JP4847201B2 - 光源システム、光走査装置、画像形成装置、光量制御方法、光走査方法、及び画像形成方法 - Google Patents

Description

本発明は、光源システム、光走査装置、画像形成装置、光量制御方法、光走査方法、及び画像形成方法に関する。

面発光型レーザーなど多数のビームを発光する光源を有するラスタ出力装置において、光検出手段に半透過性かつ半反射性の部材を用いて光源からの光を返送するものがある（例えば、特許文献１参照）。

面発光型の半導体レーザーを用いる光源装置で受光面を半導体レーザーの基板上に並置し、半導体レーザーからの光束が受光面を通るように光束の進路を複数に分割する分割手段によって発光量を検知するものがある（例えば、特許文献２参照）。

光走査装置において複数の発光点と、光ビームを平行光とする光学手段と、光ビームの一部を透過し一部を反射するビーム返送部材とを有し、裏面出射するビームの無い光源についても光量を検出し、また検出する手段と光源とを同一のベース部材上に配置し、装置の小型化を図るものがある（例えば、特許文献３参照）。

直線上に配列された複数の発光源を有する半導体レーザーからの光束をビーム整形するアパーチャを設け、このアパーチャに設けられた鏡面により反射された検出光束を受光する各発光源対応の複数個の受光素子を設けるものがある（例えば、特許文献４参照）。

面発光レーザーによる走査線と結像スポットの位置関係について開示し、高速走査を可能にしたものがある（例えば、特許文献５参照）。

近年、画像形成装置においては、高速化、高密度化、高画質化といった要求が高まってきている。これらの要求に対して、複数の発光点を有し、１つの被走査面を複数のビームで走査するマルチビーム書込方式を用いた画像形成装置が実用化されてきている。

光走査装置、特に半導体レーザーを用いたレーザー走査装置は、その構造の簡素さ、高速性、解像度の高さから、画像表示装置や画像記録装置などの画像形成装置に広く用いられてきた。なかでも電子写真方式のプリンターの露光装置として最適なものであり、レーザービームプリンターとして多くの製品が上市されている。

ところが近年の画像形成装置の高速化や高解像度化の要求がさらに高まりつつあり、走査速度の向上が望まれている。高速の走査を実現するためには速度の速い偏向装置が必要になるが、例えば偏向装置として回転多面鏡を用いる場合、回転数の高速化には上限がある。
その解決策の１つとして、例えば特許文献５に示されているように、独立に変調可能な複数の発光点を持つ面発光レーザー(垂直共振器型面発光レーザー、以下VCSELと記す)からの光束を走査し、１回の走査で複数の走査線を同時に走査する、いわゆるマルチビーム走査装置を用いた画像形成装置が提案されている。

このような複数発光領域を持つVCSELを用いた従来の光走査装置の一例を図１に示す。
複数の発光領域を有し、この発光点を制御する発光制御手段を有する光源１０１から複数のレーザービームを射出され、カップリングレンズ１０２とシリンドリカルレンズ１０３とからなるカップリング光学系によってカップリングされ成形される。複数ビームはカップリングされた後に回転多面鏡である偏向器１０５によって偏向反射され、主走査方向に走査され、結像光学系である走査レンズ１（１０６ａ）及び走査レンズ２（１０６ｂ）によって像面である被走査面（感光体）１０８、ここでは感光性の媒体を支持する円柱状の像担持体の上に走査線１０９として結像される。

像担持体は図１の円柱の軸を中心に回転し、像面を主走査方向とは垂直の方向に移動させ、光走査を行って画像を形成する。
画像出力の高速化を実現するためには上述のVCSELなどによる複数ビーム化という手段が考えられる。なかでも、高速出力機においてはマルチビーム化された書込み光源を用いるのが一般的となっている。

１本のレーザーを用いた場合と比較して、ｎ本のレーザーを同時に用いた場合、先記潜像形成領域はn倍となり、画像形成に必要な時間は１／ｎとなる。複数ビームによる光走査及び画像形成を行う場合に課題となるのは、各光束について光強度に差が出ないようにする点にある。光強度が光束ごとに異なると走査線毎の濃度が不均一になり、画質が劣化するためである。そのため、特許文献１、２、３においてはそれぞれ、VCSELを用いた光源や光走査装置において受光面によって各光束の光強度を検出し、この検出情報より各発光素子を制御回路によって制御し、所望の光強度となる様にする旨の記述がある。

また、高速化実現のためには複数ビーム化に加えてレーザーの高出力化が必要となる。電子写真方式の画像形成装置においては、被走査面となる感光体上での単位面積、単位時間当たりの必要露光エネルギーを越える露光を与えねば成らないため、感光体の線速（感光体表面の移動速度）を向上して高速化に対応するには、より多くの光出力、または光利用効率の向上が必要であるからである。光出力の向上については、VCSELの素子の技術開発によって取り組みが成されているが、その向上率はわずかであり、そのため光源装置やシステム、また光走査装置において光利用効率の向上を行うことが、高密度な書込を高速に行うためには必須となってくる。
特開平１０−１００４７６号公報 特開２００２−２６４４５号公報 特開２００５−２７４６７８号公報 特開平６−１６４０７０号公報 特許第３２２７２２６号公報

ところが、上述の特許文献１、２、３、４においては光利用効率の向上については技術開示が成されていない、または不十分であるといえる。
また、特許文献１に記載の技術では、上述した部材、所謂ハーフミラーを用いると外部への光供給に関しては損失が大きくなる。

特許文献２に記載の技術では、光源装置内に光量検出用の受光面を搭載することで、光源から受光面までの光路長を短く出来、精度良く光量検出が行え、高品質な画像形成が行えるが、分割手段に関しては三角プリズムなどを用いており、外部への光供給に関しては損失が大きい。現状では面発光型レーザーでは光出力の向上が課題となっているが、その課題の解決するための開示が成されていない。

特許文献３に記載の技術では、光走査および画像形成を行う光ビームはビーム返送部材を通過した一部の光であるため、光出力の増加が課題となっている面発光レーザーを光源に用いる場合においては光量損失が無視できなくなり高速化に対しては問題となる。

特許文献４に記載の技術では、光量を分離検出する際の、鏡面、アパーチャ、光束との位置関係は明確にされておらず、従って光量損失が大きく高速な画像形成に対しては問題となる。また受光素子を複数設けるため、装置の低コスト化に問題がある。

そこで、本発明の主な目的は、上記課題に鑑み、光源からの光束を高い利用効率で光走査に用いることのできる光源システム、光走査装置、光量制御方法、及び光走査方法を提供し、高速で高密度な書込を行える画像形成装置及び画像形成方法を提供することにある。

上記課題を解決するため、請求項１に記載の発明は、複数の光源と、該光源からの複数の光束Ｆ０の光強度を検知手段により共通に検知し、光量制御を行える光源システムにおいて、前記光源からの光束を、少なくとも光束ＦＭと光束ＦＳとに分離する分離手段を有し、分離された光束ＦＭは前記検知手段に導光され、前記光束Ｆ０の伝播方向に垂直な断面において前記光束Ｆ０の強度がピークとなる点付近の光成分は、前記光束ＦＭには含まれず前記光束ＦＳにのみ含まれるようにし、前記光源と前記分離手段との間に焦点距離を有する光学素子を有し、前記分離手段は、前記光学素子の光軸方向において前記光学素子の後ろ側焦点近傍の位置に配置されており、前記検知手段はただ１つであることを特徴とする。
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記分離手段から前記検知手段へ導く検知光学系をさらに有することを特徴とする。

請求項３に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記光源を駆動する駆動回路の一部と前記検知手段とが一体化して形成されていることを特徴とする。

請求項４に記載の発明は、請求項１または２に記載の発明において、前記分離手段は光反射部材であることを特徴とする。

請求項５に記載の発明は、請求項１または２に記載の発明において、前記分離手段は前記光束FMに対して、正のパワーを持つ曲面ミラーであることを特徴とする。

請求項６に記載の発明は、請求項１または２に記載の発明において、前記分離手段は光透過部材であることを特徴とする。

請求項７に記載の発明は、請求項１から６のいずれか１項記載の発明において、前記光源は垂直共振器型面発光レーザーであることを特徴とする。

請求項８に記載の発明は、請求項１から７のいずれか１項に記載の光源システムと、前記光源システムからの複数の光束を整形するビーム整形手段と、整形された光束を主走査方向に偏向走査する偏向手段と、偏向走査された光束を被走査面上に結像する走査光学系とを備え、前記ビーム整形手段は、前記光源からの光束FSを整形する開口部を有することを特徴とする。

請求項９に記載の発明は、請求項８に記載の発明において、前記分離手段は、前記開口の主走査方向の開口幅と副走査方向の開口幅のうち、より狭い開口幅の方向と略垂直な面内でのみ前記光束ＦＳと前記光束ＦＭとが角度を有するように設定されていることを特徴とする。

請求項１０に記載の発明は、請求項８に記載の発明において、前記分離手段は、主走査断面に対して垂直な副走査断面内に平行な面において前記光束ＦＭと前記光束ＦＳとが角度を有するように分離することを特徴とする。

請求項１１に記載の発明は、請求項８から１０のいずれか１項記載の発明において、前記開口部は前記分離手段と一体的に形成されていることを特徴とする。

請求項１２に記載の発明は、請求項８から１０のいずれか１項記載の発明において、光束の進行方向において前記開口部と前記分離手段とが別部材から成り、前記分離手段は前記開口部の前方に配置されていることを特徴とする。

請求項１３に記載の発明は、請求項１０から１２のいずれか１項に記載の発明において、前記分離手段は、前記光束Ｆ０のうち、前記開口部を通過する部分を前記光束ＦＳ及び前記光束Ｆ０のうち、前記光束ＦＳの周囲を囲む部分を前記光束ＦＭとして分離することを特徴とする。

