JPH02226148A - 光重合性混合物及びそれを含む光重合性複写材料 - Google Patents
光重合性混合物及びそれを含む光重合性複写材料Info
- Publication number
- JPH02226148A JPH02226148A JP1334657A JP33465789A JPH02226148A JP H02226148 A JPH02226148 A JP H02226148A JP 1334657 A JP1334657 A JP 1334657A JP 33465789 A JP33465789 A JP 33465789A JP H02226148 A JPH02226148 A JP H02226148A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photopolymerizable
- mixture according
- group
- photopolymerizable mixture
- coating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 43
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims description 11
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 34
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 29
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 12
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 9
- 229920005596 polymer binder Polymers 0.000 claims abstract description 4
- 239000002491 polymer binding agent Substances 0.000 claims abstract description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 22
- -1 acridine compound Chemical class 0.000 claims description 16
- DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N benzoquinolinylidene Natural products C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3N=C21 DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 8
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 7
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 7
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 5
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 5
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 claims description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N (R)-(-)-Propylene glycol Chemical compound C[C@@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N 0.000 claims 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 abstract description 6
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 abstract 2
- 230000005012 migration Effects 0.000 abstract 2
- 238000013508 migration Methods 0.000 abstract 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 15
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 9
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 7
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 7
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 7
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N diphenylamine Chemical group C=1C=CC=CC=1NC1=CC=CC=C1 DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 5
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 5
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 5
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 4
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 4
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- MTRFEWTWIPAXLG-UHFFFAOYSA-N 9-phenylacridine Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=C(C=CC=C2)C2=NC2=CC=CC=C12 MTRFEWTWIPAXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 3
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 3
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 3
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 229920000137 polyphosphoric acid Polymers 0.000 description 3
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 3
- FGCITSDNEKFVTN-UHFFFAOYSA-N (7-benzoyl-9-phenylacridin-2-yl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=C2N=C3C=CC(C(=O)C=4C=CC=CC=4)=CC3=C(C=3C=CC=CC=3)C2=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 FGCITSDNEKFVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 4-Dimethylaminopyridine Chemical compound CN(C)C1=CC=NC=C1 VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RHPVVNRNAHRJOQ-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-n-(4-methylphenyl)aniline Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1NC1=CC=C(C)C=C1 RHPVVNRNAHRJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FMBBEJFTPTWYOC-UHFFFAOYSA-N [7-[hydroxy(phenyl)methyl]-9-phenylacridin-2-yl]-phenylmethanol Chemical compound C=1C=C2N=C3C=CC(C(O)C=4C=CC=CC=4)=CC3=C(C=3C=CC=CC=3)C2=CC=1C(O)C1=CC=CC=C1 FMBBEJFTPTWYOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AVAYCNNAMOJZHO-UHFFFAOYSA-N [Na+].[Na+].[O-]B[O-] Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]B[O-] AVAYCNNAMOJZHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 2
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 239000002313 adhesive film Substances 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 2
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- LPNBBFKOUUSUDB-UHFFFAOYSA-N p-toluic acid Chemical compound CC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 LPNBBFKOUUSUDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- 238000002211 ultraviolet spectrum Methods 0.000 description 2
- MNZWGSCFFGOEGP-UHFFFAOYSA-N (3-bromophenyl)-[9-(3-bromophenyl)-6-methylacridin-2-yl]methanol Chemical compound C=12C=C(C(O)C=3C=C(Br)C=CC=3)C=CC2=NC2=CC(C)=CC=C2C=1C1=CC=CC(Br)=C1 MNZWGSCFFGOEGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002818 (Hydroxyethyl)methacrylate Polymers 0.000 description 1
