KR100739761B1 - 멀티 빔 주사장치 - Google Patents

Abstract

레이저 빔을 각각 조사하는 복수의 발광부를 가지는 광원과;

발광부에서 조사된 복수의 레이저 빔 각각을 감광체의 주주사방향으로 편향 주사시키는 빔 편향기;를 포함하며,

복수의 발광부는 광원의 출사면 상의 일 직선 상에 배열되는 것으로, 감광체의 이동방향인 부주사방향에 대응되는 출사면 상의 일 선분과 발광부를 이은 선분 사이의 각도 A가 0°초과 35°이하 또는 55°내지 80°사이의 값을 가지는 것을 특징으로 한다.

Description

멀티 빔 주사장치{Multi-beam scanning unit}

도 1은 종래 멀티 빔 주사장치의 간섭현상에 의한 광량 변동을 보인 개략적인 도면.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 멀티 빔 주사장치의 광학적 배치를 보인 개략적인 사시도.

도 3은 본 발명의 실시예에 따른 멀티 빔 주사장치의 부주사방향에 대한 빔 경로를 보인 개략적인 도면.

도 4는 본 발명의 실시예에 따른 멀티 빔 주사장치의 광원의 광학적 배치를 보인 개략적인 도면.

도 5a 및 도 5b는 비교예와 실시예 각각에 따른 이웃하는 두 빔 스폿 사이의 광 간섭 정도를 보인 개략적인 도면.

도 6은 본 발명의 실시예에 따른 멀티 빔 주사장치의 광원에서 조사된 광빔이 감광체에 결상될 때의 위치 관계를 보인 개략적인 도면.

도 7은 본 발명의 실시예에 따른 멀티 빔 주사장치의 광원의 경사각 변화에 따른 광원의 피치 및 광학계 배율 변화를 보인 그래프.

도 8은 본 발명의 실시예에 따른 멀티 빔 주사장치의 광원의 경사각 변화에 따른 감광체에 맺히는 빔 스폿의 주주사방향 스폿 크기 및 부주사방향 스폿 크기 변화를 보인 그래프.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *

10...멀티 빔 광원 11...제1발광부

15...제2발광부 21...콜리메이팅 렌즈

23...실린드리컬 렌즈 29...선단 감지센서

30...빔 편향기 31...구동원

35...회전다면경 41...f-θ렌즈

45...반사부재 50...감광체

L₁...제1주사선 L₂...제2주사선

본 발명은 감광체에 대해 동시에 복수의 주사선을 결상하는 구조의 멀티 빔 주사장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 보정회로나 기구적 조정구조 없이도 레이저 빔의 간섭에 의한 광량 변동을 해결할 수 있도록 된 구조의 멀티 빔 주사장치에 관한 것이다.

이 멀티 빔 주사장치(Multi-beam scanning unit)는 동시에 복수의 주사선을 주사하므로, 단일 빔을 이용하는 싱글 빔 주사장치(Single beam scanning unit)에 비하여 빔 편향기의 구동속도 예컨대 회전 다면경 등의 회전수를 저감하면서도 그 와 동일 또는 그 이상의 주사 성능을 나타낼 수 있다. 따라서, 고해상도인 경우에도 고속으로 출력할 수 있고, 빔 편향기 구동속도 저감에 따라 저소음의 고신뢰성 장치를 구현할 수 있다. 이에 따라, 멀티 빔 주사장치는 레이저 프린터, 디지털 복사기, 팩시밀리 등의 화상형성시스템에 응용되고 있다.

상기 멀티 빔 주사장치는 각각 독립적으로 제어 가능한 복수의 발광부를 구비하고, 이 발광부에서 복수의 레이저 빔을 출사하는 반도체 레이저를 포함한다. 이 멀티 빔 주사장치는 반도체 레이저의 각 발광부 사이 간격을 좁게 형성함으로써, 감광체에 동시에 맺히는 복수의 주사선의 사이 간격을 일정 범위로 관리할 수 있다. 또한, 반도체 레이저를 제외한 구성요소들 예를 들어, 콜리메이팅렌즈, 회전다면경, f-θ렌즈는 단일 레이저 빔을 주사하는 싱글 빔 주사장치와 동일하게 구성할 수 있다.

한편, 종래의 멀티 빔 주사장치는 광량 변동에 의한 광 간섭이 발생되는 문제점이 있다.

