JP5721055B2 - 面発光レーザ素子、面発光レーザアレイ、光走査装置、画像形成装置及び面発光レーザ素子の製造方法 - Google Patents
面発光レーザ素子、面発光レーザアレイ、光走査装置、画像形成装置及び面発光レーザ素子の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5721055B2 JP5721055B2 JP2011084987A JP2011084987A JP5721055B2 JP 5721055 B2 JP5721055 B2 JP 5721055B2 JP 2011084987 A JP2011084987 A JP 2011084987A JP 2011084987 A JP2011084987 A JP 2011084987A JP 5721055 B2 JP5721055 B2 JP 5721055B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- emitting laser
- surface emitting
- laser element
- light
- multilayer film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/10—Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
- H01S5/18—Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities
- H01S5/183—Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities having only vertical cavities, e.g. vertical cavity surface-emitting lasers [VCSEL]
- H01S5/18308—Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities having only vertical cavities, e.g. vertical cavity surface-emitting lasers [VCSEL] having a special structure for lateral current or light confinement
- H01S5/18311—Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities having only vertical cavities, e.g. vertical cavity surface-emitting lasers [VCSEL] having a special structure for lateral current or light confinement using selective oxidation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/435—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material
- B41J2/47—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light
- B41J2/471—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light using dot sequential main scanning by means of a light deflector, e.g. a rotating polygonal mirror
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/40—Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
- H01S5/42—Arrays of surface emitting lasers
- H01S5/423—Arrays of surface emitting lasers having a vertical cavity
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S2301/00—Functional characteristics
- H01S2301/17—Semiconductor lasers comprising special layers
- H01S2301/176—Specific passivation layers on surfaces other than the emission facet
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/10—Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
- H01S5/18—Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities
- H01S5/183—Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities having only vertical cavities, e.g. vertical cavity surface-emitting lasers [VCSEL]
- H01S5/18344—Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities having only vertical cavities, e.g. vertical cavity surface-emitting lasers [VCSEL] characterized by the mesa, e.g. dimensions or shape of the mesa
- H01S5/18347—Mesa comprising active layer
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/10—Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
- H01S5/18—Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities
- H01S5/183—Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities having only vertical cavities, e.g. vertical cavity surface-emitting lasers [VCSEL]
- H01S5/18344—Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities having only vertical cavities, e.g. vertical cavity surface-emitting lasers [VCSEL] characterized by the mesa, e.g. dimensions or shape of the mesa
