JP4168352B2 - アルキルフェニルビスアシルホスフィンオキサイドおよび光開始剤混合物 - Google Patents
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Description
【0001】
本発明はアルキルフェニルビスアシルホスフィンオキサイド及び他の光開始剤とのビスアシルホスフィンオキサイド化合物との混合物に関する。
【従来の技術】
【0002】
ビスアシルホスフィンオキサイド化合物は例えば、EP−A−18409から光開始剤として知られている。アルキルビスアシルホスフィンオキサイド及びαヒドロキシケトンもしくはベンゾフェノン化合物との混合物はGB−A−2259704にも開示されている。EP−A−446175は3つの成分の混合物,すなわち、モノ−もしくはビス−アシルホスフィンオキサイド,α−ヒドロキシケトンおよびベンゾフェノンを開示している。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
産業的には,光重合性組成物を極端に黄変する現象なく効率的に硬化させる効果的な光開始剤と光開始剤混合物が必要である。
【0004】
【課題を解決するための手段】
下記式I
【化15】
(式中,R1 は炭素原子数1ないし4のアルキル基を表し,
R2 は水素原子,炭素原子数1ないし4のアルキル基もしくは炭素原子数1ないし4のアルコキシ基を表し,そして
R3 ,R4 ,R5 ,R6 およびR7 は互いに独立して水素原子,ハロゲン原子,炭素原子数1ないし20のアルキル基,シクロペンチル基,シクロヘキシル基,炭素原子数2ないし12のアルケニル基,1又はそれ以上の酸素原子によって中断されている炭素原子数2ないし18のアルキル基,フェニル基で置換された炭素原子数1ないし4のアルキル基,又は未置換か或いは炭素原子数1ないし4のアルキル基および/または炭素原子数1ないし4のアルコキシ基によってモノ−或いはジ−置換されているフェニル基を表し,但しR3 ,R4 ,R5 ,R6 およびR7 の少なくとも一つは水素原子以外を表し,そしてR1 とR2 の両方がメチル基を表す場合,R3 とR6 とはメチル基ではない。)で表される化合物が良好な光開始剤として適当であることが今や見いだされた。
【0005】
また式Iaの光開始剤は,式II,III および/またはIVの化合物と組合せて、良好な硬化特性,取り分け,重合性組成物に必要な硬化表面と全体硬化(through-curing)についての良好な特性を有している、開始剤用混合物(ブレンド)が得られることをまた見いだした。さらに、硬化した組成物は黄変の環境下で非常に有利な特性を発揮する。
【0006】
従って、本発明は、少なくとも1つの下記式(Ia)
【化16】
(式中,
R1 が炭素原子数1ないし4のアルキル基を表し;
R2 は水素原子,炭素原子数1ないし4のアルキル基又は炭素原子数1ないし4のアルコキシ基を表し,そして
R3 ,R4 ,R5 ,R6 およびR7 は互いに独立して水素原子,ハロゲン原子,炭素原子数1ないし20のアルキル基,シクロペンチル基,シクロヘキシル基,炭素原子数2ないし12のアルケニル基,1ないしそれ以上の酸素原子によって中断された炭素原子数2ないし18のアルキル基,或いはフェニルで置換された炭素原子数1ないし4のアルキル基,又は未置換か或いは炭素原子数1ないし4のアルキル基および/または炭素原子数1ないし4のアルコキシ基によってモノ−或いはジ−置換されているフェニル基を表す。)で表される化合物;
および少なくとも1つの下記式II
【化17】
〔式中,R8 が水素原子,炭素原子数1ないし18のアルキル基,炭素原子数1ないし18のアルコキシ基,−OCH2 CH2 ─OR12,
【化18】
の基または
【化19】
(式中,Iは2から10の数を表し,そしてAは
【化20】
の基を表す。)の基を表し,
R9 とR10は互いに独立して水素原子,炭素原子数1ないし6のアルキル基,フェニル基,炭素原子数1ないし16のアルコキシ基,OSiR13R14R14a ,若しくは−O(CH2 CH2 O)q −炭素原子数1ないし16のアルキル基(式中,qは1から20の数を表す。)を表すか,或いは
R9 とR10はそれらが結合する炭素原子と一緒になってシクロヘキシル環を形成し;
R11はヒドロキシル基,炭素原子数1ないし16のアルコキシ基,−O(CH2 CH2 O)q −炭素原子数ないし16のアルキル基を表し;
その場合,R9 ,R10,およびR11は全てが同時に炭素原子数1ないし16のアルコキシ基または−O(CH2 CH2 O)q −炭素原子数1ないし16のアルキル基とは成りえず;
R12は水素原子,炭素原子数1ないし8のアルキル基,
【化21】
【化22】
または
【化23】
を表し,そして
R13,R14a およびR14は互いに独立して炭素原子数1ないし4のアルキル又はフェニル基を表す。〕で表される化合物;及び/又は
少なくとも1つの式III
【化24】
〔式中,R15,R15a ,R16及びR17は互いに独立して水素原子,メチル基,フェニル基,メトキシ基,−COOH,未置換又は炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニル基,又は基−OCH2 CH2 OR12もしくは−SCH2 CH2 OR12(式中,R12は前記式IIで定義したのと同じ基を表す。)を表す。〕で表される化合物;及び/又は
少なくとも1つの式(IV)
【化25】
〔式中,R18は水素原子,炭素原子数1ないし4のアルキル基,炭素原子数1ないし4のアルコキシ基,炭素原子数1ないし4のアルキルチオ基,ハロゲン原子又は基N(R22)2 を表し;
R19はR18の定義と同様であるか又は,基IVa
【化26】
(式中,
式IVからの基R18とこの基IVaの基R18とは一緒になって直接結合を表し,そしてその他の基は下記の定義と同様である。)を表し;
R20は,炭素原子数1ないし8のアルキル基を表し;
R21は,水素原子,−CH=CHR24,若しくは未置換のフェニル基又は炭素原子数1ないし12のアルキル基,炭素原子数1ないし4のアルコキシ基若しくはハロゲン原子によって1ないし3回置換されたフェニル基を表し;或いは
R20とR21はそれらが結合する炭素原子と一緒になってシクロヘキシル環を形成し;
R22とR23は,互いに独立して炭素原子数1ないし4のアルキル基を表すか,またはR22とR23は,それらが結合する窒素原子と一緒になって,−O−,−NH−或いは−N(CH3 )−によって中断され得る5−または6−員の飽和もしくは不飽和環を形成し;
R24は,水素原子或いは炭素原子数1ないし4のアルキル基を表し;そして
R25が水素原子又は炭素原子数1ないし12のアルキル基を表す。〕で表される化合物から成る光開始剤混合物を提供する。
【0007】
炭素原子数1ないし20のアルキル基は線状または枝分かれ鎖であり、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、第二ブチル基、第三ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基およびエイコシル基である。好ましいものは炭素原子数1ないし18のアルキル基、例えば炭素原子数1ないし12のまたは炭素原子数1ないし8のアルキル基、特に炭素原子数1ないし4のアルキル基である。炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数1ないし6のアルキル基および炭素原子数1ないし4のアルキル基は相当する炭素原子数までの上記に示されたものと同じ意味をもつことができる。
【0008】
1またはそれ以上の酸素原子によって中断された炭素原子数2ないし18のアルキル基は−O−により例えば,1−5回,例えば1−3回,または1もしくは2回中断されている。これは−O(CH2 )2 OH、−O(CH2 )2 OCH3 ,−O(CH2 CH2 O)2 CH2 CH3 ,−CH2 −O−CH3 ,−CH2 CH2 −O−CH2 CH3 、−[CH2 CH2 O]y −CH3 (式中、y=1−5),−(CH2 CH2 O)5 CH2 CH3 ,−CH2 CH(CH3 )−O−CH2 −CH2 CH3 または−CH2 −CH(CH3 )−O−CH2 −CH3 のような構造単位を生成する。
【0009】
基−O(CH2 CH2 O)q −炭素原子数1ないし16のアルキル基はその鎖端が炭素原子数1ないし16のアルキル基である1ないし20個の連続的なエチレンオキシド単位を表す。qは好ましくは1ないし10,例えば1ないし8,特に1ないし6である。エチレンオキシド単位の鎖は炭素原子数1ないし12のアルキル基、例えば炭素原子数1ないし8のアルキル基、特に炭素原子数1ないし4のアルキル基で終わる。ここでは、炭素原子数1ないし16のアルキル基は相当する炭素原子の数までの上記に与えられた意味をもつことができる。
【0010】
炭素原子数2ないし12のアルケニル基は線状または枝分かれしていてよく、分子中に1以上の不飽和結合をもっていてよい。具体例は、ビニル基、アリル基、メチルビニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、ノネニル基、デセニル基、ドデセニル基である。
【0011】
炭素原子数1ないし18のアルコキシ基は線状または枝分かれしていても良く、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、第二ブトキシ基、第三ブトキシ基、ペントキシ基、イソペントキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ドデシルオキシ基またはオクタデシルオキシ基である。別の具体例は炭素原子数1ないし12のアルコキシ基または炭素原子数1ないし8のアルコキシ基、特に炭素原子数1ないし4のアルコキシ基である。
【0012】
炭素原子数1ないし4のアルキルチオ基は線状または枝分かれしていても良く、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ブチルチオ基または第三ブチルチオ基、特にメチルチオ基である。
【0013】
フェニル基で置換された炭素原子数1ないし4のアルキル基は例えば、ベンジル基、2−フェニルエチル基,3−フェニルプロピル基,α−メチルベンジル基またはα,α−ジメチルベンジル基であり、特にベンジル基である。
【0014】
置換フェニル基はフェニル環上で1ないし5回,例えば1,2もしくは3回,特には1または2回置換されている。フェニル環上で置換のパターンは、例えば2−、3−、4−、5−、2,4−、2,5−、2,6−、3,4−、3,5−、2,4,6−または3,4,5−である。炭素原子数1ないし4のアルキル基および炭素原子数1ないし4のアルコキシ基置換基は上記に示された意味をもつことができる。置換フェニルの例はトリル基、キシリル基、4−メトキシフェニル基、2,4−および2,5−ジメトキシフェニル基、エチルフェニル基および4−アルコキシ−2−メチルフェニル基である。
【0015】
ハロゲン原子は、例えば塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子であり、特に塩素原子である。
【0016】
R19が基:
【化27】
(式IVからの基R18および上記基のR18基は一緒になって直接結合を表す。)である場合、結果として式IVb
【化28】
で表される構造となる。
R22およびR23が、それらが結合する窒素原子と一緒になって、−O−、−NH−もしくは−N(CH3 )−によってさらに中断されることができる環を形成し、それから形成された環は例えばモルホリノ,ピペリジノもしくはメチルピペリジノ環によって中断することができる。
【0017】
式I(および式Ia)の新規化合物は,例えば以下の反応式に従って、少なくとも2当量の塩基の存在下で少なくとも2当量の酸クロライド(IV)との第1級ホスフィン(V)を2回アシル化すること,および次いで得られたジアシルホスフィン(VIII) を酸化することによって製造できる。
【化29】
(式中、R1 ,R2 ,R3 ,R4 ,R5 ,R6 およびR7 は請求項8で定義された意味を表す。)
【0018】
適当な塩基の例は第三級アミン,ピリジン,アルカリ金属,特にリチウムジイソプロピルアミド,ブチルリチウム,アルカリ土類金属炭酸塩,アルカリ金属アルコラートおよびアルカリ金属水素化物である。反応第一段階は好ましくは溶液中で行われる。特に好ましい溶媒は炭化水素,例えばアルカンおよびアルカン混合物,シクロヘキサン,ベンゼン,トルエンおよびキシレンである。反応は使用する溶媒および出発物質に依存して,多様な温度で行われる。リチウムジイソプロピルアミドまたはブチルリチウムのような塩基を使用する場合,例えば−40ないし0℃で操作するのが好ましい。
【0019】
塩基として第三級アミン,アルカリ金属もしくはアルカリ金属水素化物を使用する反応は、例えば10℃から120℃で実施するのが有利であり、好ましくは20℃から80℃である。形成された塩基クロライドが分離されてから、ホスフィン(VII)は濃縮蒸発させることによって、分離することができる。反応粗生成物は精製することなくさらに使用できるか、またはそうでなければ例えば結晶化によって精製できる。しかし、反応第二段階はまた反応粗生成物の溶液を使用して、(VII) を単離することなく行なうことができる。
酸化物の製造の第二段階のための特に適当な酸化剤は、過酸化水素および有機パーオキシ化合物であり、例えば過酢酸、空気および純粋な酸素である。
反応生成物は例えば結晶化またはクロマトグラフィーによる慣用の方法によって精製できる。
【0020】
