JPH117125A - 感光性組成物、画像形成材料及びその製造方法 - Google Patents
感光性組成物、画像形成材料及びその製造方法Info
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- JPH117125A JPH117125A JP11226698A JP11226698A JPH117125A JP H117125 A JPH117125 A JP H117125A JP 11226698 A JP11226698 A JP 11226698A JP 11226698 A JP11226698 A JP 11226698A JP H117125 A JPH117125 A JP H117125A
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Abstract
線に対する感度が高く、かつ良好な現像性及び保存性を
有するポジ型或いはネガ型の感光性組成物及びそれを用
いた画像形成材料、その製造方法の提供。 【解決手段】 活性光線の照射により酸を発生し得る化
合物、酸により分解し得る結合部を有する化合物、赤外
吸収剤及び以下の条件を有する溶剤を有してなることを
特徴とする感光性組成物。 条件:1.5cp以上の粘度を有する溶剤Aと1.5c
p未満の粘度を有する溶剤Bとの混合溶剤
Description
化する、いわゆるポジ型の感光性、又は活性光により不
溶化する、いわゆるネガ型の感光性を有する感光性組成
物に関し、更に詳しくは、半導体レーザー等による赤外
線による露光で画像形成が可能な画像形成材料に適した
感光性組成物に関する。又、前記感光性組成物を用いた
画像形成材料及びその製造方法に関する。
ポジ型の感光層として、酸発生剤と酸分解性化合物とを
含有する感光層を有する画像形成材料が知られている。
即ち、米国特許第3,779,778号明細書には、酸
発生剤と酸で分解する特定の基を有する水不溶性化合物
とを含有する感光性組成物が、特開昭53−13342
9号には、酸発生剤と主鎖にアセタール又はケタール基
を有する化合物とを含有する感光性組成物が、又特開昭
60−37549号には、酸発生剤とシリルエーテル基
を有する化合物とを含有する組成物が開示されている。
これらはいずれも紫外線に感度を有し、紫外線による露
光によってアルカリ可溶化して非画像部を形成し、又未
露光部は画像部を形成するというものである。一般的に
は、マスクフィルム等を介してハロゲンランプ、高圧水
銀灯などから照射紫外線により画像露光を行なってお
り、アルゴンレーザー、ヘリウム−カドミウムレーザー
などの短波長レーザーによる露光も可能であるが、装置
が高価で大きいため使用の際は煩わしい場合もあり、又
感光材料の感度の点でも十分満足のいくものばかりでは
なかった。
は粘度の異なる混合溶剤を使用したポジ型感光材料(特
開平8−320556号)或いは感光体に対する良溶剤
/貧溶剤からなる混合溶剤を添加したポジ型感光材料
(特開平8−328245号)を提案したが、紫外線に
よる画像露光では依然として上記したような光源面での
問題が残り、安価で簡易な方法が望まれていた。
のような赤外線で画像露光が可能な技術として、酸発生
剤、レゾール樹脂、ノボラック樹脂及び赤外線吸収剤を
含有する感光層を有する画像形成材料が開示され、該材
料を画像露光の後、現像処理前に加熱処理を施すことに
よりネガ型の画像を形成する方法が米国特許第5,34
0,699号明細書に開示され、又上記加熱処理を施さ
ずに現像処理することによりポジ型の画像を形成する方
法が開示されている。しかし、ネガ型の場合は加熱処理
が必要であるために使用者に不便であり、電力消費の負
荷も大きい。又ポジ型の場合は、残留溶剤量が多いため
に画像部感光層の一部又は全部が現像液に溶解してしま
うなどの問題があり、画像形成材料の保存性も十分とは
いえない。
れた感光性平版印刷版は現像液に対するラチチュードの
低下、即ち現像液の濃度によっては画像部に膜ベリと称
する現象(露光部の現像液耐性が低いための現象)が生
じる。又、上記とは別に露光部を印刷時に使用する薬品
に浸した場合も、感光層が薬品に膨潤しやすいことから
膜ベリが生じてしまうなど、感光材料の膜強度が低下し
てしまうことが従来まで問題であった。
みてなされたものであり、その第1の目的は赤外線によ
る露光で画像形成が可能で、赤外線に対する感度が高い
ポジ型或いはネガ型の画像形成材料及び画像形成方法を
提供することである。
成が可能で良好な現像及び保存性を有する画像形成材料
及び画像形成方法を提供することである。
学薬品耐性が極めて良好な画像形成材料及び画像形成方
法を提供することである。
下の構成により達成された。
像形成が可能な系において、現像性或いは保存性の良好
な感光性組成物及びそれを有する画像形成材料を得るべ
く鋭意検討した結果、本発明を完成した。
る化合物、酸により分解し得る結合部を有する化合物、
赤外吸収剤及び以下の条件を有する溶剤を有してなるこ
とを特徴とする感光性組成物。
Aと1.5cp未満の粘度を有する溶剤Bとの混合溶剤 〈2〉活性光線の照射により酸を発生し得る化合物、酸
により架橋する基を有する化合物、赤外吸収剤及び以下
の条件を有する溶剤を有してなることを特徴とする感光
性組成物。
Aと1.5cp未満の粘度を有する溶剤Bとの混合溶剤 上記〈1〉及び〈2〉の感光性組成物の好ましい態様と
して、上記混合溶剤が以下の条件を有すること、 条件:溶剤Aの粘度が1.5cp以上4.0cp以下で
あり、溶剤Bの粘度が0.4cp以上1.5cp未満 、又上記混合溶剤の溶解度パラメーター値が8.0以
上、又上記混合溶剤の溶解度パラメーター値が8.0以
上12.0以下、更に上記混合溶剤の溶解度パラメータ
ー値が9.0以上11.5以下の溶剤から構成されるこ
とが挙げられる。
有する感光層を有してなることを特徴とする画像形成材
料。
上記感光層の残留溶剤量が5mg/m2以下であるこ
と、又更に好ましい態様として上記感光層の残留溶剤量
が0.01以上5mg/m2以下であることが挙げられ
る。
記載の感光性組成物を設けた後、乾燥温度85℃以上、
乾燥時間10秒以上の条件で処理することを特徴とする
画像形成材料の製造方法。
その製造方法をその要旨とするものであり、以下、順に
説明する。
ガ型に大別でき、ポジ型としては、活性光線の照射によ
り酸を発生し得る化合物、酸により分解し得る結合部を
有する化合物、赤外吸収剤及び以下の条件を有する溶剤
を有する。
Aと1.5cp未満の粘度を有する溶剤Bとの混合溶剤 又ネガ型としては、上記の形態において酸により分解し
得る結合部を有する化合物の代替として、酸により架橋
する基を有する化合物を用いるものである。
溶剤の条件を上記した如く特定したことを特徴とするも
のであり、以下溶剤について説明する。
例えばn−プロパノール、イソプロピルアルコール、n