請求項１４に記載の発明は、請求項１０から１２のいずれか１項に記載の発明において、前記分離手段は、前記開口部の開口に対して副走査方向において片側のみに隣接していることを特徴とする。

請求項１５に記載の発明は、請求項８から１４のいずれか１項に記載の発明において、前記光源は垂直共振器型面発光レーザーであることを特徴とする。

請求項１６に記載の発明は、請求項１４または１５に記載の発明において、前記ビーム整形手段は、前記光源と前記分離手段との間に、焦点距離を有する光学素子を有し、前記分離手段は、前記光学素子の光軸方向において前記光学素子の後ろ側焦点近傍の位置に配置されていることを特徴とする。

請求項１７に記載の発明は、請求項８から１６のいずれか１項に記載の光走査装置を有する画像形成装置であることを特徴とする。

請求項１８に記載の発明は、複数の光源からの複数の光束Ｆ０の光強度をただ１つの検知手段により検知し、光量制御を行う光量制御方法であって、前記光源からの光束を、分離手段により少なくとも光束ＦＭと光束ＦＳとに分離し、分離された光束ＦＭを前記検知手段に導光し、前記光源と前記分離手段との間に焦点距離を有する光学素子を有し、前記分離手段を、前記光学素子の光軸方向において前記光学素子の後ろ側焦点近傍の位置に配置し、前記光束Ｆ０の伝播方向に垂直な断面において前記光束Ｆ０の強度がピークとなる点付近の光成分を、前記光束ＦＭには含まれず光束ＦＳにのみ含まれるように制御することを特徴とする。

請求項１９に記載の発明は、請求項１８に記載の光量制御方法による複数の光束を整形し、整形された光束を主走査方向に偏向走査し、偏向走査された光束を被走査面上に結像させ、光源からの光束FSを整形することを特徴とする。

請求項２０に記載の発明は、請求項１９に記載の光走査方法を用いる画像形成方法であることを特徴とする。

本発明によれば、光束は略円状または楕円状となり、略中心付近が強度のピークとなる。このピーク部分の光を外部に供給しそれ以外の部分を光量制御のために検知することで、光量を制御することができ、外部への効率の良い光供給を行える。光利用効率を高めることができるため、省エネルギー化、環境負荷低減が行える。

本発明に係る光源システムの一実施の形態は、複数の光源と、該光源からの複数の光束Ｆ０の光強度を検知手段により共通に検知し、光量制御を行える光源システムにおいて、前記光源からの光束を、少なくとも光束ＦＭと光束ＦＳとに分離する分離手段を有し、分離された光束ＦＭは前記検知手段に導光され、前記光束Ｆ０の伝播方向に垂直な断面において前記光束Ｆ０の強度がピークとなる点付近の光成分は、前記光束ＦＭには含まれず前記光束ＦＳにのみ含まれるようにし、前記光源と前記分離手段との間に焦点距離を有する光学素子を有し、前記分離手段は、前記光学素子の光軸方向において前記光学素子の後ろ側焦点近傍の位置に配置されており、前記検知手段はただ１つであることを特徴とする。また、上記構成に加え、前記分離手段から前記検知手段へ導く検知光学系をさらに有してもよい。

上記構成によれば、光束は略円状または楕円状となり、略中心付近が強度のピークとなる。このピーク部分の光を外部に供給しそれ以外の部分を光量制御のために検知することで、光量を制御することができ、外部への効率の良い光供給を行える。光利用効率を高めることができるため、省エネルギー化、環境負荷低減が行える。
この結果、光量を所望の値に適切に制御することが出来、なおかつ十分な光量を外部に供給する光源システムの提供を実現することができる。

本発明に係る光源システムの他の実施の形態は、上記構成に加え、光源を駆動する駆動回路の一部と検知手段とが一体化して形成されていることを特徴とする。

上記構成によれば、検知手段となる受光素子等を、光源と同一の基板、または同一のベース部材によって支持するようにすることで、検知手段と光源とを個々に形成した場合に比べて必要となるスペースを低減することが出来、システム及びそれを用いた装置を小型化することができる。また配線基板や支持部材等を部分的に共通化できるため、部品点数を削減し低コスト化及び環境負荷低減が行える。
この結果、システム及び装置の小型化、光量制御の外部のノイズに対する堅牢性を高める、部品点数を削減し、低コスト化を行うことができる。

本発明に係る光源システムの他の実施の形態は、上記構成に加え、分離手段は光反射部材であることを特徴とする。

上記構成によれば、ミラーなどの光反射部材を分離手段とすることで、検知手段または／および光供給する外部への光を、低損失で高効率な利用をすることができる。また、ミラーで光路を折り返すことができるため、システムの小型化を行うことができる。
この結果、低発光量であっても、高効率での光検知及び高出力での光供給を行い、システムの小型化を行うことができる。

本発明に係る光源システムの他の実施の形態は、上記構成に加え、分離手段は光束ＦＭに対して、正のパワーを持つ曲面ミラーであることを特徴とする。

上記構成によれば、分離手段によって検知手段上に集光するような構成をとることができるため、分離手段は検知光学系も兼ねることとなり、他の部品による検知光学系の構成が不要となり、部品点数を低減できる。また、部品点数低減にともない、素子を配置するスペースを省略できるため、装置を小型化することができる。
この結果、部品点数を低減し、低コスト化を図ることができる。

本発明に係る光源システムの他の実施の形態は、上記構成に加え、分離手段は光透過部材であることを特徴とする。

上記構成によれば、ミラーなどの反射部材に比べて、透過性の光学素子であるレンズまたはプリズムまたは回折光学素子等は、光線が面形状による影響を受けず、光スポットの位置ずれが低減でき、従って受光素子を小型化することができる。また面形状の精度に余裕ができるため歩留が向上し、システムを低コスト化できる。
この結果、受光素子などの検知手段を小型化し、また製造の歩留を向上し低コスト化を図ることができる。

本発明に係る光源システムの他の実施の形態は、上記構成に加え、光源と分離手段との間に焦点距離を有する光学素子を有し、分離手段は、光学素子の光軸方向において光学素子の後ろ側焦点近傍の位置に配置されていることを特徴とする。

上記構成によれば、複数光束を用いた時にレンズなどの光学系の光軸を通らず光軸からの距離が異なる光軸外光束同士は、一般的に光束の断面が空間的に一致しない。その時に同一の開口によって光束の一部を切り取ると、光強度分布の異なる部分を検知してしまうために各光束の間で光量に差が出てしまう。しかし、レンズの焦点上では光軸外の光束も主光線が光軸に交わるため、各光束の光強度中心を揃えることができる。このときに単一の分離手段で光束を分離すると、光束の全光量に対する分離光量の比率を揃えることができるため、複数の光束に対して同様の光量制御を行うことができる。
この結果、複数光束を用いたとき、各光束の間で検知手段へ到達する割合を略一定にし、各光束の検知手段上での光量を精度良く一致させることができる。

本発明に係る光源システムの他の実施の形態は、上記構成に加え、光源は垂直共振器型面発光レーザーであることを特徴とする。

上記構成によれば、端面発光型の半導体レーザーを複数用いるＬＤアレイに比較して、垂直共振器型面発光レーザー（VCSEL）を用いた場合は、発生させる光束の数が増加するほど低コスト化できる。またVCSELは共振器長が非常に短いことからモードホッピングもＬＤアレイより小さく、波長変化に起因する光走査の品質劣化を低減できる。
この結果、光源部の低コスト化、発光素子の高密度な集約による装置の小型化を行うことができる。

本発明に係る光走査装置の一実施の形態は、上記いずれかの光源システムと、光源システムからの複数の光束を整形するビーム整形手段と、整形された光束を主走査方向に偏向走査する偏向手段と、偏向走査された光束を被走査面上に結像する走査光学系とを備え、ビーム整形手段は、光源からの光束FSを整形する開口部を有することを特徴とする。

上記構成によれば、本発明の光源システムを用いることで、光走査を行いながら同時に光量を所望の値に調整制御出来る。そして光利用効率を高めることができるため、省エネルギー化、環境負荷提言が行える。
この結果、光利用効率を向上し、必要光量を低減し、低出力の光源を用いても光量検出を行うことが出来、且つ十分な光量で光走査を行うことのできる、光走査装置の提供を実現することができる。

本発明に係る光走査装置の他の実施の形態は、上記構成に加え、分離手段は、開口の主走査方向の開口幅と副走査方向の開口幅のうち、より狭い開口幅の方向と略垂直な面内でのみ光束FSと光束FMとが角度を有するように設定されていることを特徴とする。

上記構成によれば、開口部でビームを整形する場合、開口の端、即ち光束通過部と光束遮断部の境界では加工精度の限界によりわずかながら光束が蹴られてしまう。しかし一般的に開口は光束の進行方向に対して垂直に配置されるため、この影響はかなり小さい。

ところが、本発明の分離手段及び／又は開口部ように光束進行方向に対して垂直でなく斜めになるような配置をとる部材があると、この部材の厚み方向の距離によって光束を蹴ってしまう。光束進行方向に垂直な面に対する角度が大きくなるほど光束が蹴られる量は増え、またその時には製造上の加工誤差、配置誤差による影響がより一層現れやすくなる。また蹴られる量が同じであっても、開口幅が広い方がその影響は比率として少なく、開口によって決定される像面上の光スポット径がばらつくことを低減できる。

