JP2006091157A - 光走査装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 光源の広がり角度変化の影響を受けにくく、かつ、光量損失を抑制可能な光走査装置を提供する。
【解決手段】 コリメータレンズ１４によって平行光化されたレーザビームＬＢは、第１アパーチャ１６に入射される。第１アパーチャ１６へ入射されたレーザビームＬＢは、第１開口１６Ａによってビームの断面形状が整形される。第１開口１６Ａの縦方向Ｈの長さＬ１は、第２開口２０Ａの同方向の長さＬ２よりも長いものとされている。ビームの断面形状の整形されたレーザビームＬＢは、ハーフミラー１８へ入射され、ハーフミラー１８を透過する走査用ビームＳＢと、ハーフミラー１８で反射されフィードバック制御用に用いられるフィードバック用ビームＦＢと、に分離される。ハーフミラー１８の下流側には、第２開口２０Ａが形成された第２アパーチャ２０が配置されている。
【選択図】 図１

Description

本発明は、画像形成装置や複写機などに用いられる光走査装置に係り、特に、光源から出射される光ビームを偏向走査すると共に、偏向前の光ビームの一部をフィードバックして、光源の光量調整を行なう光走査装置に関する。

光源からの光ビームを偏向し、感光体ドラムなどの被走査部材に光ビームを走査して静電潜像を形成する光走査装置においては、近年、光走査装置の高速化、高走査密度化の手段として、光源をマルチビーム化することが行なわれている。面発光レーザ（ＶＣＳＥＬ）はアレイ化も容易で、光源に面発光レーザを用いたマルチビームの光走査装置も多く提案されている。

ところで、通常、光走査装置では、光源からの光をフィードバックして光量制御が行なわれている。面発光レーザは端面発光レーザと異なり、裏面出射するビーム（バックビーム）が出ないため、フィードバックのために出射光の一部をハーフミラー等で分離し、分離されたビームを光センサに導いて光量を検出する必要がある。

例えば、特許文献１に記載の技術では、図１３に示すように、光源１００から出射された光ビームＢＭを、コリメータレンズ１０２で平行光線とし、アパチャー１０６の手前、すなわち、ビーム径が整形される前に、ハーフミラー１０４でフィードバック用に分離する構成が提案されている。この構成では、光センサ１０８へ入射される光量は光ビームの広がり角度変化によってばらつきが大きくなり、その結果、光ビームの広がり角度変化の影響が被走査面に走査される光量に現れやすいという問題があった。

一方、特許文献２に記載の技術では、図１４に示すように、光源１１０から出射された光ビームＢＭをコリメータレンズ１１２で平行光線とし、ビーム径を整形するアパチャー１１４の後ろでハーフミラー１１６によってフィードバック用に分離する構成が提案されている。この構成では、光源からのビームの広がり角度が出力や温度によって変化しても、その影響が走査露光用の光路ＢＭ１とフィードバック用光路ＢＭ２とで等価となる。したがって、光センサ１１８上の光量が一定になるように光量を制御すれば、被走査面１２０上の光量も一定に保たれるというメリットがある。特に、面発光レーザは出力や環境温度によって広がり角度が変化することが知られているため、特許文献２に記載の技術は有効である。

また、光源に複数ビーム光源を用いた場合に、複数ビーム間に広がり角度の差があっても、光センサ上１１８の光量を一定にすれば複数ビーム間の被走査面上の光量差も発生しない。

しかしながら、特許文献２に記載の技術では、アパチャー１１４の後ろでビームを分離するので、光センサ１１８に十分な光量を入射させると被走査面露光用としての使うことができる光量が減ってしまい、フィードバック制御に十分な光量を確保することが難しいといった問題が生じていた。
特開平６−３１９８０号公報 特開２０００−４０３５０号公報