−ブタノール、sec−ブタノール、イソブタノール、
2−メチル−1−ブタノール、3−メチル−1−ブタノ
ール、2−メチル−2−ブタノール、2−エチル−1−
ブタノール、1−ペンタノール、2−ペンタノール、3
−ペンタノール、n−ヘキサノール、2−ヘキサノー
ル、シクロヘキサノール、メチルシクロヘキサノール、
1−ヘプタノール、2−ヘプタノール、3−ヘプタノー
ル、1−オクタノール、4−メチル−2−ペンタノー
ル、2−ヘキシルアルコール、ベンジルアルコール、エ
チレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレ
ングリコール、テトラエチレングリコール、1,3−プ
ロパンジオール、1,5−ペンタングリコール、ジメチ
ルトリグリコール、フリフリルアルコール、ヘキシレン
グリコール、ヘキシルエーテル、3−メトキシ−1−ブ
タノール、3−メトキシ−3−メチルブタノール、ブチ
ルフェニルエーテル、エチレングリコールモノアセテー
ト、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピ
レングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコ
ールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノ
ブチルエーテル、プロピレングリコールフェニルエーテ
ル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプ
ロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレン
グリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコ
ールモノブチルエーテル、トリプロピレングリコールモ
ノメチルエーテル、メチルカルビトール、エチルカルビ
トール、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビ
トール、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、
トリエチレングリコールモノエチルエーテル、テトラエ
チレングリコールジメチルエーテル、ジアセトンアルコ
ール、アセトフェノン、シクロヘキサノン、メチルシク
ロヘキサノン、アセトニルアセトン、イソホロン、乳酸
メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、炭酸プロピレン、酢
酸フェニル、酢酸−sec−ブチル、酢酸シクロヘキシ
ル、シュウ酸ジエチル、安息香酸メチル、安息香酸エチ
ル、γ−ブチルラクトン、3−メトキシ−1−ブタノー
ル、4−メトキシ−1−ブタノール、3−エトキシ−1
−ブタノール、3−メトキシ−3−メチル−1−ブタノ
ール、3−メトキシ−3−エチル−1−ペンタノール、
4−エトキシ−1−ペンタノール、5−メトキシ−1−
ヘキサノール、4−ヒドロキシ−2−ペンタノン、5−
ヒドロキシ−2−ペンタノン、6−ヒドロキシ−2−ペ
ンタノン、4−ヒドロキシ−3−ペンタノン、6−ヒド
ロキシ−2−ヘキサノン、3−メチル−3−ヒドロキシ
−2−ペンタノン、メチルセルソルブ(MC)、エチル
セルソルブ(EC)等が挙げられる。本発明において
は、これら粘度1.5cp以上の溶剤A群の好ましい上
限としては4.0、更に好ましくは3.5である。
は、アリルアルコール、イソプロピルエーテル、ブチル
エーテル、アニソール、プロピレングリコールモノメチ
ルエーテルアセテート、ジエチルカルビトール、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン、ジオキソラン、アセトン、
メチルプロピルケトン、メチルエチルケトン、メチルア
ミルケトン、ジエチルケトン、エチルブチルケトン、ジ
プロピルケトン、ジイソブチルケトン、3−ヒドロキシ
−2−ブタノン、4−ヒドロキシ−2−ブタノン、酢酸
−2−メトキシエチル、酢酸−2−エトキシエチル、酢
酸メトキシブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸
エチル、プロピオン酸プロピル、酪酸メチル、酪酸エチ
ル、酪酸ブチル、N−メチル−2−ピロリドン、アセト
ニトリル、ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチル
アセトアミド(DMAc)、n−ペンタン、2−メチル
ペンタン、3−エチルペンタン、メチルシクロペンタ
ン、n−ヘキサン、イソヘキサン、シクロヘキサン、メ
チルシクロヘキサン、n−ヘプタン、シクロヘプタン、
n−オクタン、イソオクタン、ノナン、デカン、ベンゼ
ン、トルエン、o−キシレン、m−キシレン、p−キシ
レン、エチルベンゼン、o−ジエチルベンゼン、m−ジ
エチルベンゼン、p−ジエチルベンゼン、クメン、n−
アミルベンゼン、ジメチルジグリコール(DMDG)、
エタノール等が挙げられる。本発明においては、これら
粘度1.5cp未満の溶剤B群の好ましい下限としては
0.4である。
5cp未満の溶剤B群との混合比は、0.1/9.9〜
9.9/0.1、好ましくは0.5/9.5〜9.5/
0.5、更に好ましくは2/8〜8/2である。
測定データを表し、従来公知の文献等に示されている値
をそのまま用いれば良い。文献としては例えば「新版
溶剤ポケットブック」(有機合成化学協会編、オーム社
発行:平成6年6月10日)、「溶剤ハンドクック(増
訂版)」(産業図書株式会社発行:昭和45年4月10
日第6版)、「溶剤便覧」(槇書店発行:昭和47年1
1月15日第2版)、「高分子データハンドブック(基
礎編)」(高分子学会編)等が挙げられる。溶剤の粘度
データが無いものについては、JISZ8803に準拠
した粘度計にて測定した20℃の測定データを用いれば
よく、測定に際しては、測定値が±2%以内の変動で一
致したらその平均値を換算して用いればよい。
種以上を併用してもよい。A群として好ましいものとし
ては、例えば乳酸メチル、プロピレングリコールモノメ
チルエーテル、MC、乳酸エチル、シクロヘキサノン、
3−メトキシ−1−ブタノールが、又B群として好まし
いものは、例えばメチルエチルケトン、4−ヒドロキシ
−2−ブタノン、アセトン、ジオキソラン、メチルプロ
ピルケトン等が挙げられる。
に限定はないが、好ましくは混合溶剤の溶解度パラメー
ター値(sp値)が8.0以上となるように混合するの
がよい。好ましいsp値の範囲は8.5〜12.0、よ
り好ましくは9.0〜11.5である。
電解質の解けやすさを評価する際によく用いられるHi
ldebrandの溶解度パラメーターにより得られる
値である。この溶解度パラメーターについてはJ.H.