式Vのホスフィン類は、例えば相当するジクロライド(VIII),ホスホン酸エステル(phosphnic esters)(IX) または亜ホスホン酸エステル(phosphonous esters)(X)を還元することによって製造することができる。
【化30】
(式中、R’は例えばメチル基またはエチル基である。)
還元は通常,LiAlH4 ;SiHCl3 ;Ph2 SiH2 ;a)LiH,b)H2 O;a)Li/テトラヒドロフラン,b)H2 Oまたはa)Na/トルエン,b)H2 Oにより行われる。
LiAlH4 ,例えばHelv.Chem.Acta 1966,No.96,842頁にも見いだすことができる。
【0021】
式VIIIで表されるジクロロホスフィン化合物は、例えば相当する芳香族化合物を三塩化燐および塩化アルミニウムと反応させることによって得ることができる。
【化31】
【0022】
このジクロライド(VIII)は、例えばPCl3 との相当する臭素化芳香族化合物(XI) のグリニャール反応によって得ることができる(例えば,Helv.Chem.Acta.1952,No 35,1412頁参照):
【化32】
(式中、R1 ,R2 ,R3 ,R4 .R5 ,R6 およびR7 は請求項8に記載の定義と同じ意味を表す。)
【0023】
式(IX) のジエステルは、例えば前記臭素化芳香族化合物(XI) とトリスリン酸エステル(trisphosphorus ester)(XII) とを反応させることによって得られる。この種類の反応は、例えばDE−C−1810431に記載される。
【化33】
【0024】
亜ホスホン酸エステル(X)は、例えば、二塩化燐とアルコールを反応させることによって得られる。
【化34】
【0025】
臭素化芳香族化合物(XI) は従来技術の臭素化反応によって、アルコキシル化芳香族化合物をN−ブロモスクシンイミドまたはブロミン酢酸と反応させることによって得られる。
【0026】
式(IV)の酸クロリドは従来技術からの一般的な公知の方法によって製造される。
【0027】
式IIおよび式III で表される化合物の製造は、一般に公知であり、この化合物の幾つかは市販されている。式IIのオリゴマー化合物の製造は例えば、EP−A−161463に記載されている。式III で表される化合物の製造の記載は例えばEP−A−3002またはEP−A−264561に記載されている。さらに、式IVの化合物の幾つかは市販されている。
【0028】
新規な化合物の例は以下のものである:
ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−2,5−ジイソプロピルフェニルホスフィンオキサイド;
ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−2−メチルフェニルホスフィンオキサイド;
ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−4−メチルフェニルホスフィンオキサイド;
ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−2,5−ジエチルフェニルホスフィンオキサイド;
ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−2,3,5,6−テトラメチルフェニルホスフィンオキサイド。
【0029】
新規な光開始剤混合物は例えば、個々の成分を混合、粉砕、溶融または溶解することによって製造でき、それぞれの組合せの相手に対する溶媒としての液体成分を使用することも可能である。しかし不活性溶媒中で成分を混合することも可能である。
【0030】
光開始剤混合物は例えば、式Iaの化合物の2−90%、例えば5−50%、5−40%、特に5−25%、ならびに式II,III および/またはIVの化合物の98−50%、例えば95−60%、特に95−75%を含む。II,III および/またはIVの化合物との混合物における式Iaの化合物の割合で重要な他の混合物は、30ないし70%である。
【0031】
式IIおよびIII の化合物の好ましい例は、1−ベンゾイルシクロヘキサノール、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オンおよび1−ベンゾイル−1−ヒドロキシ−1−メチルエタンである。
【0032】
新規な光開始剤混合物(ブレンド)の例は以下のものである:
ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイド5%および1−ベンゾイル−1−ヒドロキシ−1−メチルエタン95%;
ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイド5%および1−ベンゾイルシクヘキサノール95%;
ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイド25%および1−ベンゾイルシクヘキサノール75%;
ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイド25%および1−ベンゾイル−1−ヒドロキシ−1−メチルエタン75%;
ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイド25%および2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン75%;
ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイド5%および2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン95%;
ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイド25%および4−(2−ヒドロキシエトキシ)ベンゾイル−1−ヒドロキシ−1−メチルエタン75%;
ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイド5%および4−(2−ヒドロキシエトキシ)ベンゾイル−1−ヒドロキシ−1−メチルエタン95%;
ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−2,5−ジイソプロピルフェニルホスフィンオキサイド5%および1−ベンゾイルシクロヘキサノール95%;
ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−2,5−ジイソプロピルフェニルホスフィンオキサイド5%および1−ベンゾイル−1−ヒドロキシ−1−メチルエタン95%;
ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−2,5−ジイソプロピルフェニルホスフィンオキサイド25%および1−ベンゾイルシクロヘキサノール75%;
ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−2,5−ジイソプロピルフェニルホスフィンオキサイド25%および1−ベンゾイル−ヒドロキシ−1−メチルエタン75%;
ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−4−第三ブチル−2,6−ジメチルフェニルホスフィンオキサイド5%および1−ベンゾイルシクロヘキサノール95%;
ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−4−第三ブチル−2,6−ジメチルフェニルホスフィンオキサイド5%および1−ベンゾイル−ヒドロキシ−1−メチルエタン95%;
ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−4−第三ブチル−2,6−ジメチルフェニルホスフィンオキサイド25%および1−ベンゾイルシクロヘキサノール75%;
ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−4−第三ブチル−2,6−ジメチルフェニルホスフィンオキサイド25%および1−ベンゾイル−ヒドロキシ−1−メチルエタン75%;
ビス(2,6−ジメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイド5%および1−ベンゾイル−ヒドロキシ−1−メチルエタン95%;
ビス(2,6−ジメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイド5%および1−ベンゾイルシクロヘキサノール95%;
ビス(2,6−ジメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイド25%および1−ベンゾイル−ヒドロキシ−1−メチルエタン75%;
ビス(2,6−ジメチルベンゾイル)−2,5−フェニルホスフィンオキサイド25%および1−ベンゾイルシクロヘキサノール75%;
ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−2,5−フェニルホスフィンオキサイド5%および1−ベンゾイルシクロヘキサノール95%;
ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−2,5−フェニルホスフィンオキサイド5%および1−ベンゾイル−1−ヒドロキシ−1−メチルエタン95%;
ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−2,5−フェニルホスフィンオキサイド25%および1−ベンゾイルシクロヘキサノール75%;
ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−2,5−フェニルホスフィンオキサイド25%および1−ベンゾイル−1−ヒドロキシ−1−メチルエタン75%;
ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−2,5−フェニルホスフィンオキサイド25%および2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン75%
ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−2,5−フェニルホスフィンオキサイド25%および4−(2−ヒドロキシエトキシ)ベンゾイル−1−ヒドロキシ−1−メチルエタン75%。
【0033】
特に重要な光開始剤混合物はビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイドを液体ヒドロキシケトン化合物中に溶解することによって得られる。2成分より多くの、特に3成分が混合物中に使用される。3成分混合物はそれぞれの構成成分を混合物しそして緩やかに、例えば50−60℃に加熱することにより製造される。
【0034】
本発明は、さらに少なくとも1個の式Iの化合物および2個の式IIの化合物とからなる光開始剤混合物を提供する。
【0035】
好ましいものは、例えば、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイド25%,1−ベンゾイルシクロヘキサノール70%および1−ベンゾイル−1−ヒドロキシ−1−メチルエタン5%;あるいは
ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイド25%,1−ベンゾイルシクロヘキサノール60%および1−ベンゾイル−1−ヒドロキシ−1−メチルエタン15%;あるいは
ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイド25%,1−ベンゾイルシクロヘキサノール50%および1−ベンゾイル−1−ヒドロキシ−1−メチルエタン25%;あるいは
からなる3−成分混合物に示される。
【0036】
好ましいものはR3 ,R4 ,R5 ,R6 およびR7 が水素原子,炭素原子数1ないし8のアルキル基,フェニル基,アリル基,ベンジル基,シクロヘキシル基または塩素原子である、式Iの化合物で得られる。
【0037】
式Iおよび式Iaのさらに有利な化合物はR3 ,R4 およびR5 が水素原子,炭素原子数1ないし4のアルキル基,特にメチル基またはフェニル基である。
【0038】
R6 およびR7 が水素原子または炭素原子数1ないし4のアルキル基,特にメチル基である式IおよびIaの化合物に注意がはらわれる。
【0039】
特に好ましいものはR2 が水素原子または炭素原子数1ないし4のアルキル基である式IおよびIaの化合物に示される。
【0040】
好ましいものは、R1 がメチル基である式IおよびIaの化合物に及ぶ。
【0041】
好ましいものは同様にR1 およびR2 が同じものである式IおよびIaの化合物に示される。
【0042】
また、関心あるものは、R1 およびR2 が炭素原子数1ないし4のアルキル基,特にメチル基である式Iおよび式Iaの化合物である。
【0043】
新規な光開始剤混合物では、好ましいR3 ,R4 ,R5 ,R6 およびR7 が水素原子である式Iaの化合物の使用に示される。
【0044】
好ましく使用される式Iaで表される他の化合物はR3 およびR6 がメチル基であるものである。
【0045】
関心ある他の光開始剤混合物は、式Iaの化合物中,R3 ,R4 ,R5 ,R6 およびR7 が水素原子であるものである。
【0046】
さらに好ましい光開始剤混合物は、
式Iaの化合物と式IIの化合物,及び/又は式III の化合物,及び又は式IVの化合物から成る光開始剤混合物であって;