- AWGCJODNVVGFRV-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(2-methylpropylamino)anthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C(NCC(C)C)=CC=C2NCC(C)C AWGCJODNVVGFRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLFZMXOCPASACY-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(propan-2-ylamino)anthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C(NC(C)C)=CC=C2NC(C)C BLFZMXOCPASACY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AQXHKHLEOAFNAT-UHFFFAOYSA-N 1,6-diisocyanato-6-methylheptane Chemical compound O=C=NC(C)(C)CCCCCN=C=O AQXHKHLEOAFNAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIKSHDNOAYSSPX-UHFFFAOYSA-N 1-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical compound S1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2C(C)C YIKSHDNOAYSSPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEPOHXYIFQMVHW-XOZOLZJESA-N 2,3-dihydroxybutanedioic acid (2S,3S)-3,4-dimethyl-2-phenylmorpholine Chemical compound OC(C(O)C(O)=O)C(O)=O.C[C@H]1[C@@H](OCCN1C)c1ccccc1 VEPOHXYIFQMVHW-XOZOLZJESA-N 0.000 description 1
- UXUKRJGLGBVMHB-UHFFFAOYSA-N 2,7-dimethyl-9-phenylacridine Chemical compound C12=CC(C)=CC=C2N=C2C=CC(C)=CC2=C1C1=CC=CC=C1 UXUKRJGLGBVMHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IOHPVZBSOKLVMN-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylethyl)benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1CCC1=CC=CC=C1 IOHPVZBSOKLVMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TWPMMLHBHPYSMT-UHFFFAOYSA-N 3-methyl-n-phenylaniline Chemical compound CC1=CC=CC(NC=2C=CC=CC=2)=C1 TWPMMLHBHPYSMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IFQUPKAISSPFTE-UHFFFAOYSA-N 4-benzoylbenzoic acid Chemical compound C1=CC(C(=O)O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 IFQUPKAISSPFTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPRIGCVCJPKVFZ-UHFFFAOYSA-N 4-chloro-n-phenylaniline Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1NC1=CC=CC=C1 VPRIGCVCJPKVFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940090248 4-hydroxybenzoic acid Drugs 0.000 description 1
- NNJMFJSKMRYHSR-UHFFFAOYSA-N 4-phenylbenzoic acid Chemical compound C1=CC(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=CC=C1 NNJMFJSKMRYHSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CCGZAFNYYWYMKK-UHFFFAOYSA-N 9-(3,4-dimethylphenyl)acridine Chemical compound C1=C(C)C(C)=CC=C1C1=C(C=CC=C2)C2=NC2=CC=CC=C12 CCGZAFNYYWYMKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-M Carbamate Chemical compound NC([O-])=O KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000013162 Cocos nucifera Nutrition 0.000 description 1
- 244000060011 Cocos nucifera Species 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAZWDJGLIYNYMU-UHFFFAOYSA-N Leucocrystal Violet Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(C)C)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 OAZWDJGLIYNYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical class OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 229920000388 Polyphosphate Polymers 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NFMKKIJZZOVBHX-UHFFFAOYSA-N [(3,4-dimethylphenyl)-[9-(3,4-dimethylphenyl)-7-[(3,4-dimethylphenyl)-(phenylcarbamoyloxy)methyl]acridin-2-yl]methyl] n-phenylcarbamate Chemical compound C1=C(C)C(C)=CC=C1C(C=1C=C2C(C=3C=C(C)C(C)=CC=3)=C3C=C(C=CC3=NC2=CC=1)C(OC(=O)NC=1C=CC=CC=1)C=1C=C(C)C(C)=CC=1)OC(=O)NC1=CC=CC=C1 NFMKKIJZZOVBHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VJDDQSBNUHLBTD-GGWOSOGESA-N [(e)-but-2-enoyl] (e)-but-2-enoate Chemical compound C\C=C\C(=O)OC(=O)\C=C\C VJDDQSBNUHLBTD-GGWOSOGESA-N 0.000 description 1
- BEGJWQGGPAHBSU-UHFFFAOYSA-N [5-(4-tert-butylbenzoyl)-9-(4-tert-butylphenyl)acridin-2-yl]-(4-tert-butylphenyl)methanone Chemical compound C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N=C2C(C=CC=C2C(=O)C=2C=CC(=CC=2)C(C)(C)C)=C2C=3C=CC(=CC=3)C(C)(C)C)C2=C1 BEGJWQGGPAHBSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AIMGAELMBCELHU-UHFFFAOYSA-N [7-(2-chlorobenzoyl)-9-(2-chlorophenyl)acridin-2-yl]-(2-chlorophenyl)methanone Chemical compound ClC1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N=C2C(C=C(C=C2)C(=O)C=2C(=CC=CC=2)Cl)=C2C=3C(=CC=CC=3)Cl)C2=C1 AIMGAELMBCELHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSVUYAZBOHIBKC-UHFFFAOYSA-N [7-(3,4-dimethylbenzoyl)-9-(3,4-dimethylphenyl)acridin-2-yl]-(3,4-dimethylphenyl)methanone Chemical compound C1=C(C)C(C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N=C2C(C=C(C=C2)C(=O)C=2C=C(C)C(C)=CC=2)=C2C=3C=C(C)C(C)=CC=3)C2=C1 PSVUYAZBOHIBKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IBLYNYGSRYTLCY-UHFFFAOYSA-N [[7-[acetyloxy(phenyl)methyl]-9-phenylacridin-2-yl]-phenylmethyl] acetate Chemical compound C=1C=C2N=C3C=CC(C(OC(C)=O)C=4C=CC=CC=4)=CC3=C(C=3C=CC=CC=3)C2=CC=1C(OC(=O)C)C1=CC=CC=C1 IBLYNYGSRYTLCY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXEMVMVUSOSTCM-UHFFFAOYSA-N [[7-[acetyloxy-(4-tert-butylphenyl)methyl]-9-(4-tert-butylphenyl)acridin-2-yl]-(4-tert-butylphenyl)methyl] acetate Chemical compound C=1C=C2N=C3C=CC(C(OC(C)=O)C=4C=CC(=CC=4)C(C)(C)C)=CC3=C(C=3C=CC(=CC=3)C(C)(C)C)C2=CC=1C(OC(=O)C)C1=CC=C(C(C)(C)C)C=C1 OXEMVMVUSOSTCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001251 acridines Chemical class 0.000 description 1
- 125000000641 acridinyl group Chemical group C1(=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3C=C12)* 0.000 description 1
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- 125000005195 alkyl amino carbonyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 1
- QCTBMLYLENLHLA-UHFFFAOYSA-N aminomethylbenzoic acid Chemical compound NCC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 QCTBMLYLENLHLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960003375 aminomethylbenzoic acid Drugs 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N ammonium persulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012935 ammoniumperoxodisulfate Substances 0.000 description 1
- 238000002048 anodisation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000001000 anthraquinone dye Substances 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000001045 blue dye Substances 0.000 description 1