Hildebrand,J.M,Prausnitz.
R.L.Scott著“Regular and Re
lanted Solutions”,Van Nos
trand−Reinhold,Princeton
(1970年)、「高分子データハンドブック基礎編」
高分子学会等を参照するのが良い。各種溶剤の溶解度パ
ラメーター値はA.F.M.Baron,“Handb
ook of Sokrbikity Paramet
ers and Other Cohesion Pa
rameters”,CRC Press,Boca
Raton/Florid(1983年)、「高分子デ
ータハンドブック基礎編」(高分子学会)等に記載され
ている。
について以下に説明する。
合物)本発明の感光性組成物に用いられる活性光線の照
射により酸を発生し得る化合物(以下「光酸発生剤」と
いう)としては、各種の公知化合物及び混合物が挙げら
れる。例えばジアゾニウム、ホスホニウム、スルホニウ
ム、及びヨードニウムのBF4 -、PF6 -、SbF6 -、S
iF6 2-、ClO4 -などの塩、有機ハロゲン化合物、オ
ルトキノン−ジアジドスルホニルクロリド、及び有機金
属/有機ハロゲン化合物も活性光線の照射の際に酸を形
成又は分離する活性光線感光性成分であり、本発明にお
ける光酸発生剤として使用することができる。原理的に
は遊離基形成性の光開始剤として知られるすべての有機
ハロゲン化合物はハロゲン化水素酸を形成する化合物で
あり、本発明における光酸発生剤として使用することが
できる。
の例としては米国特許第3,515,552号、同第
3,536,489号及び同第3,779,778号及
び西ドイツ国特許公開公報第2,243,621号に記
載されているものが挙げられ、又例えば西ドイツ国特許
公開公報第2,610,842号に記載の光分解により
酸を発生させる化合物も使用することができる。又、特
開昭50−36209号に記載されているo−ナフトキ
ノンジアジド−4−スルホン酸ハロゲニドを用いること
ができる。
外線露光による画像形成での感度、及び画像形成材料と
して用いた際の保存性等の面から好ましい。該有機ハロ
ゲン化合物としては、ハロゲン置換アルキル基を有する
トリアジン類及びハロゲン置換アルキル基を有するオキ
サジアゾール類が好ましく、ハロゲン置換アルキル基を
有するs−トリアジン類が特に好ましい。ハロゲン置換
アルキル基を有するオキサジアゾール類の具体例として
は、特開昭54−74728号、特開昭55−2411
3号、特開昭55−77742号、特開昭60−362
6号及び特開昭60−138539号に記載の2−ハロ
メチル−1,3,4−オキサジアゾール系化合物が挙げ
られる。2−ハロメチル−1,3,4−オキサジアゾー
ル系光酸発生剤の好ましい化合物例を下記に挙げる。
トリアジン類としては、下記一般式(1)で表される化
合物が好ましい。
ハロゲン置換アルキル基、アルコキシ基、置換又は未置
換のフェニルビニレン基又は置換又は未置換のアリール
基(例えばフェニル基、ナフチル基等)を表し、X3は
ハロゲン原子を表す。一般式(1)で表されるs−トリ
アジン系光酸発生剤の化合物例を次に示す。
の化学的性質及び感光性組成物或いはその物性によって
広範囲に変えることができるが、感光性組成物の固形分
の全重量に対して0.1〜20重量%の範囲が適当であ
り、好ましくは0.2〜10重量%の範囲である。
物)本発明に用いられる酸により分解し得る結合部を有
する化合物(以下「酸分解化合物」という)としては、
具体的には、特開昭48−89003号、同51−12
0714号、同53−133429号、同55−129
95号、同55−126236号、同56−17345
号に記載されているC−O−C結合を有する化合物、特
開昭60−37549号、同60−121446号に記
載されているSi−O−C結合を有する化合物、特開昭
60−3625号、同60−10247号各公報に記載
されているその他の酸分解化合物が挙げられ、更に特願
昭61−16687号に記載されているSi−N結合を
有する化合物、特願昭61−94603号に記載されて
いる炭酸エステル、特願昭60−251744号に記載
されているオルト炭酸エステル、特願昭61−1254
73号に記載されているオルトチタン酸エステル、特願
昭61−125474号に記載されているオルトケイ酸
エステル、特願昭61−155481号に記載されてい
るアセタール及びケタール、特願昭61−87769号
に記載されているC−S結合を有する化合物などが挙げ
られる。
号、同56−17345号、同60−121446号、
同60−37549号及び特願昭60−251744
号、同61−155481号に記載されているC−O−
C結合を有する化合物、Si−O−C結合を有する化合
物、オルト炭酸エステル、アセタール類、ケタール類及
びシリルエーテル類が好ましい。それらの中でも特開昭
53−133429号に記載された主鎖中に繰り返しア
セタール又はケタール部分を有し、現像液中でのその溶
解度が酸の作用によって上昇する有機重合化合物及び特
開昭63−10153号に記載の下記構造単位
好ましい。
としては前記各公知例に記載された化合物を挙げること
ができる。又、該化合物の合成方法も前記各公知例に記
載されている。
(CH2CH2O)n−基(nは1〜5の整数を表す)を
有するオルト炭酸エステル類、アセタール類、ケタール
類及びシリルエーテル類が感度及び現像性のバランスの
点から好ましい。又、該化合物のうちエチレンオキシ基
の連鎖数nが1又は4の化合物が特に好ましい。上記−
(CH2CH2O)n−基を有するオルト炭酸エステル
類、アセタール類、ケタール類及びシリルエーテル類の
具体例としてはジメトキシシクロヘキサン、ベンズアル
デヒド及びそれらの置換誘導体と、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコー
ル及びペンタエチレングリコールの何れかとの縮合生成
物が挙げられる。
て、下記一般式(2)及び(2)′で表される化合物が
