JP2006302919A - 面発光型半導体レーザおよびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】駆動時における高い信頼性を有する面発光型半導体レーザおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】メサ部20の周辺には、p側電極層28の表面から基板10の厚み方向の所定の位置までの深度を有する分離溝30が形成されている。基板10の分断の際に、この分離溝30により下部DBRミラー層21の側面およびp側電極層28の側面が損傷を受けるのを防ぐことが可能となる。基板10の分離前に一括して第3保護領域40Cに保護膜40を形成することが可能となり、第1保護領域40A、第2保護領域40Bおよび第3保護領域40Cが耐湿性を有する保護膜40で被覆され、外部からの水分の侵入を防ぐことが可能となる。特に、下部DBRミラー層21のAlGaAs層の劣化が抑制される。
【選択図】 図2
【解決手段】メサ部20の周辺には、p側電極層28の表面から基板10の厚み方向の所定の位置までの深度を有する分離溝30が形成されている。基板10の分断の際に、この分離溝30により下部DBRミラー層21の側面およびp側電極層28の側面が損傷を受けるのを防ぐことが可能となる。基板10の分離前に一括して第3保護領域40Cに保護膜40を形成することが可能となり、第1保護領域40A、第2保護領域40Bおよび第3保護領域40Cが耐湿性を有する保護膜40で被覆され、外部からの水分の侵入を防ぐことが可能となる。特に、下部DBRミラー層21のAlGaAs層の劣化が抑制される。
【選択図】 図2
Description
本発明は、多層膜反射鏡を有する面発光型半導体レーザおよびその製造方法に係り、特に、多層膜反射鏡内に電流狭窄構造を含む面発光型半導体レーザおよびその製造方法に関する。
一般に、面発光型の半導体レーザは、一対の多層膜反射鏡間に活性層を有する積層構造(メサ部)を備えたものであり、その多層膜反射鏡の一部には電流狭窄層が設けられている。この電流狭窄層は、砒化アルミニウム(AlAs)の選択酸化により酸化狭窄部を形成したものである。メサ部の上にはリング状の電極層があり、このリング状電極層の中央部が出力光を通過させるための光出射窓となっている。また、メサ部の表面は、光出力窓を除く領域が絶縁膜により覆われている(例えば、特許文献1参照)。このような構造により面発光型の半導体レーザでは、活性層に電流が効率よく注入され、高効率のレーザ発振が可能になっている。
ところが、このような面発光型の半導体レーザは、外部環境の湿度(水分)に影響を受け易く、例えば、(1)〜(3)のような劣化現象が生じることが報告されている(例えば、非特許文献1参照)。
(1)出力窓の酸化および汚染
(2)絶縁膜の吸湿による応力変化あるいはその絶縁膜を透過した水分を酸化狭窄部が吸収することにより生じた応力変化に起因する酸化狭窄部破壊(クラック)
(3)多湿環境下における転移増殖
(1)出力窓の酸化および汚染
(2)絶縁膜の吸湿による応力変化あるいはその絶縁膜を透過した水分を酸化狭窄部が吸収することにより生じた応力変化に起因する酸化狭窄部破壊(クラック)
(3)多湿環境下における転移増殖
図7は、従来のレーザに対して湿度85%,温度85℃の環境下で高湿エージング試験を行ったときの出力変動(光強度)特性を表すものであり、図中、aは絶縁膜の吸湿による応力変化、またはその膜を通した水分によるAlAs酸化膜の吸湿での応力変化による酸化狭窄部破壊(クラック)(上記(2))、並びに転位増殖(上記(3))などが生じた場合の出力変動特性を、また、bは、出力窓の酸化,汚染(上記(1))によるDBR反射率変動が生じた場合の出力変動特性を表している(非特許文献1)。このように、上記(1)〜(3)の劣化現象により、動作中に完全な出力停止や大きな出力変動などが発生する虞があった。そのため、例えば光通信用の半導体レーザには光通信の規格(Telcordia 等)により駆動時において高い信頼性が要求されており、これらの劣化現象に対する対策方法が必要とされている。
そこで、そのような対策方法として、レーザ素子をハーメチックシールされたパッケージに収容し、外部環境に触れ難くすることにより、半導体レーザの駆動時の信頼性を向上させる方法などが提案されている。
しかしながら、このような方法でも、多湿環境下では十分な対策方法とはいえず、また、パッケージを用いると製造コストが高くなることからオープンパッケージ仕様に耐え得る半導体レーザが望まれていた。
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、外部からの水分の侵入を防ぎ、駆動時における高い信頼性を有する面発光型半導体レーザおよびその製造方法を提供することにある。
本発明の面発光型半導体レーザは、基板と、基板上に、少なくとも第1多層膜反射鏡、活性層、第2多層膜反射鏡および光出射窓を有するコンタクト層をこの順に積層したのち、コンタクト層側から第1多層膜反射鏡の表面まで選択的に除去することにより形成されたメサ部と、第1多層膜反射鏡の表面およびメサ部の側面を覆う絶縁層と、コンタクト層に接し、かつ絶縁層の表面に延在して設けられた電極層と、少なくとも基板上のメサ部、絶縁層および電極層それぞれの表面を覆う耐湿性の保護膜と、を備えたものである。
本発明の面発光型半導体レーザの製造方法は、基板上の一面側に少なくとも第1多層膜反射鏡、活性層、第2多層膜反射鏡および光出射窓を有するコンタクト層をこの順に積層して積層構造を形成する工程と、積層構造をコンタクト側から第1多層膜反射鏡の表面まで選択的に除去することにより複数のメサ部を形成する工程と、第1多層膜反射鏡の表面およびメサ部の側面に絶縁層を形成する工程と、コンタクト層に接する位置から絶縁層の表面にかけて電極層を形成する工程と、少なくとも基板上のメサ部、絶縁層および電極層それぞれの表面を覆うように耐湿性の保護膜を形成する工程と、基板を分断しメサ部ごとに分離する工程と、を含むものである。