本発明は、上記事実を考慮してなされたものであり、光源の広がり角度変化の影響を受けにくく、かつ、光量損失を抑制可能な光走査装置を提供することを目的とする。

上記課題を解決するために、本発明の光走査装置は、光源と、前記光源から出射された光ビームを走査用光ビームとフィードバック用光ビームとに分離する分離部材と、前記分離部材で分離された走査用光ビームを偏向して、被走査面上に走査する光偏向手段と、前記分離部材と前記光偏向手段の間に配置され、前記走査用光ビームの断面形状を整形する第２開口の形成された第２のアパーチャと、前記分離部材で分離されたフィードバック用光ビームを受光して、このフィードバック用光ビームの光量を検出する光センサと、前記光センサで検出された光量に基づいて、前記光源から出射する光量を制御する制御手段と、前記光源と前記光センサの間に配置され、前記光ビームの断面形状を整形する、前記第２開口よりも大きな第１開口の形成された第１のアパーチャと、を含んで構成されている。

本発明の光走査装置は、光源からの光を光偏向手段で偏向して被走査面に走査するものである。そして、光源から出射される光量を制御手段でフィードバック制御するために、光源から出射された光ビームをハーフミラーなどの分離部材で走査用光ビームとフィードバック用光ビームとに分離し、フィードバック用光ビームの光量を光センサで検出する。

ところで、光源から出射される光ビームの断面形状は、一般的に開口の形成されたスリット（アパーチャ）によって、被走査面上で所定のスポット径が得られるように整形される。このアパーチャを、分離部材よりも光ビーム進行方向下流側に配置すると、整形前の光ビームが分離されるため、光センサへ入射される光量は光ビームの広がり角度変化によってばらつきが大きくなり、その結果、光ビームの広がり角度変化の影響が被走査面に走査される光量に現れやすいという問題が生じる。

一方、アパーチャを、分離部材よりも光ビーム進行方向上流側に配置すると、整形後の光ビームが分離されるため、光ビームの広がり角度が変化しても、その影響が走査用光ビームとフィードバック用光ビームとで等価となり、光センサで受光される光量が一定となるように光量制御を行なえば、被走査面上の光量も一定に保たれる。

しかしながら、アパーチャで整形された後の光ビームを分離するので、光センサに十分な光量を入射させることが難しい。すなわち、十分な光量を光センサ側に入射させようとすると、走査用光ビームの光量が減少して十分な露光をすることができず、逆に露光に十分な光量を確保しようとすると、光センサへは光量制御に十分な光量を入射させることができないといった問題が生じる。

そこで、本発明では、分離部材と光偏向器の間に第２開口の形成された第２のアパーチャを配置し、光源と光センサの間に第２開口よりも大きな第１開口の形成された第１のアパーチャを配置する。

このような位置に第１のアパーチャ及び第２のアパーチャを配置すると、第２のアパーチャは分離部材よりも光ビームの進行方向下流側に配置されているので、第２のアパーチャによりフィードバック用光ビームの光量が減少することはない。また、第１のアパーチャが、光源と光センサとの間に配置されているので、光源の広がり角度の変化による影響を走査用光ビームとフィードバック用光ビームとで等価にすることができ、かつ、形成されている第１開口のサイズは第２アパーチャに形成されている第２開口よりも大きいので、光センサに入射させるために必要な光量を確保することができる。

したがって、本発明の光走査装置によれば、光源の広がり角度変化の影響を受けにくく、かつ、光量損失を抑制することができる。

なお、本発明の光走査装置は、請求項２に記載のように、前記第１アパーチャが、前記光源と前記分離部材との間に配置されていることを特徴とすることもできる。

第１のアパーチャは、光源と光センサの間であれば、光源と分離部材との間に配置されていても、分離部材と光センサとの間に配置されていてもよいが、前者によれば、分離部材に入射される光ビームのビーム断面形状を後者よりも小さくできるので、分離部材のサイズをコンパクトにすることができる。

