TWI339163B - Surface-emitting laser array, optical scanning device, and image forming device - Google Patents

Description

1339163 九、發明說明： ， 【發明所屬之技術領域】 本發明涉及一種表面發光雷射陣列，其中表面發光雷射元件配置為一 二維形式。本發明還涉及包括此表面發光雷射陣列的一光學掃描裝置，以 及包括此表面發光雷射陣列的一成像裝置。 【先前技術】

在電子照相（electrophotographic)成像中，為了獲取一高密度圖像品 質，廣泛地使用一雷射光束的一成像方法。在電子照相成像中，=常使用 於在感光鼓（photoconductivedrum)上形成一電子照相潛像（iatentimage) 的方法即係在感光鼓的表面，沿著感光鼓轴向方向，利用自一多面鏡輸出 的雷射光束進行光學掃摇（主掃描），同時旋轉感光鼓(ph〇t〇c〇nduct〇rdr細） 進行光學掃描（副掃描）。 —在電子照相成像令，需要在高速完成高密度成像。如果為了執行一高 推度成像以賴像的騎度增加—倍，則主掃描所㈣咖和副掃描所需 的時間也必須增加—倍，因此，總共所需的時間相當於原來時間的4倍以 ，輸出$建像。因此，為了實現一高密度成像，亦須提高圖像輸出的速 度0 一册2為可月匕提尚影像輸出速度的方法，可考慮利用具有較高輸出強度的 ^ ’光束、多條雷射光束、以及具有較高光敏性的一光電導體 二h:〇c_uct〇〇而實施。尤其為，在一高速成像裝置中，通常使用一多 導體ί源輪*多條雷射光束。在同時使m雷射絲的情況下，在光電 供，/成―潛像的區域相當於錢單-雷射光束的情況下形成區域的η ° 且成像所需的時間可以減少至1/η。 數個配公開號11_34G57G揭露了—種光電轉換裝置，此裝置包括複 半導體發染—基板上的光電轉換部件。日本專利公開號11-354888揭露了一 露的每個奘裝置，此裝置包括複數個配置在一基板上的發光部件。上述揭 &置都具有一維配置，其中，端面發射半導體雷射在一個方向配 5 配置-如果增加雷射光束的量，貞彳功率消耗變大，而且必須 限於使P ° ^ ’ M蝴、，鳩置都偈 -美^卜^、’近齡隨著研究馳地開展，表面發光雷射可以容易地在 祕他：^ I—維形式。表面發光雷射的功率消耗比端面發光雷射的 、^，並且優勢是可以在一二維形式内配置大量的表面發光雷射。 h ^本，利公開號2〇05-274755揭露了 一種成像裝置，此裝置包括一曝 2 /、使電子照相光料_帶電表面曝露在雷射光巾，以便在光電 上1成_靜電潛像。這個曝光組件具有—表面發光雷射陣列並呈多光 ，其中二條或二條以上的光束掃描所述光電導體表面，以在光電導體 上形成一靜電潛像。 日本專利公開號20〇5-23451〇揭露了一種光學掃描裝置，此裝置包括 複數個光源，用於發射出複數條光束（主光源、副光源）以照射__光電導 體的-^掃描表，、以及包括—光源驅動組件，用於驅動複數個光源。所 述光學掃描裝置藉由賴了絲驅動崎以從光源輸㈣絲，以控制在 該光電導體的該已掃描表面的副掃财向上的光量分配4此目的，主光 源和副光源之間的光量比率’在不改變自兩個光源（主光源、副光源）的 光總量以及不造成自副光源的光量大於自主光源的光量的前提下而變化。 曰本專利公開號2001-272615揭露了-種包括_光學偏轉器（〇ptical deflector)的光學掃描裝置，此裝置對自一光源組件發射出之複數條光束進 行偏轉，以藉由經偏轉的光束在光電導體的經掃描表面上執行掃描操作。 該光電導體的經掃描表面上的副掃描，係藉由沿著垂直於主掃描方向的副 掃描方向移動相對於偏轉器的經掃描表面所執行，在光源組件内，發光點 配置為二維形式並沿著主掃描方向或者副掃描方向根據一預定角度在同— 平面上旋轉’從而光束形成的各個掃描線在經掃描表面上以相等間隔配置。 先前技術中的表面發光雷射陣列有一問題，即，如果兩個發光部件之 間的間距縮短，而由於其他發光部件產生的熱量影響，該雷射的輸出性能 可能下降或可靠性會降低。 1339163 【發明内容】 《所欲解決之技術問題》 了 改良表面發光雷射陣列，消除 在本發明的一特點中，揭露並提供 了上面所述的問題。 八 在本發明的一特點中，揭露並提 夠降低其他發光部件發熱產生的影響而、:表面發光雷射陣列，此陣列能 在本發明的一特點令，揭露並^^寸° 面發光雷射陣列並可以在高速户、二先學掃描裝置’此裝置包括表 掃描。 在度的條件下對一光電導體的表面進行 成像裝置，此裝置包括表面發 高密度圖像。 在本發明的一特點令，揭露並提供了 光雷射陣列並可以在高速條件下形成— 《解決問題之技術手段》 的實施例解決或減少了—個❹個上述的問題 了包含複數個發絲件的—表面發 為具有兩個正交方向的-二維形式，A 。發切件配置 在平行於兩個正交方財的其中之數個發光部件正交地投影 的兩個發光料之間綠虛線_轉於^時’紐瓣光部件中 :發光部件包括-第-發光部件、沿著虛線中第複; 正交方向的其中-個方向上，第—和二二部件，並且在兩個 和第三發光部件之間關^ 。牛之間的間距不同於第二 在本發財，魏懈光部料的兩個發光部件之__ 在兩個正交方向㈣其巾-個方向上，兩個發光部件巾心至^心: 離。本發明的表面發光雷射_可以選擇性地延長位於易二他 光部件的熱影響的區域_兩個發光部件之_間距。本發㈣= 發光雷射_可以降低其他發光部件產生的熱影響，且^表面 避免由於熱影響所導致的雷射輸出性能的下滑。、寸’以 本發明的實施例解決或減少了-個或多個上述問題。 一 光學掃描裝置’此裝置包括：-包含上述表面發光雷射陣^光源組件: 7