本発明の面発光型半導体レーザでは、耐湿性を有する保護膜により、外部からの水分の、メサ部内部、特に、例えばAlGaAsにより形成される第1多層膜反射鏡への侵入を抑制しつつ動作する。
本発明の面発光型半導体レーザによれば、メサ部を含む基板の表面を耐湿性を有する保護膜で覆うようにしたので、外部からの水分のメサ部の内部等への侵入を防ぐことができ、特に、第1多層膜反射鏡等の劣化を抑制することが可能となり、これにより駆動時の信頼性が向上する。また、本発明の面発光型半導体レーザの製造方法によれば、上記面発光型半導体レーザを容易に作製することができる。
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。
[第1の実施の形態]
図1は本発明の一実施の形態に係る面発光型半導体レーザ1の平面構造を、また、図2は図1のA−A切断線に沿った断面構造を表すものである。
図1は本発明の一実施の形態に係る面発光型半導体レーザ1の平面構造を、また、図2は図1のA−A切断線に沿った断面構造を表すものである。
面発光型半導体レーザ1は、基板10上に電極パッド11と共にメサ部20を備えたものであり、基板10の周縁部には分離溝30が設けられている。基板10の側面から分離溝30の内壁、電極パッド11、さらにメサ部20の表面は、電極パッド11の開口領域11Aを除いて保護膜40により覆われている。
基板10は、例えばn型GaAsにより構成されているが、これに限られるものではない。この基板10の裏面にはn側電極50が形成されている。n側電極50は、例えば、金(Au)とゲルマニウム(Ge)との合金層,ニッケル(Ni)層および金(Au)層とを基板10の側から順に積層した構造を有している。
メサ部20は、基板10の表面に、下部DBRミラー層(第1多層膜反射鏡)21、下部クラッド層22、活性層23、上部クラッド層24、上部DBRミラー層25(第2多層膜反射鏡)およびコンタクト層26をこの順に積層したのち、上面から下部DBRミラー層21の表面まで、例えば円柱形状にエッチングすることにより形成されたものである。
基板10、下部DBRミラー層21、下部クラッド層22、活性層23、上部クラッド層24、上部DBRミラー層25およびコンタクト層26は、例えばGaAs(ガリウム・ヒ素)系の化合物半導体によりそれぞれ構成されている。なお、GaAs系化合物半導体とは、短周期型周期表における3B族元素のうち少なくともガリウム(Ga)と、短周期型周期表における5B族元素のうち少なくともヒ素(As)とを含む化合物半導体のことをいう。
下部DBRミラー層21は、低屈折率層21Aiおよび高屈折率層21Bi(1≦i≦x)を1組として、それをx組、例えば38組分含んで構成されたものである。低屈折率層21Aiは、例えば厚さがλ/4n、n型不純物濃度が1.0x 1018/cm3 のAlb Ga1-b As(0≦b<a)により構成されている。高屈折率層21Biは、例えば厚さがλ/4n(λは発振波長、nは屈折率)、n型不純物濃度が1.0x 1018/cm3 のAla Ga1-a As(0<a<1)により構成されている。ここで、n型不純物としては、例えばケイ素(Si)またはセレン(Se)などが挙げられる。
下部クラッド層22は、例えばAlc Ga1-c As(0<c<1)により構成されている。活性層23は、例えばAld Ga1-d As(0<d<1)により構成されている。上部クラッド層24は、例えばAlf Ga1-f As(0<f<1)により構成されている。この下部クラッド層22、活性層23および上部クラッド層24は、アンドープであることが望ましいが、p型またはn型不純物が含まれていてもよい。
上部DBRミラー層25は、低屈折率層25Ajおよび高屈折率層25Bj(1≦j≦y)を1組として、それをy組、例えば25組分含んで構成されたものである。低屈折率層25Ajは、例えば厚さがλ/4n、p型不純物濃度が1.0x 1018/cm3 のAlh Ga1-h As(0≦h<g)により構成されている。高屈折率層25Bjは、例えば厚さがλ/4n(λは発振波長、nは屈折率)、p型不純物濃度が1.0x 1018/cm3 のAlg Ga1-g As(0<g<1)により構成されている。ここで、p型不純物としては、亜鉛(Zn)、マグネシウム(Mg)、ベリリウム(Be)などが挙げられる。
この上部DBRミラー層25内の、活性層23側から数組離れた部位には、低屈折率層の代わりに電流狭窄層25Cが形成されている。この電流狭窄層25Cは、リング状の流狭窄領域(絶縁領域)25C−2内の中央領域に電流注入領域25C−1を有するものである。電流注入領域25C−1は、例えば、p型不純物濃度が1.0x 1018/cm3 のアルミニウム・ヒ素(AlAs)により構成されており、電流狭窄領域25C−2は、メサ部20の周囲からAlAsを酸化することにより得られた酸化アルミニウム(Al2 O3 )により構成されている。
コンタクト層26は、例えばp型GaAsにより構成されており、上記の電流注入領域25C−1と対向する領域に例えば円形の光出射窓(開口)26Aを有している。
絶縁層27は、メサ部20とp側電極層28とを電気的に分離させるために、メサ部20の側壁部分からメサ部20の周辺領域にかけて設けられている。この絶縁層27は、例えばポリイミド等のように絶縁性の他、耐湿性を有する材料により構成されていることが好ましい。メサ部20を構成する各層と水分との接触を抑制することができるからである。
