JP4159058B2 - 画像形成材料及び画像形成方法 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、オフセット印刷マスターとして使用可能なポジ型、或いはネガ型の画像形成材料に関し、更に詳しくは、近赤外〜赤外線に領域を有する半導体レーザー等を用いて記録することにより、コンピューター等のデジタルデータから直接製版できるダイレクト製版用の平版印刷板として用いられる画像形成材料に関する。又、前記画像形成材料に画像を形成する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、活性光の照射によって可溶化するポジ型の感光層として、酸発生剤と酸分解性化合物とを含有する感光層を有する画像形成材料が知られている。即ち、米国特許第３，７７９，７７８号明細書には、酸発生剤と酸で分解する特定の基を有する水不溶性化合物とを含有する感光性組成物が、特開昭５３−１３３４２９号には、酸発生剤と主鎖にアセタール又はケタール基を有する化合物とを含有する感光性組成物が、又特開昭６０−３７５４９号には、酸発生剤とシリルエーテル基を有する化合物とを含有する組成物が開示されている。これらはいずれも紫外線に感度を有し、紫外線による露光によってアルカリ可溶化して非画像部を形成し、又未露光部は画像部を形成するというものである。一般的には、マスクフィルム等を介してハロゲンランプ、高圧水銀灯などから照射紫外線により画像露光を行なっており、アルゴンレーザー、ヘリウム−カドミウムレーザーなどの短波長レーザーによる露光も可能であるが、装置が高価で大きいため使用の際は煩わしい場合もあり、又感光材料の感度の点でも十分満足のいくものばかりではなかった。
【０００３】
感光層の感度向上を図るために本発明者らは粘度の異なる混合溶剤を添加したポジ型感光材料（特願平７−１５２６２３号）或いは感光体に対する良溶剤／貧溶剤からなる混合溶剤を添加したポジ型感光材料（特願平７−１５８５８０号）を提案したが、紫外線による画像露光では依然として上記したようなハード面での問題が残り、安価で簡易な方法が望まれていた。
【０００４】
一方、安価でコンパクトな半導体レーザーのような赤外線で画像露光が可能な技術として、酸発生剤、レゾール樹脂、ノボラック樹脂及び赤外線吸収剤を含有する感光層を有する画像形成材料を画像露光の後、現像処理前に加熱処理を施すことによりネガ型の画像を形成する方法が米国特許第５，３４０，６９９号明細書に開示され、又上記加熱処理を施さない場合はポジ型の画像形成材料として使用される技術が開示されている。又特開昭５３−１３３４２９号には、酸発生剤、酸で分解する化合物及び青色染料（クリスタルバイオレット）とを含有する感光層を有する画像形成材料について開示されている。しかしながらこれらの技術は、レーザー光が支持体表面の反射により散漫になりやすく本来の画像を呈しない即ちドットゲインの変動が大きく、良好な画像を得ることが困難である。特に支持体としてアルミニウム等の金属板を使用した平版印刷板に半導体レーザーで露光した場合、レーザーが反射して熱エネルギーが散乱してドットゲインが低下し、優れた感度を得られず画像形成に大幅な負荷を生じさせるという問題を有していた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、その目的は近赤外〜赤外線領域による露光で画像形成が可能で、特に該領域に発光領域を有するレーザーを用いて記録することによりコンピューター等のデジタルデータから直接製版が可能で、該領域に対する感度が高く、かつドット変動抑制性を有するポジ型或いはネガ型の直接製版用画像形成材料を提供することである。又該レーザーを用い画像形成材料に画像を形成する方法を提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明の上記目的は、以下の構成により達成された。
【０００７】
〈１〉３〜５Ａ／ｄｍ ^２ 未満である電流密度で陽極酸化処理され、皮膜量２０以上５０ｍｇ／ｄｍ²以下の陽極酸化皮膜を有する金属支持体上に、活性光線の照射により酸を発生し得る化合物、酸により架橋する基を有する化合物及び赤外線吸収剤を含有する感光層を有してなり、更に金属支持体の表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．３以上０．７μｍ以下、平均粗さ（Ｒｚ）が３．０以上６．０μｍ以下であり、感光層を除去した際の支持体の表面エネルギーγ（Ｈ：水素結合力）が、下記式で１５以上５０ｄｙｎ／ｃｍ以下であることを特徴とする画像形成材料。
γ（Ｈ）ｄｙｎ／ｃｍ＝
〔１．１５９＋２．１５９×ｃｏｓ（接触角：Ｈ₂Ｏ）
−ｃｏｓ（接触角：ＣＨ₂Ｉ₂）〕／０．３７９²
（接触角はＨ₂Ｏ：１．７μｌ、ＣＨ₂Ｉ₂：１．３μｌを滴下し３０秒後に測定）
【０００８】
〈２〉３〜５Ａ／ｄｍ ^２ 未満である電流密度で陽極酸化処理され、皮膜量２０以上５０ｍｇ／ｄｍ²以下の陽極酸化皮膜を有する金属支持体上に、活性光線の照射により酸を発生し得る化合物、酸により分解し得る結合部を有する化合物及び赤外線吸収剤を含有する感光層を有してなり、更に金属支持体の表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．３以上０．７μｍ以下、平均粗さ（Ｒｚ）が３．０以上６．０μｍ以下であり、感光層を除去した際の支持体の表面エネルギーγ（Ｈ：水素結合力）が、下記式で１５以上５０ｄｙｎ／ｃｍ以下であることを特徴とする画像形成材料。
γ（Ｈ）ｄｙｎ／ｃｍ＝
〔１．１５９＋２．１５９×ｃｏｓ（接触角：Ｈ₂Ｏ）
−ｃｏｓ（接触角：ＣＨ₂Ｉ₂）〕／０．３７９²
（接触角はＨ₂Ｏ：１．７μｌ、ＣＨ₂Ｉ₂：１．３μｌを滴下し３０秒後に測定）
【０００９】
〈３〉３〜５Ａ／ｄｍ ^２ 未満である電流密度で陽極酸化処理された金属支持体上に、皮膜量０．００１以上１０ｍｇ／ｍ²以下の断熱層、活性光線の照射により酸を発生し得る化合物、酸により架橋する基を有する化合物及び赤外線吸収剤を含有する感光層を有してなり、更に金属支持体の表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．３以上０．７μｍ以下、平均粗さ（Ｒｚ）が３．０以上６．０μｍ以下であり、感光層を除去した際の支持体の表面エネルギーγ（Ｈ：水素結合力）が、下記式で１５以上５０ｄｙｎ／ｃｍ以下であることを特徴とする画像形成材料。
γ（Ｈ）ｄｙｎ／ｃｍ＝
〔１．１５９＋２．１５９×ｃｏｓ（接触角：Ｈ₂Ｏ）
−ｃｏｓ（接触角：ＣＨ₂Ｉ₂）〕／０．３７９²
（接触角はＨ₂Ｏ：１．７μｌ、ＣＨ₂Ｉ₂：１．３μｌを滴下し３０秒後に測定）
【００１０】
〈４〉３〜５Ａ／ｄｍ ^２ 未満である電流密度で陽極酸化処理された金属支持体上に、皮膜量０．００１以上１０ｍｇ／ｍ²以下の断熱層、活性光線の照射により酸を発生し得る化合物、酸により分解し得る結合部を有する化合物及び赤外線吸収剤を含有する感光層を有してなり、更に金属支持体の表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．３以上０．７μｍ以下、平均粗さ（Ｒｚ）が３．０以上６．０μｍ以下であり、感光層を除去した際の支持体の表面エネルギーγ（Ｈ：水素結合力）が、下記式で１５以上５０ｄｙｎ／ｃｍ以下であることを特徴とする画像形成材料。
γ（Ｈ）ｄｙｎ／ｃｍ＝
〔１．１５９＋２．１５９×ｃｏｓ（接触角：Ｈ₂Ｏ）
−ｃｏｓ（接触角：ＣＨ₂Ｉ₂）〕／０．３７９²
（接触角はＨ₂Ｏ：１．７μｌ、ＣＨ₂Ｉ₂：１．３μｌを滴下し３０秒後に測定）
【００１１】
好ましい態様として、上記断熱層が支持体と感光層との間に設けられていること、上記断熱層が現像液可溶な樹脂を有してなること、上記金属支持体がアルミニウム板であること、が挙げられる。
【００１２】
〈５〉上記の画像形成材料の感光層を有する表面を活性光線を照射して画像を形成することを特徴とする画像形成方法。
【００１３】
即ち本発明者らは、近赤外〜赤外線に発光領域を有する半導体レーザー等を用いて記録することにより、コンピューター等のデジタルデータから直接製版が可能であり、該領域に対する感度が高く、かつドット変動抑制性に優れたヒートモード書き込み型ダイレクト製版用画像形成材料を得るべく鋭意検討した結果、レーザー露光を効率良く行うためには金属支持体表面を断熱するのが効果的であるとの知見に基づき、本発明に至ったものであり、該支持体表面に特定皮膜量の断熱層或いは特定皮膜量の陽極酸化皮膜を設けることにより達成したものであり、その結果本発明の目的を達成しえる性能を有するというものである。
【００１４】
以下、本発明を詳細に説明する。
【００１５】
本発明は画像形成材料及び該画像形成材料に画像を形成する方法をその要旨とするものであり、以下、順に説明する。
【００１６】
〔１〕画像形成材料
本発明の画像形成材料はその形態により２つに大別でき、第１の態様として、皮膜量１０以上６０ｍｇ／ｄｍ²以下の陽極酸化皮膜を有する金属支持体上に、活性光線の照射により酸を発生し得る化合物、酸により分解し得る結合部を有する化合物及び赤外線吸収剤を含有する感光層を有してなるもの（ポジ型）が、又ネガ型として、上記の形態において酸により分解し得る結合部を有する化合物の代替に、酸により架橋する基を有する化合物を用いるものである。