- 235000014121 butter Nutrition 0.000 description 1
- FOYJYXHISWUSDL-UHFFFAOYSA-N butyl 4-(dimethylamino)benzoate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 FOYJYXHISWUSDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 229920003086 cellulose ether Polymers 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 1
- 229940126214 compound 3 Drugs 0.000 description 1
- 229940125898 compound 5 Drugs 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 1
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- WOLATMHLPFJRGC-UHFFFAOYSA-N furan-2,5-dione;styrene Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1.C=CC1=CC=CC=C1 WOLATMHLPFJRGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- 238000007646 gravure printing Methods 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNCPIMCVTKXXOY-UHFFFAOYSA-N hexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCOC(=O)C(C)=C LNCPIMCVTKXXOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000852 hydrogen donor Substances 0.000 description 1
- GJIDOLBZYSCZRX-UHFFFAOYSA-N hydroxymethyl prop-2-enoate Chemical compound OCOC(=O)C=C GJIDOLBZYSCZRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 239000006193 liquid solution Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical class CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940117841 methacrylic acid copolymer Drugs 0.000 description 1
- HNHVTXYLRVGMHD-UHFFFAOYSA-N n-butyl isocyanate Chemical compound CCCCN=C=O HNHVTXYLRVGMHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005445 natural material Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000006353 oxyethylene group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229940051841 polyoxyethylene ether Drugs 0.000 description 1
- 229920000056 polyoxyethylene ether Polymers 0.000 description 1
- 235000013824 polyphenols Nutrition 0.000 description 1
- 239000001205 polyphosphate Substances 0.000 description 1
- 235000011176 polyphosphates Nutrition 0.000 description 1
- 235000019422 polyvinyl alcohol Nutrition 0.000 description 1
- 229920001290 polyvinyl ester Polymers 0.000 description 1
- 229920001289 polyvinyl ether Polymers 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000012429 reaction media Substances 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 239000005336 safety glass Substances 0.000 description 1
- 125000000467 secondary amino group Chemical group [H]N([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- PHIQPXBZDGYJOG-UHFFFAOYSA-N sodium silicate nonahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.O.O.O.O.[Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O PHIQPXBZDGYJOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000009987 spinning Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 229910001631 strontium chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- AHBGXTDRMVNFER-UHFFFAOYSA-L strontium dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Sr+2] AHBGXTDRMVNFER-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 235000000346 sugar Nutrition 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 150000008163 sugars Chemical class 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001864 tannin Polymers 0.000 description 1
- 235000018553 tannin Nutrition 0.000 description 1
- 239000001648 tannin Substances 0.000 description 1
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 1
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 1
- 229920001897 terpolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001302 tertiary amino group Chemical group 0.000 description 1
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VJDDQSBNUHLBTD-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid-anhydride Natural products CC=CC(=O)OC(=O)C=CC VJDDQSBNUHLBTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 1
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical compound O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70425—Imaging strategies, e.g. for increasing throughput or resolution, printing product fields larger than the image field or compensating lithography- or non-lithography errors, e.g. proximity correction, mix-and-match, stitching or double patterning
- G03F7/70475—Stitching, i.e. connecting image fields to produce a device field, the field occupied by a device such as a memory chip, processor chip, CCD, flat panel display
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D219/00—Heterocyclic compounds containing acridine or hydrogenated acridine ring systems
- C07D219/02—Heterocyclic compounds containing acridine or hydrogenated acridine ring systems with only hydrogen, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to carbon atoms of the ring system
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
- C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70425—Imaging strategies, e.g. for increasing throughput or resolution, printing product fields larger than the image field or compensating lithography- or non-lithography errors, e.g. proximity correction, mix-and-match, stitching or double patterning
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の背景〕
本発明は必須構成成分として、
a) 重合体バインダー
b) 少なくとも1個の末端オレフィン性二重結合及び
常温において100℃を超える沸点を有する重合性化合
物、及び C) 光開始剤としての9−アリールアクリジン化合物
、を含有する光重合性混合物に関する。
常温において100℃を超える沸点を有する重合性化合
物、及び C) 光開始剤としての9−アリールアクリジン化合物
、を含有する光重合性混合物に関する。
DE−C−2,027,467号明細書は、光開始剤と
してアクリジン及びフェナジンの誘導体を含有する上記
組成物の光重合性混合物を開示する。この種の化合物の
幾つかの代表例、例えば9フエニルアクリジンは高光感
度が顕著である。
してアクリジン及びフェナジンの誘導体を含有する上記
組成物の光重合性混合物を開示する。この種の化合物の
