JPS60263142A - 光重合可能な組成物 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は主成分として、a1重合捧結合剤、blエチレ
ン系不飽和末端基少な(とも211!lを含有しかつ1
00℃會上廻る沸点を有する重合可能な化合物及びC)
光開始剤としての1.3,10−トリアザアントラセン
−4−オンを含有する光重合可能な組成物に関する。
ン系不飽和末端基少な(とも211!lを含有しかつ1
00℃會上廻る沸点を有する重合可能な化合物及びC)
光開始剤としての1.3,10−トリアザアントラセン
−4−オンを含有する光重合可能な組成物に関する。
従来の技術
取分a)及びb)並びに光開始剤としての多環へテロ環
式化合物を含有する光重合可能な組成物は知られている
。
式化合物を含有する光重合可能な組成物は知られている
。
西Pイツ国特許第2027467号明細書(=英国特許
第1354541号明細書IKアクリジン及びフェナジ
ンの特定の誘導体が開始剤として記載されている。
第1354541号明細書IKアクリジン及びフェナジ
ンの特定の誘導体が開始剤として記載されている。
西Pイツ国特許第2039861号明細書(=米国特許
!3765898号明細書)には開始剤としてキノキサ
リン酵導捧又はキナゾリン誘導本を含有する類縁の組成
物が開示さ1ている。
!3765898号明細書)には開始剤としてキノキサ
リン酵導捧又はキナゾリン誘導本を含有する類縁の組成
物が開示さ1ている。
これらすべての化合物は、殊に近紫外線領域で放射する
光源からの化学線で照射すると優れた開始剤として作用
する。したしそnらは金属ハロゲン化物をP−ピングし
友ガス放電灯のような可視スペクトル領域を強(放射す
る光源には最適であるとはいえない。この欠点を回避す
るために、ヨーロッパ公開特許第102586号に光開
始剤として1.3−ジアザ−9−チア−アントラセン−
2,4−ジオンが記載さnており、その吸収領域及び開
始作用は可視スペクトル領域に拡大している。こnらの
化合物は比較的簡単に生放さ1するが、芳香族チオール
との反応過程が必要であり、そf′1.け不快な臭気を
発するために特別な保護手段が必要である。それらの親
物質の構造の^め、該化合物は多(の溶剤中で制限され
た可溶性を有する傾向を有し、それ故その濠用性は限定
される。
光源からの化学線で照射すると優れた開始剤として作用
する。したしそnらは金属ハロゲン化物をP−ピングし
友ガス放電灯のような可視スペクトル領域を強(放射す
る光源には最適であるとはいえない。この欠点を回避す
るために、ヨーロッパ公開特許第102586号に光開
始剤として1.3−ジアザ−9−チア−アントラセン−
2,4−ジオンが記載さnており、その吸収領域及び開
始作用は可視スペクトル領域に拡大している。こnらの
化合物は比較的簡単に生放さ1するが、芳香族チオール
との反応過程が必要であり、そf′1.け不快な臭気を
発するために特別な保護手段が必要である。それらの親
物質の構造の^め、該化合物は多(の溶剤中で制限され
た可溶性を有する傾向を有し、それ故その濠用性は限定
される。
七n故、本発明の目的は、短い波長の可視スペクトル領
域ですらも公矧の光開始剤と同様に高い作用性を有し、
その合成の際に不快な臭気を発生するfjL応工程を含
ます力)つ改良された溶解性及び組成物の他の取分との
相容性を有する光開始剤を含有する光重合可能な組成物
を開示することである。
域ですらも公矧の光開始剤と同様に高い作用性を有し、
その合成の際に不快な臭気を発生するfjL応工程を含
ます力)つ改良された溶解性及び組成物の他の取分との
相容性を有する光開始剤を含有する光重合可能な組成物
を開示することである。
本発明により、主成分として、
a) 重合体結合剤、
b)エチレン系不胞和末端基少な(とも2M及び100
℃會上廻る沸点を有する重合可能な化合物及び C) 光開始剤として三環式N−へテロ環式化合物 を含有する光重合可能な組成物が得られる。
℃會上廻る沸点を有する重合可能な化合物及び C) 光開始剤として三環式N−へテロ環式化合物 を含有する光重合可能な組成物が得られる。
本発明による組成物は、N−へテロ環式化合物が式■:
[式中R1け水素原子又は)・ロゲン原子であるか又は
アルキル基アルコキシ基又はジアルキルアミノ基であり
、 tlは水素原子又はハロゲン原子であるか又はアル中ル
基であり、 R2はアルキル基又はアルコキシカルボニルアルキル基
であり、あるいけ HlとR2はそれらがアルキル基を表わす場合には一緒
に結合して5−又は6員環を形成してよ(、 R’H脂肪族又はシクロ脂肪族の第三アミノ基である〕
に相当することを特徴とする。
アルキル基アルコキシ基又はジアルキルアミノ基であり
、 tlは水素原子又はハロゲン原子であるか又はアル中ル
基であり、 R2はアルキル基又はアルコキシカルボニルアルキル基
であり、あるいけ HlとR2はそれらがアルキル基を表わす場合には一緒
に結合して5−又は6員環を形成してよ(、 R’H脂肪族又はシクロ脂肪族の第三アミノ基である〕
に相当することを特徴とする。
1式に相当する化合物は西ドイツ国特許公開第3233
604号明細書から公知であり、そこでは抗カビ作用及
び抗m作用?する中間生成物として記載さnており、七
〇は10位が第四級である同様に作用する窒素塩基の生
Hに使われる。この刊行物には他の用途は挙げられてい
ない。
604号明細書から公知であり、そこでは抗カビ作用及
び抗m作用?する中間生成物として記載さnており、七
〇は10位が第四級である同様に作用する窒素塩基の生
Hに使われる。この刊行物には他の用途は挙げられてい
ない。
本発明により、スペクトル領域的400〜450 nm
で照射する際に前記化合物か酸素が存在していてもビニ
ル化合物の光重合の活性なJ ″)″”開始剤として作
用する0と力゛見出さまた。この新規な光開始剤は、化
学線の不存在では、そのような化合物の熱重合t−誘発
しない。
で照射する際に前記化合物か酸素が存在していてもビニ
ル化合物の光重合の活性なJ ″)″”開始剤として作
用する0と力゛見出さまた。この新規な光開始剤は、化
学線の不存在では、そのような化合物の熱重合t−誘発