感度及び現像性の点から好ましい。
素原子数1〜5のアルキル基、炭素原子数1〜5のアル
コキシ基、スルホ基、カルボキシル基又はヒドロキシル
基を表し、p、q及びrは各々1〜3の整数を表し、m
及びnは各々1〜5の整数を表す。R、R1及びR2が表
すアルキル基は直鎖でも分岐でもよく、例えばメチル
基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル
基、tert−ブチル基、ペンチル基等が挙げられ、ア
ルコキシ基としては例えばメトキシ基、エトキシ基、プ
ロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、tert
−ブトキシ基、ペントキシ基等が挙げられ、スルホ基及
びカルボキシル基はその塩を包含する。一般式(2)及
び(2)′で表される化合物のうち、m及びnが1〜4
である化合物が特に好ましい。一般式(2)及び
(2)′で表される化合物は公知の方法で合成すること
ができる。
は、感光性組成物或いは画像形成材料として用いた際の
感光層を形成する組成物の全固形分に対し、5〜70重
量%が好ましく、特に好ましくは10〜50重量%であ
る。酸分解化合物は1種を用いてもよいし、2種以上を
混合して用いてもよい。
発明において、酸により架橋する基を有する化合物とし
ては、酸の存在下でアルカリ可溶性樹脂と架橋し得る化
合物(以下、架橋剤という)、即ち架橋しアルカリに対
する溶解性を低減させ得る架橋剤である。アルカリに対
する溶解性を低減させ得る程度としては、アルカリ可溶
性樹脂と架橋することによって該樹脂が全くのアルカリ
不溶性を示す物性に変化すればよく、具体的には、画像
形成材料として用いた際、露光により前記架橋剤の作用
で本来アルカリ可溶性であったものが現像剤として用い
るアルカリ溶液に対して不溶性を示し、支持体上に残存
している状態を表す。前記架橋剤としては、メチロール
基又はメチロール基の誘導体、メラミン樹脂、フラン樹
脂、イソシアネート、ブロックド−イソシアネート(保
護基を有すイソシアネート)などが挙げられるが、メチ
ロール基又はアセチル化メチロール基を有している架橋
剤が望ましい。感光性組成物に対する添加量は1〜80
重量%、好ましくは5〜60重量%である。
線吸収剤としては、波長700nm以上に吸収を持つ赤
外吸収色素、カーボンブラック、磁性粉等を使用するこ
とができる。特に好ましい赤外線吸収剤は700〜85
0nmに吸収ピークを有し、ピークでのモル吸光係数ε
が105以上の赤外吸収色素である。
素、スクアリウム系色素、クロコニウム系色素、アズレ
ニウム系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニ
ン系色素、ポリメチン系色素、ナフトキノン系色素、チ
オピリリウム系色素、ジチオール金属錯体系色素、アン
トラキノン系色素、インドアニリン金属錯体系色素、分
子間CT色素等が挙げられる。上記赤外吸収色素として
は、特開昭63−139191号、同64−33547
号、特開平1−160683号、同1−280750
号、同1−293342号、同2−2074号、同3−
26593号、同3−30991号、同3−34891
号、同3−36093号、同3−36094号、同3−
36095号、同3−42281号、同3−10347
6号等に記載の化合物が挙げられる。
記一般式(3)又は(4)で表されるシアニン系色素が
特に好ましい。
原子又は酸素原子を表し、X1及びX2は各々置換基を有
していてもよいベンゼン環又はナフタレン環を形成する
のに必要な非金属原子群を表し、R3及びR4は各々置換
基を表し、R3及びR4のどちらか一方はアニオン性解離
性基を有する。R5、R6、R7及びR8は各々炭素原子数
1〜3のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表
す。Lは炭素原子数5〜13の共役結合の連鎖を表す。
ン系色素は、一般式(3)又は(4)がカチオンを形成
し、対アニオンを有するものを包含する。この場合、対
アニオンとしては、Cl-、Br-、ClO4 -、BF4 -、
t−ブチルトリフェニルホウ素等のアルキルホウ素等が
挙げられる。
される共役結合の連鎖の炭素原子数nは、画像露光の光
源として赤外線を放射するレーザーが使用される場合、
該レーザーの発信波長に合わせて有効な値を選択するこ
とが好ましい。例えば、発信波長1060nmのYAG
レーザーを使用する場合は、炭素原子数nは9〜13が
好ましい。又、この共役結合部分は任意の置換基を有す
ることができ、又共役結合部分は複数の置換基により環
を形成させてもよい。又、X1で表される環及びX2で表
される環には任意の置換基を有することができる。該置
換基としてハロゲン原子、炭素原子数1〜5のアルキル
基、炭素原子数1〜5のアルコキシ基、−SO3M及び
−COOM(Mは水素原子又はアルカリ金属原子)から
選ばれる基が好ましい。R3及びR4は各々任意の置換基
であるが、好ましくは炭素原子数1〜5のアルキル基若
しくは炭素原子数1〜5のアルコキシ基;−((C
H2)n−O−)k−(CH2)mOR(n及びmは各々1
〜3の整数、kは0又は1、Rは炭素原子数1〜5のア
ルキル基を表す。);R3及びR4の一方が−R−SO3
Mで他方が−R−SO3 -(Rは炭素原子数1〜5のアル
キレン基、Mはアルカリ金属原子を表す);又はR3及
びR4の一方が−R−COOMで他方が−R−COO
-(Rは炭素原子数1〜5のアルキレン基、Mはアルカ
リ金属原子を表す。)である。R3及びR4は、感度及び
現像性の点から、R3及びR4の一方が上記−R−SO3 -
又は−R−COO-、他方が上記−R−SO3M又は−R
−COOMであることが好ましい。
ン系色素は、画像露光の光源として半導体レーザーを使
用する場合は750〜900nm、YAGレーザーを使
用する場合は900〜1200nmにおいて吸収ピーク
を示し、ε>1×105のモル吸光係数を有するものが
好ましい。
