JPH0288615A - 難燃性液状感光性樹脂組成物 - Google Patents

難燃性液状感光性樹脂組成物

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JPH0288615A
JPH0288615A JP63239657A JP23965788A JPH0288615A JP H0288615 A JPH0288615 A JP H0288615A JP 63239657 A JP63239657 A JP 63239657A JP 23965788 A JP23965788 A JP 23965788A JP H0288615 A JPH0288615 A JP H0288615A
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JP
Japan
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meth
acrylate
weight
molecular weight
photosensitive resin
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Pending
Application number
JP63239657A
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English (en)
Inventor
Kenji Kushi
憲治 串
Kenichi Inukai
健一 犬飼
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Rayon Co Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Rayon Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH0288615A publication Critical patent/JPH0288615A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/28Applying non-metallic protective coatings
    • H05K3/285Permanent coating compositions
    • H05K3/287Photosensitive compositions
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は印刷配線板製造用のソルダーレジスト(半田マ
スク)等に用いられるパターン形成性難燃性液状感光性
樹脂組成物に関する。
〔従来の技術〕
従来、印刷配線板製造業界において印刷配線板の永久保
護被膜として、ソルダーレジスト(半田マスク)が広く
用いられている。ソルダーレジストは半田付は時の半田
ブリッジの防止、使用時の導体部の腐食防止、電気絶縁
性の保持等を目的として使用される。ソルダーレジスト
は過酷な条件下で使用されるため、エツチングレジスト
とは異なり、下記のような性能が要求される。(イ)半
田浸漬時(240〜280℃)における密着性の保持、
(ロ)永久的な密着性の保持、(ハ)溶剤、薬品等に対
する優れた耐性、に)高湿度条件下での高い電気絶縁性
の保持、(ホ)難燃性。
これらの要*を満たすため、熱硬化性インク又は光硬化
性インクをスクリーン印刷することによりソルダーレジ
ストを形成する方法が広く用いられてきた。しかし印刷
配線の高密度化の進行に伴い、厚膜で精度の高いソルダ
ーレジストが要求されており、スクリーン印刷方式によ
るソルダーレジストの形成法では、精度及び厚みの問題
から対応しきれなくなっているのが現状である。
この高密度化に対応する方式として現像方式によるソル
ダーレジストの形成法が提案されている。現像方式とは
印刷配線板上に液状感光性樹脂組成物をコーティングす
るか、感光性フィルムをラミネートしたのち、ホトマス
ク等を通して活性光線により必要部分を硬化させ、未硬
化部分を現像液を用いて洗い流すことによりパターンを
形成する方式であり、この方式を用いると厚膜で精度の
良いソルダーレジストパターンを形成することができる
現像方式用ソルダーレジストには、硬化前の塗膜の形成
法の違いにより、ドライフィルム型、溶剤揮散型及び無
溶剤液状型が知られている(特開昭52−52703号
及び同!M−15763号各公報参照)。このなかでド
ラムフィルム型のものでは、すでに配線の形成された凹
凸面に塗膜を密着させるために、減圧下での加熱圧着等
の特殊な工程を必要としく特開昭5252703号公報
参照)、しかもこのような方法を用いても、完全な密着
は保証されない。
方、溶剤揮散型のものでは配線の形成された凹凸面に対
する密着性は優れているものの、液状感光性樹脂をコー
ティングしたのち、防爆型乾燥機等を用いて溶剤を揮散
させる工程が必要である。このため無溶剤液状型ソルダ
ーレジスト用感光性樹脂組成物の開発が強(望まれてい
る。
