JP2001022059A - パターン形成用組成物、それを用いた画像記録材料、および記録材料の製造方法 - Google Patents
パターン形成用組成物、それを用いた画像記録材料、および記録材料の製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】赤外線レーザーに高感度で、現像処理なして画
像記録材料を製造できるパターン形成用組成物、それを
用いた画像記録材料、および記録材料の製造方法を提供
すること。 【解決手段】（ａ）被膜形成能を有する樹脂および
（ｂ）赤外線レーザー吸収物質を含有することを特徴と
するパターン形成用組成物、それを用いた画像記録材
料、および記録材料の製造方法。
像記録材料を製造できるパターン形成用組成物、それを
用いた画像記録材料、および記録材料の製造方法を提供
すること。 【解決手段】（ａ）被膜形成能を有する樹脂および
（ｂ）赤外線レーザー吸収物質を含有することを特徴と
するパターン形成用組成物、それを用いた画像記録材
料、および記録材料の製造方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、赤外線レーザー光を走
査することで直接画像を形成できるパターン形成用組成
物、それを用いた画像記録材料、および記録材料の製造
方法に関し、さらに詳しくは、平版印刷用版材、グラビ
ア印刷用版材、プリント基板、液晶表示基板などを製造
するために赤外線レーザー光を直接走査することで画像
を形成できるパターン形成用組成物、それを用いた画像
記録材料、および記録材料の製造方法に関する。
査することで直接画像を形成できるパターン形成用組成
物、それを用いた画像記録材料、および記録材料の製造
方法に関し、さらに詳しくは、平版印刷用版材、グラビ
ア印刷用版材、プリント基板、液晶表示基板などを製造
するために赤外線レーザー光を直接走査することで画像
を形成できるパターン形成用組成物、それを用いた画像
記録材料、および記録材料の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、レーザー走査露光技術の進歩にと
もない、ＣＤ出力データーを直接にレーザー光で画像露
光するレーザービーム走査直接描画システムが開発さ
れ、レーザー製版が行われるようになった。このレーザ
ービーム走査直接描画システムにあってはフォトツール
を使用することなく製版できるところから、微細な画像
を迅速に描画できる上に、現像工程を省略できる利点を
有する。しかし、従来のレーザービーム走査直接描画シ
ステムではエキシマレーザー光などの強エネルギーレー
ザーを用いるために感光性組成物に含有する光重合開始
剤や樹脂バインダーを特定なものにする必要があり、感
光性組成物の製造コストを高いものにする上に、強いエ
ネルギーを有するレーザー光に十分に感応する光重合開
始剤や樹脂バインダーの開発が未だ十分でなく満足でき
る記録材料を製造することが困難であった。この問題を
解決する記録材料の製造方法として、レーザービームを
赤外線レーザー光とするレーザー走査直接描画システム
が特開平８−３０５０３０号公報、特開平９−１６６８
７５号公報などで提案されている。前記公報記載の記録
材料の製造方法にあっては、フォトマスクを前記レーザ
ービーム走査直接描画システムで作成し、該マスクを介
して光重合性組成物層に紫外線などを選択的に照射し、
画像現像している。
もない、ＣＤ出力データーを直接にレーザー光で画像露
光するレーザービーム走査直接描画システムが開発さ
れ、レーザー製版が行われるようになった。このレーザ
ービーム走査直接描画システムにあってはフォトツール
を使用することなく製版できるところから、微細な画像
を迅速に描画できる上に、現像工程を省略できる利点を
有する。しかし、従来のレーザービーム走査直接描画シ
ステムではエキシマレーザー光などの強エネルギーレー
ザーを用いるために感光性組成物に含有する光重合開始
剤や樹脂バインダーを特定なものにする必要があり、感
光性組成物の製造コストを高いものにする上に、強いエ
ネルギーを有するレーザー光に十分に感応する光重合開
始剤や樹脂バインダーの開発が未だ十分でなく満足でき
る記録材料を製造することが困難であった。この問題を
解決する記録材料の製造方法として、レーザービームを
赤外線レーザー光とするレーザー走査直接描画システム
が特開平８−３０５０３０号公報、特開平９−１６６８
７５号公報などで提案されている。前記公報記載の記録
材料の製造方法にあっては、フォトマスクを前記レーザ
ービーム走査直接描画システムで作成し、該マスクを介
して光重合性組成物層に紫外線などを選択的に照射し、
画像現像している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記特開平８−３０５
０３０号公報、特開平９−１６６８７５号公報などで提
案されている記録材料の製造方法は、使用するレーザー
光が波長７５０〜２０，０００ｎｍの赤外線レーザー光
と低エネルギーであることから、感光性組成物が高価な
光重合開始剤を含有する必要がなく、その製造コストを
低くできる上に、赤外線レーザー光は可視光より長波長
であることから作業を白色灯の下で行える利点がある。
さらに、レーザー光の照射条件を調整することで高い解
像度の像を容易に形成できるなどの利点もあることか
ら、本発明者等は、前記記録材料の製造方法を改善する
ことで、高解像度の記録材料を低コストで製造できると
の考えに基づいて鋭意研究を続けた結果、被膜形成能を
有する樹脂と赤外線レーザー吸収物質を含有して成る組
成物を用いることで、高い解像度を有する画像記録材料
が現像処理をすることなく、低コストで、かつ迅速に製
造できることを見出して、本発明は完成したものであ
る。すなわち、
０３０号公報、特開平９−１６６８７５号公報などで提
