BRPI0407605A - derivados de oxima halogenados e o uso dos mesmos como ácidos latentes - Google Patents

derivados de oxima halogenados e o uso dos mesmos como ácidos latentes

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Abstract

"DERIVADOS DE OXIMA HALOGENADOS E O USO DOS MESMOS COMO áCIDOS LATENTES". Compostos da fórmula I or II nas quais R~ 1~, é C~ 1~-C~ 10~haloalquilsulfonila, halobenzenossulfonila, C~ 2~- C~ 10~haloalcanoíla, halobenzoíla; R~ 2~ é halogênio or C~ 1~-C~ 10-~ haloalquila; Ar~ 1~, is fenila, bifenilila, fluorenila, naftila, antracila, fenantrila, or heteroarila, todos os quais estão opcionalmente substituídos; Ar<39>~ 1~ é, por exemplo, fenileno, naftileno, difenileno, heteroarileno, óxidifenileno, fenilenoD-D~ 1~-D-fenileno ou -Ar'~ 1~-A~ 1~-Y~ 1~-A~ 1~-Ar'~ 1~-; sendo que esses radicais estão opcionalmente substituídos; Ar'~ 1~ é fenileno, naftileno, antracileno, fenantrileno ou heteroarileno, todos opcionalmente substituídos; A~ 1~ é, por exemplo, uma ligação direta, -O-, -S- ou -NR~ 6~-; Y é, entre outros, C~ 1~-C~ 18~alquileno; X é halogênio, D é, por exemplo, -O-, -S- ou -NR~ 6~-; D~ 1~, é, entre outros, C~ 1~C~ 18~alquileno; são particularmente apropriados como ácidos fotolatentes em tecnologia de resistores de ArF.
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