また、本発明の光走査装置は、請求項３に記載のように、前記第１開口の幅の、前記光ビームが走査される主走査方向に対応する方向及び主走査方向と直交する副走査方向に対応する方向の少なくとも一方が、前記第１アパーチャに入射される前記光ビームのビーム径の半値幅以下であることが好ましく、さらには請求項４に記載のように、前記第１アパーチャに入射される前記光ビームのビーム径の半値幅の７０％以下であることがさらに好ましい。

また、本発明の光走査装置は、請求項５に記載のように、前記第１開口は、前記光ビームが走査される主走査方向と直交する副走査方向に対応する方向の幅が前記第２開口よりも広い幅とされていることを特徴とすることもできる。

このように、副走査方向の幅でより、第１開口と第２開口の大小関係を規定することにより、効果的に光量損失を抑制することができる。

また、本発明の光走査装置は、請求項６に記載のように、前記第１アパーチャが、前記光ビームを平行光線にするコリメートレンズと一体形成されていることを特徴とすることもできる。

このように、第１アパーチャとコリメートレンズとを一体化することにより、部品点数を少なくすることができる。

以上説明したように、本発明によれば、光源の広がり角度変化の影響を受けにくく、かつ、光量損失を抑制することができる。

以下、図面を参照して本発明を実施するための最良の実施形態について説明する。

図１には、本実施形態の光走査装置１０の概略斜視図が示されている。

光走査装置１０は、光源としての面発光レーザ１２、コリメータレンズ１４、第１アパーチャ１６、ハーフミラー１８を備える。面発光レーザ１２から出射されたレーザビームＬＢは、コリメータレンズ１４によって平行光化（コリメート）された後、第１アパーチャ１６に入射される。第１アパーチャ１６には、長方形状の第１開口１６Ａが形成されている。第１開口１６Ａの長尺辺の方向（以下「幅方向Ｗ」という）は、被走査面上（後述する感光体ドラム３０上）でレーザビームＬＢが走査される主走査方向に対応し、幅方向Ｗと直交する縦方向Ｈは副走査方向に対応する。第１アパーチャ１６へ入射されたレーザビームＬＢは、第１開口１６Ａによってビームの断面形状が整形される。第１開口１６Ａの縦方向Ｈの長さＬ１は、後述する第２開口２０Ａの同方向の長さＬ２よりも長いものとされており、第１開口１６Ａは第２開口２０Ａよりも大きいサイズとされている。ビームの断面形状の整形されたレーザビームＬＢは、ハーフミラー１８へ入射され、ハーフミラー１８を透過する走査用ビームＳＢと、ハーフミラー１８で反射されフィードバック制御用に用いられるフィードバック用ビームＦＢと、に分離される。

走査用ビームＳＢの進行方向には、第２アパーチャ２０、シリンドリカルレンズ２２、ポリゴンミラー２４が配置されている。第２アパーチャ２０には、第２開口２０Ａが形成され、第２開口２０Ａにより感光体ドラム３０上で所定のスポット径が得られるように、走査用ビームＳＢの断面形状が整形される。第２開口２０Ａにより整形された走査用ビームＳＢは、シリンドリカルレンズ２２を経てポリゴンミラー２４に入射される。

ポリゴンミラー２４は、側面に複数の反射面が設けられた正多角形状（本実施の形態では正六角形）とされ、走査用ビームＳＢはポリゴンミラー２４の反射面２４Ａに副走査方向のみ収束するようになっている。また、ポリゴンミラー２４は、図示しないポリゴンモータに軸着されており、ポリゴンモータの駆動力により、矢印Ｒ方向へ所定の回転速度で回転される。反射面２４Ａへの走査用ビームＳＢの入射角は、ポリゴンミラー２４の回転により連続的に変化し、反射面２４Ａで反射された走査用ビームＳＢは、感光体ドラム３０の軸線方向に走査される。