- H01S5/1835—Non-circular mesa
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Semiconductor Lasers (AREA)
Description
Claims (15)
- 基板上に、アルミニウムを含む第1の半導体多層膜、活性層、及び第2の半導体多層膜を有する複数の半導体層が積層され、前記第1の半導体多層膜上にメサ構造の発光部を有する面発光レーザ素子において、
前記第1の半導体多層膜の外形は、前記基板の表面に直交する方向からみたとき、角部が無くマクロ的に滑らかな形状であり、前記第1の半導体多層膜の側面は、不動態化膜と保護膜とによって被覆されていることを特徴とする面発光レーザ素子。 - 前記不動態化膜は、前記アルミニウムの酸化物を含むことを特徴とする請求項1に記載の面発光レーザ素子。
- 前記発光部の周囲に溝が形成されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の面発光レーザ素子。
- 前記第1の半導体多層膜の外形は、前記基板の表面に直交する方向からみたとき、角丸矩形、楕円形、及び円形のいずれかであることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の面発光レーザ素子。
- 前記第1の半導体多層膜は、AlAsの層を含むことを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の面発光レーザ素子。
- 前記第1の半導体多層膜における前記活性層近くの低屈折率層は、光学的厚さが「発振波長/4」よりも大きいことを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の面発光レーザ素子。
- 前記第1の半導体多層膜における前記活性層から低屈折率層の数にして5つよりも近い層に、光学的厚さが「発振波長/4」よりも大きい低屈折率層が含まれていることを特徴とする請求項6に記載の面発光レーザ素子。
- 前記活性層と該活性層を挟む2つのスペーサ層とからなる共振器構造体は、Inが含まれる層を有することを特徴とする請求項5〜7のいずれか一項に記載の面発光レーザ素子。
- 前記Inが含まれる層は、AlGaInP層であることを特徴とする請求項8に記載の面発光レーザ素子。
- 請求項1〜9のいずれか一項に記載の面発光レーザ素子が集積された面発光レーザアレイ。
- 光によって被走査面を走査する光走査装置であって、
請求項1〜9のいずれか一項に記載の面発光レーザ素子を有する光源と、
前記光源からの光を偏向する光偏向器と、
前記光偏向器で偏向された光を前記被走査面上に集光する走査光学系と、を備える光走査装置。 - 光によって被走査面を走査する光走査装置であって、
請求項10に記載の面発光レーザアレイを有する光源と、
前記光源からの光を偏向する光偏向器と、
前記光偏向器で偏向された光を前記被走査面上に集光する走査光学系と、を備える光走査装置。 - 少なくとも1つの像担持体と、
前記少なくとも1つの像担持体に対して画像情報に応じて変調された光を走査する少なくとも1つの請求項11又は12に記載の光走査装置と、を備える画像形成装置。 - 前記画像情報は、多色のカラー画像情報であることを特徴とする請求項13に記載の画像形成装置。
- 基板上に、アルミニウムを含む第1の半導体多層膜、活性層、及び第2の半導体多層膜を有する複数の半導体層が積層され、前記第1の半導体多層膜上にメサ構造の発光部を有する面発光レーザ素子の製造方法であって、
前記第1の半導体多層膜を、前記基板の表面に直交する方向からみたときの外形が角部が無くマクロ的に滑らかな形状となるようにエッチングする工程と、
前記第1の半導体多層膜のエッチング面を不動態化する工程と、
該不動態化された面を保護膜によって被覆する工程と、を含む面発光レーザ素子の製造方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011084987A JP5721055B2 (ja) | 2010-06-11 | 2011-04-07 | 面発光レーザ素子、面発光レーザアレイ、光走査装置、画像形成装置及び面発光レーザ素子の製造方法 |
US13/155,494 US8502852B2 (en) | 2010-06-11 | 2011-06-08 | Surface emitting laser device, surface emitting laser array, optical scanning device, image forming apparatus, and method of manufacturing the surface emitting laser device |
EP11169603.5A EP2395613A3 (en) | 2010-06-11 | 2011-06-10 | Surface emitting laser device, surface emitting laser array, optical scanning device, image forming apparatus, and method of manufacturing the surface emitting laser device |
EP20152706.6A EP3667841B1 (en) | 2010-06-11 | 2011-06-10 | Surface emitting laser device, surface emitting laser array, optical scanning device, image forming apparatus, and method of manufacturing the surface emitting laser device |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010133472 | 2010-06-11 | ||
JP2010133472 | 2010-06-11 | ||
JP2011084987A JP5721055B2 (ja) | 2010-06-11 | 2011-04-07 | 面発光レーザ素子、面発光レーザアレイ、光走査装置、画像形成装置及び面発光レーザ素子の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012019195A JP2012019195A (ja) | 2012-01-26 |
JP5721055B2 true JP5721055B2 (ja) | 2015-05-20 |
Family
ID=44502201
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011084987A Active JP5721055B2 (ja) | 2010-06-11 | 2011-04-07 | 面発光レーザ素子、面発光レーザアレイ、光走査装置、画像形成装置及び面発光レーザ素子の製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8502852B2 (ja) |
