JP2002534579A - バルク第ｖｉｉｉ族／第ｖｉｂ族触媒を用いる水素転化方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 バルク第ＶＩＩＩ族／第ＶＩＢ族触媒を用いる石油および化学原料材の水素転化処理。好ましい触媒には、Ｎｉ−Ｍｏ−Ｗからなるものが含まれる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】 関連出願の説明 本願は、米国特許出願第０８／９００，３８９号（１９９７年７月１５日出願
）の一部継続出願である米国特許出願第０９／２３１，１５６号（１９９９年１
月１５日出願）の一部継続出願である。

【０００２】 発明の分野 本発明は、バルク第ＶＩＩＩ族／第ＶＩＢ族触媒を用いる石油および化学原料
材の水素処理に関する。好ましい触媒には、Ｎｉ−Ｍｏ−Ｗからなるものが含ま
れる。

【０００３】 発明の背景 低硫黄、低窒素原油の供給量が減少するにつれて、製油所では、環境規制によ
り生成物中のこれらへテロ原子が低レベルに規制されると同時に、より高い硫黄
および窒素含有量の原油が処理されている。したがって、ますます効率的な脱硫
および脱窒素触媒が必要とされている。

【０００４】 一つには、ハイドロタルサイトに関連した化合物系（モリブデン酸アンモニウ
ムニッケルなど）が調製された。Ｘ線回折分析に依れば、ハイドロタルサイトは
、陽荷電シートの層状相、およびシート間の隙間に位置する交換性陰イオンから
なることが示されるのに対して、関連モリブデン酸アンモニウムニッケル相は、
層間隙間にオキシ水酸化ニッケルのシートと結合したモリブデン酸塩アニオンを
有する。例えば、Ｌｅｖｉｎ，Ｄ．、Ｓｏｌｅｄ，Ｓ．Ｌ．およびＹｉｎｇ，Ｊ
．Ｙ．著「Ｃｒｙｓｔａｌ Ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ ｏｆ ａｎ Ａｍｍｏｎｉｕ
ｍ Ｎｉｃｋｅｌ Ｍｏｌｙｂｄａｔｅ ｐｒｅｐａｒｅｄ ｂｙ Ｃｈｅｍｉ
ｃａｌ Ｐｒｅｃｉｐｉｔａｔｉｏｎ」（Ｉｎｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔ
ｒｙ、第３５巻、第１４号、第４１９１〜４１９７頁、１９９６年）参照。また
、これらの物質の調製は、ＴｅｉｃｈｎｅｒおよびＡｓｔｉｅｒ著「Ａｐｐｌ．
Ｃａｔａｌ．」（第７２号、第３２１〜２９頁、１９９１年）、「Ａｎｎ．
Ｃｈｉｍ．Ｆｒ．」（第１２号、第３３７〜４３頁、１９８７年）、および「Ｃ
．Ｒ．Ａｃａｄ． Ｓｃｉ．」（第３０４（ＩＩ）巻、＃１１、第５６３〜６頁
、１９８７年）ならびにＭａｚｚｏｃｃｈｉａ著「Ｓｏｌｉｄ Ｓｔａｔｅ Ｉ
ｏｎｉｃｓ」（第６３〜６５号、９９３年、第７３１〜３５頁）に報告された。

【０００５】 いまや、モリブデンが一部タングステンに置換された際に、非晶質相が生成し
、これは沈殿した際、好ましくは硫化された際に、非置換（Ｎｉ−Ｍｏ）相に比
べて水素化脱窒素（ＨＤＮ）の触媒活性が向上する。

【０００６】 発明の概要 本発明により、炭化水素原料材を水素処理する方法が提供される。すなわち、
方法には、上記の原料材を、少なくとも一種の第ＶＩＩＩ族金属および二種の第
ＶＩＢ族金属からなるバルク触媒と水素処理条件で接触させることが含まれる。
その際、触媒には、非貴金属第ＶＩＩＩ族モリブデン酸塩を含むバルク金属触媒
が含まれ、またバルク金属触媒においては、少なくとも一部分であるがすべてよ
り少ないモリブデンがタングステンと置換される。水素処理方法は、水素化脱硫
、水素化脱窒素、水素化脱金属、水素化脱芳香族、水素異性化、水素化脱ロウ、
水素化、水素精製および水素化分解の少なくとも一種から選択される。

【０００７】 本発明の特定の実施形態においては、潤滑油原料材の溶剤精製から製造される
ラフィネートを選択的に水素転化する方法が提供される。この方法は、 （ａ）潤滑油原料材を溶剤抽出域に導入し、それから芳香族リッチのエキストラ
クトおよびパラフィンリッチのラフィネートを分離する工程と、 （ｂ）ラフィネートを溶剤からストリッピングして、約８０〜約１０５の脱ロウ
油の粘度指数を有し、約６５０℃以下の終点を有するラフィネート原料を製造す
る工程と、 （ｃ）ラフィネート原料を第一の水素転化域に送り、ラフィネート原料をバルク
金属触媒の存在下に水素転化条件下で処理し、バルク金属触媒は、少なくとも一
部分であるがすべてより少ないモリブデンがタングステンにより置換された第Ｖ
ＩＩＩ族非貴金属モリブデン酸塩を含んで、第一の水素転化ラフィネートを製造
する工程と、 （ｄ）第一の水素転化ラフィネートを第二の反応域に送り、第一の水素転化ラフ
ィネートの低温水素仕上げを、水素仕上げ触媒の存在下に低温水素仕上げ条件下
で行う工程と、 を含む。

【０００８】 他の実施形態においては、潤滑油原料材の溶剤精製から製造されるラフィネー
トを選択的に水素転化する方法が提供され、この方法は、 （ａ）潤滑油原料材を溶剤抽出域に導入し、それから芳香族リッチのエキストラ
クトおよびパラフィンリッチのラフィネートを分離する工程と、 （ｂ）ラフィネートを溶剤からストリッピングして、約８０〜約１０５の脱ロウ
油の粘度指数を有し、約６５０℃以下の終点を有するラフィネート原料を製造す
る工程と、 （ｃ）ラフィネート原料を第一の水素転化域に送り、ラフィネート原料をバルク
金属触媒の存在下に水素転化条件下で処理し、バルク金属触媒は、少なくとも一
部分であるがすべてより少ないモリブデンがタングステンにより置換された非貴
金属第ＶＩＩＩ族モリブデン酸塩を含んで、第一の水素転化ラフィネートを製造
する工程と、 （ｄ）第一の水素転化域からの水素転化ラフィネートを第二の水素転化域に送り
、水素転化ラフィネートを、水素転化触媒の存在下に第二の水素転化ラフィネー
トを製造する水素転化条件下で処理する工程と、 （ｅ）第二の水素転化ラフィネートを水素仕上げ反応域に送り、第二の水素転化
ラフィネートの低温水素仕上げを、水素仕上げ触媒の存在下に低温水素仕上げ条
件下で行う工程と、 を含む。

【０００９】 さらに他の実施形態においては、潤滑油原料材の溶剤精製から製造されるラフ
ィネートを選択的に水素転化する方法が提供され、この方法は、 （ａ）潤滑油原料材を溶剤抽出域に導入し、それから芳香族リッチのエキストラ
クトおよびパラフィンリッチのラフィネートを分離する工程と、 （ｂ）ラフィネートを溶剤からストリッピングして、約８０〜約１０５の脱ロウ
油の粘度指数を有し、約６５０℃以下の終点を有するラフィネート原料を製造す
る工程と、 （ｃ）ラフィネート原料を第一の水素転化域に送り、ラフィネート原料を水素転
化触媒の存在下に水素転化条件下で処理して、第一の水素転化ラフィネートを製
造する工程と、 （ｄ）第一の水素転化域からの水素転化ラフィネートを第二の水素転化域に送り
、水素転化ラフィネートを、バルク金属触媒の存在下に水素転化条件下で処理し
、バルク金属触媒は、少なくとも一部分であるがすべてより少ないモリブデンが
タングステンにより置換された非貴金属第ＶＩＩＩ族モリブデン酸塩を含んで、
第二の水素転化ラフィネートを製造することする工程と、 （ｅ）第二の水素転化ラフィネートを水素仕上げ反応域に送り、第二の水素転化
ラフィネートの低温水素仕上げを、水素仕上げ触媒の存在下に低温水素仕上げ条
件下で行う工程と、 を含む。

【００１０】 本発明の他の実施形態においては、触媒組成物は、次の方法によって調製され
る。すなわち、方法には、第ＶＩＩＩ族非貴金属成分を、プロトン性液の存在下
に第ＶＩＢ族金属成分と接触させ、その際接触中に第ＶＩＢ族および／または第
ＶＩＩＩ族非貴金属は必ずしも溶解しないことが含まれる。

【００１１】 さらに、本発明の好ましい触媒組成物は、好ましくは使用前に硫化されるバル
ク混合金属酸化物として示されるであろう。これは次式 （Ｘ）_ｂ（Ｍｏ）_ｃ（Ｗ）_ｄＯ_ｚ （式中、Ｘは非貴金属の第ＶＩＩＩ族金属、好ましくはＮｉまたはＣｏ、特にＮ
ｉであり、モル比ｂ：（ｃ＋ｄ）は０．５／１〜３／１、好ましくは０．７５／
１〜１．５／１、より好ましくは０．７５／１〜１．２５／１である。）によっ
て表される。

【００１２】 モル比ｃ：ｄは好ましくは＞０．０１／１、より好ましくは＞０．１／１、さ
らにより好ましくは１／１０〜１０／１、さらにより好ましくは１／３〜３／１
、最も好ましくはＭｏおよびＷの実質的に等モル量（２／３〜３／２）であり、
ｚ＝［２ｂ＋６（ｃ＋ｄ）］／２である。

【００１３】 本質的に非晶質物質は、独特のＸ線回折パターンを有するが、これはｄ＝２．
５３オングストロームおよびｄ＝１．７０オングストロームに結晶ピークを示す
。

【００１４】 混合酸化物は、次式 （ＮＨ_４）_ａ（Ｘ）_ｂ（Ｍｏ）_ｃ（Ｗ）_ｄＯ_ｚ （式中、モル比ａ：ｂは≦１．０／１、好ましくは０−１である。そしてＸ、ｂ
、ｃ、およびｄは上記のようであり、またｚ＝［ａ＋２ｂ＋６（ｃ＋ｄ）］／２
である。前駆体はｄ＝２．５３およびｄ＝１．７０オングストロームに同様のピ
ークを有する。）の前駆体を沈殿させることにより容易に製造される。

【００１５】 前駆体の分解は、高温（例えば少なくとも約３００℃、好ましくは約３００〜
４５０℃の温度）で、適切な雰囲気下（例えば窒素、アルゴン、またはスチーム
などの不活性下）に、分解が実質的に完了するまで、すなわちアンモニアが実質
的に完全に放散されるまで行われるであろう。実質的に完全な分解は、熱重量分
析（ＴＧＡ）、すなわち重量変化曲線が横ばいになったことにより確認される。

【００１６】 好適な実施態様 本発明の触媒組成物は、実質的には全ての水素処理方法で用いられて、多数の
原料が広範囲の反応条件下に処理されるであろう。その条件とは、２００〜４５
０℃の温度、５〜３００バールの水素圧、０．０５〜１０ｈ^−１の液空間速度、
および３５．６〜１７８０ｍ^３／ｍ^３（２００〜１００００ＳＣＦ／Ｂ）の水素
処理ガス速度などである。用語「水素処理」には、炭化水素原料が上記の温度お
よび圧力で水素と反応するすべての方法が包含され、そして水素添加、水素化、
水素化脱硫、水素化脱窒素、水素化脱金属、水素化脱芳香族、水素異性化、水素
化脱ロウ、および選択的水素化分解を含む水素化分解が含まれる。水素処理およ
び反応条件のタイプによって、水素処理の生成物は、優れた粘性、粘度指数、飽
和含有量、低温特性、揮発性および減極性を示すであろう。水素処理の原料には
、抜頭原油、水素化分解生成物、ラフィネート、水素化油、常圧および減圧ガス
油、コーカガス油、常圧および減圧残油、脱瀝油、脱ロウ油、スラックワックス
、フィッシャー−トロプシュワックスおよびこれらの混合物が含まれる。本発明
の水素処理は、一つ以上の反応域で行われ、そして向流または並流モードのいず
れかで行われるであろうことは理解されるべきである。向流モードとは、原料流
が水素含処理ガスの流れに向流して流れるプロセスモードを意味する。

【００１７】 本発明の触媒組成物は、上記のように、水素処理に適した炭化水素原料を水素
化するのに特に適している。水素化の例には、不飽和物の水素添加、水素化脱硫
、水素化脱窒素、水素化脱芳香族および緩やかな水素化分解が含まれる。従来の
水素化処理条件には、２５０゜〜４５０℃の温度、５〜２５０バールの水素圧、
０．１〜１０ｈ^−１の液空間速度、および９０〜１７８０ｍ^３／ｍ^３（５００〜
１００００ＳＣＦ／Ｂ）の水素処理ガス速度が含まれる。本発明の触媒に用いる
水素化方法は、グループＩＩまたはグループＩＩＩの基油要件を満たす潤滑油基
油を製造するのに特に適するであろう。

【００１８】 広範囲の石油および化学原料材は、本発明に従って水素処理されるであろう。
適切な原料材は、比較的軽質の留出油留分から高沸点材の範囲にわたる。高沸点
材は、全原油、抜頭原油、減圧塔残油、プロパン脱瀝残油（例えばブライトスト
ック）、循環油、ＦＣＣ塔ボトム、コーカ−ガス油および減圧ガス油を含むガス
油、脱瀝残油および他の重質油などである。軽質油には、通常多量のワックス質
成分が含まれないであろうことから、原料材は、普通Ｃ_１０＋原料材であろう。
しかし、また方法は、ワックス質留出油材にも特に有効である。すなわち、ガス
油、灯油、ジェット燃料油、潤滑油材、加熱油、水素化油材、フルフラール抽出
潤滑油材、ならびに流動点および粘性が一定の規格限界以内に維持されることを
必要とする他の留出油留分などである。例えば、潤滑油材は、一般に２３０℃超
、より通常には３１５℃超で沸騰するであろう。本発明の目的では、潤滑油すな
わちルーブオイルは、ＡＳＴＭ Ｄ−１１６０試験方法で測定されるように、少
なくとも３１５℃の沸点を有する炭化水素原料材の一部分である。

【００１９】 本発明のこの水素転化方法により、潤滑油原料材の溶剤精製から製造されるラ
フィネートを選択的に水素転化することにより、少なくとも９０％の飽和分およ
び少なくとも１０５ＶＩを満足する潤滑油基油が製造される。溶剤抽出方法にお
いては、芳香族成分がエキストラクト相に選択的に溶解され、一方よりパラフィ
ン質の成分はラフィネート相に残る。ナフテンは、エキストラクト相およびラフ
ィネート相の間に分配される。溶剤抽出のための典型的な溶剤には、フェノール
、フルフラールおよびＮ−メチルピロリドンが含まれる。溶剤：油比、抽出温度
および溶剤で抽出される留出油の接触方法を調整することによって、エキストラ
クト相およびラフィネート相の間の分離度が調整されるであろう。溶剤抽出から
のラフィネートは、好ましくはアンダー抽出される。すなわち、抽出は、ラフィ
ネート収率を最大にし、一方最も低質の分子の大部分を原料から依然として除去
する条件下で行われる。ラフィネート収率は、抽出条件を調整することにより（
例えば溶剤：油の処理比率を低くすること、および／または抽出温度を下げるこ
とにより）最大化されるであろう。溶剤抽出装置からのラフィネートは、溶剤か
らストリッピングされ、次いで水素転化触媒を含む第一の水素転化装置に送られ
る。このラフィネート原料は、約８０〜約１０５の粘度指数、および約６５０℃
を越えない、好ましくは６００℃未満の沸騰範囲（ＡＳＴＭ２８８７で測定され
る）、および１００℃において３〜１５ｃＳｔの粘度を有する。溶剤抽出域から
のストリッピングされたラフィネートは、第一の水素転化装置に送られる前に、
溶剤脱ロウされるだろう。