従って、開口幅が長い方向に対して、その方向に垂直な方向の回転軸を中心に分離手段及び/又は開口部を回転させるように配置した方が良い。

上記構成によれば、分離手段の面が光束Ｆ０の進行方向に対して角度を有する場合にも光束が蹴られる量を低減でき、開口によって決定されるビームスポット径が製造誤差によってばらつくことを低減できる。またレイアウトの点では、走査光学系および光源システムを含む書込光学系は光学ハウジングに収容され光走査装置を構成するが、このとき一般的には光学ハウジングの蓋は主走査断面と略平行であり、従って光源システム内の光束ＦＳ、ＦＭが主走査断面に略平行となる様に光学ハウジングに配置された光学素子は、光学ハウジングの蓋を外した状態での配置、および調整のための作業が行い易い。そのため製造の歩留低下を防ぐことが出来、製造の速度を向上できる。また受光素子、分離手段などの光学素子といった部品の位置調整を簡便に行えることから受光素子に確実に光束ＦＭを導くことができ、受光素子の必要サイズを低減することが出来、低コスト化ができる。また光学ハウジング全体の副走査方向の厚みを低減でき、光走査装置を小型化できる。
この結果、ビームスポット径、光量に対する製造誤差の影響を低減することができる。

本発明に係る光走査装置の他の実施の形態は、上記構成に加え、分離手段は、主走査断面に対して垂直な副走査断面内に平行な面において光束ＦＭと光束ＦＳとが角度を有するように分離することを特徴とする。

上記構成によれば、光源システムを構成する各部品が主走査断面内に配置するにあたり制約が大きい場合（走査光学系と干渉する、光学ハウジングと干渉するなど）、副走査方向に光束を分離することでこれらの干渉を回避することができる。また光源システム内の各光学素子による迷光が発生したとしても、被走査面に到達しにくくすることができる。例えば受光素子に集光するレンズの表面で反射した光は、副走査方向に角度を有するために光偏向器（ポリゴンミラーなど）上へはたどり着かない。直接走査レンズに反射光が入射しても、被走査面に到達するまでに正規の走査光束から副走査方向に離れるために被走査面上には到達せず、そのためゴーストを低減できる。
この結果、光源システムのレイアウト自由度を上げることにより、光走査装置の小型化を行う。また光源システム内の光束FMの反射、散乱、回折光が迷光となって走査光学系内に入射し、被走査面に到達することによるゴーストを防ぐことができる。

本発明に係る光走査装置の他の実施の形態は、上記構成に加え、開口部は分離手段と一体的に形成されていることを特徴とする。

上記構成によれば、開口部としての役割を有する部材を分離手段となる様に加工することで、これら２つの機能を１つの部材に集約することが出来、低コスト化できる。また配置スペースを縮小することが出来、装置を小型化することができる。
この結果、部品点数を低減し、製造工程を簡略化し、低コスト化することができる。

本発明に係る光走査装置の他の実施の形態は、上記構成に加え、光束の進行方向において開口部と分離手段とが別部材から成り、分離手段は開口部の前方に配置されていることを特徴とする。

上記構成によれば、開口部と分離手段を別部材とすることによってそれぞれの製造が容易になり、歩留が向上する。また分離手段を開口部よりも前方に配置し、より光源に近づけることによって、光源から検知手段に至るまでの光路を短縮化することが出来、装置を小型化でき、製造誤差があっても検知手段への光束の光スポットのずれを低減できる。
この結果、装置を小型化し、部品の製造を容易にすることができる。

本発明に係る光走査装置の他の実施の形態は、上記構成に加え、分離手段は、光束Ｆ０のうち、開口部を通過する部分を光束ＦＳ及び前記光束Ｆ０のうち、光束ＦＳの周囲を囲む部分を光束ＦＭとして分離することを特徴とする。

上記構成によれば、開口部によって遮蔽され光走査には用いられない光をより多く検知手段に導くことが出来、光利用効率を向上することが出来、検知時のＳＮ比を向上することができる。従って光量が精度良く制御でき、良好な光走査が行える。
この結果、高い光利用効率で光量の検知を行い、検知の際のＳＮ比を向上し、光量を良好に制御できる光走査装置を得ることができる。

本発明に係る光走査装置の他の実施の形態は、上記構成に加え、分離手段は、開口部の開口に対して副走査方向において片側のみに隣接していることを特徴とする。

上記構成によれば、開口に対して片側のみに配置されればよいので、分離手段は製造が容易な形状をとることができる。または個数を低減できるので低コスト化できる。
この結果、分離手段の構造を簡易化し、製造を容易にする。

本発明に係る光走査装置の他の実施の形態は、上記構成に加え、光源は垂直共振器型面発光レーザーであることを特徴とする。

上記構成によれば、端面発光型の半導体レーザーを複数用いるＬＤアレイに比較して、垂直共振器型面発光レーザー（VCSEL）を用いた場合は、発生させる光束の数が増加するほど低コスト化できる。またVCSELは共振器長が非常に短いことからモードホッピングもＬＤアレイより小さく、波長変化に起因する光走査の品質劣化を低減できる。
この結果、光源部の低コスト化、発光素子の高密度な集約による装置の小型化を行うことができる。

本発明に係る光走査装置の他の実施の形態は、上記構成に加え、ビーム整形手段は、光源と分離手段との間に、焦点距離を有する光学素子を有し、分離手段は、光学素子の光軸方向において光学素子の後ろ側焦点近傍の位置に配置されていてもよい。

上記構成によれば、複数光束を用いた時にレンズなどの光学系の光軸を通らず光軸からの距離が異なる光軸外光束同士は、一般的に光束の断面が空間的に一致しない。その時に同一の開口によって光束の一部を切り取ると、光強度分布の異なる部分を検知／光量制御／走査してしまうために各光束の間で光量に差が出てしまう。しかし、レンズの焦点上では光軸外の光束も主光線が光軸に交わるため、各光束の光強度中心を揃えることができる。このときに単一の分離手段で光束を分離すると、光束の全光量に対する分離光量の比率を揃えることができるため、複数の光束に対して同様の光量制御を行うことができる。したがって、被走査面上での光量を精度良く補正して一致させることができ、露光量に不均一性の少ない良好な光走査が行える。
この結果、複数光束を用いたとき、各光束の間で検知手段へ到達する割合を略一定にし、各光束の被走査面上での光量を精度良く一致させることができる。

本発明に係る画像形成装置の一実施の形態は、上記いずれかの光走査装置を有することを特徴とする。

上記構成によれば、光源からの光の利用効率を向上した光源システム、これを用いた光量制御を良好に行える光走査装置によって、画像の劣化を低減し、低コストで高信頼の省エネルギーな画像形成を行うことができる。さらに複数光束を用いる本発明の光走査装置によれば、高画質な画像を高速に形成することができる。
この結果、画像濃度の不均一性を低減し、低コスト化を図り、信頼性が高く、省エネルギーな、高速且つ高密度な書込を行える画像形成装置の実現を提供することができる。

本発明の光量制御方法に係る一実施の形態は、複数の光源からの複数の光束Ｆ０の光強度をただ１つの検知手段により検知し、光量制御を行う光量制御方法であって、前記光源からの光束を、分離手段により少なくとも光束ＦＭと光束ＦＳとに分離し、分離された光束ＦＭを前記検知手段に導光し、前記光源と前記分離手段との間に焦点距離を有する光学素子を有し、前記分離手段を、前記光学素子の光軸方向において前記光学素子の後ろ側焦点近傍の位置に配置し、前記光束Ｆ０の伝播方向に垂直な断面において前記光束Ｆ０の強度がピークとなる点付近の光成分を、前記光束ＦＭには含まれず光束ＦＳにのみ含まれるように制御することを特徴とする。

上記構成によれば、光束は略円状または楕円状となり、略中心付近が強度のピークとなる。このピーク部分の光を外部に供給しそれ以外の部分を光量制御のために検知することで、光量を制御することができ、外部への効率の良い光供給を行える。光利用効率を高めることができるため、省エネルギー化、環境負荷低減が行える。
この結果、光量を所望の値に適切に制御することが出来、なおかつ十分な光量を外部に供給することができる。

本発明の光走査方法に係る一実施の形態は、上記構成の光量制御方法による複数の光束を整形し、整形された光束を主走査方向に偏向走査し、偏向走査された光束を被走査面上に結像させ、光源からの光束FSを整形することを特徴とする。

上記構成によれば、本発明の光量制御方法を用いることで、光走査を行いながら同時に光量を所望の値に調整制御出来る。そして光利用効率を高めることができるため、省エネルギー化、環境負荷提言が行える。
この結果、光利用効率を向上し、必要光量を低減し、低出力の光源を用いても光量検出を行うことが出来、且つ十分な光量で光走査を行うことのできる、光走査方法の提供を実現することができる。

本発明の画像形成方法に係る一実施の形態は、上記光走査方法を用いることを特徴とする。

上記構成によれば、本発明の光走査方法を用いることで、光走査を行いながら同時に光量を所望の値に調整制御出来る。そして光利用効率を高めることができるため、省エネルギー化、環境負荷提言が行える。
この結果、光利用効率を向上し、必要光量を低減し、低出力の光源を用いても光量検出を行うことが出来、且つ十分な光量で光走査を行うことのできる、画像形成方法の提供を実現することができる。

〔プログラム及び記憶媒体〕
以上で説明した本発明に係る光源システム、光走査装置、画像形成装置は、コンピュータで処理を実行させるプログラムによって実現されている。コンピュータとしては、例えばマイクロプロセッサが挙げられる。

記録媒体としては、例えば、ＣＤ−ＲＯＭ（Compact Disc Read Only Memory）、フレキシブルディスク（ＦＤ）、ＣＤ−Ｒ（CD Recordable）、ＤＶＤ（Digital Versatile Disk）などのコンピュータで読み取り可能な記録媒体、ＨＤＤ（Hard Disc Driver）、フラッシュメモリ、ＲＡＭ（Random Access Memory）、ＲＯＭ（Read Only Memory）、ＦｅＲＡＭ（強誘電体メモリ）等の半導体メモリが挙げられる。