一方、液状感光性樹脂を使用する現像液の種類によって
分類した場合には、1,1.1− )リクロロエタン等
の有機溶剤型と希アルカリ水溶液型の2種が考えられる
。有機溶剤を用いる方法一 では作業環境及び廃液の処理等に問題があり、希アルカ
リ水溶液を用いる現像が強く望まれている。このような
問題を解決するための組成物としては、カルボン酸変性
エポキシ(メタ)アクリレートをアルカリ現像性付与剤
として用いた組成物が知られている(特開昭62−20
4252号、同62−204253号、同62−205
113号各公報参照)。しかしこの組成物は充分な難燃
性能が得られていない。
〔発明が解決しようとする問題点〕
本発明の目的は、液の均一性、アルカリ現像性ならびに
硬化後の塗膜の密着性、耐溶剤性、耐熱性、電気絶縁性
等に優れ、かつ優れた難燃性を備えた難燃性液状感光性
樹脂組成物を提供することにある。
〔問題を解決するための手段〕
本発明は、(a)分子内に2個以上のエポキシ基を有す
る化合物を(メタ)アクリル酸及び二塩基酸(無水物)
と反応させて得られる酸価4〜150、数平均分子量3
00〜5000の(メ−4= り)アクリレート10〜55重量%、(b)臭素原子を
20重量%以上含有する(メタ)アクリント3〜35重
量%、(c)1分子中に2個以上の(メタ)アクリロイ
ルオキシ基を有するモノマー(a及びb成分を除く)1
0〜55重量%、(d)1分子中に1個の(メタ)アク
リロイルオキシ基を有するモノマー(a及びb成分を除
く)5〜50重量%、(e)無機充填剤2〜35重量%
及び(f)光開始剤及び光増感剤から選ばれた光重合触
媒0.05〜20重量%を含有し、かつ全組成物中の臭
素原子の重量が0.5〜28%であることを特徴とする
、難燃性液状感光性樹脂組成物である。
なお(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロイルオキ
シ基及び(メタ)アクリル酸は、それぞれメタクリレー
ト又はアクリレート、メタクリロイルオキシ基又はアク
リロイルオキシ基、メタクリル酸又はアクリル酸を意味
する。
本発明に用いられる、分子内に2個以上のエポキシ基を
有する化合物を(メタ)アクリル酸及び二塩基酸(無水
物)と反応させて得られる酸価4〜150、数平均分子
量300〜5000の(メタ)アクリレート(a)(以
下カルボン酸変性エポキシ(メタ)アクリレートと記す
)とは、多官能のエポキシ化合物又はエポキシ樹脂例え
ば「エンジニアリングプラスチック」(化学工業日報社
、昭和58年3月15日発行)に記載されているような
ビスフェノール人=エピクロルヒドリン樹脂、エポキシ
ノボラック樹脂、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ
樹脂、異節環型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型樹
脂等のなかに存在するエポキシ基にアクリル酸及び/又
はメタクリル酸を付加させたのち、残存する水酸基に、
無水マレイン酸、無水コノ・り酸等の二塩基酸無水物を
付加させた化合物、あるいは多官能エポキシ化合物又は
エポキシ樹脂をアクリル酸及び/又はメタクリル酸及び
二塩基酸と反応させることにより得られる、分子内にカ
ルボキシル基を有する化合物を意味し、例えば下記の化
合物が挙げられる。ビスフェノールA−エピクロルヒド
リン系エポキシ樹脂をアクリル酸と反応させ、さらに無
水マレイン酸を付加させた化合物(エポキシ基/アクリ
ル酸/無水マレイン酸−1/110.1(モル比))、
フェノールノボラックエポキシ樹脂をアクリル酸、メタ
クリル酸及びコハク酸と反応させた化合物(エポキシ基
/アクリル酸/メタクリル酸/コハク酸=110.71
0.110.2 (モル比))等。
カルボン酸変性エポキシ(メタ)アクリレート(a)は
、全分子がカルボキシル基を保有している必要はなく、
カルボキシル基を保有していない分子が残存していても
よい。したがってカルボン酸変性されない分子が残留す
るような条件で合成したものを用いてもよく、またカル
ボン酸変性されたものと未変性化合物の混合物を用いて
もよい。
カルボン酸変性エポキシ(メタ)アクリレニド(a)の
平均の酸価は4〜150好ましくは5〜100である。
平均の酸価が4未満の場合にはアルカリ洗浄性が悪(な
り、感光後の未硬化部の液状感光性樹脂組成物を充分に
洗浄できない。
一方、平均の酸価が150を越えると、硬化後の塗膜の
吸湿性が大となり、高湿度条件下において高い電気絶縁
性を保持することができない。
なお電気絶縁性の面から平均の酸価は5〜100が好ま
しい。
カルボン酸変性エポキシ(メタ)アクリレート(a)の
数平均分子量は300〜5000好ましくは400〜3
000の範囲内である。数平均分子量が5000を越え
ると、組成物の粘度が高くなり、アルカリ現像性が悪化
したり、他の単量体、オリゴマー等との均一溶解性が悪
くなる。
カルボン酸変性エポキシ(メタ)アクリレート(a)の
使用量は、組成物全量に対し10〜55重量%好ましく
は15〜50重量%である。使用量が10重量%未満の
