SE520727C2 - Alkylfenylbisacylfosfinoxid och fotoinitiatorblandningar - Google Patents

Alkylfenylbisacylfosfinoxid och fotoinitiatorblandningar

Info

Publication number
SE520727C2
SE520727C2 SE9700616A SE9700616A SE520727C2 SE 520727 C2 SE520727 C2 SE 520727C2 SE 9700616 A SE9700616 A SE 9700616A SE 9700616 A SE9700616 A SE 9700616A SE 520727 C2 SE520727 C2 SE 520727C2
Authority
SE
Sweden
Prior art keywords
alkyl
phenyl
formula
hydrogen
compounds
Prior art date
Application number
SE9700616A
Other languages
English (en)
Other versions
SE9700616D0 (sv
SE9700616L (sv
Inventor
David G Leppard
Manfred Koehler
Andreas Valet
Original Assignee
Ciba Sc Holding Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ciba Sc Holding Ag filed Critical Ciba Sc Holding Ag
Publication of SE9700616D0 publication Critical patent/SE9700616D0/sv
Publication of SE9700616L publication Critical patent/SE9700616L/sv
Publication of SE520727C2 publication Critical patent/SE520727C2/sv

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/029Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic System
    • C07F9/02Phosphorus compounds
    • C07F9/28Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
    • C07F9/50Organo-phosphines
    • C07F9/53Organo-phosphine oxides; Organo-phosphine thioxides
    • C07F9/5337Phosphine oxides or thioxides containing the structure -C(=X)-P(=X) or NC-P(=X) (X = O, S, Se)
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/46Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F2/50Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D4/00Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114Initiator containing
    • Y10S430/117Free radical