10J 向；Ιϋΐ有用if 描方向’分別平行於兩個正交方 ΐ_ί=^ίίί=·：^細刪，並可以在高 伊了一多個上述醜。本㈣的實施例提 c學包括上述光學掃描裝置和-光電導體，其中，所 表面，從:根據“束=====的- =Γ置⑽—置,並可上:= 了-ΐ:==!ί或減少—個或多個上述問題。本發明實施例提供 陣列的成像裝置，其中，所述表面發光雷射陣 寫入組件輸出;射光:至體當:::資訊寫入光電導體時’光學 發光雷糊，1 而^己合圖示說明’本發明額外的目的、特點和優點將在隨後的描述中顯 【實施方式】 以下配合圖示及元件符號對本發明的實施方式做更詳細的說明。 圖1顯不了本發明實施例中作為一成像裝置的 成射，1 w包含一光學掃描裝置議、一感光鼓： 影輥1032、一轉寫充電器咖、一放電請4、-=刀1〇35二一石反粉£ 1〇36、一送紙報1037、一送紙盤顧、一套印輥 對1039、-疋純1〇4卜—出紙輥购、以及—出紙盤圖。 # f光光鼓1030的表面上。該感光鼓1030的表面係經掃 描表面。在本實_中，感光鼓咖順著圖t中箭頭所示的方向旋轉。 所述充電器urn、顯影親1032、轉寫充電器1〇33、放電器刪、以 及清潔刀1035各自配置於鄰近感光鼓腦的表面。所述充電器贿、顯 1339163 t 影輥1032、轉寫充電器1〇33、放電器1〇34、以及清潔刀1〇35沿著感光鼓 1030旋轉的方向按照上述的順序進行配置。 所述充電器1031均勻地對感光鼓丨〇3〇的表面實施電性充電。所述光 學掃技裝置1G1G根據來自主機裝置（例如，—私人電腦）的圖像資訊對其 所發出的光進行機’將其發射至經充電If 1G31充電贼光鼓1_的表 面上。從而，與所述圖像資訊對應的潛像形成在感光鼓1030的表面上◊所 形成的潛像藉由感光鼓腦的旋轉而她練觀移動。關於光學掃描 裝置1010的組成結構將隨後進行說明。

^碳粉儲存在碳粉匣1036内並供應至顯影輥1032。所述顯影輥1032將 來自碳粉=1036的碳粉供應至在感光鼓1030的表面上形成的潛像上，並 且使圖^資訊顯現為碳粉圖像。飾有碳粉的潛像（將稱作碳糊像）藉 由感光豉1030的旋轉而移動至轉寫充電器1〇33。 一记錄紙1040儲存在送紙盤1038内。所述送紙輥1〇37設置於鄰近送 =盤1038 ’並且此送紙較1G37自送紙盤麵中取出一張記錄紙獅，隨 ίΐΐΪ駐套印輕對卿。這個套印簡廳暫時承托自送紙輥騰 取=^述記錄紙1040，並根據感光鼓刪的旋轉，將此記錄紙麵發 达至感光鼓1030和轉寫充電器1033之間的間隙内。 為了電性地將感光鼓麵表面上的碳粉吸引至記錄紙1〇4〇 充電器1〇33上載入與嫂粉極性相反的極性之電壓^藉由轉寫 二 上之此電壓’將感光鼓腦的表面上的碳觸像轉移到記錄紙上。 之後，具有碳粉圖像的記錄紙1040發送至定影輥1041。 =定_〇41對記錄紙1040施加熱和壓力，從而碳粉在記錄紙麵 上疋像。經石厌粉定像的記錄紙1040經由出紙輥囊發送至 並且所述記錄紙-張接一張地堆疊於出紙盤腕上。 、，盤〇43， 所述放電器1034對來自感光鼓1030的表面的電力 · 潔刀1035自感光鼓1030的表面去除碳粉（ ^所述π 的感光鼓_的表面再一次返回到面向充電二f二去除剩餘碳粉後 明。接下來’輯本侧實施财的絲掃描裝置麵敝錢構進行說 9 1339163 如圖2所示，光學掃描裝置】_包含一光源i4、一麵合透鏡μ、一 光圈板〗6、一圓柱透鏡〗7、一客而倍1·? 像>面祕〆#钟"U 夕面鏡13、一偽轉器匈掃織鏡l】a、-圖 像表面崎把透鏡lib、以及-掃描控制裝置（圖中未示）。 ^本，明中，與感光鼓聊的縱向平行的方向假定為一观三維正 方向’並且與每鱗描透鏡（Ua、ub)的光軸平行的 向稱了方便起見，本發明中，與主掃描方向平行的方 向稱為主純方向，而與副掃描方向平行的方向稱為副掃描方向。 i -伽f所不絲14包括40個發光部件⑽_)，該些發光部件