場合は、組成物の解像性及び硬化後の塗膜の金属面への
密着性が低下し、また55M量%を越えると、高湿度条
件下=8− での電気絶縁性が低下する。
従来、フルアルカリ現像型の感光性樹脂組成物において
、フルアルカリ現像性を付与する手段として、カルボキ
シル基を有する線状重合体を添加することが広く用いら
れてきた。しかしソルダーレジスト用の液状感光性樹脂
組成物に対して、カルボキシル基を有する線状重合体を
添加すると下記の2つの問題が発生する。第1は線状重
合体は架橋構造をとり得ないために硬化後の塗膜の耐溶
剤性が低下する点である。第2は感光性樹脂組成物を均
一溶液とするため、カルボキシル基含有の線状重合体を
溶解させうる特殊な反応性希釈剤を使用する必要がある
が、この反応性希釈剤が電気絶縁性を低下させやすい点
である。
これに対し本発明においては、線状重合体に代えて、特
定のカルボン酸変性エポキシ(メタ)アクリレート(a
)を用いることにより、これらの問題が解決できる。す
なわち、カルボン酸変性エポキシ(メタ)アクリレート
(a)は活性光線による硬化後は、それ自体が架橋構造
中に取り込まれるために優れた耐溶剤性を有することが
できる。さらに、これらは線状重合体と比較して低分子
量であり、一般に併用される架橋性単量体との混合が容
易であるのでモノマー組成に対する自由度が大きく、電
気絶縁性等の優れた性能が得られる。
臭素原子を20重量%以上含有する(メタ)アクリレー
ト(b)としては、例えば下記の化合物カ用いられる。
2,4.6− トリブロモフェニル(メタ)アクリレー
ト、2,4.6− トリブロモフェノキシエチル(メタ
)アクリレート、2,4.6−トリブロモフェノキシジ
ェトキシ(メタ)アクリレート、2,4.6−ドリプロ
モフエノキシトリエトキシ(メタ)アクリレート、テト
ラブロモビスフェノールAモノ(メタ)アクリレート、
テトラブロモビスフェノールAジ(メタ)アクリレート
、テトラブロモビスフェノールAジェトキシモノ(メタ
)アクリレート、テトラブロモビスフェノールAジエト
キシジ(メタ)アクリレート、テトラブロモビスフェノ
ールAビス(テトラエトキシ(メタ)アジリレート)、
2゜4.6−)リプロモフエノキシテトラエトキシ(メ
タ)アクリレート、3− (2,4,6−トリフロモフ
エノキシ)−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレ
ートなど。
低温保存下の液の均−性及び硬化後の塗膜のより厳しい
条件下での耐熱性の点から、一般式(式中R1は水素原
子又はメチル基、Aは基を示し、ここにnは1〜3の整
数を意味する)で表わされる化合物が好ましい。
臭素原子を20重量%以上含有する(メタ)アクリレー
ト(b)の使用量は、組成物全量に対し3〜35重量%
であり、かつ全組成物中の臭素原子の重量は0.3〜2
8%好ましくは1〜20%である。臭素化合物(b)の
使用量が3重量%未満又は臭素原子の重量が0.6%未
満の場合は、充分な難燃性が得られない。また臭素化合
物(b)の使用量が35重量%を越えるか又は臭素原子
の重量が28%を越えると、硬化塗膜の密着性及び耐熱
性が低下する。
臭素原子を20重量%以上含有する(メタ)アクリレー
ト(b)を用いることにより液の均一性、アルカリ現像
性並びに硬化後の塗膜の密着性、耐溶剤性、耐熱性、電
気絶縁性に優れ、かつ優れた難燃性を備えた難燃性液状
感光性樹脂組成物が得られる。
他の臭素化合物例えばプラスチック用難燃剤として知ら
れているデカブロモピフェニルエーテルを本発明の他の
成分と組み合わせて用いた場合、銅面上に塗布後、1%
炭酸ソーダ水溶液で噴霧洗浄しても、微量のデカプロモ
ビフエニルエーテルが銅面上に吸着残留する。またテト
ラブロモビスフェノールAを他の成分と組み合わせて用
いた場合には、硬化後の塗膜を260℃の半田中に浸漬
したときに剥離が起こる。これは硬化後の塗膜中に未反
応のまま存在するテトラブロモビスフェノールAが26
0℃の加熱下で銅面上へにじみ出して密着力を低下させ
℃ることか原因と考えられる。
カルボン酸変性エポキシ(メタ)アクリレト(a)と臭
素原子を含有する(メタ)アクリレート(b)を組み合
わせた場合に、前記のように優れた性能が得られる理由
は明らかではないが、臭素原子を含有する(メタ)アク
リレート(b)が硬化前には液中に均一に溶解しており
、かつ紫外線による硬化後はカルボン酸変性エポキシ(
メタ)アクリレート(a)とともに架橋網目の中に取り
込まれるために、硬化後の塗膜の物性に悪影響を与えず
、難燃性に対してもより大きな効果を発揮できるものと
考えられる。
本発明の難燃性液状感光性組成物は、1分子中に2個以
上の(メタ)アクリロイルオキシ基を有するモノマー(
c)(以下架橋形成性モノマーと記す)を10〜55重
量%含有する。この架橋形成性モノマー(c)は、硬化
速度の向上及び硬化後の塗膜の耐擦傷性、耐溶剤性、電
気絶縁性等のソルダーレジストとして要求される性能を
向上させるために用いられる。
架橋形成性モノマー(c)としては、例えば下記の化合
物が挙げられる。1,4−ブタンジオールジ(メタ)ア