幾つかの代表例、例えば9フエニルアクリジンは高光感
度が顕著である。
これらの好ましい代表例はそれらがポリエチレンフィル
ムに接触している光重合性被覆から該フィルム中に或い
はそれらを通って移行する傾向を示す欠点を有する。そ
の結果、被覆は開始剤を欠損して感度を失う。開始剤は
又、光硬化フォトレジスト被覆からある種の処理浴例え
ば酸性電気メツキ浴に移行し、その中に厄介な黄色着色
が生ずる。
ムに接触している光重合性被覆から該フィルム中に或い
はそれらを通って移行する傾向を示す欠点を有する。そ
の結果、被覆は開始剤を欠損して感度を失う。開始剤は
又、光硬化フォトレジスト被覆からある種の処理浴例え
ば酸性電気メツキ浴に移行し、その中に厄介な黄色着色
が生ずる。
本発明の目的は、好ましい公知の混合物と同様な良好な
光感度及び像再現性を有するが、しかしその光開始剤が
光重合性或いは光重合性被覆から移行する傾向が少ない
光重合性混合物を利用可能にすることである。
光感度及び像再現性を有するが、しかしその光開始剤が
光重合性或いは光重合性被覆から移行する傾向が少ない
光重合性混合物を利用可能にすることである。
本発明に従えば、前文に述べられた種類の光重合性混合
物が提案される。
物が提案される。
本発明による混合物は、アクリジン化合物が下記一般式
(I)に該当するものである:式中、 R1は任意に置換されたアルキル或いはアシル基を示し
、R2、R3及びR4は同−或いは異って水素或いはハ
ロゲン原子、或いは任意に置換されたアルキル或いはア
シル基を示し、 R5、R6及びR7は同−或いは異って水素或いはハロ
ゲン原子、或いは任意に置換されたアルキル、アリール
或いはアシル基、或いは下記一般式(n)で表わされる
基を示す: 本発明に従えば、被覆ベースとその上に堆積され、上記
光重合性混合物により構成された光重合性層よりなる光
重合性複写材料が更に提案される。
(I)に該当するものである:式中、 R1は任意に置換されたアルキル或いはアシル基を示し
、R2、R3及びR4は同−或いは異って水素或いはハ
ロゲン原子、或いは任意に置換されたアルキル或いはア
シル基を示し、 R5、R6及びR7は同−或いは異って水素或いはハロ
ゲン原子、或いは任意に置換されたアルキル、アリール
或いはアシル基、或いは下記一般式(n)で表わされる
基を示す: 本発明に従えば、被覆ベースとその上に堆積され、上記
光重合性混合物により構成された光重合性層よりなる光
重合性複写材料が更に提案される。
一般式(I)の化合物において、R1は好ましくは1〜
10個の炭素原子を含むアルキル基、2〜10個の炭素
原子を含む脂肪族アシル基或いは7〜15個の炭素原子
を含む芳香族アシル基である。これらの基はハロゲン原
子、特にフッ素、塩素、或いは臭素、水酸基、アルコキ
シ基、アルコキシカルボニル基、アルキル基、アリール
基、アリールオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、−
級、二級又は三級アミノ基、アルコキシ力ルポニルアミ
ノ基、或いはアルキルアミノカルボニルオキシ基により
置換されてよい。一般的にR1は15〜200、好まし
くは60〜150の分子量を有する。R2は水素或いは
/%ロゲン原子或いはR1の意味を有する基である。
10個の炭素原子を含むアルキル基、2〜10個の炭素
原子を含む脂肪族アシル基或いは7〜15個の炭素原子
を含む芳香族アシル基である。これらの基はハロゲン原
子、特にフッ素、塩素、或いは臭素、水酸基、アルコキ
シ基、アルコキシカルボニル基、アルキル基、アリール
基、アリールオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、−
級、二級又は三級アミノ基、アルコキシ力ルポニルアミ
ノ基、或いはアルキルアミノカルボニルオキシ基により
置換されてよい。一般的にR1は15〜200、好まし
くは60〜150の分子量を有する。R2は水素或いは
/%ロゲン原子或いはR1の意味を有する基である。
好ましくは、R2はR1の意味を有する基であり、R及
びR2は同種或いは異種であることが可能である。
びR2は同種或いは異種であることが可能である。
R3及びR4はR2と同一の一般的意味を有するが、し
かし好ましくはこれらの基の少なくとも一つは水素原子
である。
かし好ましくはこれらの基の少なくとも一つは水素原子
である。
R、R及びR7はR3及びR4と同一の意味を有し、加
えてアリール基或いは一般式(n)の基、特にハロゲン
原子(特にフッ素、塩素或いは臭素)或いはアルキル基
である。好ましくは、これらの基の少なくとも一つは水
素原子である。
えてアリール基或いは一般式(n)の基、特にハロゲン
原子(特にフッ素、塩素或いは臭素)或いはアルキル基
である。好ましくは、これらの基の少なくとも一つは水
素原子である。
一般的に、R1乃至R7の基は合計で少なくとも5個、
好ましくは12〜40個の炭素原子を含有する。一般式
(I)の化合物の分子量はこれらの基により9−フェニ
ルアクリジンに比べて通常60〜800、好ましくは1
00〜700、特に200〜600増大される。
好ましくは12〜40個の炭素原子を含有する。一般式
(I)の化合物の分子量はこれらの基により9−フェニ
ルアクリジンに比べて通常60〜800、好ましくは1
00〜700、特に200〜600増大される。
少なくとも1個のR乃至R7基が芳香族であす
るか或いはそれを含む化合物が好ましい。通常、R乃至
R7の少なくとも1個は水素と異り、それは好ましくは
R2基である。置換基R1乃至R4の少なくとも一つに
ハロゲン原子、特にフッ素、塩素或いは臭素原子を含有
する化合物も又有利に用いられる。好ましくは、エーテ
ル、カルボニル或いはエステル酸素原子であってよい少
なくとも1個の酸素原子を(任意に芳香族基に加えて)
含有する置換基が用いられる。
R7の少なくとも1個は水素と異り、それは好ましくは
R2基である。置換基R1乃至R4の少なくとも一つに
ハロゲン原子、特にフッ素、塩素或いは臭素原子を含有
する化合物も又有利に用いられる。好ましくは、エーテ
ル、カルボニル或いはエステル酸素原子であってよい少
なくとも1個の酸素原子を(任意に芳香族基に加えて)
含有する置換基が用いられる。
一般式(I)の化合物は純粋形態にて存在して使用され
るか、例えば合成時に生成される物質混合物として相互
の混合物として存在して使用される。このタイプの混合
物は純粋化合物よりも被覆溶媒中のより良好な可溶性の
利点を有する。
るか、例えば合成時に生成される物質混合物として相互
の混合物として存在して使用される。このタイプの混合
物は純粋化合物よりも被覆溶媒中のより良好な可溶性の
利点を有する。
一般式(I)の幾つかの化合物は既に公知であり、例え
ばJ、 Org、 Chew、 29.2857 (I
964)又はJ、 Chew、 Soc、 (oンド
ン) C1967,2071及びCl968.2900
から2,7−ジベンゾイル−9−フェニルアクリジンが
知られている。それらには光開始剤としての有用性は述
べられていない。
ばJ、 Org、 Chew、 29.2857 (I
964)又はJ、 Chew、 Soc、 (oンド
ン) C1967,2071及びCl968.2900
から2,7−ジベンゾイル−9−フェニルアクリジンが
知られている。それらには光開始剤としての有用性は述
べられていない。
一般式(I)の化合物は、ジフェニルアミン或いはその
単純な置換生成物、例えば4.4′ −ジメチルジフェ
ニルアミン、3−メチルジフェニルアミン或いは4−ク
ロロジフェニルアミンを安息香酸或いは単純な安息香酸
誘導体、例えばtert−ブチル−安息香酸、ベンゾフ
ェノン−4−カルボン酸、ジフェニル−4−カルボン酸
、4−アミノメチル安息香酸或いはテレフタル酸と適当
な反応媒体例えばポリリン酸中で約150〜200℃で
反応させることにより合成される。
単純な置換生成物、例えば4.4′ −ジメチルジフェ
ニルアミン、3−メチルジフェニルアミン或いは4−ク
ロロジフェニルアミンを安息香酸或いは単純な安息香酸
誘導体、例えばtert−ブチル−安息香酸、ベンゾフ
ェノン−4−カルボン酸、ジフェニル−4−カルボン酸
、4−アミノメチル安息香酸或いはテレフタル酸と適当
な反応媒体例えばポリリン酸中で約150〜200℃で
反応させることにより合成される。
ジフェニルアミンを用いて、R1が、そのカルボニル基
が例えばボロン酸ナトリウムとの反応により−CHOH
基に還元されることのできる任意に置換されたベンゾイ
ル基である一般式(I)のアクリジン化合物が得られる
。数多くの配列中の更なる誘導体がOH基の酸無水物、
イソシアネートとの反応、フェノールとの縮合反応或い
はエステル化により可能である。
が例えばボロン酸ナトリウムとの反応により−CHOH
基に還元されることのできる任意に置換されたベンゾイ
ル基である一般式(I)のアクリジン化合物が得られる
。数多くの配列中の更なる誘導体がOH基の酸無水物、
イソシアネートとの反応、フェノールとの縮合反応或い
はエステル化により可能である。
一般式(I)の適当な化合物の具体例としては、2.7
−ジベンゾイル−9−フェニルアクリジン、2.7−ビ
ス(α−ヒドロキシベンジル)−9−フェニルアクリジ
ン、2,7−ビス(α−アセトキシベンジル)−9−フ
ェニルアクリジン、2゜7−シメチルー9− (4−メ
チルフェニル)アクリジン、2,7−シメチルー9−フ
ェニルアクリジン、2.7−ビス(3,4−ジメチル−
ベンゾイル)−9−(3,4−ジメチルフェニル)アク
リジン、2.7−ビス(α−アセトキシ−4−tert
−ブチルベンジル)−9−(4−tert−ブチルフェ
ニル)アクリジン、2.7−シメチルー9−(3,4−
ジクロロフェニル)アクリジン、2.7−シメチルー9
−(4−ベンゾイルフェニル)アクリジン、2,7−ビ
ス(2−クロロベンゾイル)−9−(2−クロロフェニ
ル)アクリジン、2− (α−ヒドロキシ−3−ブロモ
ベンジル)−6−メチル−9−(3−ブロモフェニル)
アクリジン、2,5−ビス(4−tert−ブチルベン
ゾイル)−9−(4−tert−ブチルフェニル)アク
リジン、1.4−ビス(2,7−シメチルー9−アクリ
ジニル)ベンゼン、2,7−ビス(α−フェニルアミノ
カルボニルオキシ−3,4−ジメチルベンジル)9−
(3,4−ジメチルフェニル)アクリジン及び2,7−
ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシ−4′−フル
オロジフェニルメチル)−9−(4−フルオロフェニル
)アクリジン等が挙げられる。
−ジベンゾイル−9−フェニルアクリジン、2.7−ビ
ス(α−ヒドロキシベンジル)−9−フェニルアクリジ
ン、2,7−ビス(α−アセトキシベンジル)−9−フ
ェニルアクリジン、2゜7−シメチルー9− (4−メ
チルフェニル)アクリジン、2,7−シメチルー9−フ
ェニルアクリジン、2.7−ビス(3,4−ジメチル−
ベンゾイル)−9−(3,4−ジメチルフェニル)アク
リジン、2.7−ビス(α−アセトキシ−4−tert
−ブチルベンジル)−9−(4−tert−ブチルフェ
ニル)アクリジン、2.7−シメチルー9−(3,4−
ジクロロフェニル)アクリジン、2.7−シメチルー9
−(4−ベンゾイルフェニル)アクリジン、2,7−ビ
ス(2−クロロベンゾイル)−9−(2−クロロフェニ
ル)アクリジン、2− (α−ヒドロキシ−3−ブロモ
ベンジル)−6−メチル−9−(3−ブロモフェニル)
アクリジン、2,5−ビス(4−tert−ブチルベン
ゾイル)−9−(4−tert−ブチルフェニル)アク
リジン、1.4−ビス(2,7−シメチルー9−アクリ
ジニル)ベンゼン、2,7−ビス(α−フェニルアミノ
カルボニルオキシ−3,4−ジメチルベンジル)9−
(3,4−ジメチルフェニル)アクリジン及び2,7−
ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシ−4′−フル
オロジフェニルメチル)−9−(4−フルオロフェニル
)アクリジン等が挙げられる。
本発明による混合物中の化合物の量的比率は非揮発性成
分に基づき通常0.01〜10重量、好ましくは0.1
〜5重二%である。
分に基づき通常0.01〜10重量、好ましくは0.1
〜5重二%である。
本発明の目的のために適した重合性化合物は公知であり
、例えばUS−A−2,760,863号及び3,06
0.023号各明細書に記載されている。
、例えばUS−A−2,760,863号及び3,06
0.023号各明細書に記載されている。
好ましい具体例は、−価或いは多価、好ましくは少なく
とも二価のアルコール類のアクリレート類及びメタクリ
