RU97103536A - Алкилфенилбисацилфосфоноксиды и смеси фотоинициаторов - Google Patents

Алкилфенилбисацилфосфоноксиды и смеси фотоинициаторов

Info

Publication number
RU97103536A
RU97103536A RU97103536/04A RU97103536A RU97103536A RU 97103536 A RU97103536 A RU 97103536A RU 97103536/04 A RU97103536/04 A RU 97103536/04A RU 97103536 A RU97103536 A RU 97103536A RU 97103536 A RU97103536 A RU 97103536A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
alkyl
formula
hydrogen
phenyl
alkoxy
Prior art date
Application number
RU97103536/04A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2180667C2 (ru
Inventor
Дэвид Джорж Леппард
Манфред Кехлер
Андереас Валет
Original Assignee
Циба Специалти Кемикалс Холдинг Инк.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Циба Специалти Кемикалс Холдинг Инк. filed Critical Циба Специалти Кемикалс Холдинг Инк.
Publication of RU97103536A publication Critical patent/RU97103536A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2180667C2 publication Critical patent/RU2180667C2/ru

Links

Claims (18)

1. Соединения, отвечающие формуле I
Figure 00000001

где R1 означает C1 - C4-алкил;
R2 является водородом, C1 - C4-алкилом или C1 - C4-алкоксигруппой;
R3, R4, R5, R6 и R7 независимо друг от друга представлены водородом, галогеном, C1 - C20-алкилом, циклопентилом, циклогексилом, C2 - C12-алкенилом, алкилом C2 - C18, прерванным одним или большим количеством атомов O, фенилзамещенным C1 - C4-алкилом, незамещенным или одно- или двузамещенным C1 - C4-алкилом или/и C1 - C4-алкоксизамещенным фенилом, с указанием на то, что по крайней мере один из остатков R3, R4, R5, R6 или R7 (неодновременно) является водородом, а в том случае, когда R1 или R2 обозначают метильные остатки, R3 и R6 не являются метилами.
2. Соединения по п.1, где R3, R4, R5, R6 и R7 обозначают водород, C1 - C8-алкил, фенил, аллил, бензил, циклогексил или хлор.
3. Соединения по п.1, где R3, R4, R5, обозначают водород, C1 - C4-алкил или фенил.
4. Соединения по п.1, в которых R1 обозначает метил.
5. Соединения по п.1, в которых R1 и R2 одинаковы.
6. Смеси фотоинициаторов, содержащие как минимум одно соединение, отвечающее формуле Ia
Figure 00000002

где R1 обозначает C1 - C4-алкил;
R2 обозначает C1 - C4-алкил или C1 - C4-алкоксигруппу;
R3, R4, R5, R6 и R7 независимо друг от друга представлены водородом, галогеном, C1 - C20-алкилом, циклопентилом, циклогексилом, C1 - C12-алкенилом, прерванным одним или более O атомов C2 - C18-алкилом, фенилзамещенным C1 - C4-алкилом, незамещенным или одно- или двузамещенным C1 - C4-алкил- или/и C1 - C4-алкоксифенилом,
и как минимум одно соединение, соответствующее формуле II
Figure 00000003

где R8 является водородом, C1 - C18-алкилом, C1 - C18-алкоксигруппой, - OCH2CH2-OR12, группой
Figure 00000004
или группой
Figure 00000005

где I означает количество от 2 до 10, и A - остаток -
Figure 00000006

R9 и R10 означают независимо друг от друга водород, C1 - C6-алкил, фенил, C1 - C16-алкоксигруппу, OSiR13R14R14a или -O(CH2CH2O)q-C1 - C16-алкил, где q - количество от 1 до 20, или R9 и R10 образуют вместе с атомом углерода, к которому они присоединены, циклогексильное кольцо;
R11 представляет гидроксильную группу, C1 - C16-алкоксигруппу или - O(CH2CH2O)q-C1 - C16-алкил;
причем R9, R10 и R11 не являются все одновременно C1 - C16-алкоксигруппами или - O(CH2CH2O)q-C1 - C16-алкилом;
R12 - обозначает водород, C1 - C8-алкил,
Figure 00000007
-алкил или
Figure 00000008
и
R13, R14а и R14 независимо друг от друга являются C1 - C4-алкилом или фенилом; и/или по меньшей мере соединение со структурной формулой III,
Figure 00000009

где R15, R15а, R16 и R17 означает независимые друг от друга водороды, метильные, фенильные, метокси-, COOH-группы, незамещенные или C1 - C4-алкилзамещенные фенилы, или одну группу -OCH2CH2OR12 или -SCH2CH2OR12, где R12 определяется как в формуле II;
и/или как минимум соединение, соответствующее формуле IV
Figure 00000010

где R18 обозначает водород, C1 - C4-алкил, C1 - C4-алкокси-, C1 - C4-алкилтио-, галоген или одну группу N(R22)2;
R19 определена так же, как и группа R18, или является группой
Figure 00000011