【００１７】
第２の態様として金属支持体上に、皮膜量０．００１以上１０ｍｇ／ｍ²以下の断熱層と、活性光線の照射により酸を発生し得る化合物、酸により分解し得る結合部を有する化合物及び赤外線吸収剤を含有する感光層とを有してなることを特徴とし（ポジ型）、ネガ型として、上記の形態において酸により分解し得る結合部を有する化合物の代替に、酸により架橋する基を有する化合物を用いるものである。
【００１８】
本発明は高感度かつドット変動抑制性に優れた効果を奏するために支持体表面に特徴を持たせたものであり、以下支持体について説明する。
【００１９】
〈支持体及び断熱層、陽極酸化皮膜〉
本発明に用いられる金属支持体としては、アルミニウム、亜鉛、鋼、銅等の金属板、並びにクロム、亜鉛、銅、ニッケル、アルミニウム、鉄等がメッキ又は蒸着された金属板等が挙げられる。特にアルミニウム支持体は好ましく、純アルミニウム及びアルミニウム合金よりなる支持体が挙げられ、該合金としては種々のものが使用でき例えば、ケイ素、銅、マンガン、マグネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケル等が挙げられる。
【００２０】
これらのうち本発明に用いられる支持体には、砂目立て処理、陽極酸化処理及び必要に応じて封孔処理等の表面処理等が施されているアルミニウム板を用いることが好ましい。これらの処理は公知の方法を適用できる。
【００２１】
アルミニウム支持体は、粗面化に先立ってアルミニウム表面の圧延油を除去するために脱脂処理を施すことが好ましい。脱脂処理としては、トリクレン、シンナー等の溶剤を用いる処理、ケシロンとトリエタノール等のエマルジョンを用いたエマルジョン処理等が挙げられる。又苛性ソーダ等のアルカリの水溶液を用いることもできる。脱脂処理に苛性ソーダ等のアルカリの水溶液を用いた場合、上記脱脂処理のみでは除去できない汚れや酸化皮膜も除去することができる。
【００２２】
感光層との密着性を良好にし、かつ保水性を改善するために行われる砂目立て処理の方法としては、例えば機械的粗面化方法、電気化学的粗面化方法が挙げられる。
【００２３】
機械的方法としては、例えばボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、液体ホーニングによる研磨法、バフ研磨法等が挙げられる。アルミニウム材の組成等に応じて上述の各種方法を単独或いは組合わせて用いることができる。又電気化学的粗面化方法は、塩酸、硝酸等を含む電解液中で交流或いは直流により支持体を電解処理する方法等がある。このうち何れか１つ、もしくは２つ以上の方法を併用することにより、支持体を砂目立てすることができる。詳しくは、例えば塩酸、硝酸等及びその混合液、更にこれらに硝酸アルミニウム、塩化アルミニウム、硝酸アンモニウム、塩化アンモニウム、硝酸マンガン、塩化マンガン、硝酸鉄、塩化鉄等の塩類を添加してもよく、又塩化ナトリウムや硝酸ナトリウム等の中性塩水溶液を電解液として電解処理する方法等がある。硝酸主体の電解液は、硝酸を２〜４０ｇ／ｌ含有する水溶液であり、硝酸のアルミニウムに塩を含んでも良い。又無機酸、カルボン酸、アミン、ケトン、アルデヒド或いはこれらの複合構造を有する化合物などの添加剤を電解液に添加しても良い。本発明においては、機械的粗面化によりマクロ形状の砂目を形成したアルミニウム表面を化学的に処理し、引き続き電気化学的粗面化によりミクロ形状の砂目を形成することによって安定な条件で平均粗さ（Ｒｚ）が大きくて均一な砂目を有し、しかも使用電力や電気化学的粗面化の際に生じるアルミニウムイオンの量を減少させることができる。しかし上記のように機械的に砂目立てされたアルミニウム板の表面には砂目立ての際に食い込んだ研磨剤、アルミニウム屑等がそのまま存在し、引き続き電気化学的粗面化を行うと、粗面化が不均一となり、又そのアルミニウム板の表面に多くの不溶解残渣を発生させることになる。そのため電気化学的に砂目立てされたアルミニウム板の平滑化、均一化を目的としてアルミニウム板の表面に酸又はアルカリの水溶液による化学的処理を行うことが必要である。上記酸又はアルカリ水溶液の具体例としては、例えば弗酸、弗化ジルコン酸、リン酸、硫酸、塩酸、硝酸等の酸及び水酸化ナトリウム、珪酸ナトリウム、炭酸ナトリウム等のアルカリ水酸液が挙げられる。これらの酸又はアルカリ水溶液はそれぞれ一種又は二種以上を混合して使用することができる。化学的処理はこれらの酸又はアルカリの０．０５〜４０重量％水溶液を用い、４０〜１００℃の液温において５〜３００秒処理するのが一般的である。このようにして得られた支持体表面には、スマットが生成しているのでこのスマットを除去するために適宜水洗或いはアルカリエッチング等の処理を行うことが一般的に好ましい。このような処理としては特公昭４８−２８１２３号に記載されているアルカリエッチング法や特開昭５３−１２７３９号に記載されているデスマット法等の処理方法が挙げられる。
【００２４】
電解粗面化において印加される電圧は１〜５０ボルトが好ましく、２〜３０ボルトが更に好ましい。電流密度は１０〜１５０Ａ／ｄｍ²が好ましく、２０〜１００Ａ／ｄｍ²が更に好ましい。電気量は１００〜２００００ｃ／ｄｍ²、好ましくは１００〜１００００ｃ／ｄｍ²、より好ましくは２００〜５０００ｃ／ｄｍ²である。温度は１０〜５０℃が好ましく、１５〜４５℃が更に好ましい。塩酸又は硝酸濃度は、０．０１〜５重量％が好ましい。
【００２５】
（態様１）
表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては多孔質酸化皮膜を形成するものならばいかなるものでも使用することができ、一般には硫酸、クロム酸、シュウ酸、リン酸、マロン酸等を１種又は２種以上含む溶液が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類により適宜決められる。陽極酸化の処理条件は用いる電解質により種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には電解質の濃度が１〜８０重量％の溶液、液温は１〜７０℃、電流密度１〜６０Ａ／ｄｍ²、電圧１〜１００Ｖ、電解時間１０秒〜５分の範囲にあれば適当である。特に好ましい硫酸法は通常直流で処理が行われるが、交流を用いることも可能である。硫酸の濃度は５〜３０％で使用され、２０〜６０℃の温度範囲で５〜２５０秒間電解処理される。この電解液には、アルミニウムイオンが含まれている方が好ましい。
【００２６】
更にこのときの電流密度は１〜２０Ａ／ｄｍ²が好ましい。その他、米国特許第１，４１２，７６８号に記載されている硫酸中で高電流密度で電解する方法や、米国特許第３，５１１，６６１号に記載されているリン酸を用いて電解する方法がある。本発明の態様２では、形成された陽極酸化皮膜量は１０〜６０ｍｇ／ｄｍ²を有するものであるが、好ましくは１０〜５０ｍｇ／ｄｍ²、特に好ましくは２０〜５０ｍｇ／ｄｍ²である。該皮膜量が１０ｍｇ／ｄｍ²未満であると露光の際のレーザーの画像書き込み効率が非常に悪く、本発明の効果を容易に奏し難く、又逆に６０ｍｇ／ｄｍ²を越えると断熱効果は高いが印刷時に汚れやすくなり、画像形成に支障を来す。陽極酸化皮膜量は、例えばアルミニウム板をリン酸クロム酸浴液（リン酸８５％液：３５ｍｌ、酸化クロム（IV）：２０ｇを１ｌの水に溶解して作製）に浸漬し、酸化皮膜を溶解し、板の皮膜溶解前後の重量変化測定から求められる。
【００２７】
封孔処理は、沸騰水処理、水蒸気処理、ケイ酸ソーダ処理、重クロム酸塩水溶液処理等が具体例として挙げられる。この他にアルミニウム板支持体に対して、水溶性高分子化合物や、フッ化ジルコン酸等の金属塩の水溶液による下引き処理を施すこともできる。
【００２８】
支持体には、特に限定はされないが水洗処理等を施しても良い。特に好ましくは支持体を８０〜９５℃程度の熱水又はアルカリ水溶液中に浸漬処理することが挙げられる。次いで亜硝酸塩溶液で処理され、陽極酸化層が封孔される。亜硝酸塩の例としては、周期律表のＩａ，IIａ，IIｂ，IIIｂ，IVａ，IVｂ，VIａ，VIIａ，VIII族の亜硝酸塩又はアンモニウム塩、即ち亜硝酸アンモニウムが挙げられ、その金属塩としては例えば、ＬｉＯ₂，ＮａＮＯ₂，ＫＮＯ₂，Ｍｇ（ＮＯ₂）₂，Ｃａ（ＮＯ₂）₂，Ｚｎ（ＮＯ₂）₂，Ａｌ（ＮＯ₂）₃，Ｚｒ（ＮＯ₂）₄，Ｓｎ（ＮＯ₂）₃，Ｃｒ（ＮＯ₂）₃，Ｃｏ（ＮＯ₂）₂，Ｍｎ（ＮＯ₂）₂，Ｎｉ（ＮＯ₂）₂等が好ましく、特にアルカリ金属亜硝酸塩が好ましい。亜硝酸塩は２種以上併用することもできる。亜硝酸塩処理方法としては水溶液に浸漬する方法又は水溶液を支持体に塗布する方法が挙げられるが、水溶液に浸漬する方法がより好ましい。処理条件は、支持体の状態及びアルカリ金属の種類により異なるので一義的には決定できないが、例えば、亜硝酸ナトリウムを用いた場合には、濃度は一般的には０．００１〜１０重量％、より好ましくは０．０１〜２重量％、浴温度は一般的には室温から約１００℃前後、より好ましくは１０〜１８０秒のそれぞれの範囲から選択すれば良い。亜硝酸水溶液のｐＨは８．０〜１１．０に調整されていることが好ましく、８．５〜９．５に調整されていることが特に好ましい。亜硝酸水溶液のｐＨを上記の如く調整するには例えば、アルカリ緩衝液等を用いる方法が挙げられる。アルカリ緩衝液としては限定されないが、例えば炭酸水素ナトリウム、水酸化ナトリウムの混合溶液、炭酸ナトリウムと水酸化ナトリウムの混合溶液、炭酸ナトリウムと炭酸水素ナトリウムの混合溶液、塩化ナトリウムと水酸化ナトリウムの混合溶液、塩酸と炭酸ナトリウムの混合溶液、四ホウ酸ナトリウムと水酸化ナトリウムの混合溶液等を好適に用いることができる。又上記アルカリ緩衝液はナトリウム以外のアルカリ金属塩、例えばカリウム塩等も用いることができる。該亜硝酸塩処理の効果を高めるために、該処理液中に超音波をかけてもよい。又必要に応じて添加剤を加えることもでき、例えば、界面活性剤である。