しない。
そn故、貯蔵し得るコピ一層の生成に全(好運である。
一般式Iにおいて、R及びR1′がアルキル基である場
合、この基が炭素原子1〜4個?有すると有利である。
合、この基が炭素原子1〜4個?有すると有利である。
R1がアルコキシ基又はジアルキルアミノ基である場合
、それが炭素原子1〜4個、殊に1又け2個を含有する
アルキル基を有すると有利である。−nている)10ゲ
ン原子には弗素、塩素及び臭素が挙げ5t’t、、殊に
弗素及び塩素である。Hl ’が水素原子であると有利
である。1式に相応する優几ている化合物には・R1か
又はR1′が水素原子2表わさない場合VCはR1及び
R1′のいずnか一方がトリアザアントラセンの7位に
存在する異注暎が包含ざfLろ。RとR2が一緒に結合
して環形成する場合、一般にR1は9位に存在する。そ
の2つの基によって形成さnるアルキレン連鎖は2−又
け3員を有しかつ分枝している。有利に、R2は炭素原
子1〜8個、殊に1〜4個を有するアルキル基で゛める
。
、それが炭素原子1〜4個、殊に1又け2個を含有する
アルキル基を有すると有利である。−nている)10ゲ
ン原子には弗素、塩素及び臭素が挙げ5t’t、、殊に
弗素及び塩素である。Hl ’が水素原子であると有利
である。1式に相応する優几ている化合物には・R1か
又はR1′が水素原子2表わさない場合VCはR1及び
R1′のいずnか一方がトリアザアントラセンの7位に
存在する異注暎が包含ざfLろ。RとR2が一緒に結合
して環形成する場合、一般にR1は9位に存在する。そ
の2つの基によって形成さnるアルキレン連鎖は2−又
け3員を有しかつ分枝している。有利に、R2は炭素原
子1〜8個、殊に1〜4個を有するアルキル基で゛める
。
R2がアルコキシカルボニルアルキル基である場合、−
汐に炭素原子2〜4個を含有するアルコキシカルメニル
基及び炭素原子1〜4個1に含有するアルギル基を有す
る。
汐に炭素原子2〜4個を含有するアルコキシカルメニル
基及び炭素原子1〜4個1に含有するアルギル基を有す
る。
第三アはノ基R5は、そnぞルのアルキル基中に炭素原
子1〜8Il!、殊に1〜4mを有するジアルキル−又
はシクロアルキル基中に炭素原子5〜8個を有するアル
キルシクロアルキル了ミノ基か又は完全に又は部分的に
水素化さnたN−へテロ環式基、例えばピロリジノ基、
ピペリジノ基、ヘキサメチレンイミノ基、モルホI)ノ
基、ピペラジノ基、N−ホルばルーピペラジノ基、N−
メチル−ピペラジノ基又けN−フェニル−ピペラジノ基
である・ 一般に光開始剤の添加量は、光重合可能な組成物の不揮
発性成分に対して0.01〜10重量に、殊KO11〜
5重tXで変動する。
子1〜8Il!、殊に1〜4mを有するジアルキル−又
はシクロアルキル基中に炭素原子5〜8個を有するアル
キルシクロアルキル了ミノ基か又は完全に又は部分的に
水素化さnたN−へテロ環式基、例えばピロリジノ基、
ピペリジノ基、ヘキサメチレンイミノ基、モルホI)ノ
基、ピペラジノ基、N−ホルばルーピペラジノ基、N−
メチル−ピペラジノ基又けN−フェニル−ピペラジノ基
である・ 一般に光開始剤の添加量は、光重合可能な組成物の不揮
発性成分に対して0.01〜10重量に、殊KO11〜
5重tXで変動する。
例えば、本発明の目的に有用な光電合可能単量本は公知
であり、例えば米国特許1276Q863号明細書及び
同第3060023号明細書に記載されている。
であり、例えば米国特許1276Q863号明細書及び
同第3060023号明細書に記載されている。
優れている例は二価又は多価アルコールのアクリル酸又
はメタクリル酸のエステル、例えばシクリセロールジア
クリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート
、トリメチa−ルエタン、トリメチロールプロノ9ン及
ヒヘンタエリトリット並びに多価脂環式アルコール(/
Jアクリレート及びメタクリレートである。ジインシア
ネートと多価アルコールの部分エステルとの反応生成物
も使うと有利である。この種の単量体は西ドイツ国特許
公開第2064079号明細書、同第2361041号
明細書及び同第2822190号明細書に記載されてい
る。−Vに、層中に含有さnる単を湊の割合は10〜8
0重量に、殊[20〜60重tにである。
はメタクリル酸のエステル、例えばシクリセロールジア
クリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート
、トリメチa−ルエタン、トリメチロールプロノ9ン及
ヒヘンタエリトリット並びに多価脂環式アルコール(/
Jアクリレート及びメタクリレートである。ジインシア
ネートと多価アルコールの部分エステルとの反応生成物
も使うと有利である。この種の単量体は西ドイツ国特許
公開第2064079号明細書、同第2361041号
明細書及び同第2822190号明細書に記載されてい
る。−Vに、層中に含有さnる単を湊の割合は10〜8
0重量に、殊[20〜60重tにである。
多数の可溶性有機賞合体金結合剤として使用することが
できる。例えば、ポリアミド、yt?lJビニルエステ
ル、ポリビニルアセタール、$lJビニルエーテル、エ
ポキシm1llil、#lアクIJル酸エステル、ポリ
メタクリル酸エステル1、ボ1ジエステル、アルキド樹
脂、ポリアク1ツルアばド、ポリビニルアルコール、破
りエチレンオキシド、ポリジメチルアクリルアミド、ポ
リビニルピロリドン、ポリビニルメチルポルムアミ−1
ポリビニルメチルアセタミド及び前記のホモ重合本音形
成する単量体の共重合体である。
できる。例えば、ポリアミド、yt?lJビニルエステ
ル、ポリビニルアセタール、$lJビニルエーテル、エ
ポキシm1llil、#lアクIJル酸エステル、ポリ
メタクリル酸エステル1、ボ1ジエステル、アルキド樹
脂、ポリアク1ツルアばド、ポリビニルアルコール、破
りエチレンオキシド、ポリジメチルアクリルアミド、ポ
リビニルピロリドン、ポリビニルメチルポルムアミ−1
ポリビニルメチルアセタミド及び前記のホモ重合本音形
成する単量体の共重合体である。
他の可能な結合剤は天然物質又Vi変性した天然物質、
例;えはゼラチン又はセルロースエーテルである。