【００２０】 ラフィネート原料は、第一の水素転化域に送られ、バルク金属触媒の存在下に
水素転化条件下で処理されて、第一の水素転化ラフィネートが製造される。その
際、バルク金属触媒には、少なくとも一部分であるが、全てより少ないモリブテ
ンが、タングステンに置換されたモリブデン酸ニッケルが含まれる。次いで、第
一の水素転化域からの水素転化ラフィネートは、水素仕上げ域に送られるか、ま
たは別に、第二の水素転化域に送られて、続いて水素仕上げ域に送られる。二つ
の水素転化域の場合には、両水素転化域の触媒は、本発明のバルク金属触媒であ
るか、もしくはバルク金属触媒は、第一または第二の水素転化域のいずれかで用
いられるであろう。バルク金属触媒が一つの域でのみ用いられる二つの域の場合
には、他の触媒は、非バルク金属水素化触媒であろう。水素化触媒は、少なくと
も一種の第ＶＩＢ族および少なくとも一種の第ＶＩＩＩ族金属を、耐熱性金属酸
化物上に担持して含むものである。第ＶＩＢ族金属は、好ましくはモリブデンま
たはタングステンであり、そして第ＶＩＩＩ族金属は、好ましくはコバルトまた
はニッケルなどの非貴金属である。

【００２１】 第一または第二の水素転化域のいずれかの水素転化条件には、３００〜４２０
℃の温度、３００〜３０００ｐｓｉｇ（２１７０〜２０７８６ｋＰａ）の水素圧
、０．１〜１０の液空間速度、および５００〜５０００ｓｃｆ／Ｂ（８９〜８９
０ｍ^３／ｍ^３）の水素処理ガス速度が含まれる。

【００２２】 次いで、水素転化域には、水素仕上げ域が続く。水素仕上げ域は、色相、安定
性および毒性などの生成物品質特性を適正なものにする。水素仕上げ域は、２５
０〜３６０℃の温度、３００〜３０００ｐｓｉｇ（２１７０〜２０７８６ｋＰａ
）の水素圧、０．１〜１０の液空間速度、および５００〜５０００ｓｃｆ／Ｂ（
８９〜８９０ｍ^３／ｍ^３）の水素処理ガス速度を含む条件での低温水素仕上げ域
として特徴付けられる。水素仕上げ域の触媒は、本発明のバルク金属触媒である
か、またはバルク金属水素化触媒でないかのいずれかであろう。水素化触媒は、
少なくとも一種の第ＶＩＢ族および少なくとも一種の第ＶＩＩＩ族金属を、耐熱
性金属酸化物上に担持して含むものである。第ＶＩＢ族金属は、好ましくはモリ
ブデンまたはタングステンであり、そして第ＶＩＩＩ族金属は、好ましくはコバ
ルトまたはニッケルなどの非貴金属である。

【００２３】 水素仕上げ域は、脱ロウ域に先行するか、または脱ロウ域に続くであろう。脱
ロウは、接触または溶剤のいずれかであろう。溶剤脱ロウは、溶剤を用いること
、およびワックス分子を結晶化分離することによって達成されるであろう。典型
的な溶剤には、プロパンおよびケトンが含まれる。好ましいケトンには、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトンおよびこれらの混合物が含まれる。接触
脱ロウは、８、１０または１２環モレキュラーシーブを用いて達せられるであろ
う。好ましいモレキュラーシーブには、ゼオライトおよびシリカアルミノホスフ
ェート（ＳＡＰＯ）を含む。１０環モレキュラーシーブは、少なくとも一種のＺ
ＳＭ−５、ＺＳＭ−２２、ＺＳＭ−２３、ＺＳＭ−３５、ＺＳＭ−４８、ＺＳＭ
−５７、ＳＡＰＯ−１１、およびＳＡＰＯ−４１を含むことが好ましい。

【００２４】 当該のバルク金属触媒によって示される高い転化活性は、実質的なプロセス利
点を有する。すなわち、より大きな原料融通性、より小さな反応器、より少ない
触媒量、および生成物品質調整におけるより大きな運転融通性などである。

【００２５】 本明細書において水素化分解に典型的に付される炭化水素原料材は、典型的に
は１５０℃超の温度で沸騰するであろう。原料材には、窒素が有機窒素化合物の
形で、相当量の窒素（例えば少なくとも１０ｗｐｐｍ窒素、そして５００ｗｐｐ
ｍ超さえ）を含むであろう。また、原料は、約０．１重量％〜３重量％、または
それ以上の範囲の相当量の硫黄含有量を有するであろう。望ましくは、原料は、
既知または従来の方法で処理されて、その硫黄および／または窒素含有量が低減
されるであろう。

【００２６】 潤滑油基油を製造することが望まれる本発明の目的においては、原料は、原油
、シェール油およびタールサンドから誘導される原料を、フィッシャー−トロプ
シュプロセスから誘導されるものなどの合成原料と同様に含む幅広い種類のワッ
クス含有原料材であろう。潤滑油基油を調製するための典型的なワックス含有原
料材は、約３１５℃以上の初留点を有し、そしてこれには、抜頭原油、水素化分
解生成物、ラフィネート、水素化油、常圧ガス油、減圧ガス油、コーカーガス油
、常圧および減圧残油、脱瀝油、スラックワックスおよびフィッシャー−トロプ
シュワックスなどの原料が含まれる。原料は、好ましくはコーカーからのガス油
および従来原油からの減圧留出油の混合物であり、またコーカーガス油の最高沸
点は１０５０゜Ｆを越えない。これらの原料は、蒸留塔（常圧および減圧）、水
添分解装置、水素化装置および溶剤抽出装置から誘導され、そして５０％以上に
及ぶワックス含有量を有するであろう。

【００２７】 また、本発明の水素処理には、硫黄および窒素化合物の除去、および石油中間
留出油などの軽質化石燃料中に存在する芳香族分子の水素添加のための、スラリ
ーおよび沸騰床水素化プロセスが含まれる。炭化水素油と混和物における分散触
媒のスラリーを用いる水素化プロセスは、一般的に知られている。例えば、Ｌｏ
ｐｅｚらによる米国特許第４，５５７，８２１号には、循環スラリー触媒を用い
る重質油の水素化が開示される。スラリー水素化を開示する他の特許には、米国
特許第３，２９７，５６３号、同第２，９１２，３７５号、および同第２，７０
０，０１５号が含まれる。本発明のスラリー水素処理方法は、軽質触媒循環分解
油（ＬＣＣＯ）などの化石燃料からの中間留出油を含む種々の原料を処理するの
に用いられるであろう。石油、石炭、ビチューメン、タールサンド、またはシェ
ール油から誘導される留出油は、同様に適切な原料である。一方、本方法は、重
質触媒分解循環油（ＨＣＣＯ）、コーカーガス油、減圧軽油（ＶＧＯ）および重
質残油（これらは数％の３＋環芳香族、特に大きなアスファルテン分子を含む）
を処理するのに有効ではない。重質残油を処理する際、過度の触媒活性点が得ら
れず、そして高温脱窒素による触媒の再活性化は不可能である。

【００２８】 また、本発明は、ホワイトオイルを製造するのに用いられるであろう。ホワイ
トオイルと呼ばれる白色鉱油は、原油石油原料を精製することによって得られる
無色透明の油性液体である。ホワイトオイルを製造する場合には、適切な石油原
料材は、酸素、窒素および硫黄化合物、芳香族を含む反応性炭化水素、ならびに
製薬業または食品業において得られたホワイトオイルの使用を妨げるであろう他
のあらゆる不純物ができるだけ完全に除去されるように精製される。

【００２９】 原料流れは、二種の第ＶＩＢ族金属および少なくとも一種の第ＶＩＩＩ族金属
、好ましくは二種の第ＶＩＢ族金属および一種の第ＶＩＩＩ族非貴金属、より好
ましくはＮｉ−Ｍｏ−Ｗを含むバルク触媒と、水素処理条件で接触される。本発
明のバルク触媒組成物は、全ての金属前駆体成分が溶解しているか、または全て
の金属成分が必ずしも溶解していないプロセスによって調製されるであろう。す
なわち、少なくとも一種の第ＶＩＩＩ族非貴金属成分を、プロトン性液体（接触
の間、全ての第ＶＩＢ族および／または第ＶＩＩＩ族非貴金属が必ずしも溶解し
ていない）の存在下で第ＶＩＢ族金属成分と接触させることを含むプロセスであ
る。

【００３０】 すべての金属が必ずしも溶解していない触媒を調製するプロセス 一般に、プロトン性液体の存在下で金属成分を接触することには、金属成分を
混合し、続いて得られた混合物を反応させることが含まれる。少なくとも一種の
金属成分が、混合工程で少なくとも部分的に固体状態で添加され、そして少なく
とも部分的に固体状態で添加された金属成分の少なくとも一種が、タイン混合お
よび反応工程で少なくとも部分的に固体状態のままであるということは、固体ル
ートにとって必須である。本文脈における「金属」は、金属形状の金属を意味す
るのではなく、最初に適用されるか、またはバルク触媒組成物に存在する金属成
分などの金属化合物中に存在する。

【００３１】 一般に、混合工程においては、少なくとも一種の金属成分が少なくとも部分的
に固体状態で添加され、そして少なくとも一種の金属成分が溶質状態で添加され
るか、またはすべての金属が少なくとも部分的に固体状態で添加され、その際少
なくとも部分的に固体状態で添加される金属成分の少なくとも一種の金属は、固
体ルートの全過程で少なくとも部分的に固体状態のままであるかのいずれかであ
る。金属成分が「溶質状態で」添加されることは、この金属成分の全量が、プロ
トン性液体におけるこの金属成分の溶液として添加されることを意味する。金属
成分が「少なくとも部分的に固体状態で」添加されることは、金属成分の少なく
とも一部分が、固形金属成分として添加され、そして任意に金属成分の別の部分
が、プロトン性液体におけるこの金属成分の溶液として添加されることを意味す
る。典型的な例は、プロトン性液体（金属は、少なくとも部分的に固体として存
在し、そして任意に部分的にプロトン性液体に溶解している）における金属成分
の懸濁である。

【００３２】 混合工程で、少なくとも一種の金属成分が、少なくとも部分的に固体状態で添
加され、そして少なくとも一種の金属成分が溶質状態に添加される場合には、次
のプロセス選択肢が適用されるであろう。すなわち、初めにプロトン性液体にお
いて金属成分の懸濁が調製され、そして同時または交互に、溶液および／または
さらなる懸濁（プロトン性液体における溶解および／または懸濁された金属成分
を含む）を添加することが可能である。また、初めに、同時または交互のいずれ
かで溶液を組合わせ、そして任意に同時または交互のいずれかでさらなる懸濁お
よび任意に溶液を添加することも可能である。混合工程において、各金属成分が
、少なくとも部分的に固体状態で添加される場合には、金属成分を含む懸濁を調
製し、そして交互または同時に、これらの懸濁を組合わせることが可能である。
また、金属成分を、少なくとも一種の金属成分の懸濁または溶液などに添加する
ことも可能である。

【００３３】 全ての上記の場合においては、金属成分を含む懸濁は、プロトン性液体に予備
形成された金属成分を懸濁することにより調製されるであろう。しかし、また、
一種以上の金属成分をプロトン性液体に（共）沈殿させることにより、懸濁を調
製することも可能である。得られた懸濁は、固体ルートのプロセスにおいて適用
されるか（すなわち溶液、スラリー、またはそれ自体のいずれかにおいてさらな
る金属成分は、得られる懸濁に添加される）、または固−液分離し、そしてプロ
トン性液体において得られた固体金属成分を任意に再スラリー化した後に適用さ
れるかのいずれかであろう。

【００３４】 さらに、全ての上記の場合において、金属成分の懸濁の代わりに、また、濡湿
潤または乾燥した状態で金属成分を用いることも可能である。湿潤または乾燥し
た金属成分は、予備形成された金属成分から、または上記のような沈殿し、続い
て部分的または完全にプロトン性液体を除去することによって、調製されるであ
ろう。しかし、いかなるプロトン性液体も、接触の間存在することに注意しなけ
ればならない。

【００３５】 上記のプロセス選択肢は、混合工程を例証するほんのいくつかの例であること
を注意しなければならない。固体ルートで適用される金属成分の数とはかかわり
なく、添加の順序は、一般に本発明の方法にとって重要ではない。

【００３６】 本発明（固体ルート）の一実施形態においては、金属成分の一つが少なくとも
部分的に固体状態で添加され、そしてさらなる金属成分が溶質状態で添加される
。例えば、一つの金属成分が少なくとも部分的に固体状態で添加され、そして二
つの金属成分が溶質状態で添加される。もうひとつの実施形態においては、二つ
の金属成分が少なくとも部分的に固体状態で添加され、そして一つの金属成分が
溶質状態で添加される。さらにもう一つの実施形態においては、三つ以上の金属
成分が少なくとも部分的に固体状態に添加され、そしてさらなる金属成分が溶質
状態で全く添加されない。一般に、少なくとも部分的に固体状態で添加され、そ
して溶質状態で添加される金属成分の数は、本発明において重要ではない。

【００３７】 例えば、特定の触媒組成物を調製するのに必要な全ての金属成分を含む溶液を
最初に調製し、続いてこれらの成分を共沈させることが適切でないことは明らか
であろう。本発明の方法においては、金属成分を少なくとも部分的に固体状態で
添加することも、また温度、ｐＨまたはプロトン性液体の量を、全ての添加され
た金属成分が少なくともある工程において完全に溶質状態で存在するようにプロ
セス条件を選択することも適切ではない。逆に、固体ルートに対して、上記のよ
うに、少なくとも部分的に固体状態で添加された金属成分の一つの金属は、少な
くとも、本発明の全方法において少なくとも部分的に固体状態のままでなければ
ならない。

【００３８】 好ましくは、金属成分の少なくとも１重量％、一層より好ましくは少なくとも
１０重量％、最も好ましくは少なくとも１５重量％は、混合において固体状態で
ある。これは、全ての添加された金属成分、すなわち固体ルートで最初に用いら
れる全ての金属成分の総重量に基づき、また金属酸化物として計算される。高収
率、すなわち多量のバルク触媒組成物を得ることが望ましい場合に、接触中に固
体状態のままである多量の金属成分を用いることが好ましい。この場合のように
、少量の金属成分が母液に溶解されたままで、金属成分の量がその後の固−液分
離の間、廃水で終わることは低減される。

【００３９】 少なくとも部分的に固体状態で添加される金属が、懸濁として添加される場合
には、この懸濁中の固体金属の量は、懸濁中に含まれる全ての固体物質が、固形
濾過ケークとして収集されるという方法で、混合過程において適用される条件（
温度、ｐＨ、圧力、液体量）での懸濁を濾過することによって決定される。固体
および乾燥した濾過ケークの重量から、固体金属の重量が、標準技術によって決
定されるであろう。数種の懸濁が適用される場合には、これらの懸濁中に含まれ
る固体金属成分の重量は、お互いに添加されて、金属酸化物として計算される固
体金属成分の総量がもたらされるであろう。勿論、固体金属成分は別として、固
形バインダーなどのさらなる固体成分が濾過ケーク中に存在する場合には、この
固体および乾燥したバインダーの重量は、固体および乾燥した濾過ケークの金属
成分の重量から差引かれるであろう。この場合、原子吸光分光（ＡＡＳ）、ＸＲ
Ｆ、湿式化学分析、またはＩＣＰなどの標準技術により、濾過ケーク中の固体金
属量が測定されるであろう。