【００２９】
（態様２）
本発明の第２の態様として挙げた金属支持体表面に断熱層を設けたタイプについて説明する。断熱層は、金属支持体表面に直接設けても或いは陽極酸化皮膜を設けた金属支持体表面に設けてもよい。
【００３０】
断熱層、即ち断熱性下塗層は耐熱性かつ水溶性（親水性）の樹脂（高分子）を有することが好ましく、特に後述する現像液に可溶なものが更に好ましい。具体的には、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリビニルアルコール、ポリヒドロキシエチルアクリレート、ポリビニルピロリドン等のアクリル酸共重合体；ポリエチレンイミン、ジアクリルジメチルアルミニウムクロライド、ポリビニルイミダゾリン、ポリアルキルアミノエチルアクリレート等のマレイン共重合体；又ポリエチレングリコールポリオキシエチレン、ポイプロピレングリコール、エチレンジアミン、ヘキサエチレンジアミン、ポリウレタン樹脂、ポリヒドロキシメチル尿素、ポリヒドロキシメチルメラミン樹脂、更に可溶性デンプン、ＣＭＣ（カルボキシメチルセルロース）、ヒドロキシエチルセルロース、グアーガム、トラガカントゴム、キサンタンガム、アルギン酸ソーダ、ゼラチン等の水溶性高分子が挙げられる。
【００３１】
これらは水溶液として支持体に塗布し断熱層を形成するが、上記水溶性高分子を１０重量％以下、好ましくは０．００１〜１重量％を含有するのがよく、又ｐＨ値９以下、好ましくは４〜９であり、温度３０℃以上、好ましくは５０〜９５℃の条件下で上記の条件を備えていることがよい。
【００３２】
本発明における断熱層を形成する構成成分として、更に特開昭６０−１４９４９１号、同６３−１６５１８３号に記載のアミノ酸及びその塩、特開昭６０−２３２９９８号に記載の水酸基を有するアミン類及びその塩、特開昭６２−１９４９４号に記載のリン酸塩、特開昭５９−１０１６５１号に記載のスルホ基を有するモノマー単位を含む高分子化合物等を挙げることができる。又、金属支持体がアルミニウム板である場合、陽極酸化処理後に米国特許第３，１８１，４６１号に記載されているアルカリ金属シリケートで処理を行い、断熱層とすることも可能である。又断熱層の別の形態として、陽極酸化処理後に１つ以上のアミノ基と、カルボキシル基、スルホ基及びホスホン基から選ばれた１つ以上の基を有する化合物又はその塩を用いて支持体表面を処理することもでき、該化合物の具体例としては、グリシン、アラニン、バリン、セリン、スレオニン、アスパラギン酸、グルタミン酸、アルキニン、リジン、トリプトファン、パラヒドロキシフェニルグリシン、ジヒドロキシエチルグリシン、アントラニル酸等のアミノ酸；１−アミノメチルホスホン酸、２−アミノメチルホスホン酸、２−アミノプロピルホスホン酸、４−アミノフェニルホスホン酸、１−アミノエタン−１，１−ジホスホン酸、１−アミノ−１−フェニルメタン−１，１−ジホスホン酸、１−ジメチルアミノブタン−１，１−ジホスホン酸、エチレンジアミンテトラメチレンホスホン酸等のホスホン酸或いはホスホン酸基をホスフィン酸基に変えたホスフィン酸等の化合物又は塩酸、硫酸、硝酸、スルホン酸（メタンスルホン酸等）、蟻酸、アルカリ金属、アンモニア、低級アルカノールアミン（トリエタノールアミン等）、低級アルキルアミン（トリエチルアミン）等の塩が挙げられる。
【００３３】
本発明においては、上記金属支持体の表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．３以上０．７μｍ以下であり、又平均粗さ（Ｒｚ）が３．０以上６．０μｍ以下であることが好ましい。Ｒａが０．３μｍ未満では断熱層及び感光層との密着不良を起こし、又０．７μｍを越えると逆に密着性は改善するものの、表面エネルギーγが低下する傾向にある。又、Ｒｚが３．０μｍ未満では表面エネルギーγは向上するが、密着性が不十分であり、６．０μｍを越えると表面エネルギーγが低下し、非画線部の汚れが目立ち画像形成し支障を来す。
【００３４】
又、上記金属支持体の感光層を除去した際の支持体の表面エネルギーγ（Ｈ：水素結合力）が、下記式で１５以上５０ｄｙｎ／ｃｍ以下であることが好ましい。
【００３５】
γ（Ｈ）ｄｙｎ／ｃｍ＝
〔（１．１５９＋２．１５９×ｃｏｓ（接触角：Ｈ₂Ｏ）
−ｃｏｓ（接触角：ＣＨ₂Ｉ₂）〕／０．３７９²
（接触角はＨ₂Ｏ：１．７μｌ、ＣＨ₂Ｉ₂：１．３μｌを滴下し３０秒後に測定）
本発明に用いられる金属支持体（特にアルミニウム板）は、画像形成の際その表面が水を受容して油性インキを反撥する領域（非画線部）を担うように使用されるため、親水性、保水性が優れていること、又感光層との接着性が優れているという相反する性能が要求される。非画線部の保水性が高いと調子再現性、シャドー部の汚れ難さ等の印刷性能が向上するといわれ、従来も関連の有る物性値の測定が行われているが、非画線部を水で濡らし、続いて乾燥させる際のばらつきが大きく、十分な測定制度が得られないという問題があった。特開平６−２４７０７０号ではシリコンゴムローラーで水を絞る操作を行っているが、絞る速度、ローラー、測定箇所による変動が大きく、十分な再現性が得られなかった。そこで再現性良く水を保持させる方法について検討した結果、金属支持体を水に浸漬後、水面に垂直にして２ｃｍ／ｍｉｎの一定速度で引き上げることにより、金属支持体表面の水の保持量を制度よく測定できることを見出した。更に現像後の種々の金属支持体非画線部について、低速引き上げによる水の保持量と表面エネルギーγ（Ｈ）とを測定し、印刷性能との比較を行った結果、金属支持体非画線部の水の保持量が２．０〜６．０ｍｌ／ｍ²、上記の式で得られた表面エネルギーγ（Ｈ）が１５以上５０ｄｙｎ／ｃｍ以下の範囲であると、調子再現性、特にドットゲインに優れ、又保持量が３．０〜５．０ｍｌ／ｍ²の範囲で特に優れていることを見出した。水の保持量がこれより低いと調子再現性が劣るとともに非画線部の汚れが発生しやすくなる。又この範囲よりも高いと、一旦インキが付着した後の回復性、いわゆる汚れ回復等の印刷性能が劣る。又表面エネルギーγ（Ｈ）が５０ｄｙｎ／ｃｍより高いと調子再現性が劣る傾向にある。以上のように、本発明の好ましい態様は、金属支持体非画線部の湿し水の保持量、とりわけ親水性（表面エネルギーγ）を制御することであり、それにより調子再現性、特にドットゲインが改善されるという効果を奏する。
【００３６】
〈感光層〉
（活性光線の照射により酸を発生し得る化合物）
本発明に用いられる活性光線の照射により酸を発生し得る化合物（以下「光酸発生剤」という）としては、各種の公知化合物及び混合物が挙げられる。例えばジアゾニウム、ホスホニウム、スルホニウム、及びヨードニウムのＢＦ₄ ^-、ＰＦ₆ ^-、ＳｂＦ₆ ^-、ＳｉＦ₆ ^2-、ＣｌＯ₄ ^-などの塩、有機ハロゲン化合物、オルトキノン−ジアジドスルホニルクロリド、及び有機金属／有機ハロゲン化合物も活性光線の照射の際に酸を形成又は分離する活性光線感光性成分であり、本発明における光酸発生剤として使用することができる。原理的には遊離基形成性の光開始剤として知られるすべての有機ハロゲン化合物はハロゲン化水素酸を形成する化合物であり、本発明における光酸発生剤として使用することができる。
【００３７】
前記のハロゲン化水素酸を形成する化合物の例としては米国特許第３，５１５，５５２号、同第３，５３６，４８９号及び同第３，７７９，７７８号及び西ドイツ国特許公開公報第２，２４３，６２１号に記載されているものが挙げられ、又例えば西ドイツ国特許公開公報第２，６１０，８４２号に記載の光分解により酸を発生させる化合物も使用することができる。又、特開昭５０−３６２０９号に記載されているｏ−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸ハロゲニドを用いることができる。
【００３８】
本発明において、赤外線露光による画像形成過程での感度、及び画像形成材料として用いた際の保存性等の面から有機ハロゲン化合物が好ましい。該有機ハロゲン化合物としては、ハロゲン置換アルキル基を有するトリアジン類及びハロゲン置換アルキル基を有するオキサジアゾール類が好ましく、ハロゲン置換アルキル基を有するｓ−トリアジン類が特に好ましい。ハロゲン置換アルキル基を有するオキサジアゾール類の具体例としては、特開昭５４−７４７２８号、特開昭５５−２４１１３号、特開昭５５−７７７４２号、特開昭６０−３６２６号及び特開昭６０−１３８５３９号に記載の２−ハロメチル−１，３，４−オキサジアゾール系化合物が挙げられる。２−ハロメチル−１，３，４−オキサジアゾール系光酸発生剤の好ましい化合物例を下記に挙げる。
【００３９】
【化１】