ί = ΐ上配置形成為—二維_1GG °發光部件分為八列，以主掃描方 向）配置’且每列包含五個發光部件，該些發光部件以 *田肖（標不為S的方向）配置。意即，發光部件的列數大於一列内 所含有的發光部件的數目。 為了方便起見’為了識別每—個發光部件列，圖3中的人個發光部件 列從左到右稱作第-發光部件列u、第二發光部件列u、第三發光部件列 L3、第四發光部件列L4、第五發光部件列u、第六發光部件列L6、第七 發光部件列L7、以及第八發光部件列L8。 當40個發光部件正交投影在平行於s方向的一虛線上時，在·$ 一側 方向上位於最尚處的發光部件稱作發光部件ch卜而其他發光部件按照在 一側方向的向下順序，稱作發光部件ch2、發光部件ch3、、發光部件^h4〇。 在本實施例中，第一發光部件列L1的五個發光部件為發光部件吐5' 發光部件chl3、發光部件ch2卜發光部件Ch29、以及發光部件ch37 ^ 第二發光部件列L2的五個發光部件為發光部件ch6、發光部件cM4、 發光部件ch22、發光部件Ch30、以及發光部件ch38。 第三發光部件列L3的五個發光部件為發光部件Ch7、發光部件chl5、 發光部件ch23、發光部件Ch31、以及發光部件Ch39。 第四發光部件列L4的五個發光部件為發光部件Ch8、發光部件chl6、 發光部件ch24、發光部件ch32、以及發光部件ch40。 第五發光部件列L5的五個發光部件為發光部件chi、發光部件ch9、 發光部件chl7、發光部件Ch25、以及發光部件ch33。 1339163 第六發光部件列L6的五個發光部件為發光部件ch2、發光部件cM〇、 發光部件chlS、發光部件Ch26、以及發光部件ch34。 第七發光部件列L7的五個發光部件為發光部件chs、發光部件chu、 發光部件chI9、發光部件Ch27、以及發光部件ch35。 第八發光部件列L8的五個發光部件為發光部件cM、發光部件cM2、 發光部件ch20、發光部件Ch28、以及發光部件ch36。 在此實施例中，在Μ方向，第-發光部件列u和第二發光部件列L2 之間的間距a々為X4、在第二發光部件列L2和第三發光部件列之間的 ，距設找X3、在第三發光部件列L3和第四發光部件列w之間的間距設 定為X2、在第四發光部件列L4和第五發光部件列L5之間_距設定為 XI/在第五發光部件列L5和第六發光部件列L6之間_距設定為χ2、 在第’、發光。Ρ件列L6和第七發光部件列L?之間的間距設定為χ3、在第七 發光》Ρ件列L7和第人發光部件列L8之間關距設χ4 Χ1〉Χ2>Χ3〉Χ4的條件。 疋 _意即，本實例内的二維陣列！⑻具有—不相等的二維配置，並且位於 、准配置内的中央部分的複數個發光部件列中的相鄰兩列之間的間距，大 於位於二維配置内_部的複數個發光部件列中的相鄰兩列之間的間距。 —假設c代表-預定值。如圖4所示，當4(Η固發光部件正交地投影在平 方向的虛線上時’發光部件ChUh20具有相等的間距2c、在發光部 相部件姻、並且_件抓祕具有 ^ ^ 'Χ2=46·5 'Χ3=38·5 ^ 間距dl等於70=(在=，發光部件ch5和發光部件chl3之間的 之間的間㈣等二;4微，8)，同時在發光部件chl3和發光部件_ 寻於74.8微未（=2cx7 + 3c)(參考圖3)。 t ° 間距進行配置。 向和s方向，以兩個發光部件之間具有相等 在此—維陣列内’執行主掃描（參考圖犯）時執行—鄰接掃描。意即， 圖5A t所"示的二維陣列係具有一鄰接掃描配置的一二維陣列。 再參考圖2，所述相合透鏡】5將自光源】4輪 一 ==線。所述光圈板16具有一開孔，其用於指定二=輸 出光束的直徑。 217在z财向上，將穿過細板16 _光線聚焦在 罪近多面鏡13的偏轉/反射表面的一位置上。 偏轉ΐ=Γϋί13之輸雜上峨觸祕以稱作預 5 种，所述職轉11光料統包括—柄合透鏡 15、一先圈板16、以及—圓柱透鏡17。 -佑有四面鏡子’並且每—面鏡子分別作為多面鏡13的 多面鏡13料地沿著平行於2齡向_旋轉， 並且將來自圓柱透鏡17的光進行偏轉處理。 上所透鏡iia配置在經多面鏡13偏轉的光的光學路徑 的光=上 鏡iib配置在自偏轉器側掃描透鏡_出的光 卜，側掃描透鏡ub輸出的光經導向照射至感光鼓腦的表面 點在戌光^麵!!30的表面上喊—光點。隨著多面鏡13的旋轉，此光