【００４０】 少なくとも部分的に固体状態で添加される金属成分が、湿潤または乾燥状態で
添加される場合には、濾過は一般に不可能である。この場合、固体金属成分の重
量は、対応する最初に用いられた金属成分の重量と等しいとみなされる。全ての
金属成分の総重量は、金属成分として最初に用いられる全ての金属の量であり、
金属酸化物として計算される。

【００４１】 接触の間、少なくとも部分的に固体状態のままである金属成分の形態および組
織は、バルク触媒組成物の形態および組織を決定するであろう。したがって、例
えば特定の形態および組織を有する金属成分粒子を適用することによって、得ら
れるバルク触媒粒子の形態および組織は、制御されるであろう。本発明の意義に
おける「形態および組織」は、細孔容積、細孔サイズ分布、表面積、粒子形状、
および粒子サイズのことをいう。

【００４２】 高い触媒活性を有するバルク触媒組成物を得るために、したがって、接触の間
少なくとも部分的に固体状態である金属成分は多孔性金属成分であることが好ま
しい。これらの金属成分の全細孔容積、細孔サイズ分布は、従来の水素化触媒の
それとほぼ同じであることが望ましい。従来の水素化触媒は、一般に窒素吸着に
より決定して０．０５〜５ｍｌ／ｇ、好ましくは０．１〜４ｍｌ／ｇ、より好ま
しくは０．１〜３ｍｌ／ｇ、最も好ましくは０．１〜２ｍｌ／ｇの細孔容積を有
する。１ｎｍよりも小さい直径の細孔は、一般に従来の水素化触媒には存在しな
い。さらに、従来の水素化触媒は、一般にＢＥＴ法のＶＩＢにより決定して少な
くとも１０ｍ^２／ｇ、より好ましくは少なくとも５０ｍ^２／ｇ、最も好ましくは
少なくとも１００ｍ^２／ｇの表面積を有する。例えば、炭酸ニッケルを選択する
と、これは、窒素吸着により測定して０．１９〜０．３９ｍｌ／ｇ、好ましくは
０．２４〜０．３５ｍｌ／ｇの細孔容積、およびＢＥＴ法で測定して１５０〜４
００ｍ^２／ｇ、より好ましくは２００〜３７０ｍ^２／ｇの表面積を有する。さら
に、これらの金属成分は、少なくとも５０ｎｍ、より好ましくは少なくとも１０
０ｎｍ、そして好ましくは５０００μｍ以下、より好ましくは３０００μｍ以下
のメジアン粒子直径を有するであろう。さらにより好ましくは、メジアン粒子直
径は、０．１〜５０μｍ、最も好ましくは０．５〜５０μｍの範囲にある。例え
ば、少なくとも部分的に固体状態で添加され、そして大きなメジアン粒子直径を
有する金属成分を選択することによって、他の金属成分は、大きな金属成分粒子
の外側の層とのみ反応するであろう。この場合、いわゆる「コア−シェル」構造
のバルク触媒粒子が得られる。

【００４３】 金属成分の適切な形態および組織は、適切な予備形成された金属成分を適用す
るか、または適切な形態および組織が得られるような条件下で上記の沈殿により
これらの金属成分を調製するかのいずれかによって、達成されるであろう。適切
な沈殿条件を適切に選択することは、慣用的な実験によりなされるであろう。

【００４４】 上記のように、少なくとも部分的に固体状態で添加される金属成分の形態およ
び組織を保持するために、金属成分の金属は、この固体ルートの全過程を通して
、少なくとも部分的に固体状態のままであることが最も重要である。固体ルート
の過程を通して固体金属の量は、決してゼロにならないことが必須であることは
再度注目される。少なくとも、金属を含む固体粒子の直径が可視光線の波長より
も長い場合には、粒子を含む固体金属の存在は目視検査によって容易に検知され
るであろう。勿論、また、準弾性光散乱（ＱＥＬＳ）または近前方散乱などの当
業者に知られている方法を用いても、固体ルートの過程のいかなる点においても
全金属が溶質状態でないことが確実にされるであろう。

【００４５】 いかなる理論にも束縛されるものではないが、固体ルートの過程を通して、混
合工程で少なくとも部分的に添加される金属成分は、相互に反応すると考えられ
る。プロトン性液体は、溶解された金属成分の移送にかかわる。この移送に依り
、金属成分は、相互に接触することとなり、そして反応するであろう。全ての金
属成分が実質的に完全に固体状態である場合には、この反応がまさしく起るであ
ろうと考えられる。プロトン性液体が存在することに依り、金属成分の少量が、
さらに溶解し、したがって上記のように反応するであろう。したがって、固体ル
ートの過程を通して、プロトン性液体の存在は必須と考えられる。反応は、ＩＲ
分光、ラマン分光などの任意の通常技術により、または反応混合物のｐＨを測定
することによって測定されるであろう。

【００４６】 固体ルートの好ましい実施形態においては、混合中に必ずしも全ての金属成分
が完全に固体状態で添加されない。好ましくは、最初に固体ルートに用いられる
金属成分の少なくとも０．１ｗ．％、より好ましくは少なくとも０．５重量％、
さらにより好ましくは１重量％が、溶液として混合工程で添加される。これは金
属酸化物と計算される。このようにして、金属成分の適切な接触が、確実とされ
る。

【００４７】 触媒を調製するための本発明の固体または溶液ルートで適用されるプロトン性
液体は、任意のプロトン性液体であるであろう。例には、水、カルボン酸、およ
びメタノールまたはエタノールなどのアルコールが含まれる。好ましくは、アル
コールと水との混合物などの水を含む液体、より好ましくは水が、この固体ルー
トのプロトン性液体として用いられる。また、異なるプロトン性液体が、固体ル
ートで同時に適用されるであろう。例えば、エタノール中の金属成分の懸濁を、
別の金属成分の水溶液に添加することが可能である。いくつかの場合では、それ
自身の結晶水に溶解する金属成分が用いられるであろう。結晶水は、この場合、
プロトン性液体として扱われる。

【００４８】 固体ルートで適用される第ＶＩＢ族：第ＶＩＩＩ族非貴金属のモル比は、一般
に１０：１〜１：１０、好ましくは３：１〜１：３の範囲である。コア−シェル
構造の粒子の場合には、これらの比率は、上記の範囲外にあろう。一種以上の第
ＶＩＢ族金属が用いられる場合には、異なる第ＶＩＢ族金属の比率は、一般には
重要ではない。同じことが、一種以上の第ＶＩＩＩ族非貴金属が持ち折られる場
合に当てはまる。モリブデンおよびタングステンが第ＶＩＢ族金属として適用さ
れる場合には、モリブデン：タングステン比は、好ましくは９：１〜１：９の範
囲になる。

【００４９】 第ＶＩＢ族金属には、一般にクロム、モリブデン、タングステン、またはこれ
らの混合物が含まれる。適切な第ＶＩＩＩ族非貴金属は、例えば鉄、コバルト、
ニッケル、またはこれらの混合物である。好ましくは、ニッケル、モリブデンお
よびタングステン、もしくはニッケル、コバルト、モリブデンおよびタングステ
ンの化合物が、固体ルートのプロセスに適用される。プロトン性液体が水である
場合には、接触中に少なくとも部分的に固体状態である適切なニッケル成分には
、炭酸ニッケル、水酸化ニッケル、ニッケルホスフェート、ニッケルフォスファ
イト、蟻酸ニッケル、硫化ニッケル、モリブデン酸ニッケル、タングステン酸ニ
ッケル、酸化ニッケル、ニッケル−モリブデン合金などのニッケル合金、ラネー
ニッケル、またはこれらの混合物などの水不溶性ニッケル成分が含まれる。接触
中に少なくとも部分的に固体状態である適切なモリブデン成分には、酸化モリブ
デン（ジ−およびトリ）、炭化モリブデン、窒化モリブデン、モリブデン酸アル
ミニウム、モリブデン酸（例えばＨ_２ＭｏＯ_４）、硫化モリブデン、またはこれ
らの混合物などの水不溶性モリブデン成分が含まれる。最後に、接触中に少なく
とも部分的に固体状態である適切なタングステン成分には、二および三酸化タン
グステン、硫化タングステン（ＷＳ_２およびＷＳ_３）、炭化タングステン、タン
グステン酸（例えばＨ_２ＷＯ_４ ⁻Ｈ_２Ｏ、Ｈ_２Ｗ_４Ｏ_１３ ⁻９Ｈ_２Ｏ）、窒化タ
ングステン、タングステン酸アルミニウム（またメタまたはポリタングステン酸
塩）、またはこれらの混合物が含まれる。これらの成分は、一般に商業的に入手
可能であるか、または例えば沈殿によって調製されるであろう。例えば、炭酸ニ
ッケルは、適量の炭酸ナトリウムを添加することによりニッケルの塩化物、硫酸
塩、または硝酸塩の溶液から調製されるであろう。望ましい形態と組織を得るた
めのこれらの方法で、沈殿条件を選択することは、一般に当業者に知られている
。

【００５０】 一般に、金属以外にＣ、Ｏおよび／またはＨを主として含む金属成分は、それ
らが環境にそれほど有害でないことから好ましい。炭酸ニッケルは、少なくとも
部分的に固体状態で添加されるのに好ましい金属成分である。なぜなら、炭酸ニ
ッケルが適用される際に、ＣＯ_２が放出され、そしてこれが反応混合物のｐＨを
積極的に影響を与えるからである。さらに、炭酸塩のＣＯ_２への変換に依り、炭
酸塩は廃水で終わりにはならない。

【００５１】 溶質状態に添加される好ましいニッケル成分は、水溶性ニッケル成分、例えば
、窒化ニッケル、硫化ニッケル、酢酸ニッケル、塩化ニッケル、またはこれらの
混合物である。溶質状態に添加される好ましいモリブデンおよびタングステン成
分は、アルカリ金属またはアンモニウムのモリブデン酸塩（同様にペルオキソ−
、ジ−、トリ−、テトラ−、ヘプタ−、オクタ−、またはテトラデカモリブデン
酸塩）などの水溶性モリブデンおよびタングステン成分、Ｍｏ−Ｐヘテロポリア
ニオン化合物、Ｗｏ−Ｓｉヘテロポリアニオン化合物、Ｗ−Ｐヘテロポリアニオ
ン化合物、Ｗ−Ｓｉヘテロポリアニオン化合物、Ｎｉ−Ｍｏ−Ｗヘテロポリアニ
オン化合物、Ｃｏ−Ｍｏ−Ｗヘテロポリアニオン化合物、アルカリ金属またはア
ンモニウムのタングステン酸塩（同様にメタ−、パラ−、ヘキサ−、またはポリ
タングステン酸塩）、またはこれらの混合物である。

【００５２】 金属成分の好ましい組合わせは、炭酸ニッケル、タングステン酸および酸化モ
リブデンである。もう一つの好ましい化合物は、炭酸ニッケル、ジモリブデン酸
アンモニウムおよびメタタングステン酸アンモニウムである。金属成分のさらに
適切な組合わせを選択することは当業者の範囲内である。炭化ニッケルには、常
に一定量の水酸基が含まれることは注目されるであろう。炭酸ニッケル中に存在
する水酸基の量は高いことが好ましい。

【００５３】 以下に、混合および続く反応工程における好ましいプロセス条件が述べられる
であろう。 ａ）混合工程 混合工程のプロセス条件は、一般に重要ではない。例えば、（懸濁または溶液
が適用される場合には）常態のｐＨにおいて、周囲温度で全ての成分を添加する
ことが可能である。一般に、混合工程で成分の取り扱いを確実により容易にする
べく水の場合には、温度をプロトン性液体の沸点、すなわち１００℃以下に保つ
ことが勿論好ましい。しかし、所望に依り、またプロトン性液体の沸点以上の温
度、または異なるｐＨ値が適用されるであろう。反応工程が高温で実施される場
合には、混合工程で添加される懸濁と溶液は、一般に反応温度と等しいであろう
高い温度に予熱される。 ｂ）反応工程 全ての金属成分が混合された後、これらは、一般に一定の温度で一定時間撹拌
されて、反応が起こるに任される。反応温度は、好ましくは０゜〜３００℃、よ
り好ましくは５０゜〜３００℃、さらにより好ましくは７０゜〜２００℃、最も
好ましくは７０゜〜１８０℃の範囲である。温度がプロトン性液体の沸点（例え
ば水の場合の１００℃）以下である場合には、プロセスは、一般に大気圧で実施
される。この温度超では、反応は、一般に高圧で、好ましくはオートクレーブ内
で実施される。一般に、混合物は、反応工程において常態のｐＨで保たれる。ｐ
Ｈは、好ましくは０〜１２、より好ましくは１〜１０、さらにより好ましくは３
〜８の範囲である。上記のように、ｐＨおよび温度は、必ずしも全ての金属が反
応工程で溶解されない方法で選択されることが注意されるであろう。

【００５４】 反応時間は、一般に１分〜数日、好ましくは１分〜２４時間、最も好ましくは
５分〜１０時間の範囲にある。上記のように、反応時間は温度に依る。

【００５５】 溶液ルートによるプロセス工程（ｉ） 上記のように、工程（ｉ）に対する上記の固体ルートの代わりとして、また、
次によってバルク触媒組成物を調製することも可能である。すなわち、溶液の第
ＶＩＩＩ族非貴金属成分および溶液の第ＶＩＢ族金属成分を、反応混合物で反応
させて、沈殿を得ることを含むプロセスに依る。固体ルートの場合のように、好
ましくは、一つの第ＶＩＩＩ族非貴金属成分が、二つの第ＶＩＢ族金属成分と反
応する。溶液ルートのプロセスで適用される第ＶＩＢ族金属：第ＶＩＩＩ族非貴
金属のモル比は、固体ルートについて記述されたものと同じである。適切な第Ｖ
ＩＢ族および第ＶＩＩＩ族非貴金属成分は、例えば固体ルートについて上記され
たそれらの水溶性ニッケル、モリブデン、およびタングステン成分である。さら
に、第ＶＩＩＩ族非貴金属成分は、例えばコバルトまたは鉄成分である。さらに
、第ＶＩＢ族金属成分は、例えばクロム成分である。金属成分は、溶液の反応混
合物、懸濁またはそれ自体に添加されるであろう。溶性塩がそれ自体に添加され
る場合には、それらは、反応混合物に溶解し、次いで沈殿するであろう。

【００５６】 反応混合物は、反応して沈殿物が得られる。沈殿は、次に依って達せられる。
すなわち、第ＶＩＩＩ族非貴金属および第ＶＩＢ金属が沈殿する温度およびｐＨ
で第ＶＩＩＩ族非貴金属塩溶液を添加すること、そして金属を複合化し、温度が
上昇またはｐＨが変化した際に金属を沈殿として放出する化合物を添加するか、
または温度を変えるか、ｐＨを変えるか、または溶剤量を減らすかして、第ＶＩ
ＩＩ族非貴金属および第ＶＩＢ金属が沈殿する温度およびｐＨで第ＶＩＢ族金属
塩溶液を添加することに依る。本プロセスを用いて得られる沈殿物は、高い触媒
活性を有すると思われる。従来の水素処理触媒（通常、第ＶＩＩＩ族非貴金属お
よび第ＶＩＢ族金属に含浸させた担体を含む）と対照的に、前記の沈殿物は、担
体なしで用いられるであろう。非担持触媒組成物は、通常バルク触媒と呼ばれる
。ｐＨの変化は、反応混合物に塩基または酸を加えるか、または温度によって分
解し、そして水酸基イオンまたはＨ^＋イオン（それぞれｐＨを増加または減少さ
せる）が増加する化合物を加えることによってなされる。温度上昇によって分解
し、そのためにｐＨを増加または低下させる化合物の例は、尿素、亜硝酸塩、シ
アン酸アンモニウム、水酸化アンモニウム、および炭酸アンモニウムである。