案されている記録材料の製造方法は、使用するレーザー
光が波長７５０〜２０，０００ｎｍの赤外線レーザー光
と低エネルギーであることから、感光性組成物が高価な
光重合開始剤を含有する必要がなく、その製造コストを
低くできる上に、赤外線レーザー光は可視光より長波長
であることから作業を白色灯の下で行える利点がある。
さらに、レーザー光の照射条件を調整することで高い解
像度の像を容易に形成できるなどの利点もあることか
ら、本発明者等は、前記記録材料の製造方法を改善する
ことで、高解像度の記録材料を低コストで製造できると
の考えに基づいて鋭意研究を続けた結果、被膜形成能を
有する樹脂と赤外線レーザー吸収物質を含有して成る組
成物を用いることで、高い解像度を有する画像記録材料
が現像処理をすることなく、低コストで、かつ迅速に製
造できることを見出して、本発明は完成したものであ
る。すなわち、
【０００４】本発明は、赤外線レーザー光に高感度で、
現像処理なしに迅速に画像記録材料を製造できるパター
ン形成用組成物を提供することを目的とする。
現像処理なしに迅速に画像記録材料を製造できるパター
ン形成用組成物を提供することを目的とする。
【０００５】また、本発明は、上記パターン形成用組成
物を用いた画像記録材料を提供することを目的とする。
物を用いた画像記録材料を提供することを目的とする。
【０００６】さらに、本発明は、上記画像記録材料を用
いた記録材料の製造方法を提供することを目的とする。
いた記録材料の製造方法を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成する本発
明は、（ａ）被膜形成能を有する樹脂および（ｂ）赤外
線レーザー吸収物質を含有することを特徴とするパター
ン形成用組成物、それを用いた画像記録材料、および記
録材料の製造方法に係る。
明は、（ａ）被膜形成能を有する樹脂および（ｂ）赤外
線レーザー吸収物質を含有することを特徴とするパター
ン形成用組成物、それを用いた画像記録材料、および記
録材料の製造方法に係る。
【０００８】本発明のパターン形成用組成物は、上述の
とおり（ａ）被膜形成能を有する樹脂および（ｂ）赤外
線レーザー吸収物質を含有する。前記（ａ）成分として
は、フェノール樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、エ
ポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、カーボ
ネート樹脂、スチレン樹脂、フッ素樹脂、セルロース
類、糖類、ビニル重合体、蛋白質、ロジン、ジエン重合
体などを挙げることができるが、これらの１種または２
種以上を混ぜて使用してもよい。得られたパターンを剥
離する場合にあっては（ａ）成分がアルカリ可溶、分散
または膨潤可能であれば好都合で、さらに好ましくはア
ルカリ可溶性であるのがよい。
とおり（ａ）被膜形成能を有する樹脂および（ｂ）赤外
線レーザー吸収物質を含有する。前記（ａ）成分として
は、フェノール樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、エ
ポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、カーボ
ネート樹脂、スチレン樹脂、フッ素樹脂、セルロース
類、糖類、ビニル重合体、蛋白質、ロジン、ジエン重合
体などを挙げることができるが、これらの１種または２
種以上を混ぜて使用してもよい。得られたパターンを剥
離する場合にあっては（ａ）成分がアルカリ可溶、分散
または膨潤可能であれば好都合で、さらに好ましくはア
ルカリ可溶性であるのがよい。
【０００９】また、本発明のパターン形成用組成物が含
有する（ｂ）赤外線レーザー吸収物質としては、波長７
００〜２０，０００ｎｍの赤外線レーザー光を強く吸収
し、そのエネルギーを周囲に伝達できる物質であればよ
く、とくに限定されないが、具体的にはカーボンブラッ
ク、樹脂被覆カーボンブラック、グラファイト、亜クロ
ム酸銅、酸化クロムなどの無機顔料、アルミニウム、
銅、亜鉛などの金属、ビスマス、インジウムおよび銅の
合金、ポリフタロシアニン染料、シアニン染料、スクア
リリウム染料、カルコゲンピリロアリーリデン染料、ビ
ス（カルコゲンピリオ）ポリメチレン染料、オキシイン
ドリジン染料、ビス（アミノアリール）ポリメチン染
料、メロシアニン染料、クロコニウム染料、金属チオレ
ート染料、キノイド染料などの染料等が挙げられる。特
にカーボンブラック、樹脂被覆カーボンブラックは赤外
線レーザー光の吸収能が高く好適である。カーボンブラ
ックとしてはファーネスブラック、ランプブラック、チ
ャンネルブラックのいずれも使用でき、また樹脂被覆カ
ーボンブラックとしては前記カーボンブラックをポリア
ミド、ポリエステル、ウレタン樹脂などで被覆した例え
ば御国色素（株）社製のＣＦブラックＲＴ（商品名）、
ＥＸ−１４５５−９０（商品名）などが挙げられる。前
記赤外線レーザー吸収物質の粒径は０．０１〜１０μｍ
の範囲であることが好ましい。前記粒径が０．０１μｍ
未満ではパターン形成用組成物の塗布液の安定性が劣
り、１０μｍを超えると画像記録材料層の均一性が劣る
ようになる。
有する（ｂ）赤外線レーザー吸収物質としては、波長７
００〜２０，０００ｎｍの赤外線レーザー光を強く吸収
し、そのエネルギーを周囲に伝達できる物質であればよ
く、とくに限定されないが、具体的にはカーボンブラッ
ク、樹脂被覆カーボンブラック、グラファイト、亜クロ
ム酸銅、酸化クロムなどの無機顔料、アルミニウム、
銅、亜鉛などの金属、ビスマス、インジウムおよび銅の
合金、ポリフタロシアニン染料、シアニン染料、スクア
リリウム染料、カルコゲンピリロアリーリデン染料、ビ
ス（カルコゲンピリオ）ポリメチレン染料、オキシイン
