JPH055985A - アルコキシアルキルエステル溶解抑制剤を含んでなる光画像形成性組成物 - Google Patents
アルコキシアルキルエステル溶解抑制剤を含んでなる光画像形成性組成物Info
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 水性基剤に溶解性のバインダー、アルコキシ
アルキルエステルを含んでなる酸感応性溶解抑制剤、お
よび光化学酸源を含んでなる光画像形成性組成物。 【効果】 露光物質の耐現像液性が優れているために優
れた解像度および感度のプリントが得られる。
アルキルエステルを含んでなる酸感応性溶解抑制剤、お
よび光化学酸源を含んでなる光画像形成性組成物。 【効果】 露光物質の耐現像液性が優れているために優
れた解像度および感度のプリントが得られる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光画像形成性組成物、
特に、フェノール樹脂用の溶解抑制剤を含む光画像形成
性組成物に関する。
特に、フェノール樹脂用の溶解抑制剤を含む光画像形成
性組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年の予備印刷段階におけるテキストお
よびグラフィクスの操作の進歩により、レーザースキャ
ナーやプロジェクションカメラのような低エネルギー装
置による露光に適したリソグラフプレートが必要となっ
てきている。これらの装置は、しばしば、狭い波長範囲
の化学作用線を発し、従って、有用なリソグラフプレー
トの感度は走査時間および露光時間を短縮するために非
常に高いだけでなく、露光装置の出力に適合するように
増感しなくてはならない。
よびグラフィクスの操作の進歩により、レーザースキャ
ナーやプロジェクションカメラのような低エネルギー装
置による露光に適したリソグラフプレートが必要となっ
てきている。これらの装置は、しばしば、狭い波長範囲
の化学作用線を発し、従って、有用なリソグラフプレー
トの感度は走査時間および露光時間を短縮するために非
常に高いだけでなく、露光装置の出力に適合するように
増感しなくてはならない。
【０００３】そのようなレジストが高速ポジプレートと
して機能するために、感度の要求以外に種々の他の特性
が必要である。その様な特性には、全て相互に関連し得
る、現像露出寛容度、解像度およびプリント寿命が含ま
れる。プリント寿命は、画像を形成する樹脂の(とりわ
け)耐久性および接着性により支配され、特にこれらの
樹脂として陽極酸化アルミニウム上に塗布され広く使用
されているフェノール樹脂が、画像耐久性を更に向上さ
せるためにしばしば(現像に続いて)後焼付に付される。
して機能するために、感度の要求以外に種々の他の特性
が必要である。その様な特性には、全て相互に関連し得
る、現像露出寛容度、解像度およびプリント寿命が含ま
れる。プリント寿命は、画像を形成する樹脂の(とりわ
け)耐久性および接着性により支配され、特にこれらの
樹脂として陽極酸化アルミニウム上に塗布され広く使用
されているフェノール樹脂が、画像耐久性を更に向上さ
せるためにしばしば(現像に続いて)後焼付に付される。
【０００４】現像露出寛容度に関して、理想的な組成に
よれば、塗膜の露光領域を迅速かつ完全に現像液に溶解
させ非露光領域はそのままにしておくことが可能であ
る。実際には、主に、アルカリ性現像液により更に可溶
化されない場合にも通常ある程度攻撃されるフェノール
樹脂の使用の結果として、このことはあってもめったに
達成されない。ポジプリント形成技術の一部は、露光領
域を効果的に洗除しつつ非露光領域への攻撃を最少限に
するように現像条件を調節することに存する。変化し得
るパラメーターは、現像時間、温度および現像液のｐＨ
を含み得る。一つの極端な場合、現像条件が激しすぎる
と、樹脂画像から多くの塗膜が失われ、プリント寿命が
短縮される。他の極端な場合、現像条件が穏やかすぎる
ことにより、露光領域の溶解が不完全となり、プリント
上に背景画像が形成される。
よれば、塗膜の露光領域を迅速かつ完全に現像液に溶解
させ非露光領域はそのままにしておくことが可能であ
る。実際には、主に、アルカリ性現像液により更に可溶
化されない場合にも通常ある程度攻撃されるフェノール
樹脂の使用の結果として、このことはあってもめったに
達成されない。ポジプリント形成技術の一部は、露光領
域を効果的に洗除しつつ非露光領域への攻撃を最少限に
するように現像条件を調節することに存する。変化し得
るパラメーターは、現像時間、温度および現像液のｐＨ
を含み得る。一つの極端な場合、現像条件が激しすぎる
と、樹脂画像から多くの塗膜が失われ、プリント寿命が
短縮される。他の極端な場合、現像条件が穏やかすぎる
ことにより、露光領域の溶解が不完全となり、プリント
上に背景画像が形成される。
【０００５】現像過剰または現像不足も得られる解像度
に影響を与える。高品質のカラープリントでは、１５０
ラインスクリーンまたはそれより微細なスクリーンを用
いて得られる、約３％〜９７％の範囲のドットによるハ
ーフトーン画像の再生が要求される。従って、現像条件
は、陰点を全く消滅させ得る明点を過剰に攻撃すること
なく陰点を開かせなくてはならない。露光領域を完全に
溶解させる現像条件下に非露光領域からの塗膜重量損失
が５％〜１５％であれば、許容できる結果が得られると
経験的に言える。
に影響を与える。高品質のカラープリントでは、１５０
ラインスクリーンまたはそれより微細なスクリーンを用
いて得られる、約３％〜９７％の範囲のドットによるハ
ーフトーン画像の再生が要求される。従って、現像条件
は、陰点を全く消滅させ得る明点を過剰に攻撃すること
なく陰点を開かせなくてはならない。露光領域を完全に
溶解させる現像条件下に非露光領域からの塗膜重量損失
が５％〜１５％であれば、許容できる結果が得られると
経験的に言える。
【０００６】プレートメーカーにとっての都合の良さの
観点から見ると、プレートが、厳しく制御された条件で
なく、所定の範囲の現像溶液を使用できるように、充分
な現像露出寛容度を有することが望ましい。
観点から見ると、プレートが、厳しく制御された条件で
なく、所定の範囲の現像溶液を使用できるように、充分
な現像露出寛容度を有することが望ましい。
【０００７】ポジレジストは、通常、現像液、例えば水
性アルカリ中に容易に溶解するフェノール樹脂のような
樹脂バインダーを含んでなる。現像液中での樹脂の溶解
を遅らせるまたは全体として抑制する性質を有する一種
またはそれ以上の光感応性化合物を樹脂に添加する。適
当な波長および強度の光に露光することにより、光感応
性化合物が不溶化作用を示さないまたは可溶化を補助さ
えし得る他の化学種に転化する。この手段により、樹脂
の最初の溶解性が回復する。この方法は光可溶化として
知られている。
性アルカリ中に容易に溶解するフェノール樹脂のような
樹脂バインダーを含んでなる。現像液中での樹脂の溶解
を遅らせるまたは全体として抑制する性質を有する一種
またはそれ以上の光感応性化合物を樹脂に添加する。適
当な波長および強度の光に露光することにより、光感応
性化合物が不溶化作用を示さないまたは可溶化を補助さ
