JP6465947B2 - デバイスの集積回路を試験するためのシステム及びその使用方法 - Google Patents

デバイスの集積回路を試験するためのシステム及びその使用方法 Download PDF

Info

Publication number
JP6465947B2
JP6465947B2 JP2017211502A JP2017211502A JP6465947B2 JP 6465947 B2 JP6465947 B2 JP 6465947B2 JP 2017211502 A JP2017211502 A JP 2017211502A JP 2017211502 A JP2017211502 A JP 2017211502A JP 6465947 B2 JP6465947 B2 JP 6465947B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
contactor
piston
volume
cartridge
support structure
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2017211502A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2018032873A (ja
Inventor
スコット イー リンゼイ
スコット イー リンゼイ
ジュンジェ イェ
ジュンジェ イェ
ジョヴァーン ジョヴァノヴィック
ジョヴァーン ジョヴァノヴィック
シェーン ピー マラソン
シェーン ピー マラソン
Original Assignee
エイアー テスト システムズ
エイアー テスト システムズ
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by エイアー テスト システムズ, エイアー テスト システムズ filed Critical エイアー テスト システムズ
Publication of JP2018032873A publication Critical patent/JP2018032873A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6465947B2 publication Critical patent/JP6465947B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R1/00Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
    • G01R1/02General constructional details
    • G01R1/04Housings; Supporting members; Arrangements of terminals
    • G01R1/0408Test fixtures or contact fields; Connectors or connecting adaptors; Test clips; Test sockets
    • G01R1/0433Sockets for IC's or transistors
    • G01R1/0441Details
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R1/00Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
    • G01R1/02General constructional details
    • G01R1/04Housings; Supporting members; Arrangements of terminals
    • G01R1/0408Test fixtures or contact fields; Connectors or connecting adaptors; Test clips; Test sockets
    • G01R1/0416Connectors, terminals
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R1/00Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
    • G01R1/02General constructional details
    • G01R1/04Housings; Supporting members; Arrangements of terminals
    • G01R1/0408Test fixtures or contact fields; Connectors or connecting adaptors; Test clips; Test sockets
    • G01R1/0491Test fixtures or contact fields; Connectors or connecting adaptors; Test clips; Test sockets for testing integrated circuits on wafers, e.g. wafer-level test cartridge
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R1/00Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
    • G01R1/02General constructional details
    • G01R1/06Measuring leads; Measuring probes
    • G01R1/067Measuring probes
    • G01R1/06705Apparatus for holding or moving single probes
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R1/00Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
    • G01R1/02General constructional details
    • G01R1/06Measuring leads; Measuring probes
    • G01R1/067Measuring probes
    • G01R1/073Multiple probes
    • G01R1/07307Multiple probes with individual probe elements, e.g. needles, cantilever beams or bump contacts, fixed in relation to each other, e.g. bed of nails fixture or probe card
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/26Testing of individual semiconductor devices
    • G01R31/2601Apparatus or methods therefor
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/2851Testing of integrated circuits [IC]
    • G01R31/2855Environmental, reliability or burn-in testing
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/2851Testing of integrated circuits [IC]
    • G01R31/2855Environmental, reliability or burn-in testing
    • G01R31/286External aspects, e.g. related to chambers, contacting devices or handlers
    • G01R31/2863Contacting devices, e.g. sockets, burn-in boards or mounting fixtures
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/2851Testing of integrated circuits [IC]
    • G01R31/2886Features relating to contacting the IC under test, e.g. probe heads; chucks
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/2851Testing of integrated circuits [IC]
    • G01R31/2886Features relating to contacting the IC under test, e.g. probe heads; chucks
    • G01R31/2887Features relating to contacting the IC under test, e.g. probe heads; chucks involving moving the probe head or the IC under test; docking stations