ドリジン染料、ビス（アミノアリール）ポリメチン染
料、メロシアニン染料、クロコニウム染料、金属チオレ
ート染料、キノイド染料などの染料等が挙げられる。特
にカーボンブラック、樹脂被覆カーボンブラックは赤外
線レーザー光の吸収能が高く好適である。カーボンブラ
ックとしてはファーネスブラック、ランプブラック、チ
ャンネルブラックのいずれも使用でき、また樹脂被覆カ
ーボンブラックとしては前記カーボンブラックをポリア
ミド、ポリエステル、ウレタン樹脂などで被覆した例え
ば御国色素（株）社製のＣＦブラックＲＴ（商品名）、
ＥＸ−１４５５−９０（商品名）などが挙げられる。前
記赤外線レーザー吸収物質の粒径は０．０１〜１０μｍ
の範囲であることが好ましい。前記粒径が０．０１μｍ
未満ではパターン形成用組成物の塗布液の安定性が劣
り、１０μｍを超えると画像記録材料層の均一性が劣る
ようになる。
【００１０】上記に加えて、本発明のパターン形成用組
成物は、赤外線レーザー光の感光性を向上せしめるため
増感剤を含有することができる。前記増感剤としては、
アリールベンゾ（チオ）ビリリウム塩、トリメチンアビ
リリウム塩、ペンタンメチンチオビリリウム塩などのビ
リリウム系化合物、ジイモニウム系化合物などが好まし
く用いられる。また、バインダーの塗膜性を調節するた
め可塑剤や界面活性剤を含有することができ、前記可塑
剤としては、例えばトリフェニルホスファイト、ジメチ
ルフタレート、ジエチルフタレート、ジシクロヘキシル
フタレート、エチレングリコールジベンゾエート、グリ
セリルカーボネート、ポリエチレングリコール、トリブ
チルクエートなどが挙げられ、界面活性剤としてはフッ
化系界面活性剤が挙げられる。さらに、被膜の耐エッチ
ング性を高めるため、公知の光または熱重合性モノマー
および光または熱重合開始剤を含有することができる。
前記重合性モノマーとしては、例えばｔ−ブチルアクリ
レート、ラウリルアクリレート、１，４−ブタンジオー
ルジアクリレート、ヘキサメチレングリコールジアクリ
レートなどが挙げられ、重合開始剤としては、例えばベ
ンゾイン類または安息香酸誘導体などが挙げられる。
成物は、赤外線レーザー光の感光性を向上せしめるため
増感剤を含有することができる。前記増感剤としては、
アリールベンゾ（チオ）ビリリウム塩、トリメチンアビ
リリウム塩、ペンタンメチンチオビリリウム塩などのビ
リリウム系化合物、ジイモニウム系化合物などが好まし
く用いられる。また、バインダーの塗膜性を調節するた
め可塑剤や界面活性剤を含有することができ、前記可塑
剤としては、例えばトリフェニルホスファイト、ジメチ
ルフタレート、ジエチルフタレート、ジシクロヘキシル
フタレート、エチレングリコールジベンゾエート、グリ
セリルカーボネート、ポリエチレングリコール、トリブ
チルクエートなどが挙げられ、界面活性剤としてはフッ
化系界面活性剤が挙げられる。さらに、被膜の耐エッチ
ング性を高めるため、公知の光または熱重合性モノマー
および光または熱重合開始剤を含有することができる。
前記重合性モノマーとしては、例えばｔ−ブチルアクリ
レート、ラウリルアクリレート、１，４−ブタンジオー
ルジアクリレート、ヘキサメチレングリコールジアクリ
レートなどが挙げられ、重合開始剤としては、例えばベ
ンゾイン類または安息香酸誘導体などが挙げられる。
【００１１】本発明のパターン形成用組成物は、上記各
成分を公知の混合機、例えばサンドミル、３本ロールミ
ル、加圧ニーダーなどを用いて混合し調製されるが、
（ａ）成分は、２０〜９５重量％、好ましくは５０〜８
０重量％、（ｂ）成分は１５ー８０重量％、好ましくは
２０〜５０重量％の範囲がよい。
成分を公知の混合機、例えばサンドミル、３本ロールミ
ル、加圧ニーダーなどを用いて混合し調製されるが、
（ａ）成分は、２０〜９５重量％、好ましくは５０〜８
０重量％、（ｂ）成分は１５ー８０重量％、好ましくは
２０〜５０重量％の範囲がよい。
【００１２】本発明のパターン形成用組成物は、その使
用時に溶剤に溶解して使用されるが、該溶剤としては、
エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチ
ルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、ジ
メチルスルホキシド等エチレングリコール、エチレング
リコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノ
エチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテ
ル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテー
ト、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノ
メチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエー
テル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジメ
チルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロ
リドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、γ
−ブチルラクトン、トルエンを挙げることができる。
用時に溶剤に溶解して使用されるが、該溶剤としては、
エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチ
ルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、ジ
メチルスルホキシド等エチレングリコール、エチレング
リコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノ
エチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテ
ル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテー
ト、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノ
メチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエー
テル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジメ
チルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロ
リドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、γ
−ブチルラクトン、トルエンを挙げることができる。
【００１３】本発明の画像記録材料は、上記パターン形
成用組成物を寸法安定な基板に設けることで得られる
が、該寸法安定な基板としては、紙、プラスチックラミ
ネート紙、ポリエチレンテレフタレート、ポリエステ
ル、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリカーボネー
ト、ポリビニルアセテートなどのプラスチック板、銅
板、銅張積層板、アルミニウム板、合金板、ガラス板等
が挙げられる。特に銅板を使用することで良好なグラビ
ア印刷版が、銅張積層板を使用することでプリント基板
が、ガラス板を用いることでディスプレー用基板がそれ
ぞれ得られる。
成用組成物を寸法安定な基板に設けることで得られる
が、該寸法安定な基板としては、紙、プラスチックラミ
ネート紙、ポリエチレンテレフタレート、ポリエステ
ル、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリカーボネー
ト、ポリビニルアセテートなどのプラスチック板、銅
板、銅張積層板、アルミニウム板、合金板、ガラス板等
が挙げられる。特に銅板を使用することで良好なグラビ
ア印刷版が、銅張積層板を使用することでプリント基板
が、ガラス板を用いることでディスプレー用基板がそれ
ぞれ得られる。
【００１４】上記画像記録材料は、パターン形成用組成
物を、ロールコーター、バーコーター、スリットコータ
ー、スプレーコーター、スクリーン印刷機などを用いて
前記基板上に直接塗布するか、またはポリエチレンテレ
フタレートなどのフィルム上に塗布、乾燥して得られた
ドライフィルムを前記基板にドライフィルムの塗布面を
貼り付けたのちフィルムを剥がすことで製造できる。画
像形成材料の厚さはその使用目的によりそれぞれ適宜選
択することができるが、例えばエッチング用の場合には
膜厚２〜２０μｍ程度、めっき用の場合には５〜１００
μｍ程度とするのがよい。
物を、ロールコーター、バーコーター、スリットコータ
ー、スプレーコーター、スクリーン印刷機などを用いて
前記基板上に直接塗布するか、またはポリエチレンテレ
フタレートなどのフィルム上に塗布、乾燥して得られた
ドライフィルムを前記基板にドライフィルムの塗布面を
貼り付けたのちフィルムを剥がすことで製造できる。画
像形成材料の厚さはその使用目的によりそれぞれ適宜選
択することができるが、例えばエッチング用の場合には
膜厚２〜２０μｍ程度、めっき用の場合には５〜１００
μｍ程度とするのがよい。
【００１５】上記画像記録材料は、大気中の酸素から遮
断するためその上にバリア層を設けることができる。該
バリア層は、例えばニトロセルロース、エチルセルロー
ス、アクリレート、メタクリレートおよびスチレンのホ
モポリマーおよびそれらのコポリマー、ポリビニルアル
コールなどを塗布して形成される。
断するためその上にバリア層を設けることができる。該
バリア層は、例えばニトロセルロース、エチルセルロー
ス、アクリレート、メタクリレートおよびスチレンのホ
モポリマーおよびそれらのコポリマー、ポリビニルアル
コールなどを塗布して形成される。
【００１６】この画像記録用材料を用いた記録材料の製
造方法を次に示す。まず、パターン形成用組成物を基板
上に設けた画像記録材料に波長７００〜２０，０００ｎ
ｍの赤外線レーザー光を選択的に照射し、照射された画
像形成材料を昇華または吹き飛ばすことにより画像融除
し、次いでエッチング処理またはめっき処理、剥離処理
をする。このように本発明の記録材料の製造方法では画
像融除後現像処理を行うことなく、エッチング処理また
はめっき処理、剥離処理することで記録材料が製造でき
るので、その製造コストを低くすることができる。ま
た、使用する赤外線レーザー光が波長７００〜２０，０
００ｎｍであることから記録材料の製造を白色灯の下で
行うことができ、作業が容易である上に、赤外線レーザ
ー光の照射条件を調整することで微細な像を解像度よく
形成でき、記録材料を迅速に製造できる。前記波長７０
０〜２０，０００ｎｍの赤外線レーザー光を放射する装
置としては波長７５０〜８８０ｎｍの範囲のレーザー光
を放射する半導体レーザー、波長１０６０ｎｍのレーザ
ー光を放射するＹＡＧレーザー、炭酸ガスレーザーなど
が挙げられる。前記記録材料の製造において、画像記録
材料をドラムに円筒状に取り付け、それに赤外線レーザ
ー光を照射することで生産性は一段と増し低コスト化が
容易となる。かかる製造方法は、可撓性のある画像記録
材料、例えば平版印刷版、グラビア印刷版、プリント基
板を用いる記録材料の製造に有効である。前記記録材料
の製造において使用されるエッチング処理には、塩化鉄
水溶液、塩化銅水溶液などのエッチング剤を用いるのが
よい。また、剥離処理には、希アルカリ性水溶液からな