Ztt；：；!縱向方向移動。意即，感光鼓腦的表面以多面鏡13 轉方向與主雜⑽姆應嘴賴級腦的旋 (η 所述掃描控制裝置控制如下的光學掃描裝置。在完成第 後，感光鼓_旋轉以將來自發光部件如的光導向 &〇的表ϋ’Λ位置是從發光部件eh21輸出的光導㈣射在感光鼓 :將來=η:。在第η次主掃描完成之後，感光鼓_旋轉 ===的光導向照射至一位置上，該位置是從發光部件泥1 向照射在感光鼓腦的表面上的位置依一對應“ _ 喊方向進行位移之後的結果，然後執行第（η+ι)次 12 此過H本實施财·的光學掃絲置執行不轉巾_描（inte⑽η)。 對應預定值c的等間距在感光鼓_的表面上於副掃描方向 约ί於”田I在故個情況下’當光學掃抬裝置1010的光學系統的放大率大 μ時，感光鼓1〇3〇的表面上在所述副掃描方向的間距（师）大 ;隹3微米，從而可以在副掃描方向達到侧如⑽高密度光學寫入。 目等中崎描賴子以及適合於辦㈣掃描（相等巾麟描配置的 轉財日本專利公㈣⑽65和日本專利公開號

在圖4中所示的實施例中，發光部件cM包含於發光部件列U中，並 ^光部件e_包含於發光部件列L4中。換句話說，當4〇個發光部件正 交技知在平行於s方向的虛線上時’所述兩個發光部件（ehl和eh4〇)設 置於-維陣列在S方向的最高端和最低端’並且其餘的發光部件設置於二 維陣列在Μ方向的兩端以外的位置。 意即，在二維陣列的s方向的兩端處的發光部件chl和發光部件ch4〇 可以在Μ丨向彼此相鄰地配置。在本實施例中，彳以在副择描方向減少由 於多面鏡13的誤差（維度變化、表面偏^、減差等等）所致的光束間距

如上面所述，在本實施例的表面發光雷射陣列1〇〇中，當4〇個發光部 件正交投影在平行於S副掃描方向（兩個正交方向中的其卜個方向内） 的-虛線上時’假設C代表-預定值，發光部件chl_ch2〇具有相等的間距 2c、發光部件Ch20和發光部件Ch21之間的間距等於3c、並且發光部件 ch21 -ch40具有相等的間距2c。 當本實施例中的二維陣列與鄰接掃描配置的二維陣列作比較時，本實 施例中的二維_的尺寸稍大於後者的尺寸，但與雜掃描配置的二維陣 列的熱消耗相比，本實施例中的熱消耗有明顯改善。意即，因為當在相同 的寫入密度下作比較時’本實施例中在副掃描方向的發光部件之間的間距 與鄰接掃描配置相比，可以增大，所以該輸出可輕易地經由熱干涉的降低 而等化，並且可以減少密集度的不均勻從而可以實現高品質的成像。 當本實施例中的二維陣列與相等中間掃描配置中具有相同尺寸的二維 13 3進行比較時，本實施例中的熱消耗相較於相等t間掃描配置的二祕 影響 _ :陣：寸本實施例可以降低㈣他發光部件所產生的二 在本實施例中’八列發光部件中，备一 ，所述八列發光部件配置在平行於主掃描方向Μ的二3五U :Μ上，第一發光部件列u和第二發光部件列u之間的間距設^方 部_^ 樣間職定為幻、第三發光 之_距設定為X2、第六發光:列= 央部分的發光部件的影響。與在s方向 列的令 成二二 光雷射陣觸使㈣間。 、^轴可延長表面發 少發件ϊίΓΙ的列數大於—顺所含有的發光部件的數目。可以減 ㈣編細崎路所= 射陣ί ，所述統14 &奸面發光雷 輸出圖像的光學密度的不均勻，進而得到高品質的成像。以抑制— 1339163 在上述鄰接掃描（，圖5B)的情況中，—相對高密度的光學寫入可以在 在二維陣_末端處出現。然而，可以藉由本實施例的表面發 先雷射_執行·tfw描，並且可㈣免不必要的問題。 由於本實施财的表面發光雷射_的時間可崎長，所以可以 重複利用包含絲14 絲鱗。縣實關巾的雷射印錢画中， 提供了光學掃描裝置刪，並可以在高速條件下形成—高密度圖像。如果 可以保持與财技射相_成像速度，财以減少包含絲面發光雷射 陣列内的發光部件的數量，從而允許提高表面發光雷射_的生產量，進