Description

520727 2 Föremål för föreliggande uppfinning är därför en fotoinitiatorblandning som innehåller åtminstone en förening med formeln (Ia): vari R, betecknar Q-Cr-alkyl, R, är väte, C,-C,-alkyl eller C,-C,,-alkoxi och R,, R4, Rs, Rs och R, oberoende av varandra utgör väte, halogen, Q-Cw-alkyl, cyklopentyl, cyklohexyl, CZ-Cn-alkenyl, med fenyl substituerad C,-C,,-alkyl osubstituerad eller med en eller tvâ Cl-Cfalkyl eller/och C,-C4-alkoxi substituerad fenyl CfQ-alkoxi suostituerad fenyl och åtminstone en förening med formeln (II) *Q vari CH | J R, utgör väte, Cl-Cm-alkyl, C,-C,,-alkoxi, -OCHZCHZ-ORU, en grupp CH,=C- O=O 'lf - I -nw (n) RH cH eller en grupp CHI-åçlï» , varvid l betecknar ett tal från 2 till 10 Å | i? i» och A är en rest C-C-Rm | RH R., och Ru, oberoende av varandra betecknar väte, Q-Có-alkyl, fenyl, Q-Cm-alkoxi, OSiRuRuRu, eller -O(CHzCH2O)q-C,-Cm-alkyl, varvid q står för ett tal från 1 till 20, eller \\SPB\VOL3\uSers\FM\DOK\word-d0k\P333 IÖ-RdOCSEOO/Nll/CG 20 25 30 520727 3 R., och RH, tillsammans med kolatomen, vid vilken de är bundna, bildar en cyklohexylring; R,, utgör hydroxi, Q-Cw-alkoxi eller -O(CH,CH2O)q-C,-Cm-alkyl, varvid RQ, Rw och RH icke alla samtidigt står för Q-Cw-alkoxi eller -O(CH2CH2O)q-C,-C,6-alky1, i? i? Ru betecknar väte, CVCS-alkyl -C-CH=CH2, -C-Cl-Ca-alkyl eller fm - i -c~c=cH, och RU, RM, och RM oberoende av varandra är C,-C,-alkyl eller fenyl, eller/och åtminstone en förening med formeln (III): H15 9 B15; n” c om RW I vari Rls, Rm, RK, oqh R” oberoende av varandra betecknar väte, metyl, fenyl, metoxi, -COOH, osubstituerad eller med Cl-Cfalkyl substituerad fenyl eller en grupp -OCH,CH20R,2 eller -SCHzCHzORw vari Ru är definierad såsom i formeln (II), eller/och åtminstone en förening med formeln (IV): Or» R» ë-çfltafä. av) N / \ “ß Ra Ra vari Rm står för väte, C,-C,,-alkyl, Cl-Cfalkoxi, C,-C4-alkyltio, halogen eller en grupp N(R22)23 Rw har en av de för Ru, angivna betydelserna eller utgör en grupp: \\SPB\VOLS\users\FM\DOK\word-dok\P333 ló-BAOCSEOO/Nh/CG 20 25 520727 4 t» s? T” -N c-clz-cnznz, (tva) N Ru / \ Ra Ra varvid i detta fall gruppen Rw från formeln (IV) och gruppen RW i denna formel (IVa) tillsammans står för en direkt bindning och de andra grupperna är definierade enligt följande: b Ru, betecknar Cl-Cg-alkyl, Rz, är väte, -CH=CHR24, osubstituerad eller en till tre gånger med Cl-Cn-alkyl, C,-C,,- alkoxi eller halogen substituerad fenyl, eller Ru, och Rz, tillsammans med kolatomen, vid vilken de är bundna, bildar en cyklohexylring, Ru och Ru oberoende av varandra betecknar C,-C,,-alkyl eller Ru och RB tillsammans med kväveatomen, vid vilken de är bundna, bildar en fem- eller sexledad, mättad eller omåttad ring, som kan vara avbruten av -O-, -NH- eller -N(CH3)-, Ru betecknar våte eller Cvj-Cfalkyl, och Rzs är väte ellerbl-Clz-alkyl.
Q-Cw-alkyl kan vara rak eller grenad och betecknar exempelvis metyl, etyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, s-butyl, t-butyl, pentyl, isopentyl, hexyl, heptyl, nonyl, decyl, dodecyl, oktadecyl eller ikosyl. Lämpliga är CFCIB-alkyl, t.ex. CVCIZ- eller Cl-Cs- alkyl, speciellt C,-C4-alkyl.
Q-Cw-alkyl, CVCÖ-alkyl, C,-C,,-alkyl kan ha samma betydelse som angivits, till och med motsvarande antal C-atomer.
Med en eller flera O-atomer avbruten Cz-Cw-alkyl är exempelvis avbruten 1-5, t.ex. 1-3 eller l eller 2 gånger med -O-. Det ger exempelvis strukturenheter, såsom -O(CH2)2OH, -O(CH2)2OCH3, -O(CH2CH2O)2CH2CH,, -CHfO-CH, -CH2CH2-O-CH2CH3, -[CH2CH2O],-CH,, med y = 1-5, -(CH2CH2O)5CH2CH3, -CHZ-CH(CH3)-O-CH2-CH2CH, eller -CH,-CH(CH3)-O-CH2CH3.
Gruppen -O(CHzCH2O)q-C,-Cw-alkyl står för 1-20 på varandra följande etylenoxidenheter, vilkas kedja avslutas med en Cl-Cm-alkylgrupp. Lämpligen är q 1-10, t.ex. 1-8, speciellt l-6. Kedjan med etylenoxidenheter avslutas med en Q-Ca-alkylgrupp.
\\SPB\VOL3\users\FM\DOK\word-dok\P333l6-B.d0cSEOO/Nh/CG 10 15 20 25 30 520727 5 t.ex. CFCS-alkyl, speciellt med en Cl-Cfalkyl. C,-C,6-alkyl kan därvid ha angivna betydelser, till och med motsvarande antal C-atomer.
Cz-Cu-alkenyl kan vara rak eller grenad och det kan finnas mer än en omättad bindning i molekylen. Exempel är vinyl, allyl, metylvinyl, butenyl, pentenyl, hexenyl, heptenyl, oktenyl, nonenyl, decenyl, dodecenyl.
C,-C,,,-alkoxi kan vara rak eller grenad och betecknar exempelvis metoxi, etoxi, propoxi, isopropoxi, butoxi, s-butoxi, t-butoxi, pentoxi, isopentoxi, hexyloxi, heptyloxi, oktyloxi, nonyloxi, deeyloxi, dodecyloxi eller oktadecyloxi. Lämpliga är exempelvis C,-C12- eller Q-Cg-alkoxi, speciellt Cl-Cfalkoxi. Q-Có-alkoxi och C,-C4-alkoxi kan ha samma betydelse som angivits, till och med motsvarande antal C-atomer.
C,-C,,-_z:lky_ltiow kan vara rak eller grenad och är exempelvis metyltio, etyltio, propyltio, isopropyltio, butyltio eller t-butyltio, speciellt metyltio.
Med fenyl substituerad Cl-Cfalkyl betecknar exempelvis bensyl, 2-fenyletyl, 3-fenylpropyl, ot-metylbensyl eller ogot-dimetylbensyl, speciellt bensyl.
Substituerad fenyl är en till fem gånger substituerad vid fenylringen, t.ex. en, tvâ eller tre gånger: speciellt zçn eller två gånger. Substitutionen sker exempelvis i 2-, 3-, 4-, 5-, 2,4-, 2,5-, 2,6-f__ 3,4-, 3,5-, 2,4,6- eller 3,4,5-ställning av fenylringen. C,-C4-alkyl- och CVC, alkoxisubstituenter kan ha angivna betydelser. Exempel på substituerad fenyl är tolyl, xylyl, 4-metoxifenyl, 2,4-, 2,5-dimetoxifenyl, etylfenyl, 4-alkoxi-2-metylfenyl.
Halogen står exempelvis för klor, brom och jod, speciellt för klor. v2- 9 T” När RW utgör gruppen (IVa) -N C'C|3"CH2R2, N Ru / \ H22 Ra varvid gruppen RH, från formeln (IV) och gruppen RH, från gruppen (IVa) tillsammans står för en direkt bindning erhålles därigenom strukturen för formeln (IVb): i” N Rmoo T» nflnzc-cfiæ-ë ë-(lï-CH nu (WD) nu Ra Ra F” \\SPB\VOL3\users\FM\DOK\word-dok\P 333 I 6-B .docSEO0/ N h/CG 10 15 20 25 30 520727 6 När Rz, och Ru tillsammans med kväveatomen, vid vilken de är bundna, bildar en ring, som dessutom kan vara avbruten med -O-, -NH- eller -N(CH,)-, rör det sig vid den bildade ringen exempelvis om en morfolino-, piperidino- eller metylpiperidinoring.
Föreliggande föreningar med formeln I (och Ia) kan exempelvis framställas genom dubbel acylering av en primär fosfin (V) med åtminstone två ekvivalenter av en syraklorid (VI) i närvaro av åtminstone två ekvivalenter av en bas och därpå följande oxidation av erhållen diacylfosfin (VII) enligt scheinat: ' 9 F, H. B _ ll 2 H, c-ci + Hy n, _as_> H, c P n, H. R, R. n, 2 n, n, (VI) GV) (Vu) H' RQ H4 Oxidation 9 i? m? C P Rs :I R' 2 R., R' ) ' u) RI, RZ, Rg, R4, Rs, Rfi och R, har de i patentkravet 8 angivna betydelserna.
Såsom baser lämpar sig exempelvis tertiära aminer, pyridin, alkalimetaller, litiumdiisopropylamin, butyllitium, jordalkalimetallkarbonat, alkalialkoholat eller alkalihydrider. Det första reaktionssteget sker företrädesvis i lösning. Såsom lösningsmedel är framförallt kolväten lämpliga, såsom exempelvis alkaner och alkanblandningar, cyklohexan, bensen, toluen eller xylen. Reaktionen genomföres vid olika temperaturer alltefter lösningsmedel och använda edukter. Vid användningen av baser, såsom litiumdiisopropylamid eller butyllitium, är det exempelvis lämpligt att arbeta vid -40 till 0°C. Reaktionerna med t-aminer, alkalimetaller eller alkalihydrider såsom baser utföres exempelvis lämpligen vid 10 - l20°C, företrädesvis 20 - 80°C. Efter avskiljning av den bildade baskloriden kan fosñnet Den råa (VII) isoleras genom indunstning. reaktionsprodukten kan vidare behandlas utan rening eller exempelvis renas genom kristallisation. Det andra reaktionssteget kan dock genomföras med lösningen av \\SPB\VOL3\users\FM\DOK\word-dok\P333 ló-BÄOCSEOO/Nh/CG 20 25 520727 ràprodukten dock utan isolering av (VII). Såsom oxidationsmedel i det andra steget för framställning av oxiderna lämpar sig framförallt väteperoxid och organiska peroxiföreningar, exempelvis perättiksyra, luft eller rent syre.
Reaktionsprodukterna kan renas enligt allmänt vanliga metoder, såsom exempelvis genom kristallisation eller kromatografi.
Fosfinerna med formeln (V) framställes exempelvis genom reduktion av motsvarande diklorider (VIII), fosfonsyraestrar (IX) eller fosfonsyrlighetsestrar (X): R' är exempelvis metyl eller etyl.
Vanligen genomföres reduktionerna med LiAlH4, SiHCl3: PhzSiHz, a) LiH b) H20; a) Li/tetrahydrofuran b) H20 eller a) Na/toluen b) H20.
Hydreringen med LiA1H4 framgår exempelvis även genom Helv. Chim. Acta 1966, nr. 96, sid. 842.
Diklorfosfinföreningarna med formeln (VIII) kan exempelvis erhållas genom omsättning av motsvarande aromat med fosfortriklorid och aluminiumklorid: Ra R: n* n* RQ + Pcia + A|c|,, ~+ erg-PCI, n, n, R, R, (VIII) \\SPB\VOL3\users\FM\DOK\word-dok\P333 l 6-B.docSE00/Nh/CG 20 25 520727 Dikloriderna (VIII) kan exempelvis även erhållas genom Grignard-reaktion av motsvarande bromerade aromater (XI) med PCI, (jfr exempelvis Helv. Chim. Acta 1952, nr. 35, sid. 1412): R,, Rz, Rs, R4, RS, Ró och R, är definierade såsom i patentkravet 8.
Diestrårnat. med formeln (IX) kan exempelvis framställas genom omsättning av bromerade aromater (XI) med en trifosforsyrlighetsester (XII). Sådana reaktioner är exempelvis beskrivna i DE-C-1810431. '_ R, R¿ n; Ro arga, + Fnom, --> nfšš-Pøtm i _ R, R. n, > n, , (X3 (xn) Fosfonsyrlighetsestrar (X) kan exempelvis erhållas genom omsättning av en fosfordiklorid (VIII) med en alkohol: R. Fl, n: RA m/QPCI, + FroH --> erg-WW» n, n, Rv Fä (vm) 00 Bromerade aromater (XI) erhålles genom bromeringsreaktioner, som är kända enligt teknikens ståndpunkt, såsom exempelvis genom omsättning av alkoxylerade aromater med N-bromsuccinimid eller brom/ättiksyra., Framställningen av syrakloriderna med formeln (VI) sker enligt allmänt kända metoder enligt teknikens ståndpunkt.
\\SPB\VOI.3\users\FM\DOK\word-d0k\P333 1 Ö-BdOCSEOO/Nh/CG 10 15 20 25 30 '520727 9 Framställningen av föreningarna med formlerna (II) och (III) är allmänt kända och en del av föreningarna är erhâllbara i handeln. Framställningen av oligomera föreningar med formeln (II) är exempelvis beskriven i EP-A-161 463. En beskrivning av framställningen av föreningar med formeln (III) framgår exempelvis av EP-A-209 831.
Framställningen av föreningar med formeln (IV) framgår exempelvis av EP-A- 3002 eller EP-A-284 561. Några föreningar med formeln (IV) är dessutom erhâllbara i handeln.
Föreningarnatenligt uppfinningen är exempelvis: Bis(2,4,6-trimetylbensoyl)-2,5-diisopropylfenylfosfinoxid, Bis(2,4,6-trimetylbensoyl)-2-metylfenylfosfinoxid, Bis(2,4,ó-trimefyllšensoyl)-4-metylfenylfosfinoxid, Bis(2,4,6-trimetylbensoyl)-2j-dietylfenylfosñnoxid, Bis(2 ,4 , 6-trimetylbensoyl)-2 , 3 ,5 ,6-tetrametylfenylfosfinoxid, Framställningen av föreliggande fotoinitiatorblandningar sker exempelvis genom blandning, malning, pàsmältning eller lösning av de enskilda komponenterna, varvid exempelvis flyiltande komponenter kan tjäna såsom lösningsmedel för förhandenvarande kombinationspartner. Det är likväl även möjligt att sammanföra komponenterna i ett inert lösningsmedel.
Fotoinitiatorblandningarna innehåller exempelvis 2-90%, t.ex. 5-50%, 5-40%, speciellt 5-25% föreningar med formeln Ia och 98~50%, t.ex. 95-60%, speciellt 95-75%, föreningar med formeln (II), (III) eller/och (IV). Andra intressanta blandningar är sådana, vari andelen föreningar med formeln Ia i blandning med föreningar med formeln (II) eller/och (III) eller/och (IV) uppgår till 30-70%.
Lämpliga exempel på föreningar med formlerna (II) och (III) är l-bensoyl- cyklohexanol, 2,2-dimetoxi-1,2-difenyletan-1-on och 1-bensoyl-1-hydroxi-l-metyletan.
Exempel på föreliggande fotoinitiatorblandníngar (blends) är 5% bis-(2,4,6-trimetylbensoyD-fenyl-fosflnoxid och 95% 1-bensoyl-l-hydroxi-1-metyletan; 5% bis(2,4,ó-trimetylbensoyb-fenyl-fosfinoxid och 95% l-bensoylcyklohexanol; 25% bis(2,4,6-trimetylbensoyl)-fenyl-fosñnoxid och 75% l-bensoylcyklohexanol; 25% bis(2,4,ó-trimetylbensoyb-fenyl-fosfinoxid och 75% l-bensoyfl-l-hyfdroxi-l-metyletan; 25% bis(2,4,6-trimetylbensoyl)-fenyl~fosfinoxid och 75% 2,2-dimetoxi-l,2-difenyletan-1- OII; \\SPB\VOL3\uscrs\FM\DOK\word~dok\P333 l6-B.docSEOO/Nh/CG 10 15 20 25 30 5211727 10 5% bis(2,4,ó-trimetylbensoyD-fenyl-fosñnoxid och 95% 2,2-dimetoxi-1J-difenyletan-l-on; 25 % hydroxi-l-metyletan; bis(2,4,ó-trimetylbensoyD-fenyl-fosfinoxid och 75% 4(2-hydroxietoxDbcnsoyl-1- 5% bis(2,4,ó-trimetylbensoyl)-fenyl-fosfinoxid och 95% 4(2-hydroxietoxi)benxoyl-1- hydroxi-l-metyletan; 5% bis(2,4,6-trimetylbensoy1)-2,5-diisopropylfenyl-fosfinoxid och 95% l-bensoylcyklo- hexanol; T 5% bis(2,4,ó-trimetçlbensoyb-Z,5-diisopropylfcnyl-fosñnoxid och 95% l-bensoyl-l- hydroxi-l-metyletan; 25% bis(2,4,6-trimetylbensoy1)-2,5-diisopropylfenyl-fosfinoxid och 75% l-bensoylcyklo- hexanol; _ _ _ 25% bis(2,4,6-trimety1bensoyl)- 2,5-diisopropylfenyl-fosñnoxid och 75% 1-bensoy1-1- hydroxi-l-metyletan; 5% bis(2,4,ó-trimetylbensoyl)-4-t-butyl-2,ó-dimetylfenyl-fosfinoxid och 95% l-bensoyl- cyklohexanol; 5% bis(2,4,6-ti:irnety1ben§oyl)-4-t-buty1-2,ó-dimetylfenyl-fosfinoxid och 95% 1-bensoyl-1- hydroxi-l-metyletan; ~ 25% bis(2,4,6-trimety1bensoyD-4-t-butyl-Zß-dimetylfcnyl-fosfinoxid och 75% l-bensoyl- cyklohexanol; 25% bis(2,4,ó-trimetylbensoyl)-4-t-butyl-2,ó-dimetylfenyl-fosfinoxid och 75% l-bensoyl-l- hydroxi-l-metyletan; 5% bis(2,6-dimetylbensoyD-fenyl-fosfinoxid och 95% l-bensoyl-l-hydroxi-l-metyletan; 5% bis(2,ó-dimctylbcnsoyl)-fenyl-fosfinoxid och 95% l-bcnsoylcyklohcxanol; 25% bis(2,ó-dimetylbensoyD-fenyl-fosfinoxid och 75% 1-bensoyl-l-hydroxi-l-metyletan; 25% bis(2,ó-dimetylbcnsoyl)-fenyl-fosfinoxid och 75% l-bensoylcyklohexanol; 5% bis(2,4,6-trimety1bensoy1)-2,S-dimetylfenyl-fosfinoxid och 95% l-bensoylcyklohexanol; 5% bis(2,4,6-trimety1bensoyl)-2,S-dimetylfenyl-fosfinoxid och 95% l-bensoyl-l-hydroxi-l- metyletan; 25% hexanol; bis(2,4,6-trimety1bensoyl)-2,S-dimetylfenyl-fosfinoxid och 75% l-bensoylcyklo- 25% bis(2,4,6-trimety1bensoyl)-2,S-dimetylfenyl-fosfinoxid och 75% l-bensoyl-l-hydroxi- l-metyletan; \\SPB\VOL3\uscrs\FM\DOK\word-dok\P333 I 6-B.d0cSE00/Nh/CG 10 15 20 25 30 520727 ll 25% bis(2,4,6-trimetylbensoyl)-2,S-dimetylfenyl-fosfinoxid och 75% 2,2-dimetoxi-1,2- difenyletan-1-on; 25% bis(2,4,6-trimetylbensoyl)-2,5-dimetylfenyl-fosñnoxid och 75% 4(2-hydroxietoxi)- bensoyl-l-hydroxi-1-metyletan.
Speciellt intressanta är fotoinitiatorblandningar, som erhålles genom upplösning av bis(2,4,6-trimetylbensoyl)-fenyl-fosñnoxid i en flytande hydroxiketonförening. Lämpligen användes mer än två, speciellt tre; komponenter i blandningen. Lämpligen framställes blandningen av tre komponenter genom blandning av de förhandenvarande beståndsdelarna och lätt uppvärmning, t.ex. till 50-60°C.
Förem_ål _för' uppfinningen är även fotoinitiatorblandningar som innehåller åtminstone en förening med formeln (Ia) och tvà föreningar med formeln (II).
Lämpliga är exempelvis trekomponentblandningar av 25 % bis(2,4,6-trimetylbensoyl)-2,S-dimetylfenyl-fosfinoxid, 70% l-bensoylcyklohexanol och 5% 1-bensoyl-1-hydroxi-1-metyletan, eller 25 % bis(2,4,6-frimetylbensoyl)-2,S-dimetylfenyl-fosfinoxid, 60% l-bensoylcyklohexanol och 15% l-bensoyl-l-hydroxi-1-metyletan, eller 25% bis(2,4,6-trimetylbensoyl)-2,5-dimetylfenyl-fosñnoxid, 50% 1-bensoylcyklohexanol och 25% 1-bensoyl-1-hydroxi-1-metyletan.
Lämpliga är föreningar med formeln (I), vari RB, R4, Rs, Rñ och R, betecknar väte, Cl-Cs-alkyl, fenyl, allyl, bensyl, cyklohexyl eller klor.
Andra intressanta föreningar med formeln (1) och (Ia) är sådana, vari R3, R, och RS betecknar väte, C,-C,,-alkyl, speciellt metyl, eller fenyl.
Framhâllas må föreningar med formeln (I) och (Ia), vari RÖ och R7 betecknar väte eller Cl-Cfalkyl, speciellt metyl.
Speciellt är sådana föreningar med formeln (I) och (Ia) lämpliga, vari Rz betecknar väte eller Cl-Cfalkyl.
Lämpliga är dessutom föreningarna med formeln (I) och (Ia), vari R, betecknar metyl.
Likaledes lämpliga är föreningar med formeln (I) och (Ia), vari R, och Rz är lika.
\\SPB\VOL3\use rs\Fl\«l\DOK\word~dok\P333 l6-B.docSEO0/Nh/CG 10 15 20 25 30 520727 12 Intressanta är även föreningar med formeln (I) och (Ia), vari R, och R, betecknar C,-C,-alkyl, speciellt metyl.
Lämpligen användes föreningar med formeln (Ia) i föreliggande fotoinitiator- blandningar, vari R,, R4, Rf, och R, är väte.
Andra lämpligen använda föreningar med formeln (Ia) är sådana, vari R, och R, betecknar metyl.
Intressanta fotoinitiatorblandningar är även sådana, vari i föreningarna med formeln (Ia) 11,, 11,, R, och R, år väte.
Andra lämpliga fotoinitiatorblandningar är de som innehåller föreningar med formeln (Ia) och föreningar med formeln (II), vari RQ betecknar väte, C,-C_,-alkyl, CVC,- en, H3 alkoxi, -OCHZCHZORm en grupp cH,=c|:- eller en grupp 9 cry-o , Å | R, och Rw oberoende av varandra betecknar väte, Cl-Cyalkyl, fenyl, CI-Cn-alkoxi eller -O(CH1CH2O)q-CVCS-alkyl, vari q står för ett tal från 1 till 10, eller R., och RK, tillsammans med kolatomen: vid vilken de är bundna, bildar en cyklohexylring, RH utgör hydroxi, C,-C,,-alkoxi eller -O(CH2CH2O)q-C,-C8-alkyl, eller (och föreningar med formeln (III) eller/och föreningar med formeln (IV), vari RH, är väte eller metoxi, Ru, utgör metoxi, metyltio, morfolino eller en grupp med formeln (Iva), Rzo betecknar metyl eller etyl, Ru och RB är lika och är metyl eller bildar tillsammans med kväveatomen, vid vilken de är bundna, en fem- eller sexledad, mättad ring, som kan vara avbruten av -O-, och RB utgör väte, Q-Cs-alkyl.
Likaledes intressant är en fotoinitiatorblandning, som innehåller föreningar med formeln (II), vari Rs betecknar väte, C,-C,,-alkyl, Cl-Cfalkoxi eller -OCHzCHzORm R., och Rm oberoende av varandra är väte, fenyl, metyl, metoxi eller R., och Ru, tillsammans med kolatomen, vid vilken de är bundna, bildar en cyklohexylring, och RH står för hydroxi eller metoxi.
Andra lämpliga fotoinitiatorblandningar är sådana, vari föreningen med formeln (III) är bensofenon, 2,4,6-trimetylfenyl-fenyl-keton, 4-metylfenyl-fenyl-keton, (3-metyl-4- metoxi-fenyl)-(3-rnetylfemfD-keton, 4[(4-rnetylfcnyltioyfeny'l]-fenyl-keton, Z-karboxifenyl- fenyl-keton eller 4(2-hydroxietoxi)fenyl-fenyl-keton. Lämpliga är även fotoinitiatorbland- ningar, i vilka föreningar med formeln (II) är 1-bensoyl-hydroxi-l-metyletan, 1-bensoyl- \\SPB\VOL3\users\FM\DOK\word~dok\P333 l6-B.d0cSE00/Nh/CG 10 15 20 25 30 520727 13 cyklohexanol, 4[(hydroxietoxi)-bensoyl]-1-hydroxi-1-metyletan, l(4-isopropylbensoyl)-l- hydroxi-1-metyletan eller 2,2-dimetoxi-1,2-difenyletan-1-on.
Lämpliga är vidare fotoinitiatorblandningar, i vilka föreningen med formeln (IV) är 1-(3,4-dimetoxibensoyl)-1-bensyl-1-morfolino-propan, l-(4-metyltiobensoyl)-1-metyl-1- morfolino-etan, 1-(4-morfolinobensoyl)-1-bensyl-1-dimetylamino-propan eller 3,6-bis(2- metyl-2-morfolino-propan-1-on)-9-oktyl-karbazol.
Intressanta är dessutom fotolnitiatorblandningar i vilka föreningen med formeln (Ia) är bis(2,4,6-trimetylbensoyl)-2,S-diisopropylfenyl-fosfinoxid, bis[2,6-dimetyl-4(2-metylpro- pyl)bensoyl]-fenyl-fosfinoxid, bis(2,6-dimetylbensoyl)-fenyl-fosfinoxid, bis(2,4,6-trimetyl~ bensyD-fenyl-fosñnoxid eller bis(2,4,6-trimetylbensoyl)-2,S-dimetylfenyl-fosfmoxid.
Föreliggande fotoinitiatorblandningar innehåller såsom förening med formeln (Ia) företrädesvis bis(2,4,6-trimetylbensoyl)-fenyl-fosfmoxid.
Lämpliga är blandningar utan bensofenon.