なお、上述した実施の形態は、本発明の好適な実施の形態の一例を示すものであり、本発明はそれに限定されることなく、その要旨を逸脱しない範囲内において、種々変形実施が可能である。

本発明に係る光源システムの一例を図２に示す。
光源２０１から射出された光束Ｆ０（２０２）は分離手段に到達するように構成されている。光源２０１としては、光束を発生させられる光源であれば特に制限は無いが、例えば、一般的な端面発光型の半導体レーザー（ＬＤ）、ＬＤを複数合成する方法、またはＬＤを複数並べて１つの素子としたＬＤアレイを用いることができる。
光束Ｆ０（２０２）が発散性の光束である場合にはカップリング光学素子（ガラスまたは樹脂製のレンズや回折光学素子などを用いることができる）２０３を用いて発散性を弱め、弱い発散性、または収束性、または平行光束に変換することで、光利用効率を向上することができる。
本実施例では、カップリング光学素子２０３によって、略平行光束としている。光束Ｆ０（２０２）を分離手段２０４によって光束ＦＳ（２０５）と光束ＦＭ（２０６）とに分離し、光束ＦＳ（２０５）は光源システム外へ射出し、光学装置（不図示）へ光の供給を行う。

一方、光束ＦＭ（２０６）は検知光学系２０７によってただ１つの検知手段である検知手段２０８へ集光され、検知される。検知手段２０８としては一般的なフォトダイオード（ＰＤ）を用いることができる。ただ１つの検知手段とすることによって、複数の光束各々に対応する検知手段をもつことなく、光学系を簡略化することが出来、素子の数量を低減でき、低コスト化、小型化を行うことができる。ただ１つの検知手段によって複数の光束を検地する方法は、例えば各発光素子を順次点灯させ検知を行う時分割検知法や、一部の複数発光素子による光を同時に検知し、その組み合わせを変えて何通りか検知することで、各々の発光素子の光量を算出する等の方法をとることができる。

このとき分離手段２０４は、光束Ｆ０（２０２）の伝播方向に垂直な断面において光束Ｆ０の強度がピークとなる点付近の光成分が２０６光束ＦＭには含まれず光束２０５にのみ含まれることを特徴とする。この点について図３及び図４を用いて説明する。

図３（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は、光束及び空間分布についての説明図であり、図３（ａ）の３０１は図２においての光束Ｆ０を、図３（ｂ）の３０２は分離手段２０４によって分離された後の光束FS、図３（ｃ）の３０３は光束ＦＭの光強度の空間分布を、各光束の伝播方向（Ｘ方向とする）に対して垂直な面（ＹＺ平面とする）について模式的に示しており、黒に近いほど強度が高いものとする。

光束Ｆ０（３０１）を略円形の断面を持つ光束だとすると、本発明では強度ピークとなるYZ平面内の原点付近については光束ＦＳ（３０２）にのみ含まれ、光束ＦＭ（３０３）はそれ以外の部分の光束となっている。従って外部へ供給されるべき光束FSの損失を最小限にすることができる。

図４は、横軸を位置の座標とし、縦軸を光強度として、光束Ｆ０（３０１）、光束ＦＳ（３０２）、光束ＦＭ（３０３）の関係を示したものである。
実線で示した光束Ｆ０の強度のピーク付近を切り取って光束ＦＳにし、周辺部を光束FMとしている（請求項１、１８）。高い強度で細い光束ＦＳが必要な場合にも、このようにピーク付近を切り取ることで効率よく光学装置に光供給することができる。

一方光束ＦＭは、図２で示したように検知光学系２０７によって集光され検知手段２０８に導かれるため、図３、図４の様に光束がある程度拡がっていても良い。検知手段２０８に導かれる光束ＦＭを、図４において右または左のどちらかの部分のみ用いることもできる。
なお、本実施例では、光束Ｆ０＝光束ＦＳ＋光束ＦＭとしているが、光束Ｆ０＞光束ＦＳ＋光束ＦＭとしたり、さらに別の光束に分離し、光源システム内の別の検知機構へ導光したり、光学装置に供給したりすることができる。このようにして、光源からの光を高効率で利用することができる。

本発明の趣旨は、供給される先の光学装置において開口等によって光ビームの整形や空間的選択利用が必要となる場合、光束のうち遮断される部分に関しては完全な損失となり、光源からの光のシステム全体の利用効率を低下させることになる。本発明ではこの遮断される部分の光を光源システム内で有効に活用し、光量制御のための光検知に用いるものである。

検知手段２０８は光強度（光量）を検出する能力を有し、これによって光源が発生する光束の強度の情報を得、この情報を元に光源を駆動（波線２０９に沿って移動）し所望の光強度となる様に光量制御を行うことができる。

分離手段２０４として例えば、図５に示すような光反射部材を用いることができる（請求項３）。
図５、図６は、光反射部材の一例を示す外観斜視図である。
反射部材５０１は上述のような光束Ｆ０から光束ＦＭを分離する部材で光束ＦＳは開口５０２を通過する。検知を高いＳＮ比で行うためには反射部材５０１の反射率が高いことが望ましく、且つ加工性の高い材料が望ましい。例えば板金に開口穴をあけたもので構成することもでき、樹脂成形の開口つき部材にアルミ蒸着などで光反射コーティングを施すこともできる。

本実施例では開口はＹ方向に対して長い長方形となっているが、この形ではなく例えば正方形、Z方向に長い長方形、円形、楕円形などの形とすることも、他の多角形とすることも、あるいは光供給をされる光学装置の要求に応じて自由な形状をとることもでき、本明細書で挙げた形状に限定するものではない。

また、本実施例の変形例について説明する。
分離手段に図６に示すような光反射部材６０１を用いることができる。検知手段へ導光される光強度が十分であるならば、加工方法の簡易化のためにこのような単純な形状をとることもでき、光束の強度ピークとなる光軸以外の部分にかかるように配置すれば、損失なく光供給を行うことができる光源システムを得ることができる。本発明においての光源は、複数の光束を発生する光源１つでも、また複数光源でも良い。複数光源を合成する際は、プリズム合成などの手法で合成することができる。

図７に本発明の光源システムの別の実施例を示す。
光源、光束Ｆ０、光束ＦＳ、光束ＦＭ、カップリング光学素子、分離手段、検知光学系、検知手段は概略実施例１に準ずる。
実施例１と異なる点は、反射部材であるミラー７０９によって光路を折り曲げ、光源７０１付近に検知手段７０８を設けてあり、光源７０１を駆動する駆動回路の一部と検知手段７０８とが一体化して形成されている（請求項２）点である。

ここでは配線基板を共通に使用している。このように構成することで、検知手段７０８による検知情報から光量制御をして光源７０１を駆動する際、フィードバックのための配線がより容易になる。また基板を分けて設けることがなくなるため、装置の小型化が図れる。

また本発明の光源システムの変形例を図８に示す。
図８では図７と比較してミラー７０９が省略されており、光束ＦＭ（８０６）の反射回数が１回のみとなっている。このように構成すると反射部材の製造誤差による、検知手段８０８上での光束のスポット位置誤差が低減できるため、検知手段８０８の大きさをより小さいものとすることができ、低コスト化及び光源システムの小型化が図れる。

また図８中に示した点線枠内のように、カップリング光学素子８０３と検知光学系（ここではレンズとしている）８０７とを接近して配置させることができるため、これら２つを一体化してしまうこともでき、その１つとして樹脂の成形品を用いることもできる。

また、カップリング光学素子８０３をガラスレンズとして光束Ｆ０（８０２）を通過させ、周辺部を光束ＦＭ（８０６）を通過させるといった、１つの素子で２つの機能を果たすよう配置することもできる。

また、分離手段８０４を、光束ＦＭ（８０６）に対して正のパワーを持つ曲面ミラーとすることができる（請求項４）。
曲面ミラーを用いることで、検知手段上に光束を集光する検知光学系としての機能を分離手段にもたせることができるため、図８に示した８０７検知光学系（ここではレンズ）は不要とすることもでき、部品点数を低減することができる。

図９に本発明の光源システムの別の実施例を示す。
光源、光束Ｆ０、光束ＦＳ、光束ＦＭ、カップリング光学素子、検知光学系、検知手段は概略実施例１に準ずる。
実施例１と異なる点は、分離手段９０４が光透過性の部材である点である（請求項５）。
光透過性の部材とは、例えば三角プリズムや、楔形プリズム、または回折格子などの回折光学素子、光波長以下のサイズの構造をもつ素子（SWS:Sub Wavelength Structure）を用いることができる。ミラーなどの反射部材を用いると、面形状や取付誤差の影響を光束が受けやすく、光束の位置が設計値よりも変化してしまいやすい。

そこで透過性の部材である上記光学素子によって分離することでＰＤなどの検知手段９０８上で光束のスポット位置変化を低減することができる。分離手段の形状、光束に対する位置としては、既に示した図５の５０１や、図６の６０１のような形状、配置にすることができる（但し、Ｙ軸とＺ軸の交点を、光束の略中心であり強度が最大となる位置とする）。

次に、図１０（ａ）、（ｂ）、（ｃ）に本発明の光源システムを用いた光走査装置（請求項７）の別の実施例を示す。
図１０（ａ）は、本発明の光源システムを用いた光走査装置の平面図であり、図１０（ｂ）は、図１０（ａ）の側面図である。
図１０（ａ）、（ｂ）に示す光走査装置の光路図では、図２に示したような光源システム１００９を用い、光源１００１からの光束Ｆ０（１００２）を整形するビーム整形手段（本実施例ではカップリング光学素子１００３、開口部１０１０、線像形成素子１０１１のことを指し、カップリング光学系と呼ぶこともある。）１０１２によって光束を整形する。光束Ｆ０（１００２）と光束ＦＭ（１００６）とは、主走査断面に略平行になるよう光学系が配置される。