えし得る他の化学種に転化する。この手段により、樹脂
の最初の溶解性が回復する。この方法は光可溶化として
知られている。
【０００８】実質的に全ての市販のポジ型金属上樹脂プ
レートで、フェノール樹脂が溶解抑制剤としての光感応
性ジアゾ酸化物と組み合わせられている。この技術が、
例えば、ブリンクマン(Ｂrinckman)ら、アンコンヴェン
ショナル・イメージング・プロセシズ(Ｕnconventional
Ｉmaging Ｐrocesses)、フォーカル・プレス(ＦocalＰ
ress)、ニュー・ヨーク、１９８７年、６５〜６７頁に記
載されている。それは低い感度(１０6erg／cm2、すなわ
ち１００mＪ／cm2)を有し、近紫外線中央付近の固有の
感度領域を越えては増感されないと考えられる
レートで、フェノール樹脂が溶解抑制剤としての光感応
性ジアゾ酸化物と組み合わせられている。この技術が、
例えば、ブリンクマン(Ｂrinckman)ら、アンコンヴェン
ショナル・イメージング・プロセシズ(Ｕnconventional
Ｉmaging Ｐrocesses)、フォーカル・プレス(ＦocalＰ
ress)、ニュー・ヨーク、１９８７年、６５〜６７頁に記
載されている。それは低い感度(１０6erg／cm2、すなわ
ち１００mＪ／cm2)を有し、近紫外線中央付近の固有の
感度領域を越えては増感されないと考えられる
【０００９】米国特許第４,７０８,９２５号は、ポジ型
フォトレジストとして、オニウム、好ましくはヨードニ
ウム塩とフェノール樹脂との組合せを開示している。こ
れは、現像速度(１０5erg／cm2、すなわち１０mＪ／c
m2)および全可視光領域から赤外線にかけて増感される
性能の両方においてかなりの進歩を示す。それにも拘わ
らず、現像速度の更なる増加が望ましく、この系の現像
露出寛容度は多くの用途に不充分である。
フォトレジストとして、オニウム、好ましくはヨードニ
ウム塩とフェノール樹脂との組合せを開示している。こ
れは、現像速度(１０5erg／cm2、すなわち１０mＪ／c
m2)および全可視光領域から赤外線にかけて増感される
性能の両方においてかなりの進歩を示す。それにも拘わ
らず、現像速度の更なる増加が望ましく、この系の現像
露出寛容度は多くの用途に不充分である。
【００１０】この種の二成分レジストから得られる現像
速度は、初期光化学の増幅不足により制限される。ネガ
型光ポリマーレジストは、単一の光子が数十または数百
の不溶化結合を形成する連鎖反応を開始し得ることによ
り高い感度を達成する。従って、近年、高速ポジ型フォ
トレジストのために、各々が光発生酸により触媒される
反応を利用する、多くの光触媒性可溶化系が提案され
た。一つのそのような系は、ウィルソン(Ｗillson)によ
り開示されたｔ−アルキルカーボネートポリマーを含む
〔例えば、ヤン(Ｊiang，Ｙ)、フレヒト(Ｆrechet，Ｊ.
Ｍ.Ｊ.)、ウィルソン(Ｗillson，Ｃ.Ｇ.)、ポリマー・
ブレティン(Ｐolymer Ｂulletin)、１９８７年、１７、
１〜６、フレヒト、ブシャード(Ｂouchard，Ｆ)、ヒュ
ーリハン(Ｈoulihan,Ｆ.Ｍ.)、キスカ(Ｋyyczka,Ｂ.)、
アイヒラー(Ｅichler，Ｅ)、クレカーク(Ｃlecak,
Ｎ.)、ウィルソン、ジェイ・イマグ・サイ(Ｊ．Ｉmag．
Ｓci．)、１９８６年、３０、５９〜６４〕。これらの
系は、ｔ−アルキルカーボネート基を側鎖としてまたは
ポリマー主鎖中に含み、それは光発生酸の存在下に触媒
的に分解し、顕著な極性変化(極性基の放出)または溶解
性もしくは揮発性フラグメントへの解重合を引き起こ
す。これらの物質は、特に、半導体マスクとして用いる
ように設計されており、酸発生剤としてのオニウム塩の
みを用いて提供される、すなわち、バインダーとしての
更なるフェノール樹脂を含まない。よって、それらは現
実的なランレングスを有するプリントプレートとして機
能するには適していない。
速度は、初期光化学の増幅不足により制限される。ネガ
型光ポリマーレジストは、単一の光子が数十または数百
の不溶化結合を形成する連鎖反応を開始し得ることによ
り高い感度を達成する。従って、近年、高速ポジ型フォ
トレジストのために、各々が光発生酸により触媒される
反応を利用する、多くの光触媒性可溶化系が提案され
た。一つのそのような系は、ウィルソン(Ｗillson)によ
り開示されたｔ−アルキルカーボネートポリマーを含む
〔例えば、ヤン(Ｊiang，Ｙ)、フレヒト(Ｆrechet，Ｊ.
Ｍ.Ｊ.)、ウィルソン(Ｗillson，Ｃ.Ｇ.)、ポリマー・
ブレティン(Ｐolymer Ｂulletin)、１９８７年、１７、
１〜６、フレヒト、ブシャード(Ｂouchard，Ｆ)、ヒュ
ーリハン(Ｈoulihan,Ｆ.Ｍ.)、キスカ(Ｋyyczka,Ｂ.)、
アイヒラー(Ｅichler，Ｅ)、クレカーク(Ｃlecak,
Ｎ.)、ウィルソン、ジェイ・イマグ・サイ(Ｊ．Ｉmag．
Ｓci．)、１９８６年、３０、５９〜６４〕。これらの
系は、ｔ−アルキルカーボネート基を側鎖としてまたは
ポリマー主鎖中に含み、それは光発生酸の存在下に触媒
的に分解し、顕著な極性変化(極性基の放出)または溶解
性もしくは揮発性フラグメントへの解重合を引き起こ
す。これらの物質は、特に、半導体マスクとして用いる
ように設計されており、酸発生剤としてのオニウム塩の
みを用いて提供される、すなわち、バインダーとしての
更なるフェノール樹脂を含まない。よって、それらは現
実的なランレングスを有するプリントプレートとして機
能するには適していない。
【００１１】三種類の本質的成分、すなわち、樹脂バイ
ンダー、光発生酸源および分解可能な化合物を含む種々
のレジスト組成物が知られている。
ンダー、光発生酸源および分解可能な化合物を含む種々
のレジスト組成物が知られている。
【００１２】リサーチ・ディスクロージャー(Ｒesearch
Ｄisclosure)、Ｎo.２７,７２１(１９８７年５月)は、
上記カーボネートポリマーとオニウム塩およびフェノー
ル樹脂ではなく芳香族ビニルポリマー(例えば、ポリス
チレン)である樹脂バインダーとの組合せを開示してい
る。ここで引用した例は、プレートがいかに現像される
かを示しておらず、感度(実施例２)が１５０mＪ／cm
2(すなわち１.５×１０6erg／cm2)と非常に低い。
Ｄisclosure)、Ｎo.２７,７２１(１９８７年５月)は、
上記カーボネートポリマーとオニウム塩およびフェノー
ル樹脂ではなく芳香族ビニルポリマー(例えば、ポリス
チレン)である樹脂バインダーとの組合せを開示してい
る。ここで引用した例は、プレートがいかに現像される
かを示しておらず、感度(実施例２)が１５０mＪ／cm
2(すなわち１.５×１０6erg／cm2)と非常に低い。
【００１３】ヨーロッパ特許出願２４９,１３９は、フ
ェノール樹脂、オニウム塩、および酸感応性化合物の組
合せを開示している。最後の成分は、好ましくは、ｔ−
ブチルエステルまたはｔ−ブチルカーボネートである。
この組成は、集積回路等の製造に有用である。可視光ま
たは近紫外線の開示された最も高い感度は３〜４×１０
5erg(３０〜４０mＪ／cm2)である。
ェノール樹脂、オニウム塩、および酸感応性化合物の組