クリレ−)、1.6−へキサメチレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、ネオベンチルグリコールジ(メタ)
アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)ア
クリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリ
レート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレ
ート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレ
ート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート
、ウレタンアクリレート(例えば大阪有機化学工業社製
ビスコート#812、#813、#823、$851)
、ウレタンメタクリレート等。これらは単独で又は2種
以上を組み合わせて用いられる。
これらの架橋形成性モノマー(c)の使用量は、組成物
全量に対し10〜55重量%好ましくは10〜50重量
%の範囲である。使用量が10重量%未満の場合は、耐
溶剤性が悪化し、高湿度条件下での電気絶縁性も低下す
る。また55重量%を越えると、アルカリ現像性が悪化
するとともに、金属面への密着性が低下する。
さらに、架橋形成性モノマー(c)のうち50重量%以
上特に60重量%以上は、分子内にアクリレート及び/
又はメタクリレートに関与しないエステル結合を保有し
、平均分子量が200〜800の範囲にあり、かつ重合
性二重結合1個当りの平均分子量が100〜250の範
囲に含まれるモノマーを用いることが好ましい。
前記のエステル結合を有する架橋形成性モノマーは、適
度な分子量及び二重結合1個当りの分子量を有している
ことにより、硬化塗膜に対し適度な架橋密度を付与し、
硬化塗膜の耐溶剤性と密着性を同時に向上させることが
できる。
また分子内にアクリレート及び/又はメタクリレートに
関与しないエステル結合を有していることにより、特に
硬化塗膜の密着性及び耐熱性を向上させ、高湿度条件下
における高い電気絶縁性を保持させることができる。こ
れら化合物としては例えば下記の化合物が挙げられる。
ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリ
レート(分子量312、重合性2重結合1個当りの分子
量156)、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコ
ールジメタクリレート(分子量640、重合性2重結合
1個当りの分子量170)、コハク酸/トリメチロール
エタン/アクリル酸=1/2/4(モル比)の共縮合物
(平均分子量6 Q O,重合性2重結合1個当りの分
子量15Q)、アジピン酸/トリメチロールプロパン/
アクリル酸” 1 /2/4 (モル比)の共縮合物(
平均分子量6801重合性2重結合1個当りの分子ft
170)、東亜合成化光工業社製各種オリゴエステル(
メタ)アクリレート例えばアロエックスM−6100(
平均分子量450、重合性2重結合1個当りの分子量2
25)、アロエックスM−6250(平均分子量450
、重合性2重結合1個当りの分子量225)、71:l
−ツク、’CM−3500(平均分子量446、重合性
2重結合1個当りの分子量223)、アロエックスM−
7100(平均分子量535、重合性2重結合1個当り
の分子量188)、’7T:1=”)クスM−8050
(平均分子量396、重合性2重結合1個当りの分子量
119)、アロエックスM−8060(平均分子量48
9、重合性2重結合1個当りの分子量166)、アロエ
ックスM−8100(平均分子量618、重合性2重結
合1個当りの分子量155)、アロエックスM−630
0(平均分子量478、重合性2重結合1個当りの分子
量269)等。
成分a及びb以外の化合物であって、1分子中に1個の
(メタ)アクリロイルオキシ基を有するモノマー(d)
(以下単官能性単量体と記す)は、前記のカルボン酸変
性エポキシ(メタ)アクリレート(a)を希釈して粘度
を低下させるとともに、活性光線による硬化に加わり、
硬化後の塗膜に柔軟性を付与し、基板に対する密着性を
向上させる。
単官能性(メタ)アクリレート(d)としては、例えば
下記の化合物が用いられる。テトラヒドロフルフリル(
メタ)アクリレート、エトキシエトキシエチル(メタ)
アクリレート、2−メトキシエチル(メタ)アクリレー
ト、ベンジル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(
メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル
(メタ)アクリレート、メチルトリエチレンクリコール
(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート
等のアクリレート又はメタクリレート。
単官能性(メタ)アクリレート(d)の使用量は、組成
物全量に対し5〜55重量%好ましくは10〜50重量