る剥離剤を用いるのがよい。前記アルカリとしては、リ
チウム、ナトリウム、カリウム等アルカリ金属の水酸化
物、炭酸塩、重炭酸塩、リン酸塩、ピロリン酸塩；ベン
ジルアミン、ブチルアミン等の第１級アミン；ジメチル
アミン、ジベンジルアミン、ジエタノールアミン等の第
２級アミン；トリメチルアミン、トリエチルアミン、ト
リエタノールアミン等の第３級アミン；モルホリン、ピ
ペラジン、ピリジン等の環状アミン、エチレンジアミ
ン、ヘキサメチレンジアミン等のポリアミン；テトラエ
チルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルベンジルア
ンモニウムヒドロキシド、トリメチルフェニルベンジル
アンモニウムヒドロキシド等のアンモニウムヒドロキシ
ド類；トリメチルスルホニウムヒドロキシド、ジエチル
メチルスルホニウムヒドロキシド、ジメチルベンジルス
ルホニウムヒドロキシド等などスルホニウムヒドロキシ
ド類；その他トリメチルアンモニウムヒドロキシド等の
第四級アンモニウム塩類などの１〜１０重量％水溶液が
挙げられる。
造方法を次に示す。まず、パターン形成用組成物を基板
上に設けた画像記録材料に波長７００〜２０，０００ｎ
ｍの赤外線レーザー光を選択的に照射し、照射された画
像形成材料を昇華または吹き飛ばすことにより画像融除
し、次いでエッチング処理またはめっき処理、剥離処理
をする。このように本発明の記録材料の製造方法では画
像融除後現像処理を行うことなく、エッチング処理また
はめっき処理、剥離処理することで記録材料が製造でき
るので、その製造コストを低くすることができる。ま
た、使用する赤外線レーザー光が波長７００〜２０，０
００ｎｍであることから記録材料の製造を白色灯の下で
行うことができ、作業が容易である上に、赤外線レーザ
ー光の照射条件を調整することで微細な像を解像度よく
形成でき、記録材料を迅速に製造できる。前記波長７０
０〜２０，０００ｎｍの赤外線レーザー光を放射する装
置としては波長７５０〜８８０ｎｍの範囲のレーザー光
を放射する半導体レーザー、波長１０６０ｎｍのレーザ
ー光を放射するＹＡＧレーザー、炭酸ガスレーザーなど
が挙げられる。前記記録材料の製造において、画像記録
材料をドラムに円筒状に取り付け、それに赤外線レーザ
ー光を照射することで生産性は一段と増し低コスト化が
容易となる。かかる製造方法は、可撓性のある画像記録
材料、例えば平版印刷版、グラビア印刷版、プリント基
板を用いる記録材料の製造に有効である。前記記録材料
の製造において使用されるエッチング処理には、塩化鉄
水溶液、塩化銅水溶液などのエッチング剤を用いるのが
よい。また、剥離処理には、希アルカリ性水溶液からな
る剥離剤を用いるのがよい。前記アルカリとしては、リ
チウム、ナトリウム、カリウム等アルカリ金属の水酸化
物、炭酸塩、重炭酸塩、リン酸塩、ピロリン酸塩；ベン
ジルアミン、ブチルアミン等の第１級アミン；ジメチル
アミン、ジベンジルアミン、ジエタノールアミン等の第
２級アミン；トリメチルアミン、トリエチルアミン、ト
リエタノールアミン等の第３級アミン；モルホリン、ピ
ペラジン、ピリジン等の環状アミン、エチレンジアミ
ン、ヘキサメチレンジアミン等のポリアミン；テトラエ
チルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルベンジルア
ンモニウムヒドロキシド、トリメチルフェニルベンジル
アンモニウムヒドロキシド等のアンモニウムヒドロキシ
ド類；トリメチルスルホニウムヒドロキシド、ジエチル
メチルスルホニウムヒドロキシド、ジメチルベンジルス
ルホニウムヒドロキシド等などスルホニウムヒドロキシ
ド類；その他トリメチルアンモニウムヒドロキシド等の
第四級アンモニウム塩類などの１〜１０重量％水溶液が
挙げられる。
【００１７】上記記録材料の製造において、用いる画像
記録材料の耐エッチング性が不十分な場合には、パター
ン形成用組成物に被膜形成用樹脂と相溶性のある光また
は熱重合性モノマーおよび光または熱重合開始剤を配合
し、紫外線、赤外線、特に紫外線または熱の照射により
硬化するのがよい。
記録材料の耐エッチング性が不十分な場合には、パター
ン形成用組成物に被膜形成用樹脂と相溶性のある光また
は熱重合性モノマーおよび光または熱重合開始剤を配合
し、紫外線、赤外線、特に紫外線または熱の照射により
硬化するのがよい。
【００１８】
【発明の実施の態様】次に、実施例により本発明をさら
に詳細に説明するが、本発明はこれらの例によってなん
ら限定されるものではない。
に詳細に説明するが、本発明はこれらの例によってなん
ら限定されるものではない。
【００１９】
【実施例】実施例１ ヒドロキシプロピルメチルセルロース（酸価８４：信越
化学社製、商品名ＨＰ−５０）３５ｇ、ポリウレタン系
バインダー（ヘキサメチレンジイソシアネートとポリエ
ステル：ポリエーテル＝１：１のポリジオールとの反応
生成物、共栄社化学社製、商品名ＳＳＵ−１２ＢＣ）５
１．５ｇ、樹脂被覆カーボンブラック（御国色素株式会
社製、商品名ＣＦブラックＲＴ）３５ｇ、およびジイモ
ニウム系増感剤３．５ｇをロール混合機で混合し、それ
にシクロヘキサノン６３４．５ｇを加えてパターン形成
用組成物を調製した。前記組成物を２０μｍ厚のポリエ
ステルフィルム支持体上にバーコーターを用いて塗布
し、８０℃で５分間乾燥したのち、２５μｍ厚のポリエ
チレンフィルムを被覆してドライフィルム用レジストを
作成した。
化学社製、商品名ＨＰ−５０）３５ｇ、ポリウレタン系
バインダー（ヘキサメチレンジイソシアネートとポリエ
ステル：ポリエーテル＝１：１のポリジオールとの反応
生成物、共栄社化学社製、商品名ＳＳＵ−１２ＢＣ）５
１．５ｇ、樹脂被覆カーボンブラック（御国色素株式会
社製、商品名ＣＦブラックＲＴ）３５ｇ、およびジイモ