式Ia及び式II中,R8 は,水素原子,炭素原子数1ないし4のアルキル基,炭素原子数1ないし4のアルコキシ基,−OCH2 CH2 OR12,基:
【化35】
若しくは基:
【化36】
を表し;
R9 とR10は,互いに独立して水素原子,炭素原子数1ないし3のアルキル基,フェニル基,炭素原子数1ないし12のアルコキシ基,若しくは−O(CH2 CH2 O)q −炭素原子数1ないし8のアルキル基を表し,上記式中qは1から10の数を表し,またはR9 とR10はそれらが結合する炭素原子と一緒になってシクロヘキシル環を形成し;
R11はヒドロシル基,炭素原子数1ないし4のアルコキシ基又は−O(CH2 CH2 O)q 炭素原子数1ないし8のアルキル基を表し;
式IV中,R18が水素原子又はメトキシを表し;
R19はメトキシ基,メチルチオ基,モルホリノ基もしくは式IVaの化合物の基を表し;
R20はメチル基又はエチル基を表し;
R22とR23は同じであってメチル基を表すか,或いはそれらが結合する窒素原子と一緒になって−O−によって中断され得る5−又は6−員の飽和環を形成し;そして
R25が水素原子若しくは炭素原子数1ないし8のアルキル基を表すものである。
【0047】
式中,R8 は,水素原子,炭素原子数1ないし4のアルキル基,炭素原子数1ないし4のアルコキシ基または−OCH2 CH2 OR12,基を表し;
R9 とR10は,互いに独立して水素原子,フェニル基,メチル基もしくはメトキシ基を表すか,またはR9 とR10はそれらが結合する炭素原子と一緒になってシクロヘキシル環を形成し;および
R11はヒドロシル基またはメトキシ基を表す、式IIで表される化合物からなる光開始剤混合物が同様に重要である。
【0048】
他の好ましい光開始剤混合物は,式III の化合物が
ベンゾフェノン,2,4,6−トリメチルフェニルフェニルケトン,4−メチルフェニルフェニルケトン,3−メチル−4−メトキシフェニル−3−メチルフェニルケトン,4−(4−メチルフェニルチオ)フェニルフェニルケトン,2−カルボキシフェニルフェニルケトン又は4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニルフェニルケトンであるものである。また好ましいものは式IIの化合物が1−ベンゾイル−1−ヒドロキシ−1−メチルエタン,1−ベンゾイルシクロヘキサノール,4−〔(2−ヒドロキシエトキシ)ベンゾイル〕−1−ヒドロキシ−1−メチルエタン,1−(4−イソプロピルベンゾイル)−1−ヒドロキシ−1−メチルエタン若しくは2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オンである光開始剤混合物である。
好ましいものは式IVの化合物が1−(3,4−ジメトキシベンゾイル)−1−ベンジル−1−モルホリノプロパン,1−(4−メチルチオベンゾイル)−1−メチル−1−モルホリノエタン,1−(4−モルホリノベンゾイル)−1−ベンジル−1−ジメチルアミノプロパン若しくは3,6−ビス(2−メチル−2−モルホリノプロパン−1−オン)−9−オクチルカルバゾールであるものに及ぶ。重要なものはまた式Iaの化合物がビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−2,5−ジイソプロピルフェニルホスフィンオキサイド,ビス〔2,6−ジメチル−4(2−メチルプロピル)ベンゾイル〕フェニルホスフィンオキサイド,ビス(2,6−ジメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイド,ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイド又はビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−2,5−ジメチルフェニルホスフィンオキサイドである光開始剤混合物である。
【0049】
新規な光開始剤混合物は、式Iaの化合物として、好ましくはビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキシドを含む。
【0050】
好ましいものはベンゾフェノンを含まない混合物に示される。
【0051】
好ましいものは式IIの化合物を含む混合物を含む混合物に示される。
【0052】
重要なものはまた、Iaの化合物として、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−2,5−ジイソプロピルフェニルホスフィンオキサイド;ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−2−メチルフェニルホスフィンオキサイド;ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−4−メチルフェニルホスフィンオキサイド;ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−2,5−ジエチルフェニルホスフィンオキサイドおよび/またはビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−2,3,5,6−テトラメチルフェニルホスフィンオキサイドを含む光開始剤混合物である。
【0053】
特に好ましいものは25%のビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイドと75%の1−ベンゾイルシクロヘキサノールとから成る光開始剤混合物である。同様に好ましい光開始剤混合物は25%のビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイドと75%の1−ベンゾイル−1−ヒドロキシ−1−メチルエタンとを含む。
【0054】
式Iaの化合物2またはそれ以上を含む光開始剤混合物またはビスアシルホスフィンオキシドおよび/またはモノアシルホスフィンオキシド以外の式Iaの化合物および式IIおよび/またはIII の化合物との混合物であり、例えばビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキシド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)(1,4,4−トリメチルペンチル)ホスフィンオキシド、1−ベンゾイルシクロヘキサノールの組合せ、または例えば、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキシド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)(1,4,4−トリメチルペンチル)ホスフィンオキシドおよび1−ベンゾイル−1−ヒドロキシ−1−メチルエタンの組合せ、または例えば、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキシド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−2,5−ジメチルフェニルホスフィンオキシド、1−ベンゾイル−1−ヒドロキシ−1−メチルエタンおよび/または1−ベンゾイル−1−ヒドロキシ−1−メチルエタンの組合せ、または例えば、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキシド、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、1−ベンゾイル−1−ヒドロキシ−1−メチルエタンおよび/または1−ベンゾイル−1−ヒドロキシ−1−メチルエタンの組合せ、または例えば、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−2,4−ジペントキシフェニルホスフィンオキシド、1−ベンゾイル−1−ヒドロキシ−1−メチルエタンおよび/または1−ベンゾイル−1−ヒドロキシ−1−メチルエタンの組合せである。
【0055】
本発明に従えば、 式Iで表される化合物および式Iaの化合物と式IIおよび/またはIII および/またはIVの化合物との混合物(ブレンド)はエチレン性不飽和化合物のおよびこのような化合物を含む混合物の光重合のための光開始剤として使用できる。この使用はまた他の添加剤と一緒に実施できる。
【0056】
従って、本発明はまた、(a)少なくとも1つのエチレン性不飽和光重合性化合物と,
(b)光開始剤として,式Iの化合物少なくとも1つ又は上述した光開始剤混合物とから成る光重合性組成物を提供し、それは成分(b)のみならず他の添加剤を含むことも可能である。
【0057】
不飽和化合物は1もしくはそれ以上のオレフィン性二重結合を含んでいてよい。それらは低い(モノマーの)または比較的高い(オリゴマーの)分子量であってよい。二重結合を含むモノマーの例はアルキルもしくはヒドロキシアルキルアクリレートまたはメタクリレートであり、たとえばメチル、エチル、ブチル、2−エチルヘキシルもしくは2−ヒドロキシエチルアクリレート、イソボルニルアクリレート、もしくはメチルもしくはエチルメタクリレートである。シリコンアクリレートもまた重要である。他の例はアクリロニトリル、アクリルアミド、メタクリルアミド、N−置換(メタ)アクリルアミド、ビニルエステル例えば、酢酸ビニル、ビニルエーテル例えば、イソブチルビニルエーテル、スチレン、アルキル−およびハロスチレン、N−ビニルピロリドン、塩化ビニルもしくは塩化ビニリデンである。
【0058】
2もしくはそれ以上の二重結合を含むモノマーの例は、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、ヘキサメチレングリコールのまたはビスフェノールAのジアクリレート、および4,4’−ビス(2−アクリロイルオキシエトキシ)ジフェニルプロパン、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートもしくはテトラアクリレート、ビニルアクリレート、ジビニルベンゼン、ジビニルスクシネート、ジアリルフタレート、トリアリルホスフェート、トリアリルイソシアヌレートおよびトリス(2−アクロイルエチル)イソシアヌレートである。
【0059】
比較的高分子量(オリゴマー)のポリ不飽和化合物の例はアクリル化エポキシ樹脂、アクリル化ポリエステル、ビニルエーテルもしくはエポキシ基を含むポリエステルおよび、またポリウレタンおよびポリエーテルである。不飽和オリゴマーの他の例は大部はマレイン酸、フタル酸および1もしくはそれ以上のジオール類から製造され、そして約500ないし3000の分子量を有する不飽和ポリエステル樹脂である。それに加えてまた、ビニルエーテルモノマーおよびビニルエーテルオリゴマー、ならびにまたポリエスルテル、ポリウレタン、ポリエーテル、ポリビニルエーテルおよびエポキシ主鎖によるマレエート末端オリゴマーを使用することもできる。特に適当なものはビニルエーテル基をもつオリゴマーの組合せおよびWO90/01512に記載されたポリマーの組合せである。しかし、ビニルエーテルおよびマレイン酸官能化モノマーもまた適当である。この種類の不飽和オリゴマーはまた、プレポリマーとも記載される。
【0060】
特に適当な例は、エチレン性不飽和カルボン酸とポリオールもしくはポリエポキシドとのエステル、および主鎖または側鎖中にエチレン性不飽和基をもつポリマーであり、例えば不飽和ポリエステル、ポリアミドおよびポリウレタンおよびそれらのコポリマー、ポリブタジエンおよびブタジエンコポリマー、ポリイソプレンおよびイソプレンコポリマー、および側鎖に(メタ)アクリル基を含むポリマーおよびコポリマーならびにこれらのポリマーの1もしくはそれ以上の混合物である。
【0061】
不飽和カルボン酸の例は、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、ケイヒ酸および不飽和脂肪酸例えば、リノレン酸もしくはオレイン酸である。アクリル酸およびメタクリル酸が好ましい。
【0062】
適当なポリオールは芳香族の、ならびに特に脂肪族のおよび脂環式のポリオールである。芳香族ポリオールの例はヒドロキノン、4,4’−ジヒドロキシビフェニル、2,2−ジ(4−ヒドロキシフェニル)プロパンおよびまたノボラックおよびレゾールである。ポリエポキシドの例は上述したポリオール、特に芳香族ポリオールおよびエピクロロヒドリンをベースとするものである。さらに適当なポリオール類はポリマー鎖または側鎖にヒドロキシル基を含むポリマーおよびコポリマーであり、例としてポリビニルアルコールおよびそのコポリマーまたはポリヒドロキシアルキルメタクリレートまたはそのコポリマーである。さらに適当なポリオール類はヒドロキシ末端基をもつオリゴエステル類である。
【0063】
脂肪族および脂環式ポリオールの例は好ましくは2ないし12個の炭素原子を有するアルキレンジオール、例えばエチレングリコール、1,2−または1,3−プロパンジオール、1,2−,1,3−もしくは1,4−ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール、オクタンジオール、ドデカンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、好ましくは200ないし1500の分子量をもつポリエチレングリコール、1,3−シクロペンタンジオール、1,2−,1,3−もしくは1,4−シクロヘキサンジオール、1,4−ジヒドロキシメチルシクロヘキサン、グリセロール、トリス(β−ヒドロキシエチル)アミン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトールおよびソルビトールである。
【0064】