例;えはゼラチン又はセルロースエーテルである。
殊に有利1’(は、水に不溶であるが、水性アルカリ性
溶液中で可溶であるか又は少な(とも膨潤性である結合
剤ヲ使用する。それというのもそのような結合剤を含有
する層を、有利に便ゎれる水性アルカリ性現像液で現像
することができる。例えば、この植の結合剤は次の基音
含有して工い: −COOH、−PO3H2,−5o、
H。
溶液中で可溶であるか又は少な(とも膨潤性である結合
剤ヲ使用する。それというのもそのような結合剤を含有
する層を、有利に便ゎれる水性アルカリ性現像液で現像
することができる。例えば、この植の結合剤は次の基音
含有して工い: −COOH、−PO3H2,−5o、
H。
−5O7NH、−3o2−NH−3L)2−及び一5o
2−NH−coに 1らの例は、マレエート樹脂、I−メタクリロイルオキ
シ−エチルN −(p −トIJルースルホニル)−カ
ルノロメートη1らの重合捧及びこれらや類縁の単を体
と他の単tpとの共重合体、更にスチレン/無水マレイ
ン酸−共重合体である。西ドイツ国特許公開第2064
080号明細書及び同第2363806号明細書VC記
載されているアルキルメタクリレートとメタクリル酸の
共重合体、メタクリル酸、アルキルメタクリレート及び
メチルメタク17.レート及び/又はスチレン、アクリ
ロニトリルの共重合体を使用すると有利である。
2−NH−coに 1らの例は、マレエート樹脂、I−メタクリロイルオキ
シ−エチルN −(p −トIJルースルホニル)−カ
ルノロメートη1らの重合捧及びこれらや類縁の単を体
と他の単tpとの共重合体、更にスチレン/無水マレイ
ン酸−共重合体である。西ドイツ国特許公開第2064
080号明細書及び同第2363806号明細書VC記
載されているアルキルメタクリレートとメタクリル酸の
共重合体、メタクリル酸、アルキルメタクリレート及び
メチルメタク17.レート及び/又はスチレン、アクリ
ロニトリルの共重合体を使用すると有利である。
一般に結合剤の添加普は層成外の20〜90重t%、殊
[4Q〜80重量イである。
[4Q〜80重量イである。
用途及び所望の特性に相応して、光諏合町訃な組成物は
楕りの付加物を含有してよい。こnら混合物の例は次の
]由りである: 単量体の熱的重合?回避する抑制剤、 水素供与体、 この種の層のセンシトメトリー%性?調節する物質、 染料、 有色及び無色顔料、 色素萌駆物質、 指示薬、 可塑剤等。
楕りの付加物を含有してよい。こnら混合物の例は次の
]由りである: 単量体の熱的重合?回避する抑制剤、 水素供与体、 この種の層のセンシトメトリー%性?調節する物質、 染料、 有色及び無色顔料、 色素萌駆物質、 指示薬、 可塑剤等。
こ几らの成分は開始過程に重grある化学線領域におけ
る吸収が最低であるように選択すると有利である。
る吸収が最低であるように選択すると有利である。
本発明範囲では、化学線とは、そのエネルギーが少な(
とも短波の可視光のそnに相当する光線を表わす。長波
のUV#!、電子線、X41及びレーザ光線も適当であ
る。
とも短波の可視光のそnに相当する光線を表わす。長波
のUV#!、電子線、X41及びレーザ光線も適当であ
る。
本発明の光重合可能な組成物は多(の用途で、例えば安
全ガラス、光線又は粒子線、例えば電子線の作用により
硬化する塗料、歯科用充填物、殊に製版分野の感光性コ
ピー材料と[、て使用することができる。
全ガラス、光線又は粒子線、例えば電子線の作用により
硬化する塗料、歯科用充填物、殊に製版分野の感光性コ
ピー材料と[、て使用することができる。
本発明による詳細をこのaSの適用分野に関して記載す
るが、本発明はこnK限定さnるものではない。この分
野で可能な適用例は次の通りであるニレリーフ印刷、平
版印刷、グラビア印刷又はスクリーン印刷に好適な印刷
版、例えげ点字本のレリーフコピー、シングルコピー、
タンニン画像、顔料画像等?写真製版により製造するた
めのコピ一層。更に、この組成物は例えばネームプレー
ト、プリント配線及びケはカルミリング用のエッチレジ
ストに写真製版により製造するために使用することがで
きる。殊に、本発明による組成物は平版印mf版及びエ
ッチレジストt%にPS材料の形で写真製版するのに重
要である。
るが、本発明はこnK限定さnるものではない。この分
野で可能な適用例は次の通りであるニレリーフ印刷、平
版印刷、グラビア印刷又はスクリーン印刷に好適な印刷
版、例えげ点字本のレリーフコピー、シングルコピー、
タンニン画像、顔料画像等?写真製版により製造するた
めのコピ一層。更に、この組成物は例えばネームプレー
ト、プリント配線及びケはカルミリング用のエッチレジ
ストに写真製版により製造するために使用することがで
きる。殊に、本発明による組成物は平版印mf版及びエ
ッチレジストt%にPS材料の形で写真製版するのに重
要である。
この組成物は工業的にilI記の用途iC関して溶液又
は分散液として、例えばフォトレジヌト溶液として使用
することができ、この溶液全消費者自身が適当な支持材
に例えばケミカルばリング、プリント配線、スクリーン
印刷ステンシル等を製造するために塗布する。本組成物
は好適な支持体上の固体の感光性層として、つまり例え
ば印刷版を製造するための貯蔵可能なプレセンシタイズ
ドコビー材料として存在していてもよい。それはげライ
レジストの製造に使用することもできる。
は分散液として、例えばフォトレジヌト溶液として使用
することができ、この溶液全消費者自身が適当な支持材
に例えばケミカルばリング、プリント配線、スクリーン
印刷ステンシル等を製造するために塗布する。本組成物
は好適な支持体上の固体の感光性層として、つまり例え
ば印刷版を製造するための貯蔵可能なプレセンシタイズ
ドコビー材料として存在していてもよい。それはげライ
レジストの製造に使用することもできる。
−投に、本組成物倉光重合する量大気中酸素の影響から
実際に隔絶するのは有利である。この組成物ヲ薄いコピ
一層の形で使用する場合、酸素に対して低い透過性を有
する好適なカッマーフィルムを施すことは推奨さnる。
実際に隔絶するのは有利である。この組成物ヲ薄いコピ
一層の形で使用する場合、酸素に対して低い透過性を有
する好適なカッマーフィルムを施すことは推奨さnる。