Lämpliga är blandningar innehållande föreningar med formeln (II).
Intressanta är även fotoinitiatorblandningar innehållande såsom förening med formeln (Ia) bis(2¿_4,6-trimetylbensoyl)-2,5-diisopropylfenylfosfinoxid; bis(2,4,6- trimetylbensoylp-2-metylfenylfosñnoxid; bis(2,4,6-trimetylbensoyl)-4-metylfenylfosfinoxid; bis(2,4,6-trimetvlbensoyl)-2ß-dietylfenylfosfinoxid eller/och bis(2,4,6-trirnetylbensoyl)- 2,3,5,ó-tetrametylfenylfosfinoxid.
Speciellt lämplig år en fotoinitiatorblandning som innehåller 25% bis(2,4,6- trimetylbensoyD-fenyl-fosfinoxid och 75 % l-bensoylcyklohexanol.
Likaledes lämplig är en fotoinitiatorblandning som innehåller 25% bis(2,4,6- trimetylbensoyD-fenyl-fosñnoxid och 75% 1-bensoyl-l-hydroxi-l-metyl-etan.
Intressanta är även fotoinitiatorblandningar som innehåller flera föreningar med formeln (Ia) eller blandningar av föreningar med formeln (Ia) med andra bisacylfosfinoxider eller/och monacylfosfmoxider och föreningar med formeln (II) eller/och (III), såsom exempelvis en kombination av bis(2,4,6-trimetylbensoyD-fenylfosfinoxid, bis(2,6- dimetoxibensoyD-(l,4,4,-trimetylpentyDfosfinoxid, l-bensoyl-cyklohexanol eller exempelvis av bis(2,4,6-trimetylbensoyD-fenylfosñnoxid, bis(2,6-dimetoxibensoyl)-(1,4,4-trimetyl- pentybfosflnoxid och l-bensoyi-l-hydroxi-l-metyl-etan eller exempelvis av bis(2,4,6- trimetylbenosyl)-fenylfosñnoxid, bis(2,4,6-trimetylbensoyl)-2,S-dimetylfenylfosñnoxid, \\SPB\VOL3\uSers\FM\D0l(\word-dok\P333 ló-BAIOCSEOO/Nh/CG 10 15 20 25 30 520727 14 1-bensoyl-1-hydroxi-l-metyl-etan och/eller 1-bensoyl-cyklohexanol, av bis(2,4,6- trimetylbensoyl)-fenylfosfinoxid, 2,4,6-trimetylbensoyl-difenylfosfinoxid, l-bensoyl-1- hydroxi-l-metyl-etan och/eller 1-bensoyl-cyklohexanol eller av bis(2,4,6-trirnetylbensoyl)- 2,4-dipentoxifenylfosñnoxid, 1-bensoyl-1-hydroxi-1-metyl-etan och/eller l-bensoyl-cyklo- hexanol.
Enligt uppfinningen kan föreningarna med formeln (I) och blandningarna (Blends) av föreningar med formeln (Ia) med föreningar med formeln (II) eller/och (III) eller/och (IV) såsom fotoinitiatorer användas för fotopolymerisation av eteniskt omättade föreningar respektive blandningar, som innehåller sådana föreningar. Denna användning kan även ske i kombination med andra tillsatsmedel.
Uppfirfnin-gen avser därför även fotopolymeriserbara kompositioner, som innehåller (a) åtminstone en eteniskt omättad, fotopolymeriserbar förening och (b) såsom fotoinitiator åtminstone en förening med formeln (I) eller en fotoinitiator- blandning, såsom den här beskrivits, varvid kompositionen jämte komponenten (b) dessutom kan innehålla ytterligare tillsatsmedel. I t De omgättade föreningarna kan innehålla en eller flera olefiniska dubbelbindningar.
De kan vara lågmolekylära (monomer) eller högmolekylära (oligomer). Exempel på monomerer med en dubbelbindning är alkyl- eller hydroxialkylakrylat eller -metakrylat, såsom metyl-, etyl-, butyl-, 2-etylhexyl- eller 2-hydroxietylakrylat, isobornylakrylat, metyl- eller etylmetakrylat. Intressanta är även kiselakrylat. Andra exempel är akrylnitril, akrylamid, metakrylamid, N-substituerade (met)akrylamider, vinylestrar, såsom vinylacetat, vinyletrar, såsom isobutylvinyleter, styren, alkyl- och halogenstyrener, N-vinylpyrrolidon, vinylklorid eller vinylidenklorid.
Exempel på monomerer med flera dubbelbindningar är etylenglykol-, propylenglykol-, neopentylglykol-, hexametylenglykol- eller bisfenol-A-diakrylat, pentaeryttritoltri- 4,4'-bis(2-akryloyloxietoxi)-difenylpropan, trimetylolpropan-triakrylat, akrylat eller -tetraakrylat, vinylakrylat, divinylbensen, divinylsuccinat, diallylftalat, triallylfosfat, triallylisocyanurat eller tris-(2-akryloyletyl)isocyanurat.
Exempel på högmolekylära (oligomera), flerfaldigt omättade föreningar är akrylerade epoxidhartser, akrylerade eller vinyleter- eller epoxigrupper innehållande polyestrar, polyuretaner och polyetrar. Andra exempel på omättade oligomerer är omättade \\SPB\VOL3\users\FM\DOK\word-dok\P333 ló-BAOCSEOO/Nh/CG 10 15 20 25 30 520727 15 polyesterhartser, som mestadels framställes av maleinsyra, ftalsyra och en eller flera dioler och har molekylvikter från cirka 500 till 3000. Därjämte kan även vinyletermonomerer och -oligomerer samt maleatterminerade oligomerer med polyester-, polyuretan-, polyeter-, polyvinyleter- och epoxidhuvudkedjor användas. Speciellt är kombinationer av vinyletergrupper uppbärande oligomerer och polymerer. såsom de är beskrivna i WO 90/01512, väl lämpade. Även sampolymerer av monomerer med funktionaliserade vinyleter och maleinsyra kommer emellertid i fråga. Sådana omättade oligomerer kan även betecknas såsom förpolymerer. .
Speciellt lämpliga är exempelvis estrar av eteniskt omättade karboxylsyror och polyoler eller polyepoxider samt polymerer med eteniskt omättade grupper i kedjan eller i sidogruppernaïsásom- exempelvis omättade polyestrar, polyamider och polyuretaner samt sampolymerer därav, polybutadiener och butadien-sampolymerer, polyisopren och isopren- sampolymerer, polymerer och sampolymerer med (met)akrylgrupper i sidokedjoma samt blandningar av en eller flera sådana polymerer.
Exempel pà omättade karboxylsyror är akrylsyra, metakrylsyra, krotonsyra, itakonsyra, karifelsyra, omättade fettsyror, såsom linolensyra eller oljesyra. Lämpliga är akryl- och metakrylsyra.
Såsom polyoler är aromatiska och speciellt alifatiska och cykloalifatiska polyoler lämpliga. Exempel på aromatiska polyoler är hydrokinon, 4,4'-dihydroxidifenyl, 2,2-di(4- hydroxifenyl)-propan, samt novolacker och resoler. Exempel på polyepoxider är sådana på basis av angivna polyoler, speciellt aromatiska polyoler och epiklorhydrin. Vidare är även polymerer och sampolymerer, som innehåller hydroxylgrupper i polymerkedjan eller i sidogrupperna, såsom exempelvis polyvinylalkohol och sampolymerer därav eller polymetakrylsyrahydroxialkylestrar eller sampolymerer därav, lämpliga såsom polyoler.
Andra lämpliga polyoler är oligoestrar med hydroxyländgrupper.
Exempel på alifatiska och cykloalifatiska polyoler är alkylendioler med lämpligen 2-12 C-atomer, såsom metylenglykol, 1,2- eller 1,3-propandiol, 1,2- , 1,3- eller 1 ,4-butandiol, dodekandiol, trietylenglykol, polyetylenglykoler med molekylvikter från lämpligen 200 till 1500, pentandiol, hexandiol, oktandiol, dietylenglykol, 1,3-cyklopentandiol, 1.2-, 1,3- eller IA-cyklohexandiol, 1,4-dihydroximetylcyklohexan, glycerol, tri-(ß-hydroxietybamin, trimetyloletan, trimetylolpropan, pentaerytritol, dipentaerytritol och sorbitol.
\\SPB\VOL3\users\FM\DOK\word-dok\P333 l6-B .dOCSEOO/Nh/CG 10 15 20 25 30 520727 16 Polyolerna kan vara delvis eller fullständigt förestrade med en eller flera omättade karboxylsyror, varvid i delestrarna de fria hydroxylgrupperna kan vara modifierade, t.ex. företrade eller förestrade med andra karboxylsyror.
Exempel på estrar är: trimetylolpropanakrylat, trimetyloletantriakrylat, trimetylolpropantrimetakrylat, trimetyl- oletantrimetalaylat, tetrametylenglykoldirnetakrylat, trietylenglykoldimetakrylat, tetraetylen- glykoldiakrylat, pentaerytritoldiakrylat, pentaerytritoltriakrylat, pentaerytritoltetraakrylat, dipentaerytritoldiakrylat, dipentaerytritoltriakrylat, dipentaerytritoltetrakrylat, dipentaery- tritolpentaakrylat, dipentaerytritolhexaakrylat, tripentaerytritoloktaakrylat, pentaery- tritoldimetakrylat, pentaerytritoltrimetakrylat, dipentaerytritoldimetakrylat, dipenta- erytritoltetrametakrylat, tripentaerytritoloktametakrylat, pentaerytritoldiitakonat, dipenta- dipentaerytritolhexaitakonat, erytritoltrisitakonat, etylen- glykoldiakrylat, lß-butandioldiakrylat, 1ß-butandioldiametakrylat, lA-butandiol-itakonat, dipentaerytritolpentaitakonat, sorbitoltriakrylat, sorbitoltetra- sorbitoltetraakrylat, pentaerytritol-modifierat-triakrylat, metakrylat, sorbitolpentaakrylat, sorbitolhexaakrylat, oligoesterakrylater och -metakrylat, glyceroldi- och triaktylat, IA-cyklohexandiakrylat, bisakrylat och bismetakrylat av polyetylenglykol med en molekylvikt från 200 till 1500 eller blandningar därav.
Såsom komponent (a) är även amiderna av lika eller olika, omättade karboxylsyror av aromatiska, cykloalifatiska och alifatiska polyaminer med lämpligen 2-6, speciellt 2-4 aminogrupper, lämpliga. Exempel på sådana polyaminer är etylendiarnin, 1,2- eller 1,3-propylendiamin, 1,2-, 1,3- eller IA-butylendiamin, 1,5-pentylendiamin, dodecylendiamin, 1 ,4-diaminocyklohexan, 1 fi-hexylendiamin, oktylendiamin, isoforondiamin, fenylendiamin, bisfenylendiamin, di-ß-aminoetyleter, dietylentriamin, trietylentetramin, di(ß-aminoetoxi)- eller di(ß-aminopropoxi)etan. Andra lämpliga polyaminer är polymerer och sampolymerer med eventuellt ytterligare aminogrupper i sidokedjorna och oligoamider med aminoändgrupper. Exempel på sådana omättade amider är: metylen-bis-akrylamid, 1 ,6-hexametylen-bis-akrylamid, dietylentriamin-tris- metakrylamid, bis(metakrylamidopropoxi)-etan, ß-metakrylamidoetylmetakrylat, N[(ß-hydroxietoxi)etyl]-akrylamid.
Lämpliga omättade polyestrar och polyamider härrör exempelvis från maleinsyra och dioler eller diaminer. Maleinsyra kan delvis vara ersatt av andra dikarboxylsyror. De kan användas tillsammans med eteniskt omättade sammonomerer, t.ex. styren. Polyestrar \\SPB\VOL3\users\FM\DOK\word-d0k\P333 1 6-B.d0cSE00/Nh/CG 10 15 20 25 30 ~ 520727 17 och polyamider kan även härröra från dikarboxylsyror och eteniskt omättade dioler eller diaminer, speciellt från sådana med längre kedja exempelvis med 6-20 C-atomer. Exempel på polyuretaner är sådana, som är uppbyggda av mättade eller omättade diisocyanat och omättade respektive mättade dioler.
Polybutadien och polyisopren och sampolymerer därav är kända. Lämpliga sammonomerer är exempelvis olefmer, såsom eten, propen, buten, hexen, (meO-akrylat, akrylnitril, styren eller vinylklorid. Polymerer med (meD-akrylatgrupper i sidokedjorna är ävenledes kända. Det kan exempelvis röra sig om omsättningsprodukter av epoxidhartser på novolackbasis med (met)akrylsyra, om homo- eller sampolymerer av vinylalkohol eller dess hydroxialkylderivat, som är förestrade med (met)akrylsyra, eller om homo- och sampolymerer av (fnetäakrylat, som är förestrade med hydroxialkyl(met)akrylat.
De fotopolymeriserbara föreningarna kan användas ensamma eller i godtyckliga blandningar. Lämpligen användes blandningar av polyol(met)akrylat.
Föreliggande kompositioner kan även tillsättas bindemedel, vilket är speciellt lämpligt, när det vid de fotopolymeriserbara föreningarna rör sig om flytande eller viskösa substanser. Mähgden bindemedel kan exempelvis uppgå till 5-95, företrädesvis 10-90 och speciellt 40-90 äviktprocent, räknat på totalmängden fast kropp. Valet av bindemedel sker alltefter användningsområde och härav fordrade egenskaper, såsom framkallbarhet i vidhäftning på substrat och lösningsmedelssystem, vattenhaltiga och organiska syrekänslighet.
Lämpliga bindemedel är exempelvis polymerer med en molekylvikt av cirka 5000- 2.000.000, lämpligen 10.000-1.000.000. Exempel är: homo- och sampolymerer av akrylat och metakrylat, t.ex. sampolymerer av metylmetakrylat/etylakrylat/metakrylsyra, poly(metakrylsyraestrar), poly(akrylsyraalkylestrar); cellulosaestrar- och etrar, såsom cellulosaacetat, cellulosaacetatbutyrat, metylcellulosa, etylcellulosa; polyvinylbutyral, polyvinylformial, cykloserad kautschuk, polyetrar, såsom polyetylenoxid, polypropylenoxid, polytetrahydrofuran; polystyren, polykarbonat, polyuretan, klorerade polyolefiner, polyvinylklorid, sampolymerer av vinylklorid/vinylidenklorid, sampolymerer av vinylidenklorid med akrylnitril, metylmetakrylat och vinylacetat, polyvinylacetat, sampoly(eten/vinylacetat), polymerer, såsom polykaprolaktam och poly(hexametylen- säsom poly(etylenglykoltereftalat) och poly(hexametylen- adipamid), polyestrar, glykolsuccinat).
\\SPB\VOL3\users\FM\DOK\word-dok\P33316-B.docSE00/Nh/CG 10 15 20 25 520727 18 De omättade föreningarna kan även användas i blandning med icke- fotopolymeriserbara, filmbildande komponenter. Dessa kan exempelvis vara fysikaliskt torkande polymerer respektive deras lösningar i organiska lösningsmedel, såsom exempelvis nitrocellulosa eller cellulosaacetobutyrat. De kan emellertid även vara kemiskt respektive termiskt härdbara hartser, såsom exempelvis polyisocyanat, polyepoxider eller melaminhartser. Den samtidiga användningen av termiskt härdbara hartser är av betydelse för användningen i s.k. hybridsysterrf, som fotopolymeriseras i ett första steg och tvärbindes i ett andra steg genomtterrnisk efterbehandling.
De fotopolymeriserbara blandningarna kan förutom fotoinitiatorn innehålla olika tillsatsmedel. Exempel härpå är termiska inhibitorer, som skall förhindra en för tidig polymerisationïsåsomiexempelvis hydrokinon, hydrokinonderivat, p-metoxifenol, ß-naftol eller steriskt hindrade fenoler, såsom exempelvis 2,6-di(t-butyl)-p-kresol. För att öka lagringsstabiliteten i mörker kan man exempelvis använda kopparföreningar, såsom kopparnaftenat, -stearat eller -oktoat, fosforföreningar, såsom exempelvis trifenylfosfin, tributylfosfin, trietylfosfit, trifenylfosfit eller tribensylfosfit, kvaternåra ammoniumförerliingar, såsom exempelvis tetrametylammoniumklorid eller trimetyl- bensylammoniurnklorid, eller hydroxylaminderivat, såsom exempelvis N -diety1- hydroxylamin. I syfte att utesluta luftsyre under polymerisationen kan man tillsätta paraffin eller liknande vaxartade substanser, som vid början av polymerisationen vandrar på ytan pá grund av bristande löslighet i polymeren och bildar ett transparent ytskikt, som förhindrar luft. Likaledes kan ett syreogenomsläppligt skikt Såsom tillträde av pâföras. ljusskyddsmedel kan UV-absorptionsmedel, såsom exempelvis sådana av hydroxifenylbenstriazol-, hydroxifenylbensofenom, oxalsyraamid- eller hydroxifenyl-s- triazintyp, tillsättas. En enstaka förening eller blandningar av dessa föreningar med eller utan användning av steriskt hindrande aminer (HALS) kan användas.
Exempel på sådana UV-absorptionsmedel och ljusskyddsmedel är: 1. 2-(2'-hydroxifenyl)-bensotriazoler, såsom exempelvis 2-(2'-hydroxi-5'-metyl- fenyl)-bensotriazol, 2-(3,5'-di-t-butyl-2'-hydroxifenyl)-bensotriazol, 2-(5'-t-butyl-2'-hydroxi- fenyD-bensotriazol, 2-(2'-hydroxi-5'-(l , l ,3 ,3-tetrametylbutyl)feny1)-bensotriazol, 2-(3 ,5ïdi-t-butyl-Z'-hydroxifenyD-S-klor-bensotriazol, 2-(3'-t-butyl-Z'-hydroxi-5'-metyl- fenyl)-5-klor-bensotriazol, 2-(3'-s-butyl-5'-t-butyl-Z'-hydroxifenyl)-bensotriazol, 2-(2'-hydroxi-4'-oktoxifenyl)-bensotriazol, 2-(3',5'-di-t-amyl-Z'-hydroxifenyD-bensotriazol, \\SPB\VOL3\users\FM\DOK\w0rd-d0k\P333 1 ó-BAJOCSEOO/Nh/CG 10 15 20 25 30 i 520727 19 2-(3',5'-bis(a,a-dimetylbensyl)-2'-hydroxifenyl)-bensotriazol, blandning av 2-(3'-t-butyl-2'- 2-(3'-t-butyl-5'-[2-(2-etyl- 2-(3'-t-butyl-T-hydroxi-S'-(2- hydroxi-S'-(2-oktyloxikarbonyletyl)fenyl)-5-klor-bensotriazol, hexyloxi)-karbonyletyl]~2'-hydroxifenyl)-5-klor-bensotriazol, metoxikarbonyletyl)fenyl)5-klor-bensotriazol, 2-(3'-t-butyl-2'-hydroxi~5'-(2-metoxikarbonyl- etyDfenyD-bensotriazol, 2-(3'-t-butyl-2'-hydroxi-5'-(2-oktyloxikarbonyletyDfenyl)-bensotria- 2-(3'- dodecyl-Z'-hydroxi-5'-metylfenyD-bensotriazol och 2-(3ït-butyl-Zflhydroxi-S'-(2-isookty1- zol, 2-(3'-t-butyl-5'-[2-(2-etylhexy1oxi)karbonyletyl]-2'-hydroxifenyD-bensotriazol, oxikarbonyletyl)fenyl-bensotriazol, 2 ,2'-metylen-bis[4-(1 , 1,3,3-tetrametylbutyD-ó-bensotria- zol-2-yl-fenol]; omförestringsprodukt av 2-[3'-t-butyl-5'-(2-metoxikarbonyletyl)-2'-hydroxi- fenyU-bensotriazol med polyetylenglykol 300; [R-CH2CH,-COO(CH2),]2 med R = 3'-t-buty1-4'-hydroxi-5'-2H-bensotriazol-2-yl-fenyl. 2. Z-hydroxibensofenoner, såsom exempelvis 4-hydroxi-, 4-metoxi-, 4-oktoxi-, 4- decyloxi-, 4-dodecyloxi-, 4-bensyloxi~, 4l,2',4'-trihydroxi-, 2'-hydroxi-4,4'-dimetoxi-derivat. 3. Estrar av eventuellt substituerade bensoesyror, såsom exempelvis 4-t-butyl- dibensoylresorcinol, bis-(4-t-butyl- fenylsalicylat, lfenylsalicylat, oktylfenyl-salicylat, bensoyl)-resorcinol, bensoylresorcinol, 3,5-di-t-buty1-4-hydroxibensoesyra-2A-di-t-butyl- fenylester, 3,5-dfi-t-buty1-4-hydroxibensoesyrahexadecylester, 3,5-di-t-butyl-4-hydroxi- bensoesyra-oktadecylester, 3,5-di-tert-butyl-4-hydroxibensoesyra-2-metyl-4,6-di-t-buty1- fenylester. 4. Akrylat, såsom exempelvis ot-cyan-ß,ß-difenylakrylsyraetylester respektive -isooktylesten oc-karbometoxi-kanelsyrametylester, oc-cyan-ß-metyl-p-metoxi-kanelsyram- etylester respektive -buty1ester, ot-karbometoxi-p-metoxi-kanelsyra-metylester, N-(ß-karbometoxi-ß-cyanvinyl)-2-metyl-indolin. 5. Steriskt hindrade aminer, såsom exempelvis bis-(2,2,6,ó-tetrametyl-piperidyb- bis-(1 ,2 , 2 ,6 ,6-pentamety1piperidyl)- sebakat, bis-(2 ,2 ,6,ó-tetrametyl-piperidyD-succinat, sebakat, n-butyl~3 ,5 -di-t-buty1-4-hydroxibensyl-malonsyra-bis(1 ,2 ,2 ,6 ,6-pentametylpiperi- dyl)ester, kondensationsprodukt av 1-hydroxietyl-2,2,6,ó-tetrametyl-4-hydroxipiperidin och bärnstenssyra, kondensationsprodukt av N,N'-bis-(2,2,6,ó-tetrametyl-4-piperidy1)-hexa- metylendiamin och 4-t-oktylamino-2,6-diklor-1,3,5-s-triazin, tris-(2,2,6,6-tetrametyl-4- piperidyD-nitrilotriacetat, tetrakis-(2,2,6,6-tetrametyl-4-piperidy1)-1 ,2,3 A-butantetraoat, 1,1'-(1,2-etandiyl)-bis-(3,3,5,S-tetrametyl-piperazinon), 4-bensoyl-2,2,6,6-tetrametylpiperi- din, 4-stearyloxi-2,2,6,6-tetrametylpipidin, bis-(1,2,2,6,6-pentametylpiperidyD-Z-n-butyl-Z- \\SPB\VOL3\userS\FM\DOK\word-dok\P333 ló-BAOCSEOO/Nh/CG 10 15 20 25 30 520727 20 (2-hydroxi-3,5-di-t-butylbensy1)-malonat, 3-n-oktyl-7,7,9,9-tetrametyl-1 ,3 ,8-triazaspiro- [4,5]dekan-2,4-dion, bis-(1-oktyloxi-2,2,6,ó-tetrametylpiperidyD-sebakat, bis-(l-oktyloxi- 2,2,6,6-tetrametylpiperidyD-succinat, kondensationsprodukt av N ,N'-bis-(2,2,6,6-tetra- metyl-4-piperidyD-hexarnetylendiamin och 4-morfolino-2,6-diklor-1,3,5-triazin, kondensa- tionsprodukt av 2-klor-4,6-di-(4-n-butylamino-2,2,6,6-tetrametylpiperidyl)-1,3,5-triazin och 1,2-bis-(3-aminopropylamino)-etan, kondensationsprodukt av 2-klor-4,6-di-(4-n-butylamino- 1 ,2,2 ,6,6-pentametylpiperidyl)-1 ,3 ,5',-triazin och 1,2-bis-(3 -aminopropylamino)-etan, i 3-dodecyl-1- 3-dodecyl-1-(l ,2,2,6,6-pentametyl-4- 8-acetyl-3-dodecyl-7 . 7 ,9 , Q-tetrametyl-l ,3 ,8-triazaspiro[4,5]dekan,2,4-dion, (2,2,6,6-tetramety1-4-piperidyD-pyrrolidin-2,5-dion, piperidyl)-pyrrolidin-2,5-dion. 6. Oxalsyçadiamider, såsom exempelvis 4,4'-di-oktyloxi-oxanilid, 2,2'-dietoxi-oxa- nilid, 2,2'-di-oktyloxi-5ßïdi-t-butyl-oxanilid, 2,2'-di-dodecyloxi-5,5'-di-t-butyl-oxanilid, 2- etoxi-2'-etyl-oxanilid, N,N'-bis-(3-dirnetylaminopropyD-oxalamid, 2-etoxi-5-t-butyl-2'- etyloxanilid och dess blandning med Z-etoxi-Zïetyl-S,4'-di-t-butyl-oxanilid, blandning av o- och p-metoxi- samt av o- och p-etoxi-di-substituerade oxanilider. 7. 2-(,2-hydroxifenyl)-1,3,5-triaziner, såsom exempelvis 2,4,6-tris(2-hydroxi-4- oktyloxifenyl)-l',3 ,5-tr'iazin, 2-(2-hydroxi-4-oktyloxifeny1)-4,6-bis-(2,4-dimetylfenyl)-1,3,5- triazin, 2-(2,4-dihydroxifenyl)-4,6-bis(2,4-dimetylfenyl)-1,3,5-triazin, 2,4-bis(2-hydroxi-4- propyloxi-fenyD-ó-(Z,4-dimetylfenyl)-1,3,5-triazin, 2-(2-hydroxi-4-oktyloxifenyl)-4,6-bis(4- metylfenyD-l ,3 ,5-triazin, 2-(2-hydroxi-4-dodecyloxifenyl)-4,6-bis(2,4-dimetylfenyl)-1,3,5- triazin, 2-[2-hydroxi-4-(2-hydroxi-3-butyloxi-propyloxi)fenyl]-4,6-bis(2,4-dimetylfenyl)- 1 ,3 ,5-triazin, 2-[2-hydroxi-4-(2-hydroxi-3 -oktyloxi-propyloxi)fenyl]-4,6-bis(2,4-dimetyl- fenyl)-l ,3 ,5-triazin, 2-[4-dodecyl/tridecyl-oxi-(Z-hydroxipropyl)oxi-2-hydroxifenyl]-4,6-bis- (2 ,4-dimetylfenyl)-1 ,3 ,5-triazin. 8. Fosfit fenyldialkylfosñt, difenylalkylfosfit, trioktadecylfosfit, och fosfonit, såsom exempelvis trifenylfosfit, tris-(nonylfenyD-fosfit, trilaurylfosfit, distearyl- pentaerytitoldifosñt, tris-(2,4-di-t-butylfenyD-fosñt, diisodecylpentaerytritol-difosfit, bis- (2,4-di-t-butylfenyD-pentaerytritoldifosfit, bis-(2,6-di-t-butyl-4-rnetylfenyD-pentaerytritol- difosñt, erytritoldifosfit, bis-(Z,4,6-tri-t-butylfenyD-pentaerytritolfosñt, trisstearyl-sorbitol-trifosñt, bis-isodecyloxi-pentaerytritoldifosñt, bis-(2,4-di-t-butyl-ó-metylfenyb-penta- tetrakis-(2,4-di-t-butylfenyl)-4ß-bifenylen-difosfonit, 6-isooktyloxi-2,4,6,IO-tetra-t-butyl- l2H-dibens[d,g]-1,3,2-dioxafosfofin, 6~fluor-2,4,8, lO-tetra-t-butyl- l2-metyl-dibens[d,g]- \\SPB\VOL3\uscrs\FM\DOK\word-d0k\P333 I6-B.docSE00/Nh/CG 10 15 20 25 30 520727 21 1,3,2-dioxafosfocin, bis-(2,4-di-t-butyl-6-metylfenyl)-metylfosfit, bis-(2,4-di-t-butyl-6- metylfenyD-etylfosfit.
Föremål för föreliggande uppfinning är därför även fotopolymeriserbara kompositioner, som såsom fotoinitiator innehåller åtminstone en förening med formeln (I) eller en fotoinitiatorblandning, såsom den beskrivits, samt ett UV-absorptionsmedel frán klassen av hydroxifenyl-s-triazin och/eller hydroxifenylbenstriazoler och/eller steriskt hindrande aminer på basis av 2,2,6,óltetrametyl-piperidiner.
Lämplig är en komposition, som innehåller en fotoinitiatorblandning av föreningar med formeln (Ia), speciellt bis(2,4,6-trimetylbensoyl)-fenylfosfinoxid, och föreningar med formeln (II), speciellt l-bensoylcyklohexanol och 1-bensoyl-1-hydroxi-1-metyl-etan, samt en blandning av 85%: 4,6-di(2,4-dimetylfenyl)-2-[2-hydroxi4-(blandning av dodecyloxi och tridecyloxi)(2-hydroxi)propyl-3-oxifenyl]-1,3,5-triazin och 15% 1-metoxi-2-propanol såsom UV-absorptionsmedel.
För att accelerera fotopolymerisationen kan man tillsätta aminer, såsom exempelvis trietanolamin, N-metyl-dietanolamin, p-dirnetylaminobensoesyra-etylester eller Michlers ketoni Aminernas verkan kan förstärkas genom tillsats av aromatiska ketoner av typ bensofenonf När föreliggande blandningar, som innehåller föreningar med formeln (III) användes, uppnås genom tillsatsen av aminer en förbättring i reaktivitet. Såsom syrefángare användbara aminer, märkes exempelvis substituerade N,N-dialkylaniliner, såsom de är beskrivna i EP-A- 339 841. Andra acceleratorer, saminitiatorer och autooxidationsmedel är tioler, tioetrar, disulñder och fosfiner, såsom beskrives i EP-A-438 123 och GB-A-2 180 358.
En acceleration av fotopolymerisationen kan vidare ske genom tillsats av fotosensibilisatorer, som förskjuter respektive breddar den spektrala känsligheten. Dessa är speciellt aromatiska karbonylföreningar, såsom exempelvis bensofenon-, tioxanton-, antrakinon- och 3-acylkumarinderivat, samt 3-(aroylmetylen)-tiazoliner, men även eosin-, rodamin- och erytrosinfårgämnen.
Härdningsförloppet kan understödjas speciellt av (t.ex. med titandioxid) pigmenterade kompositioner, även genom tillsats av en under termiska betingelser radikalbildande komponent, såsom exempelvis en azoförening, såsom 2,2'-azobis(4-metoxi- 2,4-dimetylvaleronitril), en triazen, diazosulfid, pentazadien eller en peroxidförening, \\SPB\VOL3\uSers\FM\DOK\word-dok\P333 l6-B.d0cSE00/Nh/CG 10 15 20 25 30 520727 22 såsom exempelvis hydroxiperoxid eller peroxikarbonat, t.ex. t-butylhydroperoxid, såsom exempelvis beskrives i EP-A-245 639.
Föreliggande kompositioner kan även innehålla ett fotoreducerbart fárgämne, såsom exempelvis xanten-, bensoxanten-, bensotioxanten-, tiazin-, pyronin-, porfyrin- eller akridinfárgämne, och/eller en genom strålning spjälkbar trihalogenmetyl-förening. Liknande kompositioner är exempelvis beskrivna i EP-A-445 624.
Andra vanliga tillsatser ärt - alltefter användningsändamål - optiska vitmedel, fyllmedel, pigment, färgämnen, vätmedel eller utflytningsmedel. För härdning av tjockare och pigmenterade beläggningar är tillsats av mikroglaskulor eller pulveriserade glasñbrer lämplig, såsom exempelvis beskrivits i US-A-5 013 768.
Föremål för- uppfinningen är även kompositioner som såsom komponent (a) innehåller minst en i vatten löst eller emulgerad, eteniskt omättad, fotopolymeriserbar förening.
Sådana strålningshärdbara, vattenhaltiga förpolymerdispersioner är handeln erhållbara i många variationer. Man förstår därmed en dispersion av vatten och minst en däri dispergerad förpolyrner. Koncentrationen av vattnet i detta system ligger exempelvis vid 5-80, speciellt 30-60 viktprocent. Den strålningshärdbara förpolymeren respektive förpolymerblandningen föreñnnes exempelvis i koncentrationen från 95-20, speciellt 70-40 viktprocent. I dessa kompositioner är summan av de för vatten och förpolymer angivna procenttalen alltid 100, hjälpmedel och tillsatsmedel tillkommer i olika mängder, alltefter användningsändamålet.
Vid de strålningshårdbara, i vatten dispergerade, ofta även lösta, ñlmbildande förpolymererna rör det sig om vattenhaltiga förpolymerdispersioner av i och för sig kända, av fria radikaler initierbara mono- eller polyfunktionella eteniskt omättade förpolymerer, som exempelvis uppvisar en halt av 0,01-1,0 mol per 100 g förpolymer av polymeriserbara dubbelbindningar och en medelmolekylvikt av exempelvis åtminstone 400, speciellt från 500 till 10.000. Alltefter användningsändamålet ifrågakommer dock även förpolymerer med högre molekylvikter.
Exempelvis användes polymeriserbara, C-C-dubbelbindningar innehållande polyestrar med ett syratal av högst 10, polymeriserbara C-C-dubbelbindningar innehållande polyetrar, hydroxylgrupphaltiga omsättningsprodukter av en åtminstone två epoxidgrupper per molekyl innehållande polyepoxid med åtminstone en odß-eteniskt omättad karboxylsyra, \\SPB\VOL3\users\FM\DOK\w0rd-dok\P333 l 6-B.docSE00/Nh/CG 10 15 20 25 520727 23 polyuretan(met)akrylat samt ogß-eteniskt omättade akrylrester innehållande akrylsampolymerer, såsom de är beskrivna i EP-A-12 339. Blandningar av dessa förpolymerer kan ävenledes användas. Dessutom ifrågakommer de i EP-A-33 896 beskrivna, polymeriserbara förpolymerer, vid vilka det rör sig om tioeteraddukter av polymeriserbara förpolymerer med en medelmolekylvikt av minst 600, en karboxylgrupphalt av 0,2-15% och en halt av 0,01-0,8 mol polymeriserbara C-C- dubbelbindningar per 100 g förpolynier. Andra lämpliga, vattenhaltiga dispersioner på basis av speciellt (meøakrylsyraalkylester-polymerisat är beskrivna i EP-A-41 125, lämpliga i vatten dispergerbara, strâlningshärdbara förpolymerer av uretanakrylat framgår av DE-A- 29 36 039.
Såsom ytterligare tillsatser kan dessa strålningshärdbara, vattenhaltiga förpolymerdispersioner innehålla dispergeringshjälpmedel, emulgatorer, antioxidanter, ljusstabiliseringsmedel, färgämnen, pigment, fyllmedel, t.ex. talk, gips, kiselsyra, rutil, sot, zinkoxid, förtjockningsmedel, matteringsmedel, skumdämpande medel och andra inom lackteknologin järnoxider, reaktionsacceleratorer, utflytningsmedel, glidmedel, vätmedel, vanliga hjälpmedel. Såsom dispergeringsmedel ifrågakommer vattenlösliga, högmolekylära organiska förehingar med polära grupper, såsom exempelvis polyvinylalkoholer, polyvinylpyrrolidon eller cellulosaetrar. Såsom emulgatorer kan icke-joniska, eventuellt även joniska emulgatorer användas.
De fotopolymeriserbara kompositionerna innehåller fotoinitiatorn eller fotoinitiatorblandningen (b) lämpligen i en mängd av 0,05-15 viktprocent, företrädesvis 0,1- 5 viktprocent, räknat på kompositionen.
Vid användningen av föreliggande fotoinitiatorer i hybridsystem användes förutom radikalbildande bensoylperoxid, aromatiska sulfonium- eller jodoniumsalter eller cyklopentadienylaren- föreliggande härdare katjoniska fotoinitiatorer, såsom exempelvis järnGD-komplexsalter.
I bestämda fall kan det vara en fördel att jämte föreliggande föreningar eller fotoinitiatorblandningar använda ytterligare initiatorer. Till exempel kan fosfiner eller fosfoniumsalter eller exempelvis föreningar med följande formel: _p-1'1=D ¿U-'0=O \\SPB\VOL3\userS\FM\DOK\word-dok\P333 l 6-B .dOCSEOO/Nh/CG 10 15 20 25 30 520727 24 (beskriven i US-A-5-436 280 eller JP-A-Hei 6 263809), vari Q står för S eller O och R,', R,', R,' och R4' exempelvis betecknar alkyl, alkenyl eller aryl, och fosfiter användas såsom tillsatser.
De fotopolymeriserbara kompositionerna kan användas för olika ändamål, exempelvis såsom tryckfårg, såsom klarlack, såsom vitlack, t.ex. för trä eller metall, såsom bestrykningsmedel, bl.a. för papper, trä, metall eller plast, såsom i dagsljus härdbar bestrykning för byggnads- och gatifmarkering, för fotografiska reproduktionsförfaranden, för holografiska uppteckningsmaterial, för bilduppteckningsförfaranden eller för framställning av tryckplattor, som är framkallningsbara med organiska lösningsmedel eller vattenhaltigt-alkaliskt, för framställning av masker för siltryck, såsom tandfyllningsmassor, såsom klibbämïien., såsom kontakthäftande klibbämnen, såsom lamineringshartser, såsom ets- eller permanentresist och såsom lödstoppmasker för elektroniska kopplingar, för framställning av tredimensionella föremål genom masshärdning (UV-härdning i transparenta former) eller enligt stereolitografiförfarandet, såsom det exempelvis är beskrivet i US-A-4 575 330, för framställning av lamellmaterial (t.ex. styreniska polyestrar, som eventuellt kan finnehålla glasfibrer och andra hjälpmedel) och för andra massor i tjocka skikt, för beläggning eller försegling av elektroniska delar eller såsom överdrag för optiska fibrer.
Föreliggande föreningar och fotoinitiatorblandningar kan vidare användas för emulsionspolymerisation, såsom initiatorer av en polymerisation för fixering av ordningstillståndet i vätskekristallina mono- och oligomerer, såsom initiatorer för fixering av färgämnen på organiska material.
I lacker användes ofta blandningar av en förpolymer med flerfaldigt omättade monomerer, som dessutom innehåller ännu en enkelt omättad monomer. Förpolymeren är härvid i första hand avgörande för lackfilmens egenskaper, och genom dess variation kan fackmannen påverka den härdade filmens egenskaper. Den flerfaldigt omättade monomeren fungerar såsom tvärbindande medel, som gör lackfilmen olöslig. Den enkelt omättade monomeren fungerar såsom reaktivt utspädningsmedel, med vars hjälp viskositeten minskas, utan att ett lösningsmedel måste användas.
Omättade polyesterhartser användes mestadels i tvåkomponentsystem tillsammans med en enkelt omättad monomer, företrädesvis med styren. För fotoresist användes oftast \\SPB\VOL3\users\FM\DOK\word-dok\P333 ló-BAOCSEOO/Nh/CG 10 15 20 25 30 520727 25 specifika enkomponentsystem, såsom exempelvis polymaleinimider, polychalkoner eller polyidimer, såsom de är beskrivna i DE-A-23 08 830.
Föreliggande föreningar och blandningar kan även användas exempelvis i lacker, som föreligger i organiska lösningsmedel och/eller vatten eller lösningsmedelsfria.
Föreliggande föreningar och blandningar därav kan vidare användas såsom radikalbildande fotoinitiatorer eller fotoinitierade system för strålningshärdbara pulverlacker. Pulverlackerna kan grundas på fasta hartser och monomerer innehållande reaktiva dubbelbindningar, såsom exempelvis maleat, vinyletrar, akrylat, akrylarnider och blandningar därav. En radikalbildande, UV-härdbar pulverlack kan beredas genom blandning av omättade polyesterhartser med fasta akrylamider (t.ex. metylakrylamido- glykolatmetylesterí och en radikalbildande fotoinitiator enligt uppfinningen, såsom exempelvis beskrives i föredraget ”Radiation Curing of Powder Coating”, Conference Proceedings, RadTech Europé 1993 av M. Wittig och Th. Gohmann. Likaså kan radikalbildande, UV-härdbara pulverlacker beredas genom blandning av omättade polyesterhanser med fasta akrylat, metakrylat eller vinyletrar och en fotoinitiator (respektive fotoinitiatorblandning) enligt uppfnmingen. Pulverlacker kan även innehålla bindemedel, såsom de exempelvis är beskrivna i DE-A-42 28 514 och EP-A- 636 669. De UV-härdbara pulverlackerna kan även innehålla vita eller färgade pigment. Sålunda kan exempelvis företrädesvis rutil-titandioxid användas upp till koncentrationer av 50 viktprocent, för att en härdad pulverlack med god täckförmåga skall erhållas. Förfarandet omfattar normalt elektrostatisk eller tribostatisk sprutning av pulver på substrat, såsom exempelvis metall eller trä, smältning av pulvret genom uppvärmning och, sedan en slät film bildats, strålningshärdning av överdraget med ultraviolett och/eller synligt ljus, t.ex. med kvicksilvermedeltryckslampor, metallhalogenidlampor eller xenonlampor. En speciell fördel med strålningshärdbara pulverlacker i jämförelse med termiskt härdbara ligger i att flyttiden efter pulverpartiklarnas påsmältning valfritt kan fördröjas för säkerställande av bildningen av ett slätt, högglänsande överdrag. I motsats till termiskt härdbara system kan strålningshärdbara pulverlacker beredas så att de smälter vid lägre temperaturer utan den icke-önskvärda verkan av brukstidsförkortning. Av detta skäl är de även lämpliga såsom överdrag för 'värmekänsliga substrat, såsom exempelvis trä eller plast.
Pulverlackberedningarna kan jämte föreliggande fotoinitiatorer även innehålla UV- absorptionsmedel. Lämpliga exempel har här förut angivits under punkterna 1. - 8.
\\SPB\VOL3\users\FM\DOK\word-duk\P333 l ó-BLIOCSEOO/Nh/CG 10 15 20 25 30 520727 26 exempelvis såsom Föreliggande, fotohärdbara kompositioner är lämpliga beläggningsmedel på substrat av alla slag, t.ex. trä, textilier, papper, keramik, glas, plast, såsom polyester, polyetylentereftalat, polyolefiner eller cellulosaacetat, speciellt i form av filmer, samt metaller, såsom Al, Cu, Ni, Fe, Zn, Mg eller Co, och GaAs, Si eller SiOz, på vilka ett skyddsskikt eller genom bildmässig belysning en avbildning skall anbringas.
Beläggningen av substraten kan ske därigenom, att en flytande komposition, en lösning eller suspension anbringas påsubstratet, valet av lösningsmedel och koncentrationen rättar sig huvudsakligen efter kompositionens slag och efter beläggningsförfarandet.
Lösningsmedlet bör vara inert, d.v.s. det bör icke ingå någon kemisk reaktion med komponenterna och det bör vid torkningen efter beläggningen åter kunna avlägsnas.
Lämpliga lösningsmedel är exempelvis ketoner, etrar och estrar, såsom metyletylketon, isobutylmetylketon, cyklopentanon, cyklohexanon, N-metylpyrrolidon, dioxan, tetrahydrofuran, 2-metoxietanol, 2-etoxietanol, 1-metoxi-2-propanol, 1,2-dimetoxietan, ättiksyraetylester, ättiksyra-n-butylester och 3-etoxi-propionsyraetylester.
Lösningen anbringas likforrnigt på ett substrat med hjälp av kända beläggningsförfåranden, t.ex. genom centrifugering, doppning, rakelbestrykning, ridågjutning, påpensling, sprutning, speciellt genom elektrostatisk sprutning och beläggning med omvänd vals. Det är även möjligt att bringa det ljuskänsliga skiktet på en temporär, flexibel bärare och därefter genom skiktöverföring genom laminering belägga det slutgiltiga substratet, t.ex. en kopparkascherad ledarplatta.
Påföringsmängden (skikttjockleken) och slaget av substrat (skiktbärare) är beroende av det önskade användningsområdet. Skikttjockleksområdet omfattar i allmänhet värden från cirka 0,1 um till mer än l0 pm.
Föreliggande strålningskänsliga kompositioner finner användning såsom negativa resister, som uppvisar mycket hög ljuskänslighet och kan framkallas svällningsfritt i lämpliga såsom fotoresister för elektronik vattenhaltigt-alkaliskt medium. De är (galvanoresist, etsresist, lödstoppsresist), framställningen av tryckplattor, såsom offsettryckplattor eller siltrycksformar, användning vid formdelsetsning eller användning såsom mikroresist vid framställningen av integrerade kopplingskretsar. I överensstämmelse härmed är de möjliga skiktbärarna och bearbetningsbetingelsema för de belagda substraten olika.
För fotografiska informationsuppteckningar tjänar exempelvis folier av polyester, cellulosaacetat eller med plast belagda papper; för offsettryckformar speciellt behandlat \\SPB\VO1.3\users\FM\DOl(\word-dok\P333l6-B.docSE00/Nh/CG 10 15 20 25 30 520727 27 aluminium, för framställning av tryckta kopplingar, kopparkascherade laminat och för framställning av integrerade kopplingskretsar kiselbrickor. Vikttjocklekarna för fotografiska material och offsettryckformar uppgår i regel till cirka 0,5 um - 10 um, för tryckta kopplingar till 0,4 um - cirka 2 um.
Efter beläggningen av substratet avlägsnas lösningsmedlet i regel genom torkning, och ett skikt av fotoresisten erhålles på bäraren.
Begreppet ”bildmässig” belysning omfattar såväl belysning genom en fotomask, som innehåller ett i förväg bestämt mönster, exempelvis ett diapositiv, belysning med en laserstråle, som exempelvis förflyttas datorstyrd över ytan av det belagda substratet och på detta sätt åstadkommer en bild samt bestrålning med datorstyrda elektronstrâlar.
Efter den 'bildmässiga beslysningen av materialet och före framkallningen kan det vara fördelaktigt att under kort tid genomföra en termisk behandling. Därvid härdas endast de belysta delarna terrniskt. De använda temperaturerna ligger i allmänhet vid 50-150°C, lärnpligen vid 80-l30°C; tiden för den terrniska behandlingen ligger i regel mellan 0,25 och 10 minuter.
Den fotohärdbara kompositionen kan vidare användas vid ett förfarande för framställning av tryckfórmar eller fotoresister, såsom exempelvis är beskrivet i DE-A-40 13 358 . belyses kompositionen utan mask under kort tid med synligt ljus med en våglängd av åtminstone 400 nm före, samtidigt med eller efter den bildmässiga bestrålningen.
Efter belysningen och eventuellt termisk behandling avlägsnas de obelysta ställena av fotolacken på i och för sig känt sätt med en framkallare.
Föreliggande kompositioner är, såsom redan angivits, vattenhaltigt-alkaliskt framkallningsbara. Lämpliga vattenhaltiga-alkaliska frarnkallningslösningar är speciellt vattenhaltiga lösningar av tetraalkylammoniumhydroxider eller av alkalimetallsilikat, -fosfat, -hydroxider och -karbonat. Dessa lösningar kan eventuellt dessutom vara tillsatta små mängder vätemedel och/eller organiska lösningsmedel. Typiska organiska lösningsmedel, som i små mängder kan tillsättas framkallningsvätskoma, är exempelvis cyklohexanon, 2-etoxietanol, toluen, aceton samt blandningar av sådana lösningsmedel.
Stor betydelse har fotohärdningen för tryckfårger, eftersom torkningstiden för bindemedlet är en avgörande faktor för produktionshastigheten för grafiska artiklar och bör ligga i storleksordningen bråkdelar av sekunder. Speciellt för siltryck är UV-härdbara färger av betydelse.
\\SPB\VOL3\users\FlNl\DOK\word-dok\l>333 l6-B.d0cSE00/Nh/CG 10 15 20 25 30 520727 28 Väl lämpade är föreliggande blandningar - såsom redan angivits - även för framställning av tryckplattor. Härvid användes exempelvis blandningar av lösliga, linjära polyamider eller styren/butadien- respektive styren/isopren-kautschuk, polyakrylat eller polymetylmetakrylat med karboxylgrupper, polyvinylalkoholer eller uretanakrylat med fotopolymeriserbara monomerer, exempelvis akryl- respektive metakrylamider eller akryl- respektive metakrylestrar, och en fotoinitiator. Filmer och plattor ur dessa system (våta eller torra) belyses över tryckförlagans ngegativ (eller positiv) och de ohärdade delarna elueras därefter med ett lämpligt lösningsmedel.
Ett ytterligare användningsområde för fotohärdningen är metallbeläggning, exempelvis vid lackering av plåt och tuber, dosor eller flaskförslutningar, samt fotohärdning av plastbeläggningar, exempelvis av golv- eller väggbeläggningar på basis av PVC.
Exempel på fotohärdning av pappersbestrykningar är den färglösa lackeringen av etiketter, skivomslag och bokomslag. Ävenledes intressant är användningen av föreliggande föreningar för härdning av formdelar av laminatmassor. Laminatmassan består av ett självbärande grundmassamaterial, t.ex. en glasfibferväv, eller även exempelvis växtfibrer [jfr K.-P. Mieck, T. Reussmarm i Kunststoffe 85 (1995), 366-3 70], som genomdränkes med den ljushärdande beredningen. Med föreliggande föireningar framställda formdelar av laminatmassor uppnås en hög mekanisk stabilitet och rnotståndsförrnåga. Föreliggande föreningar är även användbara i förrn-, impregnerings- och överdragsmassor, såsom de exempelvis är beskrivna i EP-A-7086. Sådana massor är exempelvis finskiktshartser, på vilka höga fordringar ställes beträffande härdningsaktiviteten och gulfärgningsresistensen, fiberförstärkta formmaterial, såsom exempelvis plana, längd- eller tvärvågiga ljusplattor. Förfarande för framställning av sådana formmaterial, såsom exempelvis handpåläggningsförfaranden, fibersprutning-, centrifugering- eller limningsförfaranden, är exempelvis beskrivna av P. H. Selden i ”Glasfaserverstärkte Kunststoffe”, sid. 610, Springer Verlag Berlin-Heidelberg-New York 1967. Bruksföremål, som exempelvis kan framställas enligt detta förfarande, är båtar, på båda sidor med glasflberförstärkt plast belagda spån- eller snickeriplattor, rör, behållare, o.s.v. Andra exempel på form-, impregnerings- och överdragsrnassor är UP-harts-finskikt för glasfiberhaltiga formmaterial (GFK), t.ex. vågplattor och papperslaminat. Papperslaminat kan vara grundade på karbamid- eller melaminhartser. Finskiktet bildas före laminatframställningen på en bärare, (t.ex. en folie). Föreliggande fotohärdbara kompositioner kan även användas för gjuthartser eller för inbäddníng av föremål, t.ex. av elektronikdelar, o.s.v. För härdning användes kvicksilverrnedeltryckslampor, såsom de är vanliga vid UV-härdning. Av speciellt intresse är \\SPB\VOL3\users\FM\DOK\word-dok\P333lÖ-BAIOcSEOO/Nh/CG 10 15 20 25 30 520727 29 emellertid mindre intensiva lampor, t.ex. av typ TL 4OW/03 eller TL 40W/05. intensiteten för dessa lampor motsvarar ungefär solljuset. Även direkt solljus kan användas för härdning. En ytterligare fördel är, att larninatmassan kan avlägsnas från ljuskällan i ett anhärdat, plastiskt tillstånd och omformas. Därefter sker den fullständiga härdningen.
Viktig är även användningen av fotohärdbara kompositioner för avbildnings- förfaranden och för optisk framställning av informationsbärare. Härvid bestrålas - såsom redan beskrivits - det på bäraren anbringade skiktet (vått eller torrt) genom en fotomask med UV-ljus eller synligt ljus och de obelysta ställena av skiktet avlägsnas genom behandling med ett lösningsmedel (= framkallare). Anbringandet av det fotohärdbara skiktet kan även ske genom elektroavskiljningstörfarandet på metall. De belysta ställena är tvärbunden polymer och därigenom-olösliga och kvarstannar på bäraren. Vid motsvarande anfärgning bildas synliga bilder. Om bäraren är ett metalliserat skikt, kan metallen efter belysningen och framkallningen bortetsas på de obelysta ställena eller förstärkas genom galvanisering. På detta sätt kan tryckta elektroniska kopplingar eller fotoresister framställas.
Ljuskänsligheten hos föreliggande kompositioner når i regel från UV-området (cirka 200 nm) till clirka 600 nm och omspänner ett mycket brett område. Lämplig strålning innehåller exempelvis solljus eller ljus från artificiella ljuskällor. Såsom ljuskällor kommer därför ett stort antal olika typer till användning. Såväl punktkällor som även ytformiga strålare Exempel är: kolljusbågslampor, xenon-ljusbågslampor, (lampmattor) är lämpliga. kvicksilvermedeltrycks-, -högtrycks- och -lågtrycksstrålare, eventuellt dopade med metallhalogenider (metall-halogenlampor), mikrovågsaktiverade metallånglainpor, excimer- lampor, superaktiniska lysrör, fluorescenslampor, argonglödlampor, elektronblixtlarnpor, fotografiska flodljuslarnpor, elektronstrålar och röntgenstrålar bildade med hjälp av synkrotroner eller laser-plasma. Avståndet mellan lampan och substratet, som skall belysas enligt uppfinningen, kan variera alltefter användningsändamål och larnptyp respektive- styrka, t.ex. mellan 2 cm och 150 cm. Speciellt lämpliga är laserljuskällor, t.ex. excimer-laser, såsom krypton-F-laser för belysning vid 248 nm. Även laser i det synliga området kan användas. Här är den höga känsligheten hos föreliggande material mycket fördelaktig. Enligt denna metod kan tryckta kopplingar framställas inom elektronikindustrin, litografiska offsettryckplattor eller relieftryckplattor samt fotografiska bilduppteckningsmaterial.
Uppñnningsföremålet är även användningen av den beskrivna kompositionen för framställning av lacker, tryckfärger, tryckplattor, dentalmassor, resistmaterial samt såsom bilduppteckningsmaterial, speciellt för holografiska uppteckningar.
\\SPB\VOL3\users\FM\DOK\word-dok\l>333 l 6-B.d0cSE00/Nh/CG 10 15 20 25 30 520727 so Föremål för uppfinningen är ävenledes ett belagt substrat, som på åtminstone en yta är belagt med en komposition, såsom den beskrivits, samt ett forfarande for fotografisk framställning av reliefavbildningar, vid vilket ett belagt substrat belyses bildmässigt och de obelysta delarna därefter avlägsnas med ett lösningsmedel. Den bildmässiga belysningen kan därvid ske genom en mask, men även med hjälp av en styrd laser (utan mask).
Föremål för uppfinningen är därför även ett forfarande för fotopolymerisation av föreningar med eteniskt omättade dubbelbindningar, vilket kännetecknas därav att en komposition, såsom ddh beskrivits, bestrålas med ljus i området från 200 till 600 nm.
Föreningarna med formeln I och Ia är ljuskänsliga, i regel för gula fasta ämnen, som exempelvis är lösliga i estrar, aromater, alkoholer och klorkolväten.
Föreliggande-fotoinitiatorblandningar (blends) visar god löslighet i substratet, som skall härdas. Därvid är löslígheten av blandningama i substratet, som skall härdas, i regel bättre än löslígheten av de enskilda komponentema. I blandningen verkar en komponent såsom löslighetsförmedlare för de andra.
Vid härdningen med föreliggande blandningar skall ett optimalt förhållande eftersträvas mellan härdningen av substratets yta och dess genomhärdning.
Fotoinitiatorblandningarna är reaktiva och vid härdningen kan låga gulfargningsvärden uppnås. i Följande exempel åskådliggör uppfinningen ytterligare. Uppgifter i delar eller procent hänför sig, liksom i den övriga beskrivningen och i patentkraven, till vikten, såvida intet annat angivits.
Exempel 1: Frarnställning av bis(2,4,6-trimetylbensoyl)-4-metylfenyl-fosfinoxid crg-Ö- af (lß n, 2 n, 2 (a) 4-metylfenyldietylfosfonat I en Hickmannapparat uppvärmes 51,3 g 4-bromtoluen med 3,9 g nickel-(II)-klorid till l60°C. Under 1 timme tillsättes droppvis 74,8 g trietylfosñt. Reaktionsblandningen \\SPB\VOL3\users\FIvl\DOK\word-dok\P333 l6-B.d0cSE00/Nh/CG ci-g-Q-Porocgis), -íï cig-O-PH, -ÜL 10 15 20 25 30 520727 31 uppvärmes därefter under 2 timmar till 160°C. Därefter avdestilleras 22 g etylbromid. Efter destillationen vid 90°C/ 10* mbar erhålles 38,6 g 4-metylfenyldietylfosfonat. (b) 4-metylfenylfosfin 8,23 g litiumaluminiumhydrid införes i 180 ml torr dietyleter och försättes vid -10°C med 16,43 g 4-metylfenyldietylfosfonat. Suspensionen omröres i 18 timmar vid rumstemperatur, tvättas därefter noggrant med 8 ml vatten vid 0°C och 5°C och hydrolyseras med 8 g 15 %-ig NaClH-lösning och 24 ml vatten, varvid en voluminös, vit fállning bildas. Man avdestillerar under argon, tvättar med 50 ml eter och avdestillerar därefter lösningsmedlet under argon, 9,0 g 4-metylfenylfosñn erhålles, vilket utan ytterligare rening användes för framställningen i nästa steg. (c) Bis(2,4,6-tfiine-fylhensoyl)-4-metylfenylfosfin En lösning av 16,2 g diisopropylamin i 50 ml tetrahydrofuran (THF) kyles till -l0°C. 100 ml butyllitium i hexan (1,6 M) tillsättes droppvis. Därefter tillsättes vid -40°C först 9,0 g 4-metylfenylfosfin och därefter en lösning av 29,22 g 2,4,6-trimetylbensoylklorid i 150 rnl THF. Lösningen omröres i 1,5 timmar, och därefter avlägsnas lösningsmedlet under förrninskat tryck 28,0 g lbis(2,4,6-trimetylbensoyl)-4-metylfenylfosfin erhålles såsom gult pulver. f . ) (d) Bis(2,4,6-trirnety1bensoyl)-4-metylfenylfosfinoxid 28,0 g bis(2,4,6-trimetylbensoyl)-4-metylfenylfosfin löses i 100 ml toluen och uppvärmes till 50°C. 8,2 g 30%-ig väteperoxid tillsättes droppvis under 1 timme. Därefter får reaktionsblandningen svalna till rumstemperatur och de bildade faserna skiljes. Den organiska fasen tvättas med 30 ml vatten, 30 ml 10%-ig natriumbikarbonatlösning och vatten till neutralitet, torkas över magnesiumsulfat, filtreras och indunstas under vakuum. 24,5 g av en gul olja erhålles. Efter kolonnkromatografi och omkristallisation över petroleumeter erhålles 12,1 g av titelprodukten såsom gula kristaller med en smältpunkt av l51-152°C.
Elementaranalys: ber.: C: 74,98% funnet: C: 74,90% H: 6,76% H2 6,75% \\SPB\VOL3\users\FM\DOK\word-dok\P333 1 6-B.d0cSEO0/Nh/CG 520727 Exempel 2-9: Föreningarna i Exemplen 2-9 erhålles analogt enligt den i exempel 1 beskrivna metoden under användning av motsvarande substituerade edukter. Föreningarna och deras fysikaliska data framgår av följande Tabell 1.
Tabelll F. Fk o R-QÉ 33" R' 2 R, Ro Exempel R, R, R, R, R, R, Smp Elementar- [°C] analys _' ø “i [%] beräknat [%] funnet C H 1 CH, CH, H 4 CH, H H 152 74,9 6,75 74,98 6,76 2 CH, CH, CH, H H H 132 74,816,80 74,98 6,76 3 CH, CH, CH, CH, H CH, 163 75,47 7,30 75,63 7,22 4 CH, »CH, _ CH(CH,), H CH(CH,), H 160 76,17 7,92 76,47 7,82 5 CH, CH, CH, C(CH,), H CH, 146 76,58 8,03 76,47 7,82 6 CH, CH,CH(CH,), H H H H Harts 76,22 8,02 76,47 7,82 7 CH, H H H H H 93 73,61 6,02 73,81 5,94 8 CH, CH, H H H H 132 74,63 6,50 74,67 6,52 * 9 CH, CH, CH, H CH, H 122 75,04 6,97 75,32 7,00 fllfl* * Förskjutningsvärdet ö i "P-NMR-spektrum uppgår till 7,50 ppm.
** Förskjutningsvärdet ö i ”P-NMR-spektrum uppgår till 14,95 ppm.
Exempel 10: Framställning och härdning av en klarlack En UV-härdbar klarlack framställes genom blandning av 99,5 delar ®Roskydal 502 (= 66% omättad polyesterharts och 34% styren; Fa. Bayer) 0,5 delar ®Byk 300 (= utflytningsmedel, Fa. Byk-Mallinckrodt).
\\SPB\VOL3\users\FM\DOK\word-dok\P333 l ó-BAIOCSEOO/Nh/CG 10 15 20 25 30 520727 33 I denna beredning inarbetas 2 delar av en blandning av 95 % l-bensoyl-l-hydroxi-l- metyletan och 5% av fotoinitiatorn från exempel 8. Lacken påföres med en 200 um- spaltrakel på en spånplatta och härdas därefter. Härdningen sker genom att provet på ett transportband, som rör sig med en hastighet av 5 m/min, föres under två kvicksilvermedeltryckslampor av typ 120W/cm Fusion H (Fusion Systems, USA) och 8OW/cm Hanovia (Canrad/Hanovia, USA). Pendelhârdheten enligt König (DIN 53157) för den dammtorra beläggningen uppgáftill 52 sekunder.
Exempel 11:.Framställning och härdning av en vitlack En UV-härdbar vitlack framställes genom blandning av: 67,5 delar ®Ebecryl 830 (polyesterakrylat från Fa. UCB, Belgien) 5,0 delar -lïó-hexandioldiakrylat 2,5 delar trimetylolpropantriakrylat och 25,0 delar ®R-TC2 (rutiI-titandioxid, Fa. Tioxide).
I denna lackberedning inarbetas 3 delar av en fotoinitiatorblandning av 75 % 1-bensoy1-1-hydroxi-1-metyletan och 25% av fotoinitiatorn från exempel 8. Lacken páföres med en 100 um spaltrakel på en rulle av belagd aluminiumplát och belyses på ett transportband rfied en '80 W/cm kvicksilvermedeltryckslampa (Canrad-Hanovia, USA). Den maximala bandhastigheten för att ett handfast och genomhärdat skikt skall erhållas, är ett mått på fotoinitiatorblandningens reaktivitet. Ett skikt, som hárdats vid en bandhastighet av 3 m/min, har en pendelhårdhet enligt König (DIN 53157) av 159 sekunder.
Exempel 12: Framställning och härdning av en vitlack I den i exempel 11 beskrivna beredningen provades på analogt sätt varje gång 3 delar av en fotoinítiatorblandning av 75% 1-bensoyl-l-hydroxi-cyklohexan och 25% av fotoinitiatorerna från exemplen 2, 4 och 7. Motsvarande vitlacksskikt är även härdade vid en bandhastighet av 15 rn/min.
Exempel 13: Framställning och härdning av en högpigmenterad vitlack En UV-härdbar vitlack framställes genom blandning av: 45 delar °Ebecryl 830 3 delar 1,6-hexandioldiakrylat 2 delar trimetylolpropantriakrylat 50 delar 'R-Tcz (mal-titandioxid) I denna lackberedning inarbetas 4 delar av en fotoinítiatorblandning av 75% \\SPB\VOL3\users\FM\DOK\word-dok\P333 l Ö-BdOCSEOO/Nh/CG 10 15 20 25 30 520727 34 l-bensoyl-l-hydroxi-cyklohexan och 25% av fotoinitiatorn från exempel 8. Lacken páföres med en 150 um spaltrakel på rullbelagd aluminiumplât och härdas pâ ett transportband under två 80W/cm kvicksilvermedeltryckslampor (Aetek, USA). Vid en bandhastighet av 10 m/min erhålles ett dammfast och genomhärdat skikt, vars pendelhárdhet enligt König (DIN 53157) uppgår till 85 sekunder. 4 delar av en fotoinitiatorblandning av 75% 1-bensoyl-1- hydroxi-cyklohexan och 25% av fotoinitiatorn från exempel 3 ger ävenledes en dammfast yta och ett genomhärdat skikt vid enïbandhastighet av 10 m/min och en pendelhårdhet av 79 sekunder. i Exempel 14: Härdning av en skiktformad laminatmassa En beredning beredes av: 99 delar 'š/estopal X7231 (omättad polyester frán ñrma Hüls, Tyskland) och 1 del av en fotoinitiatorblandning av 75% bensildimetylketal och 25% av fotoinitiatorn från exempel 8.
Ett skikt om fyra lager av en glasfibermatta (material av huggen sträng) och angiven beredning täckes med en transparent Mylar-folie och pressas fast. Därefter bestrálas i 10 minuter under fem lampor av typ TL40W/03 (Philips) på ett avstånd av 15 cm. Ett stabilt laminatskikt erhålles, som uppvisar en shorehàrdhet D (enligt DIN 53505, bestämd med en hårdhetsprovare från Otto Wolpert Werke, Ludwigshafen, Tyskland) av 65.
Exempel 15: Framställning och härdning av en aminogrupphaltig klarlack 2 delar av en fotoinitiatorblandning av 45% bensofenon, 45% l-bensoyl-l- hydroxicyklohexan och 10% av fotoinitiatom från exempel 8 blandas med 98 delar av ett aminogrupphaltigt polyeterakrylat (°Laromer PO84 F, BASF). Lacken páföres pâ spánplattor med en 100 um spaltrakel och härdas vid en bandhastighet om 10 rr1/min med två 80 W/cm kvicksilvermedeltrycklampor (Aetek, USA). Det dammfasta skiktet har en pendelhårdhet enligt König (DIN 53157) av 65 sekunder.
Exempel 16: Framställning och härdning av en pulverlack En UV-härdbar pulverlack framställes av: 56 delar 'ZA 3125 (DSM, Holland) ll delar 'ZA 3126 (DSM, Holland) 33 delar 'R-TCZ (rutil-titandioxid) 1 del 'Resiflow PV5 (E.H. Worlee, Tyskland) 0,5 delar 'Worlee Add 900 (E.H. Worlee, Tyskland) \\SPB\VOL3\users\FM\DOK\word~dok\P333 IO-BdQCSEOO/Nh/CG 10 15 20 25 30 520727 35 3 delar av en fotoinitiatorblandning och 75% 4(2-hydroxietoxDbensoyl-1-hydroxi-1- metyletan och 25 % av fotoinitiatorn från exempel 8.
Alla komponenterna blandas vid 80°C i en sprutmaskin. En homogen vit färg erhålles. Efter avkylning males den fasta massan och siktas. Pulvret med en partikelstorlek av < 90 pm påföres på en aluminiumplåt i en skikttjocklek om 60-90 um med hjälp av en elektrostatisk sprutmetod. Den belagda plåten uppvärmes under 3 minuter i ugn vid 125°C.
Därvid smälter pulvret och en homogen film bildas. Den ännu varma filmen bestrålas vid en bandhastighet av 7,5 :ri/min under två 80 W/cm kvicksilverniedeltryckslampor. Efter 30 minuters bestrålning mätes en pendelhårdhet enligt König om 105 sekunder.
Exemgfl 1_7 En pastellfårg-ad lack framställes genom blandning av: 75,5 delar Ebecryl' 830 (polyesterakrylat-oligomer) 9,0 delar 1ß-hexandioldiakrylat(HDODA) 4,5 delar trimetylolpropantriakrylat (TMPTA) Därtill sättes 3% (3 delar) av en fotoinitiatorblandning av 75% bensildimetylketal och 25% av fotoinitiatorn från exempel 1. Ett lackskikt om 100 um anbringas på en träplatta och belyses vid en bandhastighet av 3 m/min under två 80 W/cm kvicksilverrnedel- tryckslampor (Aetek, USA). Ett dammfast och genomhärdat skikt, vars pendelhårdhet enligt König (DIN 53157) uppgår till 115 sekunder, erhålles.
Exempel 18 En gul lack framställes av: 83,0 delar Ebecryl' 830 (polyesterakrylat-oligomer) 8,5 delar 1,6-hexandioldiakrylat (HDODA) 4,0 delar trimetylolpropantriakrylat (TMPTA) 3,0 delar Irgazin' Gelb GLTN Därtill sättes 3 delar av fotoinitiatorblandningen från exempel 17. Man påför, såsom beskrivits i exempel 17, och belyser vid en bandhastighet om 3 m/min med en 80 W/cm kvicksilvermedeltryckslampa (Canrad-Hanovia, USA). Pendelhårdheten hos det dammfasta och genomhärdade skiktet uppgår till 142 sekunder.
Exempel 19 UV-stabilisering av en klacklack En klarlack framställes genom blandning av: \\SPB\VOL3\users\FM\DOK\word-dok\P333l6-B.docSE00/Nh/CG 10 15 20 25 520727 36 99,5 delar Roskydal' 502 (=66% omättad polyester med 34% styren, BAYER) och 0,5 delar Byk' 300 (utflytningsmedel, firma Byk-Mallinckrodt) Genom uppvärmning av en fotoinitiatorblandning av 75% 1-bensoyl-1- hydroxicyklohexan och 25% av fotoinitiatorn från exempel 1 till 50“C och tillsats av samma viktmängd av en blandning av 85% 4,6-di(2,4-dimetylfeny1)-2-[2-hydroxi-4-(blandning av dodecyloxi och tridecyloxi)(2-hydroxi)propyl-3-oxifenyl]-1,3,5-triazin och 15% l-metoxi-2- propanol framställes en flytande ttekomponentblandning. Av denna flytande blandning inarbetas 4 delar i klartlacken. Med en 150 um spaltrakel påföres skikt på trä (ljus bakgrund) och belyses med tvâ 80 W/cm kvicksilverrnedeltryckslampor vid bandhastigheten 3 m/min.
Pendelhárdheten (PH) och gulningsindex (Yl) (enligt ASTMD 1925) mätes direkt efter härdningen samt efter 4 timmars efterbelysning under TL 2OW/05 fluorescenslampor (Philips).
Provet med den flytande trekomponententblandningen kan härdas problemfritt och ger tillräcklig ljusskyddsverkan (UV-Stabilisering), såsom visas av värdet i tabell 2.
Tabell 2 Tinsars ' I, Efrer härdrrrrrg 4 rimmar TL zow/os f - PH YI PH YI 4 delar flytande 88 9,8 134 9,5 trekomponentblandning Exempel 20 Inarbetning av en flytande blandning i en vattenhaltig pigmenterad beredning.
En pigmenterad, vattenhaltig beredning framställes genom blandning av följande komponenter: 50 delar Reskyaal' 850 W (errrärraa polyester, BAYER) 50 delar Laromer' PE 55 W (emulsion av ett polyesterakrylat i vatten, BASF) 10 delar titandioxid R-TC2 (rutil-typ) 20 delar vatten Fotoinitiatorblandningen av 75% 1-bensoyl-1-hydroxicyklohexan och 25% av fotoinitiatorri från exempel l göres flytande vid 50°C och 3 delar därav inarbetas i angiven beredning under omröring vid rumstemperatur. 150 pm tjocka skikt anbringas på trä, torkas vid 80°C under 4 minuter och belyses därefter vid 3 m/min under två 8+ W/cm \\SPB\VOL3\users\FM\DOK\word-dok\P333 1 Ö-HdOCSEOO/Nh/CG 10 15 20 25 30 520727 37 kvicksilvermedeltryckslarnpor. Beläggningen med den flytande fotoinitiatorblandningen ger en pendelhárdhet av 50 sekunder, ett gulningsindex av 4,3 och glansvärden (vid mätvinkeln 20° och 60°) av 75/87.
\\SPB\VOL3\users\FM\DOK\w0rd-d0k\P333ló-BAOCSEOO/Nh/CG

Claims (18)

Lh l0 fx.) Un 30 520727 38 Patentkrav
1. l. Föreningar med formeln R* Ra Ra O n || n, c P Ft, (l) R 2 Rv Re vari _” Rl betecknar C i-Ct-alkyl, R; är väte, C1-C4-alkyl eller Ct-Cr-alkoxi och Rg, R5, och Ry oberoende av varandra utgör väte, halogen, Cl-Cgo-alkyl, cyklopentyl, cyklohexyl, Cg-Clg- alkenyl, med en eller flera O-atomer avbruten Cg-Cig-alkyl, med fenyl substituerad Cl-Ct- alkyl, osubstituerad eller med en eller två Ci-Ca-alkyl eller/och C1-C4-alkoxi substituerad fenyl; Ra och RÖ oberoende av varandra utgör väte, halogen, cyklopentyl, cyklohexyl, Cg-Cn- alkenyl, med fenyl substituerad C i-Ct-alkyl, osubstituerad eller med en eller två Cl-Ct-alkyl eller/och Ci-Cfalkoxi substituerad fenyl; under den förutsättningen, att åtminstone en av gruppema R_~., Rt, R,-, RÖ och Ry är annat än väte, och under den förutsättningen, att när RI och R; betecknar metyl, eller R; är metyl och R; betecknar väte, åtminstone en av gruppema R3, Kr, Rj och RÖ icke är metyl.
2. Föreningar enligt patentkravet 1, vari R3, R4, RS, RÖ och Ry betecknar väte, Ci-Cg-alkyl, fenyl, allyl, bensyl, cyklohexyl eller klor.
3. Föreningar enligt patentkravet 1, vari R3, Ri, R5, Ró och Ry betecknar väte, C l-Ct-alkyl eller fenyl.
4. Föreningar enligt patentkravet l, vari R1 betecknar metyl.
5. Föreningar enligt patentkravet l, vari R1 och R; är lika.
6. Fotoinitiatorblandning innehållande åtminstone en förening med formeln (Ia): vari RI betecknar Ci-Ct-alkyl, Rg är väte, CpCr-alkyl eller C1-C4-alkoxi och 10 IQ Lin 30 520727 39 R;, Ra, Rj, Ró och Ry oberoende av varandra utgör väte, halogen, Cl-CZO-alkyl, ey- klopentyl, cyklohexyl, Cg-Clz-alkenyl, med fenyl substituerad Cr-Ci-alkyl, osubstituerad eller med en eller två CI-Cl-alkyl eller/och C l-Cralkoxi substituerad fenyl, och minst en förening med formeln (II): ° v» R -CII-'Flw (ll) RH vari - O.. Rs betecknar väte, Cl-Clg-allcyl, Cp-Cß-alkoxi, -OCHziCHz-ORIZ, en grupp: CH, çH: cHz=¿';_ eller en grupp <{Chl,-<|: , varvid l betecknar ett tal från Å l 2 till 10 och A är 9 ä* en grupp; Ûc-e-Rfl, RH Rg och Rm oberoende av varandra betecknar väte, Cl-Có-alkyl, fenyl, Cr-Cm-alkoxi, OSiRURHRH, eller -O(CH2CH2O)q-Cl-Cró-alkyl, varvid q står for ett tal från l till 20, eller Rg och RW tillsammans med kolatomen, vid vilken de är bundna, bildar en cyklohexyl- ring, RH utgör hydroxi, C r-C ió-alkoxi eller -O(CH2CH2O)q-C1-Ció-alkyl, varvid Rg, Rio och RH alla icke samtidigt står för Cr-Ció-alkoxi eller -O(CH2CH2O)q-- Crcw-âlkyl, i? 'f o clu, Ru betecknar väte, cvcg-aikyi -c-cH=cH2, -c-ct-cg-aikyi enar __" _C=CH, f\ .n-...f un .. \.,l.1\1, lfiLa D trim.. \'. n ...tunn _.. ß IA- 20 25 30 520727 40 och RU, RM, och RM oberoende av varandra är C,-C4-alkyl eller fenyl, eller/och minst en förening med formeln (III); R15 O H15; n” c um RW vari RU, Rba, RH., och RW oberoende av varandra betecknar väte, metyl, fenyl, metoxi, -COOH, osubstituerad eller med Cl-Cd-alkyl substituerad fenyl eller en grupp -OCHZCHQORH eller -SCHZCI-LORQ, varvid Ru är definierad såsom i formeln (II), eller/och minst en förening med formeln (IV): H19 vari Rlg står för väte, C,-C,,-alkyl, Cl-Cfalkoxi, C,-C4-alkyltio, halogen eller en grupp N,, g RW har en för RH; angiven betydelse eller utgör gruppen: R» *iß i? | -N C-(IE-CHZQ, varvid i detta fall gruppen RH, från formel IV och N R / \ ia Ra R” gruppen RW i denna grupp (IVa) tillsammans står för en direkt bindning och de andra grupperna är definierade, såsom angives i det följande, RZO betecknar CVCS-alkyl, \\SPB\VOL3\users\FM\DOK\vvord-dtik\P333 l6-B.docSEOOf.\'li. CG 20 25 520727 41 Rz, är väte, -CH =CHR¿,, osubstituerad eller en till tre gånger med Q-Cn-alkyl, C,-C,,-alkoxi eller halogen substituerad fenyl, eller Rzo och RM tillsammans med kolatomen, vid vilken de är bundna, bildar en cyklohexylring, RH och RB oberoende av varandra betecknar Cl-CA-alkyl eller RR och RB tillsammans med kväveatomen, vid vilken de är bundna, bildar en fem- eller sexledad, mättad eller omättad ring, som kan vara avbruten av -O-, -NH- eller -N(CH1)-. RM betecknar väte eller C,-C4-alkyl och _ Rzs är väte eller Cl-Cu-alkvl.
7. Fotoinitiatorblandriing enligt patentkravet 6, innehållande föreningar med formeln (Ia) och föreningar med formel (II), vari çH: RB betecknar väte, Cl-Ci-alkyl, C,-C4-alkoxi, -OCHzCHzORm en grupp: CH,=C- ei CHfç Å | R, och RK, oberoende av varandra betecknar väte, Cl-Cfalkyl, fenyl, Cl-Cu-alkoxi eller -0(CH¿CH2O2)q-C,-Cs-alkyl, varvid q står för ett tal från 1 till 10, eller Rr, och RH, eller en grupp: tillsammans med kolatomen, vid vilken de är bundna, bildar en cyklohexylring, RH utgör hydroxi, C,-C,,-alkoxi eller -O(CH2CH2O)q-C1-CS-alkyl, eller/och föreningar med formeln (III) eller/och föreningar med formeln (IV), vari RH, är väte eller metoxi, RW utgör metoxi, metyltio, morfolino eller en grupp med formeln (Iva), Rzo betecknar metyl eller etyl, RH och RH är lika och är metyl eller tillsammans med kväveatomen, i vilken de är bundna, bildar en fem- eller sexledad, mättad ring, som kan vara avbruten av -O-, och Rzs utgör väte, Cl-Cg-alkyl.
8. Fotoinitiatorblandning enligt patentkravet 6, vari föreningen med formel (III) är bensofenon, 2,4,6-trimetylfenyl-fenyl-keton, 4-metylfenyl-fenylketon, (3-metyl-4-metoxi- fenyl)-(3-metylfenyD-keton, 4[(4-metylfenyltio)-fenyl]-fenyl-keton, 2-karboxifenyl-fenyl~ keton eller 4(2-hydroxietoxüfenyl-fenyl-keton; '\\SPB".VOL3KusersflFNftDOKI word~di>k\P333 lb-lšklocSElXl/'Nli/CG 10 15 20 25 l 520727 42 föreningen med formel (II) är 1-bensoyl-l-hydroxi-l-metyl-etan, 1-bensoylcyklohexanol, 4[(2-hydroxietoxi)-bensoyl]-l-hydroxi-l-metyl-etan, 1(4-isopropylbensoyl)-1-hydroxi-1- metyl-etan eller 2,2-dimetoxi-1Q-difenyletan-l-on; föreningen med formel (IV) är 1(3,4-dimetoxibensoyl)-l-bensyl-1-morfolino-propan, 1(4- metyltiobensoyD-l-metyl-1-morfolino-etan, 1(4-morfolinobensoyl)-l-bensyl-Ldimetyl- amino-propan eller 3,6-bis(2-metyl-2-morfolino-propan-1-on)-9-oktyl-karbazol och föreningen med formeln (Ia) är bis(2,4,6-trimetylbensoyl)-2,5-diisopropylfenyl-fosfinoxid, bis[2,6-dimetyl-4(2-metylpropybbensoyll-fenyl-fosfinoxid, bis(2,6-dimetylbensoyl)-fenyl- fosfinoxid, bis(2,4,ó-trimetylbensoyl)-fenyl-fosflnoxid eller- bis(2,4,6-trimetylbensoyl)-2,5- dimetylfenyl-fosñnoxid. _ f'
9. Fotoinitiatorblandtting enligt patentkravet 6, innehållande minst en förening med formel la och tvà föreningar med formel (Il).
10. Fotoinitiatorblandning innehållande 25% bis(2,4,6-trimetylbensoyl)- fenylfosfinoxid och 75 % l-bensoylcyklohexanol.
11. Fotopolyfmeriserbara kompositioner, innehållande (a) minst en etenisk omättad, fotopolymeriserbar förening och (b) såsom fotoinitiator minst en förening med formel (I) enligt patentkravet 1 eller en fotoinitiatorblandning enligt patentkravet 6.
12. Fotopolymeriserabara kompositioner enligt patentkravet 11, innehållande såsom fotoinitiator minst en förening med formeln (I) enligt patentkravet 1 eller en fotoinitiatorblandning enligt något av patentkraven 6-10 samt ett UV-absorptionsmedel från klassen hydroxifenyl-s-triaziner och/eller hydroxifenylbenstriazoler och/eller steriskt hindrade aminer på basis av 2,2,6,ó-tetrametyl-piperidiner.
13. Förfarande _ för fotopolymerisation av föreningar med eteniskt omättade dubbelbindningar, k ä n n e t e c k n a t därav, att en komposition enligt patentkravet ll bestrålas med ljus området från 200 till 600 nrn.
14. Användning av föreningar med formel (I) eller fotoinitiatorblandningar enligt patentkravet 6 för fotopolymerisation av föreningar med eteniskt omättade dubbelbindningar.
15. Användning av kompositionen enligt patentkravet 11 för framställning av lacker, tryckfarger, tryckplattor, dentalmassor, resistmaterial samt såsom bilduppteckningsmaterial, speciellt för holografiska uppteckningar. \\SPB\\'OL3\uscrsl FM\DOKl.wurd-dokllP333 ló-BAIOCSEOO/Nli/CG 10 15 20 25 30 520727 43
16. Förfarande enligt patentkravet 13 för framställning av lacker, tryckfärger, tryckplattor, dentalmassor, resistmaterial eller bilduppteckningsmaterial, speciellt för holografisk uppteckningar.
17. Belagt substrat, som på åtminstone en yta är belagt med en komposition enligt patentkravet 11.
18. Förfarande för fotografisk framställning av reliefavbildningar, vid vilket ett belagt substrat enligt patentkravet 17 bildmässigt belyses och de obelysta andelarna därefter avlägsnas med ett lösningsmedel. \“.SPB\VOL3\usc rsltFM\DOK\\\'ord-dok\P333 l6~B.docSEOO/Nh/CG
SE9700616A 1996-03-04 1997-02-21 Alkylfenylbisacylfosfinoxid och fotoinitiatorblandningar SE520727C2 (sv)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH55896 1996-03-04

Publications (3)

Publication Number Publication Date
SE9700616D0 SE9700616D0 (sv) 1997-02-21
SE9700616L SE9700616L (sv) 1997-11-04
SE520727C2 true SE520727C2 (sv) 2003-08-19

Family

ID=4189800

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SE9700616A SE520727C2 (sv) 1996-03-04 1997-02-21 Alkylfenylbisacylfosfinoxid och fotoinitiatorblandningar

Country Status (22)

Country Link
US (2) US6020528A (sv)
JP (1) JP4168352B2 (sv)
KR (1) KR100474236B1 (sv)
CN (1) CN1092201C (sv)
AT (1) AT404729B (sv)
BE (1) BE1011437A5 (sv)
BR (1) BR9701154A (sv)
CA (1) CA2198803C (sv)
CH (1) CH691970A5 (sv)
DE (2) DE19758946B4 (sv)
DK (1) DK176096B1 (sv)
ES (1) ES2132018B1 (sv)
FR (1) FR2745575B1 (sv)
GB (1) GB2310855B (sv)
IT (1) IT1290006B1 (sv)
NL (1) NL1005424C2 (sv)
NO (1) NO309571B1 (sv)
RU (1) RU2180667C2 (sv)
SE (1) SE520727C2 (sv)
SG (1) SG55281A1 (sv)
TW (1) TW408136B (sv)
ZA (1) ZA971810B (sv)