合せを開示している。最後の成分は、好ましくは、ｔ−
ブチルエステルまたはｔ−ブチルカーボネートである。
この組成は、集積回路等の製造に有用である。可視光ま
たは近紫外線の開示された最も高い感度は３〜４×１０
5erg(３０〜４０mＪ／cm2)である。
【００１４】西ドイツ特許３,６０１,２６４および特開
昭６２−０５９９４９号公報は、ヨードニウム塩、フェ
ノール樹脂バインダーと、それぞれ銀エーテル化合物お
よび銀ウレイド化合物との組合せを開示している。解像
度または現像露出寛容度についての情報は提供されてい
ない。銀エーテル化合物を含む組成は、ジアゾオキシド
対照より現像が１０倍速いことが示されている。
昭６２−０５９９４９号公報は、ヨードニウム塩、フェ
ノール樹脂バインダーと、それぞれ銀エーテル化合物お
よび銀ウレイド化合物との組合せを開示している。解像
度または現像露出寛容度についての情報は提供されてい
ない。銀エーテル化合物を含む組成は、ジアゾオキシド
対照より現像が１０倍速いことが示されている。
【００１５】米国特許第３,９１５,７０４号、同第３,
９１５,７０６号、同第３,９１７,４８３号、同第３,９
３２,５１４号、同第４,２４７,６１１号、同第４,２４
８,９５７号、同第４,２５０,２４７号および同第４,３
１１,７８２号は、フェノール樹脂バインダー、トリア
ジン誘導体および酸源としてのジアゾニウム塩、並び
に、それぞれ、ポリアセタール／ポリケタール、エノー
ルエーテル、Ｎ−アシルイミノカーボネート、およびポ
リマーオルトエステル分解可能化合物を開示している。
それらの実施例によれば、これらの方法により製造され
たオフセットプレートは、１１０cmで５kＷランプに２
０秒露光することを必要とする(ポリ(オルトエステル)
の場合は１５秒)。現像露出寛容度または解像度につい
ては示されていない。
９１５,７０６号、同第３,９１７,４８３号、同第３,９
３２,５１４号、同第４,２４７,６１１号、同第４,２４
８,９５７号、同第４,２５０,２４７号および同第４,３
１１,７８２号は、フェノール樹脂バインダー、トリア
ジン誘導体および酸源としてのジアゾニウム塩、並び
に、それぞれ、ポリアセタール／ポリケタール、エノー
ルエーテル、Ｎ−アシルイミノカーボネート、およびポ
リマーオルトエステル分解可能化合物を開示している。
それらの実施例によれば、これらの方法により製造され
たオフセットプレートは、１１０cmで５kＷランプに２
０秒露光することを必要とする(ポリ(オルトエステル)
の場合は１５秒)。現像露出寛容度または解像度につい
ては示されていない。
【００１６】オルトエステルが、酸感応性溶解抑制剤と
し使用されている(西ドイツ特許出願２,６１０,８４２
参照)。
し使用されている(西ドイツ特許出願２,６１０,８４２
参照)。
【００１７】米国特許第４,１０１,３２３号、同第４,
８０６,４４８号およびリサーチ・ディスクロージャー
Ｎo.２７,３３１(１９８７年１月)は、β−ケトカルボ
ニル化合物またはポリ(フタルアルデヒド)の環式アセタ
ールまたはケタールと共に、フェノール樹脂とオニウム
塩を組み合わせて用いることを開示している。更に、リ
サーチ・ディスクロージャーは、他の分解可能ポリマー
化合物を第３成分として使用して、詳細には記載してい
ないが現像速度および現像露出寛容度を向上させ得るこ
とを示唆している。引用した米国特許に開示されたオフ
セットプレートは、０.１５増加グレースケール上で３
段階進むために５ｋＷ光源に６５cｍで６０秒間露出す
ることを必要とする。解像度または現像露出寛容度につ
いての記載はない。
８０６,４４８号およびリサーチ・ディスクロージャー
Ｎo.２７,３３１(１９８７年１月)は、β−ケトカルボ
ニル化合物またはポリ(フタルアルデヒド)の環式アセタ
ールまたはケタールと共に、フェノール樹脂とオニウム
塩を組み合わせて用いることを開示している。更に、リ
サーチ・ディスクロージャーは、他の分解可能ポリマー
化合物を第３成分として使用して、詳細には記載してい
ないが現像速度および現像露出寛容度を向上させ得るこ
とを示唆している。引用した米国特許に開示されたオフ
セットプレートは、０.１５増加グレースケール上で３
段階進むために５ｋＷ光源に６５cｍで６０秒間露出す
ることを必要とする。解像度または現像露出寛容度につ
いての記載はない。
【００１８】米国特許第３,７７９,７７８号は、フェノ
ール樹脂、酸源、およびビスフェノールのピラニルエー
テルを含む種々の分解可能化合物の組合せを開示してい
る。酸源は、ポリハロゲン化合物、好ましくはポリハロ
ゲン化トリアジン誘導体である。
ール樹脂、酸源、およびビスフェノールのピラニルエー
テルを含む種々の分解可能化合物の組合せを開示してい
る。酸源は、ポリハロゲン化合物、好ましくはポリハロ
ゲン化トリアジン誘導体である。
【００１９】
【発明が解決しようとする課題】これらの従来技術の刊
行物はいずれも、露光物質の耐現像液性またはいかにそ
れを最大限にするかの重要性を教示していない。それら
の刊行物は、特定の化合物の光触媒分解により得られた
光溶解性に関するのみである。
行物はいずれも、露光物質の耐現像液性またはいかにそ
れを最大限にするかの重要性を教示していない。それら
の刊行物は、特定の化合物の光触媒分解により得られた
光溶解性に関するのみである。
【００２０】
【課題を解決するための手段】本発明は、（ａ）水性基
剤に溶解性のバインダー、（ｂ）アルコキシアルキルエ
ステルを含んでなる酸感応性溶解抑制剤および（ｃ）光
化学酸源(acid progenitor)を含む光画像形成性組成物
を提供する。
剤に溶解性のバインダー、（ｂ）アルコキシアルキルエ
ステルを含んでなる酸感応性溶解抑制剤および（ｃ）光
化学酸源(acid progenitor)を含む光画像形成性組成物
を提供する。
【００２１】本発明は、アルコキシアルキルエステル
を、フェノール系光可溶化組成物において溶解抑制剤と
して効果的に使用することができることを教示してい
る。この物質は、カルボン酸の形成による分解後に低ｐ
Ｈ現像液中に溶解するという更なる利点を有する。大部
分の他の溶解抑制剤は、弱酸、代表的にはフェノール類
を形成するので、高いｐＨの現像液の使用を必要とす
る。本発明のアルコキシアルキルエステルは、従来技術
において知られている溶解抑制剤より大きな酸感応性も
示し、このことにより、リソグラフの用途に用いると現
像速度が増加する。これらのエステルのもう一つの利点
は、熱安定性が高く、それ故に貯蔵安定性が優れている
ことである。
を、フェノール系光可溶化組成物において溶解抑制剤と
して効果的に使用することができることを教示してい
る。この物質は、カルボン酸の形成による分解後に低ｐ
Ｈ現像液中に溶解するという更なる利点を有する。大部
分の他の溶解抑制剤は、弱酸、代表的にはフェノール類
を形成するので、高いｐＨの現像液の使用を必要とす
る。本発明のアルコキシアルキルエステルは、従来技術
において知られている溶解抑制剤より大きな酸感応性も
示し、このことにより、リソグラフの用途に用いると現
像速度が増加する。これらのエステルのもう一つの利点
は、熱安定性が高く、それ故に貯蔵安定性が優れている