ニウム系増感剤３．５ｇをロール混合機で混合し、それ
にシクロヘキサノン６３４．５ｇを加えてパターン形成
用組成物を調製した。前記組成物を２０μｍ厚のポリエ
ステルフィルム支持体上にバーコーターを用いて塗布
し、８０℃で５分間乾燥したのち、２５μｍ厚のポリエ
チレンフィルムを被覆してドライフィルム用レジストを
作成した。
【００２０】上記ドライフィルム用レジストのポリエチ
レンフィルムを剥がし、回転ドラム上に取り付けたフレ
キシブルプリント基板に貼着し、ポリエステルフィルム
支持体を剥がして、パターン形成用組成物層の膜厚４．
５μｍの画像記録材料を得た。前記画像記録材料の吸光
度は２．１Ａｂｓ（λ＝１０６０ｎｍ）、２．３Ａｂｓ
（λmax.＝９５０ｎｍ）であった。
レンフィルムを剥がし、回転ドラム上に取り付けたフレ
キシブルプリント基板に貼着し、ポリエステルフィルム
支持体を剥がして、パターン形成用組成物層の膜厚４．
５μｍの画像記録材料を得た。前記画像記録材料の吸光
度は２．１Ａｂｓ（λ＝１０６０ｎｍ）、２．３Ａｂｓ
（λmax.＝９５０ｎｍ）であった。
【００２１】上記ドラム上の画像記録材料にＹＡＧレー
ザー光（出力１２Ｗ、シリンダ径３２６．６ｍｍ、シリ
ンダ回転数５００ｒｐｍ、ビーム径２０μｍ、Ｒｅｓ５
０）を選択的に照射し、画像記録材料を画像融除し、塩
化鉄水溶液からなるエッチング液でエッチング処理し、
１％炭酸ソーダ水溶液で剥離処理し、乾燥してプリント
配線板を得た。プリント配線板には微細な配線図が良好
に描画されていた。
ザー光（出力１２Ｗ、シリンダ径３２６．６ｍｍ、シリ
ンダ回転数５００ｒｐｍ、ビーム径２０μｍ、Ｒｅｓ５
０）を選択的に照射し、画像記録材料を画像融除し、塩
化鉄水溶液からなるエッチング液でエッチング処理し、
１％炭酸ソーダ水溶液で剥離処理し、乾燥してプリント
配線板を得た。プリント配線板には微細な配線図が良好
に描画されていた。
【００２２】実施例２ 実施例１に調製された組成物をロールコーターを用いて
銅めっきされたシリンダー上に塗布したのち、８０℃で
５分間乾燥し、レジスト厚５μｍの被膜を得た。これに
半導体レーザーを選択的に照射し、照射部分を融除した
のち、塩化第二銅のエッチング液で銅をエッチングし、
１％炭酸ソーダ水溶液で被膜を剥離処理し、クロムメッ
キを行いグラビア印刷用シリンダーを作成した。このシ
リンダーを用いてグラビア印刷を行ったところ、解像度
の高い良好な印刷物が得られた。
銅めっきされたシリンダー上に塗布したのち、８０℃で
５分間乾燥し、レジスト厚５μｍの被膜を得た。これに
半導体レーザーを選択的に照射し、照射部分を融除した
のち、塩化第二銅のエッチング液で銅をエッチングし、
１％炭酸ソーダ水溶液で被膜を剥離処理し、クロムメッ
キを行いグラビア印刷用シリンダーを作成した。このシ
リンダーを用いてグラビア印刷を行ったところ、解像度
の高い良好な印刷物が得られた。
【００２３】実施例３ メタアクリル酸／メタアクリル酸メチル／２−ヒドロキ
シプロピルメタアクリレートからなる、酸価１２０、分
子量４５，０００のポリマー７０ｇ、実施例１の樹脂被
覆カーボンブラック３０ｇ、エチレングリコールモノメ
チルエーテル１２０ｇ、シクロヘキサノン８０ｇからな
るパターン形成用組成物を調製し、ロールコーターを用
いて、銅厚３５μｍの銅張積層板に塗布した。次いで、
８０℃で１０分間乾燥し、レジスト厚１０μｍの感光層
を得た。これにＹＡＧレーザー光を選択的に照射し、照
射部分を融除したのち、塩化第二銅のエッチング液で銅
をエッチングし、その後５０℃の２％水酸化ナトリウム
水溶液にて感光層を剥離し、微細銅配線プリント基板を
得た。
シプロピルメタアクリレートからなる、酸価１２０、分
子量４５，０００のポリマー７０ｇ、実施例１の樹脂被
覆カーボンブラック３０ｇ、エチレングリコールモノメ
チルエーテル１２０ｇ、シクロヘキサノン８０ｇからな
るパターン形成用組成物を調製し、ロールコーターを用
いて、銅厚３５μｍの銅張積層板に塗布した。次いで、
８０℃で１０分間乾燥し、レジスト厚１０μｍの感光層
を得た。これにＹＡＧレーザー光を選択的に照射し、照
射部分を融除したのち、塩化第二銅のエッチング液で銅
をエッチングし、その後５０℃の２％水酸化ナトリウム
水溶液にて感光層を剥離し、微細銅配線プリント基板を
得た。
【００２４】実施例４ 実施例３のパターン形成用組成物にトリメチロールプロ
パントリメタクリレート７ｇ、テトラエチレングリコー
ルジアクリレート１５ｇ、ベンゾフェノン３ｇ、ベンゾ
トリアゾール０．３ｇを加えてものを銅張積層板に乾燥
後の膜厚が３０μｍになるように塗布した。次いで実施
例３と同様にＹＡＧレーザー光を選択的に照射し、照射
部分を融除したのち、全面に３００〜４００ｎｍの紫外
線を照射し硫酸銅めっき液にて２０μｍの厚さの銅めっ
きを行った。その後、５０℃の３％水酸化ナトリウム水
溶液で感光層を剥離し、塩化第二銅のエッチング液にて
エッチングし、微細な銅配線プリント基板を得た。
パントリメタクリレート７ｇ、テトラエチレングリコー
ルジアクリレート１５ｇ、ベンゾフェノン３ｇ、ベンゾ
トリアゾール０．３ｇを加えてものを銅張積層板に乾燥
後の膜厚が３０μｍになるように塗布した。次いで実施
例３と同様にＹＡＧレーザー光を選択的に照射し、照射
部分を融除したのち、全面に３００〜４００ｎｍの紫外
線を照射し硫酸銅めっき液にて２０μｍの厚さの銅めっ
きを行った。その後、５０℃の３％水酸化ナトリウム水
溶液で感光層を剥離し、塩化第二銅のエッチング液にて
エッチングし、微細な銅配線プリント基板を得た。
【００２５】
【発明の効果】本発明のパターン形成用組成物は波長７
００〜２００００の赤外線レーザー光に高感度に融除さ
れ高精度の画像を形成できる。前記パターン形成用組成
物を用いて作成した画像記録材料に赤外線レーザー光を