カッマーフィルムは自己支持性でありη)つ現像の藺に
コピ一層から除去することができる。これには例えばポ
リエステルフィルムが好適である。カッマーフィルムは
現*液に溶解するか又は少なくとも現像の際に未硬化区
域から除去することのできる材料より放っていてもよい
。例えば、そのための好適な材料はワックス、ポリビニ
ルアルコール、ポリホスフェート、糖等である。
コピ一層から除去することができる。これには例えばポ
リエステルフィルムが好適である。カッマーフィルムは
現*液に溶解するか又は少なくとも現像の際に未硬化区
域から除去することのできる材料より放っていてもよい
。例えば、そのための好適な材料はワックス、ポリビニ
ルアルコール、ポリホスフェート、糖等である。
例えば、本発明による組成物を使用して生成したコピー
材料に好適である層支持体はアルミニウム、鋼、亜鉛、
銅、プラスチックフィルム、例えばポリエチレンテレフ
タレート又は酢酸セj ヤ。−3、及びベヤ。2ガーゼ
のようなツクリーン印刷用支持材である。
材料に好適である層支持体はアルミニウム、鋼、亜鉛、
銅、プラスチックフィルム、例えばポリエチレンテレフ
タレート又は酢酸セj ヤ。−3、及びベヤ。2ガーゼ
のようなツクリーン印刷用支持材である。
本発明による組成物を使用する感光性材料は常法で生成
する。そj故、組成物を溶剤中にとりかつ生じる溶液又
は分散液を目的の支持体に薄膜としてキャスチング、吹
付け、浸漬又はローラ掛けにより施し1次いで乾燥する
ことができる。厚い層(例えば250μm及びそn以上
)は、初めに自己支持フィルムを押出し又は成形により
生成し2次にそf′Lを場合により支持体に積層して製
造すると有利である。乾燥レジストの場合1組成物のF
j液を透明な中間支持体に施しかつ乾燥させる。厚さ約
1()〜100μm1に有する感光性層も仮支持体と一
緒に積層により所望の支持体に結合させる。
する。そj故、組成物を溶剤中にとりかつ生じる溶液又
は分散液を目的の支持体に薄膜としてキャスチング、吹
付け、浸漬又はローラ掛けにより施し1次いで乾燥する
ことができる。厚い層(例えば250μm及びそn以上
)は、初めに自己支持フィルムを押出し又は成形により
生成し2次にそf′Lを場合により支持体に積層して製
造すると有利である。乾燥レジストの場合1組成物のF
j液を透明な中間支持体に施しかつ乾燥させる。厚さ約
1()〜100μm1に有する感光性層も仮支持体と一
緒に積層により所望の支持体に結合させる。
コピー材料は公知方法により処理することができる。コ
ピー材料を好適な現像液、殊に弱アルカリ性溶液で処理
することにより現像する。
ピー材料を好適な現像液、殊に弱アルカリ性溶液で処理
することにより現像する。
その際に層の未露光区域は溶解除去さnかつ露光区域は
支持体上に残留する。
支持体上に残留する。
実施例
次に1本発明の組成物の例を挙げる。初めに。
本発明による多数の新規光開始剤の製造を詳説する。
次の記載及び実施例中で重量部(p、b、w、)及び容
量部(p、b、v、)Ht ニーの関係にある。特に記
載のない限り、ノミ−セント及び量比は重量に関するも
のである。
量部(p、b、v、)Ht ニーの関係にある。特に記
載のない限り、ノミ−セント及び量比は重量に関するも
のである。
本発明による化合物の製造は次の図式lに示すよう紀行
ない、その際K R’ 、 R”、 R2及びR3は舵
記のものを表わす。
ない、その際K R’ 、 R”、 R2及びR3は舵
記のものを表わす。
図式I
1
等モル量の4式の2.4.fi−)リクロロビIJ ミ
ジン−5−カルバルデヒドと■式の第二芳香族アミンケ
反応条件下に不活性である溶剤。
ジン−5−カルバルデヒドと■式の第二芳香族アミンケ
反応条件下に不活性である溶剤。
例えばベンゼン、ジエチルエーテル、ジオキサン、テト
ラヒドロフラン又はトルエン、殊にテトラヒドロフラン
中で温度0〜30℃で第三アミン、ピリジン、アルカリ
金属−及びアルカリ土類金属炭酸塩蛋びに重炭酸塩、殊
にトリエチルアミンのような酸結せ剤の存在において反
応させて、■式による16合物を製造する。
ラヒドロフラン又はトルエン、殊にテトラヒドロフラン
中で温度0〜30℃で第三アミン、ピリジン、アルカリ
金属−及びアルカリ土類金属炭酸塩蛋びに重炭酸塩、殊
にトリエチルアミンのような酸結せ剤の存在において反
応させて、■式による16合物を製造する。
■式の化合物を好適には■式の第三アミン1.0〜11
当量と、■式の16合物の生成に関して詳説し7’を溶
剤の1種中でかつ前記の酸結せ化合物の存在において温
度−50〜−20℃で反応させると、■式の化合物が得
られ、こf′Lは単離することができるが、有利には予
め単離せずに更に反応させる。
当量と、■式の16合物の生成に関して詳説し7’を溶
剤の1種中でかつ前記の酸結せ化合物の存在において温
度−50〜−20℃で反応させると、■式の化合物が得
られ、こf′Lは単離することができるが、有利には予
め単離せずに更に反応させる。
■式の化合物を濃硫酸中70〜150℃で、HCiの発
生が停止するまで加熱する。加水分解後、副反応により
生成する不純物を沖過により除去することができる。純
粋な化合物11!rその稀硫酸溶液から水酸化アルカリ
で中和すること#/c工り沈殿させる。
生が停止するまで加熱する。加水分解後、副反応により
生成する不純物を沖過により除去することができる。純
粋な化合物11!rその稀硫酸溶液から水酸化アルカリ
で中和すること#/c工り沈殿させる。
この反応はボIJ IJン酸中110〜160℃で又は
トリフルオル酢酸及び4XiIL酸の混合物中40〜5
0Cで実画することができるが、反応時間は著しく長い
。
トリフルオル酢酸及び4XiIL酸の混合物中40〜5
0Cで実画することができるが、反応時間は著しく長い
。
以下に製法を化合物7及びその出発物質に関して詳説す
るが、この方法のすべての連相は多(の相応する反応の
代表であり、その結果全表1〜3に掲載する。
るが、この方法のすべての連相は多(の相応する反応の
代表であり、その結果全表1〜3に掲載する。
化合物7:
7−クロロ−2−ジエチルアはノー1a−cdシル−,
10−ジヒ)o−] 、 3 、1 o−トリアザアッ