ここで、主走査断面とは図１０（ａ）で示した断面であり、主走査方向および光軸方向に平行な面である。副走査断面は図１０（ｂ）で示したＺＸ平面である。カップリング光学素子１００３では光束Ｆ０（１００２）を略平行光束に変換し、開口部１０１０では光源システム１００９からの光束ＦＳ（１００５）を所望の断面を持つ光束に整形し、線像形成素子１０１１によって偏向手段であるポリゴンミラー１０１４の近傍に副走査方向に長い線状の像に結像する。開口部１０１０は、分離手段１００４よりも前方に、別部材で形成されている（請求項１０）。

ポリゴンミラー１０１４によって主走査方向に光走査された光束は、第１走査レンズ１０１６と第２走査レンズ１０１７とを含む走査光学系で被走査面上に結像され、光スポットとなる。

図１０（ｃ）は、図１０（ａ）で示した光源システム１００９内の、分離手段１００４の付近を主走査断面内にて拡大した模式図であり、Ｗ０、Ｗｓはそれぞれ光束Ｆ０（１０２０）、光束ＦＳ（１０２３）の幅を示している。Ｗｖは、光束ＦＳにも光束ＦＭにもならず、蹴られて迷光になる光束ＦＶ（１０２２）の幅であり、分離手段１０１９の厚みをｄとするとＷｖ＝ｄ×ｓｉｎθとなる。

分離手段１０１９は穴のあいた板状の部材で、主走査断面内において、光束Ｆ０の進行方向（矢印１０２４方向）に垂直な断面（点線で図示）からθだけ傾いて配置される（請求項８、１８）。
穴は主走査方向に沿って５．２ｍｍの長さを持ち、従ってＷｓは５．２ｍｍである。また、その穴は副走査方向には２．１ｍｍの長さをもつ。従って、蹴られる光束ＦＶの断面積は２．１×Ｗｖとなる。
仮に、分離手段１０１９が副走査断面内においてθだけ傾いて配置されたとすると蹴られる光束の断面積は同様に５．２×Ｗｖとなり、光量の損失が大きくなる。また、分離手段１０１９は像面上の光スポット径を決定する開口部１０１０と同寸法の穴を有するため、配置誤差によってθがばらついた場合、幅が広い方向に関して光束ＦＳ（１０２３）の幅Ｗｓがばらついた方が光スポット径への影響が少なくて済む。このことは、開口部１０１０と分離手段１００４とを一体的に形成した場合にもあてはまり、本実施例のように主走査断面内で光束ＦＳ（１００５）と光束ＦＭ（１００６）とが分離するような図１０（ｃ）の配置が望ましい。

本実施例における各部品、素子の構成を以下に示す。
主な素子（図１０（ａ）、１０（ｂ）、１０（ｃ）参照）
光源１００１：中心波長７８０ｎｍ、複数光束を発生するVCSEL（請求項１４）、VCSEL上の発光部分である酸化狭窄系は１辺４μｍの略正方形、発散角は半値全幅で９度、光出力２．５ｍＷ。４０個の発光素子が２次元状に配列され、その発光素子群は主走査方向に長い平行四辺形状の配列領域をもつ。
カップリング光学素子１００３：第１面（光源側の光学面）に回折面を有する回転対称形状の樹脂製光学素子、焦点距離４５ｍｍ、有効範囲直径７ｍｍ、光源からの光束を略平行光束とする。
分離手段１００４：樹脂製、主走査方向に沿った長さ５．２ｍｍ、副走査方向に沿った長さは２．１ｍｍの辺の長方形の穴を有しアルミニウムの反射コーティングを施された開口形状であり、コーティング表面は平面形状。光束Ｆ０（１００２）と光束ＦＭ（１００６）とが、主走査断面と平行に、角度４０°を成すように配置されている。
検知光学系１００７：樹脂製の非球面レンズ、焦点距離４５ｍｍ、検知手段１００８上には直径約１００μｍの光スポットを形成するよう配置。
検知手段１００８：０．８ｍｍの直径を有するフォトダイオード（ＰＤ）。
開口部１０１０：樹脂製、主走査方向に５．２ｍｍ、副走査方向に２．１ｍｍの長さの辺の長方形の穴を開口とする。
線像形成素子１０１１：第２面（被走査面側の光学面）に回折面を有する樹脂製光学素子。主走査方向に関してはパワーを持たず、副走査方向には正のパワーを持つ。焦点距離１２５ｍｍ
入射ミラー１０１３：アルミニウムミラー
ポリゴンミラー１０１４：内接円半径７ｍｍの四角形
第１走査レンズ１０１６、第２走査レンズ１０１７：走査レンズの光学面形状の表現式は数式（１）及び数式（２）に示すとおりであり、Ｘは光軸方向の座標（図１０（ａ）で水平方向の座標）、Ｙは主走査方向座標（図１０（ｂ）で垂直方向の座標）を示す。

Ｘ（Ｙ）＝Ｃ_m0・Ｙ²／［１＋√｛１−（１＋ａ₀₀）・Ｃ_m0 ²・Ｙ²｝］＋ａ₀₁・Ｙ
＋ａ₀₂・Ｙ²＋ａ₀₃・Ｙ³＋ａ₀₄・Ｙ⁴＋……（１）

Ｃ_S（Ｙ）＝１／Ｒ_S0＋ｂ₀₁・Ｙ＋ｂ₀₂・Ｙ²＋ｂ₀₃・Ｙ³＋……（２）

Ｃ_m0は中央（Ｙ＝０）の主走査方向曲率を示し曲率半径Ｒｍの逆数であり、ａ₀₀，ａ₀₁，ａ₀₂，…は主走査形状の非球面係数である。Ｃ_S（Ｙ）はＹに関する副走査方向の曲率である。Ｒ_S0は副走査方向の光軸上の曲率を示し、ｂ₀₀，ｂ₀₁，ｂ₀₂，…は副走査方向の非球面係数である。面表現の各係数を表１に示す。
但し、表１中、数値、Ｅ、＋／−、数値とあるのは指数表示を表す。例えば、−１．１０１４３Ｅ＋０２は−１．１０１４３×１０⁰²を意味する。

Ｌ１Ｒ１、Ｌ１Ｒ２、Ｌ２Ｒ１、Ｌ２Ｒ２はそれぞれ、第１走査レンズの第１面、第２面、第２走査レンズの第１面、第２面に対応する。第１走査レンズ１０１６は中心肉厚８ｍｍ、第２走査レンズ１０１７は中心肉厚３ｍｍ、ポリゴンミラー１０１４の回転中心からの距離は、第１走査レンズ１０１６の第１面が４３．２ｍｍ、第２走査レンズ１０１７の第１面が１０１．３ｍｍ、像面までが２９４．２ｍｍである。半画角は、像高±１５０ｍｍに対して±３４．８°、±１６２ｍｍに対して±３７．４°である。ポリゴンミラーへの入射光束が、光軸（Ｘ軸）との成す角は５９℃である。光源から像面までの横倍率は、主走査方向４．９倍、副走査方向２．３倍。

本実施例の光学性能
表２に本発明の光源システムを用いた光走査装置における、検知手段（ＰＤ）上での光量を示す。

表２中で、光束の項は光源からの全ての光量のうち、分離手段の反射部に到達する光量の比率で、カップリング光学素子１００３の有効径と、分離手段１００４のミラー部分と、開口部分との関係及び光束の光量分布（ガウシアン分布とする）によって決まる値である。ＣＯＬはカップリング光学素子の略で、この数字が示すのは透過率にあたり、分離手段１００４の数字は反射率に当たる。

検知光学系もここではレンズ1つであるのでこの透過率を示した。これらの積を計の項に示し、光源光出力２．５ｍＷとの積がＰＤ上の光量になり、０．８０ｍＷを得ることができる。
表３には従来のハーフミラーでの反射部分を光量検知に用いた場合に同様の計算をした値を示す。

ここではハーフミラーの反射率を０．１としている。このときＰＤ上の光量は０．１３ｍＷ程度にとどまり、効率よく且つノイズが少なく検出を行うことはできない。しかも、ハーフミラーを用いた従来の例では、開口部分を通過する光束を０．９倍にしてしまうため、高速な画像形成装置に対応することが難しい。

図１１（ａ）、（ｂ）、図１２（ａ）、（ｂ）、図１３に本実施例の光学特性を示す。
図１１（ａ）、（ｂ）は横軸をデフォーカス（光軸方向）とし、縦軸をビーム直径にとった光学特性曲線であり、像高Ｙ＝＋１５０〜−１５０について示している。図１１（ａ）は主走査方向に対応し深度が約３．２ｍｍの場合を示し、図１１（ｂ）は副走査方向に対応し深度が約５．２ｍｍの場合を示す。
図１２（ａ）、（ｂ）は横軸を光軸方向にとり、縦軸を像高にとっており、図１２（ａ）は像面湾曲を示し、点線が主走査方向に対応し、実線が副走査方向に対応する。図１２（ｂ）は実線が等速特性（リニアリティ）を示し、点線がＦθ特性を示す。リニアリティは約０．３％である。
図１３は、像高に対する副走査方向の横倍率の変化を示したものであり、縦軸は像高であり、横軸は像高＝０ｍｍの倍率を基準にした倍率の差（％）であり、０．２％以下に低減されている。