の代表的具体例を以下に挙げるが、これらに限定される
ものではない。
ることができるが、下記のような市販品を用いることも
できる。
系);IR002,IR003(アルミニウム系);I
R820(ポリメチン系);IRG022,IRG03
3(ジインモニウム系);CY−2,CY−4,CY−
9,CY−20、三井東圧:KIR103,SIR10
3(フタロシアニン系);KIR101,SIR114
(アントラキノン系);PA1001,PA1005,
PA1006,SIR128(金属錯体系)、大日本イ
ンキ化学:Fastogen blue8120、みど
り化学:MIR−101,1011,1021等。その
他、日本感光色素、住友化学、富士写真フイルム等の各
社からも市販されている。
は、感光性組成物の固形分の0.5〜10重量%の範囲
が好ましい。
剤を用いることができる。結合剤として例えば高分子量
結合剤を用いることができる。高分子量結合剤として
は、例えばノボラック樹脂やヒドロキシスチレン単位を
有する重合体や後記する一般式(5)で表される構造単
位を有する重合体、その他後記する不飽和単量体とから
なる公知のアクリル樹脂等を挙げることができる。
ノール・ホルムアルデヒド樹脂、クレゾール・ホルムア
ルデヒド樹脂、特開昭55−57841号に記載されて
いるようなフェノール・クレゾール・ホルムアルデヒド
共重縮合体樹脂、特開昭55−127553号に記載さ
れているような、p−置換フェノールとフェノールもし
くは、クレゾールとホルムアルデヒドとの共重縮合体樹
脂等が挙げられる。
しては、例えば特公昭52−41050号に記載されて
いるポリヒドロキシスチレンやヒドロキシスチレン共重
合体などを挙げることができる。
アルキルアクリレート、置換又は無置換のアルキルメタ
クリレートのモノマー成分を含む共重合体が上げられ
る。このようなモノマー成分として、アクリル酸メチ
ル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル
酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、ア
クリル酸ヘプチル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ノ
ニル、アクリル酸デシル、アクリル酸ウンデシル、アク
リル酸ドデシル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸シク
ロヘキシル、アクリル酸−2−クロロエチル、N,N−
ジメチルアミノエチルアクリレート、グリシジルアクリ
レート、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メ
タクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル
酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸ヘプチ
ル、メタクリル酸オクチル、メタクリル酸ノニル、メタ
クリルデシル、メタクリル酸ウンデシル、メタクリル酸
ウンデシル、メタクリル酸ドデシル、メタクリル酸ベン
ジル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸−2
−クロロエチル、N,N−ジメチルアミノエチルメタク
リレート、グリシジルメタクリレート等が挙げられる。
物を共重合して得られた共重合高分子重量体である。
ば、o−ヒドロキシスチレン、p−ヒドロキシスチレ
ン、m−ヒドロキシスチレン、o−ヒドロキシフェニル
アクリレート、p−ヒドロキシフェニルアクリレート、
m−ヒドロキシフェニルアクリレート等。
ば、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキ
シエチルメタクリレート、N−メチロールアクリルアミ
ド、N−メチロールメタクリルアミド、4−ヒドロキシ
ブチルメタクリレート、5−ヒドロキシペンチルアクリ
レート、5−ヒドロキシペンチルメタクリレート、6−
ヒドロキシヘキシルアクリレート、6−ヒドロキシヘキ
シルメタクリレート、N−(2−ヒドロキシエチル)ア
クリルアミド、N−(2−ヒドロキシエチル)メタクリ
ルアミド、ヒドロキシエチルビニルエーテル等。
ー、例えば、m−アミノスルホニルフェニルメタクリレ
ート、p−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、
m−アミノスルホニルフェニルアクリレート、p−アミ
ノフェニルアクリレート、N−(p−アミノスルホニル
フェニル)メタクリルアミド、N−(p−アミノスルホ
ニルフェニル)アクリルアミド等。
例えば、N−(p−トルエンスルホニル)アクリルアミ
ド、N−(p−トルエンスルホニル)メタクリルアミド
等。
ば、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレ
イン酸、イタコン酸、無水イタコン酸等。
ミド類、例えば、アクリルアミド、メタクリルアミド、
N−エチルアクリルアミド、N−ヘキシルアクリルアミ
ド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−フェニル
アクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリルアミド、
N−エチル−N−フェニルアクリルアミド、N−(4−
ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N−(4−ヒド
ロキシフェニル)アクリルアミド、N−(4−ヒドロキ
シフェニル)メタクリルアミド等。
ー、例えば、トリフルオロエチルアクリレート、トリフ
ルオロエチルメタクリレート、テトラフルオロプロピル
メタクリレート、ヘキサフルオロプロピルメタクリレー
ト、オクタフルオロペンチルアクリレート、オクタフル
オロペンチルメタクリレート、ヘプタデカフルオロデシ