%である。使用量が5重量%未満の場合は、硬化塗膜の
密着性が低下し、また50重量%を越えると、耐溶剤性
が低下する。
さらに、ソルダーレジスト用液状感光性樹脂組成物とし
て要求される各種性能例えば金属面への密着性、硬度、
高温時の密着性、耐溶剤性、高湿度条件下での電気絶縁
性、低臭気、低皮膚刺激性等から判断して、単官能性(
メタ)アクリレート(d)のうち50重量%以上は、一
般式%式%() (式中R4は水素原子又はメチル基、Bは基H 数12以下のアルキル基を有していてもよいフェニル基
を示し、ここにnは1〜乙の整数を意味する)で表わさ
れる化合物を用いることが好ましい。
式■の化合物は、フェノキシ基を有していることにより
高沸点(低臭気、低皮膚刺激性)となり、かつ適度な極
性を有していることにより、高湿度条件下での電気絶縁
性を低下させずに金属面への密着性(常温及び高温)を
向上させる。
さらに分子量が大きいにもかかわらず、側鎖が比較的短
いために耐溶剤性や硬度が低下しない。
式■の化合物としては、例えば下記の化合物が挙げられ
る。フェノキシエチル(メタ)アクリレート、フェノキ
シエチルオキシエチル(メタ)アクリレート、フェノキ
シテトラエチレングリコール(メタ)アクリレート、p
−ノニルフェノキシエチル(メタ)アクリレート、6−
フェノキシ−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレ
ート等。
無機充填剤(e)としては、体質顔料、難燃助剤として
のアンチモン化合物、増粘剤としてのシリカ化合物など
が用いられる。
体質顔料は、硬化塗膜の強度を向上させるとともに、重
合収縮を緩和して基板上への密着力を向上させるために
用いることができる。体質顔料としては例えば炭酸カル
シウム、タルク、2〇 − マイカ等が挙げられ、特にメルク、マイカ等の板状の粒
子あるいは針状タルク等の針状のものが、密着性の向上
の効果が優れている。これらの体質顔料はそのままの形
で用いてもよく、また無機及び/又は有機物で表面処理
又は表面コーティングした形で用いてもよい。
体質顔料の使用量は、塗膜の強度、密着性及び解像性の
面から判断して感光性樹脂組成物に対し2〜35重量%
好ましくは5〜30重量%である。
無機充填剤(e)の一部としてアンチモン化合物を用い
ることもできる。アンチモン化合物を用いることにより
、より高度な難燃性の付与が可能となり、また臭素化合
物(b)の使用量も減少することもできる。アンチモン
化合物としては、例えば三酸化アンチモン、五酸化アン
チモン−(四水塩)等が挙げられる。組成物中での均一
分散性、波長300〜400の紫外線の透過性等の点か
ら平均粒径0.1μ以下のアンチモン化合物を用いるこ
とが好ましい。アンチモン化合物の使用量は組成物全量
に対し0.2〜4重量%が好ましい。
増粘剤として例えば無定形シリカを組成物の粘度、揺変
性、コーティング特性等を改良する目的で、無機充填剤
(e)の一部として用いてもよい。無定形シリカとして
は、市販の製品例えば日本アエロジル社製アエロジル、
米国キャボット社製Cab−0−8il、富士デピリン
社製5yloid。
日本シリカ社製ニブシール等が用いられる。そのほか表
面が親水性のもの、表面疎水化処理品例えばニブシール
5S50X、 Cab−0−8ilT720などの製品
が用いられる。増粘剤の使用量は組成物全量に対し0〜
25重量%である。
無機充填剤(e)の使用量は、組成物全量に対し2〜3
5重量%好ましくは3〜35重量%である。使用量が2
重量%未満の場合は、コーティング特性及び耐熱密着性
が低下する。また35重量%を越えると電気絶縁性、現
像性等に問題が生じる。
光開始剤及び/又は光増感剤(f)としては、紫外線、
可視光等の活性光線によりラジカルを発生し、重合反応
を引き起こしうるものであればよく、例えば下記の化合
物が挙げられる。2−エチルアントラキノン、1,4−
ナフトキノン、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾイン
プロピルエーテル、ベンゾフェノン、4.4’−ビスジ
アルキルアミノベンゾフェノン、ベンジルジメチルケタ
ール、4′−イソプロピル−2−ヒドロキシ−2−メチ
ルプロピオフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチルプロ
ピオフェノン、2−メチル−(4−メチルチオ)フェニ
ル−2−モルホリノ−1−プロパン等。光開始剤及び/
又は光増感剤(f)は単独で用いてもよく、また2種以
上の混合物を用いてもよい。
光開始剤及び/又は光増感剤の使用量は硬化速度及び硬
化塗膜の物性の点から、組成物全量に対し0.05〜2
0重量%好ましくは0.1〜10重量%である。
本発明の感光性樹脂組成物は、成分a % fのほかに
目的に応じて熱重合防止剤、着色用の顔料又は染料、消
泡剤等の各種添加剤を用いることができる。
熱重合防止剤は、光硬化させる前の段階において、感光
性樹脂組成物が熱により硬化することを防止する目的で
添加されるものであり、例えばp−メトキシフェノール
、ヒドロキノン、p−ベンゾキノン、三級ブチルカテコ