トラセン−4−オン 4−クロロ−6−(4−クロロ−N−エチルアニリノ)
−2−ジエチルアミノ−ピリミジン−5−カルバルデヒ
ド27.3 、 ((1,074モル)を硫mt濃度9
6%)550−に1■5、℃で添加する。
10−ジヒ)o−] 、 3 、1 o−トリアザアッ
トラセン−4−オン 4−クロロ−6−(4−クロロ−N−エチルアニリノ)
−2−ジエチルアミノ−ピリミジン−5−カルバルデヒ
ド27.3 、 ((1,074モル)を硫mt濃度9
6%)550−に1■5、℃で添加する。
HCIの発生が停止するまで前記混合物を130℃に加
熱しかつ氷31上に注ぎ、濾過しかつ水酸化ナトリウム
によりpH5に調節する。冷却陣、沈殿した固体を吸引
F別するつエタノール150−からの再結晶により黄色
結晶155vが得らnる。
熱しかつ氷31上に注ぎ、濾過しかつ水酸化ナトリウム
によりpH5に調節する。冷却陣、沈殿した固体を吸引
F別するつエタノール150−からの再結晶により黄色
結晶155vが得らnる。
/
//
4−クロロ−6−(4−クロロ−N−エチルア二9))
−2−ジエチル了ミノービリばジン−5−カルノ々ルデ
ヒド 式VI : R’=4−CI 、 R2−C2H5,F
(5=−N+C2+−1512テトラセド口フラン8〇
−中のジエチルアミン9.28p(0,127モル)及
びトリエチルアミン12.84 、 (0,127モル
)の溶液全テトラヒドロフラン40〇−中の6−(4−
りaローN−エチル−アニリノl−2,4−ジクσΩ−
ピリξジンー5−カルノ々ルデヒド40.0 y(0,
121モル)の溶液に温度−30℃、5時間で滴加する
。その後、溶液′t−4時間−30℃で及び2時間20
Cで攪拌し、トリエチルアンモニウムクロリドを戸別し
かつP液tX空中で蒸発させる。ジエチルエーテル12
0祠と攪拌混合した鏝で、無色の結晶27.3 、が得
られる。
−2−ジエチル了ミノービリばジン−5−カルノ々ルデ
ヒド 式VI : R’=4−CI 、 R2−C2H5,F
(5=−N+C2+−1512テトラセド口フラン8〇
−中のジエチルアミン9.28p(0,127モル)及
びトリエチルアミン12.84 、 (0,127モル
)の溶液全テトラヒドロフラン40〇−中の6−(4−
りaローN−エチル−アニリノl−2,4−ジクσΩ−
ピリξジンー5−カルノ々ルデヒド40.0 y(0,
121モル)の溶液に温度−30℃、5時間で滴加する
。その後、溶液′t−4時間−30℃で及び2時間20
Cで攪拌し、トリエチルアンモニウムクロリドを戸別し
かつP液tX空中で蒸発させる。ジエチルエーテル12
0祠と攪拌混合した鏝で、無色の結晶27.3 、が得
られる。
6−(4−クロロ−N−エチル−アニリノ)−2,4−
ジクロロ−ピリばジン−5−カルバルデヒド 式■: R’−4−CI 、 R2に2H5それぞ江テ
トラヒドロフラン50+R1中の4−りoa、−N−エ
チルアニリン(In ) 15.56 。
ジクロロ−ピリばジン−5−カルバルデヒド 式■: R’−4−CI 、 R2に2H5それぞ江テ
トラヒドロフラン50+R1中の4−りoa、−N−エ
チルアニリン(In ) 15.56 。
(0,1モル)の溶液及びトリエチルアミン11、13
p (0,11モル)の溶液を連続的にテトラヒドロ
フラン10〇−中の、2 、 a 、 6− トリクロ
ロ−ピリミジン−5−カルバルデヒド21、141 (
11,1モル)の溶液に滴加する。その後、溶液を室温
で3時間攪拌し、トリエチルアンモニウムクロリl′ヲ
戸別し、F液?真2中で蒸発させかつ00でメタノール
150m/と攪拌する。無色の結晶23.9 、が得ら
れる。
p (0,11モル)の溶液を連続的にテトラヒドロ
フラン10〇−中の、2 、 a 、 6− トリクロ
ロ−ピリミジン−5−カルバルデヒド21、141 (
11,1モル)の溶液に滴加する。その後、溶液を室温
で3時間攪拌し、トリエチルアンモニウムクロリl′ヲ
戸別し、F液?真2中で蒸発させかつ00でメタノール
150m/と攪拌する。無色の結晶23.9 、が得ら
れる。
表 3
例11
被覆溶液を、
平均分子tMw約40000倉有する、メチルメタクリ
レート95に及びジ メチルアミノエチルメタクリレート 5にからの共重合体 a、7 p、b、w。
レート95に及びジ メチルアミノエチルメタクリレート 5にからの共重合体 a、7 p、b、w。
トリメチ口−ルプロノξントリ1
アクリレート 3.3 p、b、w。
ロイコクリスタルバイオレット 0.05 p、t)
、W。
、W。
1.4−ビス−(4−tert−ブトキシ−フェニルア
ミノl−5,8−ジヒドロキシアントラキノン n、
02 p、b、w。
ミノl−5,8−ジヒドロキシアントラキノン n、
02 p、b、w。
並びに次の光開始剤:
ブタノン 19 p、b、w沖の
a)化合物2 o、i p、b、w。
bl N 4 0.1 p、b、w。
c) I 8 o、1 p、b、w。
7 d) “ 9 0.03 p、b、W。
から生成した。
この溶液を5厚さ23μm、2軸延伸しかっヒートセッ
トしたポリエチレンテレフタレートフィルム上にスピン
コードして、100℃で乾燥優に層重t38./ffI
+を得た。
トしたポリエチレンテレフタレートフィルム上にスピン
コードして、100℃で乾燥優に層重t38./ffI
+を得た。
このように製造した乾燥レジストフィルム?市販の貼合
せ装置?用いて120℃で、厚さ35μmの銅箔と貼合
せたフェノプラスト積層板に積層した。その降、乾燥レ
ジストフィルム?真空コピーフレームから110cya
の距離に配置したs kwの金にハロゲン灯の光VC4
0秒間露光した。原図としては、#度インクレメント【
)15の13階段露光(さび及び線幅並びに線間隔80
μm以下の線原図?使用した。
せ装置?用いて120℃で、厚さ35μmの銅箔と貼合
せたフェノプラスト積層板に積層した。その降、乾燥レ
ジストフィルム?真空コピーフレームから110cya
の距離に配置したs kwの金にハロゲン灯の光VC4
0秒間露光した。原図としては、#度インクレメント【
)15の13階段露光(さび及び線幅並びに線間隔80
μm以下の線原図?使用した。
繕光凌、ポリエステルフィルム全ビーリングしかつ層k