ルメタクリレート、N−ブチル−N−(2−アクリロキ
シエチル)ヘプタデカフルオロオクチルスルホンアミド
等。
ニルエーテル、2−クロロエチルビニルエーテル、プロ
ピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチル
ビニルエーテル、フェニルビニルエーテル類。
セテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレー
ト、安息香酸ビニル等。
チルスチレン、クロロメチルスチレン等。
ニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケト
ン、フェニルビニルケトン等。
プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレン
等。
カルバゾール、4−ビニルピリジン等。
アクリロニトリル、メタクリロニトリル、2−ペンテン
ニトリル、2−メチル−3−ブテンニトリル、2−シア
ノエチルアクリレート、o−シアノスチレン、m−シア
ノスチレン、p−シアノスチレン等 15)アミノ基を有するモノマー、例えばN,N−ジエ
チルアミノエチルメタクリレート、N,N−ジメチルア
ミノエチルアクリレート、N,N−ジメチルアミノエチ
ルメタクリレート、ポリブタジエンウレタンアクリレー
ト、N,N−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、
N,N−ジメチルアクリルアミド、アクリロイルモルホ
リン、N−イソプロピルアクリルアミド、N,N−ジエ
チルアクリルアミド等。
て、測定された重量平均分子量が1万〜20万であるも
のが好ましいが、重量平均分子量はこの範囲に限定され
るものではない。
重合体とは、該構造単位のみの繰り返し構造を有する単
独重合体、或いは該構造単位と他のビニル系単量体の不
飽和二重結合を開裂せしめた構造で示される構造単位1
種以上とを組み合わせた共重合体である。
ぞれ水素原子、メチル基やエチル基等のアルキル基又は
カルボキシル基を表し、好ましくは水素原子である。R
3は水素原子、塩素原子や臭素原子等のハロゲン原子又
はメチル基、エチル基等のアルキル基を表し、好ましく
は水素原子又はメチル基である。R4は水素原子、メチ
ル基やエチル基等のアルキル基、フェニル基又はナフチ
ル基を表す。Yは置換基を有するものも含むフェニレン
基又はナフチレン基を表し、置換基としてはメチル基や
エチル基等のアルキル基、塩素原子や臭素原子等のハロ
ゲン原子、カルボキシル基、メトキシ基やエトキシ基等
のアルコキシ基、ヒドロキシル基、スルホ基、シアノ
基、ニトロ基、アシル基等が挙げられるが、好ましくは
置換基を有しないか、或いはメチル基で置換されている
ものである。Xは2価の連結基で、nは0〜5の整数を
表し、好ましくはnが0のときである。
重合体は、更に具体的に、例えば下記(a)〜(f)で
表すことができる。
水素原子、アルキル基又はハロゲン原子を表し、m、
n、l、k及びsは各々の構造単位のモル%を表す。
しては、ポリエステル系樹脂、ポリビニルアセタール系
樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロ
ース系樹脂、オレフィン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ス
チレン系樹脂、ポリカーボネート、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルピロリドン、ポリサルフォン、ポリカプ
ロラクトン樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、尿素樹
脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ゴム系樹脂等が挙
げられる。又、樹脂内に不飽和結合を有する樹脂、例え
ばジアリルフタレート樹脂及びその誘導体、塩素化ポリ
プロピレンなどは前述のエチレン性不飽和結合を有する
化合物と重合させることが可能なため用途に応じて好適
に用いることができる。
剤の含有量は、20〜90重量%が好ましく、更に好ま
しくは30〜80重量%である。
樹脂及び一般式(5)で表される構造単位を有する重合
体又はアクリル樹脂を含有する態様が挙げられる。該ア
クリル樹脂はアクリル酸、メタクリル酸、又はそれらの
エステル類を構成単位とする重合体である。好ましくは
前述した一般式(5)で表される構造単位を有する重合
体である。ノボラック樹脂は感光層に対して20〜80
重量%の範囲で含有させることが好ましく、一般式
(5)で表される構造単位を有する重合体又はアクリル
樹脂は感光層に対して1〜50重量%の範囲で含有させ
ることが好ましく、5〜30重量%の範囲がより好まし
い。
性を向上させるために親油性の樹脂を添加することがで
きる。前記親油性の樹脂としては、例えば特開昭50−
125806号に記載されているような、炭素数3〜1
5のアルキル基で置換されたフェノール類とアルデヒド
の縮合物、例えばt−ブチルフェノールホルムアルデヒ
ド樹脂などが使用可能である。
用しても良い。例えばポリオキシエチレンアルキルエー
テル、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル、ポ
リオキシエチレン誘導体、オキシエチレン・オキシプロ
ピレンブロックコポリマー、ソルビタン脂肪酸エステ
ル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポ
リオキシエチレンソルビトール脂肪酸エステル、グリセ
リン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステ
ル、ポリオキシエチレンアルキルアミン、アルキルアル
カノールアミド、ポリエチレングリコール等が挙げられ
る。ノボラック樹脂は感光性組成物に対して20〜80
重量%の範囲で含有させることが好ましく、ノニオン界