EP (2) | EP2395613A3 (ja) |
JP (1) | JP5721055B2 (ja) |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012209534A (ja) | 2011-03-17 | 2012-10-25 | Ricoh Co Ltd | 面発光レーザ素子、原子発振器及び面発光レーザ素子の検査方法 |
JP5929259B2 (ja) | 2011-05-17 | 2016-06-01 | 株式会社リコー | 面発光レーザ素子、光走査装置及び画像形成装置 |
JP6303255B2 (ja) | 2011-12-02 | 2018-04-04 | 株式会社リコー | 面発光レーザ素子及び原子発振器 |
JP6085956B2 (ja) | 2012-03-09 | 2017-03-01 | 株式会社リコー | 面発光レーザアレイ素子、光走査装置及び画像形成装置 |
JP6102525B2 (ja) | 2012-07-23 | 2017-03-29 | 株式会社リコー | 面発光レーザ素子及び原子発振器 |
JP6107089B2 (ja) | 2012-11-30 | 2017-04-05 | 株式会社リコー | 面発光レーザ素子及び原子発振器 |
JP2014145744A (ja) * | 2013-01-30 | 2014-08-14 | Ricoh Co Ltd | 物体検出装置 |
JP6299955B2 (ja) * | 2013-12-20 | 2018-03-28 | セイコーエプソン株式会社 | 面発光レーザーおよび原子発振器 |
JP2016021516A (ja) * | 2014-07-15 | 2016-02-04 | 株式会社リコー | 半導体装置、面発光レーザ、面発光レーザアレイ、光走査装置及び画像形成装置。 |
JP2016174136A (ja) | 2015-03-16 | 2016-09-29 | 株式会社リコー | 面発光レーザアレイ、レーザ装置、点火装置、及び内燃機関 |
JP2017050316A (ja) * | 2015-08-31 | 2017-03-09 | 富士ゼロックス株式会社 | 発光素子の製造方法 |
JP2017103448A (ja) | 2015-11-24 | 2017-06-08 | 株式会社リコー | レーザー光発生装置、レーザー加工機、被加工物の生産方法 |
US20200381897A1 (en) * | 2019-06-03 | 2020-12-03 | Mellanox Technologies, Ltd. | Vertical-cavity surface-emitting laser with characteristic wavelength of 910 nm |
US11522343B2 (en) * | 2019-06-28 | 2022-12-06 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Surface-emitting laser and method of manufacturing the same |
US11088510B2 (en) | 2019-11-05 | 2021-08-10 | Ii-Vi Delaware, Inc. | Moisture control in oxide-confined vertical cavity surface-emitting lasers |
EP3961829B1 (en) * | 2020-08-24 | 2023-10-04 | Changchun Institute of Optics, Fine Mechanics and Physics, Chinese Academy of Sciences | Radiation emitter |
US11936163B2 (en) | 2020-08-24 | 2024-03-19 | Changchun Institute Of Optics, Fine Mechanics And Physics | Radiation emitter |
EP4092848A1 (en) * | 2021-05-20 | 2022-11-23 | TRUMPF Photonic Components GmbH | Densely packed vcsel array |
Family Cites Families (45)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6233264B1 (en) | 1996-08-27 | 2001-05-15 | Ricoh Company, Ltd. | Optical semiconductor device having an active layer containing N |
JP3788831B2 (ja) | 1996-08-30 | 2006-06-21 | 株式会社リコー | 半導体素子およびその製造方法 |
JP3449516B2 (ja) | 1996-08-30 | 2003-09-22 | 株式会社リコー | 半導体多層膜反射鏡および半導体多層膜反射防止膜および面発光型半導体レーザおよび受光素子 |
JP3467153B2 (ja) | 1996-08-30 | 2003-11-17 | 株式会社リコー | 半導体素子 |
US6072196A (en) | 1996-09-05 | 2000-06-06 | Ricoh Company, Ltd. | semiconductor light emitting devices |
US6563851B1 (en) | 1998-04-13 | 2003-05-13 | Ricoh Company, Ltd. | Laser diode having an active layer containing N and operable in a 0.6 μm wavelength band |
US6207973B1 (en) | 1998-08-19 | 2001-03-27 | Ricoh Company, Ltd. | Light emitting devices with layered III-V semiconductor structures |
US6201264B1 (en) | 1999-01-14 | 2001-03-13 | Lumileds Lighting, U.S., Llc | Advanced semiconductor devices fabricated with passivated high aluminum content III-V materials |
US6542528B1 (en) | 1999-02-15 | 2003-04-01 | Ricoh Company, Ltd. | Light-emitting semiconductor device producing red wavelength optical radiation |
US6614821B1 (en) | 1999-08-04 | 2003-09-02 | Ricoh Company, Ltd. | Laser diode and semiconductor light-emitting device producing visible-wavelength radiation |