選択的に照射し、画像融除し、エッチング処理またはめ
っき処理、剥離処理することで、高解像度の記録材料が
製造でき、しかもその製造において現像処理をする必要
がないことからその製造コストは低く、かつ生産性が高
い。
００〜２００００の赤外線レーザー光に高感度に融除さ
れ高精度の画像を形成できる。前記パターン形成用組成
物を用いて作成した画像記録材料に赤外線レーザー光を
選択的に照射し、画像融除し、エッチング処理またはめ
っき処理、剥離処理することで、高解像度の記録材料が
製造でき、しかもその製造において現像処理をする必要
がないことからその製造コストは低く、かつ生産性が高
い。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 関 典央 神奈川県川崎市中原区中丸子150番地 東 京応化工業株式会社内 Ｆターム(参考） 2H025 AB01 AB15 AB17 AC08 AD03 BC31 CA00 CA28 CB00 CB01 CB02 CB04 CB06 CB08 CB11 CB14 CB16 CB19 CB20 CB22 CB26 CB28 CB30 CB52 CC11 CC12 FA10 FA21 FA24 FA29 FA30 FA41 FA43 FA50
Claims (15)
- 【請求項１】（ａ）被膜形成能を有する樹脂および
（ｂ）赤外線レーザー吸収物質を含有することを特徴と
するパターン形成用組成物。 - 【請求項２】（ａ）成分がフェノール樹脂、ウレタン樹
脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、
メラミン樹脂、カーボネート樹脂、スチレン樹脂、フッ
素樹脂、セルロース類、糖類、ビニル重合体、蛋白質、
ロジン、ジエン重合体からなる群から選ばれる少なくと
も１種であることを特徴とする請求項１記載のパターン
形成用組成物。 - 【請求項３】（ａ）成分がアルカリ可溶、分散または膨
潤可能のいずれかであることを特徴とする請求項１また
は２記載のパターン形成用組成物。 - 【請求項４】（ｂ）成分が波長７００〜２０，０００ｎ
ｍの赤外線レーザー光を強く吸収する物質であることを
特徴とする請求項１記載のパターン形成用組成物。 - 【請求項５】（ｂ）成分がカーボンブラック又は樹脂被
覆カーボンブラックであることを特徴とする請求項４記
載のパターン形成用組成物。 - 【請求項６】（ａ）成分が２０〜９５重量％および
（ｂ）成分が５〜８０重量％であることを特徴とする請
求項１記載のパターン形成用組成物。 - 【請求項７】（ａ）成分が５０〜８０重量％および
（ｂ）成分が２０〜５０重量％であることを特徴とする
請求項６記載のパターン形成用組成物。 - 【請求項８】（ｃ）重合性モノマーおよび（ｄ）重合開
始剤をさらに含有することを特徴とする請求項１ないし
７項のいずれか１記載のパターン形成用組成物。 - 【請求項９】（ｅ）増感剤をさらに含有することを特徴
とする請求項１ないし８項のいずれか１記載のパターン
形成用組成物。 - 【請求項１０】（ｅ）成分がビリリウム系化合物、ジイ
モニウム系化合物であることを特徴とする請求項９記載
のパターン形成用組成物。 - 【請求項１１】請求項１〜１０のいずれか１記載のパタ
ーン形成用組成物層が寸法安定な基板上に設けられてい
ることを特徴とする画像記録材料。 - 【請求項１２】請求項１１記載の画像記録材料に赤外線
レーザー光を選択的に照射し、描画融除したのち、エッ
チング処理、剥離処理することを特徴とする記録材料の
製造方法。 - 【請求項１３】描画融除とエッチング処理の間に、紫外
線照射または熱処理により画像記録材料を硬化させるこ
とを特徴とする請求項１２記載の記録材料の製造方法。 - 【請求項１４】請求項１１記載の画像記録材料に赤外線
レーザーを照射し、画像融除したのち、めっき処理、剥
離処理をすることを特徴とする記録材料の製造方法。 - 【請求項１５】描画融除とめっき処理の間に、紫外線照
射または熱処理により画像記録材料を硬化させることを
特徴とする請求項１４記載の記録材料の製造方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19501799A JP3761359B2 (ja) | 1999-07-08 | 1999-07-08 | グラビア印刷版材の製造方法 |
| TW089113525A TWI281096B (en) | 1999-07-08 | 2000-07-07 | Image forming composition, image recording material comprising the same, and process of image formation |
| EP00114094A EP1067436A1 (en) | 1999-07-08 | 2000-07-07 | Image forming composition, image recording material comprising the same, and process of image formation |
| KR1020000038830A KR20010049734A (ko) | 1999-07-08 | 2000-07-07 | 상 형성 조성물, 이를 포함하는 상 기록 물질 및 상 형성방법 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19501799A JP3761359B2 (ja) | 1999-07-08 | 1999-07-08 | グラビア印刷版材の製造方法 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001022059A true JP2001022059A (ja) | 2001-01-26 |