도 1은 각각 독립적으로 레이저 빔을 조사하는 제1 및 제2발광부(3)(5)를 가지는 레이저 광원(1)에서 조사된 빔의 진행 모습을 보인 개략적인 도면이다. 도면을 참조하면, 레이저 광원(1)의 고속 동작 중 순간적인 크로스토크(cross-talk)에 두 발광부(3)(5) 각각에서 조사된 레이저 빔 사이에 위상접합 되어, 두 빔의 중첩부분에서 보강 간섭 내지는 상쇄 간섭 현상이 발생된다. 이와 같은 레이저 빔 사이에서의 간섭현상은 주사 구간의 특정 부분에서 광 파워 변동을 야기한다. 그러므로, 제1 및 제2발광부(3)(5)에서 연속적으로 점등되는 레이저 빔을 조사하여, 감광 체 전면에 검정색에 대응되는 잠상을 형성하고자 하는 경우 광 파워 변동에 의하여 화상형성시 주주사방향으로의 불규칙한 백선(white line)이 생길 수 있는 문제점이 있다.

상기한 바와 같은 레이저 빔간 간섭현상에 의한 화상열화를 방지하기 위한 종래의 일 구성이 일본 공개특허공보 제2005-055538호(발명의 명칭: 멀티 빔 레이저 출사 유니트 및 화상형성장치, 공개일: 2005년 3월 3일)에 개시된 바 있다. 이 개시된 장치는 멀티 빔 광원을 구성하는 적어도 어느 한 발광부에 고주파 신호를 중첩시키는 고주파 발진회로를 추가하여, 발진 종모드를 다중화하여 레이저 빔 간의 간섭을 억제한다.

한편, 이와 같이 고주파 발진회로를 추가하여 레이저 빔간 간섭 현상을 억제하고자 하는 경우, 대략 300 MHz 이상의 고주파를 발진시키는 회로 구성이 필요하므로, 회로부 구성이 복잡해지고, 제품의 가격이 상승되는 문제점이 있다.

따라서, 본 발명은 상기한 바와 같은 문제점을 감안하여 안출된 것으로서, 멀티 빔 광원의 광학적 배치를 변경하여, 보정회로나 별도의 기구적 조정 구조 없이도 레이저 빔의 간섭 현상을 억제할 수 있도록 된 구조의 멀티 빔 주사장치를 제공하는데 목적이 있다.

상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 멀티 빔 주사장치는,

레이저 빔을 각각 조사하는 복수의 발광부를 가지는 광원과; 상기 발광부에 서 조사된 복수의 레이저 빔 각각을 감광체의 주주사방향으로 편향 주사시키는 빔 편향기;를 포함하며,

상기 복수의 발광부는 상기 광원의 출사면 상의 일 직선 상에 배열되는 것으로, 상기 감광체의 이동방향인 부주사방향에 대응되는 상기 출사면 상의 일 선분과 상기 발광부를 이은 선분 사이의 각도 A가 하기의 조건식 1 또는 조건식 2를 만족하는 것을 특징으로 한다.

<조건식 1>

0°< A ≤ 35°

<조건식 2>

55°≤ A ≤ 80°

이하, 첨부된 도면들을 참조하면서 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 멀티 빔 주사장치를 상세히 설명하기로 한다.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 멀티 빔 주사장치의 광학적 배치를 보인 개략적인 사시도이고, 도 3은 본 발명의 실시예에 따른 멀티 빔 주사장치의 부주사방향에 대한 빔 경로를 보인 개략적인 도면이다. 그리고, 도 4는 본 발명의 광원의 광학적 배치를 보인 개략적인 도면이다.

도면들을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 멀티 빔 주사장치는 일방향(D)으로 피노광면이 이동되는 감광체(50)에 대해 광을 주사하는 것으로, 부주사방향(Y)으로 소정 간격 이격되게 복수의 레이저 빔을 조사하는 광원(10)과, 이 광원(10)에서 조사된 레이저 빔 각각을 감광체(50)의 주주사방향(X)으로 편향 주사시키 는 빔 편향기(30)를 포함한다.

상기 광원(10)은 구동회로에 의하여 온/오프 제어되면서 화상 신호에 대응되는 레이저 빔을 각각 조사하는 복수의 발광부를 포함한다. 따라서, 상기 광원(10)에서 조사된 레이저 빔은 상기 감광체(50)의 피노광면 상에 부주사방향(Y)으로 복수의 레이저 빔을 동시에 주사한다.