【００５７】 溶液ルートの例証となるプロセスにおいて、第ＶＩＢ族金属のアンモニウム塩
の溶液が作られ、そして第ＶＩＩＩ族非貴金属硝酸塩の溶液が作られる。両方の
溶液は、およそ９０℃の温度に予熱される。水酸化アンモニウムが、第ＶＩＢ族
金属溶液に添加される。第ＶＩＩＩ族非貴金属溶液は、第ＶＩＢ族金属溶液に添
加され、そして第ＶＩＢ族および第ＶＩＩＩ族非貴金属成分の直接沈殿が生じる
。また、このプロセスは、低温および／または減圧、もしくは高温および／また
は高圧で実施されるであろう。

【００５８】 溶液ルートのもう一つの例証となるプロセスにおいては、第ＶＩＢ族金属塩、
第ＶＩＩＩ族金属塩、および水酸化アンモニウムは、一緒に溶液に混合され、そ
してアンモニアが放散され、ｐＨが沈殿の生じるｐＨに下げられるために予熱さ
れる。例えば、ニッケル、モリブデンおよびタングステン成分が適用される場合
には、沈殿は典型的には７以下のｐＨで生じる。

【００５９】 工程（ｉ）において、固体ルートか溶液ルートかのいずれが選択されるかに関
係なく、得られるバルク触媒組成物は、好ましくはバルク触媒粒子（表題「本発
明の触媒組成物」の下に記述されたバルク触媒粒子の特性を有する）を含み、よ
り好ましくは実質的にバルク触媒粒子からなる。

【００６０】 工程（ｉ）のバルク触媒組成物は、一般に水素処理粒子に直接作り上げられる
であろう。工程（ｉ）から得られるバルク触媒組成物の液体量が非常に多くて、
成型工程を直接付すことができない場合には、固体−液体の分離は、成型の前に
予実施されるであろう。任意に、それ自体または固−液分離の後のいずれかのバ
ルク触媒組成物は、成型の前に焼成されるであろう。

【００６１】 プロセス工程（ｉｉ） 本発明の方法において、バインダー物質が添加されることが好ましい。より詳
しくは、バインダー物質は、バルク触媒組成物の調製中に添加すること、および
／またはバルク触媒組成物が成型工程の前にバインダー物質と複合化されること
がなされるであろう。後者の選択が一般的には好ましい。バインダー物質は、乾
燥状態（焼成または非焼成）、湿潤および／または懸濁した状態および／または
溶液として添加されるであろう。上記のように、本発明の意味での「バインダー
物質」は、バインダーおよび／またはその前駆体をいう。

【００６２】 バインダー物質が、バルク触媒組成物の調製中に添加される場合には、次の選
択が利用できる。例えば、工程（ｉ）のバルク触媒組成物が固体ルートで調製さ
れる場合には、金属成分は、同時または交互にバインダー物質に添加されるであ
ろう。別に、金属成分は、上記のように組合わされ、次いでバインダー物質は、
組合わされた金属成分に添加されるだろう。一部の金属成分が同時または交互の
いずれかで組合わされ、次いでバインダー物質が添加され、そして最後に残りの
金属成分が、同時または交互に添加されることは、さらに可能である。例えば、
接触中に少なくとも部分的に固体状態である金属成分は、最初に混合され、所望
によりバインダー物質を用いて成型され、次いでさらに金属成分が任意に成型さ
れた混合物に添加されるえあろう。しかし、また、バインダー物質を溶質状態で
金属成分と組合わせ、次いで少なくとも部分的に固体状態で金属成分を添加する
ことも可能である。最後に、金属成分およびバインダー物質の同時添加は可能で
ある。さらに、バインダー物質は、工程（ｉ）の固体ルートの反応工程で添加さ
れるであろう。

【００６３】 溶液ルートが工程（ｉ）で適用される場合には、バインダー物質は、沈殿の前
または後に、一種以上の金属成分を組合わせて、または組合わせることなく反応
混合物に添加されるであろう。

【００６４】 バインダー物質が溶液として添加される場合には、バインダーが、本発明の方
法において、固体状態に転化するだろうことに注意が必要であろう。これは、バ
インダーの沈殿が生じる方法で、工程（ｉ）でｐＨ条件を調整することによりな
されるであろう。バインダーの沈殿のための適切な条件は、当業者に知られてお
り、さらなる説明の必要はない。得られるバルク触媒−バインダー組成物の液体
量が非常に多い場合には、任意に、固体−液体分離が行なわれるであろう。バル
ク触媒−バインダー組成物の調製、および任意の固体−液体分離に続いて、バル
ク触媒−バインダー組成物が直接成型されるであろう。任意に、バルク触媒−バ
インダー組成物は焼成され、次いで成型前に再び湿潤されるであろう。これは、
硝酸塩および／またはアンモニウム塩を用いる溶液ルートで、バルク触媒組成物
が第ＶＩＢ族を調製する場合に特に好ましい。さらに、さらなるバインダー物質
が、上記のバルク触媒バインダー組成物の調製の後に添加されるであろう。

【００６５】 上記のように、最初にバルク触媒組成物を調製し、続いて得られたバルク触媒
組成物をバインダー物質と複合化することは好ましい。任意に、バルク触媒組成
物は、バインダー物質と複合化される前に、固体−液体分離に付されるであろう
。固体−液体分離の後、任意に洗浄工程が含まれるであろう。さらに、任意の固
体−液体分離および乾燥工程の後、およびそれをバインダー物質と複合化する前
に、バルク触媒組成物を焼成することが可能である。

【００６６】 全ての上記のプロセス選択肢において、用語「バルク触媒組成物をバインダー
物質と複合化する」とは、バインダー物質が、バルク触媒組成物に添加されるか
、または逆で添加され、そして得られた組成物が混合されることを意味する。

【００６７】 上記のように、バルク触媒粒子のメジアン直径は、少なくとも５０ｎｍ、より
好ましくは少なくとも１００ｎｍ、そして好ましくは５０００μｍ以下、より好
ましくは３０００μｍ以下である。さらにより好ましくは、メジアン直径は、０
．１〜５０ｍ、最も好ましくは０．５〜５０μｍの範囲にある。

【００６８】 本発明の方法に適用されるバインダー物質は、水素処理触媒のバインダーとし
て従来適用されるあらゆる物質であろう。例には次のものが含まれる。すなわち
、シリカ、シリカ−アルミナ（従来のシリカ−アルミナ、シリカ被覆アルミナお
よびアルミナ被覆シリカなど）、アルミナ（（プソイド）ベーマイトまたはギブ
サイトなど）チタニア、ジルコニア、カチオン性粘土またはアニオン性粘土（サ
ポナイト、ベントナイト、カオリン、海泡石、またはハイドロタルサイトなど）
、もしくはこれらの混合物である。好ましいバインダーは、シリカ、シリカ−ア
ルミナ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、またはこれらの混合物である。これ
らのバインダーは、そのまままたは解膠の後に適用されるであろう。また、本発
明の方法において、あらゆる上記のバインダーに転化するこれらのバインダーの
前駆体を適用することが可能である。適切な前駆体は、例えばアルミン酸アルカ
リ金属（アルミナバインダーを得るため）、水ガラス（シリカバインダーを得る
ため）、アルミン酸アルカリ金属および水ガラスの混合物（シリカアルミナバイ
ンダーを得るため）、二価、三価および／または四価金属源の混合物（マグネシ
ウムの水溶性塩、アルミニウムおよび／または珪素との混合物など）（カチオン
粘土、および／または、アニオン粘土を調製するため）、クロロハイドロール、
硫酸アルミニウム、またはこれらの混合物である。

【００６９】 所望により、バインダー物質は、バルク触媒組成物と複合化される前および／
またはその調製中に添加される前に、第ＶＩＢ族金属および／または第ＶＩＩＩ
族非貴金属と複合化されるであろう。バインダー物質のあらゆるこれらの金属と
の複合化は、これらの物質を用いた固体バインダーの含浸により実施されるであ
ろう。当業者には、適切な含浸技術が知られている。バインダーが解膠される場
合には、また、第ＶＩＢ族および／または第ＶＩＩＩ族非貴金属成分の存在下で
解膠を実施するということが可能である。

【００７０】 アルミナがバインダーとして適用される場合には、表面積は、好ましくはＢＥ
Ｔにより測定して１００〜４００ｍ^２／ｇ、より好ましくは１５０〜３５０ｍ^２ ／ｇの範囲にある。アルミナの細孔容積は、好ましくは窒素吸着により測定して
０．５〜１．５ｍｌ／ｇの範囲である。

【００７１】 一般に、本発明の方法で添加されるバインダー物質は、バルク触媒組成物より
も触媒活性が少ないか、または全く触媒活性がない。したがって、バインダー物
質を添加することにより、バルク触媒組成物の活性は低減されるであろう。した
がって、本発明の方法で添加されるバインダー物質の量は、一般に最終の触媒組
成物の望ましい活性に依る。予想される触媒の応用法により、全組成物の０〜９
５重量％のバインダー量が適切であろう。しかし、本発明の組成物の得られる非
常に高い活性を利用するには、添加されるバインダー量は、一般に全組成物の０
．５〜７５重量％の範囲にある。

【００７２】 本発明の方法においてバインダー物質が用いられる場合には、得られる触媒組
成物には、工程（ｉ）で得られるバルク触媒粒子（バインダー物質中に固定され
る）が含まれる。換言すれば、本発明の方法においては、バルク触媒粒子は、一
般に分解しないが、標準的にはバルク触媒粒子の形態は、本質的に得られる触媒
組成物中に保持されている。

【００７３】 プロセス工程（ｉｉｉ） 上記のプロセス選択肢から生じる触媒組成物は直接成型される。成型には、押
出し成型、ペレット化、ビード化および／または噴霧乾燥が含まれる。触媒組成
物がスラリー型反応器、流動床、移動床、膨張床または沸騰床で適用される場合
には、噴霧乾燥またはビード化が一般に固定床での応用に対して適用されるが、
一般的に触媒組成物は、押出し成型、ペレット化および／またはビード化される
ことに注意しなければならない。後者の場合、成型工程の前または最中に、成型
を促進するのに従来用いられるいかなる添加剤も添加されるであろう。これらの
添加剤には、ステアリン酸アルミニウム、界面活性剤、黒鉛またはこれらの混合
物が含まれる。これらの添加剤は、成型工程前のあらゆる段階で添加されるであ
ろう。さらに、アルミナがバインダーとして用いられる場合には、成型工程前に
硝酸などの酸を添加して、押出し成型物の機械的強度を増進することが望ましい
であろう。

【００７４】 バインダー物質は成型工程前に添加されることは好ましい。さらに、成型工程
は、水などの液体の存在下に実施されることが好ましい。好ましくは、ＬＯＩと
して表される押出し混合物中の液体量は、２０〜８０％の範囲にある。

【００７５】 得られた成型触媒組成物は、任意の乾燥工程の後、任意に焼成されるであろう
。しかし、焼成は、本発明の方法にはそれほど重要ではない。焼成が本発明の方
法で実施される場合には、例えば１００゜〜６００℃、好ましくは３５０゜〜５
００℃の温度で、０．５〜４８時間行われるであろう。成型粒子の乾燥は、一般
に１００℃超の温度で実施される。

【００７６】 添加プロセス工程 本発明の好ましい実施形態においては、触媒組成物は、成型の前に、噴霧乾燥
、（フラッシュ）乾燥、ミリング、捏和、またはこれらの組合わせにかけられる
。これらのさらなるプロセス工程は、バインダーが添加される前後のいずれか、
固−液分離の後、焼成およびその後の再湿潤の前または後に行われる。噴霧乾燥
、（フラッシュ）乾燥、ミリング、捏和、またはこれらの組合わせの上記の技術
を任意に適用することにより、バルク触媒組成物およびバインダー物質間の混合
程度が増進される。これは、バインダー物質が、任意の上記方法を適用する前ま
たは後に添加される両場合に当てはまる。しかし、一般に、噴霧乾燥および／ま
たはいかなる別の技術の前に、バインダー物質を添加することが好ましい。バイ
ンダーが、噴霧乾燥および／またはいかなる別の技術に続いて添加される場合に
は、得られる組成物は、好ましくは成型の前にあらゆる従来の技術により十分に
混合される。例えば、噴霧乾燥の利点は、この技術が適用される際には、廃水流
れが全く得られないことである。

【００７７】 バインダー添加物に関しては、上記のプロセスの組合わせたが適用されるであ
ろうことに注目しなければならない。例えば、バインダー物質の一部分は、バル
ク触媒組成物の調製中に添加され、そしてバインダー物質の一部分は、成型前に
いかなる次の段階においても添加されるであろう。さらに、また、一種以上の上
記の技術を適用することも可能である。

【００７８】 上の全てのプロセス工程において、液体量は調整されなければならない。例え
ば、触媒組成物を噴霧乾燥する前に、液体量が非常に少ない場合には、さらなる
液体が添加されなければならない。これに反して、触媒組成物の押出し成型前に
、液体量が非常に多い場合には、液体量は、例えば固−液分離（例えば濾過、傾
斜または蒸発による）によって、低減されなければならない。そして、所望によ
り、得られる物質は、乾燥され、次いで所定量に再湿潤されるであろう。上の全
てのプロセス工程ついては、液体量を適切に調整することは、当業者の範囲内で
ある。一般に、プロセス工程（ｉ）および（ｉｉ）における液体量が、噴霧乾燥
および／またはいかなる別の技術もしくは成型の前に、さらなる乾燥工程が必要
でないように、選択されることが好ましいだろう。さらに、例えば噴霧乾燥およ
び／または捏和されて得られた組成物が、液体量（組成物を直接成型することを
可能にする）を含むように、あらゆる上記の技術を実施することが好ましい。噴
霧乾燥は、好ましくは１００゜〜２００℃、より好ましくは１２０゜〜１８０℃
の範囲の吐出温度で実施される。

【００７９】 上記のバインダー物質に加えて、従来の水素化脱窒素触媒を添加することも可
能である。これらの触媒は、使用済み、再生または新規の状態で添加されるであ
ろう。原則として、それは、従来の水素化脱硫などの水素処理触媒であり、そし
てバインダー物質またはその前駆体に換えてこれらの触媒を添加することが可能
である。換言すれば、バインダー物質またはその前駆体が従来の水素処理触媒に
より完全にまたは一部分置換されるすべての上記のプロセス選択肢を実施するこ
とが可能である。原則として、従来の水素処理触媒は、成型工程の前に、本発明
の方法のいかなる段階においても添加されるであろう。本説明の文脈において、
「成型工程の前のプロセスのいかなる段階においても」とは、次を意味している
。すなわち、バルク触媒組成物の調製中および／または調製後（しかしバインダ
ーの添加の前）、および／またはバインダー物質の添加中および／または添加後
（しかし噴霧乾燥またはいかなる別の方法の前、および／または成型工程（複合
化工程（ｉｉ）において従来の水素処理触媒をバインダーと共に添加することが
可能である）の前の噴霧乾燥またはいかなる別の方法の最中および／または後）
ことを意味する。所望により、従来の水素処理触媒は、１０前に粉砕され、そし
て本発明の方法に適用されるであろう。

【００８０】 さらに、分解成分は、本発明の方法中に添加されるであろう。本発明の意味の
分解成分とは、カチオン性粘土、アニオン性粘土、ゼオライト（ＺＳＭ−５、（
超安定）ゼオライトＹ、ゼオライトＸ、ＡＬＰＯ、ＳＡＰＯなど）、非晶質分解
成分（シリカ−アルミナなど）、またはこれらの混合物などの任意の従来の分解
成分である。いくつかの物質は、バインダーとして機能し、そして同時に分解成
分として機能することは明らかであろう。例えば、シリカ−アルミナは、分解お
よびバインダー機能を同時に有するであろう。

【００８１】 所望により、分解成分は、バルク触媒組成物と複合化される前および／または
その調製中に添加される前に、第ＶＩＢ族金属および／または第ＶＩＩＩ族非貴
金属と複合化されるであろう。分解成分と任意のこれらの金属との複合化は、分
解成分をこれらの物質と共に含浸することにより実施される。

【００８２】 分解成分は、成型工程前に、本発明の方法のいかなる段階においても添加され
るであろう。しかし、バインダーとの複合化工程（ｉｉ）において、分解成分を
添加することが好ましい。

【００８３】 一般に、それは、上記の分解成分が添加される最終触媒組成物の予想される触
媒の応用法に依る。得られた組成物が、水素化分解または流動性触媒分解に適用
される場合には、ゼオライトが好ましくは添加される。最終触媒組成物が、水素
処理応用で用いられる場合には、シリカ−アルミナまたはカチオン性粘土などの
他の分解成分が、好ましくは適用される。添加される分解物質の量は、最終組成
物の所望の活性、および予想される応用法に依る。したがって、これは、触媒組
成物の総重量を基準にして０〜８０重量％で変化するであろう。

【００８４】 消耗により、さらなる物質が、工程（ｉ）で既に添加された金属成分に加えて
添加されるであろう。これらの物質には、従来の水素処理触媒の調製中に添加さ
れるいかなる物質も含まれる。適切な例は、リン化合物、バリウム化合物、蛍石
含有化合物、別の遷移金属、希土類金属、フィラー、またはこれらの混合物であ
る。

【００８５】 適切なリン化合物には、燐酸アンモニウム、燐酸、または有機リン化合物が含
まれる。リン化合物は、成型工程の前および／または後において、本発明の方法
のあらゆる段階で添加されるであろう。また、バインダー物質が解膠される場合
には、リン化合物が解膠に用いられるであろう。例えば、バインダーを、燐酸ま
たは燐酸と硝酸との混合物と接触させることによって、バインダーは解膠される
であろう。

【００８６】 適切な別の遷移金属は、例えばレニウム、ルテニウム、ロジウム、イリジウム
、クロム、バナジウム、鉄、コバルト、プラチナ、パラジウム、コバルト、ニッ
ケル、モリブデン、またはタングステンである。ニッケル、モリブデン、および
タングステンは、あらゆる不水溶性のニッケル、モリブデンおよび／またはタン
グステン成分（固体ルートについて上記述される）の形状で適用されるであろう
。これらの金属は、成型工程前に、本発明の方法のあらゆる段階で添加されるで
あろう。本発明の方法においてこれらの金属を添加することに加えて、また、最
終触媒組成物をその方法で複合化することも可能である。例えば、最終触媒組成
物を、あらゆるこれらの金属を含む含浸溶液を用いて含浸することが可能である
。

【００８７】 バルク触媒組成物を調製するための本発明の方法には、さらに硫化工程が含ま
れるであろう。硫化は、一般に触媒組成物またはその前駆体を、元素硫黄、硫化
水素、または多硫化物などの硫黄含有化合物と接触することにより実施される。
硫化は、一般に次のように実行されるであろう。すなわち、バルク触媒組成物の
調製後（バインダー物質の添加前）、および／またはバインダー物質の添加の後
（触媒組成物を噴霧乾燥および／またはあらゆる別の方法にかける前、および／
または組成物を噴霧乾燥および／またはあらゆる別の方法にかけた後（触媒組成
物の成型の前および／または後））に実行されるであろう。硫化は、得られた金
属硫化物がそれらの酸化物に戻るあらゆるプロセス工程の前には、実施されない
ことが好ましい。これらのプロセス工程は、例えば酸素の存在下での焼成、噴霧
乾燥、または他のあらゆる高温処理である。したがって、触媒組成物が噴霧乾燥
および／またはあらゆる別の技術にかけられる場合には、硫化は、あらゆるこれ
らの方法を応用した後に実施されるであろう。

【００８８】 硫化工程に加えて、またはこれに換えて、バルク触媒組成物は、少なくとも一
種の金属硫化物から調製されるであろう。例えば、固体ルートが工程（ｉ）で適
用される場合には、バルク触媒成分は、硫化ニッケルおよび／または硫化モリブ
デンおよび／または硫化タングステンから調製されるであろう。

【００８９】 触媒組成物が固定床プロセスで用いられる場合には、硫化は、好ましくは成型
工程の後に実施され、そして適用される場合には、最終焼成工程の後に実施され
る。好ましくは、硫化は現場で実施される、すなわち、硫化は、硫化された触媒
組成物を水素処理装置に充填する前に別の反応器で実施される。さらに、触媒組
成物は、現場外および現場の両方で硫化されることが好ましい。

【００９０】 本発明の触媒組成物 さらに、本発明は、上記いかなる方法によっても得られる触媒組成物に関する
。さらに、本発明は、バルク触媒粒子を含む触媒組成物に関する。その際、バル
ク触媒粒子は、少なくとも一種の第ＶＩＩＩ族非貴金属および少なくとも一種の
第ＶＩＢ族金属を、バルク触媒粒子の全重量を基準にして、金属酸化物として計
算して３０〜１００重量％を含み、またバルク触媒粒子は、少なくとも１０ｍ^２ ／ｇの表面積を有する。

【００９１】 一つの第ＶＩＩＩ族非貴金属および二つの第ＶＩＢ族金属を含むバルク触媒粒
子を含む触媒組成物が好ましい。この場合には、バルク触媒粒子は焼結耐性があ
ることが見出された。したがって、バルク触媒粒子の活性表面積は、使用の間保
持される。第ＶＩＢ族：第ＶＩＩＩ族非貴金属のモル比は、一般に１０：１〜１
：１０、好ましくは３：１〜１：３の範囲である。コア−シェル構造の粒子の場
合には、コースのこれらの比は、シェルに含まれる金属に当てはまる。一つ以上
の第ＶＩＢ族金属がバルク触媒粒子に含まれる場合には、異なる第ＶＩＢ族金属
の比は、一般に決定的ではない。一つ以上の第ＶＩＩＩ族非貴金属が適用される
場合には、同じに保持される。モリブデンおよびタングステンが第ＶＩＢ族金属
として存在する場合には、モリブデン：タングステン比は、好ましくは９：１〜
１：９の範囲にある。好ましくは、第ＶＩＩＩ族非貴金属は、ニッケルおよび／
またはコバルトを含む。さらに、第ＶＩＢ族金属は、モリブデンおよびタングス
テンの組合わせを含むことが好ましい。好ましくは、ニッケル／モリブデン／タ
ングステン、コバルト／モリブデン／タングステンおよびニッケル／コバルト／
モリブデン／タングステンの組合わせが用いられる。沈殿物のこれらのタイプは
、焼結耐性があると思われる。したがって、沈殿物の活性表面積が、使用の間保
持される。

【００９２】 好ましくは、金属は、対応する金属の酸化化合物、または触媒組成物が硫化さ
れる場合には、対応する金属の硫化化合物として存在する。

【００９３】 次に（「粒子」として示される次に）、本発明の触媒組成物に存在するバルク
触媒粒子は、さらに詳細に説明されよう。

【００９４】 好ましくは、粒子は、Ｂ．Ｅ．Ｔ法ＶＩＢで測定して、少なくとも５０ｍ^２／
ｇ、より好ましくは少なくとも１００ｍ^２／ｇの表面積を有する。さらに、粒子
は、少なくとも一種の第ＶＩＩＩ族非貴金属および少なくとも一種の第ＶＩＢ族
金属を、粒子の全重量を基準にして、金属酸化物として計算して５０〜１００重
量％で含むことが好ましく、さらにより好ましくは７０〜１００重量％である。
第ＶＩＢ族および第ＶＩＩＩ族非貴金属の量は、ＶＩＢ ＴＥＭ−ＥＤＸで容易
に決定されるであろう。

【００９５】 粒子の細孔サイズ分布は、通常の水素化触媒のものとほぼ同じであることが望
ましい。さらに特に、これらの粒子は、窒素吸着で測定して好ましくは０．０５
〜５ｍｌ／ｇ、より好ましくは０．１〜４ｍｌ／ｇ、さらにより好ましくは０．
１〜３ｍｌ／ｇ、最も好ましくは０．１〜２ｍｌ／ｇの細孔容積を有する。好ま
しくは、１ｎｍより小さな細孔は存在しない。さらに、これらの粒子は、好まし
くは少なくとも５０ｎｍ、より好ましくは少なくとも１００ｎｍのメジアン直径
を有し、そして好ましくは５０００ｎｍ未満、より好ましくは３０００ｎｍ未満
である。さらに、メジアン直径はより好ましくは０．１〜５０μｍの範囲、最も
好ましくは０．５〜５０μｍの範囲にある。

【００９６】 バルク触媒粒子は、共混合により得られた触媒および含浸により得られた通常
の水素処理触媒とは異なる固有Ｘ線回折パターンを有することが見出された。バ
ルク触媒粒子の固有Ｘ線回折パターンには、反応した金属成分に特有のピークが
含まれ、そして好ましくは実質的にこれらのピークからなる。例えばヒドロキシ
炭酸ニッケルが、上記したようにモリブデンおよびタングステンと接触した場合
には、得られたバルク触媒粒子は、（４．０９）、２．８３．２．５４、２．３
２、２．２３、１．７１、（１．５４）、１．４７のｄ値にピークを含むＸ線回
折パターンで特性付けられる。括弧値は、対応するピークがむしろ広範囲あるこ
とおよび／または小さな強度であるか全く識別できないかであることを示す。用
語「Ｘ線回折パターンが実質的にこれらのピークからなる」は、これらのピーク
を除いて、回折パターンには更なるピークが実質的に全く含まれないことを意味
する。溶液ルートにより得られた触媒の沈殿物は、共混合により得られた触媒お
よび含浸により得られた通常の水素処理触媒とは異なる固有Ｘ線回折パターンを
有する。例えば、溶液ルートにより調製されたＮｉ−Ｍｏ−Ｗ沈殿物のＸ線回折
パターンは、２．５２、１．７２および１．４６のｄ値にピークを有する。

【００９７】 一般に、上記した方法を次のようにして実施することが可能である。すなわち
、この方法で出発物質として用いられる金属成分に特有のピークを実質的に含ま
ないＸ線回折パターンにより特性付けられるバルク触媒粒子が得られるようにし
て実施される。勿論、所望により、これらの金属成分の少なくとも一つに特有な
一つ以上のピークをなお含むＸ線回折パターンにより特性付けられるバルク触媒
粒子が得られるようにして、また金属成分の量を選択することも可能である。例
えば接触の間少なくとも一部分が固体状態である金属成分が多量に加えられる場
合には、またはこの金属成分が大きな粒子の形状で加えられる場合には、この金
属成分の少量が、得られたバルク触媒粒子のＸ線回折パターンで確認されるであ
ろう。

【００９８】 一般に、固体ルートが用いられる場合には、金属の少なくとも一つは、粒子に
不均等に分配される。固体ルートを通して少なくとも一部分が固体状態である金
属成分の金属は、一般に内部（すなわち最終粒子のコア）に濃縮される。一般に
、外部（すなわち粒子のシェル）のこの金属濃度は高々９５％であり、そして殆
どの場合、粒子のコアにおけるこの金属の濃度に対して高々９０％である。さら
に、固体ルートを通して少なくとも一部分が固質状態で用いられる金属成分の金
属も、また粒子に不均等に分配されることが見出された。より詳しくは、粒子の
コアにおけるこの金属の濃度は、一般にシェルにおけるこの金属の濃度より低い
。さらにより詳しくは、粒子のコアにおけるこの金属の濃度は、シェルにおける
この金属の濃度に対して高々８０％、しばしば高々６５％、ときには高々５０％
である。上記した不均等な金属分配は、組成物の焼成の有無および／または硫化
とは無関係に、本発明の組成物において形成されるであろうことは注目すべきで
ある。

【００９９】 上記の場合、シェルは、一般に５０〜１０００ｎｍ、好ましくは１００〜５０
０ｎｍの厚みを有する。本発明の触媒組成物におけるこれらの粒子の量は、触媒
組成物の全重量を基準にして、好ましくは５〜１００重量％の範囲にある。

【０１００】 前述したように、触媒組成物には、さらに適切なバインダー物質が含まれる。
適切なバインダー物質は、好ましくは上記したものである。粒子は、粒子同士を
固定する膠として機能するバインダー物質中に埋め込まれる。好ましくは、粒子
亜ｈ、バインダー内に均一に分配される。したがって、バインダーが存在するこ
とにより、一般に最終触媒組成物の機械的強度が増加される。一般に、本発明の
触媒組成物は、少なくとも１ｌｂ／ｍｍ、好ましくは少なくとも３ｌｂ／ｍｍの
側面破砕強度（直径１〜２ｍｍの押出し成型物を用いて測定する）で表される機
械的強度を有する。バインダー物質には、一般に第ＶＩＢ族および第ＶＩＩＩ族
非貴金属（これらはまた粒子中に含まれる）が０〜９０重量％で含まれる。バイ
ンダー物質には、工程（ｉ）のバルク触媒組成物と組合わされる前に、これらの
金属のいずれとも複合化されなかった場合にさえ、一般にこれらの金属が含まれ
る。

【０１０１】 バインダーの量は、触媒組成物の所望の活性に依る。予想される触媒の応用方
法にしたがって、全組成物の０〜９５重量％のバインダー量が適切であろう。し
かし、本発明組成物の非常に高い活性を利用するには、バインダー量は一般に全
組成物の０．５〜７５重量％の範囲である。

【０１０２】 所望により、触媒組成物には、適切な分解成分が含まれよう。適切な分解成分
とは好ましくは上記したものである。分解成分の量は、触媒組成物の全重量を基
準にして好ましくは０〜８０重量％の範囲である。

【０１０３】 前述されたように、触媒組成物には通常の水素処理触媒が含まれる。通常の水
素処理触媒のバインダー物質および分解成分には、一般に上述したバインダー物
質および分解成分のいかなるものも含まれる。通常の水素処理触媒の水素添加金
属には、一般にニッケルまたはコバルトと、モリブデンまたはタングステンとの
組合わせなどの第ＶＩＢ族および第ＶＩＩＩ族非貴金属が含まれる。適切な通常
の水素処理触媒は、例えば水素化触媒である。これらの触媒は、使用済み、再生
または新規の状態にあろう。

【０１０４】 さらに、触媒組成物には、水素処理触媒に通常存在するいかなる化合物も含ま
れるであろう。例えば、リン化合物、別の遷移金属、希土類金属、またはこれら
の混合物である。適切な別の遷移金属は、例えばレニウム、ルテニウム、ロジウ
ム、イリジウム、クロミウム、バナジウム、鉄、コバルト、プラチナ、パラジウ
ム、コバルト、ニッケル、モリブデン、またはタングステンである。すべてのこ
れらの金属化合物は、触媒組成物が焼成された場合には一般に酸化型で存在する
か、または触媒組成物が硫化された場合には硫化型で存在するかの両方またはい
ずれかである。

【０１０５】 触媒組成物の表面積は、好ましくは少なくとも４０ｍ^２／ｇ、より好ましくは
少なくとも８０ｍ^２／ｇ、最も好ましくは少なくとも１２０ｍ^２／ｇ、である。
触媒組成物の全細孔容積は、水多孔度分析によって測定して、好ましくは少なく
とも０．０５ｍｌ／ｇ、より好ましくは少なくとも０．１ｍｌ／ｇである。高い
機械的強度を有する触媒組成物を得るためには、本発明の触媒組成物は、マクロ
多孔度が小さいことが望ましいであろう。

【０１０６】 特性化方法 １．側面破砕強度の測定 先ず、例えば押出し成型物の長さを測定し、次いで押出し成型物に可動ピスト
ンにより圧縮負荷をかける。粒子を破砕するのに必要な力を測定する。この手順
を、少なくとも４０個の押出し成型物の粒子について繰り返し、平均値を、単位
長さ（ｍｍ）当たりの力（ｌｂｓ）として計算する。