而獲得以低成本生產。此外，儘管光學寫人闕密度增大，可以在不降低 成像速度的條件下實現成像。 上述實施例可以經過修正’以圖7内所示的一表面發光雷射陣列i〇〇a 替代表面發光雷射陣列100來使用。 如圖7所示，在表面發光雷射陣列1〇〇A内，當4〇個發光部件正交地 投影在平行於S方向的一虛線上時，發光部件吐1_(：112〇具有相等的間距几、 發光部件ch20和發光部件ch21之間的間距等於c、而發光部件ch21_cM〇 具有相等的間距2c。假設c代表一預定值。 在這個情況下，僅僅發光部件Ch20和發光部件ch21之間在s方向的 間距小於其他發光部件的間距’但其他發光部件在s方向的間距為圖5八所 示的二維陣列中發光部件間距的兩倍。儘管本實施例的尺寸稍大於鄰接掃 描配置（圖5)的二維陣列的尺寸，但是本實施例的熱消耗相較於鄰接掃描 配置的二維陣列的熱消耗，可明顯地提升。 圖8顯示了使用圖7所示的表面發光雷射陣列woa進行不相等中間 掃描的情況。在這個情況下，以對應預定值〇的等間距在感光鼓1〇3〇的表 面上於副掃描方向執行主掃描。具體地說，XI =48微米、Χ2 = 46·5微米、 Χ3 = 38.5微米、以及χ4 = 26微米。 將圖8與圖6比較之後明顯得出，此例子中光學寫入的執行並無在發光部 件ch40之後連續至發光部件chl。所述兩個發光部件在表面發光雷射陣列 上的副掃描方向上，距離為最遠。可以降低由於多面鏡13的誤差所致在副 掃描方向的光束間距誤差引起的成帶（banding)影響，從而可以降低圖像 15 1339163 品質惡化。 方向轉關可以驗在副掃描 點。 幻在·私方向上的光束間距誤差並且可以穩定光

13 * t W i (irrri，將對在崎财向的,由兩條主掃赠覆蓋的模 模式）進行說明。二者擇—地，在副掃描方向的， 間了由—條或者二條以上的主掃描線覆蓋。然而，由 恤學砸域學特 例如，利公 個發先部件時，-陣列内發光部件的數量為偶數，如8的倍數。各 面發 =道）利用相等中間掃描配置的表面發光雷射陣列執行相等中間=(的7 :==== = == 從圖9中可以明顯瞭解’當偶數個發光部件執行相等 ，象’但在副掃描方向的位移量在每一次主 ：= 在副掃描方向的位移量不規律地變化，必須要改❹面鏡 ，了， =:=ΓΓ轉速度。然而’旋轉速度或者相位二； 導致出見不規錢旋轉。在副掃描方向（譜帶等）的位 鏡上出現’而在主掃描方向（垂直線波動等）的 ^ ζ 面上出現。很難高度精確地控制此些參數。 偏差了此在感先3支表 基於此原因’最崎_面鏡（主掃輪）的旋轉速度和感光 16 1339163 為Γ，則會出現掃摇線遺漏的情形。為了藉由使用偶數個發 由使用熟’最佳地情況紐用不辦巾間翻配置。為了藉 情、=使用不擴展發光部件的間距以執行中間掃描，最佳地 况疋使用不相等中崎描配置和雙線掃摇模式。 上述實施例可以經過修改後，賴13中所示的—表面 100B代替表面發光雷射陣列1〇〇使用。 如圖13所示’在這個表面發光雷射陣列麵巾，當⑽個發光部 父地投影在平行於S方向的虛線上時，發光部件抓咖、發光部= c =h6、發光部件ch7-ch9、發光部件chl〇 chu、發光部件咖2_祕發 切件Ch26-Ch29、發光部件ch3〇-ch3卜發光部件⑽顧、發光