причем в этом случае остаток R18 из формулы IV и остаток R18 группы IVa стоят вместе для образования прямой связи, а другие остатки определены нижеописанным образом;
R20 обозначает C1 - C8-алкил;
R21 - является водородом, -CH=CHR24, незамещенным или от одно- до трех- C1 - C12-алкил-замещенным, C1 - C4-алкоксизамещенным или галогензамещенным фенилом, или R20 и R21 вместе с атомом углерода, с которым они связаны, образуют циклогексильное кольцо;
R22 и R23 означают независимо друг от друга C1 - C4-алкильные группы или R22 и R23 вместе с атомом азота, за который они присоединены, образуют пяти- или шестичленное насыщенное или ненасыщенное кольцо, которое может быть прервано -O-, -NH- или -N(CH3)-,
R24 обозначает водород или C1 - C4-алкил; а
R25 обозначает водород или C1 - C12-алкил.
7. Смеси фотоинициаторов по п.6, содержащие соединения, соответствующие формуле Ia, и соединения, соответствующие формуле II, где R8 обозначает водород, C1 - C4-алкил, C1 - C4-алкокси, -OCH2CH2OR12, группу
Figure 00000012

R9 и R10 независимо друг от друга обозначают водород, C1 - C3-алкил, фенил, C1 - C12-алкокси или -O(CH2CH2O)q-C1 - C8-алкил, где q означает количество от 1 до 10, или R9 и R10 вместе с атомом углерода, за который они присоединяются, образуют циклогексильное кольцо, R11 обозначает гидрокси, алкокси или -O(CH2CH2O)q-C1 - C8-алкил;
или/и соединения формулы III, или/и соединения формулы IV, где R18 является водородом или метоксигруппой, R19 обозначает метокси, метилтио, морфолино или группой, соответствующей формуле IVa, R20 обозначает метил или этил, R22 и R23 одинаковые или являются метилами или вместе с атомом азота, за который они присоединены, образуют пяти- или шестичленное насыщенное кольцо, которое может быть прервано атомом -O-, а R25 обозначает водород, C1 - C8-алкил.
8. Смесь фотоинициаторов по п.6, где соединение, соответствующее формуле III, является бензофеноном, 2,4,6-триметилфенилфенилкетоном, 4-метилфенил-фенилкетоном, (3-метил-4-метокси-фенил)-(3-метилфенил)-кетоном, 4[(4-метилфенилтио)-фенил] -фенилкетоном, 2-карбоксифенил-фенилкетоном или 4(2-гидроксиэтокси)фенил-фенилкетоном, соединение, соответствующее формуле II, является 1-бензоил-1-гидрокси-1-метилэтаном, 1-бензоилциклогексанолом, 4[(2гидроксиэтокси)-бензоил] -1-гидрокси-1-метилэтаном, 1(4-изопропилбензоил)-1-гидрокси-1-метилэтаном или 2,2-диметокси-1,2-дифенилэтан-1-оном, соединение, соответствующее формуле IV, является 1(3,4-диметоксибензоил)-1-бензил-1-морфолино-пропаном, 1(4-метилтиобензоил)-1-метил-1-морфолиноэтаном, 1(4-морфолинобензоил)-1-бензил-1-диметиламин-пропаном или 3,6-бис(2-метил-2-морфолино-пропан-1-он)-9-октил-карбазолом, а также соединение, соответствующее формуле Ia, является бис(2,4,6-триметилбензоил)-2,5-диизопропилфенил-фосфиноксидом, бис[2,6-диметил-4(2-метилпропил)бензоил]-фенилфосфиноксидом, бис(2,6-диметилбензоил)-фенил-фосфиноксидом, бис(2,4,6-триметилбензоил)-фенил-фосфиноксидом или бис(2,4,6-триметилбензоил)-2,5-диметилфенил-фосфиноксидом.
9. Смесь фотоинициаторов по п.6, содержащая минимум одно соединение, соответствующее формуле Ia, и два соединения, соответствующие формуле II.
10. Смесь фотоинициаторов, содержащая 25% бис(2,4,6-триметилбензоил)-фенилфосфиноксида и 75% 1-бензоилциклогексанола.
11. Фотополимеризующий состав, содержащий
(а) минимум одно этиленовое ненасыщенное полимеризующееся соединение,
(б) как фотоинициатор минимум одно соединение, соответствующее формуле I по п.1 или одну смесь фотоинициаторов по п.6.
12. Фотополимеризующийся состав по п.11, содержащий в качестве фотоинициатора минимум одно соединение, соответствующее формуле I по п.1 или смесь фотоинициаторов по одному из пп.6 - 10, а также поглотитель УФ, относящийся к классу гидроксифенил-s-триазинов и/или гидроксифенилбензтриазолов и/или стерически затрудненных аминов на основе 2,2,6,6-тетраметил-пиперидинов.
13. Способ фотополимеризации соединений с этиленовыми ненасыщенными двойными связями, отличающийся тем, что состав, соответствующий требованию п.11, освещается светом в области от 200 до 600 нм.
14. Применение соединений, соответствующих формуле I, или смеси фотоинициаторов, соответствующих требованию п.6, для фотополимеризации соединений с этиленовыми ненасыщенными двойными связями.
15. Применение составов, соответствующих требованию п.11, для изготовления лаков, печатных красок, печатных плат, зубных пломб, материалов для резисторов, а также материалов для видеозаписи изображения, особенно для голографических изображений.
16. Способ, соответствующий требованию п. 13, для изготовления лаков, печатных красок, печатных плат, зубных пломб, материалов для резистов или материалов для видеозаписи изображения, особенно для голографических изображений.
17. Покрытые субстраты, у которых как минимум одна поверхность покрыта составом, соответствующим требованию п.11.
18. Способ фотографического изготовления рельефного изображения, в котором покрытый субстрат, соответствующий требованию п.17, освещается образующим картину светом, а затем неосвещенные части удаляются растворителем.
RU97103536/04A 1996-03-04 1997-03-04 Алкилфенилбисацилфосфиноксиды, их смеси, фотополимеризуемая композиция, содержащая их, способ фотополимеризации и субстрат, покрытый этой композицией RU2180667C2 (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH558/96 1996-03-04
CH55896 1996-03-04