p側電極層28は光出射窓26Aの周縁部を囲みコンタクト層26とオーミック接触をなすリング状の電極部分と、この電極部分に連続し、メサ部20の側壁を経て電極パッド11まで延在する配線部分とにより構成されている。このp側電極層18は、例えば、チタン(Ti)層,白金(Pt)層および金(Au)層をコンタクト層26の側から順に積層したものである。
電極パッド11にはワイヤ(図示せず)を接続するための開口領域11Aが設けられている。この電極パッド11は、例えばチタン(Ti),白金(Pt)および金(Au)などの金属材料により構成されている。
分離溝30は、後述の基板を分断する工程の前にメサ部20の周辺に予め形成しておくものであり、その深さは電極層28の表面から基板10の厚み方向の所定の位置までとなっている。分離後の状態を表す図2では、この分離溝30の断面はL字形状となっている。
保護膜40は、耐環境性、すなわち、低透湿性(耐湿性)および低い酸素透過性を有する材料により構成されており、各構成要素と外部の湿気(水分)や酸素との接触を防ぐものである。ここで、低透湿性とは、透湿量が0.1g/m2 ・Day以下である場合、低い酸素透過性とは、酸素透過量が0.1cc・mm/m2 ・Day・atm以下である場合をそれぞれいうものとする。
この保護膜40は、例えば、酸化ケイ素(SiOx ),窒化ケイ素(SiN)若しくは酸化窒化ケイ素(SiOy Nz )からなる無機絶縁膜、ポリイミド若しくはSOG(Spin On Glass )からなる有機絶縁膜、あるいはこれら無機絶縁膜および有機絶縁膜を積層したものにより構成されている。以下、この保護膜40を、形成される位置により第1保護領域40A、第2保護領域40Bおよび第3保護領域40Cに区分して説明する。
第1保護領域40Aは、コンタクト層26における光出射窓26Aの近傍領域、および上部DBRミラー層25の光出射窓26Aにおける露出部分を含む領域である。この領域に形成される保護膜40は、膜厚がλ/2n1 (n1 は屈折率)で、屈折率n1 が下部DBRミラー層21の表面に設けられた高屈折率層21Biの屈折率n2 より低い物質、例えば酸化物により構成されている。酸化物としては、例えばSiO2 (酸化シリコン)やSiN(窒化シリコン)が挙げられる。これにより、光学特性に影響を及ぼすことなく、光出射窓26Aの周辺(上部DBRミラー層25およびコンタクト層26の表面)の酸化、水分の浸入、あるいは不純物による汚染などを防ぐことが可能となる。
第2保護領域40Bはp側電極層28の表面領域であり、この領域にも耐湿性を備えた保護膜40が形成されている。ここで、p側電極層28はメサ部20の表面から側面に沿って形成される立体構造を有するものであるため、多湿環境下で素子を動作させるとp側電極層28の内部または表面に素子の故障原因となるエレクトロマイグレーション、デンドライトあるいはウィスカーなどが発生する可能性がある。しかしながら、この領域に保護膜40が形成されていることにより、例えば、0°C以上100°C以下の使用環境温度あるいは85°Cのエージング試験においてこれらの故障原因の発生が抑制され、更に、絶縁性も有している場合には外部との電気的接触も防ぐことが可能となる。なお、この領域に形成される保護膜40は下地層とは異なる材料の表面に形成されるものであるので、温度変化などによる被膜性の低下を抑制するために適度な伸縮性を有していることが好ましい。このような伸縮性も有する材料としては、ポリイミド膜が挙げられる。
第3保護領域40Cは、下部DBRミラー層21の側面並びに絶縁層27およびp側電極層28の各端面に相当する領域であり、分離溝30を設けた場合には、分離溝30の側面30Aおよび底面30Bも含めた領域である。この領域に形成される保護膜40により、特に下部DBRミラー層21に含まれるアルミニウムと水分との接触が抑制される。
この保護膜40は、例えば、各保護領域に必要とされる機能のバランスを考慮して全て同一の材料により構成されるものでもよく、第1保護領域40Aおよび第2保護領域40Bには同一の材料で構成し、第3保護領域40Cについては他の材料で構成したものでもよく、あるいは、各保護領域ごとに適した異なる材料を用いて形成されるものであってもよい。但し、いずれの場合においても光学特性に影響を及ぼすことのないように、少なくとも第1保護領域40Aに形成される保護膜40が上述した膜厚および屈折率n1 を有し、かつ、透明性を有する材料により構成されることが好ましい。このような保護膜としては、例えば、CVD法によって形成された酸化膜(SiO2 )などが挙げられる。
このような構成を有する面発光型半導体レーザ1は、例えば次のようにして製造することができる。
図3ないし図5は、その製造方法を工程順に表したものである。例えばGaAs(ガリウム・ヒ素)系の面発光型半導体レーザ1を製造するためには、基板10上の化合物半導体層を、例えば、MOCVD(Metal Organic Chemical Vapor Deposition ;有機金属化学気相成長)法により形成する。この際、III−V族化合物半導体の原料としては、例えば、トリメチルアルミニウム(TMA)、トリメチルガリウム(TMG)、トリメチルインジウム(TMIn)、アルシン (AsH3)を用い、ドナー不純物の原料としては、例えば、H2 Seを用い、アクセプタ不純物の原料としては、例えば、ジメチルジンク(DMZ)を用いる。
まず、図3(A)に示したように、基板10上に、下部DBRミラー層21,下部クラッド層22,活性層23,上部クラッド層24,上部DBRミラー層25およびコンタクト層26をこの順に積層したのち、ドライエッチング法によりコンタクト層26側から下部DBRミラー層21の表面まで選択的に削除することにより複数のメサ部20を形成すると共に、このメサ部20のコンタクト層26に光出射窓26A(開口)を形成する。ここでは、メサ部20の直径が例えば30μmであり、また、GaAs系材料をエッチングするので、エッチングガスとしては、例えば、Cl2 ,BCl3 ,SiCl4 などの塩素系ガスを用いることが好ましい。