본 실시예에서는 설명의 편의를 위하여, 제1 및 제2발광부(11)(15)를 가지는 광원(10)을 예로 들어 설명하기로 한다. 상기 광원(11)은 반도체 레이저로서, 측면으로 레이저 빔을 조사하는 모서리 발광형 레이저 다이오드(Edge Emitting Laser Diode) 또는 기판의 상면으로 레이저 빔을 조사하는 표면 발광형 레이저 다이오드(Vertical Cavity Surface Emitting Laser)로 이루어진 것이 바람직하다.

상기 제1 및 제2발광부(11)(15) 사이의 간격 즉, 광원 피치 P는 100㎛ 이내로서, 보다 바람직하게는 대략 14㎛이다. 이와 같이 광원 피치 P를 설정한 이유는 다음과 같다.

상기 감광체(50)에 동시에 주사되는 제1 및 제2주사선(L₁)(L₂)의 간격 h'은 광원의 피치(pitch)를 의미하는 복수의 발광부 중 이웃하는 발광부 즉, 제1발광부(11)의 중심과 제2발광부(15)의 중심 사이의 간격 P와, 후술하는 주사 광학계의 광학배율에 의하여 결정된다.

예를 들어, 600 dpi의 해상도를 가지는 멀티 빔 주사장치는 감광체(50) 상의 주사선 L₁과 L₂ 사이의 간격이 대략 42㎛ ( = 1inch/600dots) 되어야 하므로, 주사 광학계의 부주사방향으로의 광학배율을 3배로 설계한 경우 상기 광원 피치 P는 대략 14㎛ (=42㎛/3)이 된다. 여기서 부주사방향(Y)의 광학배율은 제1발광부(11)의 중심과 제2발광부(15) 중심 사이의 Y방향 간격 h에 대한 감광체(50)에 맺히는 두 주사선(L₁)(L₂) 사이의 간격 h'의 비(= h'/h)를 의미한다.

한편, 광학배율과 광원 피치 P는 모두 변경 가능한 값이다. 다만, 광원 피치 P는 광원(10)의 특성 상 좁히는데 한계가 있고, 크게 하는 경우 공간상 광학 설계상 제약이 따르게 된다. 따라서, 멀티 빔 주사장치는 광원 피치 P를 몇 개의 값으로 정하고, 이에 맞추어 주사 광학계의 배율을 설계하거나, 광원을 회전 배치시킴에 의하여 부주사방향에 대응되는 발광부 사이의 간격을 조절하는 방법이 일반적이다.

한편, 종래의 멀티 빔 주사장치는 광원 피치를 100㎛ 이상의 값으로 하고, 부주사방향에 대응되는 선분과 발광부를 이은 선분 사이의 각도를 80°내지 90°로 사용하는 것이 일반적이다. 즉, 100㎛의 광원 피치 값과, 4.5배의 광학배율을 가지는 멀티 빔 주사장치를 구성한 경우, 부주사방향에 대응되는 발광부 사이 간격이 9.4㎛ (=42.3㎛/4.5)이 되도록 하기 위하여, 광원을 84.6°[ = cos^-1(9.4㎛/100㎛)] 회전 사용하고 있다. 그러나, 이와 같이 회전각을 크게 한 경우는 미세한 회전각 변화에도 부주사방향으로의 광학계 배율이 급격히 변화하는 문제점이 있으므로, 일본 공개특허 제2000-089147호에 개시된 바와 같이 회전각을 정밀하게 조절할 수 있는 별도의 조정기구가 추가되어야 하는 단점이 있다.

따라서, 본 발명은 상기한 바와 같이 광원 피치를 100㎛ 이상으로 한 경우 야기될 수 있는 문제점을 고려하여, 상기한 바와 같이, 광원 피치 P가 100㎛ 이내의 값을 가지는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 주사 광학계의 광학배율을 대략 3배 내지 4.5배의 저배율 설계가 용이하고 600 dpi 해상도의 화상을 구현할 수 있도록 하기 위하여, 상기 광원 피치 P는 대략 14㎛로 설정될 수 있다.

또한, 상기 제1 및 제2발광부(11)(15)는 상기 광원(10)의 출사면(10a) 상의 일 직선(D) 상에 배열된다. 여기서, 상기 광원(10)이 세 개 이상의 발광부를 포함하는 경우에도 상기한 직선(D) 상에 발광부 모두가 배열된다.