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU97103536A true RU97103536A (ru) 1999-03-20
RU2180667C2 RU2180667C2 (ru) 2002-03-20

Family

ID=4189800

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU97103536/04A RU2180667C2 (ru) 1996-03-04 1997-03-04 Алкилфенилбисацилфосфиноксиды, их смеси, фотополимеризуемая композиция, содержащая их, способ фотополимеризации и субстрат, покрытый этой композицией

Country Status (22)

Country Link
US (2) US6020528A (ru)
JP (1) JP4168352B2 (ru)
KR (1) KR100474236B1 (ru)
CN (1) CN1092201C (ru)
AT (1) AT404729B (ru)
BE (1) BE1011437A5 (ru)
BR (1) BR9701154A (ru)
CA (1) CA2198803C (ru)
CH (1) CH691970A5 (ru)
DE (2) DE19758946B4 (ru)
DK (1) DK176096B1 (ru)
ES (1) ES2132018B1 (ru)
FR (1) FR2745575B1 (ru)
GB (1) GB2310855B (ru)
IT (1) IT1290006B1 (ru)
NL (1) NL1005424C2 (ru)
NO (1) NO309571B1 (ru)
RU (1) RU2180667C2 (ru)
SE (1) SE520727C2 (ru)
SG (1) SG55281A1 (ru)
TW (1) TW408136B (ru)
ZA (1) ZA971810B (ru)

Families Citing this family (158)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SG53043A1 (en) * 1996-08-28 1998-09-28 Ciba Geigy Ag Molecular complex compounds as photoinitiators
AU7084798A (en) * 1997-04-22 1998-11-13 Dsm N.V. Liquid curable resin composition
US6359025B1 (en) 1997-05-16 2002-03-19 Dsm N.V. Radiation-curable liquid resin composition for coating optical fibers
DE19812859A1 (de) * 1998-03-24 1999-09-30 Basf Ag Photoinitiatorgemische
SE9904080D0 (sv) * 1998-12-03 1999-11-11 Ciba Sc Holding Ag Fotoinitiatorberedning
WO2001021365A1 (de) * 1999-09-22 2001-03-29 Kronospan Technical Company Ltd. Vorrichtung sowie verfahren zur herstellung von fussbodenpaneelen
DE19945279C1 (de) 1999-09-22 2001-04-05 Kronospan Tech Co Ltd Vorrichtung sowie Verfahren zur Herstellung von Fußbodenpaneelen und verfahrensgemäß hergestellte Paneele
US6387981B1 (en) 1999-10-28 2002-05-14 3M Innovative Properties Company Radiopaque dental materials with nano-sized particles
US6572693B1 (en) 1999-10-28 2003-06-03 3M Innovative Properties Company Aesthetic dental materials
US6730156B1 (en) 1999-10-28 2004-05-04 3M Innovative Properties Company Clustered particle dental fillers
US6500877B1 (en) 1999-11-05 2002-12-31 Krohn Industries, Inc. UV curable paint compositions and method of making and applying same
ATE253082T1 (de) 1999-12-08 2003-11-15 Ciba Sc Holding Ag Neues photoinitiatorsystem aus phosphinoxidverbindungen und wenig gefärbte härtbare zusammensetzungen
DE19961347A1 (de) * 1999-12-17 2001-06-21 S & C Polymer Silicon & Compos Photoinitiatorsystem mit Acylphosphinoxid-Initiatoren
US6444725B1 (en) 2000-01-21 2002-09-03 3M Innovative Properties Company Color-changing dental compositions
GB2360283B (en) * 2000-02-08 2002-08-21 Ciba Sc Holding Ag Monoacylarylphosphines and acylphosphine oxides and sulphides
DE10022352A1 (de) * 2000-05-08 2001-11-22 Georg Gros Verfahren zur Beschichtung von elektrolytisch- oder feuerverzinkten Blechen
GB2365430B (en) * 2000-06-08 2002-08-28 Ciba Sc Holding Ag Acylphosphine photoinitiators and intermediates
BR0113872A (pt) * 2000-09-14 2003-07-22 Ciba Sc Holding Ag Fotoiniciadores de óxido de acilfosfina em resinas de moldagem de metacrilato
WO2002024344A2 (de) * 2000-09-25 2002-03-28 Chemetall Gmbh Verfahren zur vorbehandlung und beschichtung von metallischen oberflächen vor der umformung mit einem lackähnlichen überzug und verwendung der derart beschichteten substrate
US6528555B1 (en) 2000-10-12 2003-03-04 3M Innovative Properties Company Adhesive for use in the oral environment having color-changing capabilities
US6737216B2 (en) * 2000-12-08 2004-05-18 E.I. Du Pont De Nemours And Company Laser engravable flexographic printing element and a method for forming a printing plate from the element
US6613812B2 (en) 2001-01-03 2003-09-02 3M Innovative Properties Company Dental material including fatty acid, dimer thereof, or trimer thereof
TW583299B (en) 2001-04-13 2004-04-11 Fuji Photo Film Co Ltd Liquid crystal composition, color filter and liquid crystal display device
EP1423757B1 (en) * 2001-08-21 2009-04-29 Ciba Holding Inc. Bathochromic mono- and bis-acylphosphine oxides and sulfides and their use as photoinitiators
US6780546B2 (en) * 2001-08-30 2004-08-24 Inphase Technologies, Inc. Blue-sensitized holographic media
EP1323784B1 (en) 2001-12-26 2005-02-16 Dainippon Ink And Chemicals, Inc. Resin composition for coating optical fiber and coated optical fiber and optical fiber unit using the same
US7393882B2 (en) * 2002-01-31 2008-07-01 3M Innovative Properties Company Dental pastes, dental articles, and methods
ZA200301683B (en) * 2002-03-04 2004-09-06 Ciba Sc Holding Ag Synergistic combinations of UV absorbers for pigmented polyolefins.
JP4127104B2 (ja) * 2002-04-03 2008-07-30 Dic株式会社 光重合開始剤、新規化合物および光硬化性組成物
CN100482694C (zh) * 2002-04-19 2009-04-29 西巴特殊化学品控股有限公司 等离子体诱发的涂层固化
US20030221769A1 (en) * 2002-05-23 2003-12-04 Kutsch Wilhelm P. Transfer casting of holographic images
US7091259B2 (en) * 2002-07-03 2006-08-15 3M Innovative Properties Company Dental fillers, pastes, and compositions prepared therefrom
US20050288387A1 (en) * 2002-08-21 2005-12-29 Li Feng Acrylate dental compositions with improved viscosity and storage odor
US7025791B2 (en) * 2002-12-02 2006-04-11 Gi Dynamics, Inc. Bariatric sleeve
US6984261B2 (en) * 2003-02-05 2006-01-10 3M Innovative Properties Company Use of ceramics in dental and orthodontic applications
CA2523569A1 (en) 2003-05-06 2004-11-18 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Photo-cured and stabilized coatings
CN1842504B (zh) * 2003-08-29 2010-12-08 西巴特殊化学品控股有限公司 光纤涂料
US7032492B2 (en) * 2003-09-11 2006-04-25 Milton S. Meshirer Ammunition articles comprising light-curable moisture-preventative sealant and method of manufacturing same
NZ592917A (en) * 2003-09-15 2012-12-21 Protiva Biotherapeutics Inc Stable polyethyleneglycol (PEG) dialkyloxypropyl (DAA) lipid conjugates
US20050096427A1 (en) * 2003-10-31 2005-05-05 Basf Ag, Ultraviolet radiation curable clearcoat composition with low color and good durability
DE602005025217D1 (de) * 2004-04-15 2011-01-20 Basf Se Verfahren zur photohärtung mit lichtemittierenden dioden
US7553670B2 (en) 2004-04-28 2009-06-30 3M Innovative Properties Company Method for monitoring a polymerization in a three-dimensional sample
US8071260B1 (en) * 2004-06-15 2011-12-06 Inphase Technologies, Inc. Thermoplastic holographic media
KR20070083840A (ko) * 2004-10-29 2007-08-24 다이니혼 잉키 가가쿠 고교 가부시키가이샤 활성 에너지선 경화형 잉크젯 기록용 잉크
JP5234912B2 (ja) * 2005-01-17 2013-07-10 チバ ホールディング インコーポレーテッド アシルホスファン、並びにこれらの酸化物及び硫化物の製造方法
DE102005010327A1 (de) * 2005-03-03 2006-09-07 Basf Ag Ratikalisch härtbare Beschichtungsmassen
DE502005006753D1 (de) * 2005-08-01 2009-04-16 Ivoclar Vivadent Ag Photopolymerisierbare Dentalmaterialien mit Bisacylphosphinoxiden als Initiator
DE102006016642A1 (de) * 2006-04-08 2007-10-18 Bayer Materialscience Ag UV-härtende Schutzschicht für thermoplastische Substrate
JP2008037930A (ja) * 2006-08-02 2008-02-21 Toyo Ink Mfg Co Ltd 光硬化型インクジェットインキ
DE102006050153A1 (de) 2006-10-25 2008-05-08 Ivoclar Vivadent Ag Mikroverkapselte Photoinitiatoren und deren Verwendung für Dentalmaterialien
US8647426B2 (en) 2006-12-28 2014-02-11 3M Innovative Properties Company Dental filler and methods
EP1944173B1 (en) 2007-01-15 2010-04-21 FUJIFILM Corporation Ink composition and inkjet recording method using the same
JP5255369B2 (ja) 2007-09-25 2013-08-07 富士フイルム株式会社 光硬化性コーティング組成物、オーバープリント及びその製造方法
US8076393B2 (en) 2007-09-26 2011-12-13 Fujifilm Corporation Ink composition, inkjet recording method, and printed material
JP5148235B2 (ja) 2007-09-28 2013-02-20 富士フイルム株式会社 インク組成物
US8129447B2 (en) 2007-09-28 2012-03-06 Fujifilm Corporation Ink composition and inkjet recording method using the same
JP5236238B2 (ja) 2007-09-28 2013-07-17 富士フイルム株式会社 インクジェット記録用ホワイトインク組成物
US8697194B2 (en) * 2008-04-10 2014-04-15 Xerox Corporation Curable overcoat compositions
JP5414367B2 (ja) 2008-06-02 2014-02-12 富士フイルム株式会社 顔料分散物及びそれを用いたインク組成物
US8378002B2 (en) 2008-07-16 2013-02-19 Fujifilm Corporation Aqueous ink composition, aqueous ink composition for inkjet recording, and inkjet recording method
EP2342237B1 (en) 2008-11-03 2014-04-23 Basf Se Photoinitiator mixtures
JP5297163B2 (ja) * 2008-11-25 2013-09-25 パナソニック株式会社 Uv硬化性樹脂組成物およびこれを用いた接着方法
JP5344892B2 (ja) 2008-11-27 2013-11-20 富士フイルム株式会社 インクジェット用インク組成物、及びインクジェット記録方法
CN102257408B (zh) 2008-12-18 2014-07-09 诺华股份有限公司 制造硅酮水凝胶接触透镜的方法
JP5597647B2 (ja) * 2008-12-30 2014-10-01 ノバルティス アーゲー 3官能uv吸収性化合物およびその用途
JP5350827B2 (ja) 2009-02-09 2013-11-27 富士フイルム株式会社 インク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP2010229284A (ja) 2009-03-27 2010-10-14 Fujifilm Corp 光硬化性組成物
JP5405174B2 (ja) 2009-03-30 2014-02-05 富士フイルム株式会社 インク組成物
DE102009016025B4 (de) 2009-04-02 2014-12-11 Voco Gmbh Kunststoffmodifizierter Glasionomerzement, seine Verwendung sowie Verfahren zu seiner Herstellung
JP5951479B2 (ja) 2009-04-20 2016-07-13 イーティーエイチ・チューリッヒ ポリマーナノ粒子
JP5424764B2 (ja) 2009-07-28 2014-02-26 富士フイルム株式会社 顔料分散物、インク組成物、及び、インクジェット記録方法
AU2010295773B2 (en) 2009-09-15 2013-05-30 Novartis Ag Prepolymers suitable for making ultra-violet absorbing contact lenses
US8573390B2 (en) * 2010-03-09 2013-11-05 Xerox Corporation Material transport systems including a transport belt having resistance to laser radiation damage and methods of cutting substrates in material transport systems with laser radiation
DE102010003884A1 (de) 2010-04-12 2011-10-13 Voco Gmbh Dualhärtende, mehrkomponentige dentale Zusammensetzung
DE102010003881A1 (de) 2010-04-12 2011-10-13 Voco Gmbh Dentale Abdeckmasse
DE102010003883A1 (de) 2010-04-12 2011-10-13 Voco Gmbh Lichthärtbares Kompositmaterial
KR101555800B1 (ko) * 2010-06-30 2015-09-24 디에스엠 아이피 어셋츠 비.브이. D1479 안정한 액체 비스(아실)포스핀 광 개시제 및 방사선 경화성 조성물에서 이의 용도
BR112013002154A2 (pt) 2010-07-30 2016-05-31 Novartis Ag pré-polímeros anfifílicos de polissiloxano e seus usos
JP5688939B2 (ja) * 2010-09-16 2015-03-25 クラレノリタケデンタル株式会社 ビスアシルホスフィンオキサイド化合物及びそれを含む重合性組成物
EP2436364B1 (de) 2010-09-30 2017-05-31 VOCO GmbH Lackzusammensetzung umfassend ein Monomer mit einem polyalicyclischen Strukturelement
EP2436366B1 (de) 2010-09-30 2015-07-29 VOCO GmbH Kompositmaterial umfassend ein Monomer mit einem polyalicyclischen Strukturelement als Versiegelungsmaterial
EP2436365B1 (de) 2010-09-30 2017-03-08 VOCO GmbH Kompositmaterial umfassend ein Monomer mit einem polyalicyclischen Strukturelement
US9079828B2 (en) 2010-09-30 2015-07-14 Voco Gmbh Polymerizable compounds comprising a polyalicylic structure element
EP2436363B1 (de) 2010-09-30 2017-01-18 VOCO GmbH Zusammensetzung umfassend ein Monomer mit einem polyalicyclischen Strukturelement zum Füllen und/oder Versiegeln eines Wurzelkanals
BR112013008221B1 (pt) 2010-10-06 2020-02-11 Alcon Inc. Pré-polímero processável em água, lente de contato de hidrogel de silicone e seu método de fabricação
US8993651B2 (en) 2010-10-06 2015-03-31 Novartis Ag Polymerizable chain-extended polysiloxanes with pendant hydrophilic groups
RU2638545C1 (ru) 2010-10-06 2017-12-14 Новартис Аг Подвергаемые водной переработке силиконсодержащие форполимеры и варианты их использования
EP2450025B1 (de) 2010-11-08 2012-11-28 VOCO GmbH Polymerisierbare Phosphorsäurederivate umfassend ein polyalicyclisches Strukturelement
JP2012113228A (ja) 2010-11-26 2012-06-14 Sony Corp 表示装置およびその製造方法
MY158272A (en) 2010-12-13 2016-09-30 Novartis Ag Ophthalmic lenses modified with functional groups and methods of making thereof
CN102079707B (zh) * 2011-01-25 2013-10-30 深圳市有为化学技术有限公司 均三甲苯基芳香酮化合物、其制备方法以及光引发剂
DE102011003289A1 (de) 2011-01-27 2012-08-02 Voco Gmbh Dentale provisorische Suprakonstruktionen sowie Materialien zu ihrer Herstellung und entsprechende Verfahren
US20120208914A1 (en) 2011-02-14 2012-08-16 Deepak Shukla Photoinitiator compositions and uses
US8816211B2 (en) 2011-02-14 2014-08-26 Eastman Kodak Company Articles with photocurable and photocured compositions
US20120207935A1 (en) 2011-02-14 2012-08-16 Deepak Shukla Photocurable inks and methods of use
JP5750069B2 (ja) 2011-03-24 2015-07-15 富士フイルム株式会社 液晶配向促進剤、液晶組成物、高分子材料およびフィルム
JP5774518B2 (ja) 2011-07-27 2015-09-09 富士フイルム株式会社 化合物、ヘイズ低下剤、液晶組成物、高分子材料およびフィルム
MX341258B (es) * 2011-09-08 2016-08-09 Ivoclar Vivadent Ag Materiales dentales basados en compuestos con propiedades de despegado segun sea necesario.
DE102012001979A1 (de) 2012-02-02 2013-08-08 Voco Gmbh Härtbares Gemisch umfassend Weichmacher mit einem polyalicyclischen Strukturelement zur Anwendung bei der Herstellung dentaler Werkstoffe
DE102012001978A1 (de) 2012-02-02 2013-08-08 Voco Gmbh Dentale Kompositmaterialien enthaltend tricyclische Weichmacher
JP5827161B2 (ja) 2012-03-28 2015-12-02 富士フイルム株式会社 コレステリック液晶性混合物、フィルム、赤外反射板、積層体および合わせガラス
US9801803B2 (en) 2012-06-04 2017-10-31 L'oreal Fast curing cosmetic compositions for tack free surface photocuring of radically polymerizable resins with UV-LED
DE102012212429A1 (de) 2012-07-16 2014-01-16 Voco Gmbh Dentalhandgerät, Verfahren und Verwendung desselben zum Aushärten lichthärtbaren Materials
DE102012214540A1 (de) 2012-08-15 2014-02-20 Helmholtz-Zentrum für Infektionsforschung GmbH Zahnfüllungsmaterialien und Zahnlacke zur Hemmung der Biofilmbildung von Streptococcus mutans und deren Herstellung