次に、水蒸気雰囲気中にて、高温で酸化処理を行い、メサ部20の外側からAlAs選択酸化を行う。これにより、リング状の電流狭窄領域(絶縁領域)25C−2内の中央領域に電流注入領域25C−1を有する電流狭窄層25Cが形成される(以上,第1工程)。
次に、図3(B)に示したように、メサ部20上およびメサ部20の周辺の基板上に例えばポリイミドなどからなる絶縁層27を形成する。続いて、この絶縁層27を例えばドライエッチング法を用いて選択的に除去することにより、光出射窓26A内に上部DBRミラー層25を露出させると共に、コンタクト層26のうち光出射窓26Aの近傍領域を露出させる。このとき、絶縁層27の厚さは、段差被膜性を考慮し、例えば100nm以上とすることが好ましい。この絶縁層27は、CVD(Chemical Vapor Deposition) 法を用いることが好ましい。この理由は、絶縁層27は多層膜反射鏡21, 25および電流狭窄層25C等の各構成要素と湿気との接触を防ぐものであると共に、各構成要素とp側電極層28とを電気的に分離するものでもあるため、メサ部20の側面に対する被膜性を高くする必要があるからである。より具体的には、例えば、プラズマCVD法あるいは熱CVD法などを利用することができる。また、絶縁層27に平坦性を持たせるためにスピンコート法などを用いてもよいが、被膜性を向上させるためには、スピンコート法の前後にCVD法を併用することが好ましい(以上,第2工程)。
続いて、図3(C)に示したように、メサ部20上およびメサ部20の周辺基板上に例えば真空蒸着法により例えばTi、PtおよびAuを順次積層してp側電極層28およびp側電極層28から導出される電極パッド11(図示せず)を形成する。また、基板10の裏面を適宜研磨して厚さを調整した後、その面上に、例えば、金とゲルマニウム(Ge)との合金層,Ni層およびAu層とをこの順に積層してn側電極50を形成する(以上,第3工程)。
次に、図4(A)に示したように、例えばドライエッチング法を用いて、メサ部20の周辺のp側電極層28の表面から基板10の厚み方向の所定の位置までメサ部20,20の間をエッチングすることにより分離溝30を形成する。この分離溝30の幅は例えば20μm〜50μm程度とする。これにより、基板10の分離前に一括して第3保護領域40Cに保護膜40を形成することが可能となり、更に、基板10の分断(第6工程)の際に下部DBRミラー層21の側面およびp側電極層28の側面が損傷を受けるのを防ぐことが可能となる(以上,第4工程)。
続いて、図4(B)に示したように、第1保護領域40A、第2保護領域40Bおよび第3保護領域40Cに、上述の第1保護領域40Aの膜厚および屈折率に合せて、透明性を有する無機絶縁膜や有機絶縁膜を一括して形成することにより保護膜40を形成する。その際、成膜法としては、CVD法あるいはスピンコート法などが利用可能であり、具体的なCVD法としては、絶縁膜27を形成する際と同様のものを用いることができる。また、成膜時の温度としては100°C以上400°C以下とすることが好ましい。この理由は、保護膜40の被覆性を向上させることができると共に電流狭窄層25Cおよびp側電極層28が受ける熱負荷を低減することができるからである(以上,第5工程)。
最後に、分離溝30に沿ってダイシングまたはスクライブ形成を行って個々に分離することにより、図1に示した面発光型半導体レーザ1が完成する(第6工程)。
この面発光型半導体レーザ1は、他の製造方法を用いても作製することができる。すなわち、第5工程において、第1保護領域40Aおよび第2保護領域40Bと、第3保護領域40Cとに分けて保護膜40を形成するものである。なお、第5工程以外は上述した方法と同様であるのでその説明を省略する。
図4(A)に示した工程に続き、図5(A)に示したように、第1保護領域40Aおよび第2保護領域40Bに上述した方法を用いて保護膜40形成する。この保護膜としては、CVD膜やスパッタ膜などステップカバレッジ性に優れた膜などが利用可能であり、膜厚および屈折率については、光学特性に影響を及ぼさないようにするため、上述した第1保護領域40Aに形成される保護膜40の条件を満たすことが好ましい。
次に、図5(B)に示したように、第3保護領域40Cに保護膜40を形成する。このとき、材料としては、透明性を有するものの他にポリイミドなどの樹脂膜などが利用可能である。また、第3保護領域40Cに保護膜40を形成する際には、CVD法およびスパッタリング法の他、酸素プラズマ中で側面(端面)を直接酸化する方法あるいは側面を樹脂などで包埋する方法などが利用可能である。これにより、下部DBRミラー層21の保護に適した膜厚および屈折率を有する保護膜40を形成することができ、面発光型半導体レーザ1の駆動時の信頼性をより向上させることができる。これ以降は上記第6工程と同様である。
このようにして作製された面発光型半導体レーザ1では、p側電極層28およびn側電極50との間に所定の電圧が印加されることにより、活性層23において発光が生じ、その光が光出射窓26Aを通じて外部に射出される。ここで、本実施の形態では、基板1上の第1保護領域40A、第2保護領域40Bおよび第3保護領域40Cが耐湿性を有する保護膜40で覆われていることにより、外部からの水分の侵入が阻止され、特に、第3保護領域40Cに位置する下部DBRミラー層(第1多層膜反射鏡)21のAlGaAs層の劣化が抑制される。これにより駆動時の信頼性などが向上する。更に、少なくとも第1保護領域40Aに形成された保護膜40が透明性を有していれば、レーザ光の光学特性を損なうことはない。また、分離溝30を設け、その内部にも保護膜40を設けることにより、基板10側面に沿った第1多層膜反射鏡21の側面およびp側電極層28の端面からの水分の侵入も防止することができる。なお、p側電極層28から電極パッド11を導出させた場合には、その電極パッド11上の保護膜40を除去して開口領域11Aを設けることにより外部との電気的接続が可能となる。