상기 감광체(50)의 이동방향인 부주사방향에 대응되는 상기 출사면(10a) 상의 일 선분(Y)과 상기 제1 및 제2발광부(11)(15)를 이은 선분(D) 사이의 각도 A가 하기의 수학식 1 또는 수학식 2를 만족한다.

0°< A ≤ 35°

55°≤ A ≤ 80°

상기한 바와 같이, 제1발광부(11)와 제2발광부(15)를 배치한 이유는 레이저 빔 사이의 간섭에 의한 광량변동 내지는 회전 각도에 따른 레이저 스폿 크기의 증가를 고려한 것이다. 즉, 종래의 멀티 빔 주사장치에 비하여 레이저 빔 스폿 크기의 실질적인 변화없이도 간섭에 의한 광량 변동을 효과적으로 억제하기 위함이다.

도 5a 및 도 5b는 비교예와 실시예 각각에 따른 이웃하는 두 빔 스폿 사이 의 광 간섭 정도를 보인 개략적인 도면이다.

도 5a 및 도 5b 각각은 두 주사선 L₁, L₂ 사이 간격이 42㎛인 경우에 있어서, 감광체에 맺히는 빔 스폿 직경이 42㎛ 이상인 경우를 나타낸 것이다.

비교예에 따른 도 5a는 광원이 회전 없이 배치된 경우로서, 두 빔 스폿 B₁₁, B₁₂가 부주사방향(Y)으로 수직 배열되도록 주사된다. 따라서, 빗금으로 나타낸 부분과 같이 두 빔 스폿 사이의 교차 영역이 존재하여 간섭에 의한 광량 변동이 초래된다.

한편, 본 발명의 실시예에 따른 도 5b는 광원이 회전 배치된 경우로서, 동시에 감광체에 주사되는 두 빔 스폿 B₂₁, B₂₂(또는 B_22') 각각의 중심을 이은 선분이 부주사방향(Y)에 대해 기울어지게 경사 배열되므로, 교차 영역이 존재하더라도 비교예에 비하여 적게 존재하거나 존재하지 않도록 할 수 있다. 따라서, 두 주사빔 사이의 간섭에 의한 영역을 억제하거나 배제할 수 있다.

도 6은 본 발명의 실시예에 따른 멀티 빔 주사장치의 광원에서 조사된 광빔이 감광체에 결상될 때의 위치 관계를 보인 개략적인 도면이다.

도면을 참조하면, 본 발명에 따른 멀티 빔 주사장치는 부주사방향(Y)으로 소정 간격 이격된 위치에 두 빔을 동시에 주사하여, 주주사방향(X)으로 주사선 L₁과 L₂을 동시에 형성한다. 이 때, 주사선 L₁과 L₂ 각각에 형성되는 빔 스폿 B₁과 B₂를 살펴 볼 때, 빔 스폿 B₁과 B₂가 부주사방향(Y)에 대해 어긋나게 배치된다.

이때, 제1 및 제2발광부(11)(15) 각각에서 동시에 상기 감광체(50)에 결상되는 레이저 빔 스폿 B₁과 빔 스폿 B₂ 중심 사이의 상기 주주사방향(X)으로의 간격은 해상도 기준 1/2 도트 이상으로 되어 있다. 또한, 상기 빔 스폿 B₁과 빔 스폿 B₂ 중심 사이의 부주사방향(Y)으로의 간격은 해상도 기준 ±20% 범위 이내인 것이 바람직하다. 이와 같은 범위로 설정함으로써, 광원의 회전 각도에 따라 주주사방향(X)으로의 빔 스폿 위치 차이가 발생되더라도, 실용적으로 다른 문제를 야기하지 않도록 하기 위함이다.

따라서, 도 5b를 참조하여 설명된 바와 같이 두 주사선 L₁, L₂ 사이의 광간섭을 억제할 수 있다.

도 7은 본 발명의 실시예에 따른 멀티 빔 주사장치의 광원의 경사각 변화에 따른 광원의 피치 및 부주사 방향으로의 광학계 배율 변화를 보인 그래프이다. 그리고, 도 8은 본 발명의 실시예에 따른 멀티 빔 주사장치의 광원의 경사각 변화에 따른 감광체에 맺히는 빔 스폿의 주주사방향 스폿 크기 및 부주사방향 스폿 크기 변화를 보인 그래프이다.

도 7 및 도 8을 참조하면서, 상기한 수학식 1 및 2의 범위로 광원의 경사각을 설정한 이유를 살펴보기로 한다.