WO2014051026A1 (ja) * 2012-09-27 2014-04-03 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、ビスアシルホスフィンオキシド化合物、及び、モノアシルホスフィンオキシド化合物
DE102013008176A1 (de) 2012-10-05 2014-04-10 Voco Gmbh Kit und Verfahren zur indirekten chairside Herstellung von Kompositinlays
CN103333202B (zh) * 2013-06-08 2016-09-07 广东博兴新材料科技有限公司 一种基于环氧化合物的含磷酸酯基的长波吸收光引发剂及其制备方法
US9796740B2 (en) 2013-07-08 2017-10-24 Basf Se Liquid bisacylphosphine oxide photoinitiator
JP6169545B2 (ja) 2014-09-09 2017-07-26 富士フイルム株式会社 重合性組成物、インクジェット記録用インク組成物、インクジェット記録方法、及び記録物
JP6169548B2 (ja) 2014-09-26 2017-07-26 富士フイルム株式会社 重合性組成物、インクジェット記録用インク組成物、インクジェット記録方法、及び記録物
JP6086888B2 (ja) 2014-09-26 2017-03-01 富士フイルム株式会社 インクジェット記録用インク組成物、インクジェット記録方法、及び記録物
US9636293B2 (en) 2014-10-13 2017-05-02 L'oréal Latex nail compositions having low amounts of photo-initiator
US9649272B2 (en) 2014-10-13 2017-05-16 L'oréal Latex nail compositions having low amounts of photo-initiator
US9820931B2 (en) 2014-10-13 2017-11-21 L'oreal Latex nail compositions having low amounts of photo-initiator
DE102014116389A1 (de) 2014-11-11 2016-05-12 Voco Gmbh Radikalisch härtbare dentale Zusammensetzungen
DE102014116402A1 (de) 2014-11-11 2016-05-12 Voco Gmbh Verwendung radikalisch härtbarer Zusammensetzungen in generativen Fertigungsverfahren
CN104558031B (zh) * 2014-12-09 2016-08-03 天津久联科技有限公司 一种苯基双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)氧化膦的制备方法
CN104592298B (zh) * 2014-12-31 2016-07-06 湖北固润科技股份有限公司 一种酰基膦高效光引发剂及其制备方法
WO2016200972A1 (en) 2015-06-08 2016-12-15 Dsm Ip Assets B.V. Liquid, hybrid uv/vis radiation curable resin compositions for additive fabrication
EP3567428B1 (en) 2015-10-01 2021-06-23 DSM IP Assets B.V. Liquid, hybrid uv/vis radiation curable resin compositions for additive fabrication
KR102332048B1 (ko) 2016-10-17 2021-11-29 오소본드 코포레이션 올리고머성 또는 폴리머성 항미생물제를 갖는 표면
WO2018084076A1 (ja) 2016-11-04 2018-05-11 富士フイルム株式会社 ウインドシールドガラス、ヘッドアップディスプレイシステム、およびハーフミラーフィルム
WO2018146958A1 (ja) 2017-02-09 2018-08-16 富士フイルム株式会社 ハーフミラー、ハーフミラーの製造方法、および画像表示機能付きミラー
DE102017103084A1 (de) 2017-02-15 2018-08-16 Voco Gmbh Dentaler Kompositblock zur Herstellung permanenter indirekter Restaurationen im CAD/CAM Verfahren
DE102017105841A1 (de) 2017-03-17 2018-09-20 Voco Gmbh Fräsrohling zur Herstellung einer indirekten dentalen Restauration, entsprechende Verwendungen und Verfahren
CN110944957B (zh) 2017-06-02 2022-07-08 科思创(荷兰)有限公司 光纤用耐热性可辐射固化涂料
CN111051961B (zh) 2017-09-07 2021-12-24 富士胶片株式会社 投影图像显示用半反射镜膜、投影图像显示用夹层玻璃及图像显示系统
WO2019090218A1 (en) 2017-11-03 2019-05-09 Dsm Ip Assets, B.V. Water-blocking systems including fibers coated with liquid radiation curable sap compositions
DE102018103415A1 (de) 2018-02-15 2019-08-22 Voco Gmbh Dentale Formkörper mit kontinuierlichem Farbverlauf
EP3757082B1 (en) 2018-02-23 2024-05-01 FUJIFILM Corporation Method for manufacturing laminated glass for displaying image, laminated glass for displaying image, and image display system
US20210208333A1 (en) 2018-06-01 2021-07-08 Dsm Ip Assets B.V. Radiation curable compositions for coating optical fiber via alternative oligomers and the coatings produced therefrom
DE102018114690A1 (de) 2018-06-19 2019-12-19 Voco Gmbh Thermowirksame dentale Kompositzusammensetzung
EP3820827A1 (en) 2018-08-30 2021-05-19 DSM IP Assets B.V. Radiation curable compositions for coating optical fiber
JP7177176B2 (ja) 2018-10-17 2022-11-22 富士フイルム株式会社 投映像表示用部材、ウインドシールドガラスおよびヘッドアップディスプレイシステム
EP3867207A1 (en) 2018-12-03 2021-08-25 Ms Holding B.V. Filled radiation curable compositions for coating optical fiber and the coatings produced therefrom
EP3895927A4 (en) 2018-12-10 2022-02-23 FUJIFILM Corporation PROJECTION IMAGE DISPLAY ELEMENT, WINDSHIELD GLASS AND HEAD-UP DISPLAY SYSTEM
EP3936924A4 (en) 2019-03-06 2022-05-04 FUJIFILM Corporation LAMINATED FILM FOR DISPLAYING A PROJECTION IMAGE, LAMINATED GLASS FOR DISPLAYING A PROJECTION IMAGE AND IMAGE DISPLAY SYSTEM
WO2020190833A1 (en) 2019-03-18 2020-09-24 Basf Se Uv curable compositions for dirt pick-up resistance
WO2020239564A1 (en) 2019-05-24 2020-12-03 Dsm Ip Assets B.V. Radiaton curable compositions for coating optical fiber with enhanced high-speed processability
JP2022533793A (ja) 2019-05-24 2022-07-25 コベストロ (ネザーランズ) ビー.ヴィー. 強化された高速加工性を備えた光ファイバーをコーティングするための放射線硬化性組成物
CN114207063B (zh) 2019-07-31 2023-07-25 科思创(荷兰)有限公司 具有多功能长臂低聚物的涂覆光纤用辐射固化组合物
DE102019122174A1 (de) 2019-08-19 2021-02-25 Voco Gmbh Dentale polymerisierbare Zusammensetzung auf der Basis kondensierter Silane
JP2022546933A (ja) 2019-08-30 2022-11-10 コベストロ (ネザーランズ) ビー.ブイ. 付加造形のための液状ハイブリッドuv/vis放射線硬化性樹脂組成物
WO2021060402A1 (ja) 2019-09-27 2021-04-01 富士フイルム株式会社 ヘッドアップディスプレイ用プロジェクター
CN117784464A (zh) 2019-12-26 2024-03-29 富士胶片株式会社 光吸收各向异性层、层叠体、光学膜、图像显示装置、背光模组
WO2021200655A1 (ja) 2020-03-30 2021-10-07 富士フイルム株式会社 反射フィルム、ウインドシールドガラスおよびヘッドアップディスプレイシステム
EP4127794A1 (en) 2020-04-03 2023-02-08 Covestro (Netherlands) B.V. Self-healing optical fibers and the compositions used to create the same
KR20220164527A (ko) 2020-04-03 2022-12-13 코베스트로 (네덜란드) 비.브이. 다층 광학 디바이스
EP4127006A1 (en) 2020-04-03 2023-02-08 Covestro (Netherlands) B.V. Methods of synthesizing multi-hydrogen bonding oligomers
EP4163262A4 (en) 2020-06-03 2023-12-13 FUJIFILM Corporation REFLECTIVE FILM, COMPOSITE GLASS PRODUCTION PROCESS AND LAMINATED GLASS
CN116568545A (zh) 2020-12-09 2023-08-08 富士胶片株式会社 反射膜、挡风玻璃及平视显示系统
EP4294879A1 (en) 2021-02-22 2023-12-27 Covestro (Netherlands) B.V. Process for providing low gloss coatings
CN117897645A (zh) 2021-09-30 2024-04-16 富士胶片株式会社 平视显示系统及运输机
WO2023072891A1 (en) 2021-10-29 2023-05-04 Covestro (Netherlands) B.V. Radical-curable composition
CN113929795B (zh) * 2021-11-16 2023-03-28 上海墨之炫科技有限公司 一种酰基氧化膦类光引发剂
WO2023205224A2 (en) 2022-04-21 2023-10-26 Covestro (Netherlands) B.V. Low-volatility radiation curable compositions for coating optical fibers
WO2023227683A1 (en) 2022-05-25 2023-11-30 Covestro (Netherlands) B.V. Process for providing low gloss coatings
WO2024042073A1 (en) 2022-08-24 2024-02-29 Covestro (Netherlands) B.V. Process for providing low gloss coatings