| JP3761359B2 JP3761359B2 (ja) | 2006-03-29 |
Family
ID=16334158
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19501799A Expired - Fee Related JP3761359B2 (ja) | 1999-07-08 | 1999-07-08 | グラビア印刷版材の製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP1067436A1 (ja) |
| JP (1) | JP3761359B2 (ja) |
| KR (1) | KR20010049734A (ja) |
| TW (1) | TWI281096B (ja) |
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| JP2008046666A (ja) * | 2003-07-03 | 2008-02-28 | Think Laboratory Co Ltd | 製版方法 |
| JP2008070901A (ja) * | 2003-07-03 | 2008-03-27 | Think Laboratory Co Ltd | ポジ型感光性組成物 |
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| JP2020001261A (ja) * | 2018-06-28 | 2020-01-09 | サカタインクス株式会社 | レーザーマーキング用インキ組成物、レーザーマーキング用インキ層、積層体、レーザーマーキング方法 |
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| US9096759B2 (en) | 2011-12-21 | 2015-08-04 | E I Du Pont De Nemours And Company | Printing form and process for preparing the printing form with curable composition having solvent-free epoxy resin |
| CN102591137B (zh) * | 2011-12-23 | 2014-10-22 | 乐凯华光印刷科技有限公司 | 一种柔性版计算机直接制版用的烧蚀黑膜及其制备方法 |
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| GB2273366B (en) * | 1992-11-18 | 1996-03-27 | Du Pont | Forming images on radiation-sensitive plates |
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| JPH0962005A (ja) * | 1995-06-14 | 1997-03-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | ネガ型感光性組成物 |
| DE19536806A1 (de) * | 1995-10-02 | 1997-04-03 | Basf Lacke & Farben | Verfahren zur Herstellung von photopolymeren Tiefdruckplatten |
| EP0819985B1 (en) * | 1996-07-19 | 2002-06-05 | Agfa-Gevaert | A radiation sensitive imaging element and a method for producing lithographic plates therewith |
| EP0819980B1 (en) * | 1996-07-19 | 2000-05-31 | Agfa-Gevaert N.V. | An IR radiation-sensitive imaging element and a method for producing lithographic plates therewith |
| JP3798504B2 (ja) * | 1997-04-21 | 2006-07-19 | 富士写真フイルム株式会社 | ネガ型画像記録材料 |
-
1999
- 1999-07-08 JP JP19501799A patent/JP3761359B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2000
- 2000-07-07 TW TW089113525A patent/TWI281096B/zh not_active IP Right Cessation
- 2000-07-07 EP EP00114094A patent/EP1067436A1/en not_active Withdrawn
- 2000-07-07 KR KR1020000038830A patent/KR20010049734A/ko not_active Application Discontinuation
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| JP4732420B2 (ja) * | 2003-07-03 | 2011-07-27 | 株式会社シンク・ラボラトリー | 製版方法 |
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
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