ポリオールは1個もしくはそれ以上の不飽和カルボン酸により部分的または全体的にエステル化されていてもよく、そして部分エステル中遊離ヒドロキシル基は変性されていてもよく、例えば他のカルボン酸とエーテル化またはエステル化されていてもよい。
【0065】
エステル類の例は以下のものである:
トリメチルプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリペンタエリスリトールオクタアクリレート、ペンタエリスリトールジメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールテトラメタクリレート、トリペンタエリスリトールオクタメタクリレート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ジペンタエリスリトールトリスイタコネート、ジペンタエリスリトールペンタイタコネート、ジペンタエリスリトールヘキサイタコネート、エチレングリコールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジメタクリレート、1,4−ブタンジオールジイタコネート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトール−変性トリアクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、オリゴエステルアクリレートおよびメタクリレート、グリセロールジアクリレートおよびトリアクリレート、1,4−シクロヘキサンジアクリレート、分子量200ないし1500をもつポリエチレングリコールのビスアクリレートおよびビスメタクリレート、あるいはそれらの混合物である。
【0066】
成分(a)としてさらに、適当なものは、好ましくは2ないし6個の、特に2ないし4個のアミノ基を有する芳香族、脂環式および脂肪族ポリアミンとの、同じかまたは異なる、不飽和カルボン酸のアミドである。このようなポリアミンの例はエチレンジアミン、1,2−もしくは1,3−プロピレンジアミン、1,2−、1,3−または1,4−ブチレンジアミン、1,5−ペンチレンジアミン、1,6−ヘキシレンジアミン、オクチレンジアミン、ドデシレンジアミン、1,4−ジアミノシクロヘキサン、イソホロンジアミン、フェニレンジアミン、ビフェニレンジアミン、ジ−β−アミノエチルエーテル、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラアミン、ジ(β−アミノエトキシ)−またはジ(β−アミノプロポキシ)エタンである。さらに適当なポリアミンは好ましくは側鎖に他のアミノ基をもつポリマーおよびコポリマー、およびアミノ末端基をもつオリゴアミドである。この種の不飽和アミドの例はメチレンビスアクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビスアクリルアミド、ジエチレントリアミントリスメタクリルアミド、ビス(メタクリルアミドプロポキシ)エタン、β−メタクリルアミドエチルメタクリレートおよびN[(β−ヒドロキシエトキシ)エチル]アクリルアミドである。
【0067】
適当な不飽和ポリエステルおよびポリアミドは例えばマレイン酸からおよびジオールもしくはジアミンから誘導される。マレイン酸のあるものは他のジカルボン酸によって置換されていてよい。それらはエチレン性不飽和コモノマー、例えばスチレンと一緒に使用してよい。ポリエステルおよびポリアミドはジカルボン酸からおよびエチレン性不飽和ジオールまたはジアミンから、特に比較的長鎖の、例えば6ないし20個の炭素原子のものから誘導されてもよい。ポリウレタンの例は飽和もしくは不飽和ジイソシアネートから、および不飽和および/または飽和ジオールを含むものである。
【0068】
ポリブタジエンおよびポリイソプレンおよびそれらのコポリマーは公知である。適当なコモノマーの例はオレフィン例えばエチレン、プロペン、ブテン、ヘキセン、(メタ)アクリレート、アクリロニトリル、スチレンおよび塩化ビニルである。側鎖に(メタ)アクリレート基をもつポリマーは同様に公知である。これらのものは、例えばノボラックをベースとするエポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸との反応生成物であるか、あるいは(メタ)アクリル酸によりエステル化された、ビニルアルコールまたはそのヒドロキシアルキル誘導体のホモ−もしくはコポリマーであるか、あるいはヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートを使ってエステル化された(メタ)アクリレートのホモ−及びコポリマーであってよい。
【0069】
光重合性化合物は単独でまたはあらゆる所望の混合物で使用できる。ポリオール(メタ)アクリレートの混合物を使用することは好ましい。
バインダーもまたこれらの新規な組成物に添加でき、そして、このことは光重合性化合物が液体または粘性物質である場合に特に都合がよい。バインダーの量は、例えば全固形含量に対して5−95重量%、好ましくは10−90重量%および特に40−90重量%であってよい。バインダーの選択は適用の分野およびこの分野のために要求される特性、例えば水性および有機溶媒系での現像に対する能力、支持体への接着および酸素への感受性によってなされる。
【0070】
適当なバインダーの例は約5000ないし2000000、好ましくは10000ないし1000000の分子量をもつポリマーである。具体例は次のものである:アクリレートおよびメタクリレートのホモおよびコポリマー、例えばメチルメタクリレート/エチルアクリレート/メタクリル酸、ポリ(アルキルメタクリレート)、ポリ(アルキルアクリレート)のコポリマー;セルロースエステルおよびセルロースエーテル例えばセルロースアセテート、セルロースアセトブチレート、メチルセルロース、エチルセルロース;ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、環化ゴム、ポリエーテル例えば、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、ポリテトラヒドロフラン;ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリウレタン、塩素化ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル/塩化ビニリデンコポリマー、塩化ビニリデンとアクリロニトリル、メチルメタクリレートおよび酢酸ビニルとのコポリマー、ポリ酢酸ビニル、コポリ(エチレン/酢酸ビニル)、ポリカプロラクタムおよびポリ(ヘキサメチレンアジパミド)のようなポリマー、およびポリエステル例えば、ポリ(エチレングリコールテレフタレート)およびポリ(ヘキサメチレングリコールスクシネート)。
【0071】
不飽和化合物はまた、光重合性でない、塗膜形成成分との混合物としてもまた使用できる。これらは例えば、物理的に乾燥するポリマーまたは有機溶媒、例えばニトロセルロースまたはセルロースアセトブチレート中のそれらの溶液であってもよい。しかし、それらはまた、化学的または熱的に硬化し得るもしくは樹脂であってもよく、具体例はポリイソシアネート、ポリエポキシドもしくはメラミン樹脂である。同時に熱硬化性樹脂を使用することは第一段階で光重合され、第二段階で熱後処理によって架橋されるハイブリッド系として公知の系での使用のために重要である。
【0072】
光開始剤に加えて、光重合性混合物は種々の添加剤を含んでいてよい。これらの具体例は、早期重合を防止を意図する熱抑制剤(thermal inhibitor)、例えばヒドロキノン、ヒドロキノン誘導体、p−メトキシフェノール、β−ナフトールまたは立体障害性フェノール、例えば2,6−ジ−第三ブチル−p−クレゾールである。暗所での貯蔵の安定性を増加させるため、例えば、銅化合物例えば、銅ナフテネート、ステアレートもしくはオクトエート、リン化合物例えば、トリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリエチルホスフィット、トリフェニルホスフィットまたはトリベンジルホスフィット、第四アンモニウム化合物例えば塩化テトラメチルアンモニウムもしくは塩化トリメチルベンジルアンモニウム、またはヒドロキシルアミン誘導体例えば、N−ジエチルヒドロキシルアミンである。重合中に大気酸素を除くためにポリマー中に充分に溶解せず、重合の開始において表面に移動し、空気の進入を防ぐ透明な表層を形成するパラフィンまたは同等のワックス様物質を加えることもできる。少量で添加できる光安定剤は紫外線吸収剤、例えばヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール、ヒドロキシフェニルベンゾフェノン、オキサルアミドまたはヒドロキシフェニル−s−トリアジンタイプのものである。これらの化合物もしくは混合物は個別に立体障害性アミン(HALS)を使用するかもしくは使用しないこれらのみの化合物もしくは混合物を使用することができる。
【0073】
上記UV吸収剤および光安定剤の例は以下のとおりである:
1.2−(2’−ヒドロキシフェニル ) ベンゾトリアゾール、例えば
2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’,5’−ジ第三ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(5’−第三ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−5’−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’,5’−ジ第三ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(3’−第二ブチル−5’−第三ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−4’−オクチルオキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’,5’−ジ第三アミル−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’,5’−ビス(α,α−ジメチルベンジル)−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−オクチルオキシカルボニルエチル)フェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチル−5’−〔2−(2−エチルヘキシルオキシ)カルボニルエチル〕−2’−ヒドロキシフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−メトキシカルボニルエチル)フェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−メトキシカルボニルエチル)フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−オクチルオキシカルボニルエチル)フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチル−5’−〔2−(2−エチルヘキシルオキシ)カルボニルエチル〕−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’−ドデシル−2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾールおよび2−(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−イソオクチルオキシカルボニルエチル)フェニルベンゾトリアゾールの混合物、2,2’−メチレンビス〔4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−ベンゾトリアゾール−2−イルフェノール〕;2−〔3’−第三ブチル−5’−(2−メトキシカルボニルエチル)−2’−ヒドロキシフェニル〕−2H−ベンゾトリアゾールとポリエチレングリコール300とのエステル交換体;次式:〔R−CH2 CH2 −COO(CH2 )3 −〕2 −(式中、Rは3’−第三ブチル−4’−ヒドロキシ−5’−2H−ベンゾトリアゾール−2−イルフェニル基を表す)で表される化合物。
【0074】
2.2−ヒドロキシ−ベンゾフェノン,例えば
4−ヒドロキシ−、4−メトキシ−、4−オクトキシ−、4−デシルオキシ−、4−ドデシルオキシ−、4−ベンジルオキシ−、4,2’,4’−トリヒドロキシ−および2’−ヒドロキシ−4,4’−ジメトキシ誘導体。
【0075】
3.置換されたおよび非置換安息香酸のエステル,例えば
4−第三ブチルフェニルサリチレート、フェニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス(4−第三ブチルベンゾイル)レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、2,4−ジ−第三ブチルフェニル3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、2−メチル−4,6−ジ第三ブチルフェニル3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート。
【0076】
4.アクリレート,例えば