ことである。
【００２２】本発明のもう一つの態様において、予備増
感リソグラフプレートを提供する。予備増感リソグラフ
プレートは、上記光画像形成性組成物で被覆したリソグ
ラフ基材を含んでなる。
感リソグラフプレートを提供する。予備増感リソグラフ
プレートは、上記光画像形成性組成物で被覆したリソグ
ラフ基材を含んでなる。
【００２３】更にもう一つの態様において、光画像の現
像方法を提供する。この方法は、予備増感リソグラフプ
レートをパターン(例えばポジまたはネガパターン)の下
で光に露出し、その後、得られた画像を、非露出領域を
除去するアルカリ水溶液を用いて現像することを含んで
なる。好ましい態様において、光は紫外線であり、アル
カリ性水溶液はメタケイ酸ナトリウム水溶液である。
像方法を提供する。この方法は、予備増感リソグラフプ
レートをパターン(例えばポジまたはネガパターン)の下
で光に露出し、その後、得られた画像を、非露出領域を
除去するアルカリ水溶液を用いて現像することを含んで
なる。好ましい態様において、光は紫外線であり、アル
カリ性水溶液はメタケイ酸ナトリウム水溶液である。
【００２４】本発明の他の要旨および利点は、詳細な説
明、実施例、および特許請求の範囲から明らかになろ
う。
明、実施例、および特許請求の範囲から明らかになろ
う。
【００２５】本発明の溶解抑制剤中に用いられるアルコ
キシアルキルエステルは、式：
キシアルキルエステルは、式：
【化２】 〔式中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3はそれぞれ炭素原子数１〜
１８のアルキルまたは要すればハロゲン、メチルもしく
はエチルで置換されていてよいフェニルを表す、または
Ｒ1、Ｒ2およびＲ3の任意の二つが一緒になって炭素原
子数５〜１８の環構造を形成することができる、または
Ｒ1、Ｒ2およびＲ3が一緒になって炭素原子数８〜１８
の多環式構造を形成することができ、好ましくはＲ1は
水素、Ｒ2およびＲ3はフェニルであり、Ｒ4およびＲ5は
それぞれＣ1〜Ｃ6アルキルまたは水素を表し、Ｒ4およ
びＲ5の少なくとも一つが水素でなくてはならなず、好
ましくはＲ4は水素およびＲ5はメチルまたはハロゲンで
あり、Ｒ6は炭素原子数１〜６の低級アルキル、好まし
くはメチルまたはエチルを表し、またはＲ5とＲ6が一緒
になって環式アルキルエーテル基、好ましくはテトラヒ
ドロフリルまたはテトラヒドロピラニルを形成する。〕
で示される。
１８のアルキルまたは要すればハロゲン、メチルもしく
はエチルで置換されていてよいフェニルを表す、または
Ｒ1、Ｒ2およびＲ3の任意の二つが一緒になって炭素原
子数５〜１８の環構造を形成することができる、または
Ｒ1、Ｒ2およびＲ3が一緒になって炭素原子数８〜１８
の多環式構造を形成することができ、好ましくはＲ1は
水素、Ｒ2およびＲ3はフェニルであり、Ｒ4およびＲ5は
それぞれＣ1〜Ｃ6アルキルまたは水素を表し、Ｒ4およ
びＲ5の少なくとも一つが水素でなくてはならなず、好
ましくはＲ4は水素およびＲ5はメチルまたはハロゲンで
あり、Ｒ6は炭素原子数１〜６の低級アルキル、好まし
くはメチルまたはエチルを表し、またはＲ5とＲ6が一緒
になって環式アルキルエーテル基、好ましくはテトラヒ
ドロフリルまたはテトラヒドロピラニルを形成する。〕
で示される。
【００２６】本発明の光化学酸源は、ジアリールヨード
ニウム塩またはハロメチル化トリアジンを含んでなる。
ニウム塩またはハロメチル化トリアジンを含んでなる。
【００２７】好ましくは、ジアリールヨードニウム塩は
下記式の一つにより表される：
下記式の一つにより表される：
【化３】 〔式中、ＡおよびＢは、炭素原子数の合計が４〜２０で
あるそれぞれ置換または非置換のアリール基、Ｗは、炭
素−炭素結合、酸素、硫黄、
あるそれぞれ置換または非置換のアリール基、Ｗは、炭
素−炭素結合、酸素、硫黄、
【化４】 （ここで、Ｒ7はアリールまたはアシル、Ｒ8およびＲ9
はそれぞれ水素または炭素原子数１〜１８のアルキル基
を表す。）からなる群より選択され、Ｘ-はＨＸがｐＫa
≦３の酸となるようなアニオン(適当なアニオンの例
は、ハライド、ビスルフェート、ヘキサフルオロホスフ
ェート、テトラフルオロボレート、ヘキサフルオロアン
チモネート、トリフルオロアセテート、メタンスルホネ
ート、トリフルオロメタンスルホネート、ｐ−トルエン
スルホネート等のようなハロゲン含有錯体アニオンであ
る。)、およびｐは０または１を表す。〕。
はそれぞれ水素または炭素原子数１〜１８のアルキル基
を表す。）からなる群より選択され、Ｘ-はＨＸがｐＫa
≦３の酸となるようなアニオン(適当なアニオンの例
は、ハライド、ビスルフェート、ヘキサフルオロホスフ
ェート、テトラフルオロボレート、ヘキサフルオロアン
チモネート、トリフルオロアセテート、メタンスルホネ
ート、トリフルオロメタンスルホネート、ｐ−トルエン
スルホネート等のようなハロゲン含有錯体アニオンであ
る。)、およびｐは０または１を表す。〕。
【００２８】好ましくは、ここで用いられるトリアジン
は、１〜９個のハロゲン置換基を有する２,４,６−トリ
メチル−ｓ−トリアジンのハロゲン化誘導体であり、更
に、炭素原子数１〜６のアルキル(例えば、メチル、エ
チル、ヘキシル)、炭素原子数１〜６のアルコキシ(例え
ば、メトキシ、イソプロポキシ、ヘキソキシ)、炭素原
子数６〜１０のアリール(例えば、フェニル、ナフチ
ル)、炭素原子数４〜１０のヘテロアリール(例えば、フ
ラニル、ピラゾリル、キノリニル)、ニトロ、スルホキ
シ、およびシアノからなる群より選択される１〜３個の
更なる置換基により置換されていてよい。
は、１〜９個のハロゲン置換基を有する２,４,６−トリ
メチル−ｓ−トリアジンのハロゲン化誘導体であり、更
に、炭素原子数１〜６のアルキル(例えば、メチル、エ
チル、ヘキシル)、炭素原子数１〜６のアルコキシ(例え
ば、メトキシ、イソプロポキシ、ヘキソキシ)、炭素原
子数６〜１０のアリール(例えば、フェニル、ナフチ
ル)、炭素原子数４〜１０のヘテロアリール(例えば、フ
ラニル、ピラゾリル、キノリニル)、ニトロ、スルホキ
シ、およびシアノからなる群より選択される１〜３個の
更なる置換基により置換されていてよい。
【００２９】適当なフェノール樹脂は、アルカリ性水溶
液に溶解することのできるフェノール樹脂である。フェ
ノール樹脂は、非粘着性の塗膜を形成することのできる
広い範囲の樹脂から選択することができる。芳香族環に
更なるアルキル置換基を有するものを含む、二またはそ
れ以上の種類の樹脂の混合物を使用することができる。
レゾール(Ｒesole：登録商標)、ノボラック(Ｎovolak：
登録商標)、ウレタン-ノボラック(Ｎovolak：登録商標)
樹脂が好ましい。ウレタン-ノボラック樹脂が最も好ま
しい。
液に溶解することのできるフェノール樹脂である。フェ
ノール樹脂は、非粘着性の塗膜を形成することのできる
広い範囲の樹脂から選択することができる。芳香族環に
更なるアルキル置換基を有するものを含む、二またはそ
れ以上の種類の樹脂の混合物を使用することができる。
レゾール(Ｒesole：登録商標)、ノボラック(Ｎovolak：