ポリゴンミラー２４により反射された走査用ビームＳＢの進行方向には、第１レンズ２６及び第２レンズ２８が配置されている。これらのレンズにより、感光体ドラム３０に走査用ビームＳＢを照射するときの走査速度が等速度になるとともに、感光体ドラム３０の周面上に結像点が結ばれる
第１レンズ２６及び第２レンズ２８を透過した走査用ビームＳＢは、感光体ドラム３０に照射される。走査用ビームＳＢの進行方向で、かつ図１に示す感光体ドラム３０の左端側には、ミラー３２が配置されている。ミラー３２は、感光体ドラム３０の左端側に進行する走査用ビームＳＢを反射する。ミラー３２によって反射された走査用ビームＳＢの反射先には、フォトディテクタ等からなるＳＯＳ受光部３４が配置されている。ＳＯＳ受光部３４には、感光体ドラム３０が走査用ビームＳＢで走査される毎に、走査用ビームＳＢが入射される。ＳＯＳ受光部３４は、これにより、感光体ドラム３０へのラインごとの走査開始タイミング（ＳＯＳ）を検知し、その結果をＳＯＳ信号として出力している。

フィードバック用ビームＦＢの進行方向には、光センサ３６、及び、光量制御装置３８が配置されている。光センサ３６は、ハーフミラー１８で反射されたフィードバック用ビームＦＢを受光して、その光量を検出する。光量制御装置３８には、光センサ３６で検出されたフィードバック用ビームＦＢの光量が入力され、光量制御装置３８は入力された光量に基づいて、面発光レーザ１２が所定の出力となるように面発光レーザ１２の駆動電流を制御する。

上記構成の光走査装置１０においては、まず、面発光レーザ１２から出射されたレーザビームＬＢは、まず第１アパーチャ１６で整形される。これにより、ハーフミラー１８を透過した走査用ビームＳＢと、ハーフミラー１８で反射されたフィードバック用ビームＦＢとは、面発光レーザ１２から出射されるレーザビームＬＢの広がり角度が変化しても、その影響が両者でほぼ等価となり、光センサ３６で受光される光量が一定となるように光量制御を行なえば、感光体ドラム３０上の光量も一定に保つことができる。

また、上記構成の光走査装置１０では、第２アパーチャ２０は、ハーフミラー１８よりもレーザビームＬＢの進行方向下流側に配置されているので、第２のアパーチャ２０によりフィードバック用光ビームの光量が減少することはなく、また、第１のアパーチャ１６に形成された第１開口１６Ａは、第２のアパーチャ２０に形成された第２開口２０Ａよりも大きいので、光センサ３６に入射させるために必要な光量を、容易に確保することができる。

なお、上記実施形態では、コリメータレンズ１４とハーフミラー１８との間に、第１アパーチャ１６を配置したが、第１アパーチャ１６は、図３及び図４に示すように、ハーフミラー１８と光センサ３６との間に配置してもよい。特に、上記実施形態のように、コリメータレンズ１４とハーフミラー１８との間に第１アパーチャ１６を配置することにより、ハーフミラー１８に入射されるレーザビームＬＢのビーム断面形状をより小さくできるので、ハーフミラー１８をコンパクトにすることができる。

また、上記実施形態では、第１開口１６Ａの縦方向Ｈの長さで第１開口１６Ａと第２開口２０Ａの大小関係を規定したが、必ずしも当該方向で第１開口１６Ａと第２開口２０Ａの大小関係を規定する必要はなく、幅方向Ｗで大小関係を規定してもよい。ただ、一般に、ポリゴンミラーを用いる光学走査装置に用いられる光学系においては、ポリゴンミラーの反射面間の倒れ誤差を補正するための面倒れ補正光学系が採用されるため、光源と被走査面間の光学系の結像倍率は主走査方向よりも副走査方向の方が小さくなる傾向がある。このような光学系においては被走査面上のスポットサイズを円形に近づけるためにアパチャーの形状は主走査方向に長い形状となることが一般的であり、本実施形態でも第１開口１６Ａ及び第２開口２０Ａは、主走査方向に長い形状とされている。このような光学系に面発光レーザを適用した場合、面発光レーザは出射光が略円形状のため、アパチャーによるビームのケラレは、幅の狭い副走査方向（本実施形態では縦方向Ｈ）で大きくなる。したがって、上記実施形態のように、副走査方向において第１のアパチャーを第２のアパチャーよりも大きくすることが、光量損失を減らすためには効果的である。