エチルα−シアノ−β, β−ジフェニルアクリレートもしくはイソオクチルα−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリレート、メチルα−カルボメトキシシンナメート、メチルα−シアノ−β−メチル−p−メトキシシンナメートもしくはブチルα−シアノ−β−メチル−p−メトキシシンナメート、メチルα−カルボメトキシ−p −メトキシシンナメートおよびN−(β−カルボメトキシ−β−シアノビニル) −2−メチルインドリン。
【0077】
5.立体障害性アミン,例えば
ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)セバケート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)スクシネート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)n−ブチル−3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルマロネート、1−(ヒドロキシエチル)−2,2,6,6−テトラメチル−4−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合物、N,N’−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ヘキサメチレンジアミンと4−第三オクチルアミノ−2,6−ジクロロ−1,3,5−トリアジンとの縮合物、トリス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ニトリロトリアセテート、テトラキス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−1,2,3,4−ブタンテトラオエート、1,1’−(1,2−エタンジイル)−ビス(3,3,5,5−テトラメチルピペラジノン)、4−ベンゾイル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−ステアリルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)−2−n−ブチル−2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ第三ブチルベンジル)マロネート、3−n−オクチル−7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8−トリアザスピロ〔4.5〕デカン−2,4−ジオン、ビス(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)セバケート、ビス(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)スクシネート、N,N’−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル−4−ピペリジル)ヘキサメチレンジアミンと4−モルホリノ−2,6−ジクロロ−1,3,5−トリアジンとの縮合物、2−クロロ−4,6−ビス(4−n−ブチルアミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)−1,3,5−トリアジンと1,2−ビス(3−アミノプロピルアミノ)エタンとの縮合物、2−クロロ−4,6−ジ(4−n−ブチルアミノ−1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)−1,3,5−トリアジンと1,2−ビス(3−アミノプロピルアミノ)エタンとの縮合物、8−アセチル−3−ドデシル−7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8−トリアザスピロ〔4.5〕デカン−2,4−ジオンおよび3−ドデシル−1−(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)ピロリジン−2,5−ジオン。
【0078】
6.オキサミド,例えば
4,4’−ジオクチルオキシオキサニリド、2,2’−ジエトキシオキサニリド、2,2’−ジオクチルオキシ−5,5’−ジ−第三ブトキシオキサニリド、2,2’−ジドデシルオキシ−5,5’−ジ−第三ブチルオキサニリド、2−エトキシ−2’−エチルオキサニリド、N,N’−ビス(3−ジメチルアミノプロピル)オキサミド、2−エトキシ−5−第三ブチル−2’−エチルオキサニリドおよび該化合物と2−エトキシ−2’−エチル−5,4’−ジ第三ブチルオキサニリドとの混合物、およびオルト−およびパラ−メトキシ−ならびにオルト−およびパラ−エトキシ二置換オキサニリドの混合物。
【0079】
7.2−(2−ヒドロキシフェニル)−1,3,5−トリアジン,例えば
2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル) −1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(2−ヒドロキシ−4−プロピルオキシフェニル)−6−(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル) −4,6−ビス(4−メチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−ドデシルオキシフェニル) −4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−ドデシルオキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−〔2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3−ブチルオキシプロポキシ)フェニル〕−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−〔2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3−オクチルオキシプロピルオキシ)フェニル〕−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−〔4−ドデシルオキシ/トリデシルオキシ−(2−ヒドロキシプロピル)オキシ−2−ヒドロキシフェニル〕−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン。
【0080】
8.ホスフィットおよびホスホナイト,例えば
トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリス(ノニルフェニル)ホスフィット、トリラウリルホスフィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス(2,4−ジ第三ブチルフェニル)ホスフィット、ジイソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス(2,4−ジ−第三ブチルフェニル)ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス(2,6−ジ−第三ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリトリトールジホスフィット、ビスイソデシルオキシペンタエリトリトールジホスフィット、ビス(2,4−ジ−第三ブチル−6−メチルフェニル)ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス(2,4,6−トリス(第三ブチルフェニル)ペンタエリトリトールジホスフィット、トリステアリルソルビトールトリホスフィット、テトラキス(2,4−ジ−第三ブチルフェニル)4,4’−ビフェニレンジホスホナイト、6−イソオクチルオキシ−2,4,8,10−テトラ−第三ブチル−12H−ジベンゾ〔d,g〕−1,3,2−ジオキサホスホシン、6−フルオロ−2,4,8,10−テトラ−第三ブチル−12−メチル−ジベンゾ〔d,g〕−1,3,2−ジオキサホスホシン、ビス(2,4−ジ−第三ブチル−6−メチルフェニル)メチルホスフィットおよびビス(2,4−ジ−第三ブチル−6−メチルフェニル)エチルホスフィット。
【0081】
従って、本発明はまた、光開始剤として少なくとも1つの式Iの化合物、または上述したような光開始剤混合物および、ヒドロキシルフェニル−s−トリアジンおよび/またはヒドロキシフェニルベンゾトリアジンおよび/または2,2,6,6−テトラメチルピペリジン類に基づく立体障害性アミン類の部類から選ばれる紫外線吸収剤とを含む光重合性組成物を提供する。
【0082】
好ましいものは、式Iaで表される化合物、特にビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキシド,および式IIで表される化合物,特に1−ベンゾイルシクロヘキサノールおよび1−ベンゾイル−1−ヒドロキシ−1−メチレンの光開始剤混合物と、紫外線吸収剤として、4,6−ジ(2,4−ジメチルフェニル)−2−[2−ヒドロキシ−4−(ドデシルオキシおよびトリデシルオキシの混合物)(2−ヒドロキシ)プロピル−3−オキシフェニル]−1,3,5−トリアジン85%および1−メトキシ−2−プロパノールの混合物とを含む組成物に示される。
【0083】
光重合を促進するために、アミン、例えばトリエタノールアミン、N−メチルジエタノールアミン、エチルp−ジメチルアミノベンゾエートまたはミヒラーケトンを加えることが可能である。アミンの作用はベンゾフェノンタイプの芳香族ケトンの添加により強化できる。式III の化合物を含む新規な混合物が使用される場合反応性の改良はアミンの添加によって得られる。酸素掃去剤として使用できるアミンの例はEP−A−339841号公開公報に記載される置換N,N−ジアルキルアニリンである。他の促進剤、補助開始剤および自動酸化剤は、例えば、EP−A−438123、BG−2180358および特開平6−268309号に記載されるような、チオール、チオエーテル、ジスルフィド、ホスホニウム塩、ホスフィンオキシドまたはホスフィンである。
光重合はまた、スペクトル感受性をシフトしまたは拡張する他の増感剤を加えることによっても促進される。それらは特に芳香族カルボニル化合物、例えばベンゾフェノン、チオキサントン、アントラキノンおよび3−アシルクマリン誘導体であり、およびまた3−(アロイルメチレン)チアゾリンでもあるが、エオシン、ローダミンおよびエリスロシン染料でもある。
【0084】
硬化工程は特に(例えば二酸化チタンにより)着色された組成物により、および、また加熱条件下でフリーラジカルを形成する成分、例えば2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリルのようなアゾ化合物、トリアゼン、ジアゾスルフィド、ペンタザジエン、あるいはパーオキシ化合物、例えば、ヒドロパーオキシドまたはパーオキシカーボネート、例えばEP−A−245639に記載されるような第三ブチルヒドロパーオキシドを加えることにより補助できる。
【0085】
新規な組成物はまた、光還元性染料、例えばキサンテン、ベンゾキサンテン、ベンゾチオキサンテン、チアジン、ピロニン、ポルフィリンまたはアクリジン染料、および/または輻射線によって開裂され得るトリハロメチル化合物である。同様の組成物は、例えばEP−A−445624に記載される。
【0086】
他の慣用の添加剤は意図する用途によるが、蛍光増白剤、充填剤、顔料、染料、湿潤剤もしくは均展剤である。
厚いおよび着色した塗膜の硬化のためには、米国特許第5013768号に記載されているようにガラス微小球または粉末化したガラス繊維の添加が適当である。
【0087】
本発明はまた、成分(a)として水中に乳化または溶解されるエチレン性不飽和光重合性化合物の少なくとも1つを含む組成物を提供する。
このような輻射線硬化性水性プレポリマー分散剤の多くの変種は市販で入手できる。この用語は水の分散物およびその中で分散される少なくとも1つのプレポリマーを含有するという意味である。これらの系の水の濃度は例えば5ないし80重量%、特には30ないし60重量%である。輻射線硬化性プレポリマーまたはプレポリマー混合物の濃度は例えば95ないし20重量%、特に70ないし40重量%である。これらの組成物では水およびプレポリマーに対するパーセントの総計は意図される用途に依存して変化する量で添加される補助剤および添加剤とともにそれぞれの場合100である。
【0088】
水に分散されそしてしばしば溶解される輻射線硬化性塗膜形成プレポリマーはそれ自体公知の、一もしくは多官能価のエチレン性不飽和プレポリマーの水性プレポリマー分散物であって、フリーラジカルにより反応開始され得、そして例えばプレポリマー100g当り重合可能な二重結合を0.01ないし1.0モルの含量および、例えば少なくとも400、特に500ないし10000の平均分子量を有するものである。より高分子量をもつプレポリマーは、しかし意図される用途に従って考慮するのが好ましい。EP−A−12339に記載されるように、例えば重合性C−C二重結合を含むおよび最大10の酸価を有するポリエステル、重合性C−C二重結合を含むポリエーテル、1分子当たり少なくとも2つのエポキシド基を含むポリエポキシドと少なくとも1つのα,β−エチレン性不飽和カルボン酸との反応生成物、ポリウレタン、(メタ)アクリレート、ならびに、α,β−エチレン性不飽和アクリル基を含むアクリルコポリマーが使用される。これらのプレポリマーの混合物は同様に使用できる。また適当なものは、EP−A−33896に記載された平均分子量少なくとも600、プレポリマー100gにつきカルボキシル基含量0.2ないし15%および重合性C−C二重結合0.01ないし0.8モル含量の重合性プレポリマーのチオエーテルの付加物である重合性プレポリマーである。他の適当な、特定のアルキル(メタ)アクリレートポリマーをベースとする水性分散物はEP−A−41125に記載されさらに適当なウレタンアクリレートの水−分散性輻射線硬化性プレポリマーはDE−A−2936039に記載されている。