以上、実施の形態を挙げて本発明を説明したが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、種々変形可能である。
例えば、上記実施の形態では、n型GaAsからなる基板を用いた場合を例として説明していたが、p型GaAsからなる基板やその他の材料からなる基板を用いてもよい。
また、上記実施の形態では、面発光型半導体レーザの製造方法において、第1保護領域40Aないし第3保護領域40Cに一括して保護膜を形成する場合、あるいは、第1保護領域40Aおよび第2保護領域40Bと第3保護領域40Cとに分けて保護膜を形成する場合について説明していたが、第1保護領域40Aないし第3保護領域40Cにそれぞれ個別に保護膜を形成するようにしてもよく、あるいは第1保護領域40Aと第2保護領域40Bおよび第3保護領域40Cとに分けて保護膜を形成するようにしてもよい。また、第1保護領域での保護膜の形成法としてはCVD法を用いることが最も好ましいが、その他、スピンコート法、蒸着法、スパッタリング法あるいはインクジェット法を用いてもよい。
更に、上記実施の形態では、第1保護領域40Aおよび第2保護領域40Bに保護膜を形成したのち、第3保護領域40Cに保護膜を形成する例(図5参照)について説明したが、第1保護領域40Aおよび第2保護領域40Bに保護膜を形成したのち、分断(第6工程)を行い、続いて、基板10の側面も含めて第3保護領域40Cに保護膜を形成するようにしてもよい。図6はそのときの構造を表すものである。これにより、基板10の全側面を保護膜で覆うことができ、より面発光型半導体レーザの駆動時の信頼性を向上させることができる。
また、例えば、上記実施の形態では、分離溝を形成する工程(第4工程)について説明したが、第4工程を行わず、例えば、第3工程に続いて、第1保護領域および第2保護領域に保護膜を形成する第5工程、および基板10を分断する第6工程を経たのち、第3保護領域40Cに保護膜40を形成してもよい。この場合も基板10の全側面を覆うことができると共に、より簡易的に面発光型半導体レーザを製造することができる。
更に、第3工程と第5工程との間に例えば、溶接等を用いて電極パッドにワイヤーなどを接続する工程を含めてもよく、また、第5工程の後に電極パッドに開口領域を形成する工程を含めてもよい。これによりp側電極層28を容易に外部電源などと電気的に接続させることができる。
1…半導体レーザ、10…基板、11…電極パッド、11A…開口領域、20…メサ部、21…下部DBRミラー層(第1多層膜反射鏡)、22…下部クラッド層、23…活性層、24…上部クラッド層、25…上部DBRミラー層、25C…電流狭窄層、25C−1…電流注入領域、25C−2…電流狭窄領域、26…コンタクト層、26A…光出射窓、27…絶縁層、28…p側電極層、30…分離溝、30A…側面、30B…底面、40…保護膜、40A…第1保護領域、40B…第2保護領域、40C…第3保護領域、50…n側電極
Claims (11)
- 基板と、
前記基板上に、少なくとも第1多層膜反射鏡、活性層、第2多層膜反射鏡および光出射窓を有するコンタクト層をこの順に積層したのち、前記コンタクト層側から前記第1多層膜反射鏡の表面まで選択的に除去することにより形成されたメサ部と、
前記第1多層膜反射鏡の表面および前記メサ部の側面を覆う絶縁層と、
前記コンタクト層に接し、かつ前記絶縁層の表面に延在して設けられた電極層と、
少なくとも前記メサ部、絶縁層および電極層それぞれの表面を覆う耐湿性の保護膜と
を備えたことを特徴とする面発光型半導体レーザ。 - 前記耐湿性の保護膜は、前記コンタクト層上の光出射窓の近傍領域および前記第2多層膜反射鏡の前記光出射窓に露出した領域(第1保護領域)と、前記電極層の表面領域(第2保護領域)と、前記第1多層膜反射鏡の側面並びに前記絶縁層および前記電極層の各端面を含む領域(第3保護領域)を含む
ことを特徴とする請求項1記載の面発光型半導体レーザ。 - 前記保護膜は透明性を有している
ことを特徴とする請求項1記載の面発光型半導体レーザ。 - 前記保護膜は、無機絶縁膜,有機絶縁膜、または無機絶縁膜と有機絶縁膜との積層膜である
ことを特徴とする請求項1記載の面発光型半導体レーザ。 - 前記無機絶縁膜はSiOx ,SiNまたはSiOy Nz 、前記有機絶縁膜はポリイミドまたはSOG(Spin On Glass)により形成されている
ことを特徴とする請求項4記載の面発光型半導体レーザ。 - 前記メサ部の周辺部に前記基板の中間位置までの深さを有する分離溝を備え、前記第3保護領域の保護膜は前記分離溝の側面および底面にまで延在している
ことを特徴とする請求項1記載の面発光型半導体レーザ。 - 前記第3保護領域の保護膜は前記基板の側面まで延在している
ことを特徴とする請求項6記載の面発光型半導体レーザ。 - 基板上の一面側に少なくとも第1多層膜反射鏡、活性層、第2多層膜反射鏡および光出射窓を有するコンタクト層をこの順に積層して積層構造を形成する工程と、
前記積層構造をコンタクト側から前記第1多層膜反射鏡の表面まで選択的に除去することにより複数のメサ部を形成する工程と、
前記第1多層膜反射鏡の表面および前記メサ部の側面に絶縁層を形成する工程と、
前記コンタクト層に接する位置から前記絶縁層の表面にかけて電極層を形成する工程と、
少なくとも前記メサ部、絶縁層および電極層それぞれの表面を覆うように耐湿性の保護膜を形成する工程と、
前記基板を分断し前記メサ部ごとに分離する工程と