また、本実施形態では、第１のアパーチャ１６は、独立した部材として配置されているが、図５に示すように、コリメータレンズ１４の鏡筒１４Ａと一体化した構成としてもよい。また、第１のアパーチャ１６は、コリメータレンズ１４よりもレーザビームＬＢの上流側に配置してもよい。図５（Ａ）は第１のアパーチャ１６を、コリメータレンズ１４よりもレーザビームＬＢの上流側に配置した構成例であり、図５（Ｂ）は第１のアパーチャ１６を、コリメータレンズ１４よりもレーザビームＬＢの下流側に配置した構成例である。

次に、第１アパーチャ１６の第１開口１６Ａと、第２アパーチャ２０の第２開口２０Ａとの関係について説明する。

まず、一定の条件下における、レーザビームＬＢの広がり角度と透過率の関係について説明する。図６に示す構成において、コリメータレンズＣＯの焦点距離を２３．３ｍｍ、有効径をΦ８ｍｍ、第１アパチャーＡに形成された長方形状の第１開口Ａ１の一辺の長さＤ＝８ｍｍとする。この条件下において、面発光レーザＭから出射されるレーザビームＬＢの広がり角度（半値全角）が９°〜１７°の範囲で変化したときのアパチャー透過率変化を、第１開口Ａ１のサイズを変化させて（幅０．４５ｍｍ〜３．６ｍｍ）比較したものが、図７のグラフに示されている。

図７のグラフより、第１開口Ａ１の幅Ｄが大きくなると透過率は増大し、広がり角度が大きくなると透過率は低下することがわかる。

図８は図７の結果を広がり角度１３°の透過率で正規化したものである。図８を見ると、第１開口Ａ１の幅Ｄが０．４５ｍｍのときと０．９ ｍｍのカーブはほぼ重なっており、第１開口Ａ１の幅Ｄが大きくなるにつれ、０．４５ ｍｍとの差が大きくなっていく。このことから、第１開口Ａ１の幅を０．９ｍｍ、第２開口Ａ２の幅を０．４５ｍｍのように、異なる幅にしても、広がり角度が変化したときの透過率変化はほぼ等しいことがわかる。

したがって、上記実施形態において面発光レーザ１２から出射されるレーザビームＬＢの広がり角度が変化しても、光センサ３６で検出された光量に基づいて面発光レーザ１２の駆動電流の出力を一定に制御すれば、被走査面上の光量も一定に制御されることになる。

また、第１開口１６Ａの幅Ｌ１は、第２開口２０Ａの幅Ｌ２よりも大きいので、光センサ３６側への光の透過率を、前述の特許文献１に記載の従来技術よりも改善することができる。

次に、図３、４の構成において、第２のアパーチャ２０に形成された第２開口２０Ａの幅を０．４５ｍｍとし、レーザビームＬＢの広がり角度が変化しても光センサ３６で検出された光量に基づいて面発光レーザ１２からの光量を一定に制御したときの被走査面上光量比を、図７の結果に基づいて計算した結果を図９に示す。

光センサ上の光量を１００％とすると、第１開口１６Ａの幅Ｌ１、第２開口２０Ａの幅Ｌ２が共に０．４５ｍｍの場合、広がり角度変化の影響は光センサ上と被走査面上で同じになり、広がり角度が変化しても被走査面上の光量は１００％が維持されて変化しない。第１開口１６Ａの幅Ｌ１を０．９ｍｍ、１．８ｍｍ、２．７ｍｍ、３．６ ｍｍと変化させると、被走査面上の光量は、約５４％、２５％、１７％、１４％、となり、第１開口１６Ａの幅Ｌ１が大きくなるほど広がり角度変化の影響も大きくなっている。