l 、 1 、1−トリクロロエタン?用いてスプレー
現像装置で20秒間現像した8完全に架橋結合した際の
(さび階段の斂は次の通りであった: al=4.bl=3.cl =s、dl=5例2 例1に挙けたlリエステルフイルムを次の組成の#液ケ
用いて、乾燥fkVCそれぞn@重量40 W、/lが
得らnるようにスピンコードL7t:a) ブタノン1
9 p、b、w中の 例11c記載の共重合K 4.7p、t)、W。
l 、 1 、1−トリクロロエタン?用いてスプレー
現像装置で20秒間現像した8完全に架橋結合した際の
(さび階段の斂は次の通りであった: al=4.bl=3.cl =s、dl=5例2 例1に挙けたlリエステルフイルムを次の組成の#液ケ
用いて、乾燥fkVCそれぞn@重量40 W、/lが
得らnるようにスピンコードL7t:a) ブタノン1
9 p、b、w中の 例11c記載の共重合K 4.7p、t)、W。
トリメチロールプロノぐン
ト リ ア り リ し − ト 3.3 p、t)、
W。
W。
ロイコクリスタルバイ第2
レット o、s p、b、w。
例1のグリーンアントラ
キノン染料 11.02 p、b、W。
化合物7 0.05 p、b、w。
b)エチル−4−ノメチルアミノペンゾエー) 0.0
75 p、b、w、を添加すること?除いてはa)と同
じ溶液 乾燥しているレジストフィルムを例1に記載し友工うに
貼合せ、絽光して1つ現像した。層a)では完全架橋し
た6(さび階段及び層bl ’Tは完全架橋した8 1
9) <さび階段が得らt″L′fc、。
75 p、b、w、を添加すること?除いてはa)と同
じ溶液 乾燥しているレジストフィルムを例1に記載し友工うに
貼合せ、絽光して1つ現像した。層a)では完全架橋し
た6(さび階段及び層bl ’Tは完全架橋した8 1
9) <さび階段が得らt″L′fc、。
現像した版を30秒間水道水で丁子ぎ、ベルオキシニ硫
酸アンモニウムの15に溶液で30秒間僅かにエツチン
グし、再び水洗し、1096’−硫酸に30秒間浸漬し
、その染で連続的に次の電解液浴中で電気メッキした: i+g−グランツクツゾファージ々−r”t ’ Gl
anzkupfer−Bad”)、シュレツター社(5
ch16tter :西ドイツ国、ガイスリンゲン/シ
ュタイゲ[Ge1sl ingen / Steige
l在〕製の銅電解液浴中で45分間 電流密[: 2.5 A/drr/ 金稿メッキ金的メッキm m度二室温 2)型2ノ/l/ ? ” (’ Norma ” )
、前記ノシュレツター社製のニッケル浴中T15分間
電流密度: 3.5 A/dd 金属メッキ:10μm 温度=50C もしくけ 1)前記のような銅メッキ 21 鉛−m 浴L A t M記のシュレツター社製
)中で20分間 WLa’ljK : 1. s A/dW?金属メッ金
属メッキ用 203m温 得られた版VcViアンダーカッティング又は損傷は認
められなかった。
酸アンモニウムの15に溶液で30秒間僅かにエツチン
グし、再び水洗し、1096’−硫酸に30秒間浸漬し
、その染で連続的に次の電解液浴中で電気メッキした: i+g−グランツクツゾファージ々−r”t ’ Gl
anzkupfer−Bad”)、シュレツター社(5
ch16tter :西ドイツ国、ガイスリンゲン/シ
ュタイゲ[Ge1sl ingen / Steige
l在〕製の銅電解液浴中で45分間 電流密[: 2.5 A/drr/ 金稿メッキ金的メッキm m度二室温 2)型2ノ/l/ ? ” (’ Norma ” )
、前記ノシュレツター社製のニッケル浴中T15分間
電流密度: 3.5 A/dd 金属メッキ:10μm 温度=50C もしくけ 1)前記のような銅メッキ 21 鉛−m 浴L A t M記のシュレツター社製
)中で20分間 WLa’ljK : 1. s A/dW?金属メッ金
属メッキ用 203m温 得られた版VcViアンダーカッティング又は損傷は認
められなかった。
例3
例2Kg5載したレジストフィルムを、厚さ35抽の鋼
層を備えた絶縁材料より成る清浄な支持体上に貼合せた
。このように生成した厚板を回路図の原図を通して露光
し、泰の鏝でi 、 i。
層を備えた絶縁材料より成る清浄な支持体上に貼合せた
。このように生成した厚板を回路図の原図を通して露光
し、泰の鏝でi 、 i。
1− ) IJジクロロタンで現像した。露光した鋼は
アンモニア/堪比鋼溶液(pH8,51を用いて48〜
50℃でエツチングして除去した。このレジストlii
け該エツチング媒体に対して優れた抵抗力を示した。
アンモニア/堪比鋼溶液(pH8,51を用いて48〜
50℃でエツチングして除去した。このレジストlii
け該エツチング媒体に対して優れた抵抗力を示した。
例4
次の被覆溶液?乾燥レジストフィルムを生成するのに使
用した: ブタノン 14 p、b、w、中の メチルメタクリレート98に及び メタクリル酸2塚より成りかつ平均 分子ifVtw約35000を有する共電合体 4.7
p、b、w。
用した: ブタノン 14 p、b、w、中の メチルメタクリレート98に及び メタクリル酸2塚より成りかつ平均 分子ifVtw約35000を有する共電合体 4.7
p、b、w。
トリメチロ−ルプロノぞントリ
アクリレート3.3 p、b、w。
ロイコクリスタルノ々イオレット (1,5p、b、w
。
。
例1のアントラキノン染料 +102 p、b、w。
化合’41n 7 0.0 s p、b、w。
エチル4−ジメチルアミノ
ベンゾエート o、125p、b、w。
乾mi重量を36./rr/に調節した。材料を架
例11C記載したように処理した。完全架橋した(さび
階段9個が得られた。
階段9個が得られた。
例5
ブタノン 14 p、D、W、中の
ブチルメタクリレート78に、メチル
メタクリレート20に及びメタクリル酸2により収りか
つ平均分子t Mw約30000を有するター、f?)
ツマ−6,0p、b、w。
つ平均分子t Mw約30000を有するター、f?)
ツマ−6,0p、b、w。
トリメチロールプロノぞン
トリアクリレート 2.0 p、b、w。
クイコクリスタルノ9イオレット o、 o s p、
b、w。
b、w。
例1のアントラキノン染料 n、 02 p、b、w。
化合物7(>、 05 p、b、w。
エチル4−ジメチルアミノ