도 7은 600 dpi 해상도를 기준으로, 제1 및 제2발광부 사이의 간격이 14㎛인 광원을 예로 들어 나타낸 것이다. 도면을 살펴보면, 부주사방향으로의 제1 및 제2발광부 사이의 간격 h는 광원의 경사각이 증가할수록 점진적으로 작아짐을 알 수 있다. 한편, 광학계의 배율 변화를 살펴보면, 경사각이 80°이상에서 18배 이상으로 광학계 배율이 급격히 증가함을 알 수 있다. 여기서, 상기 감광체(도 2의 50)에 조사되는 레이저 빔 스폿의 부주사방향 배율은 멀티 주사 빔 간의 사이 간격과, 광원의 트랙 피치 및 광학계의 성능 등을 고려하여 볼 때, 대략 1.5배 내지 18배 범위 내의 값을 가지는 것이 바람직하다. 그러므로, 경사각 A는 수학식 2의 상한값 80°범위 내로 설정된다.

도 8을 참조하면, 경사각 A 값이 35°내지 55°사이의 값을 가지는 경우, 주주사방향으로의 빔 스폿 크기가 대략 82㎛ 이상으로 급격히 증가하여, 소망하는 해상도 예컨대 600 dpi 해상도의 화상형성이 곤란하게 된다는 문제점이 있다. 따라서, 경사각 A를 설정함에 있어서, 수학식 1의 상한값과, 수학식 2의 하한값 범위를 벗어나는 값을 제외한 것이다.

상기 빔 편향기(30)는 상기 광원(21)에서 조사된 광을 상기 감광체(50)의 주주사방향으로 편향 주사시킨다. 이 빔 편향기(30)의 예로서 도시된 바와 같은 구조의 폴리곤미러장치를 들 수 있다. 이 폴리곤미러장치는 구동원(31)과, 이 구동원(31)에 대해 회전 가능하게 설치된 폴리곤미러(35)를 포함한다. 상기 폴리곤미러(35)는 그 측면에 형성된 복수의 반사면(35a)을 포함하는 것으로, 회전 구동되면서 입사광을 편향 주사시킨다. 여기서, 상기 빔 편향기(30)는 상기한 구조의 폴리곤미러장치에 한정되는 것은 아니며, 입사빔을 편향 주사시키는 홀로그램 디스크 타입 빔 편향기, 갈바노미러 타입 주사장치 등을 채용하는 것도 가능하다.

상기 광원(10)과 상기 빔 편향기(30) 사이의 광경로 상에는 콜리메이팅렌즈 (21)와 실린더렌즈(23)가 더 구비되는 것이 바람직하다.

상기 콜리메이팅렌즈(21)는 상기 광원(10)에서 조사된 멀티 빔을 집속시켜 평행 빔 또는 수렴하는 빔이 되도록 한다.

상기 실린더렌즈(23)는 상기 콜리메이팅렌즈(21)를 투과한 빔을 주주사방향 및/또는 부주사방향에 대응되는 방향으로 입사빔을 집속시킴으로써, 상기 빔 편향기(30)에 입사빔을 선형으로 결상시키는 것으로, 적어도 한 매의 렌즈로 구성된다.

또한, 본 발명에 따른 멀티 빔 주사장치는 에프-세타(f-θ)렌즈(41)와 동기신호검출수단을 더 포함하는 것이 바람직하다.

상기 f-θ렌즈(41)는 상기 빔편향기(30)와 상기 감광체(50) 사이에 배치된다. 이 f-θ렌즈(41)는 적어도 일 매의 렌즈로 구성되는 것으로, 상기 빔편향기(30)에서 편향된 광을 주주사방향과 부주사방향에 대해 서로 다른 배율로 보정하여 상기 감광체(50)에 결상되도록 한다.

상기 동기신호검출수단은 상기 광원(10)에서 조사된 빔의 일부를 수광하여, 주사빔의 수평동기를 맞주는데 이용된다. 이를 위하여, 상기 동기신호검출수단은 상기 빔편향기(30)에서 편향되고, 상기 f-θ렌즈(41)를 투과한 빔의 일부를 수광하는 동기신호검출센서(29)와, 상기 f-θ렌즈(41)와 동기신호검출센서(29) 사이에 배치되어 입사빔의 진행 경로를 바꾸어주는 미러(25)와 이 미러(25)에서 반사된 빔을 집속시키는 집속렌즈(27)를 포함한다.