面活性剤は感光性組成物に対して0.01〜10重量%
の範囲で含有させることが好ましく、0.1〜1.0重
量%の範囲がより好ましい。
0.001〜5重量%含有させることが経時による非画
像部の汚れ発生防止の点から好ましい。フッ素系界面活
性剤としては例えば次のような化合物が挙げられる。
ることもでき、例えばサーフロン「S−381」、「S
−382」、「S−383」、「SC−101」、「S
C−102」、「SC−103」、「SC−104」
(何れも旭硝子(株)製)、フロラード「FC−43
0」、「FC−431」、「FC−173」(何れもフ
ロロケミカル−住友スリーエム製)、エフトップ「EF
352」、「EF301」、「EF303」(何れも新
秋田化成(株)製)、シュベゴーフルアー「803
5」、「8036」(何れもシュベグマン社製)、「B
M1000」、「BM1100」(いずれもビーエム・
ヒミー社製)、メガファック「F−171」、「F−1
77」(いずれも大日本インキ化学(株)製)、などを
挙げることができる。
素含有割合は、0.05〜2%、好ましくは0.1〜1
%である。上記のフッ素系界面活性剤は、1種又は2種
以上を併用することができ、又その他の界面活性剤と併
用することができる。
を向上するために親油性の樹脂を添加することができ
る。上記親油性の樹脂としては、例えば、特開昭50−
125806号に記載されているような、炭素数3〜1
5のアルキル基で置換されたフェノール類とアルデヒド
の縮合物、例えばtブチルフェノールホルムアルデヒド
樹脂などが使用可能である。
更に上記以外の色素、顔料、増感剤、可視画剤等を含有
させることができる。本発明の感光性組成物中の固形分
含有量は好ましくは7〜15重量%、更に好ましくは8
〜13重量%である。
支持体の表面に塗布・乾燥して感性層を設けることで得
られる。
量が5mg/m2以下であることが好ましく、更に好ま
しくは0.01〜5mg/m2以下である。
た溶剤Aと溶剤Bの残留分であり、又残留溶剤量は溶剤
AとBのいずれか一方、又は溶剤AとBの両方の残留量
のいずれをも意味する。
鋼、銅等の金属板、並びにクロム、亜鉛、銅、ニッケ
ル、アルミニウム、鉄等がメッキ又は蒸着された金属
板、紙、プラスチックフィルム及びガラス板、樹脂が塗
布された紙、アルミニウム等の金属箔が張られた紙、親
水化処理したプラスチックフィルム等が挙げられる。
支持体として砂目立て処理、陽極酸化処理及び必要に応
じて封孔処理等の表面処理等が施されているアルミニウ
ム板を用いることが好ましい。これらの処理は公知の方
法を適用できる。
的方法、電解によりエッチングする方法が挙げられる。
機械的方法としては、例えばボール研磨法、ブラシ研磨
法、液体ホーニングによる研磨法、バフ研磨法等が挙げ
られる。アルミニウム材の組成等に応じて上述の各種方
法を単独或いは組合わせて用いることができる。又電解
によりエッチングするには、リン酸、硫酸、塩酸、硝酸
等の無機の酸を単独乃至2種以上混合した浴を用いて行
われる。砂目立て処理の後、必要に応じてアルカリ或い
は酸の水溶液によってデスマット処理を行い中和して水
洗する。
ロム酸、シュウ酸、リン酸、マロン酸等を1種又は2種
以上含む溶液を用い、アルミニウム板を陽極として電解
して行われる。形成された陽極酸化被膜量は1〜50m
g/dm2が適当であり、好ましくは10〜40mg/
dm2であり、特に好ましくは25〜40mg/dm2
である。陽極酸化被膜量は、例えばアルミニウム板をリ
ン酸クロム酸浴液(リン酸85%液:35ml、酸化ク
ロム(IV):20gを1lの水に溶解して作製)に浸
漬し、酸化被膜を溶解し、板の被膜溶解前後の重量変化
測定から求められる。
イ酸ソーダ処理、重クロム酸塩水溶液処理等が具体例と
して挙げられる。この他にアルミニウム板支持体に対し
て、水溶性高分子化合物や、フッ化ジルコン酸等の金属
塩の水溶液による下引き処理を施すこともできる。
上記感光性組成物を設けた後、乾燥温度85℃以上、乾
燥時間10秒以上の条件で処理することを特徴とする。
好ましくは乾燥温度90℃以上、乾燥時間30秒以上で
あり、それらの条件で感光層の残留溶剤量が5mg/m
2以下となるよう処理することが好ましい。
布、ワイヤーバー塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗
布、ロール塗布、ブレード塗布及びカーテン塗布等が可
能である。塗布量は用途により異なるが、例えば、感光
性平版印刷版についていえば固形分として0.5〜5.
0g/m2が好ましい。
以上の光源を用い画像露光を行うのが好ましい。光源と
しては、半導体レーザー、He−Neレーザー、YAG
レーザー、炭酸ガスレーザー等が挙げられる。出力は5
0mW以上が適当であり、好ましくは100mW以上で
ある。
現像液としては、水系アルカリ現像液が好適である。水
系アルカリ現像液としては、例えば、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、
メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム、第二リン
酸ナトリウム、第三リン酸ナトリウム等のアルカリ金属
塩の水溶液が挙げられる。アルカリ金属塩の濃度は0.
05〜20重量%の範囲で用いるのが好適であり、より
好ましくは、0.1〜10重量%である。
は、必要に応じアニオン性界面活性剤、両性界面活性剤
やアルコール等の有機溶剤を加えることができる。
ル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、ベンジ
ルアルコール、n−プロピルアルコール等が有用であ
る。
るが、本発明の態様はこれに限定されない。尚、以下の
「部」は「重量部」を表す。
質1050、調質H16)を65℃に保たれた5%水酸
化ナトリウム水溶液で1分間脱脂処理を行った後水洗
し、25℃に保たれた10%硫酸水溶液中に1分間浸積
して中和し、更に水洗した。このアルミニウム板を1.