ール、ピロガロール、ナフチルアミン、フェノチアジン
等が用いられる。この熱重合防止剤の使用量は光硬化性
への影響等の点から、組成物重量に対し6重量%以下特
に1重量%以下が好ましい。
着色用の顔料又は染料としては、例えば組成物を緑色と
する場合には、顔料としては塩素化銅フタロシアニング
リーン(P、 Gr、 7 )、塩素臭素化銅フタロシ
アニングリーン(P、 Gr。
36)等、染料としては住友化学社製スミプラストグリ
ーンG等が用いられる。
消泡剤としては、シリコン系、非シリコン系等各種のも
のが用いられる2゜ 本発明の液状組成物は、室温において、実質的に流動性
を有していればいかなる粘度のものでもよいが、取り扱
い性特にコーティング特性の点から25℃においてブル
ックフィールド型粘度計で測定した粘度が1000〜1
00000cps4?に2000〜80000 cps
の範囲であることが好ましい。
本発明の液状感光性樹脂組成物は公知の方法で使用でき
る。一般的には、塗布、露光、アルカリ現像の工程を経
て、硬化塗膜が形成される。
塗布方法としては公知の方法、例えば液状感光性樹脂組
成物を、アプリケーター(例えばベーカー式アプリケー
ター )く−コーター等)を用いたり、シルクスクリー
ンを通して印刷配線基板上に直接塗布する「直接塗布法
」、液状感光性樹脂組成物を透明フィルムやシート又は
アートワークの表面に塗布したのち、液状感光性樹脂組
成物側が印刷配線基板と接するように積層させる「間接
塗布法」、プリントサーキット基板表面及び透明フィル
ム、シート又はアートワークの表面の両面に液状感光性
樹脂組成物を塗布したのち液状感光性樹脂組成物層同士
を重ね合わせる「両面塗布法」等の方法も用いることが
できる。
露光方法は公知の方法、例えばホトマスクを通じて、可
視光線、紫外線等の活性光線を用いて行うことができる
。この場合、液状感光性樹脂層とホトマスクは直接接し
ていてもよく、透明フィルム、透明シート等を通じて間
接的に接していてもよく、また薄い気体の層により、隔
てられていてもよい。
現像法としては、アルカリ現像タイプの感光性樹脂組成
物の現像法として公知の方法を用いることができる。
さらに硬化塗膜をより完全にする目的で、アルカリ現像
稜に活性光線及び/又は熱により後処理を行うこともで
きる。
本発明の液状感光性樹脂組成物は、ソルダーレジストだ
けでなく、凸版印刷その他の用途にも使用できる。
実施例1 ビスフェノールAジグリシジルエーテル/アクリル酸/
無水マレイン酸の反応物 (反応比率:エポキシ基/アクリル酸/無水マレイン酸
=1/110.25、平均分子量400、酸価50) テトラブロモビスフェノールAジェト キシジアクリレート(臭素含量46.2%)ネオペンチ
ルグリコールジアクリレートジシクロペンタジェニルエ
チルアクリ レート タルク(土星カオリン社製タルクSK)三酸化アンチモ
ン(平均粒径0.02μ)シリカ(日本シリカ社製ニブ
シール 8850X ) ベンジルジメチルケタール 塩素化銅フタロシアニン p−メトキシフェノール 消泡剤(東しシリコン社製シリコン オイル5H−200) 0g 7、59 20.9g 5g 5g 094g 8g 8g 0.1g 0.1g 8g =27 前記の成分を混合し、3本ロールにより混練りを行い、
液状感光性樹脂組成物Ex1を作製した(臭素含量6,
2%)。
実施例2 実施例1のテトラブロモビスフェノールAジェトキシジ
アクリレートに代えて、2,4.6−ドリブロモフエノ
キシエチルアクリレートを用い、3本ロールにより混練
りを行い、液状感光性樹脂組成物Ex2を作製した(臭
素含量4.2%)。
実施例3〜10及び比較例1〜5 ビスフェノールAジグリシジルエーテル/アクリル酸/
無水マレイン酸の反応物(反応比率:エポキシ基/アク
リル酸/無水マレイン酸=l/110.25、平均分子
量400、酸価50 )              
    ag臭素化合物              
 byネオペンチルグリコールヒドロキシピバレートジ
アクリレート            clilミツエ
ノキシエチルアクリレート 0gタル上屋カオリ・ン社製タルクSK)    e’
i三酸化アンチモン(平均粒径0.02μ)e#gシI
)力(日本アエロジル社製アエロジル$200)   
              e″′、9ベンジルジメ
チルケタール        1g塩素化銅フタロシア
ニン        0.1gp−メトキシフェノール
          0.1g消泡剤(米国コロイド社
製コロイド+640 )  2 、?前記の成分を混合
し、6本ロールにより混練し、組成物Fix 5〜10
及びRef 1〜5を作製した。a % fの各重量を
第1表に示す。
なお表中の臭素化合物及び組成物の臭素含量は下記のと
おりである。化合物イ: 55.9%、化合物口: 4
6.4%、化合物ハ: 62.3%、化合ウニ:42.
8%、化合物ホ: 85.5%、化合物へ:58.8%
、Ex 3: 4.2%、EX 4 : 4.2%、E
x 5 : 1.7 %、EX6:’14.0%、Ex
7:1.7%、EX 8 : 3.5%、EX9:4.