【００４０】
上記ハロゲン置換アルキル基を有するｓ−トリアジン類としては、下記一般式（１）で表される化合物が好ましい。
【００４１】
【化２】

【００４２】
一般式（１）において、Ｒはアルキル基、ハロゲン置換アルキル基、アルコキシ基で置換されていてもよいフェニルビニレン基又はアリール基（例えばフェニル基、ナフチル基等）若しくはその置換体を表し、Ｘ₃はハロゲン原子を表す。一般式（１）で表されるｓ−トリアジン系光酸発生剤の化合物例を次に示す。
【００４３】
【化３】

【００４４】
【化４】

【００４５】
本発明において光酸発生剤の含有量は、その化学的性質及び感光層或いは感光層に含まれる化合物の物性によって広範囲に変えることができるが、感光層の固形分の全重量に対して約０．１〜約２０重量％の範囲が適当であり、好ましくは０．２〜１０重量％の範囲である。
【００４６】
（酸により分解し得る結合部を有する化合物）
本発明に用いられる酸により分解し得る結合部を有する化合物（以下「酸分解化合物」という）としては、具体的には、特開昭４８−８９００３号、同５１−１２０７１４号、同５３−１３３４２９号、同５５−１２９９５号、同５５−１２６２３６号、同５６−１７３４５号に記載されているＣ−Ｏ−Ｃ結合を有する化合物、特開昭６０−３７５４９号、同６０−１２１４４６号に記載されているＳｉ−Ｏ−Ｃ結合を有する化合物、特開昭６０−３６２５号、同６０−１０２４７号各公報に記載されているその他の酸分解化合物が挙げられ、更に特願昭６１−１６６８７号に記載されているＳｉ−Ｎ結合を有する化合物、特願昭６１−９４６０３号に記載されている炭酸エステル、特願昭６０−２５１７４４号に記載されているオルト炭酸エステル、特願昭６１−１２５４７３号に記載されているオルトチタン酸エステル、特願昭６１−１２５４７４号に記載されているオルトケイ酸エステル、特願昭６１−１５５４８１号に記載されているアセタール及びケタール、特願昭６１−８７７６９号に記載されているＣ−Ｓ結合を有する化合物などが挙げられる。
【００４７】
上記のうち前記特開昭５３−１３３４２９号、同５６−１７３４５号、同６０−１２１４４６号、同６０−３７５４９号及び特願昭６０−２５１７４４号、同６１−１５５４８１号に記載されているＣ−Ｏ−Ｃ結合を有する化合物、Ｓｉ−Ｏ−Ｃ結合を有する化合物、オルト炭酸エステル、アセタール類、ケタール類及びシリルエーテル類が好ましい。それらの中でも特開昭５３−１３３４２９号に記載された主鎖中に繰り返しアセタール又はケタール部分を有し、現像液中でのその溶解度が酸の作用によって上昇する有機重合化合物及び特開昭６３−１０１５３号に記載の下記構造単位
【００４８】
【化５】

【００４９】
を有し、酸により分解し得る化合物が特に好ましい。
【００５０】
本発明に用いられる酸分解化合物の具体例としては前記各公知例に記載された化合物を挙げることができる。又、該化合物の合成方法も前記各公知例に記載されている。
【００５１】
本発明において、酸分解化合物として、−（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）_n−基（ｎは２〜５の整数を表す）を有する化合物が感度及び現像性のバランスの点から好ましい。又、該化合物のうちエチレンオキシ基の連鎖数ｎが３又は４の化合物が特に好ましい。上記−（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）_n−基を有する化合物の具体例としてはジメトキシシクロヘキサン、ベンズアルデヒド及びそれらの置換誘導体と、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール及びペンタエチレングリコールの何れかとの縮合生成物が挙げられる。
【００５２】
又、本発明において、酸分解化合物として、下記一般式（２）で表される化合物が感度及び現像性の点から好ましい。
【００５３】
【化６】

【００５４】
式中、Ｒ、Ｒ₁及びＲ₂は各々水素原子、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数１〜５のアルコキシ基、スルホ基、カルボキシル基又はヒドロキシル基を表し、ｐ、ｑ及びｒは各々１〜３の整数を表し、ｍ及びｎは各々１〜５の整数を表す。Ｒ、Ｒ₁及びＲ₂が表すアルキル基は直鎖でも分岐でもよく、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基等が挙げられ、アルコキシ基としては例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ペントキシ基等が挙げられ、スルホ基及びカルボキシル基はその塩を包含する。一般式（２）で表される化合物のうち、ｍ及びｎが１又は２である化合物が特に好ましい。一般式（２）で表される化合物は公知の方法で合成することができる。
【００５５】
本発明において、酸分解化合物の含有量は、感光層を形成する組成物の全固形分に対し、５〜７０重量％が好ましく、特に好ましくは１０〜５０重量％である。酸分解化合物は１種を用いてもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。
【００５６】
（酸により架橋する基を有する化合物）
本発明において、酸により架橋する基を有する化合物としては、酸の存在下でアルカリ可溶性樹脂と架橋し得る化合物（以下、架橋剤という）、即ち架橋しアルカリに対する溶解性を低減させ得る架橋剤である。アルカリに対する溶解性を低減させ得る程度としては、アルカリ可溶性樹脂と架橋することによって該樹脂が全くのアルカリ不溶性を示す物性に変化すればよく、具体的には、画像形成材料として用いた際、露光により前記架橋剤の作用で本来アルカリ可溶性であったものが現像剤として用いるアルカリ溶液に対して不溶性を示し、支持体上に残存している状態を表す。前記架橋剤としては、メチロール基又はメチロール基の誘導体、メラミン樹脂、フラン樹脂、イソシアネート、ブロックド−イソシアネート（保護基を有すイソシアネート）などが挙げられるが、メチロール基又はアセチル化メチロール基を有している架橋剤が望ましい。感光層固形分に対する添加量は１〜８０重量％、好ましくは５〜６０重量％である。
【００５７】
（赤外線吸収剤）
本発明に用いられる赤外線吸収剤としては、波長７００ｎｍ以上に吸収を持つ赤外吸収色素、カーボンブラック、磁性粉等を使用することができる。特に好ましい赤外線吸収剤は７００〜８５０ｎｍに吸収ピークを有し、ピークでのモル吸光係数εが１０⁵以上の赤外吸収色素である。
【００５８】
上記赤外吸収色素としては、シアニン系色素、スクアリウム系色素、クロコニウム系色素、アズレニウム系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン系色素、ポリメチン系色素、ナフトキノン系色素、チオピリリウム系色素、ジチオール金属錯体系色素、アントラキノン系色素、インドアニリン金属錯体系色素、分子間ＣＴ色素等が挙げられる。上記赤外吸収色素としては、特開昭６３−１３９１９１号、同６４−３３５４７号、特開平１−１６０６８３号、同１−２８０７５０号、同１−２９３３４２号、同２−２０７４号、同３−２６５９３号、同３−３０９９１号、同３−３４８９１号、同３−３６０９３号、同３−３６０９４号、同３−３６０９５号、同３−４２２８１号、同３−１０３４７６号等に記載の化合物が挙げられる。
【００５９】
本発明において、赤外線吸収剤として、下記一般式（３）又は（４）で表されるシアニン系色素が特に好ましい。
【００６０】
【化７】

【００６１】
式中、Ｚ₁及びＺ₂は各々硫黄原子、セレン原子又は酸素原子を表し、Ｘ₁及びＸ₂は各々置換基を有していてもよいベンゾ縮合環又はナフト縮合環を形成するのに必要な非金属原子群を表し、Ｒ₃及びＲ₄は各々置換基を表し、Ｒ₃及びＲ₄のどちらか一方はアニオン性解離性基を有する。Ｒ₅、Ｒ₆、Ｒ₇及びＲ₈は各々炭素原子数１〜３のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。Ｌは炭素原子数５〜１３の共役結合の連鎖を表す。
【００６２】
一般式（３）又は（４）で表されるシアニン系色素は、一般式（３）又は（４）がカチオンを形成し、対アニオンを有するものを包含する。この場合、対アニオンとしては、Ｃｌ^-、Ｂｒ^-、ＣｌＯ₄ ^-、ＢＦ₄ ^-、ｔ−ブチルトリフェニルホウ素等のアルキルホウ素等が挙げられる。
【００６３】
一般式（３）及び（４）において、Ｌで表される共役結合の連鎖の炭素原子数（ｎ）は、画像露光の光源として赤外線を放射するレーザーが使用される場合、該レーザーの発信波長に合わせて有効な値を選択することが好ましい。例えば、発信波長１０６０ｎｍのＹＡＧレーザーを使用する場合は、ｎは９〜１３が好ましい。又、この共役結合部分は任意の置換基を有することができ、又共役結合部分は複数の置換基により環を形成させてもよい。又、Ｘ₁で表される環及びＸ₂で表される環には任意の置換基を有することができる。該置換基としてハロゲン原子、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数１〜５のアルコキシ基、−ＳＯ₃Ｍ及び−ＣＯＯＭ（Ｍは水素原子又はアルカリ金属原子）から選ばれる基が好ましい。Ｒ₃及びＲ₄は各々任意の置換基であるが、好ましくは炭素原子数１〜５のアルキル基若しくは炭素原子数１〜５のアルコキシ基；−（（ＣＨ₂）_n−Ｏ−）_k−（ＣＨ₂）_mＯＲ（ｎ及びｍは各々１〜３の整数、ｋは０又は１、Ｒは炭素原子数１〜５のアルキル基を表す。）；Ｒ₃及びＲ₄の一方が−Ｒ−ＳＯ₃Ｍで他方が−Ｒ−ＳＯ₃ ^-（Ｒは炭素原子数１〜５のアルキル基、Ｍはアルカリ金属原子を表す）；又はＲ₃及びＲ₄の一方が−Ｒ−ＣＯＯＭで他方が−Ｒ−ＣＯＯ^-（Ｒは炭素原子数１〜５のアルキル基、Ｍはアルカリ金属原子を表す。）である。Ｒ₃及びＲ₄は、感度及び現像性の点から、Ｒ₃及びＲ₄の一方が上記−Ｒ−ＳＯ₃ ^-又は−Ｒ−ＣＯＯ^-、他方が上記−Ｒ−ＳＯ₃Ｍ又は−Ｒ−ＣＯＯＭであることが好ましい。
【００６４】
一般式（３）又は（４）で表されるシアニン系色素は、画像露光の光源として半導体レーザーを使用する場合は７５０〜９００ｎｍ、ＹＡＧレーザーを使用する場合は９００〜１２００ｎｍにおいて吸収ピークを示し、ε＞１×１０⁵のモル吸光係数を有するものが好ましい。
【００６５】
本発明に好ましく用いられる赤外線吸収剤の代表的具体例を以下に挙げるが、これらに限定されるものではない。
【００６６】
【化８】