Families Citing this family (158)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SG53043A1 (en) * 1996-08-28 1998-09-28 Ciba Geigy Ag Molecular complex compounds as photoinitiators
EP0975693B2 (en) * 1997-04-22 2006-01-18 Koninklijke DSM N.V. Liquid curable resin composition
US6359025B1 (en) 1997-05-16 2002-03-19 Dsm N.V. Radiation-curable liquid resin composition for coating optical fibers
DE19812859A1 (de) * 1998-03-24 1999-09-30 Basf Ag Photoinitiatorgemische
SE9904080D0 (sv) * 1998-12-03 1999-11-11 Ciba Sc Holding Ag Fotoinitiatorberedning
DE19945279C1 (de) 1999-09-22 2001-04-05 Kronospan Tech Co Ltd Vorrichtung sowie Verfahren zur Herstellung von Fußbodenpaneelen und verfahrensgemäß hergestellte Paneele
WO2001021365A1 (de) * 1999-09-22 2001-03-29 Kronospan Technical Company Ltd. Vorrichtung sowie verfahren zur herstellung von fussbodenpaneelen
US6572693B1 (en) 1999-10-28 2003-06-03 3M Innovative Properties Company Aesthetic dental materials
US6387981B1 (en) 1999-10-28 2002-05-14 3M Innovative Properties Company Radiopaque dental materials with nano-sized particles
US6730156B1 (en) 1999-10-28 2004-05-04 3M Innovative Properties Company Clustered particle dental fillers
US6500877B1 (en) 1999-11-05 2002-12-31 Krohn Industries, Inc. UV curable paint compositions and method of making and applying same
DK1106627T3 (da) * 1999-12-08 2004-02-23 Ciba Sc Holding Ag Hidtil ukendte fotoinitiatorsystem af phosphinoxider og hærdbare sammensætninger med lav farve
DE19961347A1 (de) 1999-12-17 2001-06-21 S & C Polymer Silicon & Compos Photoinitiatorsystem mit Acylphosphinoxid-Initiatoren
US6444725B1 (en) 2000-01-21 2002-09-03 3M Innovative Properties Company Color-changing dental compositions
GB2360283B (en) * 2000-02-08 2002-08-21 Ciba Sc Holding Ag Monoacylarylphosphines and acylphosphine oxides and sulphides
DE10022352A1 (de) * 2000-05-08 2001-11-22 Georg Gros Verfahren zur Beschichtung von elektrolytisch- oder feuerverzinkten Blechen
GB2365430B (en) * 2000-06-08 2002-08-28 Ciba Sc Holding Ag Acylphosphine photoinitiators and intermediates
KR20030051649A (ko) * 2000-09-14 2003-06-25 시바 스페셜티 케미칼스 홀딩 인크. 메타크릴레이트 캐스팅 수지 중의 아실포스핀 옥사이드광개시제
EP1325089A2 (de) * 2000-09-25 2003-07-09 Chemetall GmbH Verfahren zur vorbehandlung und beschichtung von metallischen oberflächen vor der umformung mit einem lackähnlichen überzug und verwendung der derart beschichteten substrate
US6528555B1 (en) 2000-10-12 2003-03-04 3M Innovative Properties Company Adhesive for use in the oral environment having color-changing capabilities
US6737216B2 (en) * 2000-12-08 2004-05-18 E.I. Du Pont De Nemours And Company Laser engravable flexographic printing element and a method for forming a printing plate from the element
US6613812B2 (en) 2001-01-03 2003-09-02 3M Innovative Properties Company Dental material including fatty acid, dimer thereof, or trimer thereof
TW583299B (en) 2001-04-13 2004-04-11 Fuji Photo Film Co Ltd Liquid crystal composition, color filter and liquid crystal display device
JP4225898B2 (ja) * 2001-08-21 2009-02-18 チバ ホールディング インコーポレーテッド 深色モノ−及びビス−アシルホスフィンオキシド及びスルフィド並びに光開始剤としてのこれらの使用
US6780546B2 (en) * 2001-08-30 2004-08-24 Inphase Technologies, Inc. Blue-sensitized holographic media
EP1323784B1 (en) 2001-12-26 2005-02-16 Dainippon Ink And Chemicals, Inc. Resin composition for coating optical fiber and coated optical fiber and optical fiber unit using the same
AU2003209430B2 (en) * 2002-01-31 2008-09-11 3M Innovative Properties Company Dental pastes, dental articles, and methods
ZA200301683B (en) * 2002-03-04 2004-09-06 Ciba Sc Holding Ag Synergistic combinations of UV absorbers for pigmented polyolefins.
CN100473667C (zh) * 2002-04-03 2009-04-01 大日本油墨化学工业株式会社 光引发剂,新型化合物和光固化性组合物
MXPA04009790A (es) * 2002-04-19 2004-12-13 Ciba Sc Holding Ag Curado de recubrimientos inducido por plasma.
US20030221769A1 (en) * 2002-05-23 2003-12-04 Kutsch Wilhelm P. Transfer casting of holographic images
US7091259B2 (en) * 2002-07-03 2006-08-15 3M Innovative Properties Company Dental fillers, pastes, and compositions prepared therefrom
US20050288387A1 (en) * 2002-08-21 2005-12-29 Li Feng Acrylate dental compositions with improved viscosity and storage odor
US7025791B2 (en) * 2002-12-02 2006-04-11 Gi Dynamics, Inc. Bariatric sleeve
US6984261B2 (en) 2003-02-05 2006-01-10 3M Innovative Properties Company Use of ceramics in dental and orthodontic applications
CA2523569A1 (en) 2003-05-06 2004-11-18 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Photo-cured and stabilized coatings
EP1658245B1 (en) * 2003-08-29 2017-11-29 IGM Malta Limited Optical fiber coatings
US7032492B2 (en) * 2003-09-11 2006-04-25 Milton S. Meshirer Ammunition articles comprising light-curable moisture-preventative sealant and method of manufacturing same
NZ592917A (en) * 2003-09-15 2012-12-21 Protiva Biotherapeutics Inc Stable polyethyleneglycol (PEG) dialkyloxypropyl (DAA) lipid conjugates
US20050096427A1 (en) * 2003-10-31 2005-05-05 Basf Ag, Ultraviolet radiation curable clearcoat composition with low color and good durability
WO2005100408A1 (en) * 2004-04-15 2005-10-27 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Process for photocuring with light emitting diodes
US7553670B2 (en) 2004-04-28 2009-06-30 3M Innovative Properties Company Method for monitoring a polymerization in a three-dimensional sample
US8071260B1 (en) * 2004-06-15 2011-12-06 Inphase Technologies, Inc. Thermoplastic holographic media
KR20070083840A (ko) * 2004-10-29 2007-08-24 다이니혼 잉키 가가쿠 고교 가부시키가이샤 활성 에너지선 경화형 잉크젯 기록용 잉크
ATE538126T1 (de) * 2005-01-17 2012-01-15 Basf Se Verfahren zur herstellung von acylphosphan und deren oxide und sulfide
DE102005010327A1 (de) * 2005-03-03 2006-09-07 Basf Ag Ratikalisch härtbare Beschichtungsmassen
EP1749513B1 (de) * 2005-08-01 2009-03-04 Ivoclar Vivadent AG Photopolymerisierbare Dentalmaterialien mit Bisacylphosphinoxiden als Initiator
DE102006016642A1 (de) * 2006-04-08 2007-10-18 Bayer Materialscience Ag UV-härtende Schutzschicht für thermoplastische Substrate
JP2008037930A (ja) * 2006-08-02 2008-02-21 Toyo Ink Mfg Co Ltd 光硬化型インクジェットインキ
DE102006050153A1 (de) 2006-10-25 2008-05-08 Ivoclar Vivadent Ag Mikroverkapselte Photoinitiatoren und deren Verwendung für Dentalmaterialien
US8647426B2 (en) 2006-12-28 2014-02-11 3M Innovative Properties Company Dental filler and methods
EP1944173B1 (en) 2007-01-15 2010-04-21 FUJIFILM Corporation Ink composition and inkjet recording method using the same
JP5255369B2 (ja) 2007-09-25 2013-08-07 富士フイルム株式会社 光硬化性コーティング組成物、オーバープリント及びその製造方法
US8076393B2 (en) 2007-09-26 2011-12-13 Fujifilm Corporation Ink composition, inkjet recording method, and printed material
EP2053095B2 (en) 2007-09-28 2017-02-22 FUJIFILM Corporation Ink composition and inkjet recording method using the same
JP5148235B2 (ja) 2007-09-28 2013-02-20 富士フイルム株式会社 インク組成物
JP5236238B2 (ja) 2007-09-28 2013-07-17 富士フイルム株式会社 インクジェット記録用ホワイトインク組成物
US8697194B2 (en) * 2008-04-10 2014-04-15 Xerox Corporation Curable overcoat compositions
JP5414367B2 (ja) 2008-06-02 2014-02-12 富士フイルム株式会社 顔料分散物及びそれを用いたインク組成物
US8378002B2 (en) 2008-07-16 2013-02-19 Fujifilm Corporation Aqueous ink composition, aqueous ink composition for inkjet recording, and inkjet recording method
JP5623416B2 (ja) 2008-11-03 2014-11-12 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se 光開始剤混合物
JP5297163B2 (ja) * 2008-11-25 2013-09-25 パナソニック株式会社 Uv硬化性樹脂組成物およびこれを用いた接着方法
JP5344892B2 (ja) 2008-11-27 2013-11-20 富士フイルム株式会社 インクジェット用インク組成物、及びインクジェット記録方法
KR101506430B1 (ko) * 2008-12-18 2015-03-26 노파르티스 아게 실리콘 히드로겔 콘택트 렌즈의 제조 방법
TWI465440B (zh) * 2008-12-30 2014-12-21 Novartis Ag 三功能性uv吸收化合物及其用途
JP5350827B2 (ja) 2009-02-09 2013-11-27 富士フイルム株式会社 インク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP2010229284A (ja) 2009-03-27 2010-10-14 Fujifilm Corp 光硬化性組成物
JP5405174B2 (ja) 2009-03-30 2014-02-05 富士フイルム株式会社 インク組成物
DE102009016025B4 (de) 2009-04-02 2014-12-11 Voco Gmbh Kunststoffmodifizierter Glasionomerzement, seine Verwendung sowie Verfahren zu seiner Herstellung
WO2010121387A1 (en) 2009-04-20 2010-10-28 ETH Zürich Polymer nanoparticles
JP5424764B2 (ja) 2009-07-28 2014-02-26 富士フイルム株式会社 顔料分散物、インク組成物、及び、インクジェット記録方法
RU2555704C2 (ru) 2009-09-15 2015-07-10 Новартис Аг Преполимеры, применимые для изготовления поглощающих ультрафиолетовое излучение контактных линз
US8573390B2 (en) * 2010-03-09 2013-11-05 Xerox Corporation Material transport systems including a transport belt having resistance to laser radiation damage and methods of cutting substrates in material transport systems with laser radiation
DE102010003881A1 (de) 2010-04-12 2011-10-13 Voco Gmbh Dentale Abdeckmasse
DE102010003884A1 (de) 2010-04-12 2011-10-13 Voco Gmbh Dualhärtende, mehrkomponentige dentale Zusammensetzung
DE102010003883A1 (de) 2010-04-12 2011-10-13 Voco Gmbh Lichthärtbares Kompositmaterial
WO2012003106A1 (en) * 2010-06-30 2012-01-05 Dsm Ip Assets B.V. D1479 stable liquid bap photoinitiator and its use in radiation curable compositions
PT2598937T (pt) 2010-07-30 2016-10-04 Novartis Ag Pré-polímeros de polissiloxano anfifílicos e suas utilizações
JP5688939B2 (ja) * 2010-09-16 2015-03-25 クラレノリタケデンタル株式会社 ビスアシルホスフィンオキサイド化合物及びそれを含む重合性組成物
EP2436365B1 (de) 2010-09-30 2017-03-08 VOCO GmbH Kompositmaterial umfassend ein Monomer mit einem polyalicyclischen Strukturelement
US8697769B2 (en) 2010-09-30 2014-04-15 Voco Gmbh Lacquer composition comprising a monomer with a polyalicyclic structure element
US8669302B2 (en) 2010-09-30 2014-03-11 Voco Gmbh Composite material comprising a monomer with a polyalicyclic structure element as a sealing material
EP2436668B1 (de) 2010-09-30 2012-09-12 VOCO GmbH Polymerisierbare Verbindungen umfassend ein polyalicyclisches Strukturelement
US8915736B2 (en) 2010-09-30 2014-12-23 Voco Gmbh Composition comprising a monomer with a polyalicyclic structure element for filling and/or sealing a root canal
US8835525B2 (en) 2010-10-06 2014-09-16 Novartis Ag Chain-extended polysiloxane crosslinkers with dangling hydrophilic polymer chains
NZ606787A (en) 2010-10-06 2014-11-28 Novartis Ag Water-processable silicone-containing prepolymers and uses thereof
US8993651B2 (en) 2010-10-06 2015-03-31 Novartis Ag Polymerizable chain-extended polysiloxanes with pendant hydrophilic groups
EP2450025B1 (de) 2010-11-08 2012-11-28 VOCO GmbH Polymerisierbare Phosphorsäurederivate umfassend ein polyalicyclisches Strukturelement
JP2012113228A (ja) 2010-11-26 2012-06-14 Sony Corp 表示装置およびその製造方法
US8899745B2 (en) 2010-12-13 2014-12-02 Novartis Ag Ophthalmic lenses modified with functional groups and methods of making thereof
CN102079707B (zh) * 2011-01-25 2013-10-30 深圳市有为化学技术有限公司 均三甲苯基芳香酮化合物、其制备方法以及光引发剂
DE102011003289A1 (de) 2011-01-27 2012-08-02 Voco Gmbh Dentale provisorische Suprakonstruktionen sowie Materialien zu ihrer Herstellung und entsprechende Verfahren
US20120208914A1 (en) 2011-02-14 2012-08-16 Deepak Shukla Photoinitiator compositions and uses
US8816211B2 (en) 2011-02-14 2014-08-26 Eastman Kodak Company Articles with photocurable and photocured compositions
US20120207935A1 (en) 2011-02-14 2012-08-16 Deepak Shukla Photocurable inks and methods of use
JP5750069B2 (ja) 2011-03-24 2015-07-15 富士フイルム株式会社 液晶配向促進剤、液晶組成物、高分子材料およびフィルム
JP5774518B2 (ja) 2011-07-27 2015-09-09 富士フイルム株式会社 化合物、ヘイズ低下剤、液晶組成物、高分子材料およびフィルム
WO2013034778A2 (de) * 2011-09-08 2013-03-14 Ivoclar Vivadent Ag Dentalmaterialien auf basis von verbindungen mit debonding-on-demand eigenschaften
DE102012001979A1 (de) 2012-02-02 2013-08-08 Voco Gmbh Härtbares Gemisch umfassend Weichmacher mit einem polyalicyclischen Strukturelement zur Anwendung bei der Herstellung dentaler Werkstoffe
DE102012001978A1 (de) 2012-02-02 2013-08-08 Voco Gmbh Dentale Kompositmaterialien enthaltend tricyclische Weichmacher
JP5827161B2 (ja) 2012-03-28 2015-12-02 富士フイルム株式会社 コレステリック液晶性混合物、フィルム、赤外反射板、積層体および合わせガラス
US9801803B2 (en) 2012-06-04 2017-10-31 L'oreal Fast curing cosmetic compositions for tack free surface photocuring of radically polymerizable resins with UV-LED
DE102012212429A1 (de) 2012-07-16 2014-01-16 Voco Gmbh Dentalhandgerät, Verfahren und Verwendung desselben zum Aushärten lichthärtbaren Materials
DE102012214540A1 (de) 2012-08-15 2014-02-20 Helmholtz-Zentrum für Infektionsforschung GmbH Zahnfüllungsmaterialien und Zahnlacke zur Hemmung der Biofilmbildung von Streptococcus mutans und deren Herstellung
WO2014051026A1 (ja) * 2012-09-27 2014-04-03 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、ビスアシルホスフィンオキシド化合物、及び、モノアシルホスフィンオキシド化合物
DE102013008176A1 (de) 2012-10-05 2014-04-10 Voco Gmbh Kit und Verfahren zur indirekten chairside Herstellung von Kompositinlays
CN103333202B (zh) * 2013-06-08 2016-09-07 广东博兴新材料科技有限公司 一种基于环氧化合物的含磷酸酯基的长波吸收光引发剂及其制备方法
ES2720726T3 (es) * 2013-07-08 2019-07-24 Igm Group B V Fotoiniciador líquido de óxido de bisacilfosfina
JP6169545B2 (ja) 2014-09-09 2017-07-26 富士フイルム株式会社 重合性組成物、インクジェット記録用インク組成物、インクジェット記録方法、及び記録物
JP6086888B2 (ja) 2014-09-26 2017-03-01 富士フイルム株式会社 インクジェット記録用インク組成物、インクジェット記録方法、及び記録物
JP6169548B2 (ja) 2014-09-26 2017-07-26 富士フイルム株式会社 重合性組成物、インクジェット記録用インク組成物、インクジェット記録方法、及び記録物
US9636293B2 (en) 2014-10-13 2017-05-02 L'oréal Latex nail compositions having low amounts of photo-initiator
US9649272B2 (en) 2014-10-13 2017-05-16 L'oréal Latex nail compositions having low amounts of photo-initiator
US9820931B2 (en) 2014-10-13 2017-11-21 L'oreal Latex nail compositions having low amounts of photo-initiator
DE102014116389A1 (de) 2014-11-11 2016-05-12 Voco Gmbh Radikalisch härtbare dentale Zusammensetzungen
DE102014116402A1 (de) 2014-11-11 2016-05-12 Voco Gmbh Verwendung radikalisch härtbarer Zusammensetzungen in generativen Fertigungsverfahren
CN104558031B (zh) * 2014-12-09 2016-08-03 天津久联科技有限公司 一种苯基双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)氧化膦的制备方法
CN104592298B (zh) * 2014-12-31 2016-07-06 湖北固润科技股份有限公司 一种酰基膦高效光引发剂及其制备方法
EP3294780A4 (en) 2015-06-08 2018-11-21 DSM IP Assets B.V. Liquid, hybrid uv/vis radiation curable resin compositions for additive fabrication
EP3341793B1 (en) 2015-10-01 2021-05-26 DSM IP Assets B.V. Liquid, hybrid uv/vis radiation curable resin compositions for additive fabrication
KR102332048B1 (ko) 2016-10-17 2021-11-29 오소본드 코포레이션 올리고머성 또는 폴리머성 항미생물제를 갖는 표면
WO2018084076A1 (ja) 2016-11-04 2018-05-11 富士フイルム株式会社 ウインドシールドガラス、ヘッドアップディスプレイシステム、およびハーフミラーフィルム
JP6867416B2 (ja) 2017-02-09 2021-04-28 富士フイルム株式会社 ハーフミラー、ハーフミラーの製造方法、および画像表示機能付きミラー
DE102017103084A1 (de) 2017-02-15 2018-08-16 Voco Gmbh Dentaler Kompositblock zur Herstellung permanenter indirekter Restaurationen im CAD/CAM Verfahren
DE102017105841A1 (de) 2017-03-17 2018-09-20 Voco Gmbh Fräsrohling zur Herstellung einer indirekten dentalen Restauration, entsprechende Verwendungen und Verfahren
BR112019025345B1 (pt) 2017-06-02 2022-09-27 Covestro (Netherlands) B.V. Fibra óptica revestida, composição curável por radiação para revestir uma fibra óptica, método para produzir uma fibra óptica revestida e cabo de fibra óptica
JP7161997B2 (ja) 2017-09-07 2022-10-27 富士フイルム株式会社 投映像表示用ハーフミラーフィルム、投映像表示用の合わせガラス、および、画像表示システム
WO2019090218A1 (en) 2017-11-03 2019-05-09 Dsm Ip Assets, B.V. Water-blocking systems including fibers coated with liquid radiation curable sap compositions
DE102018103415A1 (de) 2018-02-15 2019-08-22 Voco Gmbh Dentale Formkörper mit kontinuierlichem Farbverlauf
JP6934101B2 (ja) 2018-02-23 2021-09-08 富士フイルム株式会社 画像表示用合わせガラスの製造方法、画像表示用合わせガラス、および、画像表示システム
JP7218385B2 (ja) 2018-06-01 2023-02-06 コベストロ (ネザーランズ) ビー.ヴィー. 交互オリゴマーを介して光ファイバーをコーティングするための放射線硬化性組成物とそれから生成されたコーティング
DE102018114690A1 (de) 2018-06-19 2019-12-19 Voco Gmbh Thermowirksame dentale Kompositzusammensetzung
CN112512988B (zh) 2018-08-30 2023-01-13 科思创(荷兰)有限公司 用于涂布光纤的可辐射固化组合物
EP3869245A4 (en) 2018-10-17 2021-12-15 FUJIFILM Corporation PROJECTION IMAGE DISPLAY ELEMENT, WINDSHIELD GLASS AND HEADUP DISPLAY SYSTEM
EP3867207A1 (en) 2018-12-03 2021-08-25 Ms Holding B.V. Filled radiation curable compositions for coating optical fiber and the coatings produced therefrom
WO2020122023A1 (ja) 2018-12-10 2020-06-18 富士フイルム株式会社 投映像表示用部材、ウインドシールドガラスおよびヘッドアップディスプレイシステム
JP7133703B2 (ja) 2019-03-06 2022-09-08 富士フイルム株式会社 投映像表示用積層フィルム、投映像表示用の合わせガラス、および、画像表示システム
CN113574094B (zh) 2019-03-18 2023-07-21 巴斯夫欧洲公司 用于耐沾污性的uv可固化组合物
US10894858B2 (en) 2019-05-24 2021-01-19 Dsm Ip Assets B.V. Radiation curable compositions for coating optical fiber with enhanced high-speed processability
JP2022533793A (ja) 2019-05-24 2022-07-25 コベストロ (ネザーランズ) ビー.ヴィー. 強化された高速加工性を備えた光ファイバーをコーティングするための放射線硬化性組成物
EP4003927A1 (en) 2019-07-31 2022-06-01 Covestro (Netherlands) B.V. Radiation curable compositions with multi-functional long-armed oligomers for coating optical fibers
DE102019122174A1 (de) 2019-08-19 2021-02-25 Voco Gmbh Dentale polymerisierbare Zusammensetzung auf der Basis kondensierter Silane
JP2022546933A (ja) 2019-08-30 2022-11-10 コベストロ (ネザーランズ) ビー.ブイ. 付加造形のための液状ハイブリッドuv/vis放射線硬化性樹脂組成物
CN114467048A (zh) 2019-09-27 2022-05-10 富士胶片株式会社 平视显示器用投影仪
WO2021131792A1 (ja) 2019-12-26 2021-07-01 富士フイルム株式会社 光吸収異方性層、積層体、光学フィルム、画像表示装置、バックライトモジュール
EP4130812A4 (en) 2020-03-30 2023-11-22 FUJIFILM Corporation REFLECTIVE FILM, WINDSHIELD GLASS AND HEAD-UP DISPLAY SYSTEM
CN115427853A (zh) 2020-04-03 2022-12-02 科思创(荷兰)有限公司 自我修复光纤和用于制造其的组合物
CN115397879A (zh) 2020-04-03 2022-11-25 科思创(荷兰)有限公司 合成多氢键合低聚物的方法
WO2021202638A1 (en) 2020-04-03 2021-10-07 Dsm Ip Assets B.V. Multi-layered optical devices
WO2021246402A1 (ja) 2020-06-03 2021-12-09 富士フイルム株式会社 反射フィルム、合わせガラスの製造方法、および、合わせガラス
EP4261575A1 (en) 2020-12-09 2023-10-18 FUJIFILM Corporation Reflection film, windshield glass, and head-up display system
CN116888221A (zh) 2021-02-22 2023-10-13 科思创(荷兰)有限公司 提供低光泽涂层的方法
CN117897645A (zh) 2021-09-30 2024-04-16 富士胶片株式会社 平视显示系统及运输机
WO2023072891A1 (en) 2021-10-29 2023-05-04 Covestro (Netherlands) B.V. Radical-curable composition
CN113929795B (zh) * 2021-11-16 2023-03-28 上海墨之炫科技有限公司 一种酰基氧化膦类光引发剂
WO2023205221A2 (en) 2022-04-21 2023-10-26 Covestro (Netherlands) B.V. Low-volatility radiation curable compositions for coating optical fibers
WO2023227680A1 (en) 2022-05-25 2023-11-30 Covestro (Netherlands) B.V. Process for providing low gloss coatings
WO2024042082A1 (en) 2022-08-24 2024-02-29 Covestro (Netherlands) B.V. Process for providing low gloss coatings

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0046175A1 (en) * 1980-08-19 1982-02-24 Ames Rubber Corporation Elastomeric-coated roll and method and apparatus for making the same
DE3443221A1 (de) * 1984-11-27 1986-06-05 ESPE Fabrik pharmazeutischer Präparate GmbH, 8031 Seefeld Bisacylphosphinoxide, ihre herstellung und verwendung
DE3501657A1 (de) * 1985-01-19 1986-07-24 Reich Spezialmaschinen GmbH, 7440 Nürtingen Vorrichtung zum vorritzen von werkstuecken
DE3633436A1 (de) * 1986-10-01 1988-04-14 Basf Ag Photopolymerisierbare aufzeichnungsmasse, insbesondere zur herstellung von druckplatten und reliefformen
GB8715435D0 (en) * 1987-07-01 1987-08-05 Ciba Geigy Ag Forming images
DE3801511C2 (de) * 1988-01-20 1996-11-14 Espe Stiftung Verwendung von Photoinitiatoren zur Herstellung von in zwei Schritten härtbaren Dentalmassen
DE3837569A1 (de) * 1988-11-04 1990-05-10 Espe Stiftung Mit sichtbarem licht aushaertbare dentalmassen
US4962144B1 (en) * 1988-12-30 1998-03-24 Gen Electric Composition
US5218009A (en) * 1989-08-04 1993-06-08 Ciba-Geigy Corporation Mono- and di-acylphosphine oxides
EP0446175A3 (en) * 1990-03-09 1991-11-21 Ciba-Geigy Ag Mixture of photoinitiators
RU2091385C1 (ru) * 1991-09-23 1997-09-27 Циба-Гейги АГ Бисацилфосфиноксиды, состав и способ нанесения покрытий
NL9200052A (nl) * 1992-01-14 1993-08-02 Gen Electric Polymeermengsels en daaruit gevormde plaatvormige of filmvormige produkten.
ZA941879B (en) * 1993-03-18 1994-09-19 Ciba Geigy Curing compositions containing bisacylphosphine oxide photoinitiators
JP3452145B2 (ja) * 1993-08-23 2003-09-29 大日本インキ化学工業株式会社 粘弾性製品用光重合性組成物及び該組成物を用いた粘弾性製品の製造方法
TW381106B (en) * 1994-09-02 2000-02-01 Ciba Sc Holding Ag Alkoxyphenyl-substituted bisacylphosphine oxides
JP3785687B2 (ja) * 1995-10-05 2006-06-14 昭和電工株式会社 光硬化性組成物及びその硬化方法
DE69710657T3 (de) * 1996-08-23 2007-07-05 Showa Denko K.K. Photohärtbare Zusammensetzung und Härtungsverfahren

Also Published As

Publication number Publication date
ES2132018A1 (es) 1999-08-01
CN1092201C (zh) 2002-10-09
BR9701154A (pt) 1998-12-15
GB2310855A (en) 1997-09-10
SG55281A1 (en) 1998-12-21
US6020528A (en) 2000-02-01
JPH1029997A (ja) 1998-02-03
ZA971810B (en) 1997-09-16
ATA36297A (de) 1998-06-15
GB2310855B (en) 1999-10-27
DE19758946B4 (de) 2011-12-08
FR2745575B1 (fr) 1999-11-19
DE19708294A1 (de) 1997-09-11
TW408136B (en) 2000-10-11
AT404729B (de) 1999-02-25
CA2198803A1 (en) 1997-09-04
SE9700616D0 (sv) 1997-02-21
NL1005424A1 (nl) 1997-09-05
JP4168352B2 (ja) 2008-10-22
NL1005424C2 (nl) 1999-03-22
MX9701638A (es) 1997-09-30
CA2198803C (en) 2006-11-07
SE9700616L (sv) 1997-11-04
FR2745575A1 (fr) 1997-09-05
IT1290006B1 (it) 1998-10-19
BE1011437A5 (fr) 1999-09-07
CH691970A5 (de) 2001-12-14
NO970962D0 (no) 1997-03-03
DE19708294B4 (de) 2011-03-24
NO309571B1 (no) 2001-02-19
ITMI970460A1 (it) 1998-09-03
RU2180667C2 (ru) 2002-03-20
US6284813B1 (en) 2001-09-04
KR970065546A (ko) 1997-10-13
ES2132018B1 (es) 2000-04-01
GB9703896D0 (en) 1997-04-16
DK176096B1 (da) 2006-05-29
NO970962L (no) 1997-09-05
DK21797A (da) 1997-09-05
KR100474236B1 (ko) 2005-07-21
CN1160718A (zh) 1997-10-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
SE520727C2 (sv) Alkylfenylbisacylfosfinoxid och fotoinitiatorblandningar
JP4200392B2 (ja) 光開始剤としての分子錯化合物
US6486228B2 (en) Mono-and Bis-acylphosphine oxide photoinitiator combinations
US6057380A (en) Photogeneration of amines from α-aminoacetophenones
AU700479B2 (en) Alkoxyphenyl-substituted bisacylphosphine oxides
AU717137B2 (en) Borate coinitiators for photopolymerization
US6361925B1 (en) Photoinitiator mixtures and compositions with alkylphenylbisacylphosphine oxides
US5723512A (en) Dimeric bisacylphosphines, oxides and sulfides
EP0898202B1 (en) Photogeneration of amines from alpha-aminoacetophenones
US5721292A (en) Acylphosphine oxides
MXPA97006542A (en) Compounds of molecular complex as photoinicided
MXPA97001638A (en) Oxides of alkylphenilbisacilphosphine and mixtures defotoinicia

Legal Events

Date Code Title Description
NUG Patent has lapsed