7%、Exlo:5.2%、Ref 2 : 0.8%
、Ref3:22゜4%、Ref4:6.5%、Ref
5:4.2%。
実施例11 ビスフェノールAジグリシジルエーテル/アクリル酸/
無水マレイン酸の反応物(反応比率:エポキシ基/アク
リル酸/無水マレイン酸−1/110.13、平均分子
量400、酸価25) 2.46−)リブロモフエノキシエチルメタクリレート
(臭素含量54.1%) コハク酸/トリメチロールエタン/アクリル酸(モル比
=1/2/4’)の共縮合物(平均分子量680、重合
性二重結合当りの分子量150) 6−フェノキシ−2−エチルプロピルアクリレートタル
ク 五酸化アンチモン・4水塩 シリカ ベンジルジメチルケタール 塩素・臭素化銅フタロシアニン p−メトキシフェノール 消泡剤 6g 7、59 5g 59、2.9 2g g g 0.2g 0.19 g 前記の成分を混合し、6本ロールにより混練し、組成物
Ex11を作製した。なおタルクとしては土産カオリン
社製タルクSK、シリカとしては日本アエロジル社製ア
エロジル4#200、消泡剤としては米国コロイド社製
コロイド#640を用いた(以下同じ)。
実施例12 ビスフェノールAジグリシジルエーテル/アクリル酸/
無水マレイン酸の反応物(反応比率:エポキシ基/アク
リル酸/無水マレイン酸= 1/110.4、平均分子
量500、酸価80)  412.4.6−ドリプロモ
フエノキシジエトキシアクリレート(臭素含量50.7
%)            7.59ヒドロキシピバ
リン酸ネオペンチルグリコールエステルジアクリレー)
        11.9gノエノキシジエトキシアク
リレー)     10..9タルク        
       15,9三酸化アンチモン(平均粒径0
.02μ)      0.49シリカ       
       4gベンジルジメチルケタール    
    1g=66 塩素化銅フタロシアニア         0.19p
−メトキシフェノール        0.1g消泡剤
                2g前記の成分を混
合し、3本ロールにより混練し、組成物Ex12を作製
した(臭素含量3.8%)。
実施例13 フェノールノボラック型エポキシ樹脂/アクリル酸/無
水コハク酸の反応物(反応比率:エポキシ基/アクリル
酸/無水コノ・り酸=1/110.5モル、平均分子量
1100、酸価74)               
     32.!92.4,6−ドリフロモフエノキ
シトリエトキシアクリレート(臭素含量46.4%) 
   7.59アロニクスM−6100 (平均分子量
450、重合性二重結合当りの分子量125)    
  44.9gフェノキシエチルアクリレ−)    
   1タルク               5g三
酸化アンチモン(平均粒径0.02μ)     0.
4gシリカ             1gベンジルジ
メチルケタール        1g塩素化銅フタロシ
アニン         0・1gp−メトキシンエノ
ール         0.1g消泡剤       
        2g前記の成分を混合し、3本ロール
により混練し、組成物Ex13を作製した(臭素含量3
.5%)。
実施例14 ビスフェノールAジグリシジルエーテル/アクリル酸/
無水マレイン酸の反応物(反応比率:エポキシ基/アク
リル酸/無水マレイン酸=1/110.5、平均分子量
500.酸価110)  2J93− (2,4,6−
)リブロモフェノキシ)−2−ヒト日キシプロピルアク
リレート(臭素含量52.3%)          
          7. s gヒドロキシピバリン
酸ネオペンチルクリコールエステルジアクリレート  
          30.9pフェノキシエチルアク
リレ−)          209タルク     
          15g三酸化アンチモン(平均粒
径0.02μ)       0.4,9シリカ   
           4Iベンジルジメチルケタール
        1gスミプラストグリーンG(住友化
学工業社製)   0.1.!9p−メトキシフェノー
ル         0.1g消泡剤        
       1g前記の成分を混合し、6本ロールに
より混練し、組成物Ex 14を作製した(臭素含量6
.9%)実施例及び比較例で得られた組成物の性能を下
記の方法で評価した。その結果を第2表に示す。
(1)硬化用塗膜の調製 銅張り積層板(住友ベークライト社製ELC4708)
を10crn×15crnに切断したのち、研摩、洗浄
、水分除去により前処理を行う。前処理した銅張り積層
板上に各種条件で調製した液状感光性樹脂組成物をベー
カー式アプリケータを用い、厚さ100μとなるように
コーティングする。その上から厚さ25μのポリエステ
ルフィルムで被覆し硬化用塗膜を得る。(以後、「硬化
用塗膜」とは前記のように作製し、ポリエステルフィル
ムで被覆した塗膜を意味する)(2)最適−次露光条件
及び現像性の測定(2−1)−次露光 硬化用塗膜上に厚さ120μのネガフィルム8TOUF
FERRe5olution Guide #1−T 
(ストウファ−・グラフィック・アーク・エクイップメ
ント社製)を載せ、さらに3 m1m厚のPyrex製
ガラス板を載せる。次いで15crn上方より、100
W高圧水銀灯(ウシオ電機社製UH−100)により露
光を行う。露光時間は10〜180秒の範囲である。ま
