MXPA05008118A - Derivados de oxima halogenados y el uso de los mismos como acidos latentes. - Google Patents

Derivados de oxima halogenados y el uso de los mismos como acidos latentes.

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Abstract

Compuestos de formula I o II (ver formulas (I) o (II)), donde R1 es haloalquilsulfonilo de C1-C10, halobencensulfonilo, haloalcanoilo de C2-C10, halobenzoilo; R2 es halogeno o haloalquilo de C1-C10; Ar1 es fenilo, bifenililo, fluorenilo, naftilo, antracilo, fenantrilo, o heteroarilo, todos los cuales estan opcionalmente sustituidos; Ar'1 es por ejemplo fenilo, naftileno, difenileno, heteroarileno, oxidifenileno, fenilen-D-D1-D-fenilo o -Ar°°1-A1-Y1-A1-Ar°°1-; donde esos radicales estan opcionalmente sustituido; Ar''1 es fenilo, naftileno, antracileno, fenantrileno, o heteroarileno, todos opcionalmente sustituidos; A1 es por ejemplo un enlace directo. -O-, -S-, o -NR6-; Y1 inter alia es alquileno de C1-C18; X es halogeno; D es por ejemplo -O-, -S- o -NR6-; D1 inter alia es alquileno de C1-C18; son particularmente adecuados como acidos fotolatentes en tecnologia ArF resistente.
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