その他
図１４は、走査レンズ変形手段の一例を示す外観斜視図である。
被走査面１０１８（図１０（ａ）、１０（ｂ）参照）を走査しない被走査領域において、始点側と終点側とで走査光を検知して走査のタイミングを決定する同期検知機能を有する。第２走査レンズ１０１７（図１０（ａ）、１０（ｂ）参照）には、保持部材と一体化した走査レンズ変形手段が設けられている。上板金１４０１と下板金１４０６とで走査レンズを支持し、テーパーピン１４０２をブラケット１４０３に対して移動させることにより、コロ１４０５が走査レンズに加える副走査方向に平行な圧力を与え、主走査方向に長い第２走査レンズ１０１７（図１０（ａ）、１０（ｂ）参照）を変形させる。

表１に示した曲率半径からも分かる通り、第２走査レンズ１０１（図１０（ａ）、１０（ｂ）参照）は副走査方向に対するパワーが相対的に高いため、副走査方向の走査線の湾曲に対して影響力が高い。第２走査レンズ１０１７（図１０（ａ）、１０（ｂ）参照）に上述のような変形を加えることで、走査線湾曲を補正することができる。

また、図１４の走査レンズ変形手段は板ばね１４０４と差動ネジ機構１４０７とによって第２走査レンズ１０１７（図１０（ａ）、１０（ｂ）参照）を傾けて走査線傾きを補正する機能も有し、より高品質な光走査を行うことができる。

上述の構成のほかに、以下に示すように個別の部品を別種にしても、またそれぞれをどのように組み合わせても本発明の効果が得られる。
・光源として、６５５ｎｍまたは４０５ｎｍ付近の中心波長をもつＬＤ、またはＬＤアレイ、またはVCSEL。複数光源とする方法は、ＬＤを複数、プリズム、ミラー、光ファイバー等の導波路、などで光路合成する方法でもよい。

・カップリング光学素子として、ガラス非球面、ガラス球面、ハイブリッドレンズ、液晶による回折素子、ホログラムレンズを用いることもできる。

・分離手段の穴（開口）は円形、楕円形、またはその他の形状とすることもできる。また穴の大きさは、上記実施例では開口部１０１０（図１０（ａ）、１０（ｂ）参照）と同寸法であるが、製造誤差による光走査への影響を低減するために、開口部１０１０（図１０（ａ）、１０（ｂ）参照）よりも大きく設定することが望ましい。

・検知光学系としては、ガラスレンズを用いても、曲率を有するミラーを用いてもよく、またこれらを複数有する構成とすることも出来る。

・線像形成素子としては、円柱面を有するガラスレンズを用いてもよく、またハイブリッドレンズ、液晶による回折素子、ホログラムレンズを用いることもできる。

・入射ミラーは、図１０（ａ）に示した光路と等価になるようなレイアウト、即ち入射ミラーなしで線像形成素子１０１１からポリゴンミラー１０１４へ直接導光できるような配置が可能であれば、取り外すことができ、製造誤差の影響を低減することができる。

・ポリゴンミラーは様々な大きさ、面数の物を用いることが考えられるが、どの場合においても本発明の効果は発揮できる。

上記実施例の光走査装置はポリゴン反射面よりも入射光束の主走査方向幅の短い所謂アンダーフィルド光学系であるが、ポリゴン反射面よりも入射光束の主走査方向幅の長い所謂オーバーフィルド光学系を用いることもできる。オーバーフィルド光学系においては像高によって被走査面に到達する光量に差が生じやすいこと、またポリゴンによって光束の多くの部分を蹴られるため、本発明の光源システムを用いることが特に有効である。

・走査レンズは、本実施例のように２枚であってもまた低コスト化のために１枚であっても、高品質化のために３枚以上であってもよい。本実施例の面形状はＸＹ平面内にある円形でない曲線の各点を中心として、ＺＸ面に平行な円が主走査方向の位置の関数で連続的に半径を変化させるものである。しかし、例えば主走査方向に対して非対称な形状であっても良いし、球面でも円柱面でも、また走査光学系が曲面ミラーで構成されていても良い。本発明は、走査光学系の形態がどのようであってもその効果を発揮することができる。

次に、図１５（ａ）、（ｂ）を参照して本発明に係る光走査装置の別の実施例を示す。
図１５（ａ）は、本発明に係る光走査装置の別の実施例を示す平面図であり、図１５（ｂ）は、図１５（ａ）の側面図である。
概略は実施例４に準じ、入射ミラー後の各素子に関しては同一のものである。実施例４と異なる点は以下のとおりである。
分離手段１５０４は光走査装置の開口部にあたる部材と一体化している（請求項９）ため、部品点数が低減できる。分離手段１５０４はＹ軸に平行な回転軸の周りにθ＝４５°回転されている（図１６）。開口径は、主走査方向は実施例４と同じ５．２ｍｍ、副走査方向は２．１ｍｍであるが、これは開口をＹＺ平面に投影した時の大きさである。開口を部材に沿って計った長さは、５．２ｍｍ及び２．１／ｃｏｓθ＝３．０ｍｍとなる。

図１６に示すような形状の分離手段を用いることで、光束Ｆ０（１５０２）のうち、分離手段１５０４／開口部を通過する部分を光束ＦＳ（１５０５）、光束Ｆ０（１５０２）のうち、光束ＦＳ（１５０５）の周囲を囲む部分を光束ＦＭ（１５０６）として分離することができる（請求項１１）。

一般的に、光束のうち、ピーク強度の１／ｅ²の強度範囲を有効な光スポットとしており、光利用効率を有効に高め、装置を小型化するには、分離手段１５０４の主走査方向及び副走査方向の大きさは、光スポットの大きさ程度とすることが望ましい。または、それ以前に有効範囲を持つ光学素子によって光束が制限されている場合は、その影響を考慮すればよい。

本実施例では、実施例４に示した通り、カップリング光学素子が有効範囲直径７ｍｍの円であり平行光束に変換するので、分離手段１５０４は製造誤差も含めて、反射コーティングされる範囲は７．５ｍｍ×７．５ｍｍである。また、分離された光束ＦＳ（１５０５）、光束ＦＭ（１５０６）は、副走査断面内に平行な面において角度を有する（請求項８）。

本実施例では成す角は９０°である。検知手段１５０８は、光学ハウジングの壁（所謂、底部にあたる）に配置される。主走査方向に光束ＦＭ（１５０６），ＦＳ（１５０５）を分離した場合、光学ハウジングの壁のうち主走査断面（ＸＹ平面）に垂直な壁に導光せねばならず、光路長が長くなってしまい、製造誤差の影響を受けやすい。また、光源システム内で迷光が発生したとしても、Ｙ方向に長い走査レンズ、ポリゴンミラーに対してＺ方向に光束を偏向しているので、迷光が被走査面に到達して結像することがない。

また分離手段の変形例として、図１７のような形態をとることもできる。灰色で示した反射部材１７０１が分離手段となり開口に対して副走査方向の片側のみに隣接している（請求項１２）。遮光部材１７０２は開口部としての機能を持つ。
図１７は、分離手段の変形例を示す外観斜視図である。

反射コーティングをする場合には、このように構成することでコーティング面積を半減でき、製造効率を向上することができる。光束が円形で分離手段に入射する時、本実施例で開口はＹ方向に長いため開口によって遮断される光量は開口の副走査方向側に多い。
また、図１７の反射部材１７０１のかわりに回折光学素子などの透過性部材を用いて光路を偏向することもできる。また、ビーム整形手段１５１２において、光源１５０１と分離手段１５０４との間に、カップリング光学素子１５０３を配置しており、分離手段１５０４は、光軸方向においてカップリング光学素子１５０３の後ろ側焦点距離の位置に略等しく配置されている。

複数光源を用いた場合、発光部の位置が異なることから生じる光束ＦＳ／光束ＦＭの比率の各発光部間の誤差が、このことによって低減できる。各光束がＹＺ面内で略重なり、そのために光量分布も略等しくなるのが焦点であるため、この効果が得られる。複数光源を用いた場合の効果が得られる概念を説明するための図が図１８及び図１９（ａ）、（ｂ）、（ｃ）である。

光源１８０１の上に発光素子が図１９（ａ）のように並んでいたとすると、図１８のレンズ１８０２の焦点ｆより手前Ｐ１の面では各発光素子からの光束は図１９（ｂ）のように一致せず、ここに分離手段を配置すると各光束ごとに分離される光量の比率がばらついてしまうことが分かる。このことはＰ３に配置したときも同様である。焦点ｆであるＰ２に配置したときには図１９（ｃ）のように光束が揃い、光束間の分離後の光量ばらつきが低減できる。
従って光量制御も各光束について同様に行うことができる。
分離手段を光軸に対して傾けることで、光束の分離手段上の光量分布がずれることは避けられないが、上述のように配置することで誤差を最低限に抑えることが出来る。レンズ１８０２が光束を平行にする場合だけでなく、発散性または収束性であっても同様のことが言える。

これまでに述べたような光走査装置を用いて、画像形成装置を構成することが出来る（請求項１７）。本発明に係る画像形成装置の一実施例を図２０に示す。
上記複数色対応の画像形成装置において、複数の被走査面を走査露光することで複数色の画像を可視化し、該複数の画像を重ね合わせてカラー画像を形成することができる。光導電性の感光体２００２ａ〜２００２ｄは図２０中の矢印に示したように時計回りに等速回転する。感光体２００２ａ〜２００２ｄの表面は、帯電装置２００５によって均一に帯電され、上記に説明してきたような画像形成装置と同様に感光体上に、光走査装置２００１によって露光走査をされる。この露光によって静電潜像を書き込まれた感光体２００２は、現像装置２００３によってトナー画像として可視化され、転写手段２００６によって複数の感光体２００２ａ〜２００２ｄ上に可視化されたトナー画像が１つの画像として形成されるように順次中間転写ベルト２００８上に転写され、重ねられたフルカラー画像を形成する。