を含むことを特徴とする面発光型半導体レーザの製造方法。 - 前記電極層を形成したのち、前記電極層の表面から前記基板の厚み方向の中間位置までの深さの分離溝を形成し、前記分離溝内において前記基板を分断する
ことを特徴とする請求項8記載の面発光型半導体レーザの製造方法。 - 前記分離溝の側壁および底面に保護膜を形成したのち前記基板を分離する
ことを特徴とする請求項9記載の面発光型半導体レーザの製造方法。 - 前記分離溝内において前記基板を分断したのち、前記分離溝の側壁および底面、更に前記基板の側面を含む領域に保護膜を形成する
ことを特徴とする請求項9記載の面発光型半導体レーザの製造方法。
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Cited By (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007173513A (ja) * | 2005-12-22 | 2007-07-05 | Fuji Xerox Co Ltd | 面発光型半導体レーザ装置およびその製造方法 |
JP2009038227A (ja) * | 2007-08-02 | 2009-02-19 | Ricoh Co Ltd | 光源ユニット、光走査装置、画像形成装置、光伝送モジュール及び光伝送システム |
CN100464472C (zh) * | 2007-04-05 | 2009-02-25 | 南京大学 | 气相共形薄膜生长制备光子量子点的方法 |
JP2009277781A (ja) * | 2008-05-13 | 2009-11-26 | Ricoh Co Ltd | 面発光型レーザーアレイ素子、光走査装置及び画像形成装置 |
WO2010058805A1 (en) * | 2008-11-20 | 2010-05-27 | Ricoh Company, Ltd. | Manufacturing method, surface-emitting laser device, surface-emitting laser array, optical scanner, and image forming apparatus |
JP2011114227A (ja) * | 2009-11-27 | 2011-06-09 | Ricoh Co Ltd | 面発光型レーザーの製造方法、面発光型レーザー、面発光型レーザーアレイ素子、光走査装置及び画像形成装置 |
JP2011134746A (ja) * | 2009-12-22 | 2011-07-07 | Fuji Xerox Co Ltd | 面発光型半導体レーザ、面発光型半導体レーザ装置、光伝送装置および情報処理装置 |
JP2011142209A (ja) * | 2010-01-07 | 2011-07-21 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 半導体レーザ素子 |
JP2012019195A (ja) * | 2010-06-11 | 2012-01-26 | Ricoh Co Ltd | 面発光レーザ素子、面発光レーザアレイ、光走査装置、画像形成装置及び面発光レーザ素子の製造方法 |
JP2012503308A (ja) * | 2008-09-17 | 2012-02-02 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 波長制御半導体レーザデバイス |
JP2012023107A (ja) * | 2010-07-12 | 2012-02-02 | Ricoh Co Ltd | 面発光レーザ素子、光走査装置及び画像形成装置 |
JP2012104529A (ja) * | 2010-11-08 | 2012-05-31 | Canon Inc | 面発光レーザ及び面発光レーザアレイ、面発光レーザの製造方法及び面発光レーザアレイの製造方法、面発光レーザアレイを備えた光学機器 |
JP2012178615A (ja) * | 2012-06-18 | 2012-09-13 | Sharp Corp | 窒化物半導体レーザ素子および窒化物半導体レーザ素子の製造方法 |
JP2012256840A (ja) * | 2011-05-17 | 2012-12-27 | Ricoh Co Ltd | 面発光レーザ素子、光走査装置及び画像形成装置 |
JP2013065785A (ja) * | 2011-09-20 | 2013-04-11 | Showa Denko Kk | 発光ダイオード及びその製造方法 |
JP2013131575A (ja) * | 2011-12-20 | 2013-07-04 | Seiko Epson Corp | 光伝導アンテナ、テラヘルツ波発生装置、カメラ、イメージング装置および計測装置 |
JP2014086648A (ja) * | 2012-10-26 | 2014-05-12 | Ricoh Co Ltd | レーザ励起レーザ装置 |
JP2014132692A (ja) * | 2008-11-20 | 2014-07-17 | Ricoh Co Ltd | 製造方法 |
CN108022835A (zh) * | 2016-11-01 | 2018-05-11 | 丰田自动车株式会社 | 半导体装置的制造方法 |
JP2018157065A (ja) * | 2017-03-17 | 2018-10-04 | 住友電気工業株式会社 | 面発光半導体レーザ |
CN110212407A (zh) * | 2019-07-08 | 2019-09-06 | 苏州长瑞光电有限公司 | 垂直腔面发射激光器及其功率调节方法 |
CN112152069A (zh) * | 2019-06-28 | 2020-12-29 | 住友电气工业株式会社 | 面发光激光器及其制造方法 |