レート類、例えばエチレングリコールジアクリレート、
ポリエチレングリコールジメタクリレート、トリメチロ
ールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリ
トール及びジペンタエリスリトール及び多価脂環式アル
コール類のアクリレート類及びメータノール類或いはN
−置換アクリル及びメタクリル酸アミド類である。
とも二価のアルコール類のアクリレート類及びメタクリ
レート類、例えばエチレングリコールジアクリレート、
ポリエチレングリコールジメタクリレート、トリメチロ
ールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリ
トール及びジペンタエリスリトール及び多価脂環式アル
コール類のアクリレート類及びメータノール類或いはN
−置換アクリル及びメタクリル酸アミド類である。
モノ−或いはジイソシアネート類と多価アルコール類の
部分エステル類との反応生成物も又有利に用いられる。
部分エステル類との反応生成物も又有利に用いられる。
このタイプの単量体はDE−A−2,064,079号
、2,361.041号及び2,822,190号各明
細書に記載されている。被覆中の単量体の量的比率は通
常約10〜80重量%、好ましくは20〜60重量%で
ある。
、2,361.041号及び2,822,190号各明
細書に記載されている。被覆中の単量体の量的比率は通
常約10〜80重量%、好ましくは20〜60重量%で
ある。
この混合物は又、加えて重合体バインダーを含有する。
数多くの可溶性有機重合体をバインダーとして使用する
ことができる。
ことができる。
具体例としては、ポリアミド類、ポリビニルエステル類
、ポリビニルアセタール類、ポリビニルエーテル類、エ
ポキシ樹脂類、ポリアクリル酸エステル類、ポリメタク
リル酸エステル類、ポリエステル類、アルキッド樹脂類
、ポリアクリルアミド、ポリビニルアルコール、ポリエ
チレンオキシド、ポリジメチルアクリルアミド、ポリビ
ニルピロリドン、ポリビニルメチルホルムアミド、ポリ
ビニルメチルアセタミド及び又掲記した単独重合体を形
成する単量体の共重合体が挙げられる。
、ポリビニルアセタール類、ポリビニルエーテル類、エ
ポキシ樹脂類、ポリアクリル酸エステル類、ポリメタク
リル酸エステル類、ポリエステル類、アルキッド樹脂類
、ポリアクリルアミド、ポリビニルアルコール、ポリエ
チレンオキシド、ポリジメチルアクリルアミド、ポリビ
ニルピロリドン、ポリビニルメチルホルムアミド、ポリ
ビニルメチルアセタミド及び又掲記した単独重合体を形
成する単量体の共重合体が挙げられる。
更に、天然物質或いは変成天然物質、例えばゼラチン及
びセルロースエーテルがバインダーとして可能である。
びセルロースエーテルがバインダーとして可能である。
水不溶性であるがしかしアルカリ水溶液に可溶性である
か少なくとも潤滑性であるバインダーの使用は、そのよ
うなバインダーを含有する被覆が好ましい水性アルカリ
性現像液で現像することができるので特に有利である。
か少なくとも潤滑性であるバインダーの使用は、そのよ
うなバインダーを含有する被覆が好ましい水性アルカリ
性現像液で現像することができるので特に有利である。
そのようなバインダーは例えば次のような基を含んでよ
いニーCoon%ROH−5o3H; 3 2ゝ 一8ONH−−SO−NH−8o2−及び一8O2−N
H−CO− その具体例としては、マレアート樹脂類、β−(メタク
リロイルオキシエチルN−(p−)リルスルホニル)カ
ルバメートの重合体、及び後者及び同様な単量体と酢酸
ビニル/無水クロトン酸及びスチレン/無水マレイン酸
等のその他の単量体との共重合体が挙げられる。DE−
A−2,064,080号及び2,363,806号に
記載されているようなアルキルメタクリレート/メタク
リル酸共重合体及びメタクリル酸、高級アルキルメタク
リレート及びメチルメタクリレート及び/又はスチレン
、アクリロニトリル等の共重合体が好ましい。
いニーCoon%ROH−5o3H; 3 2ゝ 一8ONH−−SO−NH−8o2−及び一8O2−N
H−CO− その具体例としては、マレアート樹脂類、β−(メタク
リロイルオキシエチルN−(p−)リルスルホニル)カ
ルバメートの重合体、及び後者及び同様な単量体と酢酸
ビニル/無水クロトン酸及びスチレン/無水マレイン酸
等のその他の単量体との共重合体が挙げられる。DE−
A−2,064,080号及び2,363,806号に
記載されているようなアルキルメタクリレート/メタク
リル酸共重合体及びメタクリル酸、高級アルキルメタク
リレート及びメチルメタクリレート及び/又はスチレン
、アクリロニトリル等の共重合体が好ましい。
バインダーの量は通常被覆の構成成分の20〜90重量
%、好ましくは40〜80重量%である。
%、好ましくは40〜80重量%である。
計画された応用に応じ、且つ所望特性に応じて光重合性
混合物は各種物質を添加剤として含有してよい。
混合物は各種物質を添加剤として含有してよい。
具体例としては:
単量体の熱重合防止用防止剤、
水素供与体、
このタイプの被覆の分光感光度を変成する物質、色素、
着色及び無色顔料、
発色剤、
指示薬、
可塑剤、例えばポリグリコール類或いはp−ヒドロキシ
安息香酸のエステル類等、 が挙げられる。
安息香酸のエステル類等、 が挙げられる。
これらの構成成分は開始過程において重要である化学放
射線領域において、それらがなるべく少ない吸収を有す
るように選ぶのが有利である。
射線領域において、それらがなるべく少ない吸収を有す
るように選ぶのが有利である。
この説明の目的のためには化学放射線とはそのエネルギ
ーが短波可視光線のそれに少なくとも同等である任意の
放射線を意味するものと了解されるべきである。長波紫
外線及び又電子線、X−線及びレーザー光線が適したも
のである。
ーが短波可視光線のそれに少なくとも同等である任意の
放射線を意味するものと了解されるべきである。長波紫
外線及び又電子線、X−線及びレーザー光線が適したも
のである。
この光重合性混合物は各種応用に対して、例えば歯科学
の分野において、光又は粒子線例えば電子線により硬化
される安全ガラス、ラッカーを生成するために、及び特
に再生の分野において感光性複写材料として用いられる
。
の分野において、光又は粒子線例えば電子線により硬化
される安全ガラス、ラッカーを生成するために、及び特
に再生の分野において感光性複写材料として用いられる
。
本発明の分野は後者の応用分野に限られるが、しかし本
発明はそれに限定されるものではない。
発明はそれに限定されるものではない。
この分野における可能性のある応用としては、印字印刷
、フォトリソグラフィー、グラビア印刷、スクリーン印
刷用印刷形の先機械的製造用複写被覆、及び浮出し印刷
、例えばブライユ点字におけるテキストの製造、単一コ
ピー、タンニン画像、カーボン画像等が挙げられる。更
に、これらの混合物はエッチレジストの光機械的製造、
例えば名札、複製回路の製造及び成形部品のエツチング
に用いられる。本発明による混合物はリソグラフィー印
刷形の製造及びフォトレジスト技術のための複写被覆と
して特に重要である。
、フォトリソグラフィー、グラビア印刷、スクリーン印
刷用印刷形の先機械的製造用複写被覆、及び浮出し印刷
、例えばブライユ点字におけるテキストの製造、単一コ
ピー、タンニン画像、カーボン画像等が挙げられる。更
に、これらの混合物はエッチレジストの光機械的製造、
例えば名札、複製回路の製造及び成形部品のエツチング
に用いられる。本発明による混合物はリソグラフィー印
刷形の製造及びフォトレジスト技術のための複写被覆と
して特に重要である。
該応用目的のためには、この混合物は商業的には液体溶
液又は分散液、例えばフォトレジスト溶液として利用さ
れ、それはユーザー自身により例えばスクリーン印刷鋳
型等の複製回路の製造のための成形部品エツチング用に
個々のベースに適用される。この混合物は又、例えばプ
リント形の製造用に貯蔵可能な予備被覆感光性被覆材料
の形の適当なベース上の固体感光性被覆の形態を取って
もよい。それは又乾燥レジストの製造にも適している。
液又は分散液、例えばフォトレジスト溶液として利用さ
れ、それはユーザー自身により例えばスクリーン印刷鋳
型等の複製回路の製造のための成形部品エツチング用に
個々のベースに適用される。この混合物は又、例えばプ
リント形の製造用に貯蔵可能な予備被覆感光性被覆材料
の形の適当なベース上の固体感光性被覆の形態を取って
もよい。それは又乾燥レジストの製造にも適している。
これらの混合物は光重合時に大気酸素の影響から十分に
排除することが一般的に有益である。この混合物を薄い
複写被覆の形態で用いる場合には、酸素に対して低送過
程の適当な頂部フィルムを用いるのがよい。後者は自己
支持性であってよく、複写被覆が現像される前に剥離さ
れてよい。この目的のためには、例えばポリエステルフ
ィルムが適している。頂部フィルムは又現像液に溶解す
るか或いは現像時に少なくとも非硬化点において除去さ
れる材料から構成されてもよい。この目的のために適し
た材料は例えばワックス類、ポリビニルアルコール、ポ
リフォスフェート、糖等である。
排除することが一般的に有益である。この混合物を薄い
複写被覆の形態で用いる場合には、酸素に対して低送過
程の適当な頂部フィルムを用いるのがよい。後者は自己
支持性であってよく、複写被覆が現像される前に剥離さ
れてよい。この目的のためには、例えばポリエステルフ
ィルムが適している。頂部フィルムは又現像液に溶解す
るか或いは現像時に少なくとも非硬化点において除去さ
れる材料から構成されてもよい。この目的のために適し
た材料は例えばワックス類、ポリビニルアルコール、ポ
リフォスフェート、糖等である。
本発明の混合物を用いて製造される複写材料用の適当な
被覆ベースは例えばアルミニウム、鋼、亜鉛、銅及びプ
ラスチックフィルム例えばポリエチレンテレフタレート
或いはセルロースアセテートから作られたもの及びバー
ロンガーゼ等のスクリーン印刷ベース等である。
被覆ベースは例えばアルミニウム、鋼、亜鉛、銅及びプ
ラスチックフィルム例えばポリエチレンテレフタレート
或いはセルロースアセテートから作られたもの及びバー
ロンガーゼ等のスクリーン印刷ベース等である。
本発明の混合物を用いる感光性材料は公知の方法で製造
され得る。
され得る。
即ち、それを溶液にとり、溶媒或いは分散液をローラー
等を用いる注液、スプレー、浸漬塗布により設けられた
ベースにフィルムとして塗布した後乾燥する厚い被5I
(例えば250μm以上)は自己支持性フィルムとして
押出し或いはプレスにより製造するのが有利であり、そ
れは次いでおそらくベースに積層される。乾燥レジスト
の場合に混合物の溶液を透明ベースに塗布し乾燥する。
等を用いる注液、スプレー、浸漬塗布により設けられた
ベースにフィルムとして塗布した後乾燥する厚い被5I
(例えば250μm以上)は自己支持性フィルムとして
押出し或いはプレスにより製造するのが有利であり、そ
れは次いでおそらくベースに積層される。乾燥レジスト
の場合に混合物の溶液を透明ベースに塗布し乾燥する。
この感光性被覆(厚み約10〜100μm)を次いで又
、最初は一時的ベースと共に積層して目的基材に積層す
る。
、最初は一時的ベースと共に積層して目的基材に積層す
る。
これらの材料の処理は公知の方法で行われる。
現像目的のためには、それらを適当な現像液、好ましく
は弱アルカリ性水溶液で処理し、その処理に際し被覆の
未露光部分は除去され、複写被覆の露光領域はベース上
に残る。
は弱アルカリ性水溶液で処理し、その処理に際し被覆の
未露光部分は除去され、複写被覆の露光領域はベース上
に残る。
本発明による複写材料は貯蔵時の光感度の損失が低いこ
とが顕著である。この利点は明らかに未置換9−フェニ
ルアクリジンと比較して光重合性被覆における開始剤の
より高い耐拡散性によるものである。これに関連して置
換基がアクリジン核の2−位或いは好ましくは2,7−
位にあることが肝要である。これらの開始剤は、光硬化
された被覆から移行しないか、或いは公知の開始剤より
移行の程度が実質的に小さい。
とが顕著である。この利点は明らかに未置換9−フェニ
ルアクリジンと比較して光重合性被覆における開始剤の
より高い耐拡散性によるものである。これに関連して置
換基がアクリジン核の2−位或いは好ましくは2,7−
位にあることが肝要である。これらの開始剤は、光硬化
された被覆から移行しないか、或いは公知の開始剤より
移行の程度が実質的に小さい。
本発明の具体例を以下に示す。ここでは−最大(I)の
化合物の製造を先ず説明する。次いで、表Iに応用例の
光重合性混合物に用いられる光開始剤を示す。