【００６７】
【化９】

【００６８】
【化１０】

【００６９】
【化１１】

【００７０】
【化１２】

【００７１】
【化１３】

【００７２】
【化１４】

【００７３】
【化１５】

【００７４】
【化１６】

【００７５】
【化１７】

【００７６】
【化１８】

【００７７】
【化１９】

【００７８】
【化２０】

【００７９】
【化２１】

【００８０】
これらの色素は公知の方法によって合成することができるが、下記のような市販品を用いることもできる。
【００８１】
日本化薬：ＩＲ７５０（アントラキノン系）；ＩＲ００２，ＩＲ００３（アルミニウム系）；ＩＲ８２０（ポリメチン系）；ＩＲＧ０２２，ＩＲＧ０３３（ジインモニウム系）；ＣＹ−２，ＣＹ−４，ＣＹ−９，ＣＹ−２０、三井東圧：ＫＩＲ１０３，ＳＩＲ１０３（フタロシアニン系）；ＫＩＲ１０１，ＳＩＲ１１４（アントラキノン系）；ＰＡ１００１，ＰＡ１００５，ＰＡ１００６，ＳＩＲ１２８（金属錯体系）、大日本インキ化学：Ｆａｓｔｏｇｅｎ ｂｌｕｅ８１２０、みどり化学：ＭＩＲ−１０１，１０１１，１０２１等。その他、日本感光色素、住友化学、富士写真フイルム等の各社からも市販されている。
【００８２】
本発明において、赤外線吸収剤の添加量は、０．５〜１０重量％の範囲が好ましい。該添加量が１０重量％を越えると非画像部（露光部）の現像性が低下し、０．５重量％未満では画像部の耐現像性が低下する。
【００８３】
（溶剤）
本発明に用いられる溶剤について説明する。例えばｎ−プロパノール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、イソブタノール、２−メチル−１−ブタノール、３−メチル−１−ブタノール、２−メチル−２−ブタノール、２−エチル−１−ブタノール、１−ペンタノール、２−ペンタノール、３−ペンタノール、ｎ−ヘキサノール、２−ヘキサノール、シクロヘキサノール、メチルシクロヘキサノール、１−ヘプタノール、２−ヘプタノール、３−ヘプタノール、１−オクタノール、４−メチル−２−ペンタノール、２−ヘキシルアルコール、ベンジルアルコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，５−ペンタングリコール、ジメチルトリグリコール、フリフリルアルコール、ヘキシレングリコール、ヘキシルエーテル、３−メトキシ−１−ブタノール、３−メトキシ−３−メチルブタノール、ブチルフェニルエーテル、エチレングリコールモノアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭ）、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールフェニルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、メチルカルビトール、エチルカルビトール、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトール、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、ジアセトンアルコール、アセトフェノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、アセトニルアセトン、イソホロン、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、炭酸プロピレン、酢酸フェニル、酢酸−ｓｅｃ−ブチル、酢酸シクロヘキシル、シュウ酸ジエチル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、γ−ブチルラクトン、３−メトキシ−１−ブタノール、４−メトキシ−１−ブタノール、３−エトキシ−１−ブタノール、３−メトキシ−３−メチル−１−ブタノール、３−メトキシ−３−エチル−１−ペンタノール、４−エトキシ−１−ペンタノール、５−メトキシ−１−ヘキサノール、３−ヒドロキシ−２−ブタノン、４−ヒドロキシ−２−ブタノン、４−ヒドロキシ−２−ペンタノン、５−ヒドロキシ−２−ペンタノン、４−ヒドロキシ−３−ペンタノン、６−ヒドロキシ−２−ペンタノン、４−ヒドロキシ−３−ペンタノン、６−ヒドロキシ−２−ヘキサノン、３−メチル−３−ヒドロキシ−２−ペンタノン、メチルセルソルブ（ＭＣ）、エチルセルソルブ（ＥＣ）等が挙げられる。又アリルアルコール、イソプロピルエーテル、ブチルエーテル、アニソール、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチルカルビトール、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジオキソラン、アセトン、メチルプロピルケトン、メチルエチルケトン、メチルアミルケトン、ジエチルケトン、エチルブチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、３−ヒドロキシ−２−ブタノン、４−ヒドロキシ−２−ブタノン、酢酸−２−メトキシエチル、酢酸−２−エトキシエチル、酢酸メトキシブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸プロピル、酪酸メチル、酪酸エチル、酪酸ブチル、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、ｎ−ペンタン、２−メチルペンタン、３−エチルペンタン、メチルシクロペンタン、ｎ−ヘキサン、イソヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ｎ−ヘプタン、シクロヘプタン、ｎ−オクタン、イソオクタン、ノナン、デカン、ベンゼン、トルエン、ｏ−キシレン、ｍ−キシレン、ｐ−キシレン、エチルベンゼン、ｏ−ジエチルベンゼン、ｍ−ジエチルベンゼン、ｐ−ジエチルベンゼン、クメン、ｎ−アミルベンゼン、ジメチルジグリコール（ＤＭＤＧ）、エタノール等が挙げられる。
【００８４】
（結合剤）
結合剤に使用する高分子重合体としては、例えば、ポリアミド、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリウレタン、ポリビニルクロライド、及びそのコポリマー、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、シェラック、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、アクリル樹脂等が挙げられる。
【００８５】
上記フェノール樹脂としては、ノボラック樹脂が挙げられ、例えばフェノール・ホルムアルデヒド樹脂、クレゾール・ホルムアルデヒド樹脂、特開昭５５−５７８４１号に記載されているようなフェノール・クレゾール・ホルムアルデヒド共重縮合体樹脂、特開昭５５−１２７５５３号に記載されているような、ｐ−置換フェノールとフェノールもしくは、クレゾールとホルムアルデヒドとの共重縮合体樹脂等が挙げられる。
【００８６】
又上記アクリル樹脂としては、下記（１）〜（１７）に記載のモノマーの混合物を共重合して得られた共重合高分子重合体が挙げられる。
【００８７】
上記モノマー混合物には、上記モノマーと共重合し得る他のモノマーを混合してもよい。又、高分子重合体は、上記モノマーの共重合体によって得られる共重合体を例えば、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート等によって修飾したものであってもよい。
【００８８】
（１）芳香族水酸基を有するモノマー、例えば、ｏ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｏ−ヒドロキシフェニルアクリレート、ｐ−ヒドロキシフェニルアクリレート、ｍ−ヒドロキシフェニルアクリレート等。
【００８９】
（２）脂肪族水酸基を有するモノマー、例えば、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２ーヒドロキシエチルメタクリレート、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、４−ヒドロキシブチルメタクリレート、５−ヒドロキシペンチルアクリレート、５−ヒドロキシペンチルメタクリレート、６ーヒドロキシヘキシルアクリレート、６−ヒドロキシヘキシルメタクリレート、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アクリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）メタクリルアミド、ヒドロキシエチルビニルエーテル等。
【００９０】
（３）アミノスルホニル基を有するモノマー、例えば、ｍ−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、ｐ−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、ｍ−アミノスルホニルフェニルアクリレート、ｐ−アミノフェニルアクリレート、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−アアミノスルホニルフェニル）アクリルアミド等。
【００９１】
（４）スルホンアミド基を有するモノマー、例えば、Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）アクリルアミド、Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）メタクリルアミド等。
【００９２】
（５）α、β−不飽和カルボン酸類、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、無水イタコン酸等。
【００９３】
（６）置換又は無置換のアルキルアクリレート、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸ヘプチル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ノニル、アクリル酸デシル、アクリル酸ウンデシル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸−２−クロロエチル、Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート、グリシジルアクリレート等。
【００９４】
（７）置換又は無置換のアルキルメタクリレート、例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸ヘプチル、メタクリル酸オクチル、メタクリル酸ノニル、メタクリルデシル、メタクリル酸ウンデシル、メタクリル酸ウンデシル、メタクリル酸ドデシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸−２−クロロエチル、Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート等。
【００９５】
（８）アクリルアミド若しくはメタクリルアミド類、例えば、アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−ヘキシルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ニトロフェニルアクリルアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミド等。
【００９６】
（９）フッ化アルキル基を含有するモノマー、例えば、トリフルオロエチルアクリレート、トリフルオロエチルメタクリレート、テトラフルオロプロピルメタクリレート、ヘキサフルオロプロピルメタクリレート、オクタフルオロペンチルアクリレート、オクタフルオロペンチルメタクリレート、ヘプタデカフルオロデシルメタクリレート、Ｎ−ブチル−Ｎ−（２−アクリロキシエチル）ヘプタデカフルオロオクチルスルホンアミド等。
【００９７】
（１０）ビニルエーテル類、例えば、エチルビニルエーテル、２−クロロエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル類。
【００９８】
（１１）ビニルエステル類、例えば、ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等。
【００９９】
（１２）スチレン類、例えば、スチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン等。
【０１００】
（１３）ビニルケトン類、例えば、メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等。
【０１０１】
（１４）オレフィン類、例えば、エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレン等。
【０１０２】
（１５）Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾール、４−ビニルピリジン等。
【０１０３】
（１６）シアノ基を有するモノマー、例えばアクリロニトリル、メタクリロニトリル、２−ペンテンニトリル、２−メチル−３−ブテンニトリル、２−シアノエチルアクリレート、ｏ−シアノスチレン、ｍ−シアノスチレン、ｐ−シアノスチレン等。
【０１０４】
（１７）アミノ基を有するモノマー、例えばＮ，Ｎ−ジエチルアミノエチルメタクリレート、Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート、ポリブタジエンウレタンアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、アクリロイルモルホリン、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド等。
【０１０５】
上記、共重合体は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって、測定された重量平均分子量が１万〜２０万のものが好ましいが、当該共重合体の重量平均分子量はこの範囲に限定されるものではない。
【０１０６】
上記高分子重合体には、必要に応じて、ポリビニルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ノボラック樹脂、天然樹脂等、他の任意の高分子重合体を併用してもよい。
【０１０７】
感光性組成物中における高分子重合体の含有量は、２０〜９０重量％の範囲が好ましく、３０〜７０重量％の範囲が更に好ましい。
【０１０８】
本発明の好ましい態様として、ノボラック樹脂及びアクリル樹脂を含有する態様が挙げられる。該アクリル樹脂はアクリル酸、メタクリル酸、又はそれらのエステル類を構成単位とする重合体が好ましい。ノボラック樹脂は感光層に対して２０〜８０重量％の範囲で含有させることが好ましく、アクリル樹脂は感光層に対して１〜５０重量％の範囲で含有させることが好ましく、５〜３０重量％の範囲がより好ましい。
【０１０９】
又本発明の好ましい態様としてノボラック樹脂及びノニオン界面活性剤を含有する態様が挙げられる。ノニオン界面活性剤としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル、ポリオキシエチレン誘導体、オキシエチレン・オキシプロピレンブロックコポリマー、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミン、アルキルアルカノールアミド、ポリエチレングリコール等が挙げられる。ノボラック樹脂は感光層固形分に対して２０〜８０重量％の範囲で含有させることが好ましく、ノニオン界面活性剤は感光層固形分に対して０．０１〜１０重量％の範囲で含有させることが好ましく、０．１〜１．０重量％の範囲がより好ましい。
【０１１０】
本発明においては、フッ素系界面活性剤を０．００１〜５重量％含有させることが経時による非画像部の汚れ発生防止の点から好ましい。フッ素系界面活性剤としては例えば次のような化合物が挙げられる。
【０１１１】
【化２２】