Ch3j-Ch37、以及發光部件ch38_ch4〇分別具有相等的間距c。假設。代表— 預定值。 此外，發光部件ch3-ch4、發光部件ch6_ch7、發光部件抓_、發 光部件chl5-chl6、發光部件ch29_ch30、發光部件⑽船、發光部 ch34-ch35、以及發光部件ch37_ch38分別具有相等的間距2c。 此外’發光部件Chl7-Chl8和發光部件Ch23-ch24分別具有相等的間距 3c，並且發絲件ehl8-eh2G和發光料eh21_di23分難有树的間距0和。 此外，發光部件chl6-chl7和發光部件ch24-ch25分別具有相等的間距 5c ’並且發光部件ch2〇和發光部件ch2i之間的間距等於7c。 圖14顯示了使用圖13内所示的表面發光雷射陣列1〇〇B執行的不相 等中間掃描的情況。在這個情況下，以對應預定值(：的等間距在感光鼓川= 的表面上於副掃描方向執行主掃描。具體地說，χι =48微米、χ2=：46 5 米、X3 = 38.5微米、以及χ4=26微米。 上述實施例可以經過修改後，將圖15中所示的一表面發光雷射陣列 17 1339163 i〇〇c代替表面發光雷射陣列⑽使用。 如圖15所示，在這個表面發光雷射陣列卿 在S方⑽纽上時，_件 光二eh2,S eh8.、發光部件eM2_eh14、發光部件抓侧、發 發光部件Ch27_Ch29、發光部件Ch32_ch33、發光部件 祕、以及發_撤咖分__距e。假設^ 伴此5 Chl ch2、發光部件Ch4_ch5、發光部件ch7_ch8、發光 二牛ch9-chl〇、發光部件、發光部件抓制、發光部^ ^务^8部件ch23_ch24、發光部件ch26-ch27、發光部件 ch29-ch30、 == 、發光部件ch33-ch34、發光部件抓抓、以及發光 4件Ch39-Ch40分別具有相等的間距2c。 先 叫光^牛ch3|發光部件chl5_ehi6、發光部件抓船、 !t 1 ^5"1126' ^7-ch38 3^b,h , =部件想chll、發光部件抓chl7、發光部件齡祕、以 4件ch30-ch31分別具有相等的間距如。 九 ^6顯示了使用表面發光陣列则c執行不相等中間掃描的情況。在

以對應預定值c的等間距在感光鼓1030的表面上於副掃描方 -執仃主掃描。具體地說’X1=26微米、X2 = 7G微米、X 及X4 = 26微米。 佩不U 上述實施例可以經過_後，將圖17中所示的—表面發光雷射陣列 100D代替表面發光雷射陣列1〇〇使用。 如圖17所示’在此表面發光雷射陣列觸中發光部件如配置在 置的-S -側方向以及在最左位置的_M 一側方向；發光部件祕配 置在取低位置的+S -側方向以及在最右位置的+M—側方向。 此外’在表面發光雷射陣列100D中，當40個發光部件正交地投影在 平行於s方向的虛線上時’發光部件chl•祕分別具有相等 h

設C代表一預定值。 K 此外，對表面發光雷射陣列100D進行配置，使得發光部件祕和發 1339163 件ch17之間的間距等於3〇，而發光部件chl7 _分別具有相等的間 μ方向ΐΓίί雷辦列〗觀的發光料财_狀_各個間距在 _=:==使Γ8中所示的-表面發光*射阵列 ，圖18所示’在表面發光雷射陣列麵中，發光部件cM配置在最 ^置的―側方向錢在最纽置的·Μ —财向；發光部件eh40配置 在取低位置的+S —側方向以及在最右位置的+M -侧方向。

〜此外’在表面發光雷射陣列100E巾，當4〇個發光部件正交投影在平 仃，s方向的虛線上時’發光部件chUhl6分別具有相等的間距^。假設 c代表一預定值。 此外’對表面發光雷射陣列臓進行配置，使得發光部件㈣和發 W件CM7之間的間距等於c，而發光部件抓祕分別具有相等的間距 c。表面發光雷射陣列臓的發光部件列中的兩列之間的各_ 向是相箄的。 在上述實施例中，已經說明本發明中雷射印表機1〇〇〇作為成像裝置的 應用情況。然而，本發㈣不祕於這些實_。本_也可以應用於包 含有光學掃描裝置1_的成像裝置，此裝置允許在高速條件下進行高密度 成傻。 本發明可以應用於-成像裝置，此裝置包含光學掃描裝置1〇1〇並將一 雷射光束直接發射至-列印媒介（藉由一雷射光束上色的—記錄紙）。 本發明可以應用於-使用銀鹽（siIver_saIt)膜作為 裝置。在此情況下，在-銀顏上藉由光學掃描形成—潛像，=且在^ 銀鹽照片列印程序中，藉由執行相當於一顯影程序的—程序而使所述 顯現。 本發明可以應麟-彩色成像裝置，此裝置藉由使料合—多色圖像 的-光學掃描裝置則彡成-多色圖像，允許高速時進行高密度成像。 例如，如圖19所示，本發明可以應用於一一次同步彩色成像裝置 1500，此裝置包含複數個適合形成一彩色圖像的感光鼓。 19 1339163 此人同步彩色成像裝置1500包含一黑色（κ)感光鼓κι、一充電 器Κ2、一顯影組件Κ4、一清潔組件Κ5、一轉寫充電器必、一深藍色（〇 感光鼓C1、-充電器C2、-顯景》組件C4、-清潔組件C5、一轉寫充電器 C6、-紅色（Μ)感光鼓Μ卜一充電器⑽、一顯影組件⑽、一清潔组 件Μ5、一轉寫充電器Μ6、一黃色⑺感光鼓γ卜一充電器γ2、一顯 w且件Υ4、-清潔組件Υ5、一轉寫充電器γ6、一光學掃描裝置IOWA、 以及一傳輪帶80以及一定像組件3〇。 該光學掃描裝置1G1()A具有-黑色表面發光雷射陣列、—深藍色表面 發先^陣列、-紅色表面發光雷射陣列、以及—黃色表面發光雷射陣列。