化合物の製造を先ず説明する。次いで、表Iに応用例の
光重合性混合物に用いられる光開始剤を示す。
具体例中、重量部(pbv)及び要領部(pbv )は
g対ccm比である。特に断りのない限り、パーセント
及び量比は重量単位である。
g対ccm比である。特に断りのない限り、パーセント
及び量比は重量単位である。
製造例
1 pbvのジフェニルアミン及び15pbνのポリリ
ン酸を攪拌しながら100℃に加熱した。
ン酸を攪拌しながら100℃に加熱した。
2、 5pbvの安息香酸を添加後、混合物の加熱を2
00℃で45分間行った。100℃に冷却後、混合物を
70pbwの水中に注ぎ、生成物を戸別し精製した(融
点210℃)。
00℃で45分間行った。100℃に冷却後、混合物を
70pbwの水中に注ぎ、生成物を戸別し精製した(融
点210℃)。
1 pbvの2.7−ジベンゾイル−9−フェニルアク
リジンを4 pbwのエタノールに懸濁させ、0、Ol
pbwのボロン酸ナトリウムを20〜50℃で分割添加
することにより還元した。24時間後、反応生成物を水
で沈澱させ、精製乾燥した(融点280℃を越える)。
リジンを4 pbwのエタノールに懸濁させ、0、Ol
pbwのボロン酸ナトリウムを20〜50℃で分割添加
することにより還元した。24時間後、反応生成物を水
で沈澱させ、精製乾燥した(融点280℃を越える)。
1 pbvの2,7−ビス(α−ヒドロキシベンジル)
−9−フェニルアクリジンを4 pbvのアセトン中に
懸濁させ0.8pbvの無水酢酸及び0.001bpv
の4−ジメチルアミノピリジンと共に1時間加熱還流し
た。次いで混合物に水を添加し、生成物を戸別した。
−9−フェニルアクリジンを4 pbvのアセトン中に
懸濁させ0.8pbvの無水酢酸及び0.001bpv
の4−ジメチルアミノピリジンと共に1時間加熱還流し
た。次いで混合物に水を添加し、生成物を戸別した。
4.2.7−シメチルー9−(pl−リル)アク1モル
の4.4′ −ジメチルジフェニルアミン及び1モルの
4−メチル安息香酸を5000gのポリリン酸中で20
0℃で1時間加熱した。冷却後、水及びアンモニアを反
応液に添加し、生成物を吸引により戸別し精製した(融
点210〜211℃)。
の4.4′ −ジメチルジフェニルアミン及び1モルの
4−メチル安息香酸を5000gのポリリン酸中で20
0℃で1時間加熱した。冷却後、水及びアンモニアを反
応液に添加し、生成物を吸引により戸別し精製した(融
点210〜211℃)。
R3−R4−R7−Hを有する一般式(I)の化合物応
用例1 次の三つの被覆溶液を下記成分から調製した:50 p
bw (7)平均分子量(Mw−70,000)を有す
るメチルメタクリレート、n−へキシルメタクリレート
及びメタクリル酸(5: 60 : 35)の三元重合
体、 11pbwの2モルのヒドロキシエチルメタクリレート
と1モルの2.2.4−)ジメチルへキサメチレンジイ
ソシアネートから形成されたジウレタン、 39bpwの1モルのヒドロキシメチルアクリレート、
2モルのカプロラクトン及び1モルのn−ブチルイソシ
アネートから形成された反応生成物、0.1pbνの青
色色素1,4−ビスイソブチルアミノアントラキノン(
C,1,61551)、160 pbwのブタノン及び 40bpwのエタノールに、 a 0. 51.bpwの9−フェニルアクリジン(
分子ff1255;比較) b 0. 926bpvの化合物1(分子R464)
c 1. 102pbvの化合物3(分子ff155
2)、を光開始剤として添加した。
用例1 次の三つの被覆溶液を下記成分から調製した:50 p
bw (7)平均分子量(Mw−70,000)を有す
るメチルメタクリレート、n−へキシルメタクリレート
及びメタクリル酸(5: 60 : 35)の三元重合
体、 11pbwの2モルのヒドロキシエチルメタクリレート
と1モルの2.2.4−)ジメチルへキサメチレンジイ
ソシアネートから形成されたジウレタン、 39bpwの1モルのヒドロキシメチルアクリレート、
2モルのカプロラクトン及び1モルのn−ブチルイソシ
アネートから形成された反応生成物、0.1pbνの青
色色素1,4−ビスイソブチルアミノアントラキノン(
C,1,61551)、160 pbwのブタノン及び 40bpwのエタノールに、 a 0. 51.bpwの9−フェニルアクリジン(
分子ff1255;比較) b 0. 926bpvの化合物1(分子R464)
c 1. 102pbvの化合物3(分子ff155
2)、を光開始剤として添加した。
これらの溶液を25μmの厚さを有する二軸配向及び熱
硬化ポリエチレンテレフタレートフィルムに100℃で
の乾燥後45g/ゴの被覆重量が常に得られるように塗
布した。
硬化ポリエチレンテレフタレートフィルムに100℃で
の乾燥後45g/ゴの被覆重量が常に得られるように塗
布した。
ドライレジスト被覆を粉塵による汚染及び°傷から防護
するために、それらを23μm厚のポリエチレンフィル
ム頂部フィルムで被覆して巻き上げた。それらは次いで
長時間光を排除して貯蔵することができる。これらのロ
ール(ポリエチレンフィムが外側)は市販の接着剤テー
プで固定された。
するために、それらを23μm厚のポリエチレンフィル
ム頂部フィルムで被覆して巻き上げた。それらは次いで
長時間光を排除して貯蔵することができる。これらのロ
ール(ポリエチレンフィムが外側)は市販の接着剤テー
プで固定された。
ロールを40℃で24時間貯蔵後、レジストを処理した
。
。
接着剤テープを剥離すると、ポリエチレン頂部フィルム
によりレジストから分離されているものの、テープは拡
散したアントラキノン色素により明青色に着色された。
によりレジストから分離されているものの、テープは拡
散したアントラキノン色素により明青色に着色された。
接着剤テープが微量の光開始剤も含有したか否かを試験
するためにUVスペクトルを分光光度計パーキンエルマ
ーラムダ3型を用いて350〜450nmで記録した。
するためにUVスペクトルを分光光度計パーキンエルマ
ーラムダ3型を用いて350〜450nmで記録した。
比較試料と対比して、試料の接着剤テープは358nm
にピーク(消光率−0,12)を示した。明青色接着剤
テープb及びCは350及び450nmの間に追加の消
光を示さなかった。それらは如何なる光開始剤も含有し
なかった。
にピーク(消光率−0,12)を示した。明青色接着剤
テープb及びCは350及び450nmの間に追加の消
光を示さなかった。それらは如何なる光開始剤も含有し
なかった。
これらのドライレジストフィルムを市販の積層装置内で
115℃で35μmの厚みを有する銅箔で被覆されたフ
ェノール積層体パネルに積層し、5kwのハロゲン化金
属ランプによりランプと真空複写枠の間の110cmの
距離で4秒間露光した。
115℃で35μmの厚みを有する銅箔で被覆されたフ
ェノール積層体パネルに積層し、5kwのハロゲン化金
属ランプによりランプと真空複写枠の間の110cmの
距離で4秒間露光した。
用いられたマスターは0.15の密度増加を含んだ13
−ステップの露光ウェッジであった。この操作において
、露光ウェッジは元々ポリエチレンフィルム及び接着剤
テープにより被覆されていた部分に配置されるように置
かれた。
−ステップの露光ウェッジであった。この操作において
、露光ウェッジは元々ポリエチレンフィルム及び接着剤
テープにより被覆されていた部分に配置されるように置
かれた。
露光後、ポリエステルフィルムを剥離し、被覆を1%−
強度の炭酸ナトリウム溶液でスプレー現像装置内で60
秒間現像した。
強度の炭酸ナトリウム溶液でスプレー現像装置内で60
秒間現像した。
試料aは露光不足で、レジストはステップ5迄しか硬化
されたに過ぎず、再生された線は10%狭すぎた。他方
、試料す及びCのステップウェッジはステップ6迄硬化
された。80μm幅の透明黒色線を有する試験マスター
が隆起画像としてスケールに忠実に再生された。
されたに過ぎず、再生された線は10%狭すぎた。他方
、試料す及びCのステップウェッジはステップ6迄硬化
された。80μm幅の透明黒色線を有する試験マスター
が隆起画像としてスケールに忠実に再生された。
例2
a O,70pbvの9−(3,4−ジメチルフェニ
ル)アクリジン(分子!283、比較)、bO,70p
bνの化合物5(分子Jii28B)、c 1. 3
5pbvの化合物6(分子量547)、を光開始剤とし
て下記成分により構成される被覆溶液に溶解した: 520 pbvの2−メトキシエタノール中の40pb
νのメタクリレートとメタクリル酸の共重合体(酸敗1
15)、 40 pbvのトリメチロールプロパントリアクリレー
ト及び 0、5pbvのデイスパースブルー134(C。
ル)アクリジン(分子!283、比較)、bO,70p
bνの化合物5(分子Jii28B)、c 1. 3
5pbvの化合物6(分子量547)、を光開始剤とし
て下記成分により構成される被覆溶液に溶解した: 520 pbvの2−メトキシエタノール中の40pb
νのメタクリレートとメタクリル酸の共重合体(酸敗1
15)、 40 pbvのトリメチロールプロパントリアクリレー
ト及び 0、5pbvのデイスパースブルー134(C。
1.61551)。
これらの溶液を陽極化により硬化された、電解的に粗面
化された0、3mm厚のアルミニウムにスピニングによ
り塗布した。被覆を100℃で2分間乾燥したところ、
2.4g/rr?の被m重量が得られた。
化された0、3mm厚のアルミニウムにスピニングによ
り塗布した。被覆を100℃で2分間乾燥したところ、
2.4g/rr?の被m重量が得られた。
汚染防止の目的で、これらの被覆された、僅かに粘着性
の感光性パネルを室温で20μm厚のポリエチレンフィ
ルムで被覆した。
の感光性パネルを室温で20μm厚のポリエチレンフィ
ルムで被覆した。
このようにして得られた印刷版を0.15の密度増加を
含有する13−ステップの露光つJ−ツジと共にネガマ
スターの下で110cmの距離から5kwのハロゲン化
金属ランプにより15分間露光した。
含有する13−ステップの露光つJ−ツジと共にネガマ
スターの下で110cmの距離から5kwのハロゲン化
金属ランプにより15分間露光した。
光により硬化されなかった部分は下記組成を有する現像
液で拭うことにより除去された:3 pbwのナトリウ
ムメタシリケート9水和物、0.05pbvの塩化スト
ロンチウム、0.03pbwの非イオン発生湿潤剤(ヤ
シバターアルコール/約8個のオキシエチレン単位含有
ポリオキシエチレンエーテル)、 0.003pbwの消泡剤、 100 pbwの完全軟化水。
液で拭うことにより除去された:3 pbwのナトリウ
ムメタシリケート9水和物、0.05pbvの塩化スト
ロンチウム、0.03pbwの非イオン発生湿潤剤(ヤ
シバターアルコール/約8個のオキシエチレン単位含有
ポリオキシエチレンエーテル)、 0.003pbwの消泡剤、 100 pbwの完全軟化水。
露光ウェッジの完全硬化段階数は感光性測定の係数を与
える。これらの値を下表の(A)に掲げる。
える。これらの値を下表の(A)に掲げる。
開始剤のポリエチレンフィルムを通しての拡散を明らか
にするために、市販の無色透明接着剤テープを各場合の
一つの試料パネル上にプレスし、二の複合体を室温(2
3℃)で24時間貯蔵した。
にするために、市販の無色透明接着剤テープを各場合の
一つの試料パネル上にプレスし、二の複合体を室温(2
3℃)で24時間貯蔵した。
接着剤フィルムを次いで再び剥離し、(B)358龍m
における光学濃度の増加をn1定した。
における光学濃度の増加をn1定した。
13グレーステツプを有する露光試験ウェッジを接着剤
フィルムが除去された位置に置き(実験C)、印刷版を
15秒間露光した後上記の如く現像した。
フィルムが除去された位置に置き(実験C)、印刷版を
15秒間露光した後上記の如く現像した。
下表に示す結果は、開始剤が試料aから最も強く拡散し
、試料すからは著しく少ない程度に拡散し、試料Cから
は拡散しないことを示している。
、試料すからは著しく少ない程度に拡散し、試料Cから
は拡散しないことを示している。
例3
a 1pbvの化合物7或いは
b 1pbvのイソプロピルチオキサントン及び2
pbvのp−ジメチルアミノベンゾエート(市販のフォ
トレジストの開始剤混合物)、を下記成分により構成さ
れる被覆溶液に開始剤として添加したニ ア5pbvのブタノン及び 75pbwのエタノール中の 65 pbwのメチルメタクリレート、ブチルアクリレ
ート、スチレン及びメタクリル酸(35:4075:2
0>の共重合体、 35pbvのトリメチロールプロパントリアクリレート
、 1 pbvのロイコクリスタルバイオレット、及び0.