Description

本発明は、フルウェーハ試験及び/又はバーンイン試験及び/又は内蔵自己試験に使用される装置に関する。
超小型電子回路は、通常、半導体ウェーハ内及び半導体ウェーハ上で製造される。このようなウェーハは、次に、個々のダイに「単品化」又は「ダイスカット」される。このようなダイは、一般的に、ボードに剛性を与え、かつダイの集積回路又は超小型電子回路と電子通信する目的で支持ボードに装着される。最終的なパッケージ化は、ダイの封入を含むことができ、次に、得られるパッケージを客先に出荷することができる。
ダイ又はパッケージは、客先に出荷する前に試験することが必要である。理想的には、ダイは、早期の製造中に発生する欠陥を特定するために初期段階で試験すべきである。
ダイを試験することができる最も早い段階は、ウェーハレベルでの回路製造完了後、かつウェーハを単品化する前である。フルウェーハ試験には、いくつかの課題がある。フルウェーハ試験における1つの課題は、ウェーハ上に多数の接点があること、及び従って多数の電力接続部、接地接続部、及び信号接続部を作る必要があることである。
本発明は、保持具の表面に対してデバイスを保持する段階と、保持具に対して接触器ボードアセンブリを移動させて接触器ボードアセンブリの端子をデバイス上の接点と接触させる段階と、端子及び接点を通じて集積回路に信号を供給する段階とを含むデバイスの集積回路を試験する方法を提供する。
本方法は、流体ラインを通る空気が、アクチュエータの第1及び第2の構成要素の間に形成された容積のサイズを修正し、かつ装置フレームに対して接触器支持構造体を移動させることを可能にする段階を更に含むことができる。
本方法は、流体ラインの空気の圧力が所定の値に到達した時に圧力逃がし弁を通して流体ラインから空気を自動的に放出する段階を更に含むことができる。
本方法において、デバイスは、第1のデバイスとすることができ、端子を接点と接触した状態に維持しながら内部容積の圧力を低減する段階と、アクチュエータの第1及び第2の構成要素を互いに実質的に静止した関係に維持しながら端子を接点から離脱させるために装置フレームに対して保持具を移動させる段階と、保持具から第1のデバイスを除去して保持具の表面に対して第2のデバイスを保持することによって第1のデバイスを第2のデバイスと交換する段階と、アクチュエータの第1及び第2の構成要素が互いに対して実質的に静止した関係のままである間にフレームに対して保持具を移動させて端子を第2のデバイスの接点と接触させる段階と、第2のデバイス上の接点に対して端子を押圧するために容積の圧力を増大させる段階と、端子及び第2のデバイスの接点を通じて第2のデバイスの集積回路に信号を供給する段階とを更に含む。
本方法において、アクチュエータの第1及び第2の部分は、それぞれ、シリンダ及びピストンとすることができ、ピストンは、シリンダ及びピストンが共同で容積を形成するようにシリンダ内に位置し、容積の圧力を修正してシリンダに対してピストンを移動させる段階を更に含む。
本方法は、シリンダにピストンを接続する少なくとも1つのバネの力を調節して、シリンダに対してピストンを水平にする段階を更に含むことができる。
本方法において、アクチュエータは、膨張可能かつ収縮可能な空気袋を含むことができ、アクチュエータの第1及び第2の部分は、空気袋の対向する側である。
本方法において、複数の電気構成要素は、接触器ボードアセンブリ上に装着することができる。
本方法において、電気構成要素は、接触器ボードアセンブリによって保持された端子に対向する接触器ボードアセンブリ上の側に装着することができる。
本方法において、電気構成要素は、力分配基板と接触器ボードアセンブリの間に位置することができ、スタンドオフ構成要素を通じて接触器基板から力分配基板まで力を伝達させる段階を更に含む。
本方法は、接触器ボードアセンブリを含むことができるサブアセンブリの第1の部分に対して補償部分を配置する段階を更に含むことができ、補償部分は、補償部分の輪郭表面以外にサブアセンブリの表面の平面度を改善する輪郭表面を有する。
本方法において、接触器支持構造体は、分配ボード基板と分配ボード基板に装着された接触器基板とを含むことができる。
本方法は、少なくとも第1の接続構成で分配ボード基板に接触器基板を接続する段階を更に含むことができ、第1の接続構成は、第1の半径方向の分配ボード基板に対する接触器基板の動きを可能し、かつ第1の半径方向に対して横断方向の第1の接線方向の分配ボード基板に対する接触器基板の動きを制限する相補的相互係合構造を有する第1及び第2の接続部分を含む。
本方法において、分配ボードは、複数の異なる剛性を有する複数の層を有することができ、接触器支持構造体によって保持された端子に対向する分配ボード基板の半分における層のうちの1つは、層の大部分よりも剛性である。
本方法は、接触器ボードアセンブリがその一部を形成するカートリッジのカートリッジフレームを装置フレームに取り外し可能に装着する段階と、コネクタインタフェースの表面を接触器インタフェースの表面に接続する段階とを更に含むことができる。
本方法において、カートリッジは、共通サブアセンブリ及び第1の固有の接触器サブアセンブリを含むことができ、第1の固有の接触器サブアセンブリを第2の固有の接触器サブアセンブリで置き換える段階を更に含む。
本方法は、共通サブアセンブリと第2の固有の接触器サブアセンブリとの間の区域内の圧力を低減する段階を更に含むことができる。
本発明は、デバイスの集積回路を試験するための装置も提供し、装置は、装置フレームと、装置フレームに固定されたデバイスのための保持具と、装置フレームによって保持された接触器支持構造体と、接触器支持構造体によって保持された複数の端子とを含み、保持具及び接触器支持構造体は、端子の各々がデバイスのそれぞれの接点と解除可能に接触するように互いに対して移動可能であり、装置は、更に、電源と、支持構造体によって保持された端子の電力端子に電源を接続する電力電路と、信号源と、各々が信号源を支持構造体によって保持された端子のそれぞれの信号端子に接続する複数の信号電路とを含む。
上記装置は、さらに、装置フレームと接触器支持構造との間に接続されたアクチュエータを含むことができ、このアクチュエータは、端子がデバイスの接点に押圧されるように装置フレームに対してかつ保持具の表面に向けて接触器支持構造体を移動させるために互いに対して移動可能である第1及び第2の部分を有している。
装置において、アクチュエータは、第1及び第2の構成要素の間に形成された容積と、容積に接続されて容積を通る空気を可能にし、それによって容積のサイズを修正して装置フレームに対して接触器支持構造体を移動させる流体ラインとを有することができる。
装置は、流体ラインに接続した圧力逃がし弁を更に含み、流体ラインの空気の圧力が所定の値に到達した時に圧力逃がし弁を通して流体ラインから空気を自動的に放出することができる。
装置において、デバイスは、第1のデバイスとすることができ、プロセッサと、プロセッサに接続されたメモリと、メモリに格納され、かつ端子を接点と接触した状態に維持しながら内部容積の圧力を低減する段階、互いに実質的に静止した関係にアクチュエータの第1及び第2の構成要素を維持しながら端子を接点から離脱させるために装置フレームに対して保持具を移動させる段階、保持具から第1のデバイスを除去して保持具の表面に対して第2のデバイスを保持することによって第1のデバイスを第2のデバイスと交換する段階、アクチュエータの第1及び第2の構成要素が互いに実質的に静止した関係のままである間にフレームに対して保持具を移動させて端子を第2のデバイスの接点と接触させる段階、第2のデバイス上の接点に対して端子を押圧するために容積の圧力を増大させる段階、及び端子及び第2のデバイスの接点を通じて第2のデバイスの集積回路に信号を供給する段階を含む方法を実施するためにプロセッサによって実行可能なコンピュータプログラムとを更に含む。
装置において、アクチュエータの第1及び第2の部分は、それぞれ、シリンダ及びピストンとすることができ、ピストンは、シリンダ及びピストンが共同で容積を形成するようにシリンダ内に位置し、容積の圧力を修正してシリンダに対してピストンを移動させるために容積に接続された流体ラインを更に含む。
装置は、バネと、ピストンに固定された第1の部分及びバネに接続した第2の部分を有するバネ調節機構とを更に含むことができ、バネ調節機構は、バネの力を調節してシリンダに対してピストンを水平にするように調節可能である。
装置において、アクチュエータは、膨張可能かつ収縮可能な空気袋を含むことができ、アクチュエータの第1及び第2の部分は、空気袋の対向する側である。
装置は、接触器支持構造体上に取り付けられた複数の電気構成要素を更に含むことができる。
装置において、電気構成要素は、接触器支持構造体によって保持された端子の反対側の接触器支持構造体上に装着することができる。
装置は、力分配基板を更に含むことができ、電気構成要素は、力分配基板、及び力分配基板、及び接触器支持構造体の間に位置し、力分配基板と接触器基板間のスタンドオフ構成要素装置が、接触器基板から力分配基板に力を伝達させる。
装置は、接触器支持構造体と、端子と、補償部分の輪郭表面以外にサブアセンブリの表面の平面度を改善する輪郭表面を有する補償部分とを有するサブアセンブリを更に含むことができる。
装置において、接触器支持構造体は、分配ボード基板と分配ボード基板に取り付けられた接触器基板とを含むことができる。
装置は、分配ボード基板に接触器基板を接続する少なくとも第1の接続構成を更に含むことができ、第1の接続構成は、第1の半径方向の分配ボード基板に対する接触器基板の動きを可能にし、かつ第1の半径方向に対して横断方向の第1の接線方向の分配ボード基板に対する接触器基板の動きを制限する相補的相互係合構造を有する第1及び第2の接続部分を含む。
装置において、分配ボードは、複数の異なる剛性を有する複数の層を有することができ、接触器支持構造体によって保持された端子に対向する分配ボード基板の半分の層のうちの1つは、層の殆どよりも剛性である。
装置は、装置フレームに取り外し可能に装着可能とすることができるカートリッジフレームを含んで接触器ボードがその一部を形成するカートリッジと、接触器支持構造体上の接触器インタフェースと、接触器インタフェースの表面に接続するための表面を有するコネクタインタフェースとを更に含むことができる。
装置において、カートリッジは、共通サブアセンブリと、第2の固有の接触器サブアセンブリと互換的にすることができる第1の固有の接触器サブアセンブリとを含むことができる。
装置は、共通サブアセンブリと第2の固有の接触器サブアセンブリの間の区域と連通し、かつカートリッジの外側に出口を有する減圧通路と、共通サブアセンブリと第2の固有の接触器サブアセンブリの間の区域内の圧力を低減するように減圧通路の出口に接続したポンプとを更に含むことができる。
本発明は、カートリッジフレームと、装置フレームに固定された位置にカートリッジフレームを装着するためのカートリッジフレーム上の構造と、接触器支持構造体と、接触器支持構造体上の接触器インタフェースと、接触器支持構造体によって保持されて、デバイス上の接点と接触するための複数の端子と、接触器支持構造体によって保持されて、インタフェースを端子に接続される複数の導体とを含むカートリッジを更に提供する。
カートリッジは、端子がデバイスの接点に対して押圧されるようにカートリッジフレームに対して及び保持具の表面に向けて接触器支持構造体を移動させるように互いに対して移動可能にすることができる第1及び第2の部分を有するカートリッジフレームと接触器支持構造体の間に接続したアクチュエータを更に含むことができる。
カートリッジにおいて、アクチュエータは、第1及び第2の構成要素の間に形成された容積と、容積に接続されて容積を通る空気を可能にし、それによって容積のサイズを修正して装置フレームに対して接触器支持構造体を移動させる流体ラインとを有することができる。
カートリッジは、流体ラインの空気の圧力が所定の値に到達した時に流体ラインから空気を自動的に放出するために流体ラインに接続した圧力逃がし弁を更に含むことができる。
カートリッジにおいて、デバイスは、第1のデバイスとすることができ、プロセッサと、プロセッサに接続されたメモリと、メモリに格納され、かつ端子を接点と接触した状態に維持しながら内部容積の圧力を低減する段階と、互いに実質的に静止した関係にアクチュエータの第1及び第2の構成要素を維持しながら端子を接点から離脱させるために装置フレームに対して保持具を移動させる段階と、保持具から第1のデバイスを除去して保持具の表面に対して第2のデバイスを保持することによって第1のデバイスを第2のデバイスと交換する段階と、アクチュエータの第1及び第2の構成要素が互いに実質的に静止した関係のままである間にフレームに対して保持具を移動させて端子を第2のデバイスの接点と接触させる段階と、第2のデバイス上の接点に対して端子を押圧するために容積の圧力を増大させる段階と、端子及び第2のデバイスの接点を通じて第2のデバイスの集積回路に信号を供給する段階とを含む方法を実施するためにプロセッサによって実行可能なコンピュータプログラムとを更に含む。
カートリッジにおいて、アクチュエータの第1及び第2の部分は、それぞれ、シリンダ及びピストンとすることができ、ピストンは、シリンダ及びピストンが共同で容積を形成するようにシリンダに位置し、容積の圧力を修正してシリンダに対してピストンを移動させるために容積に接続された流体ラインを更に含む。
カートリッジは、バネと、ピストンに固定された第1の部分及びバネに接続された第2の部分を有するバネ調節機構とを更に含むことができ、バネ調節機構は、バネの力を調節してシリンダに対してピストンを水平にするように調節可能である。
カートリッジにおいて、アクチュエータは、膨張可能かつ収縮可能な空気袋を含むことができ、アクチュエータの第1及び第2の部分は、空気袋の対向する側である。
カートリッジは、接触器支持構造体上に装着された複数の電気構成要素を更に含むことができる。
カートリッジにおいて、電気構成要素は、接触器支持構造体によって保持された端子に対向する接触器支持構造体上の側に装着することができる。
カートリッジは、力分配基板を更に含むことができ、電気構成要素は、力分配基板、及び力分配基板、及び接触器支持構造体の間に位置し、力分配基板と接触器基板間のスタンドオフ構成要素が、接触器基板から力分配基板まで力を伝達させる。
カートリッジは、接触器支持構造体と、端子と、補償部分の輪郭表面以外にサブアセンブリの表面の平面度を改善する輪郭表面を有する補償部分とを有するサブアセンブリを更に含むことができる。
カートリッジにおいて、接触器支持構造体は、分配ボード基板と分配ボード基板に装着された接触器基板とを含むことができる。
カートリッジは、分配ボード基板に接触器基板を接続する少なくとも第1の接続構成を更に含むことができ、第1の接続構成は、第1の半径方向の分配ボード基板に対する接触器基板の動きを可能にし、かつ第1の半径方向に対して横断方向の第1の接線方向の分配ボード基板に対する接触器基板の動きを制限する相補的相互係合構造を有する第1及び第2の接続部分を含む。
カートリッジにおいて、分配ボードは、複数の異なる剛性を有する複数の層を有することができ、接触器支持構造体によって保持された端子に対向する分配ボード基板の半分における層のうちの1つは、層の大部分よりも剛性である。
カートリッジにおいて、カートリッジは、共通サブアセンブリと、第2の固有の接触器サブアセンブリと交換可能とすることができる第1の固有の接触器サブアセンブリとを含むことができる。
カートリッジは、共通サブアセンブリと第2の固有の接触器サブアセンブリの間の区域と連通してカートリッジの外側に出口を有する減圧通路を更に含むことができる。
本発明は、添付図面を参照することでより例示的に説明される。
フルウェーハ試験/又はバーンイン試験/又は内蔵自己試験に使用することができる本発明の実施形態による装置の斜視図である。 熱システムフレーム部分が約45°反時計回りに回転される図1と類似の図である。 図1及び図2の装置の一部を成す互換的カートリッジを示す下からの断面斜視図である。 図3のカートリッジの下部を成す接触器アセンブリを例示的に示す断面側面図である。 図5の接触器アセンブリの分配基板上の接点を有する1つのインタフェースの下部平面図である。 特に図5の複数のインタフェースのレイアウトを示す、図5の接触器アセンブリの下部平面図である。 特に、カートリッジフレームの受け板に対して接触器アセンブリを移動させるために使用されるアクチュエータ機構を示すと共に、ウェーハを保持するウェーハチャックの形態のウェーハ保持具を示す、図3のカートリッジの一部の断面側面図である。 ウェーハチャックがウェーハを接触器アセンブリの端子より下方の位置に移動させた後の図7と類似の図である。 端子を移動させてウェーハ上の接点と接触させるためにアクチュエータ機構が使用された後の図8と類似の図である。 アクチュエータ機構のピストンによって生成される力を示すタイムチャートである。 特に図3のカートリッジの1つのアラインメント及び係止機構と、図1及び図2に示す装置のフレームの基部の上部に固定された1つのアラインメント及び係止機構を示す断面側面図である。 構造を整列させるためにアラインメント及び係止機構が使用され、かつ構造がアラインメント及び係止機構と取り外し可能に係合した後の図11と類似の図である。 特に、図3のカートリッジの1つの第1のコネクタセットと、図1及び図2の装置のフレームのヒンジ部分に固定された1つの第2のコネクタセットとを示す断面側面図である。 図13の第1のコネクタセットの一部を成す第1のコネクタモジュールを示す部分断面側面図である。 第2のコネクタセットの球形係合器形成部の上に第1のコネクタセットの第1の係合構成要素形成部の球形内側係合面を回転させるために係合器が使用された後の図13と類似の図である。 第2のコネクタセットとの第1のコネクタセットの係合後の図15と類似の図である。 図13の複数の第1のコネクタセットのレイアウト及び構成を具体的に示す図3のカートリッジの斜視図である。 図13の複数の第2のコネクタセットのレイアウトを示す下からの斜視図である。 熱システムフレームが約135°反時計回りに回転され、試験ヘッドフレーム部分が約90°右に回転される図2に示す装置の一部の斜視図である。 図19において左から見た時の電力ボード、ドライバボード、及びパターン発生器ボードのレイアウトをブロック図の形で示す端面図である。 更に、ボードを冷却するのに使用される熱システムを示す、図20に示すボードのうちの2つに平行な断面側面図である。 更に、装置の試験器システムの構成を表す構成ファイルを保持する装置のコンピュータシステムを示す、図1の装置の構成要素のブロック図である。 図19の装置の使用法の流れ図である。 構成ファイルのデータベース構造を示すブロック図である。 構成ファイルのデータベース構造を示すブロック図である。 複数のネットファイルから構成ファイルを形成するのに使用されるソフトウエアアセンブラアプリケーションのブロック図である。 図22のソフトウエアアセンブラアプリケーションが構成ファイルをアセンブルする方法の流れ図である。 図1の装置の電気構成要素のブロック図である。 図22及び図27に示す電力ボードの構成要素と、電力ボードに対して作られた接続部とのブロック図である。 図28の電力ボード上に複製される構成要素を示す回路図である。 図22及び図27に示すドライバボード上に複製される構成要素を示す回路図である。 試験信号を減衰させるために従来のデザインにおいて使用される終端部を示す回路図である。 分解組立図の形で本発明の代替実施形態による交換可能なカートリッジの右半分の構成要素を示す横断面側面図である。 分配ボード及び接触器ボードが互いに固定され、容積形成リングがピストンの下部受け板に固定され、力分配基板がピストンに固定された後の図32と類似の図である。 カートリッジの共通及び固有サブアセンブリのアセンブリを示す図33と類似の図である。 ピストンを水平にするために使用されるバネを示す上面図である。 電気構成要素の上に開口部があるスタンドオフ層の使用を示す斜視図である。 スタンドオフ層内のより多くの開口部を示す図36と類似の斜視図である。 最終アセンブリの後でポンプがカートリッジに接続された状態のカートリッジの左右の半分を示す図34と類似の図である。 図38の「詳細A」と記載された部分の横断面側面図である。 容積形成リングのうちの2つがピストンに固定された時にどのように力がピストンにより生じるかを示す図38と類似の図である。 容積形成リングのうちの1つのみがピストンに固定された時にどのように力がピストンにより生じるかを示す図40と類似の図である。 膨張可能かつ収縮可能な空気袋を利用して静止摩擦を低減する本発明の更に別の実施形態の図40と類似の横断面側面図である。 分配ボードの一部の横断面側面図である。 カートリッジの分配ボードに接続された撓み取り付け部を示す斜視図である。 分解組立図の形で撓み取り付け部の構成要素を示す斜視図である。 撓み取り付け部の一部を形成する撓みケーブルの横断面側面図である。 撓みケーブルの一部のその接地導体がどのように互いに接続されているかを示す上面図である。 撓みケーブルがコネクタに取り付けられた2つの撓みケーブルの上面図である。 本発明の更に別の実施形態による互換的なカートリッジの右半分の構成要素を示す断面側面図である。 補償部分が含められる前の図49のカートリッジの一部の断面側面図である。 図5OAと類似のものであるが補償部分を含む図である。 表面の測定された上昇差を示す図5OA内の表面のコンピュータレンダリングを示す図である。 補償部分を製造するのに使用される異なる重なり合うシムを示すコンピュータレンダリングの図である。 異なる速度で接触器及びウェーハの加熱前後に接触器とウェーハの接触を維持するのに使用される内側と外側のコネクタ構成を示す下面斜視図である。 特により内側と外側のコネクタ構成の位置決めを示す図49のカートリッジの下面斜視図である。 外側コネクタ構成の一部を形成する装着リングの一部の上面斜視図である。 図53に示すものよりも反対側からのコネクタ構成の下面斜視図である。 特にコネクタ構成がどのように組み込まれるかを示し、かつピストン背後の容積の過剰加圧を防止するのに使用される圧力逃し弁及びオリフィスも示す図49のカートリッジの断面側面図である。 図57のピストンの動きを制御するのに使用される空圧システムの概略図である。 図58の空圧システムの作動の時間と共に示すピストン圧力、ピストン容積及び移動、隔離弁の状態、及びウェーハチャックの位置決めのグラフである。
添付図面の図1及び図2は、非単一化ウェーハの超小型電子回路のフルウェーハ試験及び/又は非単一化ウェーハのバーンイン試験及び/又は非単一化ウェーハの内蔵自己試験に特に適する装置10を示している。装置10は、フレーム12と、ウェーハ装填器14と、精査サブアセンブリ16と、カートリッジ18と、試験ヘッド20と、熱システム24とを含むフレーム12に取り付けられたいくつかのモジュールを含む。
フレーム12は、精査器基部部分26と、熱システムフレーム部分28と、試験ヘッドフレーム部分30とを有する。熱システムフレーム部分28は、精査器基部部分26にピボット式に装着される。試験ヘッドフレーム部分30は、熱システムフレーム部分28にピボット式に装着される。精査サブアセンブリ16及び熱システムフレーム部分28は、精査器基部部分26のそれぞれ下部32及び上部34に取り付けられ、試験ヘッド20及び熱システム24は、それぞれ、試験ヘッドフレーム部分30と熱システムフレーム部分28とに取り付けられる。
熱システムフレーム部分28は、例えば、熱システムフレーム部分28が精査器基部部分26のすぐ上にある図1に示す位置と、ピボットアーム部分が約45°反時計回りに左にピボット回転する図2に示すような位置との間でピボット回転することができる。図2に示す位置に熱システムフレーム部分28がピボット回転すると、試験ヘッド20がカートリッジ18から離れる。従って、カートリッジ18の保守又は交換のために、カートリッジ18へのアクセスが得られる。
図3に示すように、カートリッジ18は、カートリッジフレーム38と、カートリッジフレーム38を所定の位置に整列させて係止するためのアラインメントピン40と、接触器アセンブリ42と、複数の第1のコネクタセット44と、接触器アセンブリ42を第1のコネクタセット44に接続する複数の撓み取り付け部46とを含む。
図4に示すように、接触器アセンブリ42は、分配基板48と、接触器基板50と、接触器基板50を分配基板48に固定する留め具52とを含む。
分配基板48は、力分配基板55と、熱膨張均一化基板57と、電気分配基板54と、電気分配基板54上に形成された複数の端子56と、電気分配基板54上に形成された複数の接点58と、電気分配基板54内に担持された複数の導体60とを有する。端子56及び接点58は、同じ側面であるが、電気分配基板54の異なる区域に形成される。各導体60は、端子56のそれぞれのものを接点58のそれぞれのものと相互接続する。
接触器基板50は、第1及び第2の部分64及び66と、カラー67と、複数のピン68とを有する接触器基板62を含む。各ピン68の一端は、第1の部分64の開口部を通って挿入され、次に、第2の部分66の開口部を通って挿入される。各ピン68は、第2の部分66の開口部によって所定の位置に保持されるように、端部よりも大きい中央本体を有する。カラー67は、第1及び第2の部分64及び66を互いに整列させるのに使用される。各ピン68の一端は、分配基板48のそれぞれの端子56に対して置かれる接点70を形成する。各ピン68の対向する端部は、ウェーハ76上の接点74に触れることができる端子を形成する。留め具52は、例えば、各々が接触器基板62の開口部を通って挿入される柄部を有するボルトとすることができ、次に、柄部のネジ切り部は、電気分配基板54のネジ付き開口部に係合する。電気分配基板54、接触器基板62、力分配基板55、熱膨張均一化基板57、及び留め具52は、共同で支持構造体80を形成し、端子72は、支持構造体80から延びる。ピン68、端子56、導体60、及び接点58は、端子72への及びそれからの導電リンクを形成する。
撓み取り付け部46の各々は、撓み非導電外側層82と、外側層82内に保持され、かつ外側層82の材料によって互いに分離された複数の導体84と、それぞれの導体84の端部の複数の解放端子86と、各々が端子86のそれぞれのものの上にある複数の導電隆起部88とを有する。導電隆起部88の各々は、分配基板48の接点58のそれぞれのものに対して置かれる。撓み取り付け部46の端部の上にクランプ部分90が設けられる。留め具9は、クランプ部分90を電気分配基板54に固定して、クランプ部分90と電気分配基板54の間に撓み取り付け部46の端部を挟む力を供給するのに使用される。
図5に更に示すように、接点58は、インタフェース92を形成する。インタフェース92は、接点58の2つの平行な横列を有する。接点58gのうちの2つは、横列の一方から他方に延びる接地接点であり、かつ横列の両端に位置する。インタフェース92の両端には、電気分配基板54に入るネジ付き開口部94が形成される。図4の留め具91の各々は、それぞれの頭部と頭部から延びるそれぞれのネジ付き柄部を有する。頭部は、クランプ部分90上に置かれ、柄部は、図5のネジ付き開口部94に螺合される。クランプ部分90と撓み非導電外側層82の間に適合部材93が位置して、クランプ部分90によって生成された力を分配して導電隆起部88による均一な接触を保証する。
図6を参照すると、電気分配基板54は、正方形であり、かつ4辺98によって形成された周囲を有する。接触器基板62は、4辺98内に円形周囲100を有する。電気分配基板54の円形周囲100の外側の区域に、図5のインタフェース92のような複数のインタフェースが設けられる。インタフェース92の位置と配向は、比較的高密度な配置が得られるように選択される。全てのインタフェース92の組み合わせた長さは、円形周囲100の長さを超える。インタフェース92の組み合わせた長さはまた、4辺98の組み合わせた長さを超える。各々のそれぞれの4分割部102、104、106、及び108におけるインタフェースは、全て、同じ方向に整列している。
並置4分割部102と106のインタフェース92は、各々、ネジ付き開口部94を通る中心線112に対して45°の角度110である。並置4分割部104と108のインタフェースは、角度110と同じ方向で測定された時、中心線112に対して135°の角度である。
4分割部102、104、106、又は108の各々は、10個のインタフェース92Aから92Jを有する。インタフェース92C、92D、及び92Eは、互いに平行であるが、接触器基板62の中心点116から異なる距離にある。インタフェース92F、92G、及び92Hは、互いに平行であるが、中心点116から異なる距離にある。インタフェース92Cと92Fは、92Dと92G、92Eと92Hと同様に、互いに同じ線上にある。インタフェース92Bと92Iは、互いに同じ線上にあるが、インタフェース92Cと92Fによって形成される横列よりも中心点116に近い横列を形成する。また、インタフェース92Bと92Iは、92Cと92Eよりも互いに大きく分離している。また、インタフェース92Aと92Jは、インタフェース92Bと92Iによって形成される横列よりも中心点116に近い横列を形成する。
4分割部102、104、106、及び108の各々は、インタフェース92Aから92Jの配置と類似のものである10個のインタフェース92の配置を有する。配置は、4分割部108から4分割部102に移動する時に中心点116周りに90°回転する。同様に、配置は、4分割部102から4分割部104などに移動する時に更に90°回転する。
それぞれの撓み取り付け部46は、インタフェース92の各それぞれのものに接続される。インタフェース92の配置は、接触器基板50の端子72の比較的高密度な配置への又はそれからの多数電路の「ファン・イン」又は「ファン・アウト」を可能にする。
再び図3を参照すると、カートリッジフレーム38は、下部受け板120と、上部受け板122と、上部受け板122を受け板120に取り付ける接続部分124とを含む。カートリッジ18は、更に、カートリッジフレーム38に対して相対的に接触器アセンブリ42を移動させるアクチュエータ機構126と、移動センサ128とを含む。
図7は、アクチュエータ機構126と、移動センサ128と、ウェーハ76を保持するウェーハチャック130とを示している。シリンダ132は、受け板120内に製造される。シリンダ132は、外面134と上面138とを有する。シリンダ132にリング状の摺動ピストン140が挿入される。摺動ピストン140の下面は、支持構造体80に取り付けられる。摺動ピストン140の中心部に固定リング状ピストン136が挿入される。固定リング状ピストン136の上面は、受け板120に取り付けられる。従って、支持構造体80は、アクチュエータ機構126の摺動ピストン140と、固定リング状ピストン136と、シリンダ132とを通じて受け板120に接続される。アクチュエータ機構126を受け板120と支持構造体80の間に設置することによって、アクチュエータ機構126は、相対的に受け板120に対して接触器アセンブリ42を移動させることができる。受け板120内に流体通路142が製造される。流体通路142は、受け板120の外面からピストン140の上面の上方の位置まで延びる。流体通路142に流体ライン144が接続される。加圧空気又は真空圧を流体ライン144と流体通路142とを通じてピストン140の上面に供給することができる。
移動センサ128は、支持構造体80に取り付けられた外側部分146と、受け板120に取り付けられた内側部分148とを有する。従って、外側部分146と内側部分148との相対移動によって外側部分146と内側部分148との間でインダクタンス(又はキャパシタンス)の変化が発生する。インダクタンス(又はキャパシタンス)を測定して、内側部分148に対する外側部分146の移動距離を示すことができる。外側部分146は、受け板の円形開口部内に収まり、外側部分146は、更に、受け板120に対する接触器アセンブリ42の移動の案内の役目をする。
ウェーハチャック130は、図1及び図2に示す精査サブアセンブリ16の一部を形成する。ウェーハチャック130は、図1及び図2の精査器基部部分26に至る水平x方向及び水平y方向の移動及び垂直z方向の移動が得られるように取り付けられる。