CN118336508A (zh) * | 2024-06-12 | 2024-07-12 | 长春中科长光时空光电技术有限公司 | 垂直腔面发射激光器 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05160501A (ja) * | 1991-12-03 | 1993-06-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 面発光型レーザ素子 |
JPH0927639A (ja) * | 1995-07-12 | 1997-01-28 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
JPH1146036A (ja) * | 1997-07-25 | 1999-02-16 | Seiko Epson Corp | 面発光型半導体レーザおよびその製造方法 |
JP2000012973A (ja) * | 1998-06-22 | 2000-01-14 | Fuji Xerox Co Ltd | 2次元発光素子アレイ、画像表示装置及び画像形成装置 |
JP2000101185A (ja) * | 1998-09-21 | 2000-04-07 | Seiko Epson Corp | 面発光型半導体レーザおよびその製造方法 |
JP2000277806A (ja) * | 1999-03-26 | 2000-10-06 | Oki Electric Ind Co Ltd | 発光ダイオードアレイ |
JP2004193330A (ja) * | 2002-12-11 | 2004-07-08 | Sharp Corp | モノリシック多波長レーザ素子とその製法 |
-
2005
- 2005-04-15 JP JP2005117722A patent/JP2006302919A/ja active Pending
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05160501A (ja) * | 1991-12-03 | 1993-06-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 面発光型レーザ素子 |
JPH0927639A (ja) * | 1995-07-12 | 1997-01-28 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
JPH1146036A (ja) * | 1997-07-25 | 1999-02-16 | Seiko Epson Corp | 面発光型半導体レーザおよびその製造方法 |
JP2000012973A (ja) * | 1998-06-22 | 2000-01-14 | Fuji Xerox Co Ltd | 2次元発光素子アレイ、画像表示装置及び画像形成装置 |
JP2000101185A (ja) * | 1998-09-21 | 2000-04-07 | Seiko Epson Corp | 面発光型半導体レーザおよびその製造方法 |
JP2000277806A (ja) * | 1999-03-26 | 2000-10-06 | Oki Electric Ind Co Ltd | 発光ダイオードアレイ |
JP2004193330A (ja) * | 2002-12-11 | 2004-07-08 | Sharp Corp | モノリシック多波長レーザ素子とその製法 |
Cited By (30)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007173513A (ja) * | 2005-12-22 | 2007-07-05 | Fuji Xerox Co Ltd | 面発光型半導体レーザ装置およびその製造方法 |
CN100464472C (zh) * | 2007-04-05 | 2009-02-25 | 南京大学 | 气相共形薄膜生长制备光子量子点的方法 |
JP2009038227A (ja) * | 2007-08-02 | 2009-02-19 | Ricoh Co Ltd | 光源ユニット、光走査装置、画像形成装置、光伝送モジュール及び光伝送システム |
JP2009277781A (ja) * | 2008-05-13 | 2009-11-26 | Ricoh Co Ltd | 面発光型レーザーアレイ素子、光走査装置及び画像形成装置 |
JP2012503308A (ja) * | 2008-09-17 | 2012-02-02 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 波長制御半導体レーザデバイス |
EP2351171A4 (en) * | 2008-11-20 | 2012-11-28 | Ricoh Co Ltd | MANUFACTURING METHOD, SURFACE-EMITTING LASER DEVICE, SURFACE-EMITTING LASER NETWORK, OPTICAL DIGITIZER, AND IMAGE FORMING APPARATUS |
JP2014132692A (ja) * | 2008-11-20 | 2014-07-17 | Ricoh Co Ltd | 製造方法 |
EP2351171A1 (en) * | 2008-11-20 | 2011-08-03 | Ricoh Company, Ltd. | Manufacturing method, surface-emitting laser device, surface-emitting laser array, optical scanner, and image forming apparatus |