05pbvのクリスタルバイオレット。
pbvのp−ジメチルアミノベンゾエート(市販のフォ
トレジストの開始剤混合物)、を下記成分により構成さ
れる被覆溶液に開始剤として添加したニ ア5pbvのブタノン及び 75pbwのエタノール中の 65 pbwのメチルメタクリレート、ブチルアクリレ
ート、スチレン及びメタクリル酸(35:4075:2
0>の共重合体、 35pbvのトリメチロールプロパントリアクリレート
、 1 pbvのロイコクリスタルバイオレット、及び0.
05pbvのクリスタルバイオレット。
これらの溶液を例1と同様にしてポリエチレンテレフタ
レートフィルムに塗布し、乾燥し、銅箔に積層し、露光
及び現像した。次いで、最適露光時間を決定した。
レートフィルムに塗布し、乾燥し、銅箔に積層し、露光
及び現像した。次いで、最適露光時間を決定した。
更に実験を、上記の如く生成及び現像されたパネルを水
道水で30秒濯ぎ、15%強度のアンモニウムバーオキ
ソジサルフエート溶液中で30秒初めてエツチングし、
水で再び濯ぎ、10%強度の硫酸に30秒浸漬し、次い
で逐次下記電解質浴において電気メツキした: (I) 5ch15tLer、 Geisllngen
/SLe1ge r明色銅浴」タイプにより供給され
る鋼重解質洛中(;60分間 電流密度:2.5A/dm2 金属蓄積=30μm 温度:室温 (2) 5ch16tter、 Geisllngen
/Ste1geにより供給される銅−スズ浴LA中に
15分間 電流密度:2A/dm2 金属蓄積:15μm 温度:室温 これらのプレートは如何なる侵食或いは傷を示さなかっ
た。
道水で30秒濯ぎ、15%強度のアンモニウムバーオキ
ソジサルフエート溶液中で30秒初めてエツチングし、
水で再び濯ぎ、10%強度の硫酸に30秒浸漬し、次い
で逐次下記電解質浴において電気メツキした: (I) 5ch15tLer、 Geisllngen
/SLe1ge r明色銅浴」タイプにより供給され
る鋼重解質洛中(;60分間 電流密度:2.5A/dm2 金属蓄積=30μm 温度:室温 (2) 5ch16tter、 Geisllngen
/Ste1geにより供給される銅−スズ浴LA中に
15分間 電流密度:2A/dm2 金属蓄積:15μm 温度:室温 これらのプレートは如何なる侵食或いは傷を示さなかっ
た。
これらのレジスト構成成分が電気メツキ浴中に拡散する
か否かを試験するために、ガラス板を0.075龍のレ
ジストで被覆し、1gの20%強度の硫酸中に1時間浸
漬した。いずれの場合にも硫酸は無色であった。両硫酸
抽出液のUVスぺクトル(200〜800nm)を次い
で分光光度計(I011セル)で記録した。b)は22
5nmに明確なピークを示しく消光率−0,95)、開
始剤系の幾らかは硫酸中に移行し、a)は汚染を示さな
かった。
か否かを試験するために、ガラス板を0.075龍のレ
ジストで被覆し、1gの20%強度の硫酸中に1時間浸
漬した。いずれの場合にも硫酸は無色であった。両硫酸
抽出液のUVスぺクトル(200〜800nm)を次い
で分光光度計(I011セル)で記録した。b)は22
5nmに明確なピークを示しく消光率−0,95)、開
始剤系の幾らかは硫酸中に移行し、a)は汚染を示さな
かった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、必須構成成分として、 a)重合体バインダー、 b)少なくとも1個の末端オレフィン性二重結合及び常
温において100℃を超える沸点を有する重合性化合物
、及び c)光開始剤としての9−アリールアクリジン化合物、
を含有する光重合性混合物であって、アクリジン化合物
が下記一般式( I )で表わされることを特徴とする、
光重合性混合物。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、 R^1は任意に置換されたアルキル或いはアシル基を示
し、R^2、R^3及びR^4は同一或いは異って水素
或いはハロゲン原子、或いは任意に置換されたアルキル
或いはアシル基を示し、 R^5、R^6及びR^7は同一或いは異って水素或い
はハロゲン原子、或いは任意に置換されたアルキル、ア
リール或いはアシル基、或いは下記一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) で表わされる基を示す。〕 2、R^3、R^4及びR^5が水素原子である、請求
項1に記載の光重合性混合物。 3、R^1乃至R^7が一緒に少なくとも6個の炭素原
子を含有する、請求項1に記載の光重合性混合物。 4、R^1乃至R^7の少なくとも1個の基が芳香族基
を含有する、請求項1に記載の光重合性混合物。 5、R^2乃至R^7の少なくとも1個の基が水素と異
る、請求項1に記載の光重合性混合物。 6、R^1乃至R^7基が一緒に一般式( I )の化合
物の分子量を100〜700増大する、請求項1に記載
の光重合性混合物。 7、R^1乃至R^7の少なくとも1個の基が酸素原子
を含有する、請求項1に記載の光重合性混合物。 8、バインダーが水不溶性であり且つアルカリ水溶液に
可溶性である、請求項1に記載の光重合性混合物。 9、光重合性化合物がアクリル酸又はメタクリル酸と脂
肪族アルコールとのエステルである、請求項1に記載の
光重合性混合物。 10、複写ベースと光重合性被覆よりなる光重合性複写
材料において、被覆が請求項1〜9のいずれか1項に記
載の混合物よりなる光重合性複写材料。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3843204.8 | 1988-12-22 | ||
DE3843204A DE3843204A1 (de) | 1988-12-22 | 1988-12-22 | Photopolymerisierbares gemisch und dieses enthaltendes photopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02226148A true JPH02226148A (ja) | 1990-09-07 |
JP2821463B2 JP2821463B2 (ja) | 1998-11-05 |
Family
ID=6369825
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1334657A Expired - Fee Related JP2821463B2 (ja) | 1988-12-22 | 1989-12-22 | 光重合性混合物及びそれを含む光重合性複写材料 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0374704B1 (ja) |
JP (1) | JP2821463B2 (ja) |
AU (1) | AU4698989A (ja) |
CA (1) | CA2006074C (ja) |
DE (2) | DE3843204A1 (ja) |
Cited By (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1992006412A1 (fr) * | 1990-09-28 | 1992-04-16 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | Composition photopolymerisable et element photopolymerisable |
EP1703323A1 (en) | 2005-03-18 | 2006-09-20 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive composition, image-recording material and image-recording method |
EP1930770A2 (en) | 2006-12-07 | 2008-06-11 | FUJIFILM Corporation | Imaging recording material and novel compound |
EP1975707A1 (en) | 2007-03-27 | 2008-10-01 | Fujifilm Corporation | Curable composition and planographic printing plate precursor |
EP2039509A1 (en) | 2007-09-18 | 2009-03-25 | FUJIFILM Corporation | Curable composition, image forming material, and planographic printing plate precursor |
EP2042921A2 (en) | 2007-09-26 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Pigment dispersion composition, photocurable composition and color filter |
EP2042928A2 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Negative-working photosensitive material and negative-working planographic printing plate precursor |
EP2042532A2 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Polymerizable composition and planographic printing plate precursor using the same, alkalisoluble polyrethane resin, an process for producing diol compound |
EP2048539A1 (en) | 2007-09-06 | 2009-04-15 | FUJIFILM Corporation | Processed pigment, pigment-dispersed composition, colored photosensitive composition, color filter, liquid crystal display element, and solid image pickup element |
WO2009116442A1 (ja) | 2008-03-17 | 2009-09-24 | 富士フイルム株式会社 | 顔料分散組成物、着色感光性組成物、光硬化性組成物、カラーフィルタ、液晶表示素子、及び固体撮像素子 |
EP2105797A1 (en) | 2008-03-25 | 2009-09-30 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor |
EP2109000A1 (en) | 2004-09-10 | 2009-10-14 | FUJIFILM Corporation | Polymer having polymerizable group, polymerizable composition, planographic printing plate precursor, and planographic printing method using the same |
WO2009154194A1 (ja) * | 2008-06-18 | 2009-12-23 | 日立化成工業株式会社 | 感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造法 |
EP2177357A2 (en) | 2008-08-29 | 2010-04-21 | Fujifilm Corporation | Negative-working lithographic printing plate precursor and method of lithographic printing using same |
EP2236497A1 (en) | 2009-03-31 | 2010-10-06 | FUJIFILM Corporation | Colored curable composition, method for producing color filter, color filter, solid-state image pickup device, and liquid crystal display device |
EP3051349A1 (en) | 2003-07-29 | 2016-08-03 | FUJIFILM Corporation | Alkali-soluble polymer and polymerizable composition thereof |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05224439A (ja) * | 1992-02-12 | 1993-09-03 | Fuji Electric Co Ltd | 電子写真用感光体 |
DE19548623A1 (de) | 1995-12-23 | 1997-06-26 | Hoechst Ag | 2-Acylamino-9-aryl-acridine, Verfahren zu ihrer Herstellung und diese enthaltende lichtempfindliche Gemische |
EP0801328A1 (en) * | 1996-04-09 | 1997-10-15 | Morton International, Inc. | Photoimageable composition having an acrylic-functional UV stabilizer |
US5922509A (en) * | 1998-03-18 | 1999-07-13 | Morton International, Inc. | Photoimageable compositions having improved stripping properties in aqueous alkaline solutions |
CN107765510B (zh) * | 2016-08-16 | 2020-02-07 | 常州强力电子新材料股份有限公司 | 一种9-苯基吖啶大分子类光敏剂及其制备方法和应用 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6448803A (en) * | 1987-08-19 | 1989-02-23 | Hitachi Chemical Co Ltd | Photosensitive resin composition |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2027467C3 (de) * | 1970-06-04 | 1974-08-15 | Kalle Ag, 6202 Wiesbaden-Biebrich | Photopolymerisierbare Kopiermasse |