これらの輻射線−硬化性水性プレポリマー分散物に含まれ得る他の添加剤は分散助剤、乳化剤、酸化防止剤、光安定剤、染料、顔料、充填剤例えば、タルク、石膏、ケイ酸、ルチル、カーボンブラック、酸化亜鉛および酸化鉄、反応促進剤、均展剤、滑剤、湿潤剤、増粘剤、艶消剤、消泡剤および塗料技術において慣用される他の補助剤である。適当な分散助剤は高分子量でありおよび極性基を含む水溶性有機化合物であり、例えばポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドンおよびセルロースエーテルである。使用できる乳化剤は非イオン性乳化剤および可能な限り同様にイオン系乳化剤である。
【0089】
この光重合性組成物は光開始剤または光開始剤混合物(b)を組成物に基づいて0.05ないし15重量%、好ましくは0.1ないし5重量%の量で都合よく含有する。
【0090】
新規な光開始剤がハイブリッド系に使用される場合、加えて新規なカチオン系光開始剤、例えばベンゾイルペルオキシド、芳香族スルホニウムもしくはヨードニウム塩、あるいはシクロペンタジエニルアレーン鉄(II)錯塩の新規なフリーラジカル硬化剤が使用される。
【0091】
ある場合には、新規な化合物または光開始剤混合物に加えて他の開始剤を使用することは有利となり得よう。例えば,ホスフィンまたはホスホニウム塩または式
【化37】
〔(US−A−5436280または特開平6−6263809に記載される。)、QはSまたはOを表しおよびR’1 R’2 R’3 およびR’4 は例えば、アルキル基,アルケニル基またはアリール基である。〕で表される化合物,およびホスフィットが添加剤として使用できる。
【0092】
光重合性組成物は例えば、印刷インキとして、透明塗料として、例えば木材または金属用の白色塗料(white paint)として、特に紙、木材、金属またはプラスチックを含む支持体用のコーティング材料として;建築物および路面標識のマーキングのための、日光−硬化性(daylight curable) コーティングとして、写真による複写技術のための、ホログラフィー記録材料のための、画像記録技術のためのまたは有機溶媒または水性アルカリにより現像できる印刷版を製造するための、スクリーン印刷用のマスクを製造するための、歯科用充填組成物として、接着剤として、感圧接着剤として、積層樹脂として、エッチレジストまたは永久レジストとして、および電子回路用のソルダーマスクとして、複合材料(例えば、適当ならばガラス繊維および/または他の繊維および補助剤を含むこともできるスチレン性ポリエステル)および他の肉圧な組成物を製造するため、バルク硬化(透明成形品の紫外線硬化)によりまたは、米国特許第4575330号に記載されるような、ステレオリソグラフィー技術による三次元製品を製造するために、電子部品を被覆または封止するために、あるいは光ファイバーのための被覆材(コーティング,coatings) として、種々の目的に使用できる。
新規な化合物および光開始剤混合物はさらに乳化重合のための開始剤として、液晶のモノマーおよびオリゴマーの規則状態を固定するための重合開始剤として、または有機材料に染料を固定するための開始剤としてさらに使用できる。
【0093】
表面コーティング材料にはモノ不飽和モノマーを同様に含むことのできるポリ不飽和モノマーとのプレポリマーとの混合物をしばしば使用する。ここでそれは最初に塗膜の特性を規定するプレポリマーでありそれを変化させることにより当業者は硬化した塗膜の特性に影響させることができる。ポリ不飽和モノマーは塗膜を不溶にする架橋剤として作用する。モノ不飽和モノマーは溶媒使用の必要なく粘度を減少させるのに使用される反応性希釈剤として作用する。
不飽和ポリエステル樹脂はモノ不飽和モノマー、好ましくはスチレンとともに通常二成分(2パック)系で使用される。フォトレジストに対しては、特定の1成分系がしばしば使用され、例えばDE−A−2308830に記載されるようにポリマレイミド、ポリカルコンまたはポリイミドがある。
新規な化合物および混合物はまた、例えば有機溶媒および/または水中におけるまたは溶媒を含まないコーティング材料にも使用できる。
【0094】
新規な化合物およびそれらの混合物はまた、フリーラジカル光開始剤または輻射線−硬化性粉体塗料のための光開始系としても使用できる。粉体塗料(粉末コーティング)は固体樹脂および反応性二重結合を含むモノマーに基づくものであり、例えばマレエート、ビニルエーテル、アクリレート、アクリルアミドおよびその混合物である。フリーラジカル性紫外線硬化性粉末塗料はまた不飽和ポリエステル樹脂を、ソリッドアクリルアミド類(例えば、メチルメタクリルアミドグリコーレート)および例えばM.ウイッティングおよびTh.ゴーマン(M.Witting and Th. Gohmann)による論文”Radiation Curing of Powder Coating", Confrence Proceedings Radtech Europe 1993に記載される配合物のような新規なフリーラジカル光開始剤と混合することにより配合物とすることができる。フリーラジカル性紫外線硬化性粉末塗料はまた不飽和ポリエステル樹脂を、固体アクリレート、メタクリレートまたはビニルエステルと、そして新規光開始剤(または光開始剤混合物)と混合することにより配合物とすることができる。粉体塗料はまた、例えば、DE−A−4228514およびEP−A−636669に記載されるようにバインダーを含むこともできる。紫外線硬化性粉体塗料はさらに白色または有色顔料を含んでいてよい。例えば、良好な隠蔽力の硬化粉体を得るために好ましくはルチル型二酸化チタンは50重量%以上の濃度で使用できる。方法は通常、支持体、例えば、金属または木材上への粉体の静電的もしくは摩擦静電的(tribostatic) 吹付、加熱による粉体の溶融、ならびに平滑な塗膜が形成された後の、例えば中圧水銀ランプ、金属ハライドランプまたはキセノンランプを使用する紫外線および/または可視光線を用いる塗膜の輻射線−硬化からなる。熱硬化性の相当物品上にある輻射線−硬化性粉体塗料の特別な利点は、粉体粒子を溶融後、滑らかな、高光沢性塗膜の形成を確実にするために流れ時間を遅らせ得ることである。熱硬化性系と比較して、輻射線−硬化性粉体塗料はそれらの保存期間を短くする不所望の作用を伴うことなく、より低温で溶融するために配合することができる。この理由のため、それらはまた感熱性支持体、例えば、木材またはプラスチックスのための被覆材としても適当である。新規な光開始剤に加え、粉体塗料配合物はまた紫外線吸収剤を含んでいてもよい。適当な例は上に挙げた1ないし8項にあるものである。
【0095】
新規な光硬化性組成物は例えば、木材、織物、紙、セラミックス、ガラス、プラスチックス例えば、特にフィルムの形態におけるポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリオレフィンまたはセルロースアセテート、ならびに金属、例えばAl、Cu、Ni、Fe、Zn、MgまたはCoおよびGaAs、SiまたはSiO2 のような、保護層を適用しまたは、画像様露光の方法により、再生画像を精製することを目的とする、あらゆる種類の支持体(基材)のためのコーティング材料として適当である。
【0096】
支持体の塗布は液体組成物、溶液または懸濁液を基材に塗布することにより行うことができる。溶媒の選択および濃度は主に組成物の種類および塗布技術に依存する。溶媒は、不活性、即ち成分と化学反応せず、そして冷却後、乾燥の間に再度除去可能なものであるべきである。溶媒の例は、メチルエチルケトン、イソブチルメチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、N−メチルピロリドン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、1−メトキシ−2−プロパノール、1,2−ジメトキシエタン、酢酸エチル、n−ブチルアセテートおよびエチル3−エトキシプロピオネートのようなケトン類、エーテル類およびエステル類である。
溶液は公知の塗布技術、例えばスピン塗布、浸漬被覆、ナイフ塗布、カーテン塗布、刷毛塗り、吹付特に静電吹付による吹付、ならびにリバースロール塗布によって、およびまた電気泳動塗装によって支持体に均質に塗布される。また感光性層を一時的に可撓性の支持体に塗布して次に積層によって層を転写することにより最終的な支持体、例えば銅張回路板に塗布することもできる。
【0097】
塗布される量(塗膜厚)および支持体の性質(層支持材)は所望の適用分野による。塗布厚の範囲は一般に約0.1μmないし100μm以上の値を含む。
【0098】
新規な輻射線感受性組成物は光に対して非常に高い感受性をもち、そして水性アルカリ媒体により膨潤することなく現像され得るネガ型レジストとしての適用が見いだされる。それらはエレクトロニクス(電気メッキレジスト、エッチレジストもしくはソルダーレジスト)のためのフォトレジストとして、オフセット印刷版またはスクリーン印刷のような印刷版の製造、蝕刻で使用するために、あるいは集積回路の製造のマイクロレジストとして適している。可能な層支持材、ならびに被覆支持体の加工条件は適当に変化できる。
【0099】
写真による情報記録のために使用される支持体は、例えば、ポリエステルのフィルム、セルロースアセテートまたはポリマー塗被紙を含み;オフセット印刷型(offset printing formes) のための支持体は特に処理されたアルミニウムであり、プリント回路を製造するための支持体は銅張積層体であり、ならびに集積回路を製造するための支持体はシリコンウエハである。写真材料およびオフセット印刷型のための層厚は一般に約0.5μmないし10μmであり、同時にプリント回路のための層厚は1.0μmないし約100μmである。
支持体の塗布に続いて、溶媒が一般には乾燥により除去され、支持体上にフォトレジストの塗膜が残る。
【0100】
用語「画像様(image-wise) 」露光は予め決められたパターンを有するフォトマスク例えばスライドを通す露光、例えばコンピューター制御下で、塗布された支持体の表面上を動きそしてこれにより画像を形成するレーザービームによる露光、およびコンピューター制御された電子ビームによる照射を含む。
材料の画像様露光に続き、そして現像の前に短時間に熱処理を行うことは有利であろう。この場合には露光した領域のみが熱硬化される。使用される温度は一般に50−150℃、好ましくは80−130℃であり、熱処理の時間は一般に0.25ないし10分間である。
【0101】
光硬化性組成物はさらに例えばDE−A−4013358に記載されたような印刷版またはフォトレジストを製造する方法に使用できる。この様な方法では画像様に照射する前に、同時またはその後、組成物はマスクなしで少なくとも400nmの波長である可視光線に短時間、露光される。
露光の後、そして熱処理を行う場合には、感光性塗膜の露光されない領域はそれ自体公知の方法による現像によって除去される。
【0102】
既に言及したように、新規な組成物は水性アルカリで現像できる。特に適当な水性アルカリ現像液は水酸化テトラアルキルアンモニウム水溶液、アルカリ金属シリケート、ホスフェート、水酸化物および炭酸塩の水溶液である。所望ならばこれらの溶液に湿潤剤および/または有機溶媒のごく少量を添加することも可能である。現像溶液に少量で加えることのできる代表的な有機溶媒の例はシクロヘキサノン、2−エトキシエタノール、トルエン、アセトンおよびこれらの溶媒の混合物である。
バインダーの乾燥時間がグラフィック製品の生成速度のための重要因子でありそしてそれはほんの数秒のオーダーであるべきなので、光硬化は印刷に非常に重要である。UV硬化性インキはスクリーン印刷に特に重要である。
【0103】
既に上述したように、新規な混合物はまた、印刷版を製造するのに非常に適当である。この用途では、例えば溶解性線状ポリアミド類またはスチレン/ブタジエンおよび/またはスチレン/イソプレンゴム、カルボキシル基を含むポリアクリレートまたはポリメチルメタクリレート、光重合性モノマー、例えばアクリルアミドおよび/またはメタクリルアミドを伴うポリビニルアルコールもしくはウレタンアクリレート、あるいはアクリレートおよび/またはメタクリレートと光開始剤との混合物を使用する。これらのシステムのフィルムおよびプレート(湿式または乾式)は印刷される原本のネガ(またはポジ)上に露光され、硬化されない部分は続いて適当な溶媒を使用して洗い落とされる。
【0104】
光硬化が使用される他の分野は金属の塗装、各々場合において、例えば、金属板および管、缶または瓶の蓋の塗装であり、そして例えばPVCをベースとする床または壁仕上材のようなポリマー被覆材の光硬化である。
塗被紙の光硬化の例は、ラベル、レコード入れおよびブックカバーの無色のワニス塗布である。
【0105】