図8に示すように、ウェーハ76がその上にあるウェーハチャック130は、ウェーハ76が接触器基板50のすぐ下に来るまでx方向及びy方向に移動される。次に、ウェーハチャック130は、接触器基板50に向けてz方向に垂直方向に上方に移動される。端子72の各々は、ウェーハ76上の接点のそれぞれのものと整列している。しかし、端子72は、この段階では、ウェーハ76上の接点には接触しない。
図9に示すように、アクチュエータ機構126は、接点74をウェーハ76上の接点と接触させるために使用される。流体ライン144と流体通路142とを通じて、圧縮空気が、シリンダ132の表面134及び138、固定リング状ピストン136の外面、及びピストン140の上面によって形成された容積に供給される。圧縮空気は、ピストン140が受け板120に対して下方に移動されるようにピストン140の上面に作用する。また、ピストン140は、端子72がウェーハ76上の接点に接触するまで接触器アセンブリ42を下方に移動させる。端子72は、端子の一部を成すピンにバネ力に逆らって弾力的に圧下可能である。バネ力は、協働してピストン140に掛かる圧力によって生成される力に対抗する役目をする。
図10は、ピストン140によって生成される力を示している。図7及び図8では端子に作用する力はない。図9においては、力は、ゼロから所定の力に増大される。この所定の力は、圧力とピストン140の上面の面積を掛けることによって計算することができる。端子72によって生成された力は、圧力が高度に制御可能であるために高度に制御可能である。特定の最大力は、印加毎に容易に修正することができる。力が端子72によって印加される時、電気信号、電力、及び接地は、ウェーハ76への又はそれからの端子72を通じて供給される。それによってウェーハ76上の集積回路が試験される。試験が完了した状態で、端子72によって掛けられる力が再びゼロになるように圧力が抜かれる。次に、負圧が印加され、それによって接触器アセンブリ42は、ウェーハ76から離れて図8に示す位置になる。次に、ウェーハ76は、ウェーハチャック130によって除去され、ウェーハ76は、ウェーハチャック130上で別のウェーハと交換される。
端子72をウェーハ76の接点に接触させるためにアクチュエータ機構126を作動させる接触器基板50に対するウェーハチャック130の移動の順番及び速度は変えることができることが認められるであろう。異なる接触アルゴリズムを使用してウェーハチャック130を移動させ、アクチュエータ機構126を作動させて、異なるタイプのウェーハに対して最適な接触(例えば、良好な電気的接触、最小のパッド損傷など)をもたらすことができる。
移動センサ128は、ピストン140がウェーハ76に接触した時に大まかにストロークの中心に来るようにピストン140の圧力を設定することを可能にする。異なる接触技術及び/又は接点数を有するウェーハを、装置10と共に使用することができる。接触技術が異なれば、ウェーハ接触を保証するためのピン当たりの力が異なり、また、接触器高さが異なる場合がある。ウェーハ76と良好に接触するためには、異なる全体的な力を接触器に掛ける必要がある場合がある。移動センサ128を使用して、ピストン140が試験中のウェーハ76に向けて接触器を延長させる距離を測定することができる。従って、様々なタイプの接触器を有するウェーハを同じ装置10を使用して試験することができる。
図11は、図1及び図2のフレーム12の上部分34に取り付けられたアラインメント及び係止機構152と、カートリッジフレーム38に取り付けられたアラインメントピン40の1つとを示している。
アラインメント及び係止機構152は、外側スリーブ154と、アラインメントピン156と、ピストン158と、流体ライン160と、係止アクチュエータ162とを含む。
アラインメントピン156は、その中に形成されたアラインメント開口部164を有する。アラインメント開口部164は、上部水平断面が下部断面よりも大きいような円錐形状を有する。アラインメントピン156は、外側スリーブ154の上端に取り付けられて、外側スリーブ154内に下方に延びる。
ピストン158は、外側スリーブ154の下部分内に位置して、外側スリーブ154内で上下に摺ることができる。外側スリーブ154内に、かつピストン158の下面によって空洞166が形成される。流体ライン160は、空洞166に接続される。正圧及び負圧を流体ライン160を通じて空洞166に供給することができる。正圧によってピストン158の上方の移動が引き起こされ、負圧によってピストン158が下方に移動する。
係止アクチュエータ162は、複数の球形係止部材168と、係止アクチュエータ170とを有する。係止アクチュエータ170は、ピストン158と共に垂直方向に上下動することができるようにピストン158に取り付けられる。係止アクチュエータ170は、球形係止部材168と接触する内面172を有する。表面172は、上昇位置と下降位置との間の係止アクチュエータ170の移動が、互いに向かう及び互いから離れる球形係止部材168の対応する移動を引き起すように円錐形である。
構造40は、窪み構造176が位置決めピン174の端部から遠い位置に形成された位置決めピン174を含む。カートリッジフレーム38は、位置決めピン174が大まかにアラインメント開口部164の上に位置するように移動される。カートリッジフレーム38が図11に示す位置内に下降された時、若干位置ずれした位置決めピン174の端部は、位置決めピン174の中心線がアラインメント開口部164の中心線に向けて移動するようにアラインメント開口部164の表面上で摺ることができる。ピストン158及び係止アクチュエータ162は、球形係止部材168によって形成された開口部を通じて位置決めピン174のより大きい端部の移動を可能にするように下降位置にある。
図12は、構造40が遙かに下降してアラインメント及び係止機構152と係合した後の図11の構成要素を示している。構造40上の円錐面は、アラインメント開口部164の円錐面に接触し、従って、位置決めピン174とアラインメント開口部164との中心線の適正なアラインメントが更に促進される。位置決めピン174上の窪み構造176は、この時点で、球形係止部材168と同じ高さにある。ピストン158及び係止アクチュエータ170は、球形係止部材168が窪み構造176と係合するように上昇させられる。従って、位置決めピン174は、アラインメント及び係止機構152の球形係止部材168と係合する。
位置決めピン174は、球形係止部材168が窪み構造176から分離するように最初にピストン158を下降させ、次に、アラインメント開口部164から出るように位置決めピン174と共にカートリッジフレーム38を上昇させることによってアラインメント及び係止機構152によって解除することができる。カートリッジ18は、保守又は再構成のために一時的に取り外すか、又は別のカートリッジと交換することを随時に必要とする場合がある。構造40及びアラインメント及び係止機構152は、カートリッジの迅速な取り外し及び交換を提供する。
図3は、アラインメントピン40の1つ及び部分を示している。カートリッジ18の部分のみが図3に示されており、カートリッジ全体は、実際は、アラインメントピン40の1つを通る断面周りに左右対称形である。断面状の構造40の他の部分及び部分の別のものは示されていない。従って、それぞれ、三角形のコーナに合計3つのアラインメントピン40がある。アラインメントピン40の各々は、対応するアラインメント及び係止機構152と係合する。3つのアラインメント及び係止機構152は、3つの固定アラインメントピン40の全ての同時の係合及び分離を引き起こすために、全て、同時にかつ遠隔操作で対応する流体ライン160に接続された共通の圧力源から作動可能である。
上述のように、図1及び図2を参照すると、試験ヘッド20は、カートリッジ18に対する保守のために図2に示す位置に移動させることができる。また、カートリッジ18は、図11及び図12に参照して説明したように交換することができる。カートリッジ18の保守及び/又は交換後、試験ヘッド20をカートリッジ上にピボット回転されて図1に示す位置になる。
図13は、試験ヘッド20がカートリッジ18上に下方に、すなわち、図2に示す位置から図1に示す位置まで移動させられた後の試験ヘッド及びカートリッジ18の各部を示している。試験ヘッド20は、第2のコネクタセット180と、図1のフレーム12の試験ヘッドフレーム部分30に取り付けられた係合器182とを有する。第2のコネクタセット180は、最初は、カートリッジ18の第1のコネクタセット44の1つから分離されている。
第1のコネクタセット44は、コネクタブロック支持部分184と、第1のコネクタモジュール186と、第1の係合構成要素188とを含む。
第1のコネクタモジュール186は、第1のコネクタブロック190と、複数の隔壁192とを含む。隔壁192は、第1のコネクタブロック190によって並列の関係で保持される。図14は、隔壁192の1つをより詳細に示している。複数の導体が、各隔壁192に対して互いの後に紙に向かう方向に形成される。各導体は、隔壁192の下縁の端子と、隔壁192の上縁の接点198と、端子196を接点198と相互接続する導電リード200とを含む。
再び図13を参照すると、いくつかの撓み取り付け部46が、それぞれのコネクタ2020を通じて図14の端子196に取り付けられている。隔壁192は、コネクタブロック190によって保持された端子196と接点198の高密度な配置を提供する。
第1のコネクタモジュール186は、コネクタブロック支持部分184に挿入され、第1のコネクタブロック190は、コネクタブロック支持部分184の内側部分に接触する。次に、第1のコネクタモジュール186は、ここでもまた、コネクタブロック支持部分184からの第1のコネクタモジュール186の取り外しを可能にするように、解除可能な手段によってコネクタブロック支持部分184に固定される。
第1の係合構成要素188は、それぞれ、内側部分204と外側部分206とを有する。内側部分204は、水平軸208周りのピボット移動が得られるようにコネクタブロック支持部分184の外側部分に取り付けられる。バネ210は、反時計回りの方向に第1の係合構成要素188を付勢する。外側部分206は、球形内側係合面214と、内側係合面214内に形成されるような溝216とを有する。
カートリッジフレーム38の上部受け板122の1つにスライダピン218が固定され、かつカートリッジフレーム38の上部受け板122の1つから垂直方向に上方に延びる。コネクタブロック支持部分184を通る補完スライダ開口部220が、垂直方向に形成される。スライダ開口部220は、スライダピン218の上に位置決めされ、コネクタブロック支持部分184が上部受け板122に置かれるまで第1のコネクタセット44が下方に下降される。従って、第1のコネクタセット44は、カートリッジフレーム38のスライダピン218によって保持されて、水平方向のx及びy方向の移動が防止される。第1のコネクタセット44は、それでも、スライダピン218から出るように第1のコネクタセット44を上昇させることによって、保守又は再構成のためにカートリッジフレーム38から取り外すことができる。
第2のコネクタセット180は、サブフレーム222と、第2のコネクタモジュール224と、シリンダ226と、ピストン228と、ロッド230と、球形係合器232と、接続部分234と、第1及び第2の供給ライン236及び238とを含む。
サブフレーム222は、試験ヘッドフレーム部分30に取り付けられる。第2のコネクタセット180は、サブフレーム222を通じて試験ヘッドフレーム部分30に取り付けられる。第2のコネクタセット180は、第2のコネクタブロック240と、第2のコネクタブロック240に並列の関係で取り付けられた複数のプリント回路基板242とを有する。プリント回路基板242の各々は、それぞれのボードと、ボードの下縁上の端子と、ボードの上縁上の接点と、各々がそれぞれの端子をそれぞれの接点に接続する導電トレースとを有する。第2のコネクタブロック240は、サブフレーム222内に解除可能に保持され、かつ解除可能な手段でサブフレーム222に固定される。
シリンダ226は、サブフレーム222に固定される。ピストン228は、シリンダ226内に位置し、かつシリンダ226内で垂直方向に上下の方向に移動可能である。シリンダ226内で、それぞれ、ピストン228の上下に第1及び第2の空洞が形成され、第1及び第2の供給ライン236及び238は、それぞれ、第1及び第2の空洞に接続される。
ロッド230の上端は、ピストン228に固定される。ロッド230は、シリンダ226基部の開口部を通じてピストン228から下方に延びる。球形係合器232は、接続部分234を通じてロッド230の下端に固定される。接続部分234は、ロッド230又は球形係合器232よりも小さい直径を有する。
係合器182は、水平軸248周りのピボット移動が得られるようにサブフレーム222に取り付けられた板246と、アクチュエータアセンブリ201と、板246をアクチュエータアセンブリ201に接続するリンク機構252とを含む。アクチュエータアセンブリ201は、アクチュエータ252と、接続ロッド253と、アクチュエータピボット251と、ロッドピボット255とを含む。
上述のように、第2のコネクタセット180は、最初は、第1のコネクタセット44から分離されている。従って、第2のコネクタモジュール224は、第1のコネクタモジュール186から分離され、球形係合器232も、第1の係合構成要素188から分離される。加圧空気は、第1の供給ライン236を通じて供給され、一方、第2の供給ライン238から通気されて、ピストン228は、シリンダ226内で下方の方向に移動するようになっている。ピストン228の下方の移動によってロッド230が226から更にロッド230を延長し、球形係合器232がカートリッジ18に接近する。
図15に示すように、アクチュエータアセンブリ201は、アクチュエータ252が板246を反時計回りの方向254に移動させるように操作される。板246は、第1の係合構成要素188の外面256に接触する。板246が更に移動すると、第1の係合構成要素188が右回りの方向258にかつカム作用で回転する。溝216によって形成されたフォークは、接続部分234の上で移動し、係合面214は、球形係合器232の上の位置に移動する。
図16に示すように、第2の供給ライン238を通じて圧縮空気が供給され、第1及び第2の供給ライン236から通気されて、ピストン228が垂直方向に上方の方向に移動するようになっている。ロッド230は、上方の方向にシリンダ226内に引っ込む。球形係合器232の上面は、係合面214と係合して、第1の係合構成要素188をシリンダ226に向けて移動させる。第1のコネクタセット44は、カートリッジフレーム38の上部支持部分122から上昇し、コネクタブロック支持部分184は、スライダピン218を上方に摺らせる。
第2の供給ライン238を通じて供給された圧縮空気によって、第1のコネクタモジュール186を第2のコネクタモジュール224と嵌合させるために必要とされる挿入力を克服するのに十分な大きな力が生成される。隔壁192の各々は、プリント回路基板242のうちの2つの間の間隙に入る。隔壁192上の接点198間の間隙とプリント回路基板242間の間隙は、プリント回路基板242の間に隔壁192を挿入するために締り嵌めを必要とするように十分に小さいものである。挿入力が克服されて隔壁192がプリント回路基板242の間に位置した状態で、接点198の各々は、プリント回路基板242の1つの下縁上の対応する端子に対して位置する。
第2の供給ライン238を通じて供給された圧縮空気は、第1及び第2のコネクタモジュール186及び224が嵌合した後に除去することができる。第1及び第2のコネクタモジュール186及び224は、第1のコネクタセット44が図15に示すような位置に移動するように第1の供給ライン236を通じて圧縮空気を供給することによって互いに分離することができる。次に、アクチュエータアセンブリ201が操作されて、板246は、図13に示す位置に移動する。バネ210は、球形係合器232から離れるように反時計回りの方向122に第1の係合構成要素188を付勢する。次に、ロッド230は、一般的に、ここでもまたシリンダ226内に引っ込められる。
図17に示すように、カートリッジ38は、上部支持部分122のうちの4つを有し、それぞれの対の上部支持部分122は、第1のコネクタセット44のそれぞれの支柱を担持する。支柱は、それぞれの対の第1のコネクタセット44がそれぞれの横列になるように互いに隣り合って位置する。2つの支柱の各々に合計16個の横列があるとすることができ、従って、第1のコネクタセット44のアレイ32が潜在的に形成される。
第1のコネクタセット44の各々は、左右対称である。コネクタブロック支持部分184は、第1のコネクタモジュール186を完全に取り囲み、2つのスライダ開口部(図13では220)は、コネクタブロック支持部分184の両端に設けられる。スライダピン218は、上部支持部分122の4つの全てに設けられ、各それぞれのコネクタブロック支持部分184は、それぞれ、2つのスライダピン218の上に2つのスライダ開口部220を有する。
図18に示すように、第2のコネクタモジュール224のアレイが設けられると、図17の第1のコネクタモジュール186のアレイと適合する。第2のコネクタモジュール224の各々の両側に2つの球形係合器232が位置する。使用面においては、球形係合器232のそれぞれの対は、他のコネクタモジュールとは独立に、第1のコネクタモジュール186の1つを第2のコネクタモジュール224の1つと係合するのに使用される。第1のコネクタモジュール186の1つは、第1のコネクタモジュール186の別の1つと係合し、次に、第2のコネクタモジュール224の別の1つが、第2のコネクタモジュール224の別の1つなどと係合する。それぞれの第1のコネクタモジュール186をそれぞれの第2のコネクタモジュール224と千鳥配置することによって、サブフレーム222及び図1のフレーム12の他の部分に対する力は、設計パラメータ内に保つことができる。
板246の各々は、複数の球形係合器232の近くに位置する。板246のそれぞれのものの移動によって、それぞれの板246は、複数の球形係合器232のそれぞれのものの上で図13の複数の第1の係合構成要素188に接触し、かつ同時にピボット回転する。
図18及び図19を共に参照すると、第2のコネクタモジュール224の各々は、各々が基部構造体266のそれぞれのスロット内に収まるそれぞれのパターン発生器、駆動装置、及び電力ボード260、262、及び264に取り付けられる。図19に具体的に示すように、図2と比較すると、試験ヘッドフレーム部分30と共に熱システムフレーム部分28を更に135°反時計回りに左に回転させ、次に、熱システムフレーム部分28に対して試験ヘッドフレーム部分30を90°右回りに右に回転させることによって、ボード260、262、及び264にアクセス可能である。次に、熱システム24は、垂直方向の配向で接地部及び試験ヘッド20上に位置決めされる。ボード260、262、及び264は、試験ヘッド20及び熱システム24が既に互いに分離されているために、全て、試験ヘッド20内で左からアクセス可能である。基部構造体266のスロット内に収まっているボード260、262、及び264は、次に、取り外し可能、互換可能であり、他のボードを再構成のために追加することができる。
スロットの各々は、ボード260、262、及び264のうちの1つの特定のタイプのみを担持することができる。基部構造体266は、設定可能であり、従って、スロットは、ボードの数の増加又は低減に対応するように又は特定のボードの場所を修正するように設定可能である。スロットが挿入された状態で、それらは、一般的に、装置10の使用寿命にわたって交換されない。使用されるボード260、262、及び264の数は、それでも、用途間で定めることができる。図20は、試験ヘッド20のスロットのレイアウトを示している。図20のスロットのこの特定のレイアウトは、一方は左、一方は右にある2つのパターン発生器ボード260、左に3つ、右に3つの6つのドライバボード262、及び左の12個、右に12個の24個の電力ボード264の使用を提供する。
ボード260、262、及び264が、図19及び図20を参照して説明したようにスロット内に挿入された後、装置は、最初に、熱システム24が、試験ヘッド20の上方にあり、次に図1に示す構成になり、試験ヘッド20の構成要素が、図2のカートリッジ18の構成要素と電気的に接続される図2に示す構成に移動される。
具体的に図1を参照すると、注意されたいのは、熱システム24は、試験ヘッド20上に置かれないという点である。従って、熱システム24の構成要素によって引き起こされたあらゆる振動は、試験ヘッド20に直接に伝達されることはない。試験ヘッド20及び熱システム24は、それぞれ、フレーム12の熱システムフレーム部分28及び試験ヘッドフレーム部分30によって図1に示す相対配向で保持され、熱システム24は、試験ヘッド20の上方にある。フレーム12は、比較的重量物であり、剛性な構成を有し、熱システム24の構成要素によって生成されるあらゆる振動を実質的に減衰する。振動は、実質的に、試験ヘッド20の構成要素には到達しない。
図21は、熱システム24が試験ヘッド20を冷却する方法を示している。図21は、図20のボード260、262、及び264の1つの平面に平行な部分断面図であり、試験ヘッド20の基部構造体266のそれぞれのスロットに挿入されたドライバボード262の1つ及び電力ボード264の1つを示している。試験ヘッド20は、更に、基部構造体266の両側に、かつ上部分に取り付けられた2つのマニホルドパネル268を有する。基部構造体266は、マニホルドパネル268から内方にボード262及び264へ、次に、ボード262及び264から上端排出部270へ流れる空気を可能にするスロットの間の開口部を有する。
熱システム24は、外側シェル272と、4つの再循環ファン274(図21では再循環ファン274のうち2つだけが示されており、他の2つの再循環ファンは、図21に示されている再循環ファン274の背後に位置する)と、2つの熱交換器276とを含む。上端排気部270を出る空気は、再循環ファン274を通じて外側シェル272に吸込まれる。次に、再循環ファン274は、空気を強制的に熱交換器276に通し、次に、空気は、マニホルドパネル268によって形成された上端入口278を通る。空気を再循環させることによって、熱は、ボード262及び264から熱交換器276に対流で送られる。公知のように、各熱交換器276は、複数のフィン280と、フィン280を互いに接続する配管282とを含む。液体の水のような冷却流体は、配管282を通じて供給される。熱は、フィン280に対流によって送られる。熱は、フィン280から配管282に伝わる。次に、熱は、対流によって配管282から水に送られて排出される。
注意されたいのは、熱システム24のあらゆる構成要素と試験ヘッド20のあらゆる構成要素との間には物理的な接触がないという点である。外側シェル272とマニホルドパネル268の間には、小さな間隙284のみが形成される。間隙284内には、一般的にシールが位置し、ファン274によって外側シェル272に伝達されたあらゆる振動がマニホルドパネル268に伝達されないように適合材料で作られている。案内パネル286は、初めにファン274及び熱交換器276を通過する前に熱システム24の一部を形成し、空気が試験ヘッド20に入るのを防止する役目をする。
図22は、協働し、かつ電気信号、電力、及び接地のファン・アウト及びファン・インのために互いに適合されている図1の装置10のソフトウエア及びハードウエア構成要素を示している。区画が形成されており、各区画は、1つのパターン発生器ボード260、1つ又はそれよりも多くのドライバボード262、及び、互いに接続された1つ又はそれよりも多くの電力ボード264を含む。各ボード260、262、及び264は、いくつかのリソース又はチャンネルを有する。特に、ドライバボード262は、いくつかの入力チャンネル/出力チャンネルを有し、電力ボード264は、いくつかの電力チャンネルを有する。ボード260、262、及び264の数及び互いに接続する方法は、デバイス300の集積回路の要件及びウェーハ76のデバイス300のレイアウトに応じて設定可能である。
相互接続手法302は、ドライバボード262及び電力ボード264をデバイス300上の接点に接続するものである。相互接続手法302は、図3のカートリッジ18内で導体によって形成された電路を含む。また、相互接続手法302は、カートリッジ18の先の説明から認められると思われるように、設定可能である。ボード260、262、及び264及び相互接続手法302は、以下、試験器システム304と総称する。
ローカルコントローラ306は、試験器システム304に試験命令を供給するのに使用され、次に、試験器システム304からの試験結果をアップロード及び処理するのに使用される。ローカルコントローラ306は、メモリを有し、メモリ内には、試験プログラム308と、構成ファイル310と、試験アプリケーション312と、試験結果ファイル314と、処理アプリケーション316と、試験報告書318とが格納されている。
ここで図22及び図23を組み合わせて参照すべきである。試験プログラム308は、デバイス300の1つを試験するように試験プログラマーによって書かれた一連の命令を有する(段階400)。以下は、このようなプログラムの抜粋である。
setdps(“vNORMAL1”、“Vcc”、3.0V、0.0V、11.0V);
setdps(“vNORMAL1”、“Vcd”、4V、0.0V、11.0V);
setsps(“vNORMAL1”、“Vio”、0V、3.3V);
setsps(“vNORMAL1”、“VcIk”、0V、3.3V);
setsps(“vNORMAL1”、“Vcs”、0V、3.3V);
setpps(“vNORMAL1”、“Term1”、1.0);
settps(“vNORMAL1”、“Term2”、1.0);
setthps(“vNORMAL1”、“CompH”、1.5);
setthps(“vNORMAL1”、“CompL”、0.9)
試験アプリケーション312は、試験プログラム308と、構成ファイル310からのデータ及び試験結果ファイル314からのデータとの両方を利用して命令をボード260、262、及び264に供給する(段階402)。次に、ボード260、262、及び264は、相互接続手法302のそれぞれの接触器を通じて電気信号、電力、又は接地を供給する(段階404)。構成ファイル310は、ボード260、262、及び264のチャンネルとデバイス300の接点との間の関係を表すデータを有する。構成ファイル310は、試験器システム304の別の構成アセンブリ間で異なることになる。従って、構成ファイル310は、試験プログラム308の命令が試験器システム304を通じてデバイス300に展開される方法を表している。各デバイス300は、同じ試験プログラム308で試験される(段階406)が、電圧レベル及び信号レベルは、試験結果ファイル314に基づいて修正することができる。
下表は、各縦列上部に列挙したフィールド名を備えた構成ファイル310の抜粋である。
上表の縦列の上部にあるフィールドは、以下を示している。
ZONE NUMBER:パターン発生器ボード260によって決定されるパターン区画に対するメンバーシップを示す指標。
SLOT NUMBER:ドライバボード262又は電力ボード264の場所。
CHANNEL TYPE:使用されるハードウエアリソースのタイプ。
RAB NUMBER:電力ボード264上の参照及び取得モジュールの指数、適用なしの場合は−1。
PWR MODULE NUMBER:電力ボード264上の電力モジュール。
CHANNEL NUMBER:所定のボード262又は264のリソース指数。
COLUMN、ROW:ウェーハ(又は試験ボード)上のデバイス266の位置。
CONN TYPE:接続タイプ;リソースがデバイスに直接的な影響を与えるか又は試験アセンブリに補助的な電気特性を与えるか否かを問わず、デバイスはD、又は終端はT。
PAD LABEL:リソースの接続先である端子72又はピン68に対する指定子;次に、このラベルは、プログラミング上の目的に使用される。
TERM LABEL:終端ピンに対するオプションラベル。
COMMON KEY:オプションソートキー。
MASK:デバイスを試験すべきか否かを判断するフィールド。
一部のリソースは、別々にデバイス300の各々に供給される。例えば、合計600個のデバイス300があるとすることができ、各デバイスには、相互接続手法302を通じて接続された別々の入力/出力線が必要な場合がある。他のリソースは、相互接続手法302によって達成される電路数を低減するために共有することができる。例えば、単一の入力/出力線320は、相互接続手法302を通じて供給することができ、相互接続手法302内の最終レベルでは、デバイス300の組(又は全て)に広げることができる。従って、入力/出力信号は、その組の全てのデバイス300に供給される。チップ選択線322にアクセスして、入力/出力線320が接続される組のデバイスの部分集合を選択することができる。次に、固有のチップ選択線の組合せは、チップ選択状態にグループ分けされる。
図24A及び図24Bは、構成ファイル310(cartconf)のデータ構造を示している。構成ファイル310は、ウェーハ要件データ構造(wafer_reqs)とチップ選択状態を表す共有リソースマップ(cs_map)との両方を含む。それぞれのフィールドの説明及びフィールドが表すものは、図24A及び図24Bに説明されている。
再び、図22及び図23を参照すると、デバイス300の各々からの応答は、相互接続手法302を通じて供給され、ドライバボード262及び電力ボード264のメモリ内に格納される(段階408)。システムソフトウエアは、ドライバボード262及び電力ボード264からの応答を試験結果ファイル314内にアップロードする(段階410)。試験結果ファイル314は、全てのデバイス300の試験結果がページ順に並べられている生データを有する。試験結果ファイル314は、処理アプリケーション316に供給される。処理アプリケーション316は、構成ファイル310を利用して、デバイス300の個々のデバイスの試験結果が試験結果ファイル314から抽出されるように試験結果ファイル314を解釈する(段階412)。次に、処理アプリケーション316は、試験報告書318を公開する(段階414)。試験報告書318は、一般的に、デバイス300を表すセルを有するコンピュータスクリーン上の2次元マップであり、機能中及び欠陥デバイスは、異なる色で示される。また、試験結果ファイル314は、ボード260、262、及び264に供給された命令を修正するために試験アプリケーション312によって使用されることになる。
図25は、図19の構成ファイル312を形成するのに使用されるソフトウエアアセンブリアプリケーション420を示している。アプリケーション420は、複数のネットファイル422と、入力モジュール424と、アセンブリモジュール426とを含む。ネットファイル422は、各々、それぞれの電気サブアセンブリの導体を通る電流の手法を表している。例えば、ネットファイル422Aは、図19のパターン発生器ボード260の1つを通る電流の流れを表すパターン発生器ボードネットファイルである。同様に、ネットファイル422B及びネットファイル422Cは、それぞれ、ドライバボード262の1つ及び電力ボード264の1つを通る導体を通る電流の流れを表している。また、相互接続手法302は、複数の構成要素を有し、それぞれのネットファイル422D又は422Eは、相互接続手法302のそれぞれの構成要素を通る電流の流れを表している。
ここで、図25及び図26を組み合わせて参照すると、ネットファイル422は、最初に、ソフトウエアアセンブリアプリケーション418が存在するコンピュータシステムのメモリ内に格納される(段階450)。入力モジュールは、試験器システム304を形成することができる構成要素のリストを有するインタフェースを有する。リストには、1つのパターン発生器ボードと、1つのドライバボードと、1つの電力ボードと、相互接続手法302を形成することができる1つのタイプの各構成要素とが含まれる。また、入力モジュール424は、オペレータが、リスト上の構成要素のうちのどれだけが試験器システム304をアセンブルするために使用されるか、及び構成要素が互いにどのように接続されるかを選択することを可能にする。例えば、オペレータは、2つのパターン発生器ボードと、3つのドライバボードとを選択することができ、ドライバボードの1つは、パターン発生器ボードの一方に接続され、他の2つのドライバボードは、他方のパターン発生器ボードに接続される(段階452)。
次に、アセンブリモジュール426は、入力モジュール424を通じてオペレータによって供給された入力及びネットファイル422とを使用して、構成ファイル310をアセンブルする。この与えられた例では、アセンブリモジュール426は、2つのネットファイルネットファイル422Aと3つのドライバボードネットファイル422Bとを表すデータを有するように構成ファイル310を形成することになり、1つのドライバボードネットファイル422Bは、1つのパターン発生器ボードネットファイル422Aと関連付けられ、他の2つのパターン発生器ボードネットファイル422Bは、他のパターン発生器ボードネットファイル422Aと関連付けられる(段階454)。次に、構成ファイル310は、ソフトウエアアセンブリアプリケーション420が存在するコンピュータシステムから図22のローカルコントローラ306に転送することができる。
図27は、装置10の上述の構成要素及び一部の追加構成要素を示している。上述の構成要素は、接触器アセンブリ42を有するカートリッジ18と、撓み取り付け部46と、2つの電力ボード264と、1つのドライバボード262と、1つのパターン発生器ボード260と、ローカルコントローラ306とを含む。2つのタイプの電力ボード264V及び264Cが、それぞれ、高電圧及び高電流用に使用される。各電力ボード264V又は264Cは、64個のチャンネルから成る8つの論理群、従って、合計512個のチャンネルを有する。高電圧電力ボード264Vは、各チャンネルに対して少なくとも200mAの電流で0.5Vから12Vの電圧出力を供給することができる。高電流電力ボード264Cは、少なくとも500mAの電流で0.1Vから5Vの出力を供給することができる。ボード260、262、及び264の場所に関しては、既に図20を参照して説明済みである。
電力ボード264V及び264Cの各々は、4つの専用電力撓み取り付け部46Pを通じて接触器アセンブリ42に接続される。ドライバボード262は、専用信号撓み取り付け部46Sを通じて接触器アセンブリ42に接続される。撓み取り付け部46は、図3を参照して既に説明済みである。また、分配基板48でサイト92で接続される撓み取り付け部46は、接触器アセンブリ42からボード262及び264までの交流(AC)接地部を供給する。
装置10は、更に、接地板460と、試験ヘッド20内に取り付けられた母線式低電圧差分信号(LVDS)バックプレーン462とを含む。電力ボード264V及び264Cは、各々、図18に示すように、接地板460に接続される2つの直流(DC)接続ピン508を有する。また、接続ピン508は、接地板460を通って、図17に示すブロック支持部分184に接続される。DC接地ケーブル464は、図6に示すDC接続サイト461で図4に示す信号分配基板48にブロック支持部分184を接続することによって、ボード262及び264、接触器アセンブリ42、及びウェーハ76からのDC接地路になる。図3は、DC接地ケーブル464がカートリッジ18のブロック支持部分184で取り付けられたコネクタ466を示している。
ボード260、262、及び264C及び264Vは、各々、それぞれのボードを母線式LVDSバックプレーン462に接続する接続部を有する。従って、論理リンクが、ボード260、262、264C、及び264V間に設けられ、ボードは、互いに通信することができる。また、母線式LVDSバックプレーン462は、図22に示すボード260、262、及び264間の論理リンクになる。
装置10は、更に、高電圧用バルクダイ電源472Vと、高電流用バルクダイ電源472Cと、図22を参照して説明したローカルコントローラ306と、システムコントローラ474とを含むシステム制御ベイ470を有する。高電圧用バルクダイ電源472Vは、110Aで0.5Vから13Vの電圧を供給することができ、高電流用バルクダイ電源472Cは、200Aで0.5Vから7Vの電圧を供給することができる。高電圧用バルクダイ電源472Vは、それぞれの電源ケーブル476を通じて電力ボード264Vに接続される。同様に、高電流用バルクダイ電源472Cは、それぞれの電源ケーブル476を通じて電力ボード264Cに接続される。
「イーサネット」リンク478は、バルクダイ電源472V及び472Cと、ローカルコントローラ306と、システムコントローラ474と、ボード260、262、264C、及び264Vとを互いに接続してかつネットワーキングする。ローカルコントローラ306は、「イーサネット」リンク478及び装置10の周辺構成要素を通じてボード260、262、264C、264V、及び474を制御する。
図28は、電力ボード264V又は264Cの一方及び接地板460とのその接続部と、電力撓み取り付け部46Pとを示している。ボードレベル制御及びバルク電力コントローラ490は、「イーサネット」リンク478に接続される。ボード電力コントローラ492及び較正コントローラ494は、ボードレベル制御及びバルク電力コントローラ490に接続される。ボードレベル制御及びバルク電力コントローラ490、デバイス電力タイミングシステム500、及び較正コントローラ494は、基準及び測定システム496に接続されて、一連の命令を基準及び測定システム496に供給する。命令に関しては、既に図22を参照して説明済みである(ボードレベル制御及びバルク電力コントローラ490、デバイス電力タイミングシステム500、及び較正コントローラ494によって基準及び測定システム496に供給される命令は、説明上、楽譜の和音と同等とみなしている)。
パターン発生器ボード260は、母線式LVDSバックプレーンを通じてデバイス電力タイミングシステム500に接続されたパターン発生器電力タイミングバスを有する。デバイス電力タイミングシステム500は、基準及び測定システム496に接続される。デバイス電力タイミングシステム500は、ボードレベル制御及びバルク電力コントローラ490及び較正コントローラ494が供給される命令を実行するためのタイミングと命令の両方を基準及び測定システム496に供給する(デバイス電力タイミングシステム500の機能は、説明上、どの和音を演奏すべきかのタイミング及び命令の両方を与えるオーケストラ指揮者と同等とみなしている)。基準及び測定システム496は、各々、64個のチャンネルから成る8つの論理システム、従って、合計で512個のチャンネルを含む。基準及び測定システムへの入力としては、パターン発生器指数バス、パターン発生器クロック、較正基準、及び接地感知からの信号がある。基準及び測定システム496は、電圧リードバック及び電流リードバックを行う。基準及び測定システム496からの出力としては、4つの電圧基準と、デバイス電力制御バスを通じたデバイス電力制御とがある。従って、基準及び測定システム496からの出力としては、電力を制御することを目的とした論理がある。
基準及び測定システム496及びボードレベル制御及びバルク電力コントローラ490は、デバイス電力出力システム502に接続される。バルクダイ電源472V又は472Cの正側も、ケーブル476を通じてデバイス電力出力システム502に接続される。デバイス電力出力システム502は、基準及び測定システム496からの信号を利用してバルクダイ電源472V又は472Cからの電力を調整する(バルクダイ電源472V又は472Cによって供給された電力は、説明上、オーケストラのいくつかの楽器に同時に供給されるパワー又は空気と同等とみなしている)。デバイス電力出力システム502は、8つの論理群のグループ分けされた32個のチャンネルから成る16ヵ所の区画、従って、512個のチャンネルを含む。各チャンネルは、ケルビン感知システムを含み、各システムは、合計で1024個のピンと回路があるように1つの力(+F)と1つの感知(+S)線を含む。デバイス電力出力システム502への入力としては、基準値、バルク電力、ボードレベル制御及びバルク電力コントローラ490からの制御パラメータ、及びデバイス電力制御バスを通じたデバイス電力制御がある。また、デバイス電力出力システム502は、電圧及び電流情報を基準及び測定システム496に、及びチャンネル状態情報をボードレベル制御及びバルク電力コントローラ490に供給する。
電力撓み取り付け部46Pのうちの4つは、デバイス電力出力システム502に接続される。各電力撓み取り付け部46Pは、128+F線、128+S線、AC接地部、及び接地感知を含む。
各電力撓み取り付け部46Pからの2つの接地感知トレース、従って、合計8つのトレースは、ボード接地制御システム506に接続される。ボード接地制御システム506は、接地感知トレースからの8つの測定結果を平均化し、平均化された結果を出力として基準及び測定システム496に供給する。
接地板460と第1のコネクタセット44に接地ピン508が接続される。接地ピン508は、デバイス電力出力システム502とボード電力システム510との両方に接続される。ボード電力システム510は、別の48V入力部を有し、例えば、15V、5V、3.3V、−3.3V、及び1.2Vの出力を供給することができる。DC接地ケーブル464は、ブロック支持部分184に接続される。バルクダイ電源472V及び472Cの負側も、電源ケーブル476を通じて接地板460に接続される。
注意されたいのは、AC接地とDC接地には、別々の経路が設けられるという点である。AC接地は、電力を供給する電力撓み取り付け部46Pを通じて供給される。電力撓み取り付け部46P内でのF+電力供給部、S+線、AC電力接地部間の物理的空間は、極めて小さく、一般的に、約0.002インチと0.010インチの間である。このような小さな空間は、ノイズの実質的な低減及び速度向上を可能にするものであり、これは、512感知線を通じた正確な測定及びF+線を通じた清浄な給電に特に重要なものである。DC接地は、DC接地ケーブル464を通じて供給される。AC接地及びDC接地は、例えば、0.5オームと1.5オーム、及び0.003オームと0.15オームの間のそれぞれの抵抗を有する。
図29は、デバイス電力出力システム502の構成要素をより詳細に示している。デバイス電力出力システム502は、単一のサブシステムAを1つのみ含む。サブシステムBは、512回複製され、64サブシステムから成る8つの群に属し、512個のサブシステムBは、サブシステムAと並列に接続される。サブシステムCは、8回複製され、8個のサブシステムCは、サブシステムBと並列に接続される。
サブシステムAは、バルクダイ電源472と、誘導子Iと誘導子Iの出力端子を接地に接続するコンデンサC1とを含むAC/DC変換回路を含む電源ケーブル476とを含み、かつ478を通じてボードレベル制御及びバルク電力コントローラ490及びローカルコントローラ306によって制御される。誘導子Iの出力端子は、図27のバルクダイ電源472V又は472Cに接続される。誘導子Iの入力端子には、ステップ式電圧サイクルが供給される。ステップ式電圧サイクルの振幅及び周期は、常時、一定のままであるが、電圧が特定の期間中に高い時間の量は、調整することができる。従って、電圧が高い総時間量は、総時間の小さな割合から総時間の大きな割合まで調整することができる。誘導子I及びコンデンサC1は、電圧ステップをDC電圧に変換する。従って、DC電圧も、誘導子Iの入力端子に供給された電圧が高い時間の割合に応じて調整することができる。バルクダイ電源472V又は472Cは、電力ボード264当たりに生成される可変電圧に対応する。従って、DC電圧は、デバイス電力出力システム502内のワット損を制御する必要性に応じて調整することができる。基準及び測定システム496は、64個のチャンネルから成る群当たりに生成される16種類の異なる電圧を提供する。64個のチャンネルから成る群が異なれば、特定の時間的瞬間で異なる電圧を供給することができる。
サブシステムBによって生成されたDC電圧は、電力端子72Pを通るF+線を通じてそれぞれのデバイス300の電力接点74Pに供給される(図4の参照番号72及び74を参照されたい)。感知線S+は、電力端子72又は56に接続され、電力端子72での電圧を検出する。感知線S+によって検出された電圧は、力線F+に位置するMOSFET1を制御するために、抵抗器R2、増幅器A3、及び抵抗器R1を通じて供給される。また、増幅器A3は、電力端子でスイッチ594を通じて入力(Vref)を受け取る。増幅器A3は、出力電圧をMOSFET1に供給するために正端子及び負端子で供給された電圧が接続されるように設定される。電圧Vrefoutは、入力電圧になり、この入力電圧は、電力端子72Pに供給される望ましい電圧であり、感知線S+は、電圧がMOSFET1に、従って、電力端子72Pに供給された状態に、すなわち、定常状態に保つために増幅器A3を通じてフィードバックを行う。増幅器A3は、サブシステムAによって供給された電圧が1.5Vであり、かつ電力端子72Pが1Vの電圧を必要とする場合に、電圧(Vrefout+VGS)、この場合は2.3VをMOSFET1に供給する。MOSFET1は、サブシステムAによって供給された電圧と力線F+上の電圧との差に電流を乗じたものと同等の熱を消散する。例えば、サブシステムAによって供給された電圧は、1.5Vとすることができ、力線F+は、1Vの電圧を供給することができる。電流が1Aの場合、MOSFET1によって消散される電力は、0.5Wである。サブシステムAによって供給された電圧が常に最大、例えば12Vである場合、MOSFET1は、11Wを消散すべきである。従って、図27のバルクダイ電源472V及び472Cによって供給される可変出力は、エネルギ量、従って、MOSFET1によって消散される熱を低減するのを実質的に助ける。
抵抗器R3は、力線F+と感知線F+及び感知線FS+の間に接続され、増幅器A3のF+をS+に抵抗接続する。抵抗器R3は、故障の場合に、力線F+と感知線F+及び感知線S+とを類似の電圧に保持することによって増幅器A3を制御する役目をする。従って、抵抗器R3は、接触不良の場合のまさに安全装置である。
また、サブシステムBは、特に過電流検出時にデバイス300への電力を自動的にオフにする回路を含む。過電流検出及びスイッチング回路は、力線F+内でMOSFET1の後の位置する抵抗器R6を含む。抵抗器R6の電圧は、力線F+を通る電流と線形の関係にある。増幅器A1は、抵抗器R6で検出された電圧を増幅する。比較器A2は、増幅器A1からの出力を基準及び測定システム496によって供給された電流設定値と比較する。増幅器A1からの出力が電流設定値と同じか又は電流設定値を超える場合はゼロになる。
比較器A2から出力は、抵抗器R6を通る過電流又は不足電流の指示をもたらす。比較器A2からの出力は、フィールドプログラマブルゲートアレイ(FPGA)1に供給される。FPGA1は、過電流又は不足電流は、サブシステムBをオフにするのに十分であるか否かを判断する論理を有する。また、FPGA1は、電流をオフにすることなく電流の短いサージを可能にするために、電流をオフにする前にタイミング遅延を提供する。FPGA1の出力は、スイッチ1及びスイッチ2(594)に供給される。
通常の運転状態中、すなわち、電流が流れ続けるべきである時、スイッチ1は、「オフ」位置にされ、スイッチ2は、「A」位置にされる。15Vの電圧が、R5を通じてスイッチの1つ端子に、かつ力線F+内の抵抗器R6の後に位置するMOSFET2に供給される。通常の運転状態中、抵抗器R5を通じて供給された電圧は、MOSFET2を「オン」位置に維持し、従って、電流は、力線F+を流れることができる。過電流が検出された場合、FPGA1は、スイッチ1を「オン」位置に切り換え、従って、抵抗器R5を通じて供給される電圧が接地され、MOSFET2は、「オフ」位置に切り換わり、電流を断路し、スイッチ2は、「B」位置に設定されて、増幅器A3が中断される。
注意されたいのは、512個のサブシステムBの各々は、過電流検出及びスイッチング回路を有するという点である。512個の過電流検出及びスイッチング回路は、オフにすべき512個の個々のデバイスの1つ又はそれよりも多くに至る電流を可能にするものであり、同時に他のデバイスに至る電流も流れ続ける。また、電流測定及び電圧測定は、デバイス当たりのレベルで行うことができ、その理由は、サブシステムBの各々が、それぞれの電流測定線(Imeas)とそれぞれの電圧測定線(Vmeas)とを有するからである。電流測定線Imeasは、増幅器A1の出力部に接続され、電圧測定線Vmeasは、感知線S+に接続される。電流測定線Imeas及び電圧測定線Vmeaは、電力端子72Pに供給された電流及び電圧のリアルタイム測定を提供する。また、サブシステムBは、抵抗器R4及びMOSFET3を有するスイッチング回路を含む。抵抗器R4は、MOSFET2の後、力線F+に接続され、MOSFET3は、抵抗器R4の後、直列に接続される。試験信号(Test)をMOSFET3に供給することができ、従って、自己試験のために力線F+を通じて電流が引かれる。
抵抗器R1、R2及び増幅器A3を含む回路には、高周波応答が必要である。このために、コンデンサC3は、デバイス300の集積回路と並列に設けられる。コンデンサC3は、図4に示す支持構造体80に内蔵される。力線F+は、抵抗器R1、R2及び増幅器A3を含むコンデンサC3の適切な機能及び回路の高周波応答を可能にするために比較的低いインダクタンスを有するべきである。このために、力線F+は、それぞれ、2組の並列電力導体590及び592を含む。サブシステムA及びBは、単一のボードに接続され、第1の組の導体590は、ボード上に形成されるトレースである。導体590は、導体590の中間区画が並列に電流を伝えるように、全て、互いに接続される第1の端部と、互いに接続される第2の端部とを有する。導体590の第2の端部は、共通のピンに接続される。導体592は、それぞれの電力撓み取り付け部46Pにおいては、個々の電気ラインの形態である。導体592の第1の端部は、互いに接続され、導体592の第2の端部も互いに接続されて、導体592の中間区画が導体590から受け取った電流を並列に伝えるようになっている。導体592の第2の端部は、全て、1つの電力端子72Pに接続される。
分配基板48は、各インタフェース92に2つの接地感知接点を有する。各インタフェース92の接地感知端子は、接地感知接点74Gに接続される。8つの接地感知線が、増幅器A4及びフィルタ201を含む接地変調回路に設けられる。接地感知接点74Gで検出された電圧は、接地変調回路によって可変入力電圧(Vrefin)に追加される。理想的には、接地感知接点74Gで検出される電圧は、0Vであり、その場合、電圧可変Vrefinは、電圧Vrefoutに等しいものになる。接地感知接点74Gで検出された電圧がゼロではなく、例えば、0.1Vである場合、vrefoutは、1.1V(Vrefin+0.1V)になる。次に、増幅器A3の負端子に供給された電圧も1.1Vであり、電力端子74Pに供給された電圧は、1.1Vであろう。
図30は、図22及び図27に示すドライバボード262の1つのチャンネルを示している。図30に示す同じ信号は、ドライバボード262の複数のチャンネルの各々に対して複製される。
また、図30では、デバイス300の複数のデバイス及びそれぞれの接地感知接点72gが示されている。接地感知接点74G(又は72G)でそれぞれの接地感知端子によって検出された電圧は、平均化されてフィルタ700に供給される。通常の運転状態では、フィルタ700に供給された電圧は、0Vになる。時には、0Vからの小さな振れ、例えば、0.1Vがある場合がある。0.1Vは、フィルタ700によって増幅器A4の正端子に供給される。次に、増幅器A4の負端子も0.1Vに駆動される。負端子と増幅器A4の出力部の間に1つの抵抗器R9が接続される。また、抵抗器R9と同じ抵抗を有する抵抗器R10も、増幅器A4の負端子に接続される。10Vの電圧電源702は、抵抗器R9及びR10にわたって接続される。電圧電源702の2つの端子は、増幅器A4の負端子の電圧よりも5V超えるものと、5V下回るものであり、従って、それぞれ、−4.9Vと5.1Vである。
10Vの電圧電源702の端子は、デジタル/アナログ変換器(DAC)704のそれぞれの端子R+とR−とに接続される。また、DAC704は、出力端子を有し、かつ各出力端子を−4.9Vと5.1Vの間の電圧に切り換える機能を有する。
DAC704にマイクロプロセッサバス705が接続される。望ましい高電圧及び低電圧を表す情報をマイクロプロセッサバス705からDAC704に取り込むことができる。DAC704は、例えば、3Vの高電圧と2Vの低電圧でプログラムすることができる。増幅器A4の正端子に供給される電圧は0.1Vであるために、DACの出力端子は、この例においては、それぞれ、3.1Vと2.1Vに保持される。
DACの出力端子は、電圧スイッチ706の高電圧端子及び低電圧端子(VH及びVL)に接続される。図22及び図27に示すパターン発生器ボード260は、接点70の信号端子の信号源708になる。電圧スイッチは、この例においては、5V電源電圧を有するバススイッチである。信号源708は、交替する真の状態と偽の状態で切り換わる。真の状態においては、高電圧VHに接続されたスイッチ706の第1の端子は、スイッチ706の出力部に接続され、偽の状態においては、低電圧VLに接続された端子は、スイッチ706の出力部に接続される。従って、スイッチ706の出力部は、信号源708に応答して3.1Vと2.1Vとの間で切り換わる。
抵抗器RH及びコンデンサC4を含む減衰回路は、スイッチ706の出力部に接続された入力部を有する。抵抗器RHは、スイッチ706に接続された1つの端子を有し、抵抗器R11の対抗する端子は、コンデンサC4を通じて接地に接続される。抵抗器R11によって表される減衰回路の効果は、スイッチ706の出力部上で供給された信号の回転率が低減されるというものである。スイッチ706は、その出力で方形波を供給し、減衰回路は、非方形方式でその方形波に応答する出力を有する。具体的には、減衰回路の出力の電圧は、減衰回路の入力に供給される電圧よりも緩やかに増大する。
減衰回路の応答電圧は、2の利得を有する増幅器A5に、次に、信号源708を通じてそれぞれデバイス300の信号接点74S(図4の参照番号174も参照されたい)に供給される。デバイス300に供給された信号は減衰されるために、共鳴を低減又は排除することができる。
図31は、終端減衰回路が1つのデバイスの端子に設けられている従来技術の解決法を示している。終端減衰回路は、被試験デバイスにおいて減衰効果を供給する。しかし、終端の機能は、被試験デバイスに接続したラインの長さに大幅に依存する。図30に示すように、信号接点74Sは、回路内で電流が流れる長さに沿って測定された時に減衰回路から異なる距離にある可能性があり、終端減衰回路なしで使用することもできる。更に、信号接点74Sは、用途によって異なり、例えば、1つの用途では10インチ単位、及び別の用途では18インチ単位で一定の間隔で配置することができ、同じ回路では、各用途において共鳴が低減されることになる。
図32は、カートリッジフレーム602、ピストン604、ピストン調節システム606、第1、第2、及び第3の容積形成リング608、610、及び612、補強材基板614、分配ボード616、接触器ボード618、及びスタンドオフ層620を含む本発明の別の実施形態によるカートリッジ600の構成要素を示す。
カートリッジフレーム602は、上部支持部分622、下部受け板624、及び下部受け板624を上部支持部分622に接続する接続部分626を含む。下部受け板624は、内径Rlを有する側面部分628及びシリンダの後方部分630を形成する。
ピストン604は、内部部分632及び外部部分634を有する。内部部分632は、半径Rlより実質的に小さい外径R2を有する。外部部分634は、内部部分632の下側に装着されており、かつ外径R1を有する。
第1の容積形成リング608は、外径R1を有し、外径R1は、側面部分628により形成されたシリンダの内径と同じである。第1及び第2の容積形成リング608及び610は、それぞれ、同じ内径及び外径R4を有し、第2及び第3の容積形成リング610及び612は、それぞれ同じ内径及び外径R5を有する。第3の容積形成リング612は、内径R2を有し、内径R2は、ピストン604の内部部分632の外径R2と同じである。
締結具638は、第1の容積形成リング608を通じて下から挿入されている。締結具640及び642は、それぞれ、上方から第2及び第3の容積形成リング610及び612に挿入されている。
図33に示すように、第1の容積形成リング608は、下部受け板624内に形成されたシリンダに挿入されており、締結具638は、シリンダの後方部分630に第1の容積形成リング608を固定するために使用される。下部受け板624及び第1の容積形成リング608は、構造ユニットを形成する。
第3の容積形成リング612は、内部部分632の上に位置決めされ、第2の容積形成リング610は、外部部分634の上面上の第3の容積形成リングの上に位置決めされる。第2及び第3の容積形成リング610及び612は、その後、それぞれ、締結具640及び642で外部部分634に固定される。第3の容積形成リング612は、半径R2から半径R5に主ピストンの内部部分632の半径を事実上増大させ、第2の容積形成リング610は、R5からR4に半径を事実上増大させる。第2及び第3の容積形成リング610及び612は、従って、半径の二乗に比例してピストン604の内部部分632の上面を増大させる。
補強材基板614は、金属製であり、単独、組み合わせを問わす、分配ボード616、接触器ボード618、及びスタンドオフ層620より肉厚である。補強材基板614は、ピストン604の外部部分634より大きい表面積も有する。補強材基板614は、ピストン604の外部部分634の下部表面に対して位置決めされ、締結具642は、ピストン604に補強材基板614を固定するために使用される。
分配ボード616及び接触器ボードは、互いに固定され、かつ図4を参照して本明細書で先に説明した種類とすることができる。分配ボード616と図4の分配ボード48の主たる相違点は、図4の分配ボード48は、下面上に接点58のインタフェースを有し、一方、図32の分配ボード616は、その上面上に接点のインタフェースを有するという点である。
ピストン調節システム606は、バネ644と細長部材646及びナット648により形成されたバネ調節機構とを含む。細長部材646は、第1の端部650及び第2の対向端部652を有する。両端650及び652はネジ山を有する。第1の端部650は、第1の端部650がシリンダ内に位置し、第2の端部652がシリンダの外側に位置するように、シリンダの後方部分630内の開口部を通じて挿入される。バネ644は、細長部材646の上に位置決めされたコイルバネである。ナット648は、細長部材646の第2の端部652の外部ネジ山に螺設されているねじを有する。
図7に示すように、内部部分632及び第2及び第3の容積形成リング610及び612は、シリンダに挿入されており、細長部材646の第1の端部650は、内部部分632内のネジ山を有する開口部に螺入されている。ナット648は、バネ644が圧縮されるように締結されている。バネ644は、従って、ナット648及び細長部材646を通じてピストン604に接続されている。
図35は、3つのバネ644がピストン604に接続されていることを示す。詳細に示されていないが、バネ644の各々は、それぞれのピストン調節システムの一部を形成する。バネ644により生じた力は、ピストンがシリンダの後方部分630に対して初めに着座されるように、ピストン604及び最終的にはピストン604に装着される全ての構成要素の重力を克服するように結合される。圧力がピストン604の上面で印加される時、ピストンは、シリンダ630の後方部分から離れて下方に移動し、バネ644は更に圧縮される。ピストン604のある一定の区域は、ピストン604がシリンダに対してある一定の区域内で垂れる傾向を有するように他の各部よりも重くすることができる。バネ644の各々を保持するナットは、シリンダに対してピストン604を水平にするために独立して締結することができる。
図35は、更に3つのマイクロメータ653の位置決めを示す。バネ644は、ピストン604の中央点周りに0°、120°、及び240°に位置する。マイクロメータ653は、ピストン604の中央点周りに60°、180°、及び300°に位置する。図34を再び参照すると、マイクロメータ653の本体は、シリンダを形成する後方部分630上面上に装着されている。マイクロメータ653の調節可能な先端は、シリンダに後方部分630下面を通過して後方部分630内に入る。先端は、ピストン604が引っ込んでシリンダ内のその最上位置に入る時、ピストン604の機械式止め具として使用される。先端は、シリンダ内の最上位置に到達した時ピストン604を水平にしてピストン604の位置決めを調節するために制御しながら調節することができる。ピストン604の精密位置決めは、重要であり、図1の厳密なアセンブリ16の一部を形成するカメラは、接触器618を撮像する時、ピストン604の正確な基準位置を見つけることができるようになっている。
図36は、分配ボード616、接触器ボード618、スタンドオフ層620、及びウェーハ76の一部を示す。分配ボード616、接触器ボード618、及びスタンドオフ層620より共同で形成された接触器ボードアセンブリは、分配ボード616上に装着されて上面より上方に立つ複数の構成要素656を更に含む。構成要素656は、例えば、抵抗器、コンデンサ、ダイオード、又は他の電気構成要素を含むことができる。
スタンドオフ層620は、開口部658が中に形成されており、構成要素656が開口部658内にある状態で分配ボード616頂部上に位置決めされる。スタンドオフ層620は、分配ボード616上面に装着されないので分配ボード616から取り外すことができる。代替的に、別のスタンドオフ層を分配ボード616に対して設置して分配ボード616に装着することができる。
図37に示すように、スタンドオフ層620は、複数の開口部658がスタンドオフ層を貫通して形成されており、電気部品656は、開口部658の各々内に位置する。開口部658は、主として横列及び縦列のアレイで位置する。構成要素656の回路レイアウトは、開口部658間で繰り返されるアレイの形となっている。
分配ボード616の上の構成要素656の位置は、構成要素656が、例えば、分配ボード616と接触器ボード618の間で装着された場合に占有されると考えられるスペースを節約するものである。スタンドオフ層620は、構成要素656を損傷することなく、図34の補強材基板614からスタンドオフ層620の上面を通って分配ボード616の上面に力を伝達することができる構成要素を形成する。
図38に示すように、分配ボード616は、その後、スタンドオフ層620が分配ボード616と補強材基板614間にある状態で補強材基板614に装着される。締結具660は、補強材基板614に分配ボード616を装着するために使用される。補強材基板614までのカートリッジ600の頂部は、全ての用途に共通となるアセンブリを形成するが、共通サブアセンブリの構成要素は、用途によっては、異なる方法で互いに接続することができる。スタンドオフ層620から接触器618までのカートリッジ600の下部は、用途によっては固有に設計されるサブアセンブリを形成する。カートリッジ600の固有に設計された部分は、締結具660を緩めることにより取り外すことができ、かつ再びカートリッジ600などのカートリッジを完成するために別の固有に設計されたサブアセンブリで交換することができる。カートリッジ600は、最初に、第2の固有の接触器サブアセンブリとの第1の固有の接触器サブアセンブリの交換を容易にするために装置フレームから取り外され、その後、第2の固有の接触器サブアセンブリを含む第2のカートリッジが、装置フレームに再び取り外し可能に装着される。
真空通路662の区画は、シリンダ、ピストン604、及び補強材基板614の後方部分630を通じて形成される。真空通路662の出口は、ポンプ664に接続される。ポンプ664が電源を投入された時、真空が、ピストン604と補強材基板614の間の空間内、及び補強材基板614と分配ボード616の間の空洞内に生じる。生じる真空のために、補強材基板614及びピストン604は、互いに対して引き付けられ、分配ボード616は、補強材基板614に対して引き付けられる。補強材基板614は、下面が厳しい許容度で平面であるように製造されている。分配ボード616は、一般的に、1インチにつき5から20ミルの間で平面であるように製造されるプリント回路基板である。しかし、真空で補強材基板614に対して分配ボード616を引き付けることにより、分配ボード616は、1インチにつき1ミル未満である平面度を有する。
図39に示すように、Oリング666は、容積形成リング608、610、及び612の間、及び容積形成リング608とシリンダの側面部分の間に位置する。圧力及び真空作動通路668は、下部受け板624内に形成されており、図38に示すように第1及び第2の端部670及び672を有する。第1の端部670は下部受け板624下面上に位置し、第2の端部672は、第1の容積形成リング608下面の真下にあるシリンダ側面部分628の内面上に位置する。流体ライン(図示せず)は、第2の端部672に接続されている。
図40は、後方部分630及び側面部分628により形成されたシリンダ、容積形成リング608、610、612、及びピストン604がどのようにしてカートリッジフレーム602に対して補強材基板614を移動させるアクチュエータを形成するかを示す。圧力は、圧力及び真空作動通路668を通じて第1の容積形成リング608の下面とピストン604の外部部分634上面の対応する区域との間の空間に印加される。ピストン604及び第2及び第3の容積形成リング610及び612の内部部分632の上面は、若干周囲圧力を下回るだけであることには変わりはない。力は、圧力及び真空作動通路668及び第1の容積形成リング608下面の表面区域に印加される圧力に等しいマグニチュードで生じる。力は、接触器ボード618のバネのバネ力及び図35のバネ644のバネのバネ力に対して下方にピストン604を移動させるために使用される。細長部材646及びナット648は、カートリッジフレーム602に対してピストン604と共に下方に移動し、その結果、ナット648と下部受け板624の間のバネ644が圧縮される。圧力及び真空作動通路668が周囲圧力に戻った時、バネ力は、図38に示す位置にピストン604を戻すほど大きくはない。周囲圧力を下回る圧力が圧力及び真空作動通路668に印加された時、ピストン604は、図40に示す位置から図38に示す位置に移動する。
図41は、圧力及び真空作動通路668内の圧力を増大させることなくピストン604により生じた力をどのように増大させることができるか示す。ピストン604は、図33に示すように下部受け板624から取り外されている。第2の容積形成リング610は、ピストン604の外部部分634から締結具640のネジを緩めることにより取り外される。第2の容積形成リング610は、その後、反転されて第1の容積形成リング608内に挿入され、その後、締結具640は、シリンダの後方部分630に螺入される。カートリッジ600は、その後、第2の容積形成リング610が下部受け板624に固定され、ピストン604には固定されない点を除いて、図38に示すように再び組み立てられる。
圧力は、圧力及び真空作動通路668を通じて第1及び第2の容積形成リング608及び610下面より下方にある区域に印加される。第1及び第2の容積形成リング608及び610下面の結合表面積と同じ表面積を有する外部部分634上面は、圧力及び真空作動通路668を通じて印加される圧力も受ける。ピストン604の図39よりも大きい表面積が図41の圧力及び真空作動通路668に印加された圧力を受けるので、ピストン604により印加された力は、圧力x圧力を受ける表面積に比例しており、図39の構成よりも大きな力が、図41の構成のピストンにより生じる。
ピストン604の代わりにシリンダ後方部分630に第3の容積形成リング612を装着することにより、更により大きな力をピストン604により生成することができる。
図39に示すOリング666は、第2及び第3の容積形成リング610及び612の上面よりも上方にあるほぼ周囲圧力からの第1の容積形成リング608の下面よりも下方にある高圧力を隔離すると同時に、第1の容積形成リング608に対する第2の容積形成リング610の摺動運動を可能にするという目的に供するものである。しかし、Oリング666により、静止摩擦が引き起こされ、従って、ピストン604により非線形の力が生じる。
図42は、図39の容積形成リング608、610、及び612がアクチュエータ空気袋680と置き換えられている代替実施形態を示す。アクチュエータ空気袋680は、ピストン604内部部分632回りで環状リングを形成し、かつピストン604外部部分634上面と後方部分630下面との間に位置する。圧力及び真空作動通路668は、アクチュエータ空気袋680の内部容積682に接続されている。アクチュエータ空気袋680の上下側面684及び686は、アクチュエータ空気袋680が圧力及び真空作動通路668を通じて膨張する時に互いから離れ、空気が内部容積682から圧力及び真空作動通路668を通じて除去された時に互いの方に移動する。上下側面684及び686の互いからの離脱により、ピストン604の下方の動きが引き起こされる。内部容積682内の圧力は、接触器ボード618内のバネのバネ力及びバネ644のバネ力により中和される力を生成することもできる。
アクチュエータ空気袋680の利点は、静止摩擦が生じず、従って、アクチュエータ空気袋680により生じた力は線形であるという点である。第1、第2、及び第3の容積形成リング608、610、及び612の利点は、後方部分630及び側面部分628により形成されたシリンダに対するピストンの移動方向に垂直なアクチュエータの容積の横断面表面積を修正することができるという点であり、そのような修正により、ピストン604により印加される力の対応する修正が引き起こされることになる。
図43は、更に詳細に分配ボード616を示す。分配ボード616は、互いの上に縦方向に位置する複数の水平層674G、674S、674P、676、678A、及び678B、及び層を貫通する複数の垂直バイア679を含む。層は、接地境界層674G、信号層674S、及び電源層674Pの形で金属層が含まれ、複数の絶縁層には、積層体層676、及びインバールのような材料からの熱膨張係数(CTE)制御層678A及び678Bが含まれる。合計n個(この例においては、36個)の金属層674G、674S、及び674Pが含まれ、合計n−1個(この例においては、35個)の絶縁層676、678A、及び678Bが交互に配置されている。
金属層674G、674S、及び674Pの各々は、隔離状態で、1つ置きの金属層674G、674S、及び674Pとほぼ同じ剛性を有する。積層体層676の各々も、隔離状態でほぼ同じ剛性を有する。分配ボード616の上半分におけるCTE制御層678Aは、隔離状態で、金属層674G、674S、674Pのいずれの1つ又は積層体層676のいずれの1つよりも高い剛性を有する。CTE制御層678Aはまた、分配ボード616の全体的なCTEがCTE制御層678Aと積層体層676又は金属層674G、674S、又は674Pのうちの1つとの間にあるように積層体層676又は金属層674G、674S、又は674Pのいずれの1つよりも低いCTEを有する。CTE制御層678A及び678Bは、分配ボード616の全体的なCTEを低減するために組み合わされる。CTE制御層の数又は厚さは、分配ボード616の全体的なCTEを更に減少させるように増大させることができる。CTE制御層678A及び分配ボード616の下半分におけるCTE制御層678Bは、各々が隔離状態でほぼ同じ剛性を有する。CTE制御層678A及び678Bは、更なる剛性、及び従ってより大きい平面度を分配ボード616に与える。頂部のCTE制御層678Aは、特に分配ボード616に更なる剛性及び平面度を与えるのに有用であり、その理由は、それが図33に示す分配ボード616及び接触器ボード618により形成された接触器ボードアセンブリの外側に位置するからである。
水平層674Pの各々は、バイア679のうちの1つに別々に接続されている電源層である。層674Gの各々は、接地層であり、全ての接地境界層は、共通バイア679に接続されている。電流は、電力バイア679のうちの1つから接地バイア679のうちの1つに導通することができない。それぞれのコンデンサは、電力バイア679の各々を接地バイア679の各々に接続するものであり、図36に示す電気構成要素656のうちの1つとすることができる。金属層674Sの各々は、信号層である。2つ又はそれより多い信号層674Sが、バイア679の各々に接続されている。信号層674Sは、電源層674P及び接地境界層674Gの両方から電気的に切断されている。
図44は、複数の実質的に全く同じ接触器インタフェース700、及び接触器インタフェース700のうちの1つに接続された撓み取り付け部702を示す。接触器インタフェース700は、補強材基板614の外側の区域内の分配ボード616の上面上に形成される。開口部704は、下部受け板624に形成されている。撓み取り付け部702の第1の端部は、撓み取り付け部702の第1の端部が接触器インタフェース700に到達することができるように開口部704に挿通される。撓み取り付け部702の反対端は、図17の第1のコネクタ組44のようなコネクタアレイモジュールに接続されている。
図45は、複数の撓みケーブル708、複数のプリント回路基板710、複数の金属端部分712、第1の複数の締結具714、金属保持部分716、第2の複数の締結具718、複数のキャップ720、第3の複数の締結具722、及び第4の複数の締結具724を含む撓み取り付け部702の第1の端部の構成要素を示す。図45は、複数のネジ山を持った開口部728を有する補強板726も示す。
撓みケーブル708の各々は、保持部分716の各々の開口部730に挿通されている。撓みケーブル708のうちの2つは、プリント回路基板710の各々に固定されている。締結具714は、プリント回路基板710のうちの2つを金属端部分712の各々に固定する。金属端部分712のうちの3つは、プリント回路基板710のうちの2つを互いに固定するために使用される。締結具718は、その後、金属端部部分712の各々を保持部分716に固定するために使用される。キャップ720の各々は、その後、プリント回路基板710のそれぞれの1つの上に位置決めされる。コネクタ本体は、従って、保持部分716、プリント回路基板710の実質的に平行なコネクタ本体基板に接続された金属端部分712、及びキャップ720により形成される。
締結具722は、金属端部分712にキャップ720を固定するために使用される。キャップ720の各々は、取り外されるキャップ720又はキャップ720が固定されているプリント回路基板710のいずれかを置き換えるために独立して取り外すことができる。締結具724は、保持部分716を図44の分配ボード616に固定するために使用される。
複数の信号及び接地導体は、コネクタ本体によって保持される。各信号導体は、撓みケーブル708の各々における複数の信号コア(図45では図示せず)のうちの1つ、プリント回路基板710のうちの1つの基板上のそれぞれの信号接点732、プリント回路基板710の基板の縁部上のそれぞれの縁部フィンガ734、及びキャップ720のうちの1つ上のそれぞれの接点736を含む。
図46及び図47に示すように、各撓みケーブル708は、複数の導電信号コア740、それぞれの導電信号コア回りに同軸状に位置する複数の接地導体742、各々がそれぞれの接地導体742からそれぞれの導電信号コア740を分離する複数の分離式絶縁層744、及び外絶縁シート746を有する同軸ケーブルである。
各接地導体742は、絶縁シート746の端部から突出する。各導電信号コア740は、接地導体742のそれぞれの1つから突出する。導電信号コア740の各々は、信号接点732のそれぞれの1つに独立に半田付けされている。接地導体742の各々は、図45に示す接地接点750にも半田付けされている。半田棒752は、接地導体742が同じ基準電圧であるように互いに電気的に接地導体742を接続するために使用される。半田棒752は、締結具722まで延び、締結具722は、半田棒752を図45の金属端部分712のうちの1つに電気的に接続する。金属端部分712の各々は、プリント回路基板710の全てに接続された接地導体742が保持部分716にも電気的に接続されるように保持部分716に電気的に接続されている。大型の導体が、全ての接地導体742の組み合わされた金属によって設けられる。大型導体が、接地導体742により形成されるが、互いからの個々の接地導体742の分離は、撓みケーブル708が、全ての接地導体74が組み合わされたものと同量の金属を有する単一の接地導体が使用された場合よりも大きい撓み性を有するままであることを可能にする。
信号に使用されない縁部フィンガ734に接地接点750を接続するプリント回路基板710の各々内にトレースが形成される。接地は、従って、撓みケーブル708を通じてキャップ720上の接点736に設けることができる。
図45を再び参照すると、締結具724の各々は、シャンク753、ヘッド754、及びネジ山756を有する。ネジ山756及びヘッド754は、シャンク753の反対側にある。締結具722のうちの2つはまた、そこから延びるピン760を有し、一方、締結具722の他のものは、そこから延びるいずれのピンも有していない。
図44及び45を組み合わせて参照すると、アラインメント開口部762が、分配ボード616内に形成されている。ピン760の各々は、アラインメント開口部762の各々と整列して挿入される。ピン760及びアラインメント開口部762の位置は、キャップ720上の接点736の表面と接触器インタフェース700上の端子764の表面との間の適切な接点を保証するのに十分に正確なものである。開口部766は、分配ボード616内にも形成され、シャンク753は、ヘッド754が分配ボード616の正面上にあるように開口部766に挿通される。ネジ山756は、分配ボード616の後部から突出して、補強板726のネジ山付きの開口部728と係合される。補強板726は、分配ボード616に応力を追加することなく、撓み取り付け部702の強力な取り付け台となる。分配ボード616は、補強板726と撓み取り付け部702の構成要素との間に確実に保持され、つまり「挟持される」。ネジ山付きの開口部766内のネジ山及び締結具724のネジ山756は、それ自体は高い許容度で製造されず、キャップ720の接点736と接触器インタフェース700上の端子764との間の適切な接蝕を保証する。
同じく注意すべき点は、アラインメント開口部762は、撓み取り付け部702のコネクタサブアセンブリの正しい向きを保証するように位置決めされるということである。コネクタインタフェース700の一端のアラインメント開口部762のうちの1つは、コネクタインタフェース700の中心線上に位置する。コネクタインタフェース700の反対端の別のアラインメント開口部762は、コネクタインタフェース700の中心線に対して中心を外れて位置する。アラインメント開口部762は、従って、コネクタインタフェース700の両端で同じ位置にあるわけではない。アラインメントピン760の位置は、アラインメントピン760と同じ位置にある。アラインメントピン760は、撓み取り付け部702のコネクタサブアセンブリが正しく整列する場合にアラインメント開口部762に入るが、撓み取り付け部702のコネクタサブアセンブリが180度回転させてもコネクタインタフェース700と接点736との間の接続が可能にならない場合は、アラインメント開口部762に対して整列しない。
図48は、アラインメントピン760が撓み取り付け部702の両端に位置することを示す。アラインメントピン760は、オペレータが撓み取り付け部702の方向を逆にする一方で依然として適切な接続を保証することができるように、撓み取り付け部702の両端に同じように配置される。従って、全く同じコネクタが、撓みケーブル708の両側に設けられる。
図49は、本発明の更に別の実施形態によるカートリッジ600Aを示している。図49のカートリッジ600Aは、図32のカートリッジ600に類似のものであり、同様の参照番号は、同様又は類似の構成要素を示している。カートリッジ600Aは、更に、補強材料基板614とスタンドオフ層620の間に位置する補償部分800を含む。スタンドオフ層620及び補強材料基板は、従って、カートリッジ600Aのサブアセンブリの第1及び第2の部分である。
補償部分800は、ほぼ平坦であり、かつ補強材料基板614のほぼ平坦な下面に適合する上面802を有する。補償部分800は、平坦でなく、かつ起伏が多い輪郭を有する下面804を有する。
図50Aに示すように、補償部分800がなければ、分配ボード616の下面及び接触器ボード618の下面806は、平面ではない。分配ボード616の下面及び接触器ボード618の下面806が平面ではないのは、不均一な厚みによるものであり、かつスタンドオフ層620及び分配ボード616の圧縮によるものである。図50Bは、補償部分800を含む全てのサブアセンブリを示している。補償部分800は、下面806がほぼ平面であるように、分配ボード616の下面及び接触器ボード618の下面806の非平面度を補償する。具体的には、補償部分800の起伏が多い下面804は、実質的に接触器ボード618の下面806の鏡面反射部である。
図50Aは、縁部のみ、従って、下面806の2次元輪郭のみを示している。図51に示すように、下面806は、図50Aにおいて紙に拡張する3次元を有する3次元輪郭を有する。図52は、図50Bにおいて補償部分800の下面804のトポグラフィを示している。補償部分800は、3つのシム810、812、及び814から構成される。シム810、812、及び814の各々のものは、75ミクロン厚である。より薄いシムは、より大きい制御を考慮したものである。シム810は、0ミクロンの高さで補強材料基板614の下面を露出させるように構成された複数の開口部816を有する。シム810の下面は、補強材料基板614の下面より下の75ミクロンの高さにある。シム812及び814は、シム812及び814が補強材料基板614の下面の下の150ミクロンの高さで下面を有するようにシム810の下面上に位置する。
図53は、分配ボード616、接触器ボード618、及び分配ボード616に接触器ボード618を装着するのに使用される装着構成820を示している。装着構成820は、装着リング822、複数の留め具824及び826、支持体構成828、及び内側接続構成830を含む。
装着リング留め具826は、分配ボード616に装着リング822を固定する。支持体構成828は、複数のフランジ832及び834及び複数のフランジ留め具836を含む。フランジ832は、装着リング822と一体的に製造される。フランジ留め具836は、装着リング822にフランジ834を固定する。接触器ボード618の縁部は、フランジ832及び834の上面に置かれる。
内側接続構成830は、接触器ボード618の一部を形成し、かつ接触器ボード618の中心点の方向に半径方向に延びるスロット840を形成する第1の接続部分838、第2の接続部分842、及び複数の接続部分留め具844を含む。第2の接続部分842は、主要部分846及び主要部分846から延びる指状部848を有する。留め具844は、装着リング822に主要部分846を固定する。指状部848は、装着リング822の中心点の方向に半径方向に延びる。
第2の接続部分842が装着リング822に取り付けられる時に、スロット840は、指状部848と整列する。スロット840は、指状部848が接触器ボード618の中心点及び装着リング822の中心点の方向に半径方向にスロット840内で相対的に摺ることが許容されるように指状部848よりも長い。スロット840による指状部848の相互係合は、第2の接続部分842に対する第1の接続部分838の接線方向の運動、すなわち、接触器ボード618の中心点又は装着リング822の中心点を中心とした分配ボード616に対する接触器ボード618の回転を防止する。接触器ボード618と装着リング822間の相対運動は、従って、半径方向に分配ボード618及び装着リング822の中心点を通って延びる線850に制限される。
図54を参照すると、4つの内側接続構成830は、装着リング822の周囲部を中心として90°の角度に位置する。互いに対向する接続構成830のうちの2つは、線850に沿って分配ボード616に対する接触器ボード618の動きを制限する。他の2つの接続構成830は、線852に沿った動きを制限する。線850及び852は、互いに直角であり、かつ接触器ボード618及び装着リング822の中心点854で交差する。
上述のように、接触器ボード618及び分配ボード616の材料は、接触器ボード618及び分配ボード616上の端子及び接点が異なる温度で互いに適合するように加工される。しかし、温度間の遷移中に、不均一な膨張のために接点ボード618及び分配ボード616の対応する接点と端子の間の相対運動が起こる場合がある。従って、阻止されなかった場合、不均一な膨張により、接点と端子の間の不整合が発生する可能性がある。接続構成830により、接触器ボード618の中心点(中心区域内)が常に装着リング822の中心点にあることが保証される。中心点は、従って、第1の温度で、第1の温度から第2の温度への遷移中に、かつ第2の温度で互いと一致する。中心点が一致するので、かつ接触器ボード618及び分配ボード616の材料が接点と端子の間の適合を保証するように加工されたので、接点及び端子は、第1の温度で及び第2の温度で互いに適合することになる。
図55に示すように、2つの留め具開口部850及び852は、装着リング822の一部を通って形成され、複数の溝854は、留め具開口部850及び852を有する部分の上面上に形成される。溝854の延長部は、装着リング822の中心点を覆っている。
図56を参照すると、コンプライアント部分856は、溝854を有する装着リング822の部分と分配ボード616の間に位置する。コンプライアント部分856は、コンプライアント部分856が装着リング822と分配ボード(t)616の間に挟持される時にコンプライアント部分856の下面が溝854の形態を取得するようにKapton(登録商標)のようなコンプライアント材料で製造される。溝854及び相補的相互係合コンプライアント部分856を有する装着リング822の部分の相対運動は、溝854が延びる方向に制限される。溝854を有する装着リング822の部分及びコンプライアント部分856は、1つの外側接続構成を形成する。
図54を再び参照すると、8つの留め具824は、中心点854を中心として45°間隔で装着リング822上に位置する。各留め具824は、図56のコンプライアント部分856のようなそれぞれのコンプライアント部分の位置に対応する。溝854及びコンプライアント部分856は、装着リング822の中心点854が常にあらゆる温度で又は温度間の遷移中に分配ボード616上の対応する位置に対して同じ位置にあるように装着リング822の動きを制限する。溝854及びコンプライアント部分856は、従って、接触器ボード618及び分配ボード616上の接点及び端子を互いに対してほぼ同じ位置に維持するのを補助する。
図57は、留め具824及び826が、各々が柄860及び頭部862を有するボルトであることを示している。留め具824の柄860は、補強材料基板614の相補的ネジ山に螺合するネジ山を有する。留め具826の柄860は、補強材料基板664の相補的ネジ山に螺合するネジ山を有し、留め具826の頭部862は、ナット864より分配ボード616の反対側に位置する。留め具824は、従って、補強材料基板614に分配ボード616を固定し、留め具826は、分配ボード616に装着リング822を固定する。更に注意すべきことは、開口部850及び852が、留め具824及び826の柄860よりも大きいことである。柄860は、従って、コンプライアント部分856上の装着リング822の滑り運動を可能にするために開口部850及び852内で相対的に移動することができる。留め具824及び826、ナット864、補強材料基板614、及び開口部850及び852は、全て、外側接続構成の一部を形成する。
図57に更に示すように、圧力逃がし弁870は、圧力及び真空度作動通路668に接続される。圧力逃がし弁870は、弁構成要素872及びバネ(図示せず)を含む。バネは、圧力及び真空度作動通路668内の圧力が増加する時に、弁構成要素872を下部受け板628の表面874上に着座状態に保ち、バネは、従って、大気に対して弁構成要素872が開くことを防止する。圧力及び真空度作動通路668内の圧力が、大気圧を超える所定の圧力を超えた状態で、圧力は、バネのバネ力を克服して表面874から弁構成要素872を離すために弁構成要素872の下面に作用する。圧力及び真空度作動通路668内の空気は、次に、弁構成要素872を過ぎると大気に抜ける。空気は、従って、圧力及び真空度作動通路668内の圧力が所定の値を超えた時に大気に自動的に抜ける。
空気は、圧力及び真空度作動通路668内の圧力が所定の圧力を超えている限り、引き続き大気に抜ける。圧力及び真空度作動通路668内の圧力が再び所定の圧力未満に落ちた時に、バネのバネ力は、弁構成要素872が下って表面874上で着座するように弁構成要素872の下面上で圧力により作成された力に打ち勝つ。
大気への空気抜けは、従って、圧力及び真空度作動通路668内の圧力が所定の圧力を下回った時に自動的に終了する。従って、弁870は、ピストン604の背後の圧力が過大になることを防止し、それによってカートリッジ600A及びウェーハの損傷を防止することを見ることができる。
オリフィス876は、圧力及び真空度作動通路668内に位置する。オリフィス876のサイズ、従って、気流に対する抵抗は、弁870がオリフィス876を通る空気に関する容量を超える抽気容量を有するように選択される。従って、圧力及び真空度作動通路668内の空気の質量は、弁870が開いている場合は増加しない。オリフィス876は、それによってカートリッジ600A及びウェーハの損傷を更に防止する。
図58は、図49のピストン604を制御するのに使用される空圧システム880を示している。空圧システム880は、高圧ライン、低圧ライン、及び真空ラインを含む。高圧ライン及び低圧ラインは、大気圧を超える圧力で空気の形態の流体を搬送し、真空ラインは、大気圧よりも小さい圧力で空気を搬送する。空圧システム880は、更に、ピストン604の背後の容積に接続された作動ライン882を含む。
高圧ラインは、高圧ポンプ884に接続したラインと空気レギュレータ886とを含む。高圧の空気は、ポンプ884から空気レギュレータ886に供給される。空気レギュレータ886は、空気の圧力を低減し、減圧された圧力の空気を低圧ラインに供給する。低圧ラインは、互いの後に直列に位置する比例コントローラ888、プローブピストン890、空気タンク892、隔離弁894、及びプローブピストン896を含む。真空ラインは、本明細書で上述のように、真空ポンプ898と、プローブピストン896と、カートリッジクランプ900と、信号分配ボード真空区域902とに接続したラインを含む。低圧ライン及び真空ラインは、従って、共にプローブピストン896に接続される。プローブピストン896は、低圧ラインから又は真空ラインからピストン604に接続した起動ライン882に空気を選択的に供給するように作動することができる。空圧システム880も、比例コントローラ888とプローブピストン890の間の低圧ラインに接続された通気弁904及び高圧ラインに接続された空気圧センサ906を含む。
空圧システム880の構成要素の多くは、コンピュータの制御下にあるか、又はコンピュータに制御入力を供給することが理解されるであろう。このようなコンピュータは、プロセッサ及びプロセッサに接続したメモリを有する。一連の命令を有するプログラムは、メモリに格納されていてプロセッサによって実行可能である。空気圧センサ906は、空圧システム880の他の構成要素を制御するためにコンピュータに制御入力を供給する1つの構成要素である。コンピュータにより制御された空圧システム880の特定の構成要素には、通気弁904、隔離弁894、プローブピストン896、プローブピストン890、及び比例コントローラ888がある。コンピュータは、例えば、低圧ラインから空気を又はピストン604に真空圧を供給するようにピストン896を制御する。コンピュータは、高圧ポンプ884及び真空ポンプ898からピストン604の背後の容積を隔離するように隔離弁894も制御する。
図59は、図58の空圧システム880が、図49のピストン604の動き及びそれによって作成される力を制御するのに使用される方法を説明している。時間T0で、ピストン604は、ピストン604の背後の容積が最小であり、ピストン604の背後の圧力が大気圧に対して負又はゼロであるように、図49の下部受け板624内に完全に後退する。図58の隔離弁894は、ピストン604の背後の容積が隔離されないように開いている。図8のウェーハチャック130は、端子72が下がってウェーハ76上の接点と係合することができるように上方のz方向に移動する。
時間T0と時間Tl7の間に、ピストン604の背後の容積は、圧力ライン882からの空気がピストン604に供給されるように図58においてプローブピストン896を操作することによって増大する。図49のバネ644の力に打ち勝つために、ピストン604の背後に圧力の僅かな増加のみがある。時間Tlで、ウェーハチャック130が係合し、すなわち、ウェーハ76上の接点は、図8の端子72と接触する。
時間T1とT2の間に、図58内のプローブピストン896は、ピストン604の背後の圧力が増加するように開いたままである。ピストン604の背後では、端子72が圧縮する時に僅かな容積の増加のみがある。時間T2で、端子72により作成される力は、試験を開始するのに十分である。試験は、時間T2とT3の間の間隔に対して実行される。
時間T3とT4の間に、ピストン604の背後の圧力は、ゼロに低減される。容積は、端子72が再び膨張する時に僅かに減少するだけである。ウェーハチャック130は、係合したままである。時間T5で、隔離弁894は、閉じられる。ピストン604の背後の容積は、従って、隔離される。ピストン604の背後の容積が隔離された時に、空気は、ピストン604の背後の容積に流入せず、又はピストン604の背後の容積から流出することはできない。ピストン604の背後の容積内の空気の圧力を増加又は低減することも不可能である。
時間T6で、図8のウェーハチャック130は、垂直に下方に移動して分離された位置になり、端子72は、ウェーハ76上の接点と接触しない。図58の隔離弁894が閉じられて、ピストン604の背後の容積が隔離されたので、ピストン604は、下部受け板624に対して固定した位置のままである。時間T6とT7の間に、ウェーハチャック130上のウェーハ76は、別のウェーハと交換され、ウェーハチャック130は、再び、移動して係合した位置になる。新設ウェーハ上の接点は、この時に端子72と接触している。ピストン604をz位置に維持することにより、x及びy方向のより一貫した平面度をウェーハ間に維持することができる。
時間T8で、図58の隔離弁894は、再び開かれる。時間T9とT10の間に、圧力は再び増大し、容積は、端子72が圧縮される時に僅かに増大するだけである。時間T10、T11、T12、T13、及びT14のイベントのシーケンスは、それぞれ、時間T2、T3、T4、T5、及びT6のイベントのシーケンスと同じである。イベントのシーケンスは、3つのウェーハ又はそれよりも多くを試験するために何度でも繰り返すことができる。
時間T14で、いくつかのウェーハを試験した後に、圧力は、大気圧未満に低減される。負圧により、ピストン604は、図49の下部受け板624内に垂直z方向に後退する。
図49〜図59のカートリッジ600Aの特徴は、ピストン604のようなピストン以外のアクチュエータを有するシステムにおいて用途を見出すと考えられる。例えば、カートリッジ600Aの特徴は、本明細書で上述したような空気袋の形態のアクチベータに関連した用途を見出すことができる。
ある一定の例示的な実施形態を説明しかつ添付図面に示したが、このような実施形態は、単に例示的なものであり、本発明を限定するものではないこと、及び修正が当業者に想起される場合があるために、本発明は、図示して説明した特定の構成及び配置に限定されないことは理解されるものとする。
600A カートリッジ
602 カートリッジフレーム
604 ピストン
606 ピストン調節システム
616 分配ボード
618 接触器ボード

Claims (19)

  1. デバイスの集積回路を試験する方法であって、
    保持具の表面に対してデバイスを保持する段階と、
    前記保持具に対して接触器ボードアセンブリを移動し、該接触器ボードアセンブリの端子を前記デバイス上の接点と接触させる段階と、
    流体ラインを通る空気にアクチュエータの第1及び第2の部分の間に形成された容積のサイズを変えさせ、それによって該アクチュエータの該第1及び第2の部分を作動させ、装置フレームに対して接触器支持構造体を移動させて該デバイス上の接点に対して該接触器支持構造体上の前記端子を押圧する段階と、
    前記端子及び接点を通じて集積回路に信号を供給する段階と、
    前記流体ラインの前記空気の圧力が所定の値に到達した時に、圧力逃がし弁を通して該流体ラインから空気を自動的に放出する段階と、
    を含むことを特徴とする方法。
  2. 前記流体ラインの前記圧力の増加が、前記容積の前記サイズを増大させることを特徴とする請求項1に記載の方法。
  3. 前記アクチュエータの前記第1及び第2の部分は、それぞれ、シリンダ及びピストンであり、該ピストンは、該シリンダ及び該ピストンが共同で前記容積を形成するように該シリンダ内に位置し、
    前記容積の圧力を変えて前記シリンダに対して前記ピストンを移動させる段階、
    を更に含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
  4. 前記シリンダに対して前記ピストンを水平にするために、該シリンダに該ピストンを接続する少なくとも1つのバネの力を調節する段階、
    を更に含むことを特徴とする請求項3に記載の方法。
  5. 前記アクチュエータは、膨張可能かつ収縮可能な空気袋を含み、該アクチュエータの前記第1及び第2の部分は、該空気袋の対向する側であることを特徴とする請求項1に記載の方法。
  6. 前記接触器ボードアセンブリがその一部を形成するカートリッジのカートリッジフレームを前記装置フレームに取り外し可能に装着する段階と、
    コネクタインタフェースの表面を接触器インタフェースの表面に接続する段階と、
    を更に含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
  7. 前記カートリッジは、共通サブアセンブリと第1の固有の接触器サブアセンブリを含み、
    前記第1の固有の接触器サブアセンブリを第2の固有の接触器サブアセンブリで置換する段階、
    を更に含むことを特徴とする請求項6に記載の方法。
  8. 前記共通サブアセンブリと前記第2の固有の接触器サブアセンブリの間の区域の圧力を低減する段階、
    を更に含むことを特徴とする請求項7に記載の方法。
  9. デバイスの集積回路を試験するための装置であって、
    装置フレームと、
    前記装置フレームに固定されたデバイスのための保持具と、
    接触器支持構造体と、
    前記接触器支持構造体によって保持された複数の端子と、
    前記装置フレームと前記接触器支持構造体の間に接続されて、互いに対して移動可能である第1及び第2の部分と、該第1及び第2の部分の間に形成された容積と、該容積に接続されて該容積を空気が通るのを可能にし、それによって該容積のサイズを変えて該装置フレームに対して該接触器支持構造体を移動し、前記端子が前記デバイスの接点に対して押圧されるように該装置フレームに対してかつ前記保持具の表面に向けて該接触器支持構造体を移動する流体ラインとを有するアクチュエータと、
    前記容積に接続されて該容積を空気が通るのを可能にし、それによって該容積のサイズを変え、前記端子が前記デバイスの接点に対して押圧されるように前記装置フレームに対して前記保持具に向けて前記接触器支持構造体を移動させる流体ラインと、
    前記流体ラインの前記空気の圧力が所定の値に到達した時に、該流体ラインから圧力逃がし弁を通して空気を自動的に放出するように該流体ラインに接続された圧力逃がし弁と、
    電源と、
    前記支持構造体によって保持された前記端子の電源端子に前記電源を接続する電力電路と、
    信号源と、
    前記支持構造体によって保持された前記端子のそれぞれの信号端子に前記信号源を各々が接続する複数の信号電路と、
    を含むことを特徴とする装置。
  10. 前記流体ラインの前記圧力の増加が、前記容積の前記サイズを増大させることを特徴とする請求項9に記載の装置。
  11. 前記アクチュエータの前記第1及び第2の部分は、それぞれ、シリンダ及びピストンであり、該ピストンは、該シリンダ及び該ピストンが共同で容積を形成するように該シリンダ内に位置し、
    前記容積の圧力を変えて前記シリンダに対して前記ピストンを移動させるために該容積に接続された前記流体ライン、
    を更に含むことを特徴とする請求項9に記載の装置。
  12. バネと、
    前記ピストンに固定された第1の部分と前記バネに接続した第2の部分とを有し、該バネの力を調節して前記シリンダに対して該ピストンを水平にするように調節可能であるバネ調節機構と、
    を更に含むことを特徴とする請求項11に記載の装置。
  13. 前記アクチュエータは、膨張可能かつ収縮可能な空気袋を含み、該アクチュエータの前記第1及び第2の部分は、該空気袋の対向する側であることを特徴とする請求項9に記載の装置。
  14. 前記接触器支持構造体と、前記端子と、補償部分の輪郭表面以外に該接触器ボードアセンブリの表面の平面度を改善する輪郭表面を有する補償部分とを有する接触器ボードアセンブリを更に含むことを特徴とする請求項9に記載の装置。
  15. 前記装置フレームに取り外し可能に装着可能なカートリッジフレームを含み、前記接触器ボードがその一部を形成するカートリッジと、
    前記接触器支持構造体上の接触器インタフェースと、
    前記接触器インタフェースの表面に接続するための表面を有するコネクタインタフェースと、
    を更に含むことを特徴とする請求項9に記載の装置。
  16. 前記カートリッジは、共通サブアセンブリと、第2の固有の接触器サブアセンブリと互換的である第1の固有の接触器サブアセンブリとを含むことを特徴とする請求項15に記載の装置。
  17. 前記共通サブアセンブリと前記第2の固有の接触器サブアセンブリの間の区域と連通し、かつ前記カートリッジの外側に出口を有する減圧通路と、
    前記共通サブアセンブリと前記第2の固有の接触器サブアセンブリの間の前記区域の圧力を低減するために前記減圧通路の前記出口に接続されたポンプと、
    を更に含むことを特徴とする請求項16に記載の装置。
  18. カートリッジフレームと、
    固定された位置で装置フレームに前記カートリッジフレームを装着するための該カートリッジフレーム上の構造と、
    接触器支持構造体と、
    前記接触器支持構造体によって保持された複数の端子と、
    前記カートリッジフレームと前記接触器支持構造体の間に接続されて、互いに対して移動可能である第1及び第2の部分と、該第1及び第2の部分の間に形成された容積と、該容積に接続されて該容積を空気が通のを可能にし、それによって該容積のサイズを変え、該カートリッジフレームに対して該接触器支持構造体を移動させ、前記端子がデバイスの接点に対して押圧されるように該接触器支持構造体を前記装置フレームに対してかつ保持具の表面に向けて移動させる流体ラインとを有するアクチュエータと、
    前記容積に接続されて該容積を空気が通るのを可能にし、それによって該容積のサイズを変え、前記端子が前記デバイスの接点に対して押圧されるように前記接触器支持構造体を前記保持具に向けて前記装置フレームに対して移動させる流体ラインと、
    前記流体ラインの前記空気の圧力が所定の値に到達した時に、圧力逃がし弁を通して該流体ラインから空気を自動的に放出するために該流体ラインに接続された圧力逃がし弁と、
    前記接触器支持構造体によって保持されてインタフェースを前記端子に接続する複数の導体と、
    を含むことを特徴とするカートリッジ。
  19. 前記流体ラインの前記圧力の増加が、前記容積の前記サイズを増大させることを特徴とする請求項18に記載のカートリッジ。
JP2017211502A 2009-03-25 2017-11-01 デバイスの集積回路を試験するためのシステム及びその使用方法 Active JP6465947B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US12/411,233 2009-03-25
US12/411,233 US8030957B2 (en) 2009-03-25 2009-03-25 System for testing an integrated circuit of a device and its method of use

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016184318A Division JP6239714B2 (ja) 2009-03-25 2016-09-21 デバイスの集積回路を試験するためのシステム及びその使用方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2018032873A JP2018032873A (ja) 2018-03-01
JP6465947B2 true JP6465947B2 (ja) 2019-02-06

Family

ID=42781520

Family Applications (4)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012502262A Active JP5635586B2 (ja) 2009-03-25 2010-03-25 デバイスの集積回路を試験するためのシステム及びその使用方法
JP2014212000A Active JP6013423B2 (ja) 2009-03-25 2014-10-16 デバイスの集積回路を試験するためのシステム及びその使用方法
JP2016184318A Active JP6239714B2 (ja) 2009-03-25 2016-09-21 デバイスの集積回路を試験するためのシステム及びその使用方法
JP2017211502A Active JP6465947B2 (ja) 2009-03-25 2017-11-01 デバイスの集積回路を試験するためのシステム及びその使用方法

Family Applications Before (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012502262A Active JP5635586B2 (ja) 2009-03-25 2010-03-25 デバイスの集積回路を試験するためのシステム及びその使用方法
JP2014212000A Active JP6013423B2 (ja) 2009-03-25 2014-10-16 デバイスの集積回路を試験するためのシステム及びその使用方法
JP2016184318A Active JP6239714B2 (ja) 2009-03-25 2016-09-21 デバイスの集積回路を試験するためのシステム及びその使用方法

Country Status (5)

Country Link
US (8) US8030957B2 (ja)
EP (1) EP2411819A1 (ja)
JP (4) JP5635586B2 (ja)
SG (5) SG10201400838PA (ja)
WO (1) WO2010111526A1 (ja)

Families Citing this family (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8076216B2 (en) 2008-11-11 2011-12-13 Advanced Inquiry Systems, Inc. Methods and apparatus for thinning, testing and singulating a semiconductor wafer
EP2273279A1 (en) 2005-04-27 2011-01-12 Aehr Test Systems, Inc. Apparatus for testing electronic devices
US7800382B2 (en) 2007-12-19 2010-09-21 AEHR Test Ststems System for testing an integrated circuit of a device and its method of use
US8030957B2 (en) 2009-03-25 2011-10-04 Aehr Test Systems System for testing an integrated circuit of a device and its method of use
US9176186B2 (en) 2009-08-25 2015-11-03 Translarity, Inc. Maintaining a wafer/wafer translator pair in an attached state free of a gasket disposed
US8362797B2 (en) * 2009-08-25 2013-01-29 Advanced Inquiry Systems, Inc. Maintaining a wafer/wafer translator pair in an attached state free of a gasket disposed therebetween
JP2013540354A (ja) 2010-09-28 2013-10-31 アドバンスド インクワイアリー システムズ インコーポレイテッド ウエハテストシステムならびに関連する使用方法および製造方法
US9128122B2 (en) * 2011-01-18 2015-09-08 Advantest Corporation Stiffener plate for a probecard and method
CN103424682A (zh) * 2012-05-16 2013-12-04 欣岩企业有限公司 芯片测试装置及检测方法
TWI572873B (zh) * 2012-12-07 2017-03-01 鴻海精密工業股份有限公司 測試用連接器
KR102282192B1 (ko) * 2015-07-23 2021-07-27 삼성전자 주식회사 미스매치 검출 및 보상 회로를 갖는 반도체 장치
TWI729056B (zh) 2016-01-08 2021-06-01 美商艾爾測試系統 測試器設備及測試微電子裝置的方法
CN105585547A (zh) 2016-03-09 2016-05-18 中国科学院广州生物医药与健康研究院 一种4-五氟化硫苯酚类化合物及制备方法以及五氟化硫取代苯并吡喃类化合物的制备方法
WO2017210108A1 (en) 2016-06-02 2017-12-07 Kes Systems, Inc. System and methods for semiconductor burn-in test
KR20230021177A (ko) 2017-03-03 2023-02-13 에어 테스트 시스템즈 일렉트로닉스 테스터
TWI613448B (zh) * 2017-04-06 2018-02-01 致茂電子股份有限公司 具有差異下壓力之電子元件壓接裝置
US10267845B2 (en) * 2017-05-12 2019-04-23 Delta V Instruments, Inc. Wafer level burn-in system
CN107449942B (zh) * 2017-07-26 2021-03-02 王珍珍 一种集成电路板用省力测试设备
KR102004441B1 (ko) * 2019-03-25 2019-07-29 주식회사 프로이천 핀 보드 조립체
KR102032290B1 (ko) * 2019-03-29 2019-10-15 주식회사 프로이천 핀 보드 조립체
CN109932612B (zh) * 2019-03-29 2022-05-17 山东云则信息技术有限公司 一种移动通讯应用接口测试装置
JP7453891B2 (ja) * 2020-10-06 2024-03-21 日本航空電子工業株式会社 電気部品検査器具
CN116457670A (zh) 2020-10-07 2023-07-18 雅赫测试系统公司 电子测试器
CN112798929B (zh) * 2020-12-29 2024-03-01 中科芯集成电路有限公司 一种基于双叶轮的柔性pcb板批量自动检测装置
CN114132724A (zh) * 2021-11-25 2022-03-04 北京世迈腾科技有限公司 一种在线测试电路板翻板机构及翻转机
CN114035017B (zh) * 2021-11-25 2023-09-29 山东阅芯电子科技有限公司 适用于压接式功率半导体器件的测试装置
CN114400193B (zh) * 2022-02-21 2022-12-20 辽宁优迅科技有限公司 一种用于光发射器件双层软板的单面压接方法及夹具
KR102656532B1 (ko) 2022-08-29 2024-04-11 한국기술교육대학교 산학협력단 자동화된 슬롯다이코팅장치 및 그 제어방법

Family Cites Families (231)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3149897A (en) 1961-08-29 1964-09-22 Hans G Martineck Printed cable connector
US3413613A (en) 1966-06-17 1968-11-26 Gen Electric Reconfigurable data processing system
US3482201A (en) 1967-08-29 1969-12-02 Thomas & Betts Corp Controlled impedance connector
US4240021A (en) 1977-05-20 1980-12-16 Citizen Watch Co., Ltd. Solar cell battery charging control system
US4298237A (en) 1979-12-20 1981-11-03 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Printed wiring board interconnection apparatus
US4400049A (en) 1981-08-12 1983-08-23 Ncr Corporation Connector for interconnecting circuit boards
US4419626A (en) * 1981-08-25 1983-12-06 Daymarc Corporation Broad band contactor assembly for testing integrated circuit devices
JPS5863927A (ja) 1981-10-13 1983-04-16 Canon Inc 閃光撮影装置
US4517512A (en) 1982-05-24 1985-05-14 Micro Component Technology, Inc. Integrated circuit test apparatus test head
US4591217A (en) 1983-08-29 1986-05-27 Gte Communication Systems Corporation Low insertion force connection arrangement
JPS60242025A (ja) * 1984-05-09 1985-12-02 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 射出制御方法
US4608679A (en) 1984-07-11 1986-08-26 Filenet Corporation Optical storage and retrieval device
JPH06105417B2 (ja) 1984-09-06 1994-12-21 日本電気株式会社 多重化電源装置における障害検出方式
US4582386A (en) 1984-11-01 1986-04-15 Elfab Corp. Connector with enlarged power contact
US4719411A (en) 1985-05-13 1988-01-12 California Institute Of Technology Addressable test matrix for measuring analog transfer characteristics of test elements used for integrated process control and device evaluation
US4814573A (en) 1986-04-07 1989-03-21 Ex-Cell-O Corporation Electrical discharge machining apparatus with exchangeable electrode refeed cartridge
US5247521A (en) 1986-04-23 1993-09-21 Hitachi, Ltd. Data processor
US4816754A (en) 1986-04-29 1989-03-28 International Business Machines Corporation Contactor and probe assembly for electrical test apparatus
JP2578084B2 (ja) * 1986-11-25 1997-02-05 東京エレクトロン株式会社 ウエハプローバ
US4899208A (en) 1987-12-17 1990-02-06 International Business Machines Corporation Power distribution for full wafer package
FR2631165B1 (fr) 1988-05-05 1992-02-21 Moulene Daniel Support conditionneur de temperature pour petits objets tels que des composants semi-conducteurs et procede de regulation thermique utilisant ce support
DE3914669C2 (de) 1989-05-03 1999-07-15 Max Liebich Vorrichtung und Verfahren zur Selbstverfertigung von Zigaretten durch den Verbraucher
US4995814A (en) 1989-12-15 1991-02-26 Amp Incorporated Connector for mating blade-shaped members
US4981449A (en) 1990-04-27 1991-01-01 Amp Incorporated Connector for mating multi-layer blade-shaped members
US5086269A (en) 1991-03-08 1992-02-04 Hewlett-Packard Company Burn-in process and apparatus
US5108302A (en) 1991-06-17 1992-04-28 Pfaff Wayne Test socket
US5220820A (en) * 1991-10-21 1993-06-22 Teledyne Industries Inc. Apparatus and method for cushioning movement of a member in a press
JPH0677296A (ja) * 1992-05-29 1994-03-18 Eejingu Tesuta Kaihatsu Kyodo Kumiai 集積回路素子ウエハー用測定電極
JPH06186283A (ja) 1992-11-30 1994-07-08 Ando Electric Co Ltd テストヘッドの冷却制御装置
US5461326A (en) 1993-02-25 1995-10-24 Hughes Aircraft Company Self leveling and self tensioning membrane test probe
JPH0792479B2 (ja) 1993-03-18 1995-10-09 東京エレクトロン株式会社 プローブ装置の平行度調整方法
JP3308346B2 (ja) 1993-06-08 2002-07-29 日置電機株式会社 基板検査装置用のエアプローブピンボード
JPH0763788A (ja) 1993-08-21 1995-03-10 Hewlett Packard Co <Hp> プローブおよび電気部品/回路検査装置ならびに電気部品/回路検査方法
US5467024A (en) 1993-11-01 1995-11-14 Motorola, Inc. Integrated circuit test with programmable source for both AC and DC modes of operation
KR0140034B1 (ko) 1993-12-16 1998-07-15 모리시다 요이치 반도체 웨이퍼 수납기, 반도체 웨이퍼의 검사용 집적회로 단자와 프로브 단자와의 접속방법 및 그 장치, 반도체 집적회로의 검사방법, 프로브카드 및 그 제조방법
JP2544084B2 (ja) 1993-12-28 1996-10-16 山一電機株式会社 電気部品の接続器
JP2925964B2 (ja) 1994-04-21 1999-07-28 松下電器産業株式会社 半導体ウェハ収納器及び半導体集積回路の検査方法
US5515126A (en) 1994-09-28 1996-05-07 Eastman Kodak Company Convertible flash camera and method
US5550466A (en) 1994-09-30 1996-08-27 Hewlett-Packard Company Hinged conduit for routing cables in an electronic circuit tester
US6421754B1 (en) 1994-12-22 2002-07-16 Texas Instruments Incorporated System management mode circuits, systems and methods
US5773986A (en) 1995-04-03 1998-06-30 Motorola, Inc Semiconductor wafer contact system and method for contacting a semiconductor wafer
JPH08340030A (ja) 1995-04-13 1996-12-24 Tokyo Electron Ltd バーンイン装置およびバーンイン用ウエハトレイ
US5666288A (en) 1995-04-21 1997-09-09 Motorola, Inc. Method and apparatus for designing an integrated circuit
JP3106102B2 (ja) 1995-05-19 2000-11-06 松下電器産業株式会社 半導体装置の検査方法
US5600257A (en) 1995-08-09 1997-02-04 International Business Machines Corporation Semiconductor wafer test and burn-in
WO1997017619A1 (fr) 1995-11-06 1997-05-15 Advantest Corporation Transporteur, changeur de position et dispositif de prelevement pour circuits integres
US5851143A (en) 1996-05-10 1998-12-22 Thermal Industries Disk drive test chamber
US5808896A (en) 1996-06-10 1998-09-15 Micron Technology, Inc. Method and system for creating a netlist allowing current measurement through a sub-circuit
JPH10116867A (ja) 1996-10-11 1998-05-06 Orion Mach Co Ltd 半導体ウェーハの試験方法及び試験装置用温度調節器
US5894225A (en) 1996-10-31 1999-04-13 Coffin; Harry S. Test fixture
US5886535A (en) 1996-11-08 1999-03-23 W. L. Gore & Associates, Inc. Wafer level burn-in base unit substrate and assembly
US7468075B2 (en) 2001-05-25 2008-12-23 Conformis, Inc. Methods and compositions for articular repair
US5949246A (en) 1997-01-28 1999-09-07 International Business Machines Test head for applying signals in a burn-in test of an integrated circuit
TW480645B (en) 1997-02-24 2002-03-21 Tokyo Electron Ltd Method and apparatus for inspecting semiconductor integrated circuits, and contactor incorporated in the apparatus
JPH10256325A (ja) 1997-03-07 1998-09-25 Orion Mach Co Ltd 半導体ウェーハの試験装置用温度調節プレート
US6023173A (en) 1997-04-30 2000-02-08 Credence Systems Corporation Manipulator with expanded range of motion
US5821440A (en) 1997-04-30 1998-10-13 Credence Systems Corporation Cable tray assembly for testing device
JPH1123615A (ja) * 1997-05-09 1999-01-29 Hitachi Ltd 接続装置および検査システム
JP4246812B2 (ja) 1997-06-12 2009-04-02 パナソニック株式会社 半導体回路及びその制御方法
US6040700A (en) 1997-09-15 2000-03-21 Credence Systems Corporation Semiconductor tester system including test head supported by wafer prober frame
MY128129A (en) 1997-09-16 2007-01-31 Tan Yin Leong Electrical contactor for testing integrated circuit devices
WO1999018447A1 (en) 1997-10-07 1999-04-15 Reliability Incorporated Burn-in board with adaptable heat sink device
JP3364134B2 (ja) * 1997-10-20 2003-01-08 松下電器産業株式会社 ウェハカセット
JPH11121569A (ja) 1997-10-21 1999-04-30 Matsushita Electric Ind Co Ltd バーンイン装置
US5928036A (en) 1997-10-30 1999-07-27 The Whitaker Corporation Dual row memory card connector
JPH11145216A (ja) 1997-11-12 1999-05-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd ウェハバーンイン装置、検査用基板及びポゴピン
US5973285A (en) 1997-11-26 1999-10-26 Computer Service Technology, Inc. Connector alignment assembly for an electronic memory module tester
JPH11163066A (ja) 1997-11-29 1999-06-18 Tokyo Electron Ltd ウエハ試験装置
US6091060A (en) 1997-12-31 2000-07-18 Temptronic Corporation Power and control system for a workpiece chuck
US6309915B1 (en) 1998-02-05 2001-10-30 Tessera, Inc. Semiconductor chip package with expander ring and method of making same
US6057696A (en) 1998-03-24 2000-05-02 Cypress Semiconductor Corp. Apparatus, method and kit for aligning an integrated circuit to a test socket
JP3430015B2 (ja) 1998-05-20 2003-07-28 東京エレクトロン株式会社 信頼性試験システム
TW432221B (en) 1998-05-29 2001-05-01 Advantest Corp Tray for electronic device, the transporting apparatus of tray for electronic device and testing apparatus for electronic device
US6625557B1 (en) 1998-07-10 2003-09-23 Ltx Corporation Mixed signal device under test board interface
US6627483B2 (en) 1998-12-04 2003-09-30 Formfactor, Inc. Method for mounting an electronic component
CA2317743A1 (en) 1998-12-11 2000-06-22 Paul Mansky Sensor array-based system and method for rapid materials characterization
EP1140977B1 (de) 1998-12-14 2005-03-09 Deutsches Krebsforschungszentrum Stiftung des öffentlichen Rechts Verfahren und vorrichtung zum aufbringen von substanzen auf einen träger, insbesondere von monomeren für die kombinatorische synthese von molekülbibliotheken
US6137303A (en) 1998-12-14 2000-10-24 Sony Corporation Integrated testing method and apparatus for semiconductor test operations processing
US6957327B1 (en) 1998-12-31 2005-10-18 Stmicroelectronics, Inc. Block-based branch target buffer
US6888343B1 (en) 1999-01-13 2005-05-03 Intest Ip Corporation Test head manipulator
US6304733B1 (en) 1999-05-19 2001-10-16 Minolta Co., Ltd. Image forming apparatus capable of outputting a present time
US7382142B2 (en) 2000-05-23 2008-06-03 Nanonexus, Inc. High density interconnect system having rapid fabrication cycle
US6340895B1 (en) 1999-07-14 2002-01-22 Aehr Test Systems, Inc. Wafer-level burn-in and test cartridge
AU6747300A (en) * 1999-07-14 2001-01-30 Aehr Test Systems Inc. Wafer-level burn-in and test cartridge and methods
US6562636B1 (en) 1999-07-14 2003-05-13 Aehr Test Systems Wafer level burn-in and electrical test system and method
US6318243B1 (en) 1999-08-31 2001-11-20 D. Kent Jones Two-piece piston assembly
US6255834B1 (en) 1999-10-21 2001-07-03 Dell Usa, L.P. Test fixture having a floating self-centering connector
US6358061B1 (en) 1999-11-09 2002-03-19 Molex Incorporated High-speed connector with shorting capability
JP2001166006A (ja) 1999-12-09 2001-06-22 Nec Corp フィクスチャおよびその実装基板接続方法
US7324019B2 (en) 2000-01-03 2008-01-29 Levenson David J Adjustable ergonomic keyboard for use with stationary palm and elements thereof
JP2001203244A (ja) 2000-01-19 2001-07-27 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体集積回路の検査方法、半導体集積回路の検査装置及びアライメント装置
JP2001242014A (ja) 2000-02-29 2001-09-07 Tokyo Electron Ltd 基板の温度測定方法および処理方法
US7262611B2 (en) 2000-03-17 2007-08-28 Formfactor, Inc. Apparatuses and methods for planarizing a semiconductor contactor
US6509751B1 (en) 2000-03-17 2003-01-21 Formfactor, Inc. Planarizer for a semiconductor contactor
JP2001313388A (ja) 2000-05-01 2001-11-09 Seiko Epson Corp 半導体装置およびその製造方法
DE10026121A1 (de) 2000-05-26 2001-11-29 Alstom Power Nv Vorrichtung zur Dämpfung akustischer Schwingungen in einer Brennkammer
ATE400800T1 (de) 2000-05-26 2008-07-15 Terraillon Holdings Ltd Waage
WO2002009155A2 (en) 2000-07-10 2002-01-31 Temptronic Corporation Wafer chuck having with interleaved heating and cooling elements
US20020005040A1 (en) 2000-07-13 2002-01-17 Moody Eugene I. Method of and system for heat recovery for an internal combustion engine
US6626290B2 (en) 2000-07-18 2003-09-30 Nexpak Corporation Storage container for recorded media
JP2002043381A (ja) 2000-07-19 2002-02-08 Tokyo Electron Ltd ウエハ温度制御装置
US6822469B1 (en) 2000-07-31 2004-11-23 Eaglestone Partners I, Llc Method for testing multiple semiconductor wafers
DE10042224C2 (de) 2000-08-28 2003-09-25 Infineon Technologies Ag Modultestsockel für Prüfadapter
JP2002151558A (ja) * 2000-08-31 2002-05-24 Seiko Epson Corp 半導体検査装置の製造方法および半導体検査装置、ならびに半導体装置の検査方法
JP2002090426A (ja) 2000-09-14 2002-03-27 Advantest Corp 半導体試験装置
JP2002111267A (ja) 2000-09-26 2002-04-12 Ando Electric Co Ltd 基板冷却装置
US6828810B2 (en) 2000-10-03 2004-12-07 Renesas Technology Corp. Semiconductor device testing apparatus and method for manufacturing the same
JP3857871B2 (ja) * 2000-11-06 2006-12-13 オリオン機械株式会社 半導体ウェーハ用検査装置
US6640610B2 (en) 2001-03-30 2003-11-04 Analog Devices, Inc. Automatic integrated mechanical and electrical angular motion detector test system
US8114489B2 (en) 2001-05-23 2012-02-14 The Regents Of The University Of California Composite material having low electromagnetic reflection and refraction
US6628897B2 (en) 2001-06-20 2003-09-30 Sony Corporation Camera system
JP4119104B2 (ja) 2001-07-12 2008-07-16 株式会社アドバンテスト ヒータ付プッシャ、電子部品ハンドリング装置および電子部品の温度制御方法
US20030023706A1 (en) 2001-07-14 2003-01-30 Zimmel Sheri L. Apparatus and method for optimizing telecommunications network design using weighted span classification and rerouting rings that fail to pass a cost therehold
US6512387B1 (en) 2001-07-31 2003-01-28 Agilent Technologies, Inc. Pressure-sensitive system and method of testing electronic device interconnections
US6817823B2 (en) 2001-09-11 2004-11-16 Marian Corporation Method, device and system for semiconductor wafer transfer
US6861859B1 (en) 2001-10-22 2005-03-01 Electroglas, Inc. Testing circuits on substrates
JP3543089B2 (ja) 2001-10-31 2004-07-14 株式会社コガネイ コンタクトユニット
KR100448913B1 (ko) 2002-01-07 2004-09-16 삼성전자주식회사 반도체 디바이스 테스트 시스템
US6628520B2 (en) 2002-02-06 2003-09-30 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Method, apparatus, and system for cooling electronic components
US7412049B1 (en) 2002-05-31 2008-08-12 At&T Delaware Intellectual Property, Inc. System and method for real-time blocking of a telephone call
JP3993027B2 (ja) 2002-06-04 2007-10-17 富士フイルム株式会社 デジタルカメラ及び撮影システム
US7694246B2 (en) 2002-06-19 2010-04-06 Formfactor, Inc. Test method for yielding a known good die
US6815966B1 (en) 2002-06-27 2004-11-09 Aehr Test Systems System for burn-in testing of electronic devices
KR20050024395A (ko) 2002-06-27 2005-03-10 에어 테스트 시스템즈 전자 장치의 번인 검사를 위한 시스템
US6867608B2 (en) * 2002-07-16 2005-03-15 Aehr Test Systems Assembly for electrically connecting a test component to a testing machine for testing electrical circuits on the test component
US6853209B1 (en) 2002-07-16 2005-02-08 Aehr Test Systems Contactor assembly for testing electrical circuits
AU2003249276A1 (en) 2002-07-16 2004-02-02 Aehr Test Systems Assembly for connecting a test device to an object to be tested
US8074649B2 (en) 2002-07-18 2011-12-13 Aeon Research And Technology, Inc. Endotracheal tube with feature for delivering aerosolized medication
JP3657250B2 (ja) 2002-09-03 2005-06-08 ホシデン株式会社 コネクタ
WO2004031732A2 (en) 2002-10-03 2004-04-15 The Board Of Trustees Of The University Of Arkansas Nanocrystals in ligand boxes exhibiting enhanced chemical, photochemical, and thermal stability, and methods of making the same
JP4659328B2 (ja) 2002-10-21 2011-03-30 東京エレクトロン株式会社 被検査体を温度制御するプローブ装置
US20040086579A1 (en) 2002-11-05 2004-05-06 Higgins James W. Dietary supplement comprising parthenolide
JP3820226B2 (ja) 2003-01-22 2006-09-13 オリオン機械株式会社 半導体ウェーハ用検査装置
ATE493666T1 (de) 2003-01-28 2011-01-15 Intest Corp Handgelenk zum anbringen eines testkopfes
US7400264B2 (en) 2003-02-14 2008-07-15 Energy Technology Group, Inc. Automated meter reading system, communication and control network for automated meter reading, meter data collector, and associated methods
US7235964B2 (en) 2003-03-31 2007-06-26 Intest Corporation Test head positioning system and method
US6998862B2 (en) 2003-04-28 2006-02-14 Micron Technology, Inc. Test socket for semiconductor components having serviceable nest
US7131040B2 (en) 2003-05-12 2006-10-31 Kingston Technology Corp. Manifold-Distributed Air Flow Over Removable Test Boards in a Memory-Module Burn-In System With Heat Chamber Isolated by Backplane
JP2004363558A (ja) 2003-05-13 2004-12-24 Toshiba Corp 半導体装置の製造方法およびプラズマエッチング装置のクリーニング方法
FR2855776B1 (fr) 2003-06-05 2005-07-22 Prospection & Inventions Perche de tele actionnement d'un outil a main
EP1649125A1 (de) 2003-07-29 2006-04-26 Hoedtke GmbH & Co. KG Schiebetür mit einer führung für ein türblatt
CA2537141A1 (en) 2003-09-02 2005-03-10 Merck And Co., Inc. Bipyridyl amines and ethers as modulators of metabotropic glutamate receptor-5
US6891132B2 (en) 2003-10-09 2005-05-10 Micro Control Company Shutters for burn-in-board connector openings
US20050111944A1 (en) 2003-11-25 2005-05-26 Marc Aho Compact wafer handling system with single axis robotic arm and prealigner-cassette elevator
US6994563B2 (en) 2003-12-19 2006-02-07 Lenovo (Singapore) Pte. Ltd. Signal channel configuration providing increased capacitance at a card edge connection
US7260303B2 (en) 2004-01-02 2007-08-21 Finisar Corporation Systems, devices and methods for thermal testing of an optoelectronic module
US6876321B1 (en) 2004-02-06 2005-04-05 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Pulse descriptor word collector
JP2005265786A (ja) 2004-03-22 2005-09-29 Seiko Epson Corp 押圧方法、押圧装置、icハンドラ及びic検査装置
US7697260B2 (en) 2004-03-31 2010-04-13 Applied Materials, Inc. Detachable electrostatic chuck
JP2006032593A (ja) 2004-07-15 2006-02-02 Renesas Technology Corp プローブカセット、半導体検査装置および半導体装置の製造方法
TWI240110B (en) 2004-07-15 2005-09-21 Au Optronics Corp A liquid crystal display and method thereof
US7043189B2 (en) 2004-07-20 2006-05-09 Lexmark International, Inc. Methods and devices for moving waste toner within an image forming device
EP1622009A1 (en) 2004-07-27 2006-02-01 Texas Instruments Incorporated JSM architecture and systems
US7108517B2 (en) 2004-09-27 2006-09-19 Wells-Cti, Llc Multi-site chip carrier and method
JP2006098064A (ja) * 2004-09-28 2006-04-13 Elpida Memory Inc プローブカード
JPWO2006038257A1 (ja) 2004-09-30 2008-05-15 株式会社ルネサステクノロジ 半導体装置の製造方法
US8306821B2 (en) 2004-10-26 2012-11-06 Qnx Software Systems Limited Sub-band periodic signal enhancement system
JP3945527B2 (ja) 2004-11-30 2007-07-18 住友電気工業株式会社 ウェハプローバ用ウェハ保持体およびそれを搭載したウェハプローバ
US7053644B1 (en) 2004-12-15 2006-05-30 Aehr Test Systems System for testing and burning in of integrated circuits
EP1828677B1 (en) 2004-12-23 2015-10-14 Nualight Limited Display cabinet illumination
JP4145293B2 (ja) 2004-12-28 2008-09-03 株式会社ルネサステクノロジ 半導体検査装置および半導体装置の製造方法
US7245134B2 (en) 2005-01-31 2007-07-17 Formfactor, Inc. Probe card assembly including a programmable device to selectively route signals from channels of a test system controller to probes
DE102005005101A1 (de) 2005-02-04 2006-08-17 Infineon Technologies Ag Testsystem zum Testen von integrierten Schaltungen sowie ein Verfahren zum Konfigurieren eines Testsystems
CN101137947A (zh) 2005-03-04 2008-03-05 天普桑尼克公司 卡盘系统中用于控制温度的装置和方法
JP2008537322A (ja) 2005-03-04 2008-09-11 テンプトロニック コーポレイション チャックシステムにおける温度制御のための装置および方法
TWI372749B (en) 2005-03-10 2012-09-21 Theravance Inc Crystalline forms of a biphenyl compound
US7285968B2 (en) 2005-04-19 2007-10-23 Formfactor, Inc. Apparatus and method for managing thermally induced motion of a probe card assembly
EP2273279A1 (en) * 2005-04-27 2011-01-12 Aehr Test Systems, Inc. Apparatus for testing electronic devices
US7492765B2 (en) 2005-06-15 2009-02-17 Cisco Technology Inc. Methods and devices for networking blade servers
US7620139B2 (en) 2005-06-30 2009-11-17 Global Nuclear Fuel - Americas, Llc Method of improving nuclear reactor performance during reactor core operation
JP4602181B2 (ja) 2005-07-19 2010-12-22 株式会社シスウェーブ 半導体検査用ソケット
WO2007010610A1 (ja) 2005-07-21 2007-01-25 Advantest Corporation プッシャ、プッシャユニットおよび半導体試験装置
JP2007042911A (ja) 2005-08-04 2007-02-15 Sumitomo Electric Ind Ltd ウェハ保持体およびそれを搭載したウェハプローバ
US7851945B2 (en) 2005-08-08 2010-12-14 Hewlett-Packard Development Company, L.P. System and method of providing power
JP2007073762A (ja) * 2005-09-07 2007-03-22 Matsushita Electric Ind Co Ltd バーンイン検査における引き離し方法及びバーンイン検査に用いるアライメント装置
CN101325894B (zh) 2005-12-12 2010-12-29 皇家飞利浦电子股份有限公司 用于产生局部光的光系统和方法
US20070273216A1 (en) 2006-05-24 2007-11-29 Farbarik John M Systems and Methods for Reducing Power Losses in a Medical Device
US7557592B2 (en) 2006-06-06 2009-07-07 Formfactor, Inc. Method of expanding tester drive and measurement capability
JP4724060B2 (ja) 2006-06-30 2011-07-13 株式会社東芝 磁気ディスク装置
US7826995B2 (en) * 2006-09-14 2010-11-02 Aehr Test Systems Apparatus for testing electronic devices
DE102006048740A1 (de) 2006-10-12 2008-04-17 Henkel Kgaa Tönungsschaum
US7646093B2 (en) 2006-12-20 2010-01-12 Intel Corporation Thermal management of dies on a secondary side of a package
JP2008166306A (ja) 2006-12-26 2008-07-17 Stk Technology Co Ltd 半導体デバイスの検査装置
TWI439709B (zh) 2006-12-29 2014-06-01 Intest Corp 用於使負載沿平移軸線平移之操縱器與負載定位系統
JP2008185403A (ja) 2007-01-29 2008-08-14 Advantest Corp 試験装置
KR100843273B1 (ko) 2007-02-05 2008-07-03 삼성전자주식회사 반도체 패키지를 테스트하기 위한 테스트 소켓 및 이를구비하는 테스트 장치, 반도체 패키지를 테스트하는 방법
MY152599A (en) 2007-02-14 2014-10-31 Eles Semiconductor Equipment S P A Test of electronic devices at package level using test boards without sockets
EP2132580B1 (en) * 2007-04-05 2014-05-21 AEHR Test Systems Method of testing a microelectronic circuit
US20090001528A1 (en) 2007-06-27 2009-01-01 Henning Braunisch Lowering resistance in a coreless package
US7862730B2 (en) 2007-07-10 2011-01-04 M-I L.L.C. Systems and methods for separating hydrocarbons from water
US8531202B2 (en) 2007-10-11 2013-09-10 Veraconnex, Llc Probe card test apparatus and method
US20120022915A1 (en) 2007-10-23 2012-01-26 Pierre Carion Method and system for collection and use of wireless application activity information
US7800382B2 (en) * 2007-12-19 2010-09-21 AEHR Test Ststems System for testing an integrated circuit of a device and its method of use
JP5088167B2 (ja) 2008-02-22 2012-12-05 東京エレクトロン株式会社 プローブ装置、プロービング方法及び記憶媒体
CA2720398C (en) 2008-04-02 2016-08-16 Twilio Inc. System and method for processing telephony sessions
JP5173660B2 (ja) 2008-08-04 2013-04-03 株式会社フジクラ 光ファイバ用母材の製造方法
JP5538697B2 (ja) 2008-09-10 2014-07-02 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置のテスト方法
KR101148832B1 (ko) 2008-10-29 2012-05-31 가부시키가이샤 아드반테스트 전자 디바이스용 열 제어기
JP2010151794A (ja) 2008-11-27 2010-07-08 Panasonic Corp 電子部品試験装置
US8030957B2 (en) * 2009-03-25 2011-10-04 Aehr Test Systems System for testing an integrated circuit of a device and its method of use
JP5391776B2 (ja) 2009-03-27 2014-01-15 富士通株式会社 ヒートシンク
US7969175B2 (en) * 2009-05-07 2011-06-28 Aehr Test Systems Separate test electronics and blower modules in an apparatus for testing an integrated circuit
US8267180B2 (en) 2009-07-02 2012-09-18 Baker Hughes Incorporated Remotely controllable variable flow control configuration and method
JP2011035724A (ja) 2009-08-03 2011-02-17 Canon Inc 情報処理装置、データ処理方法およびプログラム
JP4482616B1 (ja) 2009-08-07 2010-06-16 株式会社アドバンテスト 試験装置および試験方法
US8465327B2 (en) 2009-11-02 2013-06-18 Apple Inc. High-speed memory connector
CA2689868A1 (en) 2010-01-08 2011-07-08 Daniel Baroux Hockey sticks and method of manufacture thereof
KR101641108B1 (ko) 2010-04-30 2016-07-20 삼성전자주식회사 디버깅 기능을 지원하는 타겟 장치 및 그것을 포함하는 테스트 시스템
US8279606B2 (en) 2010-05-07 2012-10-02 Dell Products L.P. Processor loading system including a heat dissipater
US8958270B2 (en) 2010-07-07 2015-02-17 California Institute Of Technology Monolithic flexure pre-stressed ultrasonic horns
US8057263B1 (en) 2010-07-12 2011-11-15 Tyco Electronics Corporation Edge connectors having stamped signal contacts
US8454105B2 (en) 2010-07-15 2013-06-04 James M. Smelser Automated beam marker
DE102010032866A1 (de) 2010-07-30 2012-02-02 Profil Verbindungstechnik Gmbh & Co. Kg Selbststanzendes Mutterelement und Zusammenbauteil bestehend aus dem Mutterelement und einem Blechteil
US8472190B2 (en) 2010-09-24 2013-06-25 Ati Technologies Ulc Stacked semiconductor chip device with thermal management
US8465312B2 (en) 2010-12-07 2013-06-18 Centipede Systems, Inc. Socket cartridge and socket cartridge assembly
KR101228207B1 (ko) 2010-12-08 2013-01-30 세크론 주식회사 반도체 소자 테스트용 푸싱 기구 및 이를 포함하는 테스트 핸들러
KR20120102451A (ko) 2011-03-08 2012-09-18 삼성전자주식회사 테스트 인터페이스 보드 및 이를 포함하는 테스트 시스템
JP5851878B2 (ja) 2012-02-21 2016-02-03 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体モジュールの製造方法
KR20140000855A (ko) 2012-06-26 2014-01-06 삼성전자주식회사 테스트 인터페이스 보드 및 테스트 시스템
WO2014001528A1 (en) 2012-06-29 2014-01-03 Eles Semiconductor Equipment S.P.A. Test board with local thermal conditioning elements
JP5675722B2 (ja) 2012-07-23 2015-02-25 東芝テック株式会社 認識辞書処理装置及び認識辞書処理プログラム
US20140125371A1 (en) 2012-11-05 2014-05-08 Hermes Testing Solutions Inc. Stand alone multi-cell probe card for at-speed functional testing
JP5737536B2 (ja) 2013-11-21 2015-06-17 株式会社東京精密 プローバ
US10297339B2 (en) 2014-02-19 2019-05-21 Advantest Corporation Integrated cooling system for electronics testing apparatus
US9594113B2 (en) 2014-02-21 2017-03-14 Sensata Technologies, Inc. Package on package thermal forcing device
TWM480762U (zh) 2014-03-12 2014-06-21 Chroma Ate Inc 具散熱模組之堆疊封裝構造測試裝置
CA2897309C (en) 2014-07-14 2017-08-22 Lavelle Industries, Inc. Toilet flapper valve with adjustable mounts and assembly
KR102433967B1 (ko) 2014-11-28 2022-08-22 (주)테크윙 전자부품 테스트용 핸들러
JP6447553B2 (ja) 2016-03-18 2019-01-09 株式会社東京精密 プローバ
WO2017210108A1 (en) 2016-06-02 2017-12-07 Kes Systems, Inc. System and methods for semiconductor burn-in test
US9911678B2 (en) 2016-06-13 2018-03-06 Qorvo Us, Inc. Substrate with integrated heat spreader

Also Published As

Publication number Publication date
JP5635586B2 (ja) 2014-12-03
US10401385B2 (en) 2019-09-03
SG10201801948WA (en) 2018-04-27
JP6239714B2 (ja) 2017-11-29
US20170176492A1 (en) 2017-06-22
SG10202108629YA (en) 2021-09-29
US20110316577A1 (en) 2011-12-29
EP2411819A1 (en) 2012-02-01
US20210364549A1 (en) 2021-11-25
JP2017022403A (ja) 2017-01-26
US20100244866A1 (en) 2010-09-30
JP6013423B2 (ja) 2016-10-25
US8030957B2 (en) 2011-10-04
SG174890A1 (en) 2011-11-28
US11112429B2 (en) 2021-09-07
US20150109011A1 (en) 2015-04-23
WO2010111526A1 (en) 2010-09-30
JP2018032873A (ja) 2018-03-01
US9625521B2 (en) 2017-04-18
US11592465B2 (en) 2023-02-28
JP2015053500A (ja) 2015-03-19
US11977098B2 (en) 2024-05-07
US20180113150A1 (en) 2018-04-26
US9880197B2 (en) 2018-01-30
US8947116B2 (en) 2015-02-03
US20230168277A1 (en) 2023-06-01
JP2012522381A (ja) 2012-09-20
SG10201912223SA (en) 2020-02-27
SG10201400838PA (en) 2014-07-30
US20190339303A1 (en) 2019-11-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6465947B2 (ja) デバイスの集積回路を試験するためのシステム及びその使用方法
JP5085534B2 (ja) 電子デバイスを試験するための装置
US20220373595A1 (en) System for testing an integrated circuit of a device and its method of use

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20180809

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20180820

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20181116

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20181210

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20190108

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6465947

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250