このフルカラー画像は他の転写手段２００９によってシート状記録媒体Ｓに転写され、定着手段２００７によって定着されることで画像形成を完了し、装置の外へ排出される。
感光体２００２は、転写しきれずに残留したトナーや紙粉をクリーニング手段２００４によって取り除かれる。その後、再び帯電手段２００５によって帯電される。

また、２００２で示した感光体の対応色は、シアンＣ、マゼンタＭ、イエローＹ、ブラックＢｋとすることができ、２００２のａ〜ｄとの対応はａｂｃｄ＝ＣＭＹＢｋとすることも、ａｂｃｄ＝ＹＭＢｋＣとすることもでき、自由に選択し最適化することが出来る。例えば、走査品質の向上が難しい位置に対応する光走査装置や、調整などの工程を削減したい感光体に対応する光走査装置に対しては、明度の高低や視認性の高低に応じて、対応色を選択することが望ましい。例えば、光学特性の最もよくない（像面湾曲が大きい、走査線曲がりが大きい等）光学系に対応する感光体には、視認性の低い、または明度の高いYを用いることが望ましい。また、感光体のサイズは、実施例では同一にしているが、Ｂｋに対応する感光体を大きくするなど、使用頻度の高いものを耐久性高く設定することで装置全体の安定性を向上することもできる。

〔効果〕
光束は略円状または楕円状となり、略中心付近が強度のピークとなる。このピーク部分の光を外部に供給しそれ以外の部分を光量制御のために検知することで、光量を制御することができ、外部への効率の良い光供給を行える。光利用効率を高めることができるため、省エネルギー化、環境負荷低減が行える。

検知手段となる受光素子等を、光源と同一の基板、または同一のベース部材によって支持するようにすることで、検知手段と光源とを個々に形成した場合に比べて必要となるスペースを低減することが出来、システム及びそれを用いた装置を小型化することができる。また配線基板や支持部材等を部分的に共通化できるため、部品点数を削減し低コスト化及び環境負荷低減が行える。

ミラーなどの光反射部材を分離手段とすることで、検知手段または／および光供給する外部への光を、低損失で高効率な利用をすることができる。また、ミラーで光路を折り返すことができるため、システムの小型化を行うことができる。

分離手段によって検知手段上に集光するような構成をとることができるため、分離手段は検知光学系も兼ねることとなり、他の部品による検知光学系の構成が不要となり、部品点数を低減できる。また、部品点数低減にともない、素子を配置するスペースを省略できるため、装置を小型化することができる。

ミラーなどの反射部材に比べて、透過性の光学素子であるレンズまたはプリズムまたは回折光学素子等は、光線が面形状による影響を受けず、光スポットの位置ずれが低減でき、従って受光素子を小型化することができる。また面形状の精度に余裕ができるため歩留が向上し、システムを低コスト化できる。

複数光束を用いた時にレンズなどの光学系の光軸を通らず光軸からの距離が異なる光軸外光束同士は、一般的に光束の断面が空間的に一致しない。その時に同一の開口によって光束の一部を切り取ると、光強度分布の異なる部分を検知してしまうために各光束の間で光量に差が出てしまう。しかし、レンズの焦点上では光軸外の光束も主光線が光軸に交わるため、各光束の光強度中心を揃えることができる。このときに単一の分離手段で光束を分離すると、光束の全光量に対する分離光量の比率を揃えることができるため、複数の光束に対して同様の光量制御を行うことができる。

本発明の光源システムを用いることで、光走査を行いながら同時に光量を所望の値に調整制御出来る。そして光利用効率を高めることができるため、省エネルギー化、環境負荷提言が行える。

開口部でビームを整形する場合、開口の端、即ち光束通過部と光束遮断部の境界では加工精度の限界によりわずかながら光束が蹴られてしまう。しかし一般的に開口は光束の進行方向に対して垂直に配置されるため、この影響はかなり小さい。ところが、本発明の分離手段及び／又は開口部ように光束進行方向に対して垂直でなく斜めになるような配置をとる部材があると、この部材の厚み方向の距離によって光束を蹴ってしまう。光束進行方向に垂直な面に対する角度が大きくなるほど光束が蹴られる量は増え、またその時には製造上の加工誤差、配置誤差による影響がより一層現れやすくなる。また蹴られる量が同じであっても、開口幅が広い方がその影響は比率として少なく、開口によって決定される像面上の光スポット径がばらつくことを低減できる。従って、開口幅が長い方向に対して、その方向に垂直な方向の回転軸を中心に分離手段及び／又は開口部を回転させるように配置した方が良い。

分離手段の面が光束Ｆ０の進行方向に対して角度を有する場合にも光束が蹴られる量を低減でき、開口によって決定されるビームスポット径が製造誤差によってばらつくことを低減できる。またレイアウトの点では、走査光学系および光源システムを含む書込光学系は光学ハウジングに収容され光走査装置を構成するが、このとき一般的には光学ハウジングの蓋は主走査断面と略平行であり、従って光源システム内の光束ＦＳ、ＦＭが主走査断面に略平行となる様に光学ハウジングに配置された光学素子は、光学ハウジングの蓋を外した状態での配置、および調整のための作業が行い易い。そのため製造の歩留低下を防ぐことが出来、製造の速度を向上できる。また受光素子、分離手段などの光学素子といった部品の位置調整を簡便に行えることから受光素子に確実に光束FMを導くことができ、受光素子の必要サイズを低減することが出来、低コスト化ができる。また光学ハウジング全体の副走査方向の厚みを低減でき、光走査装置を小型化できる。

光源システムを構成する各部品が主走査断面内に配置するにあたり制約が大きい場合（走査光学系と干渉する、光学ハウジングと干渉するなど）、副走査方向に光束を分離することでこれらの干渉を回避することができる。また光源システム内の各光学素子による迷光が発生したとしても、被走査面に到達しにくくすることができる。例えば受光素子に集光するレンズの表面で反射した光は、副走査方向に角度を有するために光偏向器（ポリゴンミラーなど）上へはたどり着かない。直接走査レンズに反射光が入射しても、被走査面に到達するまでに正規の走査光束から副走査方向に離れるために被走査面上には到達せず、そのためゴーストを低減できる。

開口部としての役割を有する部材を分離手段となる様に加工することで、これら２つの機能を１つの部材に集約することが出来、低コスト化できる。また配置スペースを縮小することが出来、装置を小型化することができる。

開口部と分離手段を別部材とすることによってそれぞれの製造が容易になり、歩留が向上する。また分離手段を開口部よりも前方に配置し、より光源に近づけることによって、光源から検知手段に至るまでの光路を短縮化することが出来、装置を小型化でき、製造誤差があっても検知手段への光束の光スポットのずれを低減できる。

開口部によって遮蔽され光走査には用いられない光をより多く検知手段に導くことが出来、光利用効率を向上することが出来、検知時のＳＮ比を向上することができる。従って光量が精度良く制御でき、良好な光走査が行える。

開口に対して片側のみに配置されればよいので、分離手段は製造が容易な形状をとることができる。または個数を低減できるので低コスト化できる。

端面発光型の半導体レーザーを複数用いるＬＤアレイに比較して、垂直共振器型面発光レーザー（VCSEL）を用いた場合は、発生させる光束の数が増加するほど低コスト化できる。またVCSELは共振器長が非常に短いことからモードホッピングもＬＤアレイより小さく、波長変化に起因する光走査の品質劣化を低減できる。

複数光束を用いた時にレンズなどの光学系の光軸を通らず光軸からの距離が異なる光軸外光束同士は、一般的に光束の断面が空間的に一致しない。その時に同一の開口によって光束の一部を切り取ると、光強度分布の異なる部分を検知／光量制御／走査してしまうために各光束の間で光量に差が出てしまう。しかし、レンズの焦点上では光軸外の光束も主光線が光軸に交わるため、各光束の光強度中心を揃えることができる。このときに単一の分離手段で光束を分離すると、光束の全光量に対する分離光量の比率を揃えることができるため、複数の光束に対して同様の光量制御を行うことができる。したがって、被走査面上での光量を精度良く補正して一致させることができ、露光量に不均一性の少ない良好な光走査が行える。

光源からの光の利用効率を向上した光源システム、これを用いた光量制御を良好に行える光走査装置によって、画像の劣化を低減し、低コストで高信頼の省エネルギーな画像形成を行うことができる。さらに複数光束を用いる本発明の光走査装置によれば、高画質な画像を高速に形成することができる。