た照射エネルギーは東京光学機械社製TJVR−335
を用いて測定した。
(2−2)現像 一次露光を終了した塗膜より25μのポリエステルフィ
ルムを剥離し、下記条件にてスプレー現像を行う。
現像液=1%炭酸ナトリウム水溶液(40’C)ノズル
:いけうち社製JUP 03 (1,5気圧、2.61
37分) ノズルからの距離:15cm 時 間=60秒 現像終了後、流水により洗浄し、空気により水分除去し
、70℃で5分間乾燥する。
=67 (2−3)後硬化 現像終了後の塗膜に対し、下記の条件で光硬化及び熱処
理を行ったのち、室温まで放冷する。
(A)光による硬化 5 KW高圧水銀灯(三菱電機社製H−500UVA 
)距離=20Crn 通過速度:D、9m/分 (Bl熱処理(光硬化後) 160℃×10分 (2−4)最適−次露光エネルギーの測定−欠露光時間
を変えて実施した塗膜を比較し、前記Re5oluti
on Guideのパターンを最もよく再現している塗
膜を得るのに必要な照射エネルギーを求める。(単位は
m、r/cm2)(2−5)現像性の評価 最適−次露光エネルギーにて現像したサンプル表面を3
0倍顕微鏡により観察して評価を行う。
○:凹部に未洗浄成分の残留なし ×:凹部に未洗浄成分が残留 (6)硬化塗膜の物性評価 (3−1)−次露光 硬化用塗膜上に厚さ120μのポリエステルフィルムを
載せ、さらに厚さ3 m Pyrex製ガラス板を載せ
る。次いで15crn上方より100W高圧水銀灯(ウ
シオ電機社製UH−100)により(2−4)で求めた
最適露光エネルギーに対応する時間だけ露光を行う。
(3−2)現像 (2−2)と同様に実施 (3−3)後硬化 (2−3)と同様に実施 (3−4)耐熱性の評価 後硬化終了後の塗膜を基板ごと260℃の半田中に、1
0秒間及び20秒間浸漬したのち取り出し、その状態を
観察して評価する。
◎:20秒でも変化なし 0710秒で変化なし、20秒でふくれ、はがれ、割れ
等あり ×:10秒でふくれ、はがれ、割れ等あり(6−5)密
着性の評価 後硬化終了後の塗膜について、JIS−D−0202記
載「とばん目試験方法1種」に準じた方法により密着性
を評価する(とばん目の大きさは2鱈角)。
◎:欠損部分の面積が全正方面積の5%未満〇二欠損部
分の面積が全正方面積の5〜10%×:欠損部分の面積
が全正方面積の10%以上(3−6’)耐溶剤性の評価 後硬化終了後の塗膜を基板ごと25℃のトリクロロエタ
ン及びジクロロメタンにそれぞれ10分間浸漬したのち
取り出し、塗膜の状態を観察して評価する。
◎ニトリクロロエタン浸漬、ジクロロメタン浸漬ともに
変化なし Oニトリクロロエタン浸漬、ジクロロタン浸漬いずれか
一方にふくれ、はがれ、溶解あり ×ニトリクロロエタン浸漬、ジクロロメタン浸漬両方と
もにふくれ、はがれ、溶解あり(5−7)体積抵抗値の
測定(電気絶縁性の評価)後硬化終了後の塗膜を50 
’C1相対湿度90%の状態で100時間保存したのち
、東亜電波工業社製EM−10E型極超絶縁計を用い、
塗膜の体積抵抗値を測定する(500V、印加1分後の
値)。
(4ン難燃性の評価 厚さ1.6ml+のガラス・エポキシ・銅張積層板(住
友ベークライト社製スミライトELC−4756)を用
い、両面の銅箔を塩化第2鉄水溶液によりエツチング除
去する。エツチング後の基板を用いて、その両面に(1
)、(3−1)、(3−2)及びC6−3)の方法によ
り100μの硬化塗膜を作製する。この塗膜付きの板か
ら、127 X 12゜7mの試験片を10枚切り出す
。試験片10枚のうち5枚は温度26℃、湿度50%の
条件下に48時間以上放置し、残りの5枚は125℃で
、24時間熱処理したのち、無水塩化カルシウムを入れ
たデシケータ中で4〜5時間冷却する。
コノ試験片を用い、UNDERWITER8LABOR
ATORIESINC、の難燃試験方法「UL−94V
−OJの方法により難燃試験を行い、最大燃焼秒数及び
平均燃焼秒数を記録する。
(5)液の均−性 得られた液状感光性樹脂を26℃及び0℃の暗所で2時
間保存したのち取り出し、液の均一性を観察した。
◎:変化なし Q:析出が起こるが、再度23℃で混合すると元に戻る ×:析出−が起こり、再度23℃で混合しても元に戻ら
ない 手続補正書(自発 平成1年11月10日

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (a)分子内に2個以上のエポキシ基を有する化合物を
    (メタ)アクリル酸及び二塩基酸(無水物)と反応させ
    て得られる酸価4〜150、数平均分子量300〜50
    00の(メタ)アクリレート10〜55重量%、(b)
    臭素原子を20重量%以上含有する(メタ)アクリレー
    ト3〜35重量%、(c)1分子中に2個以上の(メタ
    )アクリロイルオキシ基を有するモノマー(a及びb成
    分を除く)10〜55重量%、(d)1分子中に1個の
    (メタ)アクリロイルオキシ基を有するモノマー(a及
    びb成分を除く)5〜50重量%、(e)無機充填剤2
    〜35重量%及び(f)光開始剤及び光増感剤から選ば
    れた光重合触媒0.05〜20重量%を含有し、かつ全
    組成物中の臭素原子の重量が0.5〜28%であること
    を特徴とする、難燃性液状感光性樹脂組成物。
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