JP2010267946A (ja) * | 2008-11-20 | 2010-11-25 | Ricoh Co Ltd | 製造方法、面発光レーザ素子、面発光レーザアレイ、光走査装置及び画像形成装置 |
US8630325B2 (en) | 2008-11-20 | 2014-01-14 | Ricoh Company, Ltd. | Manufacturing method, surface-emitting laser device, surface-emitting laser array, optical scanner, and image forming apparatus |
US8416822B2 (en) | 2008-11-20 | 2013-04-09 | Ricoh Company, Ltd. | Manufacturing method, surface-emitting laser device, surface-emitting laser array, optical scanner, and image forming apparatus |
WO2010058805A1 (en) * | 2008-11-20 | 2010-05-27 | Ricoh Company, Ltd. | Manufacturing method, surface-emitting laser device, surface-emitting laser array, optical scanner, and image forming apparatus |
JP2011114227A (ja) * | 2009-11-27 | 2011-06-09 | Ricoh Co Ltd | 面発光型レーザーの製造方法、面発光型レーザー、面発光型レーザーアレイ素子、光走査装置及び画像形成装置 |
JP2011134746A (ja) * | 2009-12-22 | 2011-07-07 | Fuji Xerox Co Ltd | 面発光型半導体レーザ、面発光型半導体レーザ装置、光伝送装置および情報処理装置 |
JP2011142209A (ja) * | 2010-01-07 | 2011-07-21 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 半導体レーザ素子 |
JP2012019195A (ja) * | 2010-06-11 | 2012-01-26 | Ricoh Co Ltd | 面発光レーザ素子、面発光レーザアレイ、光走査装置、画像形成装置及び面発光レーザ素子の製造方法 |
JP2012023107A (ja) * | 2010-07-12 | 2012-02-02 | Ricoh Co Ltd | 面発光レーザ素子、光走査装置及び画像形成装置 |
JP2012104529A (ja) * | 2010-11-08 | 2012-05-31 | Canon Inc | 面発光レーザ及び面発光レーザアレイ、面発光レーザの製造方法及び面発光レーザアレイの製造方法、面発光レーザアレイを備えた光学機器 |
JP2012256840A (ja) * | 2011-05-17 | 2012-12-27 | Ricoh Co Ltd | 面発光レーザ素子、光走査装置及び画像形成装置 |
JP2013065785A (ja) * | 2011-09-20 | 2013-04-11 | Showa Denko Kk | 発光ダイオード及びその製造方法 |
JP2013131575A (ja) * | 2011-12-20 | 2013-07-04 | Seiko Epson Corp | 光伝導アンテナ、テラヘルツ波発生装置、カメラ、イメージング装置および計測装置 |
US9306112B2 (en) | 2011-12-20 | 2016-04-05 | Seiko Epson Corporation | Photoconductive antenna, terahertz wave generating device, camera, imaging device, and measuring device |
JP2012178615A (ja) * | 2012-06-18 | 2012-09-13 | Sharp Corp | 窒化物半導体レーザ素子および窒化物半導体レーザ素子の製造方法 |
JP2014086648A (ja) * | 2012-10-26 | 2014-05-12 | Ricoh Co Ltd | レーザ励起レーザ装置 |
CN108022835A (zh) * | 2016-11-01 | 2018-05-11 | 丰田自动车株式会社 | 半导体装置的制造方法 |
JP2018157065A (ja) * | 2017-03-17 | 2018-10-04 | 住友電気工業株式会社 | 面発光半導体レーザ |
CN112152069A (zh) * | 2019-06-28 | 2020-12-29 | 住友电气工业株式会社 | 面发光激光器及其制造方法 |
CN110212407A (zh) * | 2019-07-08 | 2019-09-06 | 苏州长瑞光电有限公司 | 垂直腔面发射激光器及其功率调节方法 |
CN110212407B (zh) * | 2019-07-08 | 2024-02-09 | 苏州长瑞光电有限公司 | 垂直腔面发射激光器及其功率调节方法 |
CN118336508A (zh) * | 2024-06-12 | 2024-07-12 | 长春中科长光时空光电技术有限公司 | 垂直腔面发射激光器 |
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