【０１１２】
フッ素系界面活性剤としては市販品を用いることもでき、例えばサーフロン「Ｓ−３８１」、「Ｓ−３８２」、「ＳＣ−１０１」、「ＳＣ−１０２」、「ＳＣ−１０３」、「ＳＣ−１０４」（何れも旭硝子（株）製）、フロラード「ＦＣ−４３０」、「ＦＣ−４３１」、「ＦＣ−１７３」（何れもフロロケミカル−住友スリーエム製）、エフトップ「ＥＦ３５２」、「ＥＦ３０１」、「ＥＦ３０３」（何れも新秋田化成（株）製）、シュベゴーフルアー「８０３５」、「８０３６」（何れもシュベグマン社製）、「ＢＭ１０００」、「ＢＭ１１００」（いずれもビーエム・ヒミー社製）、メガファック「Ｆ−１７１」、「Ｆ−１７７」、「Ｆ−１７９」（いずれも大日本インキ化学（株）製）、などを挙げることができる。
【０１１３】
本発明におけるフッ素系界面活性剤のフッ素含有割合は、０．０５〜２％、好ましくは０．１〜１％である。上記のフッ素系界面活性剤は、１種又は２種以上を併用することができ、又その他の界面活性剤と併用することができる。
【０１１４】
更に、感光層には、感脂性を向上するために親油性の樹脂を添加することができる。上記親油性の樹脂としては、例えば特開昭５０−１２５８０６号に記載されているような、炭素数３〜１５のアルキル基で置換されたフェノール類とアルデヒドの縮合物、例えばｔ−ブチルフェノールホルムアルデヒド樹脂などが使用可能である。感光層には必要に応じて、更に上記以外の色素、顔料、増感剤、可視画剤等を含有させることができる。
【０１１５】
本発明の画像形成材料は、上述した金属支持体上に、上記の感光性組成物を含有する感光層を有してなることを特徴とする。具体的には、上記の感光性組成物の塗布液を支持体の表面に塗布して感性層を設け、乾燥することで得られる。本発明においては、上記感光層の残留溶剤量が５ｍｇ／ｍ²以下であることが好ましく、更に好ましくは３ｍｇ／ｍ²以下である。
【０１１６】
本発明の画像形成材料の製造方法は、上述した金属支持体上に上記感光性組成物を設けた後、好ましくは乾燥温度８５℃以上、乾燥時間１０秒以上の条件で処理を行う。好ましくは乾燥温度９０℃以上、乾燥時間３０秒以上であり、それらの条件で感光層表面の残留溶剤量が５ｍｇ／ｍ²以下となるよう処理することが好ましい。
【０１１７】
塗布方法は従来公知の方法、例えば回転塗布、ワイヤーバー塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ロール塗布、ブレード塗布及びカーテン塗布等が可能である。塗布量は用途により異なるが、例えば、感光性平版印刷版についていえば固形分として０．５〜５．０ｇ／ｍ²が好ましい。
【０１１８】
〔２〕画像形成方法
本発明の画像形成材料には波長７００ｎｍ以上の光源を用い画像露光を行うのが好ましい。光源としては、半導体レーザー、Ｈｅ−Ｎｅレーザー、ＹＡＧレーザー、炭酸ガスレーザー等が挙げられる。出力は５０ｍＷ以上が適当であり、好ましくは１００ｍＷ以上である。
【０１１９】
本発明の画像形成材料の現像に用いられる現像液としては、水系アルカリ現像液が好適である。水系アルカリ現像液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム、第二リン酸ナトリウム、第三リン酸ナトリウム等のアルカリ金属塩の水溶液が挙げられる。アルカリ金属塩の濃度は０．０５〜２０重量％の範囲で用いるのが好適であり、より好ましくは、０．１〜１０重量％である。
【０１２０】
本発明の画像形成方法において、現像液には、必要に応じアニオン性界面活性剤、両性界面活性剤やアルコール等の有機溶剤を加えることができる。
【０１２１】
有機溶剤としては、プロピレングリコール、エチレングリコールモノフェニルエーテル、ベンジルアルコール、ｎ−プロピルアルコール等が有用である。
【０１２２】
【実施例】
以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明の態様はこれに限定されない。尚、以下の「部」は「重量部」を表す。
【０１２３】
実施例１
〈支持体１の作製〉
厚さ０．３ｍｍのアルミニウム板（材質１０５０、調質Ｈ１６）を６５℃に保たれた５％水酸化ナトリウム水溶液で１分間脱脂処理を行った後水洗し、２５℃に保たれた１０％硫酸水溶液中に１分間浸積して中和し、更に水洗した。このアルミニウム板を１．０重量％の硝酸水溶液中において温度２５℃、電流密度１０Ａ／ｄｍ²、処理時間６０秒の条件で交流電流により電解粗面化を行なった。次いで、５％水酸化ナトリウム水溶液中で温度６０℃、１０秒間のデスマット処理を行ない、その後２０％硫酸溶液中で温度２０℃、電流密度３Ａ／ｄｍ²、処理時間１分間の条件で陽極酸化処理を行った。その後、８０℃に保たれた１％酢酸アンモニウム水溶液中に３０秒間浸積し、水洗後８０℃で３分間乾燥した。更に８５℃に保たれたカルボキシメチルセルロース（以下、ＣＭＣと略す）の水溶液（濃度０．１重量％）に３０秒浸積して断熱層を設けた後、８０℃で５分間乾燥し支持体を作製した。尚、断熱層の皮膜量は０．０１ｍｇ／ｍ²であった。
【０１２４】
（酸分解化合物Ａの合成）
１．１−ジメトキシシクロヘキサノン（０．５モル）、２−フェノキシエタノール（１．０モル）及びｐ−トルエンスルホン酸８０ｍｇを混合し、攪拌させながら１２０℃で８時間反応させた。反応により生成するメタノール及び反応溶剤は、反応終了後除去した。冷却後、水で洗浄し水酸化ナトリウム溶液で洗浄し、その後中性になるまで飽和食塩水で洗浄し、得られた化合物を無水炭酸カリウムで脱水した後濃縮乾固して目的の下記酸分解化合物Ａの白色結晶を得た。
【０１２５】
（感光性組成物１の作製）
以下に示すような割合で混合し感光性組成物とした。
【０１２６】
バインダーＡ ６０．７５部
バインダーＢ 分子量；３８０００ １５部
酸分解化合物Ａ ２０部
酸発生剤（例示（１）） ３部
シアニン色素（例示ＩＲ−２５） １部
界面活性剤（旭硝子Ｓ−３８１） ０．２５部
溶剤（ＰＧＭ） １０００部
バインダーＡ：フェノールとｍ−，ｐ−混合クレゾールとホルムアルデヒドとの共縮合化合物 Ｍｗ＝３７００（フェノール／ｍ−クレゾール／ｐ−クレゾールのモル比が５／５７／３８
【０１２７】
【化２３】