在母個表碰光雷射陣列帽包含的複歸表面發光雷射具有二維陣 列，鱗列基本上與表面發光雷射陣列1〇〇•臟中的其中一個陣列相同。 上自黑色表面發光雷射陣列的光經由黑色掃描光學系統導向照射至黑 色感光鼓K卜來自雜色表面發光雷射_的光經由深藍色掃描光‘餅 導向照射至深藍色感紐〇上。來自紅色表面發 ^色 == 導向照射至紅色感光請上。來自黃色表面發光== 先、A由丙色知描光學系統導向照射至黃色感光鼓Y1。 时Γ二9 Γ所示的每一個感光鼓都依照箭頭指示的方向旋轉，並且充電 轉寫充電器、以及清潔組件分別依照旋轉方向設置在每個 每-個充電器均勾地為所對應的感光鼓的表面進行充電 的每條光線導向照射至經充電器充電的感光鼓的表面，i且 在所述感光鼓的表面上形成一靜電潛像。 在感光鼓的表面上藉由對應的顯影組件形成—碳粉 輸帶80在對應的轉寫充電器的驅動下轉印至-記錄紙h 取後，取、.·；衫色圖像藉由定像組件30定像在記錄紙上。 在--次同步彩色成像裝置中，由於各個部件的製造誤差、定位誤 褒置测現—色偏。對本實施例中的所述—次同步彩色成像 配置在-r發财的絲掃婦置igiga包含複數個 配置在一轉财的魏部件，並且可以藉由在控制方式下挑選工作的發 20 1339163 光部件而提高色偏補償精確度。 所述一次同步彩色成像裝置1500可以經過修改後，將一黑色光學掃描 裝置、-深藍色光學掃描裝置、—紅色光學掃描裝置、以及—黃色光學掃 描裝置代替光學掃描裝置麵A賴。修改後的每個光學掃描裝置足夠配 置包含-表面發光雷射陣列’其令在該陣列中，複數條表面發光雷射配置 為具有二維配置，此配置基本上與上述實施例中的表面發光雷射陣列 100-100E的任一個陣列相同。 此外，即使在成像裝置内不提供任何光學掃贿置，修後的成像裝 置足夠配置包含-表面發光雷射陣列，其中在該陣列中，複數條表面發光

田射配置維3&置，此配置基本上與上述實施 陣列100-100E的任一個陣列相同。 I尤由耵 則文备、針對本發明之較佳實施例為本發明之技術特徵進行具體之說 月唯'心此項技術之人士當可在不脫離本發明之精神與原則下對本發明 進行變^修改’ _等變更與修改，皆應涵蓋於如下申請專 定之範疇中。 【圖式簡單說明】 圖1為本發明實施财-雷射印表機的組成結構示意圖； 圖2為圖1憎示的雷射印表機中所提供的-光學掃描裝置的組成結構示 圖3為表’顯示了圖2中所補絲掃描裝置帽提供的—光源㈣ 一表面發光雷射陣列的組成： 圖’齡了圖2中所示的光學掃描裝置中所提供的光源中的表 面發光雷射陣列的組成； 圖5Α為-圖表’顯示了—表面發光雷射陣列比較例的組成； 圖5Β為-圖表，用於解釋表面發光雷射陣列的比較例的操作，· 於解釋當制圖3中所示的表面細_時所進行 圖7為—圖表’用於解釋本發明實施例情-表面發光雷射陣列進行的修 21 1339163 正； 圖8為—圖表，聽解釋當使用圖7 的不相等中間掃描； 中所示的表面發光雷射陣列時所進行 圖1〇為一 1身田不等中間掃描配置她於辦中間掃描的優點 Ξ η 用於解釋不相等中瞻細置相較於鱗㈣掃描的優點 表，用於解釋不相等中間掃描配置相較於相等令間掃描的優點 ^ ^ 一圖表，用於解釋不相等中間掃描配置相較於相等令間掃描的優點 圖為一用於解釋本發明實施例中對一表面發光雷射陣列進行的修 .ΙΕ. > 〆 ® μ為1表，用於解釋當使關13中所示的表面發光雷射陣列時所進 行的不相等中間掃描； 圖15為一圖表，用於解釋本發明實施例中在―表面發光雷射陣列上進行的 修正； 圖16為一圖表，用於解釋當使用圖15中所示的表面發光雷射陣列時所進 行的不相等中間掃描； 圖17為一圖表，用於解釋本發明實施例中在一表面發光雷射陣列上進行的 修正； 圖18為一圖表，用於解釋本發明實施例中在一表面發光雷射陣列上進行的 修正； φ 圖19為一圖表，顯示了本發明實施例中--次同步彩色成像裝置的組成結 構。 【主要元件符號說明】 11a偏轉器側掃描透鏡 lib圖像表面側掃描透鏡 13多面鏡 14光源 15耦合透鏡 16光圈板 22 1339163 17圓柱透鏡 30定像組件 80傳輸帶 100二維陣列/表面發光雷射陣列 100A表面發光雷射陣列 100B表面發光雷射陣列 100C表面發光雷射陣列 100D表面發光雷射陣列 100E表面發光雷射陣列