また、複合材料組成物から作られる成形品の硬化のための新規な化合物の使用も重要である。この複合材料化合物は自己支持性マトリックス材料、例えばガラス繊維織物または代わりに例えば植物繊維〔Kunststoffe 85(1995),366-370におけるK.−P.ミエック,T.ロイスマン(K.-P. Mieck, T.Reussmann) 参照〕のような、光硬化配合物で含浸されたものである。新規な化合物を使用して製造された場合、複合材料化合物からなる成形部品高いレベルの機械的安定性および機械抵抗性が達成される。新規な化合物は例えばEP−A−7086に記載されるような成形、含浸および塗装組成物の光硬化剤として使用することもできる。このような組成物の例は硬化活性および黄変抵抗性に関する厳密な要求を受けるゲルコート樹脂、および例えば平面であるかまたは長さ方向もしくは幅方向の波形(Lengthwise or crosswise corrugation)をもつ光拡散パネル(light diffusing panels) のような繊維強化成形品である。このような成形品を製造するための技術、例えばハンドレイアップ、スプレーレイアップ、遠心注型またはフィラメント巻きは、例えば、P.H.セルデン(P.H.Selden) により、”Glasfaserverstarkte Kunststoffe", 第610 頁,Springer Verlag, Berlin-Heidelberg-New York 1967 に記載されている。これらの技術により製造することのできる製品の例は、ボート、ガラス繊維強化プラスチックを両面塗布しこ繊維ボードまたはチップボードパネル、パイプ、容器等々である。成形材料、含浸材料および塗料組成物の他の例は、ガラス繊維(GRP)を含む成形品例えば、波形板およびラミネート紙のためのUP樹脂ゲルコートである。ラミネート紙は尿素樹脂またはメラミン樹脂をベースとする。ラミネートの製造の前にゲルコートは支持材(例えばフィルム)上に製造される。新規な光硬化性組成物はまた注型用樹脂、または製品例えば、電子部品を埋封するためにも使用できる。硬化は慣用の紫外線硬化に使用できる中圧水銀ランプを使用して行われる。しかし、より強度の少ないランプ、例えばTL40W/03またはTL40W/05のタイプが特に関係する。これらのランプの強度は日光の強度にほぼ相当する。硬化のために直射日光を使用することもできる。さらに有利には、複合材料は部分的に硬化された塑性状態で光源から取り出し、そして続いて生じる全体硬化(through-curing) により成形できることである。
【0106】
本発明による組成物および化合物は導波管および光学スイッチの製造のために使用され得、それによる利点は照射領域と未照射領域の間で屈折率に相違が生じることである。
画像形成技術および情報用の光学製品のための光硬化性組成物の使用はまた重要である。このような適用においては、既に上述したとおり、支持材に塗布された層(湿潤または乾燥)はフォトマスクを通して紫外線または可視光線により照射され、そして層の露光されない領域は溶媒(現像液)による処理により除去される。金属への光硬化性層の塗布は電着によっても行われる。露光領域は架橋により重合されそしてそのため不溶となりそして支持材上に残る。適当な着色は可視画像を製造する。支持材が蒸着層の場合、金属は、露光および現像に続いて露光されない領域において腐蝕して取り去るかまたは電気めっきにより強化する。この様にして電子回路およびフォトレジストを製造することができる。
【0107】
新規な組成物の感光性は、一般に紫外線領域(約200nm)から600nmまで拡がっており、そしてそのため全範囲は非常に広い範囲である。適当な輻射線は例えば日光または人工光源に存在する。従って、非常に異なる多数のタイプの光源が使用できる。点光源および線光源(「ランプカーペット」)が適当である。具体例はカーボンアークランプ、キセノンアーク灯または金属ハライドでドープ塗布されていてもよい中圧、高圧および低圧の水銀ランプ(金属−ハロゲンランプ)、マイクロウェーブ励起金属蒸気ランプ(microwave-stimulated metal vapour lamps)、エキシマーランプ(excimer lamps) 、スーパーアクチニック蛍光灯(superactinic fluoresent tubes) 、蛍光ランプ、アルゴン白熱灯、電子閃光ランプ、写真投光ランプ、シンクロトロンまたはレーザープラズマによる電子ビームおよびX線である。ランプと照射される本発明による基材との距離は意図する用途およびランプのタイプおよび強度により変化でき、例えば2cmないし150cmであってよい。レーザー抗原、例えばエキシマレーザーが特に適している。特に好適な光源はレーザー光源、例えば248nmにおける露光に対するクリプトン−Fレーザーのようなエキシマーレーザーである。可視領域および赤外領域におけるレーザーもまた使用できる。この場合、新規な材料の高い感受性は非常に有利である。この方法により、電子工業におけるプリント回路、リソグラフィーによりオフセット印刷版またはレリーフ印刷版ならびにまた写真画像記録材料を製造できる。
【0108】
本発明はさらに着色および未着色のコーティング材料、印刷インキ、印刷版、歯科用組成物、レジスト材料を製造するために、電気および電子部品を包囲(封止)するために、複合材料を製造するために、磁気記録材料を製造するために、および画像記録材料として、特にホログラフィーによる記録のために上記組成物を使用する方法を提供する。
【0109】
本発明はさらに上記の組成物で少なくとも一方の表面が被覆されている被覆された支持体、および被覆された支持体が画像様に露光され、そして次に未露光部分を溶媒により除去するレリーフ画像の写真による形成方法を提供する。この場合における画像様露光はマスクを通して、またはそうでなければ制御されたレーザーを使用して(マスクなし)で行うことができる。
【0110】
従って、本発明はまた、そして200nmから600nmnの範囲の光で上述したような組成物を照射することからなるエチレン性不飽和二重結合を含む化合物の光重合方法を提供する。
【0111】
式IおよびIaの化合物は、一般的に黄色であり、例えばエステル、芳香族化合物,アルコールおよび塩素化炭化水素類に可溶である感光性ソリッドである。
【0112】
新規な光開始剤混合物(ブレンド)は硬化される支持体には良好な溶解度をもつものである。ここにおいては、硬化される支持体におけるブレンドの溶解度は個々の成分の溶解度よりも一般的に良好である。ブレンドにおいては1つの成分が他の成分の溶解剤として作用する。
新規なブレンドによる硬化が達成されたとき、支持体の表面の硬化とその完全硬化との間に最適な比率が得られる。光開始剤混合物は反応性があり、および低い黄変の値が硬化の間に達成できる。
【0113】
【実施例】
以下に続く実施例は本発明をより詳細に説明する。本明細書の記載の残りおよび請求の範囲において、部および百分率は他に示さない限り、重量に基づく。
【0114】
実施例1:ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−4−メチルホスフィンオキサイドの製造
【化38】
(a)4−メチルフェニルジエチルホスホネ−ト
ヒックマンの装置中で51.3gの4−ブロモトルエンをニッケル(II)クロライド3.9gと一緒に160℃に加熱した。74.8gのトリエチルホスファイトを1時間を要して滴下しながら加えた。反応混合物は,160℃で 2時間加熱した。続いて,臭化エチル22gを留去した。
90℃/10-2mbarで蒸留すれば38.6gの4−メチルフェニルジエチルホスホネートが得られた。
(b)4−メチルフェニルホスフィン
8.23gの水素化アルミニウムリチウムを180mlの乾燥ジエチルエーテルに中に置き,そして16.43gの4−メチルフェニルジエチルホスホネートを−10℃で加えた。得られた懸濁液は室温で18時間,攪拌し,次に
0℃そして5℃にて水8mlで慎重に洗浄し,そして15%のカセイソ−ダ−溶液8gで加水分解し,嵩高い白色沈殿物を得た。この沈澱物をアルゴン下,濾過して取り出し、エーテル50mlで洗浄し,そして溶媒をアルゴン下で留去すると,次の段階の製造のためにさらに精製の必要なく使用される9.0gの4−メチルフェニルホスフィンが得られる。
【0115】
(c)ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−4−メチルフェニル
ホスフィン
50mlのテトラヒドロフラン(THF)中の16.2gのジイソプロピルアミンの溶液で−10℃に冷却した。ヘキサン(1.6M)にブチルリチウムの100mlを滴下しながら加えた。それから,−40℃にて最初に得た9.0gの4−メチルフェニルホスフィン,そしてその後,150mlのTHF中の2,4,6−トリメチルベンゾイルクロライドの29.22gの溶液をに加えた。得られた溶液を1.5時間,攪拌し,次に減圧下に溶媒を除去すれば,黄色粉末として,28.0gのビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−4−メチルフェニルホスフィンが得られる。
(d)ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−4−メチルフェニル
ホスフィンオキサイド
28.0gのビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−4−メチルフェニルアセテートホスフィンを100mlのトルエンに溶解し,そして得られた溶液は50℃に加熱された。30%の過酸化水素8.2gを1時間を要して滴下して加えた。次に得られた反応混合物は室温にて冷却し,そして発生する相を分離した。有機相を30mlの水,10%重炭酸ナトリウム30ml,次に水の順に中性になるまで洗浄した。それから硫酸マグネシウム上で乾燥し,濾過し,真空下濃縮すれば,24.5gの黄色油を得る。カラムクロマトグラフィー,そして石油エ−テルからの再結晶により,融点151℃の黄色結晶として標記生成物を得る。
元素分析:
計算値: C:74.98%,H:6.76%
実測値; C:74.90% H:6.75%
【0116】
実施例2−9:実施例2ないし9の化合物は 実施例1に記載の方法に従ってそして適当に置き換えた出発原料を使用して得られる。得られた化合物とそれらの物理的データーを以下の表1に示す。
【表1】
【0117】
実施例10:透明コーティングの製造と硬化
UV−硬化性クリアコートは99.5部の登録商標Roskydal 502(=66%の不飽和ポリエステル樹脂および34%のスチレン;Bayer)と0.5部の登録商標Byk300(=均展助剤,Byk−Mallinckrodt)とを混合することにより製造される。95%1−ベンゾイル−1−ヒドロキシ−1−メチルエタンおよび実施例8で得られた5%の光開始剤の混合物2部はこの配合剤のなかに混和された。このコーティング材料はドクタ−ブレ−ドを使って200μmのギャップで,チップボードパネルに塗布され,そして次に硬化された。
硬化は速度5m/分で移動するコンベアベルト上で,120W/cmFusion H type(Fusion Systems,USA)および80W/cm Hanovia type(Canrad−Hanovia,USA)の2個の中圧水銀灯の直下でサンプルを通過させて行われた。
耐汚染塗料のケーニッヒ振り子型硬度(DIN53157)は105秒であった
【0118】
実施例11:白色塗料の製造と硬化
UV−硬化性白色塗料は67.5部の登録商標エベクリル830(UCB,ベルギ−からのポリエステル アクリレート),
5.0部の1,6−ヘキサンジオ−ル ジアクリレ−ト,
2.5部のトリメチロ−ルプロペントリアクリレートおよび
25.0部の登録商標R−TC2(ルチル型二酸化チタン)を混合することによって得られる。75%の1−ベンゾイル−1−ヒドロキシ−1−メチルエタン3部および実施例8からの光開始剤25%との混合物3部とを,得られた塗料配合物と混ぜ合わせた。ペイントはドクタ−ブレ−ドを使って100μm ギャップでコイル被覆アルミニウムパネルに塗布され,そしてコンベアベルト上で80W/cmの中圧水銀灯(Canrad−Hanovia,USA)の下で暴露された。耐汚染と全体硬化コートが得られるような最大ベルト速度が光開始剤混合物の反応度の尺度である。
ベルト速度3m/分で硬化した塗料は159秒のケーニッヒ振り子型硬度(DIN5317)を示した。
【0119】
実施例12:白色塗料の製造と硬化
同様にして,各場合において,75%1−ベンゾイル−1−ヒドロキシシクロヘキサンおよび実施例2,4および7で得られた光開始剤の25%の混合物3部を実施例11で記載した配合物中で試験した。対応する白色ペイントコートは15m/分のベルト速度で同様に硬化された。
【0120】
実施例13:高度に着色した白色塗料の製造と硬化
UV−硬化性白色塗料は45部の登録商標エベクリル(Ebecryl)830,3部の1,6−ヘキサンジオ−ル ジアクリレート,2部のトリメチロールプロパントリアクリレート,50部の登録商標R−TC2(ルチル型二酸化チタン)を混合して製造された。
75%の1−ベンゾイル−1−ヒドロキシシクロヘキサンおよび実施例8で得られた25%の光開始剤の光開始剤混合物4部が得られた。これを塗料の配合物の中に取り入れた。この塗料は,ドクターブレードを使って150μmギャップ,でコイル被覆されたアルミニウム パネルに塗布され,そして,2個の80W/cm 中圧水銀灯(Aetek,USA)の下,コンベアベルト上で硬化された。10m/分のベルト速度で耐汚染と全体硬化塗料が得られ,そのケーニッヒ硬度(DIN53157)は85秒であった。
そして,75%の1−ベンゾイル−1−ヒドロキシシクロヘキサンおよび実施例3で得られた光開始剤の光開始剤混合物4部は同様にして耐汚染表面および通し硬化塗料をベルト速度10m/分,振り子型硬度79秒を示した。
【0121】
実施例14:積層複合材料の硬化
配合物は99部の登録商標VestopalX7231(Huls,Germany,からの不飽和ポリエステル)と,1部の75%ベンジルジメチル(ケタールおよび25%の実施例8からの光開始剤の光開始剤混合物から作られるガラス繊維マット