図９のそれぞれのプロットについて広がり角度１３°に対して正規化したものを図１０に示す。図１０から、第１開口１６Ａの幅が大きくなるにつれて、被走査面上の光量が狙い値からずれていくことがわかる。

したがって、上記条件の場合で、広がり角度が１３±４°の範囲で変動し、光センサ上での設定光量に対して被走査面上の光量の狙い値からのずれが１０％まで許容されるとすると、第２開口２０Ａの幅Ｌ２が０．４５ｍｍの場合、第１開口１６Ａの幅Ｌ１は３．６ｍｍまで広げることができることになる。

しかしながら、許容される第１開口１６Ａの最大幅は第２開口２０Ａとの比率だけでは規定できない。図１０において、第１開口１６Ａの幅Ｌ１が第２開口２０Ａの幅Ｌ２の２倍となっている場合に注目する。例えば、第１開口１６Ａの幅Ｌ１＝０．９ｍｍで、第２開口２０Ａの幅Ｌ２＝０．４５ｍｍの場合には、図１０の曲線の変化は小さく、光センサ側と被走査面側の、レーザビームＬＢの広がり角度の影響はほぼ等しい。しかし、第１開口１６Ａの幅Ｌ１＝１．８ｍｍで、第２開口２０Ａの幅Ｌ２＝０．９ｍｍの場合には、広がり角度１３°を中心に両者の差は大きくなっており、光センサ側と被走査面側の、レーザビームＬＢの広がり角度の影響が等価でなくなってきている。

この差は第２開口２０Ａの幅Ｌ２が大きくなるほど顕著になるので、光センサ３６で検出される光量に基づく設定光量に対しての被走査面上の光量のずれを一定量以下にしたい場合、許容される第１開口１６Ａの最大幅は、第２開口２０Ａの幅が大きくなるほど、第２開口２０Ａの幅に近づいていく。逆に、第２開口２０Ａの幅が０．４５ｍｍよりも小さくなっても、図１０の曲線はほとんど変化しなくなるので、第１開口１６Ａの最大幅は変わらない。

そこで、第１開口１６Ａの径を、第２開口２０Ａの径ではなく、第１開口１６Ａに入射するビームの大きさで規定するのが有効であると考えられる。

面発光レーザ１２から出力されるビームの形状は一般的にほぼガウシアン分布をしている。図１１には、開口幅をアパチャーに入射するガウシアンビームの半値幅で割った値（開口幅とガウシアンビームの半値幅の比）が示されている。ここで、ガウシアンビームの半値幅とは、図１２に示すように、アパチャーに入射するレーザビームＬＢの高さをＨＩとすると、その半値であるＨＩ／２におけるレーザビームＬＢの幅ＷＩをいう。図１０における被走査面上光量変化が最も大きい条件（広がり角度９度、アパチャー幅３．６ｍｍ）では、図１１を見ると開口幅とガウシアンビームの半値幅の比が略１となっている。すなわち、第１開口１６Ａの幅Ｌ１を、第１のアパーチャ１６に入射するレーザビームＬＢのガウシアンビームの半値幅以下に設定すれば、第２開口２０Ａ幅Ｌ２の値にかかわらず、広がり角度の影響を１０％以下に抑えることができる。

また、同様に考えて、図１０及び図１１より、第１開口１６Ａの幅Ｌ１を、第１のアパーチャ１６に入射するレーザビームＬＢの半値幅の７０％以下に設定すれば、第２開口２０Ａの幅Ｌ２の値にかかわらず、広がり角度の影響を５％以下に抑えることができる。