【０１２８】
（画像形成材料の作製）
前記作製した支持体上に、上記組成の感光性組成物よりなる感光層塗布液を、乾燥後の膜厚が２．０ｇ／ｍ²になるようにワイヤーバー塗布を行ない９５℃で９０秒間乾燥して画像形成材料（感光性平版印刷版）を得た。尚、ここでいう感光層を感光層１とする。
【０１２９】
（画像形成）
得られた感光性平版印刷版を半導体レーザー（波長８３０ｎｍ、出力５００ｍｗ）で画像露光を行なった。レーザー光径はピークにおける強度の１／ｅ²で１３μｍであった。又、解像度は走査方向、副走査方向とも２０００ｄｐｉとした。
【０１３０】
画像露光後、コニカ平版印刷版用現像液ＳＤＲ−１（コニカ（株）製）と水との比が１：５となるよう希釈した。その後３０℃に保った現像液に３０秒間浸積して現像を行なった後、水洗、乾燥を行なった。この際、非画線部（露光部）を除去し、ポジ型画像を形成する。
【０１３１】
〈評価〉
（感度）
上記条件において露光部が現像されるのに必要な露光エネルギー（ｍｊ／ｃｍ²）で評価した。
【０１３２】
（ドットゲイン）
上記感度にて画像形成した平版印刷版で得られたデータを元に、最適露光条件を設定し、別途用意した平版印刷版に最適露光エネルギーで再度画像露光を行い、現像し小点を作成した。印刷機（三菱重工業（株）ＤＡＩＹＡ１Ｆ−Ｉ）、コート紙、湿し水（東京インキ（株）ＳＧ−５１，濃度１．５％）、インキ（東洋インキ製造（株）製ハイプラスＭ紅）を使用し、画像部の濃度を１．６にして印刷を行ったときの印刷物上のスクリーン線数１５０ｌｉｎｅ／ｉｎｃｈの５０％網点を測定しゲイン量を測定した。面積の測定はマクベス濃度計を使用した。
【０１３３】
実施例２
以下に示すような割合で混合し感光性組成物とした。
【０１３４】

（画像形成材料の作製）
前記作製した支持体上に、上記組成の感光性組成物よりなる感光層塗布液を実施例１同様に塗布を行ない、画像形成材料（感光性平版印刷版）を得た。尚、ここでいう感光層を感光層２とする。
【０１３５】
（画像形成）
得られた感光性平版印刷版を半導体レーザー（波長８３０ｎｍ、出力５００ｍｗ）で画像露光を行なった。その際、レーザー光径はピークにおける強度の１／ｅ²で１３μｍであった。又、解像度は走査方向、副走査方向とも２０００ｄｐｉとした。画像露光後、コニカ平版印刷版用現像液ＳＤＲ−１（コニカ（株）製）と水との比が１：５となるよう希釈した。その後３０℃に保った現像液に３０秒間浸漬して現像を行なった後、水洗、乾燥を行なった。この際、非画線部（露光部）を除去し、ネガ型画像を形成する。評価は、実施例１と同様に行った。
【０１３６】
実施例３〜２０
実施例１で用いた支持体１を表１及び表２に示すように変更した他は同様にして実施例３〜２０を行った。尚、実施例１〜１０は態様１及び２における本発明であり、実施例１１〜１４は態様１における本発明であり、実施例１５〜２０は比較例である。
【０１３７】
得られた結果を以下の表１及び表２に示す。
【０１３８】
【表１】

【０１３９】
【表２】

【０１４０】
表１及び表２から明らかなように、本発明により得られたポジ型或いはネガ型の平版印刷版は、赤外線による露光で画像形成が可能であるのみならず赤外線に対する感度が高く、かつドットゲインの変動の少ない良好な画像を呈することが分かる。
【０１４１】
実施例２１〜３６
以下のようにして支持体を作製した。
【０１４２】
〈支持体１１の作製〉
厚さ０．２４ｍｍのアルミニウム板（材質１０５０、調質Ｈ１６）を６５℃に保たれた５％水酸化ナトリウム水溶液で１分間脱脂処理を行った後水洗した。その後、２．２５ＫＷモーターからなる研磨ブラシ（材質：ナイロン）３本でストンパウダー２０％水溶液の研磨剤を使用し、搬送速度６ｍ／分でブラシ研磨を行った。次に温度２０℃、２．５％塩酸浴において電流密度２０Ａ／ｄｍ²、電解時間１０秒間（電気容量として２００クーロン）交流電解研磨し、水洗処理後５％水酸化ナトリウムで５０℃、５秒間デスマット処理し、次いで５０％硝酸で中和洗浄した。
【０１４３】
〈支持体１２の作製〉
厚さ０．２４ｍｍのアルミニウム板（材質１０５０、調質Ｈ１６）を６５℃に保たれた５％水酸化ナトリウム水溶液で１分間脱脂処理を行った後水洗した。その後、２．２５ＫＷモーターからなる研磨ブラシ（材質：ナイロン）３本でストンパウダー２０％水溶液の研磨剤を使用し、搬送速度６ｍ／分でブラシ研磨を行った。次に温度２０℃、１．０ｗｔ％の硝酸水溶液中において、温度２５℃、電流密度１０Ａ／ｄｍ²、処理時間６０秒の条件で交流電流により電解粗面化を行なった。次いで、５％水酸化ナトリウム水溶液中で温度６０℃、１０秒間のデスマット処理を行なった後、５０％硝酸で中和洗浄した。
【０１４４】
〈支持体１３の作製〉
厚さ０．２４ｍｍのアルミニウム板（材質１０５０、調質Ｈ１６）を６５℃に保たれた５％水酸化ナトリウム水溶液で１分間脱脂処理を行った後水洗した。その後、２．２５ＫＷモーターからなる研磨ブラシ（材質：ナイロン）３本でストンパウダー２０％水溶液の研磨剤を使用し、搬送速度６ｍ／分でブラシ研磨を行った。次に温度２０℃、１．０ｗｔ％の硝酸水溶液中において、温度２５℃、電流密度１０Ａ／ｄｍ²、処理時間６０秒の条件で交流電流により電解粗面化を行なった。次いで、５％水酸化ナトリウム水溶液中で温度６０℃、１０秒間のデスマット処理を行なった。その後、２０％硫酸溶液中で温度２０℃、電流密度３Ａ／ｄｍ²、処理時間１分間の条件で陽極酸化処理を行い、水洗、乾燥した。
【０１４５】
〈支持体１４の作製〉
厚さ０．２４ｍｍのアルミニウム板（材質１０５０、調質Ｈ１６）を６５℃に保たれた５％水酸化ナトリウム水溶液で１分間脱脂処理を行った後水洗した。その後、２．２５ＫＷモーターからなる研磨ブラシ（材質：ナイロン）３本でストンパウダー２０％水溶液の研磨剤を使用し、搬送速度６ｍ／分でブラシ研磨を行った。次に温度２０℃、１．０ｗｔ％の硝酸水溶液中において、温度２５℃、電流密度１０Ａ／ｄｍ²、処理時間６０秒の条件で交流電流により電解粗面化を行 なった。次いで、５％水酸化ナトリウム水溶液中で温度６０℃、１０秒間のデスマット処理を行なった。その後、２０％硫酸溶液中で温度２０℃、電流密度３Ａ／ｄｍ²、処理時間１分間の条件で陽極酸化処理を行った。８５℃に保たれたポリビニルホスホン酸（以下、ＰＶＰＡと略す）の水溶液（濃度０．１ｗｔ％）に３０秒浸漬した後、８０℃で５分間乾燥した（断熱材：ＰＶＰＡの付き量０．０１ｍｇ／ｍ²）。
【０１４６】
〈支持体１５の作製〉
厚さ０．２４ｍｍのアルミニウム板（材質１０５０、調質Ｈ１６）を研磨ブラシ（材質：ナイロン）と４００メッシュのパミストン水懸濁液を用いてアルミ表面をブラシ研磨し、水洗した。１０％水酸化ナトリウム水溶液中にて７０℃、６０秒間でエッチングを行い、水洗後、２０％硝酸水溶液で中和洗浄した。これをＶａ＝１２．７Ｖの条件下で正弦波の交番波形電流を用いて１％硝酸水溶液中で１６０Ｃ／ｄｍ²の条件下で電解粗面化を行った。次いで、３０％の硫酸水溶液中に浸漬し、温度５５℃、処理時間２分でデスマット処理を行った。その後、２０％硫酸水溶液中で電流密度２Ａ／ｄｍ²条件下で２分間陽極酸化処理を行った。
【０１４７】
〈支持体１６の作製〉
厚さ０．２４ｍｍのアルミニウム板（材質１０５０、調質Ｈ１６）を研磨ブラシ（材質：ナイロン）をトリクロロエチレン洗浄し脱脂後、４００メッシュのパミストン水懸濁液を用いてアルミ表面をブラシ研磨し水洗した。このアルミ板を２５％水酸化ナトリウム水溶液に４５℃で１０秒間浸漬して水洗した。次いで７％硫酸電解液、電流密度１５Ａ／ｄｍ²で直流陽極酸化皮膜を設け、水洗乾燥した。
【０１４８】
〈支持体１７の作製〉
厚さ０．２４ｍｍのアルミニウム板（材質１０５０、調質Ｈ１６）を２６％水酸化カリウム、温度７５℃でスプレーによるエッチング処理を行い、水洗洗浄した。次いで１％塩酸水溶液、温度３０℃でスプレーによるデスマット処理を行い後に水洗洗浄した。そして１％塩酸水溶液、温度３５℃で連続式直流電圧粗面化を行った。条件は、直流電圧のリップ率１０％、電流密度２５Ａ／ｄｍ²、電気量１００Ｃ／ｄｍ²とした。その後、水洗洗浄を行った。次いで２６％水酸化カリウム、温度７５℃でスプレーによるエッチング処理を行い、水洗洗浄した。１％硝酸水溶液、温度３０℃でスプレーによるデスマット処理を行い後に水洗洗浄した。１％硝酸水溶液で、温度４５℃で連続式交流電圧粗面化を行った。条件は、電流密度６０Ａ／ｄｍ²、電気量２３０Ｃ／ｄｍ²で行い、処理後水洗洗浄を行った。次いで５％水酸化カリウム、温度７５℃でスプレーによるエッチング処理を行い、水洗洗浄した。１５％硫酸水溶液、温度６０℃でスプレーによるデスマット処理を行い、水洗洗浄を行った。これを１５％硫酸水溶液、温度３５℃、電流密度２Ａ／ｄｍ²で直流電圧で陽極酸化を行い、水洗により洗浄を行い支持体の作製を行った。
【０１４９】
〈支持体１８の作製〉
厚さ０．２４ｍｍのアルミニウム板（材質１０５０、調質Ｈ１６）を２６％水酸化カリウム、温度７５℃でスプレーによるエッチング処理を行い、水洗洗浄した。１％塩酸水溶液、温度３０℃でスプレーによるデスマット処理を行い、水洗洗浄した。１％塩酸水溶液、温度３５℃で連続式直流電圧粗面化を行った。条件は、直流電圧のリップ率１０％、電流密度２５Ａ／ｄｍ²、電気量１００Ｃ／ｄｍ²とした。その後水洗洗浄を行った。次いで２６％水酸化カリウム、温度７５℃でスプレーによるエッチング処理を行い、水洗洗浄した。１％硝酸水溶液、温度３０℃でスプレーによるデスマット処理を行った後水洗洗浄した。１％硝酸水溶液、温度４５℃で連続式交流電圧粗面化を行った。条件は、電流密度６０Ａ／ｄｍ²、電気量２３０Ｃ／ｄｍ²とし、処理後水洗洗浄を行った。次いで５％水酸化カリウム、温度７５℃でスプレーによるエッチング処理を行い、水洗洗浄した。１５％硫酸水溶液、温度６０℃でスプレーによるデスマット処理を行い、水洗洗浄を行った。これを１５％硫酸水溶液、温度３５℃、電流密度２Ａ／ｄｍ²で直流電圧で陽極酸化を行い、水洗洗浄を行った。支持体表面に断熱層を有する目的で、８５℃に保たれたＰＶＰＡの水溶液（濃度０．１ｗｔ％）に３０秒浸漬した後、８０℃で５分間乾燥し、支持体を作製した（断熱材：ＰＶＰＡの付き量０．０１ｍｇ／ｍ²）。
【０１５０】
〈酸分解化合物Ｂの合成〉
５００ｍｌ三口フラスコにシクロヘキサノンジメチルアセタール５７．６８ｇ（０．４ｍｏｌ）、ジエチレングリコール４２．４５ｇ（０．４ｍｏｌ）、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物０．１９ｇ（０．００１ｍｏｌ）、及びトルエン２００ｍｌを仕込み、還流加熱で反応した。分水器で２０分に一度トルエンとメタノールを除き、新しいトルエンを追加した。８時間反応させ反応終了とした。
【０１５１】
放冷した後反応物を水で洗浄し、水酸化ナトリウムで中和洗浄し、脱水後、反応物を減圧濃縮によりワックス状の酸分解化合物Ｂ（分子量１２００、収率７２．１％）を得た。
【０１５２】
次に、以下のように感光層３用の感光性組成物３を作製した。
【０１５３】
（感光性組成物３の作製）
以下に示すような割合で混合し感光性組成物とした。
【０１５４】
バインダーＡ ６０．７５重量部
バインダーＢ 分子量；３８０００ １５重量部
酸分解化合物Ｂ ２０重量部
光酸発生剤（例示（１）） ３重量部
シアニン色素（例示ＩＲ−１５） １重量部
界面活性剤（旭硝子Ｓ−３８１） ０．２５重量部
溶剤（ＰＧＭ） １０００重量部
上述した支持体１１〜１８上に、実施例１で用いた感光層１及び上記の如く得られた感光層３の塗布液を乾燥後の膜厚が２．０ｇ／ｍ²になるようにワイヤーバー塗布を行ない、９５℃で９０秒間乾燥して平版印刷版を得た。尚、支持体の特性は表３参照。
【０１５５】
（画像形成）
得られた平版印刷版を、半導体レーザー（波長８３０ｎｍ、出力５００ｍｗ）で画像露光を行なった。レーザー光径はピークにおける強度の１／ｅ²で１３μｍであった。又、解像度は走査方向、副走査方向とも２０００ｄｐｉとした。画像露光の後、コニカＰＳ版用現像液ＳＤＲ−１（コニカ（株）製）と水との比が１：５となるよう希釈した。その後３０℃に保った前記現像液に３０秒間浸漬し現像を行なった後水洗乾燥を行ない、画像を形成した。
【０１５６】
得られた画像に対し、実施例１と同様の評価を行った。得られた結果を以下の表３に示す。尚、実施例２１〜３６は態様１における本発明であり、実施例２７、２８及び３５、３６は態様２における本発明である。
【０１５７】
【表３】