1000雷射印表機 1010光學掃描裝置 1010A光學掃描裝置 1030感光鼓 1031充電器 1032顯影輥 1033轉寫充電器 1034放電器 1035清潔刀 1036碳粉匣

1037送紙輥 1038送紙盤 1039套印輥對 1040記錄紙 1041定影輥 1042出紙輥 1043出紙盤 1500 —次同步彩色成像裝置 c 一預定值 chl-ch40發光部件 23 1339163 dl間距 d2間距 LI第一發光部件列 L2第二發光部件列 L3第三發光部件列 L4第四發光部件列 L5第五發光部件列 L6第六發光部件列 L7第七發光部件列

L8第八發光部件列，X3,X4間距 Μ 主掃描方向 S 副掃描方向 Κ1黑色（Κ)感光鼓 Κ2充電器 Κ4顯影組件 Κ5清潔組件 Κ6轉寫充電器 C1深藍色（C)感光鼓 C2充電器

C4顯影組件 C5清潔組件 C6轉寫充電器

Ml紅色（Μ)感光鼓 M2充電器 M4顯影組件 M5清潔組件 M6轉寫充電器 Y1黃色（Y)感光鼓 Y2充電器 24 1339163 Y4顯影組件 Υ5清潔組件 Υ6轉寫充電器

Claims (1)

1339163 十、申請專職_ 丨飨"月 1. -種表®發光能_，包括在具有兩個正交方向的—二維 的複數個發光部件，其中， _1 當複數個發光料正交投影在平行於兩個正交方向巾的其中之一個方 向的-虛線上時，複數個發光部件巾的兩個發光部件之間沿著虛 -間距等於-鼓值之自絲的倍數，並且在該虛線上投影的二複數 =發=件之每—個的中心，不與在該虛線上投影的另—發光部件的 其中，複數個發光部件包括-第一發光部件、沿著虛線鄰近第 部件的-第二發光部件、以及沿著虛線鄰近第二發光部件的第三發 部件，並且在兩個正交方向的其中_個方向上，第_發光部件和 發光部件之_-間距不同於第二發光部件和第三發光部件之間的二 間距。 2·依據巾請專職_丨項所韻表面發光雷辦列，其巾，麵個正 =向=其中-個方向上’第__、第二和第三發光部件配置在二維陣列中 的一中央部分，在兩個正交方向中的另一方向上，所述第二和第三發光 部件設置於靠近二維陣列的端部，並且在兩個正交方向的其中一個，向 t ’第二和第三發光部件之間的間距比第—和第二發光部件之間 •/J、〇 3. 申請專利範圍第丨項所述的表面發光雷射陣列，其中，在兩個正交 件方向上’設置於二維陣列的—中央部分的複數個發光部 之間的一_ ’大於設置於二維陣列的端部的複數 個毛先。Ρ件中的兩個發光部件之間的一間距。 4· mi專利範圍第1項所述的表面發光雷射陣列，其中，在兩個正交 方，，設置於二維陣列的—中央部分的複數個發光部件 中的兩個發先部件之間的—間距，大於設置於二轉列的端部分的複數 26 1339163 你"月4修(爽)正替換 . .個發光部件中的兩個發光部件之間的一間距i -5 5. 依據申請專利範圍第i項所述的表面發光雷射陣列，其中，複數個發光 部件包括複數列發光部件，每—列至少包括置在兩個正交方向的其中 -個方向上的兩個贱部件，所述複數.光部件配置在兩個正交方向 的另一方向’並且發光部件列的列數大於一發光部件列中所含有的發光 部件的數目。 6. 依據f請專利範圍第1項所述的表面發光雷射陣列，其中，在兩個正交 彳向中的其中一個方向’位於二維陣列的末端處的兩個發光部件配置於 垂直於兩個正交方向其中-個方向、二維陣列的末端處以外的位置。 7· —種光學掃描裝置，包括： 一光源組件，包含申請專利範圍第丨項所述之表面發光雷射陣列，所述 光源組件具有一主掃描方向和一副掃描方向，分別與兩個正交方向平 行； 一偏轉組件，將自光源組件發射的複數條雷射光束進行偏轉；以及 一掃描光學系統，將自偏轉組件輸出的雷射光束聚焦在一光電導體的經 掃描表面上。 8. 了種成像裝置’包含中請專利範圍第7項所述之光學掃描裝置以及一 光電導體’其巾，蘭光學掃描裳置藉由自光學掃絲置輸&的雷射光 束對光電導體的-表面進行掃描，以便依據雷射光束内的圖像資訊在光 電導體表面上形成一圖像。 9. 依據中請專利範圍第8項所述的成像裝置，其中所述圖像資訊係多色圖 像資訊。 10. -種成像裝置’包含中請專利範圍第丨項所述之表面發光雷射陣列， 27 1339163 辨"月》冗修⑧正替換頁i 其中，所述表面發光雷射陣列提供為一光學寫入組件的一部分’當寫 入圖像資訊至光電導體時，所述光學寫入組件輸出雷射光束至一光電 導體。 28