JPS59226002A (ja) * | 1983-06-06 | 1984-12-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性組成物 |
DE3843205A1 (de) * | 1988-12-22 | 1990-06-28 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbare verbindungen, diese enthaltendes photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes photopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial |
-
1988
- 1988-12-22 DE DE3843204A patent/DE3843204A1/de not_active Withdrawn
-
1989
- 1989-12-13 EP EP89122995A patent/EP0374704B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1989-12-13 DE DE58909630T patent/DE58909630D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-12-19 AU AU46989/89A patent/AU4698989A/en not_active Abandoned
- 1989-12-20 CA CA002006074A patent/CA2006074C/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-12-22 JP JP1334657A patent/JP2821463B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6448803A (en) * | 1987-08-19 | 1989-02-23 | Hitachi Chemical Co Ltd | Photosensitive resin composition |
Cited By (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1992006412A1 (fr) * | 1990-09-28 | 1992-04-16 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | Composition photopolymerisable et element photopolymerisable |
JPH04136942A (ja) * | 1990-09-28 | 1992-05-11 | Hitachi Chem Co Ltd | 光重合性組成物および光重合性エレメント |
US5334484A (en) * | 1990-09-28 | 1994-08-02 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | Photopolymerizable composition and photopolymerizable element |
EP3051349A1 (en) | 2003-07-29 | 2016-08-03 | FUJIFILM Corporation | Alkali-soluble polymer and polymerizable composition thereof |
EP3182204A1 (en) | 2004-09-10 | 2017-06-21 | FUJIFILM Corporation | Planographic printing plate precursor using a polymerizable composition |
EP2109000A1 (en) | 2004-09-10 | 2009-10-14 | FUJIFILM Corporation | Polymer having polymerizable group, polymerizable composition, planographic printing plate precursor, and planographic printing method using the same |
EP1703323A1 (en) | 2005-03-18 | 2006-09-20 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive composition, image-recording material and image-recording method |
EP1930770A2 (en) | 2006-12-07 | 2008-06-11 | FUJIFILM Corporation | Imaging recording material and novel compound |
EP1975707A1 (en) | 2007-03-27 | 2008-10-01 | Fujifilm Corporation | Curable composition and planographic printing plate precursor |
EP2048539A1 (en) | 2007-09-06 | 2009-04-15 | FUJIFILM Corporation | Processed pigment, pigment-dispersed composition, colored photosensitive composition, color filter, liquid crystal display element, and solid image pickup element |
EP2039509A1 (en) | 2007-09-18 | 2009-03-25 | FUJIFILM Corporation | Curable composition, image forming material, and planographic printing plate precursor |
EP2042921A2 (en) | 2007-09-26 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Pigment dispersion composition, photocurable composition and color filter |
EP2042532A2 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Polymerizable composition and planographic printing plate precursor using the same, alkalisoluble polyrethane resin, an process for producing diol compound |
EP2042928A2 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Negative-working photosensitive material and negative-working planographic printing plate precursor |
WO2009116442A1 (ja) | 2008-03-17 | 2009-09-24 | 富士フイルム株式会社 | 顔料分散組成物、着色感光性組成物、光硬化性組成物、カラーフィルタ、液晶表示素子、及び固体撮像素子 |
EP2105797A1 (en) | 2008-03-25 | 2009-09-30 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor |
WO2009154194A1 (ja) * | 2008-06-18 | 2009-12-23 | 日立化成工業株式会社 | 感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造法 |
JP4645776B2 (ja) * | 2008-06-18 | 2011-03-09 | 日立化成工業株式会社 | 感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造法 |
KR101040475B1 (ko) * | 2008-06-18 | 2011-06-09 | 히다치 가세고교 가부시끼가이샤 | 감광성 수지 조성물, 및 이를 이용한 감광성 엘리먼트, 레지스트 패턴의 형성 방법 및 인쇄 배선판의 제조 방법 |
EP2177357A2 (en) | 2008-08-29 | 2010-04-21 | Fujifilm Corporation | Negative-working lithographic printing plate precursor and method of lithographic printing using same |
EP2236497A1 (en) | 2009-03-31 | 2010-10-06 | FUJIFILM Corporation | Colored curable composition, method for producing color filter, color filter, solid-state image pickup device, and liquid crystal display device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2821463B2 (ja) | 1998-11-05 |
DE58909630D1 (de) | 1996-05-02 |
AU4698989A (en) | 1990-06-28 |
CA2006074C (en) | 1998-12-08 |
DE3843204A1 (de) | 1990-06-28 |
EP0374704A2 (de) | 1990-06-27 |
CA2006074A1 (en) | 1990-06-22 |
EP0374704A3 (de) | 1991-11-13 |
EP0374704B1 (de) | 1996-03-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5200299A (en) | Quinoline and acridine compounds effective as photoinitiators and containing polymerizable (meth)acryloyl substituents | |
JPH02226148A (ja) | 光重合性混合物及びそれを含む光重合性複写材料 | |
SU438204A1 (ru) | Фотополимеризующа с копировальна композици | |
JP2509288B2 (ja) | 重合可能な化合物、これを含有する放射線重合可能な混合物及び放射線重合可能な記録材料 | |
US4780393A (en) | Photopolymerizable composition and photopolymerizable recording material containing same | |
CA1336045C (en) | Photopolymerizable mixture and recording material produced therefrom | |
SU505383A3 (ru) | Фотополимеризующа с композици | |
US5221595A (en) | Photopolymerizable mixture and recording material prepared therefrom | |
KR100187787B1 (ko) | 광중합성 혼합물 및 이로부터 제조된 기록물질 | |
US4987055A (en) | Photopolymerizable composition comprising (meth)acrylates with photooxidizable groups, and a recording material produced therefrom | |
JP2645110B2 (ja) | 光重合可能な混合物 | |
US4241166A (en) | Photopolymerizable composition comprising a monoazo dye as contrast colorant | |
US5217845A (en) | Photopolymerizable mixture and photopolymerizable copying material containing same | |
JPH0635189A (ja) | 光重合性混合物およびそれから調製される記録材料 | |
US4272609A (en) | Photopolymerizable mixture | |
US4464457A (en) | 10-Phenyl-1,3,9-triazaanthracenes and photopolymerizable mixture containing same | |
US4737445A (en) | Photopolymerizable composition and photopolymerizable recording material containing said composition | |
JPH0796650B2 (ja) | ロイコ染料溶液の安定化法およびロイコ染料を含有する放射線重合性混合物 | |
US4101327A (en) | Light-sensitive copying compositions and photoinitiators contained therein | |
US4465758A (en) | 1,3-Diaza-9-thia-anthracene-2,4-diones and photopolymerizable mixtures containing same | |
JP2003057812A (ja) | 光重合性樹脂組成物 | |
JPS60263142A (ja) | 光重合可能な組成物 | |
JPH0627659A (ja) | 感光性組成物 | |
JPS6332539A (ja) | 光重合性組成物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |