JP2004266278A - 上昇されたソース/ドレーン構造を有するmosトランジスタ及びこの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 トランジスタ及びこの製造方法は、ソース及びドレーン拡散領域を含み、チャンネル領域への不純物の拡散を緩和させるか、防止することができる。これは、前記下部基板上に形成されるエピタキシャル膜内に前記上昇されたソース及びドレーン拡張領域を具備することにより達成される。従って、有効チャンネルの長さが増加され、同時に不純物がチャンネル領域内に拡散されることが制限される。このような理由で、トランジスタの動作特性は、前記ソース/ドレーン拡張領域、ソース/ドレーン領域、チャンネル幅及び前記下部基板内に形成される選択的なトレンチなどの相対的なサイズ(即ち、深さ及び幅)を調節することにより正確に決定することができる。多様な実施例において、前記ソース/ドレーン領域及びソース/ドレーン拡張領域は、部分的に又は十分に前記エピタキシャル膜を通過するか、又は前記下部基板まで延長されることができる。
【選択図】 図3
Description
102、202、302 半導体基板
106a、206a、306a ソース拡張領域
106b、206b、306b ドレーン拡張領域
110、210 ゲート構造物
112、212 ゲート絶縁膜
114、214 ゲート電極
118 絶縁スペーサ
120a、120b、120c シリサイド領域
304 素子分離膜
330 ダミーゲート電極
702 SOI基板
Claims (92)
- 基板上に犠牲ゲートパターンを提供する段階と、
前記犠牲ゲートパターンに隣接した基板上にエピタキシャル膜を提供する段階と、
前記犠牲ゲートパターンに隣接した前記エピタキシャル膜上に第1絶縁膜及び第2絶縁膜を提供する段階と、
前記基板の部位及び前記エピタキシャル膜の側壁が露出されるように前記犠牲ゲートパターンを除去する段階と、
前記基板の露出された部位の上部面及びエピタキシャル膜の側壁に沿ってゲート絶縁膜を提供する段階と、
前記ゲート絶縁膜上にゲート電極を提供する段階と、
前記第2絶縁膜及び第1絶縁膜を除去する段階と、
前記ゲート電極をマスクとして前記ゲート絶縁膜と隣接するエピタキシャル膜内にソース/ドレーン拡張領域を形成するために、前記エピタキシャル膜内に不純物をドーピングする段階と、
前記ゲート電極の上部面の側壁上に絶縁スペーサを形成する段階と、
前記ゲート電極及びスペーサをマスクとして前記ソース/ドレーン拡張領域に隣接するディープソース/ドレーン領域を形成するために、前記エピタキシャル膜内に不純物をドーピングする段階と、
を含むことを特徴とする上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタの製造方法。 - 前記ソース/ドレーン拡張領域は、前記エピタキシャル膜上にシリコン窒化膜及びシリコン酸化膜を提供する前に前記エピタキシャル膜に不純物をドーピングして形成することを特徴とする請求項1記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタの製造方法。
- 前記犠牲ゲートパターンを提供する段階は、順次シリコン酸化膜及びシリコン窒化膜を形成し、前記犠牲ゲートパターンを形成するために、前記膜をパターニングする段階を含むことを特徴とする請求項1記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタの製造方法。
- 前記半導体基板は、シリコン、シリコン−オン−インシュレーター(SOI)、シリコンゲルマニウム、シリコンゲルマニウム−オン−インシュレーター(SGOI)、ストレインドシリコン、ストレインドシリコン−オン−インシュレーター、及びGaAsからなる群より選択された形態であることを特徴とする請求項1記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタの製造方法。
- 前記エピタキシャル膜上にパッド酸化膜を形成する段階を更に行うことを特徴とする請求項1記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタの製造方法。
- 前記犠牲ゲートパターンと隣接するエピタキシャル膜上に第1絶縁膜及び第2絶縁膜を提供する段階は、
前記エピタキシャル膜及び前記犠牲ゲートパターン上に順次シリコン窒化膜及びシリコン酸化膜を提供する段階と、
前記犠牲ゲートパターンの上部表面が露出されるように前記シリコン窒化膜、シリコン酸化膜、及び犠牲ゲートパターンを平坦化する段階と、
を含むことを特徴とする請求項1記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタの製造方法。 - 前記平坦化は、化学機械的研磨工程又は全面エッチバック工程による平坦化を含むことを特徴とする請求項6記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタの製造方法。
- 前記犠牲ゲートパターンの除去は、前記基板の上部表面が露出されるように前記犠牲ゲートパターンをエッチングして行われることを特徴とする請求項1記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタの製造方法。
- 前記犠牲ゲートパターンの除去は、前記基板内にリセスが形成されるように前記犠牲ゲートパターンをエッチングして行われることを特徴とする請求項1記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタの製造方法。
- 前記ゲート絶縁膜の提供は、前記基板のリセス内の底及び側壁上にも前記ゲート絶縁膜を提供して成ることを特徴とする請求項9記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタの製造方法。
- 前記リセスの深さは、50nm以下であることを特徴とする請求項9記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタの製造方法。
- 前記基板の露出された部位にチャンネル領域を形成するための不純物をドーピングする段階は、前記犠牲ゲートパターンを除去した後に更に行うことを特徴とする請求項1記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタの製造方法。
- 前記基板のチャンネル領域に不純物をドーピングする段階は、前記基板上に犠牲ゲートパターンを提供する前に行うことを特徴とする請求項1記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタの製造方法。
- 前記ゲート絶縁膜は、シリコン酸化物、シリコン酸化窒化物、チタニウム窒化物、及び高誘電定数物質で構成される群より選択された一つの物質を含むことを特徴とする請求項1記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタの製造方法。
- 前記ゲート絶縁膜を提供する段階は、蒸着又は熱酸化工程を用いて形成する段階を含むことを特徴とする請求項1記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタの製造方法。
- 前記ゲート電極を提供する段階は、
前記ゲート絶縁膜及び第2絶縁膜上にゲート電極膜を形成する段階と、
前記ゲート電極膜及び第2絶縁膜を平坦化する段階と、
を行うことを特徴とする請求項1記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタの製造方法。 - 前記平坦化は、化学機械的研磨工程又は全面エッチバック工程による平坦化を含むことを特徴とする請求項16記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタの製造方法。
- 前記ゲート電極は、ポリシリコン膜、シリコンゲルマニウム膜、シリサイド膜、金属膜、及びこれらの積層膜で構成される物質群より選択された物質からなることを特徴とする請求項1記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタの製造方法。
- 前記第2絶縁膜及び第1絶縁膜の除去は、ウェットエッチング工程を用いて除去する工程を含むことを特徴とする請求項1記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタの製造方法。
- 前記ゲート電極の上部側面上に絶縁膜スペーサを提供する段階は、
該段階よりも前の段階までに形成された結果構造物上にシリコン窒化膜を提供する段階と、
前記シリコン窒化膜を異方性エッチングする段階と、
を含むことを特徴とする請求項1記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタの製造方法。 - 前記シリコン窒化膜を提供する前に、前記結果構造物上にシリコン酸化バッファー膜を更に提供することを特徴とする請求項20記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタの製造方法。
- ソース/ドレーン領域及びゲート電極上にシリサイド膜を形成する段階を更に行うことを特徴とする請求項1記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタの製造方法。
- 前記シリサイド膜は、コバルト、ニッケル、タングステン、チタニウム、及びこれらの積層膜で構成される群より選択された物質を含むことを特徴とする請求項22記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタの製造方法。
- 前記ソース/ドレーン拡張領域の深さは、前記ディープソース/ドレーンの深さよりも浅いことを特徴とする請求項1記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタの製造方法。
- 前記ディープソース/ドレーン領域は、前記基板まで延長されることを特徴とする請求項1記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタの製造方法。
- 前記ソース/ドレーン拡張領域は、前記基板まで延長されることを特徴とする請求項1記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタの製造方法。
- 基板上に形成されたゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上に形成されたゲート電極と、
前記基板上に前記ゲート絶縁膜に隣接して具備されたエピタキシャル膜と、
前記ゲート電極の下部で、前記ゲート絶縁膜に隣接したエピタキシャル膜内に具備される第1ソース/ドレーン領域と、
前記ゲート電極の上部で、エピタキシャル膜上に形成された絶縁スペーサと、
を含むことを特徴とする上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。 - 前記ゲート絶縁膜は、前記ゲート電極の下部分及び底部分に沿って延長されたことを特徴とする請求項27記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。
- 前記第1ソース/ドレーン領域は、不純物をエピタキシャル膜内に注入して形成されたことを特徴とする請求項27記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。
- 前記ゲート電極と向かい合う第1ソース/ドレーン領域と隣接して第2ソース/ドレーン領域を更に含むことを特徴とする請求項27記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。
- 前記第2ソース/ドレーン領域は、マスクとしてゲート電極及び絶縁スペーサを用いて露出された表面に不純物をドーピングして形成されたことを特徴とする請求項30記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。
- 前記第1ソース/ドレーン領域は、ソース/ドレーン拡張領域を含み、前記第2ソース/ドレーン領域は、ディープソース/ドレーン領域を含むことを特徴とする請求項30記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。
- 前記第1ソース/ドレーン領域の深さは、前記第2ソース/ドレーンの深さよりも浅いことを特徴とする請求項30記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。
- 前記第2ソース/ドレーン領域は、基板部位まで延長されたことを特徴とする請求項30記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。
- 前記第1ソース/ドレーン領域は、基板部位まで延長されたことを特徴とする請求項30記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。
- 前記基板は、シリコン、シリコン−オン−インシュレーター(SOI)、シリコンゲルマニウム、シリコンゲルマニウム−オン−インシュレーター(SGOI)、ストレインドシリコン、ストレインドシリコン−オン−インシュレーター、及びGaAsで構成される群より選択された形態に形成されたことを特徴とする請求項27記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。
- 前記エピタキシャル膜は、シリコン又はシリコンゲルマニウムからなることを特徴とする請求項27記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。
- 前記ゲート絶縁膜及びゲート電極は、前記基板の上部面内に形成されたトレンチまで延長されたことを特徴とする請求項27記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。
- 前記トレンチの深さは、50nm以下であることを特徴とする請求項38記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。
- 前記ゲート電極の下及び前記ゲート電極の下部側面部位と隣接した基板内にチャンネル領域が更に具備されたことを特徴とする請求項27記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。
- 前記ゲート絶縁膜は、シリコン酸化物、シリコン酸化窒化物、チタニウム窒化物、及び高誘電定数物質からなる群より選択された一つの物質を含むことを特徴とする請求項27記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタの製造方法。
- 前記ゲート絶縁膜は、蒸着又は熱酸化工程を用いて形成されたことを特徴とする請求項27記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。
- 前記ゲート電極は、ポリシリコン膜、シリコンゲルマニウム膜、シリサイド膜、金属膜、及びこれらの積層膜からなる群より選択された物質で構成されることを特徴とする請求項27記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。
- 前記ゲート電極と絶縁スペーサとの間にシリコン酸化バッファー膜を更に含むことを特徴とする請求項27記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。
- 前記ソース/ドレーン領域及びゲート電極上にシリサイド膜を更に含むことを特徴とする請求項27記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。
- 前記シリサイド膜は、コバルト、ニッケル、タングステン、チタニウム、及びこれらの積層膜で構成される群より選択された物質からなることを特徴とする請求項45記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。
- 基板上に形成されたゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上に、前記ゲート絶縁膜がパターンの底部及び下部側面部にかけて延長されるように形成されるゲート電極と、
前記基板上に前記ゲート絶縁膜に隣接して具備されたエピタキシャル膜と、
前記ゲート電極の下部で、前記ゲート絶縁膜に隣接したエピタキシャル膜内に具備される第1ソース/ドレーン領域と、
前記ゲート電極と向かい合う第1ソース/ドレーン領域と隣接した部位のエピタキシャル膜内に形成される第2ソース/ドレーン領域と、
を含むことを特徴とする上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。 - 前記第1ソース/ドレーン領域は、不純物をエピタキシャル膜内に注入して形成されたことを特徴とする請求項47記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。
- 前記ゲート電極の上部面部位のエピタキシャル膜上には絶縁スペーサを含み、第2ソース/ドレーン領域は、前記ゲート電極及び絶縁スペーサをマスクとして用いて不純物を露出された表面上にドーピングさせて形成されたことを特徴とする請求項47記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。
- 前記第1ソース/ドレーン領域は、ソース/ドレーン拡張領域を含み、前記第2ソース/ドレーン領域は、ディープソース/ドレーン領域を含むことを特徴とする請求項49記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。
- 前記基板は、シリコン、シリコン−オン−インシュレーター(SOI)、シリコンゲルマニウム、シリコンゲルマニウム−オン−インシュレーター(SGOI)、ストレインドシリコン、ストレインドシリコン−オン−インシュレーター、及びGaAsで構成される群より選択された形態であることを特徴とする請求項47記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。
- 前記第1ソース/ドレーン領域は、前記エピタキシャル領域内に第1深さに形成され、前記第2ソース/ドレーン領域は、第2深さに形成され、前記第1深さは第2深さよりも浅いことを特徴とする請求項47記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。
- 前記第2ソース/ドレーン領域は、基板部位まで延長されたことを特徴とする請求項47記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。
- 上部にトレンチを有する基板と、
前記トレンチに沿って具備されたゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上に形成され、前記トレンチまで延長され、前記ゲート絶縁膜がパターンの底部及び側面下部に沿って延長されるように具備されたゲート電極と、
前記基板上に前記ゲート絶縁膜に隣接して具備されたエピタキシャル膜と、
前記ゲート電極の下部側面部位で前記ゲート絶縁膜に隣接したエピタキシャル膜内に具備される第1ソース/ドレーン領域と、
前記ゲート電極と向かい合う第1ソース/ドレーンに隣接して具備される第2ソース/ドレーン領域と、
を含むことを特徴とする上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。 - 前記第1ソース/ドレーン領域は、前記エピタキシャル膜に不純物をドーピングして形成されたことを特徴とする請求項54記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。
- 前記ゲート電極の上部側面部位のエピタキシャル膜上には、絶縁スペーサを含み、第2ソース/ドレーン領域は、前記ゲート電極及び絶縁スペーサをマスクとして用いて露出された表面上に不純物をドーピングさせて形成されたことを特徴とする請求項54記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。
- 前記第1ソース/ドレーン領域は、ソース/ドレーン拡張領域を含み、前記第2ソース/ドレーン領域は、ディープソース/ドレーン領域を含むことを特徴とする請求項56記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。
- 前記基板は、シリコン、シリコン−オン−インシュレーター(SOI)、シリコンゲルマニウム、シリコンゲルマニウム−オン−インシュレーター(SGOI)、ストレインドシリコン、ストレインドシリコン−オン−インシュレーター、及びGaAsで構成される群より選択された形態であることを特徴とする請求項54記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。
- 前記第1ソース/ドレーン領域は、前記エピタキシャル領域内に第1深さに形成され、前記第2ソース/ドレーン領域は、第2深さに形成され、前記第1深さは第2深さよりも浅いことを特徴とする請求項54記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。
- 前記第2ソース/ドレーン領域は、基板部位まで延長されたことを特徴とする請求項54記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。
- 前記第1ソース/ドレーン領域は、基板部位まで延長されたことを特徴とする請求項54記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。
- 基板上に具備されるゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上に、前記ゲート絶縁膜がパターンの底部及び下部側面に沿って延長されるように具備されるゲート電極と、
前記ゲート絶縁膜に隣接する基板上に具備されるエピタキシャル膜と、
前記ゲート電極の下部側面でゲート絶縁膜に隣接する前記エピタキシャル膜内に具備され、前記エピタキシャル膜に不純物をドーピングして形成されるソース/ドレーン拡張領域と、
前記ゲート電極の上部側面で前記エピタキシャル膜上に具備される絶縁スペーサと、
前記ゲート電極と向かい合う前記ソース/ドレーン拡張領域に隣接して具備され、前記ゲート電極及び絶縁スペーサをマスクとして用いて不純物をエピタキシャル膜内にドーピングさせて形成されるディープソース/ドレーン領域と、
を含むことを特徴とする上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。 - 前記基板は、シリコン、シリコン−オン−インシュレーター(SOI)、シリコンゲルマニウム、シリコンゲルマニウム−オン−インシュレーター(SGOI)、ストレインドシリコン、ストレインドシリコン−オン−インシュレーター、及びGaAsで構成される群より選択された形態であることを特徴とする請求項62記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。
- 前記ディープソース/ドレーン領域は、エピタキシャル膜下の基板まで延長されたことを特徴とする請求項62記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。
- 前記ソース/ドレーン拡張領域は、基板部位まで延長されたことを特徴とする請求項62記載のソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。
- 前記ゲート電極は、前記基板の上部に形成されたトレンチまで延長されたことを特徴とする請求項62記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。
- 上部にトレンチを有する基板と、
前記トレンチに沿って具備された絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上に形成され、前記トレンチまで延長され、前記ゲート絶縁膜がパターンの底部及び側面下部に沿って延長されるゲート電極と、
前記基板上に前記ゲート絶縁膜に隣接して具備されたエピタキシャル膜と、
前記ゲート電極下部側面で前記ゲート絶縁膜と隣接するエピタキシャル膜内に具備され、前記エピタキシャル膜内に不純物をドーピングして形成されるソース/ドレーン拡張領域と、
前記ゲート電極の上部側面でエピタキシャル膜上に具備される絶縁スペーサと、
前記ゲート電極と向かい合うソース/ドレーン拡張領域に隣接して具備され、前記ゲート電極及び絶縁スペーサをマスクとして前記エピタキシャル膜内に不純物をドーピングして形成されるディープソース/ドレーン領域と、
を含むことを特徴とする上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。 - 前記基板は、シリコン、シリコン−オン−インシュレーター(SOI)、シリコンゲルマニウム、シリコンゲルマニウム−オン−インシュレーター(SGOI)、ストレインドシリコン、ストレインドシリコン−オン−インシュレーター、及びGaAsで構成される群より選択された形態であることを特徴とする請求項67記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。
- 前記ディープソース/ドレーン領域は、エピタキシャル膜下の基板まで延長されたことを特徴とする請求項67記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。
- 前記ソース/ドレーン拡張領域は、前記エピタキシャル膜下の基板部位まで延長されたことを特徴とする請求項67記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。
- 前記トレンチの深さは、50nm以下であることを特徴とする請求項67記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。
- 基板上に具備されるゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上に形成され、前記ゲート絶縁膜が底部及び側面下部に沿って延長されるように具備されるゲート電極と、
前記基板上に前記ゲート絶縁膜に隣接して具備されるエピタキシャル膜と、
前記ゲート電極の下部で、前記ゲート絶縁膜に隣接したエピタキシャル膜内に具備される第1ソース/ドレーン領域と、
を含むことを特徴とする上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。 - 前記ゲート電極の上部面でエピタキシャル膜上に絶縁スペーサを具備することを特徴とする請求項72記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。
- 前記ゲート絶縁膜は、前記ゲート電極の底部及び下部側面部位に沿って延長されたことを特徴とする請求項72記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。
- 前記第1ソース/ドレーン領域は、前記エピタキシャル膜内に不純物をドーピングして形成されたことを特徴とする請求項72記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。
- 前記ゲート電極と向かい合う第1ソース/ドレーン領域に隣接する第2ソース/ドレーン領域を更に含むことを特徴とする請求項72記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。
- 前記第2ソース/ドレーン領域は、前記ゲート電極及び絶縁スペーサをマスクとして不純物を露出された表面にドーピングさせて形成されたことを特徴とする請求項76記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。
- 前記第1ソース/ドレーン領域は、ソース/ドレーン拡張領域を含み、第2ソース/ドレーン領域は、ディープソース/ドレーン領域を含むことを特徴とする請求項76記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。
- 前記第1ソース/ドレーン領域の深さは、前記第2ソース/ドレーン領域の深さよりも浅いことを特徴とする請求項76記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。
- 前記第2ソース/ドレーン領域は、基板部位まで延長されたことを特徴とする請求項76記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。
- 前記第1ソース/ドレーン領域は、基板部位まで延長されたことを特徴とする請求項76記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。
- 前記基板は、シリコン、シリコン−オン−インシュレーター(SOI)、シリコンゲルマニウム、シリコンゲルマニウム−オン−インシュレーター(SGOI)、ストレインドシリコン、ストレインドシリコン−オン−インシュレーター、及びGaAsで構成される群より選択された形態であることを特徴とする請求項72記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。
- 前記エピタキシャル膜は、シリコン又はシリコンゲルマニウムからなることを特徴とする請求項72記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。
- 前記ゲート絶縁膜及びゲート電極は、前記基板上部に形成されたトレンチまで延長されたことを特徴とする請求項72記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。
- 前記トレンチは、50nm以下の深さを有することを特徴とする請求項84記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。
- 前記ゲート電極底の下及び前記ゲート電極の下部側面部位と隣接する部位の基板内にチャンネル領域が具備されることを特徴とする請求項72記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。
- 前記ゲート絶縁膜は、シリコン酸化物、シリコン酸化窒化物、チタニウム窒化物、及び高誘電定数物質で構成される群より選択された一つの物質を含むことを特徴とする請求項72記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。
- 前記ゲート絶縁膜は、蒸着又は熱酸化工程により形成されることを特徴とする請求項72記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。
- 前記ゲート電極は、ポリシリコン膜、シリコンゲルマニウム膜、シリサイド膜、金属膜、及びこれらの積層膜で構成される物質群より選択された一つの物質を含むことを特徴とする請求項72記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。
- 前記ゲート電極と絶縁スペーサとの間にシリコン酸化バッファー膜を更に具備することを特徴とする請求項72記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。
- 前記ソース/ドレーン領域及び前記ゲート電極上にシリサイド膜を更に具備することを特徴とする請求項72記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。
- 前記シリサイド膜は、コバルト、ニッケル、タングステン、チタニウム、及びこれらの複合膜で構成される群より選択された物質を含むことを特徴とする請求項91記載の上昇されたソース/ドレーン構造を有するMOSトランジスタ。
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