【０１０７】 ２．水による多孔度分析 試料の細孔容積を、細孔空間を水で飽和するように充填することによって測定
する。水の分量は、試料に加えた容量または重量増によって測定される。細孔空
間は、水をビュレットから試料に増量的に加えて充填し、試料の外側に湿潤の兆
候が最初に現れるまで、各添加後に激しく撹拌されるであろう。他の可能性は、
多孔性の底部を取付けた管に入れた試料を、超音波浴において水で飽和すること
である。過剰な水（空間に存しない水）を、ＶＩＢ遠心分離で除去し、次いで乾
燥および飽和触媒の重量差を用いて、全水補足量が測定される。これより、細孔
容積が計算される。

【０１０８】 ３．着火失損（ＬＯＩ）の測定 試料をよく撹拌して不均一性を防止する。秤量し混合された試料を、予熱し秤
量されたるつぼに移す。次いで、るつぼを、乾燥オーブンまたは冷マッフル炉に
入れて温度を上げる。試料は１時間この温度で乾燥または着火するまで加熱する
。乾燥または着火するまで加熱された試料を入れたるつぼを、デシケーター中で
冷却し、再度秤量する。

【０１０９】 ＬＯＩは、次の式

【数１】 （式中、ａは試料の重量（グラム）、ｂは乾燥および／または着火前のるつぼお
よび試料の量（グラム）、またｃは乾燥および／または着火後のるつぼおよび試
料の重量（グラム）である。）にしたがって決定される。

【０１１０】 本発明の方法においては、溶液中の第ＶＩＩＩ族非貴金属含有化合物および溶
液中の第ＶＩＢ族金属含有化合物が反応する。したがって、金属化合物は、溶解
状態である。第ＶＩＩＩ族非貴金属含有化合物および溶液中の第ＶＩＢ族金属含
有化合物は、反応混合物に加えられる場合には溶液であるか、さもなければ反応
混合物中に存在する場合には溶解するであろう。後者の場合、金属は、例えば、
撹拌することにより、溶剤量を増加することにより、温度を変えることにより、
圧力を変えることにより、またはｐＨを変えることにより、反応混合物中に激し
く溶解する。金属は、水、カルボン酸、低級アルコール（エタノール、プロパノ
ールなど）、またはこれらの混合物などのプロトン性液体にも溶解するであろう
。勿論、沈殿反応を妨げないプロトン性液体が選択されなければならない。

【０１１１】 これらの溶解塩が加えられる場合には、反応混合物中に溶解するであろう。続
いて、これらは第ＶＩＢ族金属で沈殿されるであろう。本明細書の文脈において
は、溶解とは、反応混合物の温度およびｐＨで溶剤に溶解することを意味する。
水に溶解する適切なニッケル、鉄およびコバルト塩は、硝酸塩、含水硝酸塩，塩
化物、含水塩化物、硫酸塩、含水硫酸塩、Ｎｉ−Ｍｏ−Ｗのヘテロポリアニオン
化合物（沸騰水に溶解性である）、Ｃｏ−Ｍｏ−Ｗのヘテロポリアニオン化合物
（沸騰水に溶解性である）である。また、添加する際に溶液でない第ＶＩＩＩ族
非貴金属含有化合物を加えることも可能である。しかし、反応混合物中では溶液
である。これらの化合物の例は金属化合物であり、これは非常に多くの結晶水を
含むので、温度が上昇した際に金属化合物は自身の結晶水に溶解するであろう。
さらに、非貴金属塩は、懸濁状態などで加えられるであろう。そして、反応混合
物では溶液である。適切な非溶解性金属塩は、Ｃｏ−Ｍｏ−Ｗのヘテロポリアニ
オン化合物（冷水に適度に溶解性である）、Ｎｉ−Ｍｏ−Ｗのヘテロポリアニオ
ン化合物（冷水に適度に溶解性である）である。

【０１１２】 適切な第ＶＩＢ族金属は、クロム、モリブデン、タングステン、またはこれら
の混合物である。適切なクロム、モリブデン、およびタングステン化合物は、適
切なクロム、モリブデン、およびタングステン塩である。上記の塩は、反応混合
物に溶液で加えられ、湿潤されるなどであろう。溶解性塩がこのように加えられ
る場合には、これらは反応混合物に溶解するであろう。続いて、第ＶＩＩＩ族非
貴金属で沈殿される。水に溶解性である適切な第ＶＩＢ族金属塩は、ジモリブデ
ン酸アンモニウム、トリ−、テトラ−、へプタ−、オクタ−およびテトラ−デカ
モリブデン酸アンモニウム、パラ−、メタ−、ヘキサ−およびポリタングステン
酸アンモニウム、アルカリ金属塩、第ＶＩＢ族金属の珪酸塩（珪酸モリブデン、
タングステン酸シリカモリブデン、タングステン酸，メタタングステン酸、過タ
ングステン酸、Ｍｏ−Ｐ、Ｍｏ−Ｓｉ、Ｗ−ＰおよびＷ−Ｓｉのヘテロポリアニ
オン化合物など）などのアンモニウム塩である。また、添加時に溶液でないが、
反応混合物で溶液である第ＶＩＢ族金属含有化合物を加えることも可能である。
これらの化合物の例は、結晶水を多量に含み、温度が上昇した際にその金属自体
の水に溶解するであろう金属化合物である。さらに、非溶解性金属塩は、懸濁状
態などで加えられるであろう。そして、反応混合物では溶液である。適切な非溶
解性金属塩は、Ｃｏ−Ｍｏ−Ｗのヘテロポリアニオン化合物（冷水に適度に溶解
性である）、Ｎｉ−Ｍｏ−Ｗのヘテロポリアニオン化合物（冷水に適度に溶解性
である）である。

【０１１３】 上記から明らかなように、第ＶＩＩＩ族非貴金属含有化合物および溶液中の第
ＶＩＢ族金属含有化合物を、種々の方法、種々の温度およびｐＨ、溶液、懸濁液
などで、同時または連続して加えることが可能である。５種の沈殿方法が、さら
に詳細に示されよう。 １．一定ｐＨでの同時沈殿であり、この方法では、第ＶＩＩＩ族非貴金属含有酸
塩は、第ＶＩＢ族金属含有化合物の溶液を含む塩基を加えることによって、一定
温度に保持されかつｐＨが一定に保持されたプロトン性液体を含む反応容器に、
ゆっくり加えられる。ｐＨは、（選択された反応温度で）沈殿が起こるように設
定される。第ＶＩＩＩ族金属含有化合物は、溶液などに加えられる。この方法で
調製された沈殿は、調合速度（スラリーの近前方散乱（Ｍａｌｖｅｒｎ）で測定
される１０μｍより大きな低い調合速度）によって、比較的大きな粒子サイズを
有し、そして１００ｍ^２／ｇ以上の大きな表面積を有することが見出された。 ２．同時沈殿であり、この方法では、第ＶＩＩＩ族非貴金属含有化合物および第
ＶＩＢ族金属含有化合物のいずれも、プロトン性液体および温度が上昇した際に
分解する化合物を含む反応容器にゆっくりかつ同時に加えられ、そのためにｐＨ
が増加または減少する。反応容器の温度は、上記の化合物の分解温度に保持され
る。この場合、ｐＨの変化によって沈殿が起こり、そして反応開始時のｐＨは、
沈殿後の最終ｐＨと異なる。この方法で得られた沈殿は、比較的大きな粒子サイ
ズ（１５μｍより大きい）を有することが見出された。 ３．沈殿であり、この方法では、第ＶＩＩＩ族非貴金属含有化合物が、第ＶＩＢ
族金属含有化合物をプロトン性液体および温度が上昇した際に分解する化合物に
溶解して含む反応容器に（またはその逆に）ゆっくり加えられ、そのためにｐＨ
が増加または減少する。反応容器の温度は、上記の化合物の分解温度に保持され
る。この場合、ｐＨの変化によって沈殿が起こり、そして反応開始時のｐＨは、
沈殿後の最終ｐＨと異なる。この方法で得られた沈殿は、比較的小さな粒子サイ
ズ（１〜１０μｍ）を有することが見出された。さらに、実際に沈殿物になる第
ＶＩＢ族金属化合物の量は、上記の他の沈殿方法のいずれにおいてより大きいこ
とが見出された。 ４．一定ｐＨでの同時沈殿であり、この方法では、第ＶＩＩＩ族非貴金属含有酸
化合物は、第ＶＩＢ族金属含有化合物をプロトン性液体に溶解して含む反応容器
にゆっくり加えられるか、またはその逆である。ｐＨは、反応容器に酸または塩
基を加えることによって、（選択された温度で）沈殿が起こるように保持される
。 ５．それ自体の結晶水への金属化合物を溶解し、続いて水を蒸発させて沈殿を越
させることである。この方法では、第ＶＩＩＩ族非貴金属含有化合物および第Ｖ
ＩＢ族金属含有化合物は、反応容器で混合され、加熱される。金属を溶解した後
、任意の減圧下で水が蒸発され、沈殿が起こる。

【０１１４】 本発明の一実施形態は、第ＶＩＩＩ族非貴金属含有化合物および第ＶＩＢ族金
属含有化合物を含む触媒組成物を調製する方法に関する。すなわち、溶液中の第
ＶＩＩＩ族非貴金属含有化合物、および溶液中の第ＶＩＢ族金属含有化合物は、
沈殿が、少なくとも一部分であってすべてより少ないモリブデンがタングステン
に置換したモリブデン酸ニッケルではないという条件で、反応混合物中で反応さ
れて、沈殿が得られる。

【０１１５】 沈殿に続いて、沈殿物を液体から単離し、乾燥する。濾過、遠心分離、傾斜、
などのすべての通常の単離方法が用いられよう。また、オーブン乾燥、噴霧乾燥
などのすべての通常の乾燥方法が適切である。また、沈殿物は、室温で乾燥され
よう。

【０１１６】 任意に、沈殿物は、空気、スチームなどの酸素含有雰囲気、スチームおよび酸
素含有雰囲気、または不活性雰囲気で熱処理される。上記の熱処理は、１００〜
６００℃、好ましくは３５０〜５００℃の温度で実施される。

【０１１７】 本発明の溶液方法のさらなる実施形態においては、充填材が、反応混合物およ
び／または沈殿物に加えられよう。充填材は、触媒組成物に加えられて、触媒が
非常に活性である場合に触媒が希釈されるか、または密度が調整される。これら
の充填材は、この方法のいかなる段階においても懸濁などで加えられ、加えられ
る他のいかなる成分とも組合わされる。適切な充填材には、水素処理触媒、再生
水素処理触媒、新規水素処理触媒、粘度、およびこれらの混合物が含まれる。

【０１１８】 また、前駆体化合物は、ＴｅｉｃｈｎｅｒおよびＡｓｔｉｅｒにより用いられ
る沸騰分解方法の変形方法を含めて、数種の方法のうちの一つにより容易に調製
されるであろう。この場合、タングステン化合物は、モリブデン塩、ニッケル塩
および水酸化アンモニウムの最初の混合物に加えられる。また、直接沈殿および
ｐＨ制御沈殿も、前駆体化合物を調製するのに用いられるであろう。しかし、す
べての場合に、ニッケル、モリブデンおよびタングステンの水溶性塩が用いられ
る。

【０１１９】 好ましくは、モリブデンおよびタングステン塩はアンモニウム化合物である。
例えば、モリブデン酸アンモニウム、メタタングステン酸アンモニウムであり、
一方ニッケル塩は、硝酸塩または水和硝酸塩である。

【０１２０】 沸騰分解方法においては、塩は、水に溶解されて酸性溶液を生成する。その後
、さらなるＮＨ_４ＯＨが加えられて塩基性溶液が生成される。次いで、溶液は、
沸騰加熱されて、アンモニアを放散し、沈殿物が形成され、これは濾過され、そ
して例えば１００〜１２５℃で乾燥される。

【０１２１】 直接沈殿方法においては、最初にモリブデン酸塩およびタングステン酸塩の塩
は、水に溶解され、ＮＨ_４ＯＨが加えられて塩基性溶液が生成される。そして、
溶液は加熱される。加熱された（例えば９０℃）ニッケル塩溶液（水性）は、最
初の溶液にゆっくり加えられて、沈殿物が形成される。溶液は熱濾過されて乾燥
される。沸騰分解方法および直接沈殿方法のいずれにおいても、濾過物の洗浄は
、最小にして浸出が防止される。

【０１２２】 一般に、すべての成分（Ｎｉ，Ｍｏ、Ｗ、ＮＨ_３）は、溶液中に一緒に混合さ
れ、そしてｐＨ＜７に加熱されて沈殿物（すなわち前駆体化合物）を形成する。
これは、二つの方法のいずれかによって達成される。すなわち、（１）すべての
成分を過剰のアンモニアと共に加えて成分を溶解し、次いで加熱してアンモニア
を放散する。ｐＨ＜７である（加熱は１００℃未満，好ましくは約５０〜９０℃
であろう）。または、（２）各成分の一種以上の別の溶液を一緒に加える（最終
ｐＨは＜７である）。いずれの場合も得られた沈殿物が回収される。

【０１２３】 他の実施形態においては、バインダーがバルク混合金属酸化物に加えられて、
粒子保全性が保持されるであろう。バインダーは、シリカ、アルミナ、シリカ−
アルミナまたは一般に粒子のバインダーとして知られる他の物質であろう。バイ
ンダーが用いられる場合には、その量は、好ましくは最終触媒の約１〜３０重量
％、好ましくは最終触媒の約５〜２６重量％の範囲であろう。

【０１２４】 前駆体生成物が回収された後、調整方法かかわらず、前駆体は、適切な不活性
または空気雰囲気で、約３００〜４５０℃の範囲の温度で分解される。

【０１２５】 分解された前駆体は、種々の知られた方法によって、硫化または予備硫化され
るであろう。例えば、分解生成物は、Ｈ_２Ｓおよび水素を含むガス（例えば１０
％Ｈ_２Ｓ／Ｈ_２）と、分解生成物が硫化されるのに効果的な時間（通常出口ガス
のＨ_２Ｓブレークスルー点）で高温で接触されるであろう。また、硫化は、硫黄
を含む典型的な原料を分解生成物に通すことによって、現場で行なわれるであろ
う。

【０１２６】 また、窒素を含むいかなる炭化水素も、本発明の改良触媒を用いて処理するこ
とができよう。したがって、これらの触媒を用いるＨＤＮ方法は、石油留出油か
ら残油材（直留または分解のいずれも）および石炭油またはシェール油などの合
成油にいたる範囲であろう。特に、ＨＤＮ方法は、高レベルの窒素を、例えば全
窒素化合物で少なくとも約５００ｗｐｐｍで含む原料に有効である。窒素除去率
は、少なくとも約５０％、好ましくは少なくとも約８０％である。

【０１２７】 本明細書に示される触媒を用いることができるプロセス条件は、処理する原料
によって広範囲に変化するであろう。したがって、原料の沸点が上昇すると、条
件の過酷度もまた上昇するであろう。以下の表は、原料範囲に対する典型的な条
件を示すのに提供される。

【０１２８】

【表１】

【０１２９】 本明細書に開示された本発明は優れた水素添加活性を示すものの、また、殆ど
のＨＤＮ触媒は、水素化脱硫活性（ＨＤＳ）活性を示すであろう。したがって、
本明細書に開示の触媒およびプロセスは、窒素および硫黄のいずれをも含む原料
に対して有用であり、特に窒素が多い原料に対して有用であろう。