ベンゾエート 0.15 p、b、w。
の溶液をポリエステルフィルム上に乾燥層重量69v/
−が得られるようにスピンコードシタ。
−が得られるようにスピンコードシタ。
N1′Lk例1に記載したよう(処理した。完全架橋し
た(さび階段8 +91 litが得られた。
た(さび階段8 +91 litが得られた。
例6
次の被覆溶液を生成し7t=
アルカノールで部分エステル比しかつ
平均分子tow約20000及び酸価約200i有する
スチレン/無水マレイ ン酸共重合体 a p、b、w・ り11セロ一ルジメタクリレート2モルとヘキサメチレ
ンジイソシアネート1モルとから生成したジウレタン
a p、b、w。
スチレン/無水マレイ ン酸共重合体 a p、b、w・ り11セロ一ルジメタクリレート2モルとヘキサメチレ
ンジイソシアネート1モルとから生成したジウレタン
a p、b、w。
2.4−ジニトロ−6−クロa−ベン
ゼンジアゾニウム塩を2−メトキシ
−5−アセチルアミノ−N−シアノ
エチル−N−ヒPロキシエチルアニ
リンとカップリングさせて得らnる
ブルーアゾ染料 0.1 a p、b、w。
及び次の光開始剤:
ブタノン 70 p、b、w。
酢酸ブチル 40 p、b、w、及び
エチレンクリコールモノメチルエーテル2゜p 、b
、w、中の a) 化合物10 0.2 ] p、b、w。
、w、中の a) 化合物10 0.2 ] p、b、w。
又は
b)化合物11 0.25 p、b、w。
電気化学的に粗面化し、陽極酸化して酸化物層2./m
?全形成しかつポリビニルホスホン酸の水溶液で助処理
したアルミニウム上VC@記の溶液全スピンコードして
乾燥層重t2p/m’に連取した。版に1亀*4v/r
r?に有するポリビニルアルコールのカッモ一層全施し
た。生成した印刷版を13階段の連続階調(さび下VC
5Kwの金属ハロゲン化物灯で160秒間露光した。
?全形成しかつポリビニルホスホン酸の水溶液で助処理
したアルミニウム上VC@記の溶液全スピンコードして
乾燥層重t2p/m’に連取した。版に1亀*4v/r
r?に有するポリビニルアルコールのカッモ一層全施し
た。生成した印刷版を13階段の連続階調(さび下VC
5Kwの金属ハロゲン化物灯で160秒間露光した。
そIf”Lを次の組[を有する現像液で現像した:J
/ 珪酸f−) ’) ’) A ・9 H2O3,O
p−1)−W。
/ 珪酸f−) ’) ’) A ・9 H2O3,O
p−1)−W。
ノニオニツク湿潤剤(オキシエ
fL/ン単位約8個を有するヤシ
脂肪アルコール/ポリオキシエ
チレンエーテル) 10.03 p、b、w。
抑泡剤 0.003 p、b、W。
及び
脱イオン水 96.967 p、b、w。
完全架橋結合した次のくさび階段数が得られた:光開始
剤al′fr含有する層で314)及び光開始剤b)を
含有する層で1(2)。
剤al′fr含有する層で314)及び光開始剤b)を
含有する層で1(2)。
233−
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、 主成分として、 a)重合体結合剤、 b)エチレン系不飽和末端基少な(とも2個及び1oo
ct上廻る那点1に有する重合可能な化合物及び C) 光開始剤として三環式N−へテロ環式化合物 を含有する光重合可能な組成物において、N−へテロ環
式化合物が式I: 〔式中R1は水素原子又は・・ロゲン原子であるか又は
アルキル基、アルコキシ基又はジアルキルアε)基であ
り、 H1’は水素原子又はハロゲン原子であるか又はアルキ
ル基であり、 R2はアルキル基又はアルコキシカルボニルアルキル基
であり、あるイL R1とR2はそれらがアルキル基金表わす場合には一緒
になって5−又は6員喋を形成してよ(、 R6は脂肪族又はシクロ脂肪族の第三アミノ基である〕
に相当することを特徴とする光重合可能な組成物。 2、R6が炭素原子2〜16個+!ll−有するジアル
キルアミノ苓、アルキル基中に炭素原子1〜4個を有し
かつシクロアルキル基中に炭素原子5〜81IiliI
ft有するN−アルキル−シクロアルキルアミノ基又は
環員5〜7個から形成さnかつ炭素原子4〜10個を有
するN−へテロ環式基である特許請求の範囲第1項記載
の組酸物。 3R1゛が水素原子でありかつR1が1式の環基の7位
に位置する特許請求の範囲第1項記載の組成物。 4、R1が9位に位置しかつR2と一緒Kf1つてエチ
レン基又はプロピレン基を形成する特許請求の範囲第1
項記載の組成物。 5、 重合可能な化合物bllc多価アルコールのアク
リル酸−又はメタクリル酸エステルが包含さnる特許請
求の範囲第1項記載の組成物。 6、 重合体結合剤a)は水に不溶であり刀Sつ補水性
アルカリ性溶液に可溶である特許請求の範囲第1項記載
の組成物。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19843420425 DE3420425A1 (de) | 1984-06-01 | 1984-06-01 | Photopolymerisierbares gemisch, das als photoinitiator ein 1,3,10-triazaanthracen-4-on- enthaelt |
DE3420425.3 | 1984-06-01 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60263142A true JPS60263142A (ja) | 1985-12-26 |
Family
ID=6237364
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60114439A Pending JPS60263142A (ja) | 1984-06-01 | 1985-05-29 | 光重合可能な組成物 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4619885A (ja) |
EP (1) | EP0163257B1 (ja) |
JP (1) | JPS60263142A (ja) |
AT (1) | ATE35683T1 (ja) |