US6975663B2 (en) | 2001-02-26 | 2005-12-13 | Ricoh Company, Ltd. | Surface-emission laser diode operable in the wavelength band of 1.1-7μm and optical telecommunication system using such a laser diode |
US6674777B1 (en) * | 2000-08-31 | 2004-01-06 | Honeywell International Inc. | Protective side wall passivation for VCSEL chips |
US6674785B2 (en) | 2000-09-21 | 2004-01-06 | Ricoh Company, Ltd. | Vertical-cavity, surface-emission type laser diode and fabrication process thereof |
US6803604B2 (en) | 2001-03-13 | 2004-10-12 | Ricoh Company, Ltd. | Semiconductor optical modulator, an optical amplifier and an integrated semiconductor light-emitting device |
US6765232B2 (en) | 2001-03-27 | 2004-07-20 | Ricoh Company, Ltd. | Semiconductor light-emitting device, surface-emission laser diode, and production apparatus thereof, production method, optical module and optical telecommunication system |
JP3928695B2 (ja) | 2001-03-30 | 2007-06-13 | セイコーエプソン株式会社 | 面発光型の半導体発光装置およびその製造方法 |
JP4537658B2 (ja) | 2002-02-22 | 2010-09-01 | 株式会社リコー | 面発光レーザ素子、該面発光レーザ素子を用いた面発光レーザアレイ、電子写真システム、面発光レーザモジュール、光通信システム、光インターコネクションシステム、および面発光レーザ素子の製造方法 |
US6927412B2 (en) | 2002-11-21 | 2005-08-09 | Ricoh Company, Ltd. | Semiconductor light emitter |
JP3729270B2 (ja) * | 2004-01-08 | 2005-12-21 | セイコーエプソン株式会社 | 光素子およびその製造方法 |
EP1780849B1 (en) | 2004-06-11 | 2013-01-30 | Ricoh Company, Ltd. | Surface emitting laser diode and its manufacturing method |
US8815617B2 (en) * | 2004-10-01 | 2014-08-26 | Finisar Corporation | Passivation of VCSEL sidewalls |
US7277463B2 (en) * | 2004-12-30 | 2007-10-02 | Finisar Corporation | Integrated light emitting device and photodiode with ohmic contact |
US7981700B2 (en) | 2005-02-15 | 2011-07-19 | Ricoh Company, Ltd. | Semiconductor oxidation apparatus and method of producing semiconductor element |
JP2006302919A (ja) * | 2005-04-15 | 2006-11-02 | Sony Corp | 面発光型半導体レーザおよびその製造方法 |
JP5376104B2 (ja) * | 2005-07-04 | 2013-12-25 | ソニー株式会社 | 面発光型半導体レーザ |
JP4892940B2 (ja) * | 2005-11-29 | 2012-03-07 | 富士ゼロックス株式会社 | 面発光型半導体レーザ装置およびその製造方法 |
JP4946041B2 (ja) * | 2005-12-22 | 2012-06-06 | 富士ゼロックス株式会社 | 面発光型半導体レーザ装置およびその製造方法 |
US7693204B2 (en) | 2006-02-03 | 2010-04-06 | Ricoh Company, Ltd. | Surface-emitting laser device and surface-emitting laser array including same |
WO2007126159A1 (en) | 2006-04-28 | 2007-11-08 | Ricoh Company, Ltd. | Surface-emission laser array, optical scanning apparatus and image forming apparatus |
EP2054980B1 (en) | 2006-08-23 | 2013-01-09 | Ricoh Company, Ltd. | Surface-emitting laser array, optical scanning device, and image forming device |
JP5309485B2 (ja) * | 2006-08-30 | 2013-10-09 | 株式会社リコー | 面発光レーザ、面発光レーザアレイ、光走査装置及び画像形成装置 |
JP2008060322A (ja) | 2006-08-31 | 2008-03-13 | Ricoh Co Ltd | 面発光レーザ素子、面発光レーザアレイ、光走査装置、画像形成装置及び光通信システム |
JP2008064801A (ja) | 2006-09-04 | 2008-03-21 | Ricoh Co Ltd | 光走査装置及び画像形成装置 |
JP4935278B2 (ja) * | 2006-09-28 | 2012-05-23 | 富士ゼロックス株式会社 | 表面発光型半導体アレイ素子、モジュール、光源装置、情報処理装置、光送信装置、光空間伝送装置、および光空間伝送システム |
US7974328B2 (en) * | 2007-03-22 | 2011-07-05 | Nec Corporation | Surface-emission type semiconductor laser |
JP5087321B2 (ja) * | 2007-06-07 | 2012-12-05 | 浜松ホトニクス株式会社 | 半導体発光素子 |
JP5177399B2 (ja) | 2007-07-13 | 2013-04-03 | 株式会社リコー | 面発光レーザアレイ、光走査装置及び画像形成装置 |