【０１３０】 以下の実施例は、本発明を説明するのに用いられるが、本発明を限定しないで
あろう。

【０１３１】 実施例１ ＮＨ_４−Ｎｉ−Ｍｏ−Ｏ相の調製（ＴｅｉｃｈｎｅｒおよびＡｓｔｉ
ｅｒ法による沸騰分解） １リットルフラスコにおいて、モリブデン酸アンモニウム２６．５ｇ（０．１
５モルのＭｏ）および硝酸ニッケル六水和物４３．６ｇ（０．１５モルのＮｉ）
を、水３００ｃｃに溶解して、ｐＨを４．３とした。この溶液に、濃ＮＨ_４ＯＨ
を加えた。最初に、沈殿物が形成されたが、これはＮＨ_４ＯＨをさらに添加する
と溶解して、ｐＨ８．３の清澄な青色溶液がもたらされた。そして、ＮＨ_４ＯＨ
（〜２５０ｃｃ）を、ｐＨ１０が得られるまでさらに添加した。さらに、溶液を
アンモニアガスが発生して緑色沈殿物が形成されるまで９０℃に３時間加熱した
。最終ｐＨを６．８〜７．０にした。懸濁液を、室温に冷却し、濾過し、水洗浄
して、１２０℃で一夜乾燥した。物質約１８．６ｇが得られた。試料は、Ｎｉが
２６．６重量％およびＭｏが３４重量％と分析された。この相のＸ線回折スペク
トルは、Ｔｅｉｃｈｎｅｒにより報告されたパターンと一致している。

【０１３２】 実施例２ 沸騰分解によるＮＨ_４−Ｎｉ−Ｍｏ_０．５Ｗ_０．５−Ｏの調製 １リットルフラスコにおいて、モリブデン酸アンモニウム１３．２ｇ（０．０
７５モルのＭｏ）および硝酸ニッケル六水和物４３．６ｇ（０．０７５モルのＮ
ｉ）を、水３００ｃｃに溶解して、ｐＨを４．３とした。この溶液に、濃ＮＨ_４ ＯＨ（約６００ｃｃ）を、ｐＨ１０になるまで加えた。この時点で沈殿物がいく
らか残存した。溶液を、約１００℃で３時間環流した。この加熱を通して、沈殿
物は、溶解してｐＨ８．３の清澄な青色溶液をもたらした。そして、さらなる加
熱により緑色沈殿物が形成された。懸濁液を、室温に冷却し、濾過し、水洗浄し
て、１２０℃で一夜乾燥した。物質約１８．６ｇが得られた。相のＸ線回折スペ
クトルは図２に示されるが、これは、ｄ＝２．５８および１．７０Åの二つの最
大ピークを有する非晶質バックグラウンドを示した。

【０１３３】 実施例３ １リットルフラスコにおいて、モリブデン酸アンモニウム１７．６５ｇ（０．
１モルのＭｏ）およびメタタングステン酸アンモニウム２４．６０ｇ（０．１モ
ルのＷ）を、水８００ｃｃに溶解して、溶液のｐＨを約５．２とした。この溶液
に、ＮＨ_４ＯＨ０．４モル（約３０ｃｃ）を添加して、ｐＨを〜９．８に上昇さ
せた（溶液Ａ）。溶液を９０℃に加熱した。第二の溶液を、硝酸ニッケル５８．
２ｇを加えて調製し（０．２モルのＮｉ）、これを水５０ｃｃに溶解して９０℃
で保持した（溶液Ｂ）。この溶液を、モリブデン酸アンモニウム／メタタングス
テン酸アンモニウム溶液中に、７ｃｃ／分の速度で滴下して添加した。沈殿物は
、溶液の１／４が添加された後形成され始めた。ｐＨが約６．５であるこの懸濁
液を、３０分間撹拌し、一方温度を９０℃に保持した。物質を、熱濾過し、熱水
洗浄して、１２０℃で乾燥した。物質約３８ｇが回収された。

【０１３４】 実施例４ ｐＨを制御した沈殿によるＮＨ_４−Ｎｉ−Ｍｏ_０．５−Ｍｏ_０．５Ｗ _０．５ ―Ｏの調製 二つの溶液を、同量のニッケル、タングステン、モリブデンおよび水酸化アン
モニウムを用いて、各溶液が水約７００ｃｃを含むことを除いて実施例３（容器
ＡおよびＢ）に示されるようにして調製した。二つの溶液を、始めに９０℃にし
た水４００ｃｃを含む別々の容器中に加えた。溶液Ｂ（酸性溶液）を、〜１５ｃ
ｃ／分の一定速度で容器中に圧送し、一方溶液Ａを、フィードバックＰＣ制御し
て別のポンプを通して加え、ｐＨ６．５に保つようにした。二つの溶液を混合し
た際に、沈殿が形成された。スラリーを９０℃で３０分間撹拌し、熱濾過し、熱
水洗浄して、１２０℃で乾燥した。

【０１３５】 実施例５ ジベンゾチオフェン（ＤＢＴ）を用いる触媒評価 実施例１〜４の触媒１．５〜２ｇを、石英ボートに入れ、これを次に水平の石
英管中に挿入し、Ｌｉｎｄｂｅｒｇ炉に入れた。Ｎ_２を５０ｃｃ／分で流しなが
ら、温度を約一時間かけて３７０℃に上げた。そして、その流量を３７０℃で１
．５時間続けた。Ｎ_２を止め、次いで１０％Ｈ_２Ｓ／Ｈ_２を反応器に２０ｃｃ／
分で加え、温度を４００℃に上げて２時間保持した。次に、加熱を止め、触媒を
Ｈ_２Ｓ／Ｈ_２気流中で７０度に冷却し、その時点で気流を停止し、Ｎ_２を加えた
。室温で、石英管を取り出し，物質をＮ_２充填したグローブボックス中に移した
。触媒を、一定水素流に設定された３００ｃｃ修正Ｃａｒｂｅｒｒｙバッチ反応
器で評価した。触媒を丸剤にし、２０／４０メッシュにサイジングし、１グラム
をステンレススチールのかご形容器に充填し、これをムライトビードの層間にサ
ンドウィッチにした。デカリン中にジベンゾチオフェン５重量％を含む液体原料
１００ｃｃをオートクレーブに入れた。水素流１００ｃｃ／分を反応器を通して
送り、圧力を背圧レギュレーターを用いて３１５０ｋＰに保持した。温度を５〜
６度／分で３５０℃に上げ、５０％のＤＢＴが転化されるか、または７時間経過
するかのいずれかまで運転した。生成物の小量を３０分毎に取り出してＧＣで分
析した。反応生成物（ビフェニル（ＢＰ）およびシクロヘキシルべンゼン（ＣＨ
Ｂ））への転化率と同様に、全体の転化率に対する速度定数を、Ｍ．Ｄａａｇｅ
およびＲ．Ｒ．Ｃｈｉａｎｅｌｌｉ［Ｊ．Ｃａｔ．（第１４９号、第４１４〜２
７頁、１９９４年）］により示されるようにして計算し、表１に示した。論文に
示されるように、脱硫反応におけるＢＰに関してシクロヘキシルべンゼンの優れ
た選択性は、高い脱窒素活性を有する触媒の良好な指標であり、一方ＣＨＢに関
して高いＢＰに選択性は、高い脱硫活性を有する触媒の指標である。

【０１３６】 結果は、モリブデンをタングステンで部分置換することにより、ＤＢＴ転化の
実質的に高い触媒が得られることを示す。また、Ａｌ_２Ｏ_３に担持された標準的
なＮｉ−Ｍｏ触媒を比較のために示す。高いＣＨＢ／ＢＰ比は、触媒がＨＤＮに
活性であることを示唆する。

【０１３７】

【表２】

【０１３８】 実施例６ 一連の触媒を、実施例２の一般的調整スキーム（すなわち沸騰分解）にしたが
って調製した。しかし、ＭｏおよびＷの相対比を、溶液に添加したモリブデン酸
アンモニウムおよびメタタングステン酸アンモニウムの量を変えて変化させた。
分解は、実施例５に示したようにして行なわれた。そのようにして調製された触
媒を、実施例５に示すようにして測定されたＤＢＴの触媒活性と共に表２に示す
。

【０１３９】

【表３】

【０１４０】 データは、最も活性な触媒には、タングステンおよびモリブデンの約等モル混
合物が含まれることを示す。

【０１４１】 実施例７ 一連の触媒を、実施例３（すなわち沸騰分解）に示したようにして調製した。
その際、ＭｏおよびＷの等モル混合物が沈殿し、ニッケル含有量が変化した。分
解は、実施例５に示したようにして行なわれた。そのようにして調製された触媒
を、実施例５に示すようにして測定されたＤＢＴの触媒活性と共に表３に示す。

【０１４２】

【表４】

【０１４３】 触媒性能は、Ｎｉは０．７５〜１．５で変化し、一方Ｋは約１．２５Ｎｉの最
大で変化するのが明らかであるのに対して実質的に変化しない。

【０１４４】 実施例８ 一連の触媒を、調製するのに用いたＮＨ_４ＯＨの量を変えて調製した。触媒は
、溶液ＡにおけるＮＨ_４ＯＨの量を、二つの溶液を混合した際にＮＨ_４ＯＨ／Ｎ
ｉモル比が変化するよう変化させたことを除いて、実施例３に示したようにして
調製された。分解は、実施例５に示したようにして行なわれた。そのようにして
調製された触媒を、実施例５に示すようにして測定されたＤＢＴの触媒活性と共
に表４に示す。

【０１４５】

【表５】

【０１４６】 前駆体化合物の分解が殆ど進行するであろうが、たとえ前駆体のアンモニア部
分のすべてでなくとも、前駆体の調製および分解生成物の触媒的効果は、用いら
れるＮＨ_４ＯＨの量に影響されるであろう。したがって、分解生成物の触媒とし
ての有効性は、前駆体化合物を調製する際のＮＨ_４ＯＨ／Ｎｉ比が、約１：１〜
約４：１、好ましくは約１．５：１〜約４：１、より好ましくは約２：１〜約４
：１である場合に向上される。特定の理論またはメカニズムに何ら縛られるもの
ではないが、ＮＨ_４ＯＨ／Ｎｉ比により、Ｎｉ−Ｍｏ−Ｗ−Ｏ相が分解生成物に
おいて変化される多少の証拠がある。

【０１４７】 実施例９ 実施例１および２の触媒を、ＬＳＡＤＯ（低硫黄自動車ディーゼル油原料）の
転化について、標準Ｎｉ−Ｍｏ担持触媒と比較した。この原料は、硫黄５１０ｗ
ｐｐｍ、窒素５０ｗｐｐｍ、および芳香族３０．６重量％を含み、またＡＰＩ比
重３９．８゜を有した。触媒を、５７９゜Ｆ、Ｈ_２６５０ｐｓｉｇ、およびＨ_２ １８５０ＳＣＦ／Ｂで試験した。異なる触媒の相対活性を表５に要約する。

【０１４８】

【表６】

【０１４９】 Ｎｉ、Ｍｏ／Ａｌ_２Ｏ_３触媒は標準ＨＤＮ／ＨＤＳ触媒であり、ＮＨ_４−Ｎｉ
−Ｍｏ相はタングステンのないバルク相であり、そしてＮＨ_４−Ｎｉ_１．０Ｍｏ _０．５ Ｗ_０．５−ＯはＷをＭｏに対して部分置換したバルク相である。また、Ｎ
Ｈ_４−Ｎｉ−Ｍｏ触媒は、既知化合物の代表である。本発明の触媒は、ＮＨ_４−
Ｎｉ_１．０Ｍｏ_０．５Ｗ_０．５−Ｏによって示され、そしてデータは、ＨＤＮ活
性に対するモリブデン酸ニッケルタングステンアンモニウムの明らかな利点を示
す。

【０１５０】 実施例１０ 固体ルートによるバルク触媒組成物の調製 ジモリブデン酸アンモニウム１８．１ｋｇ（ＭｏＯ_３は１５．３３ｋｇ）を、
水５７５リットルに溶解した。続いて、メタタングステン酸アンモニウム２８．
５ｋｇ（ＷＯ_３は２４．６９ｋｇ）を溶液に添加した。得られた溶液を９０℃に
予備加熱した。ＮｉＣＯ_３粉末２６．５ｋｇ（Ｎｉは４９．７％）を、水と共に
混合し、得られたペーストを、ジモリブデン酸アンモニウム／メタタングステン
酸アンモニウム溶液に加えた。得られた混合物を、７時間８９℃で反応させた。

【０１５１】 実施例１１ １リットルフラスコにおいて、モリブデン酸アンモニウム１３．２ｇ（０．０
７５モルのＭｏ）、メタタングステン酸アンモニウム１８．７ｇ（０．０７５モ
ルのＷ）および硝酸ニッケル六水和物４３．６ｇ（０．１５モルのＮｉ）を、水
３００ｃｃに溶解した。ｐＨは４．３であった。この溶液に、濃ＮＨ_４ＯＨ溶液
（約６００ｍｌ）を、ｐＨが１０になるまで添加した。この時点で沈殿物がいく
らか残存した。溶液を、１００℃で３時間環流した。この加熱を通して、沈殿物
は、溶解して清澄な青色溶液をもたらした。そして、さらなる加熱により緑色沈
殿物が形成された。加熱を、ｐＨが６．８〜７．０の値となるまで続けた。懸濁
液を、室温に冷却し、濾過し、水洗浄して、１２０℃で一夜乾燥した。物質約１
８ｇが得られた。

【０１５２】 実施例１２（試料２１１０５８７） ＮｉＭｏ−Ｗバルク触媒組成物６５７ｇを、アルミナ１２５ｇを含む水性スラ
リー１３６２ｇに加えた。アルミナは、アルミン酸ナトリウムおよび硫酸アルミ
ニウムから沈殿させた調製された。次いで、得られたＮｉ−Ｍｏ−Ｗバルク触媒
−アルミナ組成物を、ＬＯＩが３１％となるまで８０℃で混合した。続いて、得
られた組成物を押出し成型し、押出し成型物を１２０℃で９０分間乾燥し、次い
で空気中で３８５℃で１持間焼成した。

【０１５３】 実施例１３（試料２１１０５９８） 実施例１２方法を、アルミナ懸濁液にかえて、１０重量％シリカを含むシリカ
ゾルを用いたことを除いて繰り返した。

【０１５４】 実施例１４（試料２１１０５９１） 実施例７および８に示した手順にしたがって得られたＮｉ−Ｍｏ−Ｗバルク触
媒組成物６５７ｇを、ベーマイト１２５ｇを含むベーマイトペースト５１０ｇに
加えた。リバッフィングペーストを、６０℃で混合して、ＬＯＩ４２％を得た。
得られた組成物を、押出し成型し、乾燥し、そして実施例１２に示したようにし
て焼成した。

【０１５５】 実施例１５（試料２１１０４６９） 実施例７および８に示した手順を、アルミナが、バルク触媒組成物を調製する
間存在することを除いて繰り返した。得られた乾燥Ｎｉ−Ｍｏ−Ｗバルク触媒組
成物（アルミナ６０ｇを含む）７５５ｇに、水４６１ｇおよび硝酸少量を添加し
た。得られた混合物を、７０度で混合し、一方ＬＯＩの３４％が得られるまで水
を蒸発させた。得られた組成物を、押出し成型し、乾燥し、そして実施例１２に
示されるようにして焼成した。

【０１５６】 実施例１６ モリブデン酸アンモニウム、クロム酸アンモニウムタングステンおよび／また
はクロム酸アンモニウムを、第一の反応器で溶解して混合した。温度を９０℃に
上昇させた。第ＶＩＩＩ族塩を、第二の反応器二溶解して９０℃に加熱した。水
酸化アンモニウムを、第一の反応器に添加して塩基性溶液を形成した。第ＶＩＩ
Ｉ族金属溶液を、撹拌しながら２０分間かけて一気に滴下して加えた。３０分後
、沈殿物を濾過して洗浄した。沈殿物を一夜１２０℃で乾燥し、３８５℃で焼成
した。