0重量%の硝酸水溶液中において温度25℃、電流密度
10A/dm2、処理時間60秒の条件で交流電流によ
り電解粗面化を行なった。次いで、5%水酸化ナトリウ
ム水溶液中で温度60℃、10秒間のデスマット処理を
行ない、その後20%硫酸溶液中で温度20℃、電流密
度3A/dm2、処理時間1分間の条件で陽極酸化処理
を行った。その後、80℃に保たれた1%酢酸アンモニ
ウム水溶液中に30秒間浸積し、水洗後80℃で3分間
乾燥した。更に85℃に保たれたカルボキシメチルセル
ロース(以下、CMCと略す)の水溶液(濃度0.1重
量%)に30秒浸積した後、80℃で5分間乾燥し支持
体を作製した。
キシシクロヘキサン(0.5モル)、2−フェノキシエ
タノール(1.0モル)及びp−トルエンスルホン酸8
0mg、トルエン300mlを混合し、撹拌させながら
120℃で8時間反応により生じるメタノールを除去し
ながら反応させた。得られた反応液を冷却後、水で洗浄
し水酸化ナトリウム溶液で洗浄し、その後中性になるま
で飽和食塩水で洗浄し、更に無水炭酸カリウムで脱水し
た後トルエンを蒸発除去して目的の下記酸分解化合物A
の白色結晶を得た。
な割合で混合し感光性組成物1とした。
チルエーテル
体上に、上記組成の感光性組成物よりなる感光層塗布液
を、乾燥後の膜厚が2.0g/m2になるようにワイヤ
ーバー塗布を行ない95℃で90秒間乾燥して画像形成
材料(感光性平版印刷版)を得た。尚、残留溶剤は2m
g/dm2であった。
m2採取し、10mlのバイアル瓶に入れて密封し、測
定試料とした。これをHP 5890 SERIESII
GCにより測定を行った。カラムDB−WAX(30
m×1.0mmid)Heガス20ml/min、イン
ジェクション:250℃、検出器FID条件下で各サン
プルの残留溶剤量を測定した。その時のヘッドスペース
条件はBath temp120℃、加熱時間30分で
ある。
半導体レーザー(波長830nm、出力500mw)で
画像露光を行なった。レーザー光径はピークにおける強
度の1/e2で13μmであった。又、解像度は走査方
向、副走査方向とも2000dpiとした。画像露光
後、コニカ平版印刷版用現像液SDR−1(コニカ
(株)製)と水との比が1:5となるよう希釈し、30
℃で30秒間浸積して現像を行なった後、水洗、乾燥を
行なった。この際、非画線部(露光部)を除去し、ポジ
型画像を形成する。
な露光エネルギー(mj/cm2)で評価した。
される薬品 ウルトラプレートクリーナー(大日精化
(株)製)の原液に25℃でそれぞれ15分、30分、
60分間浸漬させた後、水洗し、浸漬前の画像部(画線
部)との比較を浸漬時間において以下の評価基準で目視
にて評価を行った。
目の露出なし 2:画像部の侵食が有り、感光層下の支持体の砂目がや
や露出状態 1:画像部の侵食が著しく、感光層下の支持体の砂目が
完全に露出の状態。
物を作製した。
体上に、上記組成の感光性組成物よりなる感光層塗布液
を乾燥後の膜厚が2.0g/m2になるようにワイヤー
バー塗布を行ない、95℃で90秒間乾燥して画像形成
材料(感光性平版印刷版)を得た。尚、残留溶剤量は
2.2mg/dm2であった。
半導体レーザー(波長830nm、出力500mw)で
画像露光を行なった。その際、レーザー光径はピークに
おける強度の1/e2で13μmであった。又、解像度
は走査方向、副走査方向とも2000dpiとした。画
像露光後、コニカ平版印刷版用現像液SDR−1(コニ
カ(株)製)と水との比が1:5となるよう希釈した。
その後30℃に保った現像液に30秒間浸漬して現像を
行なった後、水洗、乾燥を行なった。この際、非画線部
(未露光部)を除去し、ネガ型画像を形成する。評価
は、実施例1と同様に行った。
た他は同様にして画像形成材料を作製し、評価した。
尚、実施例9、11は比較例である。
た他は同様にして画像形成材料を作製し、評価した。
尚、実施例10、12は比較例である。
組成物を用いて得られたポジ型或いはネガ型の画像形成
材料は、赤外線による露光で画像形成が可能であるのみ
ならず赤外線に対する感度が高く、かつ良好な現像性、
保存性及び耐薬品性を有することが分かる。
よる露光で画像形成が可能で、赤外線に対する感度が高
く、かつ良好な現像性、保存性及び耐薬品性を有するポ
ジ型或いはネガ型の画像形成材料及びその製造方法を提
供することができるという顕著に優れた効果を奏する。
Claims (10)
- 【請求項1】 活性光線の照射により酸を発生し得る化
合物、酸により分解し得る結合部を有する化合物、赤外
吸収剤及び以下の条件を有する溶剤を有してなることを
特徴とする感光性組成物。 条件:1.5cp以上の粘度を有する溶剤Aと1.5c
p未満の粘度を有する溶剤Bとの混合溶剤 - 【請求項2】 活性光線の照射により酸を発生し得る化
合物、酸により架橋する基を有する化合物、赤外吸収剤
及び以下の条件を有する溶剤を有してなることを特徴と
する感光性組成物。 条件:1.5cp以上の粘度を有する溶剤Aと1.5c
p未満の粘度を有する溶剤Bとの混合溶剤 - 【請求項3】 上記混合溶剤が以下の条件を有すること
を特徴とする請求項1又は2記載の感光性組成物。 条件:溶剤Aの粘度が1.5cp以上4.0cp以下で
あり、溶剤Bの粘度が0.4cp以上1.5cp未満 - 【請求項4】 上記混合溶剤の溶解度パラメーター値
(sp値)が8.0以上であることを特徴とする請求項
1、2又は3記載の感光性組成物。 - 【請求項5】 上記混合溶剤の溶解度パラメーター値が
8.0以上12.0以下であることを特徴とする請求項
1、2又は3記載の感光性組成物。 - 【請求項6】 上記混合溶剤の溶解度パラメーター値が
9.0以上11.5以下であることを特徴とする請求項
1、2又は3記載の感光性組成物。 - 【請求項7】 支持体上に、請求項1乃至6の何れか1
項記載の感光性組成物を含有する感光層を有してなるこ
とを特徴とする画像形成材料。 - 【請求項8】 上記感光層の残留溶剤量が5mg/m2
以下であることを特徴とする請求項7記載の画像形成材
料。 - 【請求項9】 上記感光層の残留溶剤量が0.01以上
5mg/m2以下であることを特徴とする請求項7記載
の画像形成材料。 - 【請求項10】 アルミ支持体上に請求項1乃至6の何
れか1項記載の感光性組成物を設けた後、乾燥温度85
℃以上、乾燥時間10秒以上の条件で処理することを特
徴とする画像形成材料の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11226698A JPH117125A (ja) | 1997-04-22 | 1998-04-22 | 感光性組成物、画像形成材料及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9-104572 | 1997-04-22 | ||
JP10457297 | 1997-04-22 | ||
JP11226698A JPH117125A (ja) | 1997-04-22 | 1998-04-22 | 感光性組成物、画像形成材料及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH117125A true JPH117125A (ja) | 1999-01-12 |
Family
ID=26445016
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11226698A Pending JPH117125A (ja) | 1997-04-22 | 1998-04-22 | 感光性組成物、画像形成材料及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH117125A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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EP1129845A2 (en) * | 2000-03-01 | 2001-09-05 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Heat mode planographic printing plate |
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1998
- 1998-04-22 JP JP11226698A patent/JPH117125A/ja active Pending
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