登録商標)、ウレタン-ノボラック(Ｎovolak：登録商標)
樹脂が好ましい。ウレタン-ノボラック樹脂が最も好ま
しい。
【００３０】基本の三成分に加えて、有用なプリントプ
レート組成物は、通常、ヨードニウム塩そのものの固有
の感度のものより長い波長の照射線に対する系の感度を
増加させるためにヨードニウム塩の増感剤を含む。以下
の種類のものを含む多くのそのような化合物が知られて
いる：アミノ置換ジフェニルメタンのような置換ジフェ
ニルエタンを含むジフェニルメタン、キサンテン、アク
リジン、メチンおよびポリメチン(オキソノール、シア
ニンおよびメロシアニンを含む)、チアゾール、トリア
ゾール、アジン、アミノケトン、ポルフィリン、芳香族
多環式炭化水素、ｐ−置換アミノスチリル化合物、アミ
ノトリアジルメタン、ポリアリーレン、ポリアリールポ
リン、２,５−ジフェニルイソベンゾフラン、２,５−ジ
アリールシクロペンタジエン、ジアリールフラン、ジア
リールチオフラン、ジアリールピロール、ポリアリール
フェニレン、クマリンおよびポリアリール−２−ピラゾ
リン。系に増感剤を添加することにより、増感剤の吸収
範囲に入る任意の照射線に対して感度を有するようにな
る。照射線の効果は増感剤のλmaxに一致して増加す
る。
レート組成物は、通常、ヨードニウム塩そのものの固有
の感度のものより長い波長の照射線に対する系の感度を
増加させるためにヨードニウム塩の増感剤を含む。以下
の種類のものを含む多くのそのような化合物が知られて
いる：アミノ置換ジフェニルメタンのような置換ジフェ
ニルエタンを含むジフェニルメタン、キサンテン、アク
リジン、メチンおよびポリメチン(オキソノール、シア
ニンおよびメロシアニンを含む)、チアゾール、トリア
ゾール、アジン、アミノケトン、ポルフィリン、芳香族
多環式炭化水素、ｐ−置換アミノスチリル化合物、アミ
ノトリアジルメタン、ポリアリーレン、ポリアリールポ
リン、２,５−ジフェニルイソベンゾフラン、２,５−ジ
アリールシクロペンタジエン、ジアリールフラン、ジア
リールチオフラン、ジアリールピロール、ポリアリール
フェニレン、クマリンおよびポリアリール−２−ピラゾ
リン。系に増感剤を添加することにより、増感剤の吸収
範囲に入る任意の照射線に対して感度を有するようにな
る。照射線の効果は増感剤のλmaxに一致して増加す
る。
【００３１】しかしながら、本発明の使用に好適な増感
剤は、ヨードニウム塩の不溶化作用を妨害してはなら
ず、また可溶化プロセスに必要な光発生酸を捕集しては
ならず、従ってプロトン化容易な基を有する染料は適当
でないようである。好ましい種類の増感剤は、多環式芳
香族炭化水素およびその誘導体(例えば、アントラセ
ン、２−エチルアントラセン、９,１０−ジエトキシア
ントラセン、２−エチル−９,１０−ジエトキシアント
ラセン等)である。
剤は、ヨードニウム塩の不溶化作用を妨害してはなら
ず、また可溶化プロセスに必要な光発生酸を捕集しては
ならず、従ってプロトン化容易な基を有する染料は適当
でないようである。好ましい種類の増感剤は、多環式芳
香族炭化水素およびその誘導体(例えば、アントラセ
ン、２−エチルアントラセン、９,１０−ジエトキシア
ントラセン、２−エチル−９,１０−ジエトキシアント
ラセン等)である。
【００３２】増感剤は、好ましくは、入射光を最大限に
利用するような量で存在する。これは、当業者に良く理
解されるように、層の厚さ、染料の吸光度指数、および
その吸収範囲が露光源の出力に適合する程度により変化
する。通常、増感剤は全固体組成物の１５重量％までの
量で存在すべきである。露光源の出力が染料の最大吸収
に適合しない場合、それを越える量が用いられる。
利用するような量で存在する。これは、当業者に良く理
解されるように、層の厚さ、染料の吸光度指数、および
その吸収範囲が露光源の出力に適合する程度により変化
する。通常、増感剤は全固体組成物の１５重量％までの
量で存在すべきである。露光源の出力が染料の最大吸収
に適合しない場合、それを越える量が用いられる。
【００３３】大部分の用途において、増感剤は、使用し
ようとする露光装置の出力にできるだけ適合するように
選択されるが、一つの態様において、増感剤は、特に４
００nmより大きな波長の光に反応せず感度が近紫外線領
域に制限されるように選択される。これにより、プリン
ト室で通常使用される黄色光を必要としないで白色光条
件下に取り扱うことができるが、一般的な露光装置によ
り現実的な露光時間で画像形成することのできるプレー
トが提供される。プリントプレートのための多くの市販
の露光装置は、主に青色領域(４００nm以上)の光を放出
し、紫外線成分は比較的弱いが、露光時間を不当に延長
することなくこの種の非効率的な露光を許容することが
できるような感度が本発明の組成物により示される。こ
の用途に適当な増感剤は、アントラセンおよびその２−
エチル誘導体を含む。
ようとする露光装置の出力にできるだけ適合するように
選択されるが、一つの態様において、増感剤は、特に４
００nmより大きな波長の光に反応せず感度が近紫外線領
域に制限されるように選択される。これにより、プリン
ト室で通常使用される黄色光を必要としないで白色光条
件下に取り扱うことができるが、一般的な露光装置によ
り現実的な露光時間で画像形成することのできるプレー
トが提供される。プリントプレートのための多くの市販
の露光装置は、主に青色領域(４００nm以上)の光を放出
し、紫外線成分は比較的弱いが、露光時間を不当に延長
することなくこの種の非効率的な露光を許容することが
できるような感度が本発明の組成物により示される。こ
の用途に適当な増感剤は、アントラセンおよびその２−
エチル誘導体を含む。
【００３４】本発明の組成物は、更に、一般的にプリン
トプレート組成物に混入される他の成分(例えば、後露
光または後現像画像の可視度を向上させる染料または顔
料、塗布性を改良する界面活性剤、およびインク受容性
を向上させる油または樹脂)を少量含んでよい。
トプレート組成物に混入される他の成分(例えば、後露
光または後現像画像の可視度を向上させる染料または顔
料、塗布性を改良する界面活性剤、およびインク受容性
を向上させる油または樹脂)を少量含んでよい。
【００３５】この組成物は、通常、リソグラフプリント
プレートとして用いるための親水性基材上に塗布され
る。低級アルコール、ケトン、エーテルおよびエステル
を含む広範囲の塗布溶媒を用いることができる。特に好
適な溶媒は、メチルエチルケトンおよびメチルイソブチ
ルケトンである。溶媒の混合物も用いることができる。
良く知られた塗布技術、例えば、巻線バーによる塗布、
スピン塗布、ナイフ塗布、浸漬塗布、ローラー塗布等の
いずれも用いることができる。
プレートとして用いるための親水性基材上に塗布され
る。低級アルコール、ケトン、エーテルおよびエステル
を含む広範囲の塗布溶媒を用いることができる。特に好
適な溶媒は、メチルエチルケトンおよびメチルイソブチ
ルケトンである。溶媒の混合物も用いることができる。
良く知られた塗布技術、例えば、巻線バーによる塗布、
スピン塗布、ナイフ塗布、浸漬塗布、ローラー塗布等の
いずれも用いることができる。
【００３６】本発明において有用な典型的なリソグラフ