【０１５７】 実施例１７ 実施例１６の沈殿方法を用いて、ジモリブデン酸アンモニウムから沈殿物、す
なわちメタタングステン酸アンモニウムおよびＦｅ（ＩＩＩ）（ＮＯ_３）・９Ｈ _２ Ｏを９８％の収率で調製した。これには、４１．２重量％のＦｅ_２Ｏ_３、２１
．３重量％のＭｏＯ_３、および３６．９重量％のＷＯ_３が含まれた。沈殿物の表
面積は、７６ｍ^２／ｇであった。吸収曲線を用いたＢＥＴによる６０ｎｍまで測
定された細孔容積は、０．１４７ｍｌ／ｇであった。

【０１５８】 実施例１８ 実施例１６の沈殿方法を用いて、Ｎｉ（ＣＯ_３）_２・６Ｈ_２Ｏから沈殿物、す
なわち（ＮＨ_４）_６ＭＯ_７Ｏ_２４・４Ｈ_２Ｏおよび（ＮＨ_４）_２Ｃｒ_２Ｏ_７を８
７．７％の収率で調製した。これには、５２．２重量％のＮｉＯ、２９．４重量
％のＭｏＯ_３、および１６．６重量％のＣｒ_２Ｏ_３が含まれた。沈殿物の表面積
は、１９９ｍ^２／ｇであった。吸収曲線を用いたＢＥＴによる６０ｎｍまで測定
された細孔容積は、０．２７６ｍｌ／ｇであった。

【０１５９】 実施例１９ 実施例１６の沈殿方法を用いて、Ｎｉ（ＣＯ_３）_２・６Ｈ_２Ｏから沈殿物、す
なわち（ＮＨ_４）_６Ｈ_２Ｗ_１２Ｏ_４０および（ＮＨ_４）_２Ｃｒ_２Ｏ_７を８７．７
％の収率で調製した。これには、４４．０重量％のＮｉＯ、４２．４重量％のＷ
Ｏ_３、および１１．８重量％のＣｒ_２Ｏ_３が含まれた。沈殿物の表面積は、１９
９ｍ^２／ｇであった。吸収曲線を用いたＢＥＴによる６０ｎｍまで測定された細
孔容積は、０．２４５ｍｌ／ｇであった。

【０１６０】 実施例２０ ２５０Ｎラフィネートを、小型パイロット装置において、通常のＮｉＭｏ水素
化（ＨＴ）触媒ラフィネートおよびバルク金属触媒の両方で水素転化条件で処理
した。原料品質、運転条件およびパイロット装置試験結果を、下記表６に示す。
バルク金属触媒の相対的な転化活性は、通常触媒より３００〜４００％高かった
。また、飽和の程度も高かった。生成物品質の同じＶＩでは、潤滑油収率は、両
触媒と同様であった。

【０１６１】

【表７】

【図面の簡単な説明】

【図１】 沈殿物を沸騰することにより調製された化合物ＮＨ_４Ｎｉ_１．５Ｍｏ_０．５Ｗ _０．５ のＸ線回折パターンであり、焼成前（曲線Ａ）および３００℃での焼成後
（曲線Ｂ）のパターンである。前駆体、および前駆体の分解生成物のいずれのパ
ターンにおいても、本質的に同じ場所おける２つのピークが全く類似である。

【図２】 ＮＨ_４−Ｎｉ−Ｍｏ_１−ｘ−Ｗ_ｘ−Ｏ前駆体のＣｕＫα放射（λ＝１．５４０
５Å）によるＸ線回折パターンを示す。ここで、曲線ＡはＭｏ_０．９−Ｗ_０．１ 、曲線ＢはＭｏ_０．７−Ｗ_０．３、曲線ＣはＭｏ_０．５−Ｗ_０．５、曲線ＤはＭ
ｏ_０．３−Ｗ_０．７、曲線ＥはＭｏ_０．１−Ｗ_０．９、曲線ＦはＭｏ_０−Ｗ_１で
ある。縦軸および横軸は図１に示されるようである。

【手続補正書】

【提出日】平成１４年５月２８日（２００２．５．２８）

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】特許請求の範囲

【補正方法】変更

【補正の内容】

【特許請求の範囲】

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ１０Ｃ 3/00 Ｃ１０Ｃ 3/00 3/04 3/04 Ｄ 3/08 3/08 Ｃ１０Ｇ 45/08 Ｃ１０Ｇ 45/08 Ｚ 67/04 67/04 67/14 67/14 Ｃ１０Ｍ 101/02 Ｃ１０Ｍ 101/02 // Ｃ１０Ｎ 70:00 Ｃ１０Ｎ 70:00 (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ， ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＴＺ，ＵＧ，ＺＷ )，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ， ＴＪ，ＴＭ)，ＡＬ，ＡＵ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ， ＣＡ，ＣＮ，ＣＵ，ＣＺ，ＥＥ，ＧＥ，ＨＲ，ＨＵ，Ｉ Ｄ，ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＰ，ＫＲ，ＬＣ，ＬＫ ，ＬＲ，ＬＴ，ＬＶ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＸ，ＮＯ， ＮＺ，ＰＬ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，Ｔ Ｒ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，ＺＡ (72)発明者 リレー，ケネス，ロイド アメリカ合衆国，ルイジアナ州 70808， バトン ルージュ，ロドネー ドライブ 1289 Ｆターム(参考） 4G069 AA02 AA08 BB06A BB06B BB09A BB09B BC59A BC59B BC60A BC60B BC66A BC67A BC68A BC68B CC02 CC05 DA05 FA01 FB08 FB34 FB50 FC08 4H029 CA00 DA00 DA05 DA09 DA10 DA11 DA12 DA13 4H058 AA01 BA05 CA01 DA03 DA06 DA07 DA12 DA13 DA14 EA04 EA17 EA22 EA38 FA32 GA15 GA35 4H104 DA02A JA01

Claims (30)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 潤滑油原料材の溶剤精製から製造されるラフィネートを選択
   的に水素転化する方法であって、 （ａ）潤滑油原料材を溶剤抽出域に導入し、それから芳香族リッチのエキストラ
   クトおよびパラフィンリッチのラフィネートを分離する工程と、 （ｂ）前記ラフィネートを溶剤からストリッピングして、約８０〜約１０５の脱
   ロウ油の粘度指数を有し、約６５０℃以下の終点を有するラフィネート原料を製
   造する工程と、 （ｃ）前記ラフィネート原料を第一の水素転化域に送り、前記ラフィネート原料
   をバルク金属触媒の存在下に水素転化条件下で処理し、前記バルク金属触媒は、
   少なくとも一部分であるがすべてより少ないモリブデンがタングステンにより置
   換された非貴金属第ＶＩＩＩ族モリブデン酸塩を含んで、第一の水素転化ラフィ
   ネートを製造する工程と、 （ｄ）前記第一の水素転化ラフィネートを第二の反応域に送り、前記第一の水素
   転化ラフィネートの低温水素仕上げを、水素仕上げ触媒の存在下に低温水素仕上
   げ条件下で行う工程と、 を含む方法。
2. 【請求項２】 潤滑油原料材の溶剤精製から製造されるラフィネートを選択
   的に水素転化する方法であって、 （ａ）潤滑油原料材を溶剤抽出域に導入し、それから芳香族リッチのエキストラ
   クトおよびパラフィンリッチのラフィネートを分離する工程と、 （ｂ）前記ラフィネートを溶剤からストリッピングして、約８０〜約１０５の脱
   ロウ油の粘度指数を有し、約６５０℃以下の終点を有するラフィネート原料を製
   造する工程と、 （ｃ）前記ラフィネート原料を第一の水素転化域に送り、前記ラフィネート原料
   をバルク金属触媒の存在下に水素転化条件下で処理し、前記バルク金属触媒は、
   少なくとも一部分であるがすべてより少ないモリブデンがタングステンにより置
   換された非貴金属第ＶＩＩＩ族モリブデン酸塩を含んで、第一の水素転化ラフィ
   ネートを製造する工程と、 （ｄ）前記第一の水素転化域からの前記水素転化ラフィネートを第二の水素転化
   域に送り、前記水素転化ラフィネートを、水素転化触媒の存在下に水素転化条件
   下で処理して、第二の水素転化ラフィネートを製造する工程と、 （ｅ）前記第二の水素転化ラフィネートを水素仕上げ反応域に送り、前記第二の
   水素転化ラフィネートの低温水素仕上げを、水素仕上げ触媒の存在下に低温水素
   仕上げ条件下で行う工程と、 を含む方法。
3. 【請求項３】 潤滑油原料材の溶剤精製から製造されるラフィネートを選択
   的に水素転化する方法であって、 （ａ）前記潤滑油原料材を溶剤抽出域に導入し、それから芳香族リッチのエキス
   トラクトおよびパラフィンリッチのラフィネートを分離する工程と、 （ｂ）前記ラフィネートを溶剤からストリッピングして、約８０〜約１０５の脱
   ロウ油の粘度指数を有し、約６５０℃以下の終点を有するラフィネート原料を製
   造する工程と、 （ｃ）前記ラフィネート原料を第一の水素転化域に送り、前記ラフィネート原料
   を水素転化触媒の存在下に水素転化条件下で処理して、第一の水素転化ラフィネ
   ートを製造する工程と、 （ｄ）前記第一の水素転化域からの前記水素転化ラフィネートを第二の水素転化
   域に送り、前記水素転化ラフィネートを、バルク金属触媒の存在下に水素転化条
   件下で処理し、前記バルク金属触媒は、少なくとも一部分であるがすべてより少
   ないモリブデンがタングステンにより置換された非貴金属第ＶＩＩＩ族モリブデ
   ン酸塩を含んで、第二の水素転化ラフィネートを製造する工程と、 （ｅ）前記第二の水素転化ラフィネートを水素仕上げ反応域に送り、前記第二の
   水素転化ラフィネートの低温水素仕上げを、水素仕上げ触媒の存在下に低温水素
   仕上げ条件下で行う工程と、 を含む方法。
4. 【請求項４】 前記バルク金属触媒は、下式 （Ｘ）_ｂ（Ｍｏ）_ｃ（Ｗ）_ｄＯ_ｚ （式中、Ｘは非貴金属の第ＶＩＩＩ族金属であり、モル比ｂ：（ｃ＋ｄ）は０．
   ５／１〜３／１であり、モル比ｃ：ｄは＞０．０１／１であり、またｚ＝［２ｂ
   ＋６（ｃ＋ｄ）］／２である。）で表される請求項１〜３のいずれか一項に記載
   の方法。
5. 【請求項５】 モル比ｂ：（ｃ＋ｄ）は、０．７５／１〜１．５／１である
   請求項４に記載の方法。
6. 【請求項６】 モル比ｂ：（ｃ＋ｄ）は、０．７５／１〜１．２５／１であ
   る請求項５に記載の方法。
7. 【請求項７】 モル比ｃ：ｄは、＞０．１／１である請求項４に記載の方法
   。
8. 【請求項８】 モル比ｃ：ｄは、１／１０〜１０／１である請求項７に記載
   の方法。
9. 【請求項９】 モル比ｃ：ｄは、１／３〜３／１である請求項８に記載の方
   法。
10. 【請求項１０】 前記第一の水素転化域における前記水素転化条件は、３０
    ０〜４２０℃の温度、３００〜３０００ｐｓｉｇ（２１７０〜２０７８６ｋＰａ
    ）の水素圧、毎時０．１〜１０の液空間速度および５００〜５０００ｓｃｆ／Ｂ
    （８９〜８９０ｍ^３／ｍ^３）の水素処理ガス速度を含む請求項１，２または３に
    記載の方法。
11. 【請求項１１】 前記第二の水素転化域における前記水素転化条件は、３０
    ０〜４２０℃の温度、３００〜３０００ｐｓｉｇ（２１７０〜２０７８６ｋＰａ
    ）の水素圧、毎時０．１〜１０の液空間速度および５００〜５０００ｓｃｆ／Ｂ
    （８９〜８９０ｍ^３／ｍ^３）の水素処理ガス速度を含む請求項２に記載の方法。
12. 【請求項１２】 前記第一の水素転化域における前記水素転化条件は、３０
    ０〜４２０℃の温度、３００〜３０００ｐｓｉｇ（２１７０〜２０７８６ｋＰａ
    ）の水素圧、毎時０．１〜１０の液空間速度および５００〜５０００ｓｃｆ／Ｂ
    （８９〜８９０ｍ^３／ｍ^３）の水素処理ガス速度を含む請求項３に記載の方法。
13. 【請求項１３】 前記低温水素仕上げ条件は、２５０〜３６０℃の温度、３
    ００〜３０００ｐｓｉｇ（２１７０〜２０７８６ｋＰａ）の水素圧、毎時０．１
    〜１０の液空間速度および５００〜５０００ｓｃｆ／Ｂ（８９〜８９０ｍ^３／ｍ ^３ ）の水素処理ガス速度を含む請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
14. 【請求項１４】 前記第二の水素転化域における水素転化触媒は、工程（ｃ
    ）の前記バルク金属触媒である請求項２に記載の方法。
15. 【請求項１５】 前記第二の水素転化域における前記水素転化触媒は、少な
    くとも一種の第ＶＩＢ族および少なくとも一種の第ＶＩＩＩ族金属を含む非バル
    ク金属水素化触媒である請求項２に記載の方法。
16. 【請求項１６】 前記第一の水素転化域における前記水素転化触媒は、少な
    くとも一種の第ＶＩＢ族および少なくとも一種の第ＶＩＩＩ族金属を含む非バル
    ク金属水素化触媒である請求項３に記載の方法。
17. 【請求項１７】 前記第ＶＩＢ族金属は、モリブデンまたはタングステンで
    あり、前記第ＶＩＩＩ族金属は、非貴金属である請求項１５または１６に記載の
    方法。
18. 【請求項１８】 前記溶剤抽出域における溶剤は、フルフラール、フェノー
    ルまたはＮ−メチル−２−ピロリドンの少なくとも一種である請求項１，２また
    は３に記載の方法。
19. 【請求項１９】 前記溶剤抽出域における原料材は、アンダー抽出されて、
    アンダー抽出されたラフィネートを形成する請求項１，２または３に記載の方法
    。
20. 【請求項２０】 前記低温水素仕上げ工程は、脱ロウの前または後に行なわ
    れる請求項１，２または３に記載の方法。
21. 【請求項２１】 脱ロウは、溶剤脱ロウ条件下での溶剤脱ロウである請求項
    ２０に記載の方法。
22. 【請求項２２】 脱ロウは、接触脱ロウ条件下での接触脱ロウである請求項
    ２０に記載の方法。
23. 【請求項２３】 接触脱ロウは、１０環モレキュラーシーブを用いる請求項
    ２２に記載の方法。
24. 【請求項２４】 前記１０環モレキュラーシーブは、ＺＳＭ−５、ＺＳＭ−
    ２２、ＺＳＭ−２３、ＺＳＭ−３５、ＺＳＭ−４８、ＺＳＭ−５７、ＳＡＰＯ−
    １１、およびＳＡＰＯ−４１の少なくとも一種を含む請求項２３に記載の方法。
25. 【請求項２５】 水素仕上げ触媒は、少なくとも一種の第ＶＩＢ族および少
    なくとも一種の第ＶＩＩＩ族金属を含む非バルク金属水素化触媒である請求項１
    ，２または３に記載の方法。
26. 【請求項２６】 水素仕上げ触媒は、バルク金属水素化触媒である請求項１
    ，２または３に記載の方法。
27. 【請求項２７】 前記第ＶＩＢ族金属は、モリブデンまたはタングステンで
    あり、第ＶＩＩＩ族金属は、非貴金属である請求項２５に記載の方法。
28. 【請求項２８】 Ｘは、ＮｉまたはＣｏである請求項４に記載の方法。
29. 【請求項２９】 Ｘは、Ｎｉである請求項４に記載の方法。
30. 【請求項３０】 工程（ｂ）からの前記ラフィネートは、前記第一の水素転
    化域の前に溶剤脱ロウされる請求項１，２または３に記載の方法。