(チョップドストランド材料)の4層をおよび上記配合物は透明なメイラ−フィルムで被覆され,そして固定式圧縮(firm compression)に付された。得られた堆積物は10分間,15cm離れた距離からTL40W/03(Philips)形式の5個のランプの下で照射された。65のショア硬度D(DIN53505に従う,Otlo Wolpert Werke,Lundwigshafen,Germanyからの硬度試験機を用いて測定)を有する堅牢な複合材料が得られる。
【0122】
実施例15:アミノ含有クリアコートの製造と硬化
45%のベンゾフェノン,45%の1−ベンゾイル−1−ヒドロキシ−シクロヘキサンと10%の実施例8からの光開始剤の光開始剤混合物を2部が98部のアミノ含有ポリエーテルアクリレート(登録商標Laromer PO48F,BASF)と一緒に混合された。塗布材料は100μm ギャップでドクターブレードを使用しチップボードパネルに塗布され,そして2個の80W/cm中圧水銀灯(Aetek,U.S.A.)を使って,ベルト速度10m/分。で塗布された。耐汚染コートは65秒のケーニッヒ振り子型硬度(DIN53157)を示した。
【0123】
実施例16:粉末塗料の製造と硬化
UV−硬化性の粉体塗料は,56.0部の登録商標ZA315(DSM,Hollando),11.0部の登録商標ZA 3126(DSM,Hollalnd),
33.0部の登録商標R−TC2(ルチル型二酸化チタン),1.0部の登録商標Resflow PV5(E.H.Worlee,Germany),0.5部の登録商標Worlee Add900(E.H.Worlee,Germany),および3.0部の75%の4(2−ヒドロキシエトキシ)ベンゾイル−1−ヒドロキシ−1−メチルエタンおよび実施例8で得られた25%の光開始剤の光開始剤混合物とにより製造される。
全ての成分は80℃の押出機の中で混合され,均質な白色ペイントを得た。冷却後,固体の塊状物は粉砕され,篩にかけた。粒径90μm以下の粉末は静電吹付法を使用し,アルミニウムパネルにフィルム厚60−90μmに塗布した。塗布したパネルは125℃で3分間オーブン中で加熱した。この加熱中に粉体は融解しそして均質なフィルムが形成された。このフィルムは同温度が持続している間にベルト速度7.5m/分で2個の2W/cm中圧水銀の下照射された。30分間照射後ケーニッヒ振子型硬度105秒を測定した。
【0124】
実施例17:パステルカラ−ペイントは75.5部の登録商標Ebecryl830(ポリエステル アクリレ−ト オリゴマ−),9.0部の1,6−ヘキサンジオ−ル ジアクリレ−ト(HDODA),および4.5部のトリメチロ−ルプロパントリアクリレート(TMPTA)を混合することによって製造される。
この塗料に対し75%のベンジル ジメチル ケタールおよび25%の実施例1で得られた光開始剤の光開始剤混合物3%(3部)を加えた。100μmの塗料フィルムは木質パネルに塗布され,2個の80W/cm 中圧水銀灯(Aetek,USA)の下で3m/分のベルト速度により露光された。コーニッヒ振り子型硬度(DIN 53157)が115秒である耐汚染全体硬化塗料が得られた。
【0125】
実施例18:黄色塗料は,83.0部の登録商標Ebecryl830(ポリエステル アクリレ−ト オリゴマ−),9.5部の1,6−ヘキサンジオールジアクリレ−ト(HDODA),4.0部のトリメチロ−ルプロパン トリアクリレ−ト(TMPTA),および3.0部の登録商標Irgazin Gelb
GLTN(黄色顔料)から製造される。
実施例17で得られた3部の光開始剤混合物をこの塗料に加えた。得られた塗料は実施例17で記載の方法で塗布され,そして露光され,ベルト速度3m/分で,2個の80W/cm 中圧水銀灯(Canrad−Hanovia,USA)を使用し,露光された。耐汚染および全体硬化塗料の振り子型硬度は142秒であった。
【0126】
実施例19:クリアコートのUV安定化
クリアコートは99.5部の登録商標Roskydal502(=34%のスチレンと66%の不飽和ポリエステル,BYER),および0.5部の登録商標Byk300(均展助材,Byk−Mallinckrodt)を混合して製造される。
液状の3成分混合物は1─ベンゾイル−ヒドロキシシクロヘキサン75%および実施例1で得られた光開始剤25%の光開始剤混合物を50℃に加熱し,そして4,6−ジ(2,4−ジメチルフェニル)−2−[2−ヒドロキシ−4−(ドデシロキシおよびトリデシロキシの混合)(2−ヒドロキシ)プロピル−3−オキシフェニル]−1,3,5−トリアジンの85%と1−メトキシ−2−プロパノ−ル15%の混合物の同じ重量を加えて製造される。この液状混合物の4部をクリアコートに一緒にして混ぜ合わせる。得られた塗料はドクタ−ブレ−ドを使用して150μm ギャップで板(パネル支持体)に塗布し,そして2個の80W/cm 中圧水銀灯を使用し,3m/分のベルト速度で露光した。振り子硬度(PH)および黄色度指数(YL)(ASTMD 1925に従う)は硬化直後そしてTL20/05蛍光ランプ(Philips)の下で4時間連続露光した後,測定した。液状の3成分混合物を有する試料は容易に硬化させることができ,そして表2でデ−タ−として示したように,良好な光保護作用(UV安定性)が得られた。
【0127】
実施例20:液状混合物の水性顔料剤形との混合
顔料を含む水性剤形は次の成分を混合することにより得られる。
50部のロスキダル(Roskydal)850W(不飽和ポリエステル,バイエル,BAYER),50部のラロマ−PE55W(水中におけるポリエステルアクリレ─トの乳化剤,BASF),10部の二酸化チタン R−TC2(ルチル型),20部の水
75%の1−ベンゾイル−ヒドロキシシクロヘキサンおよび実施例1からの25%の光開始剤との光開始剤混合物は50℃で液状化されそして室温でそれらの3部を上記剤形に攪拌しながら混合した。厚さ150μmのコートを木材に塗布し,4分間80℃で乾燥させ,そして次に2個の80W/cm 中圧水銀灯の下,速度3m/分で露光された。液状化された光開始剤混合物での塗膜は50秒の振り子硬度,4.3の黄色度指数および75/87のグロス値(測定角度 20°および60°)を示した。
Claims (9)
- 下記式I
R2 は炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わし、そして
R3、R4、R5、R6およびR7は互いに独立して水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1ないし20のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、炭素原子数2ないし12のアルケニル基、又はフェニル基で置換された炭素原子数1ないし4のアルキル基、又は未置換か或いは炭素原子数1ないし4のアルキル基および/または炭素原子数1ないし4のアルコキシ基によってモノ−或いはジ−置換されているフェニル基を表わし、
但し、R3、R4、R5、R6およびR7の少なくとも一つは水素原子以外を表わし、そしてR1およびR2がメチル基を表わすか、又はR1がメチル基を表わしR2がブチル基を表わす場合、R3およびR6は同時にメチル基を表わすことはなく、そして、
R1およびR2がメチル基を表わし、R3、R4、R6およびR7が水素原子を表わす場合、R5はメチル基を表わさない。)で表わされる化合物。 - 少なくとも1つの下記式(Ia)
R1が炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わし;
R2 は炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わし、そして
R3、R4、R5、R6およびR7は互いに独立して水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1ないし20のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、炭素原子数2ないし12のアルケニル基、1ないしそれ以上の酸素原子によって中断された炭素原子数2ないし18のアルキル基を表わすか、或いはフェニル基で置換された炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わすか、又は未置換か或いは炭素原子数1ないし4のアルキル基および/または炭素原子数1ないし4のアルコキシ基によってモノ−或いはジ−置換されているフェニル基を表わす。)で表わされる化合物;
および少なくとも1つの下記式II
R9およびR10は互いに独立して水素原子、炭素原子数1ないし6のアルキル基、フェニル基、炭素原子数1ないし16のアルコキシ基、OSiR13R14R14a、若しくは−O(CH2CH2O)q−炭素原子数1ないし16のアルキル基(式中、qは1から20の数を表わす。)を表わすか、或いは
R9およびR10はそれらが結合する炭素原子と一緒になってシクロヘキシル環を形成し;
R11はヒドロキシル基、炭素原子数1ないし16のアルコキシ基、若しくは−O(CH2CH2O)q−炭素原子数1ないし16のアルキル基(式中、qは1から20の数を表わす。)を表わし;
その場合、R9、R10、およびR11は全てが同時に炭素原子数1ないし16のアルコキシ基または−O(CH2CH2O)q−炭素原子数1ないし16のアルキル基とは成りえず、R12は水素原子、炭素原子数1ないし8のアルキル基、
R13、R14aおよびR14は互いに独立して炭素原子数1ないし4のアルキル基又はフェニル基を表わす。〕で表わされる化合物;及び/又は
少なくとも1つの下記式III
少なくとも1つの下記式(IV)
R19はR18の定義と同様であるか又は、基IVa
式IVからの基R18とこの基IVaの基R18とは一緒になって直接結合を表わし、そしてその他の基は下記の定義と同様である。)を表わし;
R20は、炭素原子数1ないし8のアルキル基を表わし;
R21は、水素原子、−CH=CHR24、若しくは未置換のフェニル基又は炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基若しくはハロゲン原子によって1ないし3回置換されたフェニル基を表わし;或いは
R20とR21はそれらが結合する炭素原子と一緒になってシクロヘキシル環を形成し;
R22とR23は、互いに独立して炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わすか、またはR22とR23は、それらが結合する窒素原子と一緒になって、−O−、−NH−或いは−N(CH3)−によって中断され得る5−または6−員の飽和もしくは不飽和環を形成し;
R24は、水素原子或いは炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わし;そして
R25が水素原子又は炭素原子数1ないし12のアルキル基を表わす。〕で表わされる化合物から成る光開始剤混合物。 - 式IIIの化合物がベンゾフェノン、2,4,6−トリメチルフェニルフェニルケトン、4−メチルフェニルフェニルケトン、3−メチル−4−メトキシフェニル−3−メチルフェニルケトン、4−(4−メチルフェニルチオ)フェニルフェニルケトン、2−カルボキシフェニルフェニルケトン又は4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニルフェニルケトンであり;
式IIの化合物が1−ベンゾイル−1−ヒドロキシ−1−メチルエタン、1−ベンゾイルシクロヘキサノール、4−〔(2−ヒドロキシエトキシ)ベンゾイル〕−1−ヒドロキシ−1−メチルエタン、1−(4−イソプロピルベンゾイル)−1−ヒドロキシ−1−メチルエタン若しくは2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オンであり;
式IVの化合物が1−(3,4−ジメトキシベンゾイル)−1−ベンジル−1−モルホリノプロパン、1−(4−メチルチオベンゾイル)−1−メチル−1−モルホリノエタン、1−(4−モルホリノベンゾイル)−1−ベンジル−1−ジメチルアミノプロパン若しくは3,6−ビス(2−メチル−2−モルホリノプロパン−1−オン)−9−オクチルカルバゾール;及び
式Iaの化合物がビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−2,5−ジイソプロピルフェニルホスフィンオキサイド、ビス〔2,6−ジメチル−4(2−メチルプロピル)ベンゾイル〕フェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,6−ジメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイド又はビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−2,5−ジメチルフェニルホスフィンオキサイドである請求項2記載の光開始剤混合物。 - (a)少なくとも1つのエチレン性不飽和光重合性化合物と、
(b)光開始剤として、請求項1記載の式Iの化合物少なくとも1つ又は請求項2記載の光開始剤混合物とから成る光重合性組成物。 - エチレン性不飽和二重結合を含有する化合物の光重合方法であって、前記請求項4記載の組成物に200から600nmの範囲の光を照射することから成る方法。
- エチレン性不飽和二重結合を含有する化合物の光重合のための請求項2記載の光開始剤混合物。
- コーティング材料、印刷インキ、印刷版、歯科用組成物およびレジスト材料を製造するための請求項4記載の組成物。
- 画像記録材料としての請求項4記載の組成物。
- 請求項4記載の組成物で少なくとも一つの面が被覆されている被覆された支持体。
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