【０１５８】
表３から明らかなように、本発明により得られたポジ型或いはネガ型の平版印刷版は、赤外線による露光で画像形成が可能であるのみならず赤外線に対する感度が高く、かつドットゲインの変動の少ない良好な画像を呈することが分かる。
【０１５９】
【発明の効果】
本発明の画像形成材料及び画像形成方法により、近赤外〜赤外線領域による露光で画像形成が可能で、特に該領域に発光領域を有するレーザーを用いて記録することによりコンピューター等のデジタルデータから直接製版が可能であり、しかも該領域に対する感度が高く、かつドットゲイン変動率が改善された画像を得ることができるという顕著に優れた効果を奏する。

Claims (8)

1. ３〜５Ａ／ｄｍ ^２ 未満である電流密度で陽極酸化処理され、皮膜量が２０以上５０ｍｇ／ｄｍ²以下の陽極酸化皮膜を有する金属支持体上に、活性光線の照射により酸を発生し得る化合物、酸により架橋する基を有する化合物及び赤外線吸収剤を含有する感光層を有してなり、更に金属支持体の表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．３以上０．７μｍ以下、平均粗さ（Ｒｚ）が３．０以上６．０μｍ以下であり、感光層を除去した際の支持体の表面エネルギーγ（Ｈ：水素結合力）が、下記式で１５以上５０ｄｙｎ／ｃｍ以下であることを特徴とする画像形成材料。
   γ（Ｈ）ｄｙｎ／ｃｍ＝
   〔１．１５９＋２．１５９×ｃｏｓ（接触角：Ｈ₂Ｏ）
   −ｃｏｓ（接触角：ＣＨ₂Ｉ₂）〕／０．３７９²
   （接触角はＨ₂Ｏ：１．７μｌ、ＣＨ₂Ｉ₂：１．３μｌを滴下し３０秒後に測定）
2. ３〜５Ａ／ｄｍ ^２ 未満である電流密度で陽極酸化処理され、皮膜量が２０以上５０ｍｇ／ｄｍ²以下の陽極酸化皮膜を有する金属支持体上に、活性光線の照射により酸を発生し得る化合物、酸により分解し得る結合部を有する化合物及び赤外線吸収剤を含有する感光層を有してなり、更に金属支持体の表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．３以上０．７μｍ以下、平均粗さ（Ｒｚ）が３．０以上６．０μｍ以下であり、感光層を除去した際の支持体の表面エネルギーγ（Ｈ：水素結合力）が、下記式で１５以上５０ｄｙｎ／ｃｍ以下であることを特徴とする画像形成材料。
   γ（Ｈ）ｄｙｎ／ｃｍ＝
   〔１．１５９＋２．１５９×ｃｏｓ（接触角：Ｈ₂Ｏ）
   −ｃｏｓ（接触角：ＣＨ₂Ｉ₂）〕／０．３７９²
   （接触角はＨ₂Ｏ：１．７μｌ、ＣＨ₂Ｉ₂：１．３μｌを滴下し３０秒後に測定）
3. ３〜５Ａ／ｄｍ ^２ 未満である電流密度で陽極酸化処理された金属支持体上に、皮膜量０．００１以上１０ｍｇ／ｍ²以下の断熱層、活性光線の照射により酸を発生し得る化合物、酸により架橋する基を有する化合物及び赤外線吸収剤を含有する感光層を有してなり、更に金属支持体の表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．３以上０．７μｍ以下、平均粗さ（Ｒｚ）が３．０以上６．０μｍ以下であり、感光層を除去した際の支持体の表面エネルギーγ（Ｈ：水素結合力）が、下記式で１５以上５０ｄｙｎ／ｃｍ以下であることを特徴とする画像形成材料。
   γ（Ｈ）ｄｙｎ／ｃｍ＝
   〔１．１５９＋２．１５９×ｃｏｓ（接触角：Ｈ₂Ｏ）
   −ｃｏｓ（接触角：ＣＨ₂Ｉ₂）〕／０．３７９²
   （接触角はＨ₂Ｏ：１．７μｌ、ＣＨ₂Ｉ₂：１．３μｌを滴下し３０秒後に測定）
4. ３〜５Ａ／ｄｍ ^２ 未満である電流密度で陽極酸化処理された金属支持体上に、皮膜量０．００１以上１０ｍｇ／ｍ²以下の断熱層、活性光線の照射により酸を発生し得る化合物、酸により分解し得る結合部を有する化合物及び赤外線吸収剤を含有する感光層を有してなり、更に金属支持体の表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．３以上０．７μｍ以下、平均粗さ（Ｒｚ）が３．０以上６．０μｍ以下であり、感光層を除去した際の支持体の表面エネルギーγ（Ｈ：水素結合力）が、下記式で１５以上５０ｄｙｎ／ｃｍ以下であることを特徴とする画像形成材料。
   γ（Ｈ）ｄｙｎ／ｃｍ＝
   〔１．１５９＋２．１５９×ｃｏｓ（接触角：Ｈ₂Ｏ）
   −ｃｏｓ（接触角：ＣＨ₂Ｉ₂）〕／０．３７９²
   （接触角はＨ₂Ｏ：１．７μｌ、ＣＨ₂Ｉ₂：１．３μｌを滴下し３０秒後に測定）
5. 上記断熱層が支持体と感光層との間に設けられていることを特徴とする請求項３又は４記載の画像形成材料。
6. 上記断熱層が現像液可溶な樹脂を有してなることを特徴とする請求項３乃至５の何れか１項記載の画像形成材料。
7. 上記金属支持体がアルミニウム板であることを特徴とする請求項１乃至６の何れか１項記載の画像形成材料。
8. 請求項１乃至７の何れか１項記載の画像形成材料の感光層を有する表面を活性光線を照射して画像を形成することを特徴とする画像形成方法。