DE (2) | DE3420425A1 (ja) |
Families Citing this family (5)
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---|---|---|---|---|
DE4027301A1 (de) * | 1990-08-29 | 1992-03-05 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes photopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial |
JP2977265B2 (ja) * | 1990-11-19 | 1999-11-15 | 旭化成工業株式会社 | 感光性エラストマー構成体 |
US5609991A (en) * | 1995-02-10 | 1997-03-11 | Morton International, Inc. | Photoimageable composition having improved alkaline process resistance and tack-free surface for contact imaging |
US5576145A (en) * | 1995-02-10 | 1996-11-19 | Morton International, Inc. | Esterified styrene/maleic anhydride polymer and polymer-containing photoimageable composition having improved alkaline process resistance |
US6204302B1 (en) * | 1998-11-20 | 2001-03-20 | Bisco, Inc. | Photosensitizers for free radical polymerization initiation resins and method of making the same |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2027467C3 (de) * | 1970-06-04 | 1974-08-15 | Kalle Ag, 6202 Wiesbaden-Biebrich | Photopolymerisierbare Kopiermasse |
DE2039861C3 (de) * | 1970-08-11 | 1973-12-13 | Kalle Ag, 6202 Wiesbaden-Biebrich | Photopolymensierbare Kopier masse |
WO1983003687A1 (en) * | 1982-04-07 | 1983-10-27 | Ito, Kengo | Image-forming photo-sensitive material |
DE3232620A1 (de) * | 1982-09-02 | 1984-03-08 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | 10-phenyl1-1,3,9-triazaanthracene und diese enthaltendes photopolymerisierbares gemisch |
DE3232621A1 (de) * | 1982-09-02 | 1984-03-08 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | 1,3-diaza-9-thia-anthracen-2,4-dione und diese enthaltendes photopolymerisierbares gemisch |
DE3233604A1 (de) * | 1982-09-10 | 1984-03-22 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Quartaere pyrimido(4,5-b)chinoliniumsalze und verfahren zu ihrer herstellung |
JPS59174831A (ja) * | 1983-03-24 | 1984-10-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性組成物 |
-
1984
- 1984-06-01 DE DE19843420425 patent/DE3420425A1/de not_active Withdrawn
-
1985
- 1985-05-23 EP EP85106325A patent/EP0163257B1/de not_active Expired
- 1985-05-23 AT AT85106325T patent/ATE35683T1/de not_active IP Right Cessation
- 1985-05-23 DE DE8585106325T patent/DE3563747D1/de not_active Expired
- 1985-05-29 JP JP60114439A patent/JPS60263142A/ja active Pending
- 1985-05-31 US US06/739,512 patent/US4619885A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
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---|---|
EP0163257B1 (de) | 1988-07-13 |
EP0163257A1 (de) | 1985-12-04 |
US4619885A (en) | 1986-10-28 |
ATE35683T1 (de) | 1988-07-15 |
DE3563747D1 (en) | 1988-08-18 |
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