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0046175A1 (en) * 1980-08-19 1982-02-24 Ames Rubber Corporation Elastomeric-coated roll and method and apparatus for making the same
DE3443221A1 (de) * 1984-11-27 1986-06-05 ESPE Fabrik pharmazeutischer Präparate GmbH, 8031 Seefeld Bisacylphosphinoxide, ihre herstellung und verwendung
DE3501657A1 (de) * 1985-01-19 1986-07-24 Reich Spezialmaschinen GmbH, 7440 Nürtingen Vorrichtung zum vorritzen von werkstuecken
DE3633436A1 (de) * 1986-10-01 1988-04-14 Basf Ag Photopolymerisierbare aufzeichnungsmasse, insbesondere zur herstellung von druckplatten und reliefformen
GB8715435D0 (en) * 1987-07-01 1987-08-05 Ciba Geigy Ag Forming images
DE3801511C2 (de) * 1988-01-20 1996-11-14 Espe Stiftung Verwendung von Photoinitiatoren zur Herstellung von in zwei Schritten härtbaren Dentalmassen
DE3837569A1 (de) * 1988-11-04 1990-05-10 Espe Stiftung Mit sichtbarem licht aushaertbare dentalmassen
US4962144B1 (en) * 1988-12-30 1998-03-24 Gen Electric Composition
US5218009A (en) * 1989-08-04 1993-06-08 Ciba-Geigy Corporation Mono- and di-acylphosphine oxides
EP0446175A3 (en) * 1990-03-09 1991-11-21 Ciba-Geigy Ag Mixture of photoinitiators
RU2091385C1 (ru) * 1991-09-23 1997-09-27 Циба-Гейги АГ Бисацилфосфиноксиды, состав и способ нанесения покрытий
NL9200052A (nl) * 1992-01-14 1993-08-02 Gen Electric Polymeermengsels en daaruit gevormde plaatvormige of filmvormige produkten.
ZA941879B (en) * 1993-03-18 1994-09-19 Ciba Geigy Curing compositions containing bisacylphosphine oxide photoinitiators
JP3452145B2 (ja) * 1993-08-23 2003-09-29 大日本インキ化学工業株式会社 粘弾性製品用光重合性組成物及び該組成物を用いた粘弾性製品の製造方法
TW381106B (en) * 1994-09-02 2000-02-01 Ciba Sc Holding Ag Alkoxyphenyl-substituted bisacylphosphine oxides
JP3785687B2 (ja) * 1995-10-05 2006-06-14 昭和電工株式会社 光硬化性組成物及びその硬化方法
DE69710657T3 (de) * 1996-08-23 2007-07-05 Showa Denko K.K. Photohärtbare Zusammensetzung und Härtungsverfahren