本発明は、露光装置、プリンター、複写機、及びファックスに利用することができる。

VCSELを用いた従来の光走査装置の一例を示す図である。 本発明に係る光源システムの一例を示す図である。 （ａ）、（ｂ）、（ｃ）は、光束及び空間分布についての説明図であり、（ａ）の３０１は図２においての光束Ｆ０を、（ｂ）の３０２は分離手段２０４によって分離された後の光束ＦＳ、（ｃ）の３０３は光束ＦＭの光強度の空間分布を、各光束の伝播方向（Ｘ方向とする）に対して垂直な面（ＹＺ平面とする）について模式的に示している。 横軸を位置の座標とし、縦軸を光強度として、光束Ｆ０（３０１）、光束ＦＳ（３０２）、光束ＦＭ（３０３）の関係を示したものである。 光反射部材の一例を示す外観斜視図である。 光反射部材の一例を示す外観斜視図である。 本発明の光源システムの別の実施例を示す図である。 本発明の光源システムの変形例を示す図である。 本発明の光源システムの別の実施例を示す図である。 （ａ）は、本発明の光源システムを用いた光走査装置の平面図であり、（ｂ）は、（ａ）の側面図であり、（ｃ）は、（ａ）で示した光源システム１００９内の、分離手段１００４の付近を主走査断面内にて拡大した模式図である。 （ａ）、（ｂ）は横軸をデフォーカス（光軸方向）、縦軸をビーム直径にとった光学特性曲線であり、像高Ｙ＝＋１５０〜−１５０について示しており、（ａ）は主走査方向に対応し深度が約３．２ｍｍの場合を示し、（ｂ）は副走査方向に対応し深度が約５．２ｍｍの場合を示す。 （ａ）、（ｂ）は横軸を光軸方向縦軸を像高にとっており、（ａ）は像面湾曲を示し、点線が主走査方向に対応し、実線が副走査方向に対応し、（ｂ）は実線が等速特性(リニアリティ)を示し、点線がＦθ特性を示す。 像高に対する副走査方向の横倍率の変化を示したものである。 走査レンズ変形手段の一例を示す外観斜視図である。 （ａ）は、本発明に係る光走査装置の別の実施例を示す平面図であり、（ｂ）は、（ａ）の側面図である。 分離手段の一例を示す外観斜視図である。 分離手段の変形例を示す外観斜視図である。 複数光源を用いた場合の効果が得られる概念を説明するための説明図である。 複数光源を用いた場合の効果が得られる概念を説明するための説明図である。 本発明に係る画像形成装置の一実施例を示す図である。

符号の説明

２０１ 光源
２０２ 光束Ｆ０
２０３ カップリング光学素子
２０４ 分離手段
２０５ 光束ＦＳ
２０６ 光束ＦＭ
２０７ 検知光学系
２０８ 検知手段
２０９ 検知した情報に基く光源の光量制御を行うことを表す軌跡
３０１ 光束Ｆ０
３０２ 光束ＦＳ
３０３ 光束ＦＭ
５０１ 反射部材
５０２ 開口
７０１ 光源
７０２ 光束Ｆ０
７０３ カップリング光学素子
７０４ 分離手段
７０５ 光束ＦＳ
７０６ 光束ＦＭ
７０７ 検知光学系
７０８ 検知手段
７０９ ミラー
７１０ 配線基板
８０１ 光源
８０２ 光束Ｆ０
８０３ カップリング光学素子
８０４ 分離手段
８０５ 光束ＦＳ
８０６ 光束ＦＭ
８０７ 検知光学系
８０８ 検知手段
８０９ 配線基板
９０１ 光源
９０２ 光束Ｆ０
９０３ カップリング光学素子
９０４ 分離手段
９０５ 光束ＦＳ
９０６ 光束ＦＭ
９０７ 検知光学系
９０８ 検知手段
９０９ 配線基板
１００１ 光源
１００２ 光束Ｆ０
１００３ カップリング光学素子
１００４ 分離手段
１００５ 光束ＦＳ
１００６ 光束ＦＭ
１００７ 検知光学系
１００８ 検知手段
１００９ 光源システム
１０１０ 開口部
１０１１ 線像形成素子
１０１２ ビーム整形手段
１０１３ 入射ミラー
１０１４ ポリゴンミラー
１０１５ 防音ガラス
１０１６ 第１走査レンズ
１０１７ 第２走査レンズ
１０１８ 被走査面
１０１９ 分離手段
１０２０ 光束Ｆ０
１０２１ 光束ＦＭ
１０２２ 光束ＦＶ
１０２３ 光束ＦＳ
１０２４ 光束の進行方向
１４０１ 上板金
１４０２ テーパーピン
１４０３ ブラケット
１４０４ 板ばね
１４０５ コロ
１４０６ 下板金
１４０７ 差動ネジ機構
１５０１ 光源
１５０２ 光束Ｆ０
１５０３ カップリング光学素子
１５０４ 分離手段
１５０５ 光束ＦＳ
１５０６ 光束ＦＭ
１５０７ 検知光学系
１５０８ 検知手段
１５０９ 光源システム
１５１１ 線像形成素子
１５１２ ビーム整形手段
１５１３ 入射ミラー
１５１４ ポリゴンミラー
１５１５ 防音ガラス
１５１６ 第１走査レンズ
１５１７ 第２走査レンズ
１５１８ 被走査面
１６０１ 反射部材
１６０２ 開口
１７０１ 反射部材
１７０２ 遮光部材
１８０１ 光源
１８０２ レンズ
１９０１ 光源
１９０２ 発光素子
１９０３ 分離手段
１９０４ 開口
１９０５ 光束
２００１ 光走査装置
２００２ 感光体
２００３ 現像装置
２００４ クリーニング手段
２００５ 帯電手段
２００６ 転写手段
２００７ 定着手段
２００８ 中間転写ベルト
２００９ 転写手段Ｓシート状記録媒体

Claims (20)

1. 複数の光源と、該光源からの複数の光束Ｆ０の光強度を検知手段により共通に検知し、光量制御を行える光源システムにおいて、
   前記光源からの光束を、少なくとも光束ＦＭと光束ＦＳとに分離する分離手段を有し、
   分離された光束ＦＭは前記検知手段に導光され、
   前記光束Ｆ０の伝播方向に垂直な断面において前記光束Ｆ０の強度がピークとなる点付近の光成分は、前記光束ＦＭには含まれず前記光束ＦＳにのみ含まれるようにし、
   前記光源と前記分離手段との間に焦点距離を有する光学素子を有し、
   前記分離手段は、前記光学素子の光軸方向において前記光学素子の後ろ側焦点近傍の位置に配置されており、
   前記検知手段はただ１つであることを特徴とする光源システム。
2. 前記分離手段から前記検知手段へ導く検知光学系をさらに有することを特徴とする請求項１記載の光源システム。
3. 前記光源を駆動する駆動回路の一部と前記検知手段とが一体化して形成されていることを特徴とする請求項１に記載の光源システム。
4. 前記分離手段は光反射部材であることを特徴とする請求項１または２に記載の光源システム。
5. 前記分離手段は前記光束ＦＭに対して、正のパワーを持つ曲面ミラーであることを特徴とする請求項１または２に記載の光源システム。
6. 前記分離手段は光透過部材であることを特徴とする請求項１または２に記載の光源システム。
7. 前記光源は垂直共振器型面発光レーザーであることを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載の光源システム。
8. 請求項１から７のいずれか１項に記載の光源システムと、
   前記光源システムからの複数の光束を整形するビーム整形手段と、整形された光束を主走査方向に偏向走査する偏向手段と、
   偏向走査された光束を被走査面上に結像する走査光学系とを備え、
   前記ビーム整形手段は、前記光源からの光束ＦＳを整形する開口部を有することを特徴とする光走査装置。
9. 前記分離手段は、前記開口の主走査方向の開口幅と副走査方向の開口幅のうち、より狭い開口幅の方向と略垂直な面内でのみ前記光束ＦＳと前記光束ＦＭとが角度を有するように設定されていることを特徴とする請求項８に記載の光走査装置。
10. 前記分離手段は、主走査断面に対して垂直な副走査断面内に平行な面において前記光束ＦＭと前記光束ＦＳとが角度を有するように分離することを特徴とする請求項８に記載の光走査装置。
11. 前記開口部は前記分離手段と一体的に形成されていることを特徴とする請求項８から１０のいずれか１項に記載の光走査装置。
12. 光束の進行方向において前記開口部と前記分離手段とが別部材から成り、前記分離手段は前記開口部の前方に配置されていることを特徴とする請求項８から１０のいずれか１項に記載の光走査装置。
13. 前記分離手段は、前記光束Ｆ０のうち、前記開口部を通過する部分を前記光束ＦＳ及び前記光束Ｆ０のうち、前記光束ＦＳの周囲を囲む部分を前記光束ＦＭとして分離することを特徴とする請求項１０から１２のいずれか１項に記載の光走査装置。
14. 前記分離手段は、前記開口部の開口に対して副走査方向において片側のみに隣接していることを特徴とする請求項１０から１２のいずれか１項に記載の光走査装置。
15. 前記光源は垂直共振器型面発光レーザーであることを特徴とする請求項８から１４のいずれか１項に記載の光走査装置。
16. 請求項１４または１５に記載の光走査装置において、前記ビーム整形手段は、前記光源と前記分離手段との間に、焦点距離を有する光学素子を有し、前記分離手段は、前記光学素子の光軸方向において前記光学素子の後ろ側焦点近傍の位置に配置されていることを特徴とする光走査装置。
17. 請求項８から１６のいずれか１項に記載の光走査装置を有することを特徴とする画像形成装置。
18. 複数の光源からの複数の光束Ｆ０の光強度をただ１つの検知手段により検知し、光量制御を行う光量制御方法であって、
    前記光源からの光束を、分離手段により少なくとも光束ＦＭと光束ＦＳとに分離し、
    分離された光束ＦＭを前記検知手段に導光し、
    前記光源と前記分離手段との間に焦点距離を有する光学素子を有し、
    前記分離手段を、前記光学素子の光軸方向において前記光学素子の後ろ側焦点近傍の位置に配置し、
    前記光束Ｆ０の伝播方向に垂直な断面において前記光束Ｆ０の強度がピークとなる点付近の光成分を、前記光束ＦＭには含まれず光束ＦＳにのみ含まれるように制御することを特徴とする光量制御方法。
19. 請求項１８に記載の光量制御方法による複数の光束を整形し、
    整形された光束を主走査方向に偏向走査し、
    偏向走査された光束を被走査面上に結像させ、
    前記光源からの光束ＦＳを整形することを特徴とする光走査方法。
20. 請求項１９に記載の光走査方法を用いることを特徴とする画像形成方法。

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