基材は、亜鉛、陽極酸化アルミニウム、銅のような基
材、特殊加工した金属および紙基材、表面加水分解した
セルロースエステルフィルム、ポリオレフィン、ポリエ
ステル、ポリアミドのようなポリマー基材等を含む。
基材は、亜鉛、陽極酸化アルミニウム、銅のような基
材、特殊加工した金属および紙基材、表面加水分解した
セルロースエステルフィルム、ポリオレフィン、ポリエ
ステル、ポリアミドのようなポリマー基材等を含む。
【００３７】基材は、ビニリデンクロライドと、アクリ
ルモノマー(例えばアクリロニトリルおよびメチルアク
リレート)および不飽和ジカルボン酸(例えばイタコン酸
またはアクリル酸)とのコポリマー並びにターポリマ
ー、カルボキシメチルセルロール、ポリアクリルアミド
および同様のポリマー材料のような既知の下地材料によ
り下地塗布することもできる。
ルモノマー(例えばアクリロニトリルおよびメチルアク
リレート)および不飽和ジカルボン酸(例えばイタコン酸
またはアクリル酸)とのコポリマー並びにターポリマ
ー、カルボキシメチルセルロール、ポリアクリルアミド
および同様のポリマー材料のような既知の下地材料によ
り下地塗布することもできる。
【００３８】基材は、照射線を吸収し基材からの不必要
な反射を除く染料含有ポリマー層を含んでなるような、
フィルターまたはハレーション防止層を有することもで
きる。照射線として紫外線を用いた場合、好適な下地塗
布材料として上述したポリマーのうちの一つのようなポ
リマーバインダー中に黄色染料を含むものが特に効果的
なハレーション防止層である。
な反射を除く染料含有ポリマー層を含んでなるような、
フィルターまたはハレーション防止層を有することもで
きる。照射線として紫外線を用いた場合、好適な下地塗
布材料として上述したポリマーのうちの一つのようなポ
リマーバインダー中に黄色染料を含むものが特に効果的
なハレーション防止層である。
【００３９】プリントプレートの製造において、組成物
を、塗布後、高温で短時間(例えば、８５℃で３分間)乾
燥する。得られた塗膜は、アルカリ性現像剤への溶解に
驚くほど耐性を有する。ヨードニウム塩と分解可能化合
物の組合せは、個々の成分の挙動から予想されるより大
きな耐現像液性を発揮する。
を、塗布後、高温で短時間(例えば、８５℃で３分間)乾
燥する。得られた塗膜は、アルカリ性現像剤への溶解に
驚くほど耐性を有する。ヨードニウム塩と分解可能化合
物の組合せは、個々の成分の挙動から予想されるより大
きな耐現像液性を発揮する。
【００４０】次に、任意の適当な光源を用いて画像を形
成するようにプレートを露光する。プレートにより示さ
れる高い感度故に、それはプロジェクションカメラおよ
びレーザースキャナーによる露光に好適である。光照射
領域において、ヨードニウム塩の一部が光分解され、相
当する強ブレンステッド酸ＨＸが得られる。この酸は、
全て水性アルカリ中に溶解し得る物質であるジフェニル
酢酸、低級アルデヒドおよび低級アルコールが得られる
アルコキシアルキルエステルの分解を触媒する。光分解
が起こる前でも、比較的少量のヨードニウムが存在し残
留ヨードニウムによる溶解抑制は僅かである。溶解抑制
剤の分解は触媒プロセスであるので、耐現像剤性を完全
に破壊するために少量のヨードニウム塩しか光分解する
必要がない。
成するようにプレートを露光する。プレートにより示さ
れる高い感度故に、それはプロジェクションカメラおよ
びレーザースキャナーによる露光に好適である。光照射
領域において、ヨードニウム塩の一部が光分解され、相
当する強ブレンステッド酸ＨＸが得られる。この酸は、
全て水性アルカリ中に溶解し得る物質であるジフェニル
酢酸、低級アルデヒドおよび低級アルコールが得られる
アルコキシアルキルエステルの分解を触媒する。光分解
が起こる前でも、比較的少量のヨードニウムが存在し残
留ヨードニウムによる溶解抑制は僅かである。溶解抑制
剤の分解は触媒プロセスであるので、耐現像剤性を完全
に破壊するために少量のヨードニウム塩しか光分解する
必要がない。
【００４１】露光後、水性アルカリ性現像剤中での現像
および塗膜の露光領域の除去の前に分解反応を確実に終
了させるために、プレートを加熱(例えば、８５℃で１
分)することができる。広い範囲のアルカリ性溶液、例
えば水酸化ナトリウムまたは燐酸三ナトリウムの溶液を
用いることができるが、好ましい現像剤は、要すれば少
量の界面活性剤及び／又は有機溶媒を含む２〜１０重量
％の濃度範囲のメタケイ酸ナトリウム水溶液である。現
像後、通常の方法で複写物を印刷するためにプレートを
プレス上に置く。
および塗膜の露光領域の除去の前に分解反応を確実に終
了させるために、プレートを加熱(例えば、８５℃で１
分)することができる。広い範囲のアルカリ性溶液、例
えば水酸化ナトリウムまたは燐酸三ナトリウムの溶液を
用いることができるが、好ましい現像剤は、要すれば少
量の界面活性剤及び／又は有機溶媒を含む２〜１０重量
％の濃度範囲のメタケイ酸ナトリウム水溶液である。現
像後、通常の方法で複写物を印刷するためにプレートを
プレス上に置く。
【００４２】本発明の組成物は、金属被覆プリント回路
基板、例えばエポキシ樹脂基板にラミネートされた銅シ
ートの製造のためのフォトレジストとして使用すること
もできる。この例において、銅にフォトレジスト組成物
が塗布される。露光後、可溶化物質が除去され一体化マ
スクが残る。銅の非保護領域は、塩化鉄水溶液を用いた
ようなエッチングにより除去される。
基板、例えばエポキシ樹脂基板にラミネートされた銅シ
ートの製造のためのフォトレジストとして使用すること
もできる。この例において、銅にフォトレジスト組成物
が塗布される。露光後、可溶化物質が除去され一体化マ
スクが残る。銅の非保護領域は、塩化鉄水溶液を用いた
ようなエッチングにより除去される。
【００４３】本発明の組成物は、無定形ＳiＯ2のような
他の物質の保護にも用いることができる。電気デバイス
および集積回路の製造にシリカがしばしば使用され、こ
れらのデバイスのための接触パターンはフォトマスクを
介して規定されることが多い。
他の物質の保護にも用いることができる。電気デバイス
および集積回路の製造にシリカがしばしば使用され、こ
れらのデバイスのための接触パターンはフォトマスクを
介して規定されることが多い。
【００４４】本発明の組成物は他の用途、例えば、組成
物が多量のカラー防水顔料を含む防水構造物にも用いる
ことができる。
物が多量のカラー防水顔料を含む防水構造物にも用いる
ことができる。
【００４５】
【実施例】以下の実施例において調製した物質を、下記
技術の一またはそれ以上により分析し、同定値に一致す
る結果を得た：1Ｈ、27Ａｌ、13Ｃ核磁気共鳴、沸点、
元素分析、質量分析、赤外線分光分析。
技術の一またはそれ以上により分析し、同定値に一致す
る結果を得た：1Ｈ、27Ａｌ、13Ｃ核磁気共鳴、沸点、
元素分析、質量分析、赤外線分光分析。
【００４６】特記しない限り、全ての物質はアルドリッ
ヒ・ケミカル・カンパニー(Ａldrich Ｃhemical Ｃompa
ny)(ウィスコンシン州ミルウォーキー在)から得た。
ヒ・ケミカル・カンパニー(Ａldrich Ｃhemical Ｃompa
ny)(ウィスコンシン州ミルウォーキー在)から得た。