以上、説明したように、本実施形態によれば、第１アパーチャ１６及び第２アパーチャ２０という２つのアパーチャを設け、第１アパーチャ１６の第１開口１６Ａの開口幅を第２アパーチャ２０の第２開口１６Ａの開口幅よりも大きくしたので、光センサ３６へ入射する光量の損失を抑制することができると共に、レーザビームＬＢの広がり角度の変化による影響を、光センサ側と被走査面側とでほぼ等価にすることができる。

本実施形態の光走査装置の構成を示す概略斜視図である。 本実施形態の光走査装置の一部を示す平面図である。 本実施形態の光走査装置の変形例の構成を示す概略斜視図である。 本実施形態の光走査装置の変形例の一部を示す平面図である。 本実施形態におけるコリメータレンズと第１アパーチャとが一体的に構成されている場合の構成例である。 一定の条件下におけるレーザビームとこのレーザビームが入射されるアパーチャとの関係を示す図である。 所定の条件下におけるレーザビームの広がり角度と透過率との関係を示すグラフである。 図７の結果を広がり角度１３°の透過率で正規化したグラフである。 光センサで検出された光量に基づいて面発光レーザからの光量を一定に制御したときの被走査面上光量比を、図７の結果に基づいて求めた結果のグラフである。 図９のそれぞれのプロットについて広がり角度１３°に対して正規化したグラフである。 開口幅とガウシアンビームの半値幅の比と、広がり角度との関係を示すグラフである。 レーザビームのガウシアン半値幅を説明する図面である。 従来技術の光走査装置の構成を示す概略斜視図である。 他の従来技術の光走査装置の構成を示す概略斜視図である。

符号の説明

１０ 光走査装置
１２ 面発光レーザ
１３ 角度
１４ コリメータレンズ
１６ 第１アパーチャ
１６Ａ 第１開口
１８ ハーフミラー
２０ 第２アパーチャ
２０Ａ 第２開口
２４ ポリゴンミラー
２４Ａ 反射面
３０ 感光体ドラム
３６ 光センサ
３８ 光量制御装置
ＦＢ フィードバック用ビーム
ＳＢ 走査用ビーム
ＬＢ レーザビーム

Claims (6)

1. 光源と、
   前記光源から出射された光ビームを走査用光ビームとフィードバック用光ビームとに分離する分離部材と、
   前記分離部材で分離された走査用光ビームを偏向して、被走査面上に走査する光偏向手段と、
   前記分離部材と前記光偏向手段の間に配置され、前記走査用光ビームの断面形状を整形する第２開口の形成された第２のアパーチャと、
   前記分離部材で分離されたフィードバック用光ビームを受光して、このフィードバック用光ビームの光量を検出する光センサと、
   前記光センサで検出された光量に基づいて、前記光源から出射する光量を制御する制御手段と、
   前記光源と前記光センサの間に配置され、前記光ビームの断面形状を整形する、前記第２開口よりも大きな第１開口の形成された第１のアパーチャと、
   を備えた光走査装置。
2. 前記第１アパーチャは、前記光源と前記分離部材との間に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
3. 前記第１開口の幅の、前記光ビームが走査される主走査方向に対応する方向及び主走査方向と直交する副走査方向に対応する方向の少なくとも一方が、前記第１アパーチャに入射される前記光ビームのビーム径の半値幅以下であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の光走査装置。
4. 前記第１開口の幅の、前記光ビームが走査される主走査方向に対応する方向及び主走査方向と直交する副走査方向に対応する方向の少なくとも一方が、前記第１アパーチャに入射される前記光ビームのビーム径の半値幅の７０％以下であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の光走査装置。
5. 前記第１開口は、前記光ビームが走査される主走査方向と直交する副走査方向に対応する方向の幅が前記第２開口よりも広い幅とされていることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載の光走査装置。
6. 前記第１アパーチャは、前記光ビームを平行光線にするコリメートレンズと一体形成されていることを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載の光走査装置。

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