膜層（Ｄ）を形成した積層物の該
シート層（Ｃ）面とが面接するように積層することを特
徴とするパターン形成用積層被膜の製造方法。