【００４７】実施例１ 次の方法によりジフェニル酢酸メトキシメチルエステル
を調製した：ジフェニル酢酸１０.０g(４７.１ミリモ
ル)およびクロロメチルメチルエーテル４.０ml(４.１６
g、５１.８ミリモル)の−５℃に冷却したジクロロメタ
ン５０ml中混合物に、ジクロロメタン５０ml中トリエチ
ルアミン７.２ml(５.２４g、５１.８ミリモル）を添加
した。混合物を室温まで暖め、一晩撹拌し、反応混合物
を重炭酸ナトリウム水溶液で洗い、ＭgＯ-ＭgＳＯ4を用
いて乾燥し、減圧下に濃縮した。残渣を蒸留して沸点が
１３５〜１４０℃／０.１mmＨgの相当するメトキシメチ
ルエステル７.２５g(２８.３ミリモル)を得た(収率６０
％)。
を調製した：ジフェニル酢酸１０.０g(４７.１ミリモ
ル)およびクロロメチルメチルエーテル４.０ml(４.１６
g、５１.８ミリモル)の−５℃に冷却したジクロロメタ
ン５０ml中混合物に、ジクロロメタン５０ml中トリエチ
ルアミン７.２ml(５.２４g、５１.８ミリモル）を添加
した。混合物を室温まで暖め、一晩撹拌し、反応混合物
を重炭酸ナトリウム水溶液で洗い、ＭgＯ-ＭgＳＯ4を用
いて乾燥し、減圧下に濃縮した。残渣を蒸留して沸点が
１３５〜１４０℃／０.１mmＨgの相当するメトキシメチ
ルエステル７.２５g(２８.３ミリモル)を得た(収率６０
％)。
【００４８】実施例２ 次の方法によりジフェニル酢酸２−エトキシエチルエス
テルを調製した：ジフェニル酢酸２.０g(９.４ミリモ
ル)のジクロロメタン１０ml中混合物に、エチルビニル
エーテル１.１ml(０.８２g、１１.４ミリモル)を添加し
た。混合物を一晩撹拌し、重炭酸ナトリウム水溶液で洗
い、ＭgＯ-ＭgＳＯ4を用いて乾燥し、減圧下に濃縮し
て、相当するエトキシエチルエステル１.７g(６.０ミリ
モル）を得た(収率６３％)。
テルを調製した：ジフェニル酢酸２.０g(９.４ミリモ
ル)のジクロロメタン１０ml中混合物に、エチルビニル
エーテル１.１ml(０.８２g、１１.４ミリモル)を添加し
た。混合物を一晩撹拌し、重炭酸ナトリウム水溶液で洗
い、ＭgＯ-ＭgＳＯ4を用いて乾燥し、減圧下に濃縮し
て、相当するエトキシエチルエステル１.７g(６.０ミリ
モル）を得た(収率６３％)。
【００４９】エチルビニルエーテルを２,３−ジヒドロ
フランおよび３,４−ジヒドロ−２Ｈ−ピランに置き換
えて、同様の方法によりそれぞれジフェニル酢酸２−テ
トラヒドロフラニルおよび２−テトラヒドロピラニルエ
ステルを調製した。
フランおよび３,４−ジヒドロ−２Ｈ−ピランに置き換
えて、同様の方法によりそれぞれジフェニル酢酸２−テ
トラヒドロフラニルおよび２−テトラヒドロピラニルエ
ステルを調製した。
【００５０】実施例３ 下記成分を混合することによりポジ型リソグラフプレー
トを形成した： m−クレゾールノボラック〔ボーデン・ケミカル(Ｂorden Ｃhemical)、＃Ｅ４ ６−０１７０、コランバス(Ｃolumbus)、オハイオ〕 ６０部 ジフェニル酢酸メトキシメチルエステル ９部 ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート ３.６部 ９,１０−ジエトキシアントラセン １.８部 メチルエチルケトン ３００部
トを形成した： m−クレゾールノボラック〔ボーデン・ケミカル(Ｂorden Ｃhemical)、＃Ｅ４ ６−０１７０、コランバス(Ｃolumbus)、オハイオ〕 ６０部 ジフェニル酢酸メトキシメチルエステル ９部 ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート ３.６部 ９,１０−ジエトキシアントラセン １.８部 メチルエチルケトン ３００部
【００５１】溶液をナンバー７メイヤー(Ｍeyer)バーを
用いてポジ型プリントプレート１−Ａ−１のためのアル
ミニウム上に塗布し〔湿潤厚０.０１６mm、アール・ア
ンド・ディー・スペシャルティーズ(Ｒ＆Ｄ Ｓpecialti
es)、ウェブスター(Ｗebster)、ニュー・ヨーク〕、８
５℃で５分間加熱し、２kwジアゾバルブを有するバーキ
イ・アスコー(Ｂerkey Ａscor)２４インチ×２８インチ
真空プリンター〔ウッドサイド(Ｗoodside)、ニューヨ
ーク〕において５０cm離して２１ステップウェッジを介
して２０秒間露光し、続いて下記溶液を用いて２分間現
像したところ、４０５nmで１１ステップ(感度４mＪ／cm
2)を得た： メタケイ酸ナトリウム五水和物 ５.６部 ネーカル(Ｎecal：登録商標)ＮＦ〔ガフ・コーポレイション(ＧＡＦ Ｃorpora tion)、ヴァイネ(Ｗayne)、ニュー・ジャージー〕 ０.１部 脱イオン水 ９４.３部
用いてポジ型プリントプレート１−Ａ−１のためのアル
ミニウム上に塗布し〔湿潤厚０.０１６mm、アール・ア
ンド・ディー・スペシャルティーズ(Ｒ＆Ｄ Ｓpecialti
es)、ウェブスター(Ｗebster)、ニュー・ヨーク〕、８
５℃で５分間加熱し、２kwジアゾバルブを有するバーキ
イ・アスコー(Ｂerkey Ａscor)２４インチ×２８インチ
真空プリンター〔ウッドサイド(Ｗoodside)、ニューヨ
ーク〕において５０cm離して２１ステップウェッジを介
して２０秒間露光し、続いて下記溶液を用いて２分間現
像したところ、４０５nmで１１ステップ(感度４mＪ／cm
2)を得た： メタケイ酸ナトリウム五水和物 ５.６部 ネーカル(Ｎecal：登録商標)ＮＦ〔ガフ・コーポレイション(ＧＡＦ Ｃorpora tion)、ヴァイネ(Ｗayne)、ニュー・ジャージー〕 ０.１部 脱イオン水 ９４.３部
【００５２】実施例４ 下記成分を混合し、： ウレタンノボラック３０部のメチルエチルケトン７０部中溶液(米国特許第４, ５７１,３７４号、６欄、１０〜２３行に記載) ３００部 ジフェニル酢酸エトキシエチルエステル ９.７部 ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート ４.７部 ９,１０−ジエトキシアントラセン ２.３部 メチルエチルケトン １９０部 ＃７メイヤーバーを用いてアルミニウム上に塗布し(湿
潤厚０.０１６mm)、乾燥してポジ型リソグラフプレート
を形成し、露光し、実施例３に記載のように現像して７
クリアーステップを得た。これは４０５nmでの感度７m
Ｊ／cm2に相当する。
潤厚０.０１６mm)、乾燥してポジ型リソグラフプレート
を形成し、露光し、実施例３に記載のように現像して７
クリアーステップを得た。これは４０５nmでの感度７m
Ｊ／cm2に相当する。
【００５３】実施例５ 次の方法により２−エチルヘキサン酸テトラヒドロピラ
ン−２−イルエステルを調製した：３,４−ジヒドロ−
２Ｈ−ピラン３３.６ml中、２−エチルヘキサン酸１５.
５g(１０８ミリモル)を６０℃で２４時間加熱し、混合
物を重炭酸ナトリウム水溶液で抽出した。有機層を乾燥
(ＭgＳＯ4)し、減圧下に濃縮して相当するテトラヒドロ
ピラニルエーテル４.１２g(１８.０ミリモル)を得た(収
率１７％)。
ン−２−イルエステルを調製した：３,４−ジヒドロ−
２Ｈ−ピラン３３.６ml中、２−エチルヘキサン酸１５.