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU97103536A (ru) Алкилфенилбисацилфосфоноксиды и смеси фотоинициаторов
KR970065546A (ko) 알킬페닐비스아실포스핀 옥사이드 및 광개시제 혼합물
KR930006035A (ko) 알킬비스아실포스핀옥사이드 광개시제 및 이를 함유하는 조성물
KR102385824B1 (ko) 신규한 3-케토쿠마린, 이들의 제조방법 및 광중합 반응에서 광개시제로서의 이들의 용도
AU750819B2 (en) Photogeneration of amines from alpha-aminoacetophenones
KR960010669A (ko) 알콕시페닐-치환 비스아실포스핀 옥시드
CA1152245A (en) Photopolymerizable unsaturated polyester mixture for copying material
JP2000169511A5 (ru)
US5034307A (en) Process for the photographic production of relief images using selected titanocenes
DE60032131T2 (de) Neue photoinitiatoren und deren anwendungen
JP2905985B2 (ja) 新規な酸素含有チタノセン及びその用途
RU97114452A (ru) Молекулярно-комплексные соединения, выступающие в качестве фотоинициаторов
JP2004534797A5 (ru)
KR970027090A (ko) 산에 안정한 광중합용 붕산염
KR880011078A (ko) α-아미노아세토페논
JP2002523398A5 (ru)
RU2005116302A (ru) Улучшение стабильности фотоинициаторов при хранении
JPH09188685A (ja) 光重合のためのボレート補助開始剤
KR970028793A (ko) 폴리보란으로부터 얻은 붕산염 광개시제
DE19850139A1 (de) Neue Chinoliniumfarbstoffe und Borate in photopolymerisierbaren Zusammensetzungen
RU2006138489A (ru) Фотоинициаторы для использования в типографских красках для глубокой печати
JP2006515833A5 (ru)
KR950032245A (ko) 이합체성 비스아실포스핀, 옥사이드 및 술파이드 화합물 및 이들 화합물을 포함하는 조성물
CA2038963A1 (en) Photopolymerizable mixture and recording material prepared therefrom
JPH02226148A (ja) 光重合性混合物及びそれを含む光重合性複写材料