CN101765951B (zh) | 2007-11-14 | 2012-07-04 | 株式会社理光 | 表面发射激光器、表面发射激光器阵列、光学扫描装置、成像设备、光学传输模块和光学传输系统 |
JP5669364B2 (ja) * | 2008-06-11 | 2015-02-12 | 株式会社リコー | 面発光レーザ素子、面発光レーザアレイ、光走査装置、及び画像形成装置 |
JP5408477B2 (ja) | 2008-05-13 | 2014-02-05 | 株式会社リコー | 面発光レーザ素子、面発光レーザアレイ、光走査装置及び画像形成装置 |
JP5316783B2 (ja) | 2008-05-15 | 2013-10-16 | 株式会社リコー | 面発光レーザ素子、面発光レーザアレイ、光走査装置及び画像形成装置 |
JP2009295792A (ja) | 2008-06-05 | 2009-12-17 | Ricoh Co Ltd | 面発光レーザ素子、面発光レーザアレイ、光走査装置及び画像形成装置 |
JP5316784B2 (ja) | 2008-06-11 | 2013-10-16 | 株式会社リコー | 面発光レーザ素子、面発光レーザアレイ、光走査装置及び画像形成装置 |
JP5748949B2 (ja) * | 2008-11-20 | 2015-07-15 | 株式会社リコー | 面発光レーザ素子、面発光レーザアレイ、光走査装置及び画像形成装置 |
JP5531584B2 (ja) * | 2009-11-27 | 2014-06-25 | 株式会社リコー | 面発光型レーザーの製造方法、面発光型レーザー、面発光型レーザーアレイ素子、光走査装置及び画像形成装置 |
-
2011
- 2011-04-07 JP JP2011084987A patent/JP5721055B2/ja active Active
- 2011-06-08 US US13/155,494 patent/US8502852B2/en active Active
- 2011-06-10 EP EP11169603.5A patent/EP2395613A3/en not_active Ceased
- 2011-06-10 EP EP20152706.6A patent/EP3667841B1/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP2395613A2 (en) | 2011-12-14 |
US20110304684A1 (en) | 2011-12-15 |
EP2395613A3 (en) | 2015-03-11 |
EP3667841A1 (en) | 2020-06-17 |
US8502852B2 (en) | 2013-08-06 |
EP3667841B1 (en) | 2024-05-08 |
JP2012019195A (ja) | 2012-01-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5721055B2 (ja) | 面発光レーザ素子、面発光レーザアレイ、光走査装置、画像形成装置及び面発光レーザ素子の製造方法 | |
JP5527714B2 (ja) | 面発光レーザ素子、面発光レーザアレイ、光走査装置及び画像形成装置 | |
JP5316783B2 (ja) | 面発光レーザ素子、面発光レーザアレイ、光走査装置及び画像形成装置 | |
US8989231B2 (en) | Surface emitting laser device, surface emitting laser array, optical scanning device, image forming apparatus, and manufacturing method of surface emitting laser device | |
US8421837B2 (en) | Surface-emitting laser element, surface-emitting laser array, optical scanning device, and image forming apparatus | |
JP5748949B2 (ja) | 面発光レーザ素子、面発光レーザアレイ、光走査装置及び画像形成装置 | |
JP5601014B2 (ja) | 光デバイス、光走査装置及び画像形成装置 | |
JP4890358B2 (ja) | 面発光レーザアレイ、光走査装置、画像形成装置、光伝送モジュール及び光伝送システム | |
JP2011166108A (ja) | 面発光レーザ素子、面発光レーザアレイ、光走査装置及び画像形成装置 | |
JP5532239B2 (ja) | 面発光レーザ素子、面発光レーザアレイ、光走査装置及び画像形成装置 | |
JP5843131B2 (ja) | 面発光レーザ素子、面発光レーザアレイ、光走査装置、画像形成装置及び面発光レーザ素子の製造方法 | |
JP2012190872A (ja) | 面発光レーザ素子の製造方法、光走査装置及び画像形成装置 | |
JP2014017448A (ja) | 面発光レーザ、面発光レーザアレイ、光走査装置及び画像形成装置 | |
JP2014096515A (ja) | 面発光レーザ素子、面発光レーザアレイ、光走査装置、画像形成装置、及び面発光レーザ素子の製造方法 | |
JP2012195431A (ja) | 面発光レーザ素子と面発光レーザアレイおよび製造方法とそれを用いた光走査装置と画像形成装置ならびに光送受信モジュールと光通信装置および電気機器 | |
JP5505615B2 (ja) | 光デバイス、光走査装置及び画像形成装置 | |
JP5721051B2 (ja) | 面発光レーザ素子、面発光レーザアレイ、光走査装置及び画像形成装置 | |
JP2014033035A (ja) | 光デバイスの製造方法、及びヘキ開装置 | |
JP6269913B2 (ja) | 面発光レーザ素子の製造方法、光源装置の製造方法、光走査装置、及び画像形成装置 | |
JP2014103233A (ja) | 面発光レーザ素子、光走査装置、画像形成装置、及び面発光レーザ素子の製造方法、 | |
JP2012156170A (ja) | 光デバイス、光走査装置及び画像形成装置 | |
JP2014011228A (ja) | 光デバイス、光走査装置及び画像形成装置 | |
JP2014093461A (ja) | 面発光レーザ素子、面発光レーザアレイ、光走査装置、及び画像形成装置 | |
JP2015111634A (ja) | 面発光レーザアレイ、光走査装置及び画像形成装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140318 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150128 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150302 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5721055 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150315 |