５g(１０８ミリモル)を６０℃で２４時間加熱し、混合
物を重炭酸ナトリウム水溶液で抽出した。有機層を乾燥
(ＭgＳＯ4)し、減圧下に濃縮して相当するテトラヒドロ
ピラニルエーテル４.１２g(１８.０ミリモル)を得た(収
率１７％)。
【００５４】実施例６ 下記成分を混合することによりポジ型リソグラフプレー
トを形成した： m−クレゾールノボラック〔ボーデン・ケミカル、Ｅ＃４６−０１７０、コラ ンバス(Ｃolumbus)、オハイオ〕 ６０部 テトラヒドロピラン−２−イル−２−エチルヘキサノエート ９部 ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート ３.６部 ９,１０−ジエトキシアントラセン １.８部 メチルエチルケトン １７５部
トを形成した： m−クレゾールノボラック〔ボーデン・ケミカル、Ｅ＃４６−０１７０、コラ ンバス(Ｃolumbus)、オハイオ〕 ６０部 テトラヒドロピラン−２−イル−２−エチルヘキサノエート ９部 ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート ３.６部 ９,１０−ジエトキシアントラセン １.８部 メチルエチルケトン １７５部
【００５５】溶液をナンバー７メイヤー(Ｍeyer)バーを
用いてポジ型プリントプレート１−Ａ−１のためのアル
ミニウム上に塗布し(湿潤厚０.０１６mm)、乾燥し、露
光(４０秒間)し、実施例３のように現像すると、４ステ
ップが得られた。
用いてポジ型プリントプレート１−Ａ−１のためのアル
ミニウム上に塗布し(湿潤厚０.０１６mm)、乾燥し、露
光(４０秒間)し、実施例３のように現像すると、４ステ
ップが得られた。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成４年６月２５日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正内容】
【００３０】基本の三成分に加えて、有用なプリントプ
レート組成物は、通常、ヨードニウム塩そのものの固有
の感度のものより長い波長の照射線に対する系の感度を
増加させるためにヨードニウム塩の増感剤を含む。以下
の種類のものを含む多くのそのような化合物が知られて
いる：アミノ置換ジフェニルメタンのような置換ジフェ
ニルエタンを含むジフェニルメタン、キサンテン、アク
リジン、メチンおよびポリメチン(オキソノール、シア
ニンおよびメロシアニンを含む)、チアゾール、トリア
ゾール、アジン、アミノケトン、ポルフィリン、芳香族
多環式炭化水素、ｐ−置換アミノスチリル化合物、アミ
ノトリアジルメタン、ポリアリーレン、ポリアリールポ
リエン、２,５−ジフェニルイソベンゾフラン、２,５−
ジアリールシクロペンタジエン、ジアリールフラン、ジ
アリールチオフラン、ジアリールピロール、ポリアリー
ルフェニレン、クマリンおよびポリアリール−２−ピラ
ゾリン。系に増感剤を添加することにより、増感剤の吸
収範囲に入る任意の照射線に対して感度を有するように
なる。照射線の効果は増感剤のλmaxに一致して増加す
る。
レート組成物は、通常、ヨードニウム塩そのものの固有
の感度のものより長い波長の照射線に対する系の感度を
増加させるためにヨードニウム塩の増感剤を含む。以下
の種類のものを含む多くのそのような化合物が知られて
いる：アミノ置換ジフェニルメタンのような置換ジフェ
ニルエタンを含むジフェニルメタン、キサンテン、アク
リジン、メチンおよびポリメチン(オキソノール、シア
ニンおよびメロシアニンを含む)、チアゾール、トリア
ゾール、アジン、アミノケトン、ポルフィリン、芳香族
多環式炭化水素、ｐ−置換アミノスチリル化合物、アミ
ノトリアジルメタン、ポリアリーレン、ポリアリールポ
リエン、２,５−ジフェニルイソベンゾフラン、２,５−
ジアリールシクロペンタジエン、ジアリールフラン、ジ
アリールチオフラン、ジアリールピロール、ポリアリー
ルフェニレン、クマリンおよびポリアリール−２−ピラ
ゾリン。系に増感剤を添加することにより、増感剤の吸
収範囲に入る任意の照射線に対して感度を有するように
なる。照射線の効果は増感剤のλmaxに一致して増加す
る。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正内容】
【００４２】本発明の組成物は、金属被覆プリント回路
基板、例えばエポキシ樹脂基板にラミネートされた銅シ
ートの製造のためのポジティブフォトレジストとして使
用することもできる。この場合、銅にフォトレジスト組
成物が塗布される。露光後、可溶化物質が除去され一体
化マスクが残る。銅の非保護領域は、塩化鉄水溶液を用
いたようなエッチングにより除去される。
基板、例えばエポキシ樹脂基板にラミネートされた銅シ
ートの製造のためのポジティブフォトレジストとして使
用することもできる。この場合、銅にフォトレジスト組
成物が塗布される。露光後、可溶化物質が除去され一体
化マスクが残る。銅の非保護領域は、塩化鉄水溶液を用
いたようなエッチングにより除去される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正内容】
【００４３】本発明の組成物は、無定形ＳiＯ2のような
他の物質の保護にも用いることができる。電子デバイス
および集積回路の製造にシリカがしばしば使用され、こ
れらのデバイスのための接触パターンはしばしばフォト
マスクを介して規定される。
他の物質の保護にも用いることができる。電子デバイス
および集積回路の製造にシリカがしばしば使用され、こ
れらのデバイスのための接触パターンはしばしばフォト
マスクを介して規定される。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/027 Ｈ０５Ｋ 3/06 Ｈ 6921−4Ｅ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項１】 （ａ）水性基剤に溶解性のバインダー、 （ｂ）アルコキシアルキルエステルを含んでなる酸感応
性溶解抑制剤、および （ｃ）光化学酸源 を含んでなる光画像形成性組成物。 【請求項２】 アルコキシアルキルエステルが式： 【化１】 〔式中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3はそれぞれ炭素原子数１〜
１８のアルキルまたは要すればハロゲン、メチルもしく
はエチルで置換されていてよいフェニルを表す、または
Ｒ1、Ｒ2およびＲ3の任意の二つが一緒になって炭素原
子数５〜１８の環構造を形成することができる、または
Ｒ1、Ｒ2およびＲ3が一緒になって炭素原子数８〜１８
の多環式構造を形成することができ、Ｒ4およびＲ5はそ
れぞれＣ1〜Ｃ6アルキルまたは水素を表し、Ｒ4および
Ｒ5の少なくとも一つが水素でなくてはならなず、Ｒ6は
炭素原子数１〜６の低級アルキル、またはＲ5とＲ6が一
緒になって環式アルキルエーテル基を表す。〕で示され
る請求項１記載の光画像形成性組成物。 【請求項３】 （ａ）水性基剤に溶解性のバインダー、 （ｂ）アルコキシアルキルエステルを含んでなる酸感応
性溶解抑制剤、および （ｃ）光化学酸源 を含んでなる組成物を塗布したリソグラフ基材を有して
なる予備増感リソグラフプレート。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US07/618,212 US5085972A (en) | 1990-11-26 | 1990-11-26 | Alkoxyalkyl ester solubility inhibitors for phenolic resins |
| US618212 | 1990-11-26 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH055985A true JPH055985A (ja) | 1993-01-14 |
| JP2580418B2 JP2580418B2 (ja) | 1997-02-12 |
Family
ID=24476785
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3309070A Expired - Lifetime JP2580418B2 (ja) | 1990-11-26 | 1991-11-25 | アルコキシアルキルエステル溶解抑制剤を含んでなる光画像形成性組成物 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5085972A (ja) |
| EP (1) | EP0488525B1 (ja) |
| JP (1) | JP2580418B2 (ja) |
| DE (1) | DE69115661T2 (ja) |
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