또한, f-θ렌즈(41)와 감광체(50) 사이에 반사미러(45)를 더 구비할 수 있다. 이 반사미러(45)는 상기 빔 편향기(30) 쪽에서 입사된 주사선을 반사시켜 상기 감광체(50)의 피노광면에 주사선(L₁)(L₂)을 형성하도록 한다.

상기한 바와 같이 구성된 멀티 빔 주사장치는 복수의 발광부를 가지는 광원의 경사각을 최적화함으로써, 보정회로나 미세 경사각 조정을 위한 별도의 기구적 조정 구조 없이도 레이저 빔의 간섭 현상을 억제할 수 있다. 아울러, 광학계의 배율 범위를 한정함으로써, 주주사 방향과 부주사 방향으로의 레이저 빔 스폿 직경이 급격히 커지는 것을 방지할 수 있다.

상기한 실시예들은 예시적인 것에 불과한 것으로, 당해 기술분야의 통상을 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다.

따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호범위는 하기의 특허청구범위에 기재된 발명의 기술적 사상에 의해 정해져야만 할 것이다.

Claims (16)

1. 레이저 빔을 각각 조사하는 복수의 발광부를 가지는 광원과;

   상기 발광부에서 조사된 복수의 레이저 빔 각각을 감광체의 주주사방향으로 편향 주사시키는 빔 편향기;를 포함하며,

   상기 복수의 발광부는 상기 광원의 출사면 상의 일 직선 상에 배열되는 것으로, 상기 감광체의 이동방향인 부주사방향에 대응되는 상기 출사면 상의 일 선분과 상기 발광부를 이은 선분 사이의 각도 A가 하기의 조건식 1 또는 조건식 2를 만족하는 것을 특징으로 하는 멀티 빔 주사장치.

   <조건식 1>

   0°< A ≤ 35°

   <조건식 2>

   55°≤ A ≤ 80°
2. 제1항에 있어서,

   상기 복수의 발광부 중 이웃하는 발광부 사이의 간격이 100㎛ 이내 인 것을 특징으로 하는 멀티 빔 주사장치.
3. 제2항에 있어서,

   상기 복수의 발광부 중 이웃하는 발광부 사이의 간격이 14㎛인 것을 특징으로 하는 멀티 빔 주사장치.
4. 제1항에 있어서, 상기 광원은,

   모서리 발광형 레이저 다이오드 또는 표면 발광형 레이저 다이오드로 이루어진 것을 특징으로 하는 멀티 빔 주사장치.
5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,

   상기 복수의 발광부 중 이웃하는 발광부 각각에서 조사되어 동시에 상기 감광체에 결상되는 레이저 빔 스폿 중심 사이의 상기 주주사방향으로의 간격이 해상도 기준 1/2 도트 이상인 것을 특징으로 하는 멀티 빔 주사장치.
6. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,

   상기 복수의 발광부 중 이웃하는 발광부 각각에서 조사되어 동시에 상기 감광체에 결상되는 레이저 빔 스폿 중심 사이의 상기 부주사방향으로의 간격이 해상도 기준 ±20% 범위 이내인 것을 특징으로 하는 멀티 빔 주사장치.
7. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,

   상기 빔 편향기에 의해 편향된 빔을 주주사방향과 부주사방향에 대해 서로 다른 배율로 보정하여 상기 감광체에 결상 되도록 하는 f-θ렌즈;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 멀티 빔 주사장치.
8. 제7항에 있어서,

   주주사방향 및 부주사방향 중 적어도 하나에 대응되는 방향에 대해 입사빔을 집속시키는 적어도 한 매의 실린드리컬 렌즈와;

   상기 복수의 발광부 각각에서 조사된 레이저 빔이 평행 빔 또는 수렴하는 빔이 되도록 집속시키는 콜레이메이팅렌즈;가

   상기 광원과 상기 빔 편향기 사이에 더 구비된 것을 특징으로 하는 멀티 빔 주사장치.
9. 제8항에 있어서,

   상기 감광체에 조사되는 레이저 빔 스폿의 부주사방향 배율이 1.5배 내지 18배 범위 내의 값을 가지는 것을 특징으로 하는 멀티 빔 주사장치.
10. 출사면을 통해 레이저 빔을 감광체로 각각 조사하는 복수의 발광부를 가지는 것으로, 상기 발광부의 중심이 상기 출사면상의 제1선분을 따라 배열되는 광원과;

    상기 광원에서 상기 감광체까지 레이저 빔을 안내하기 위한 빔 안내 유닛을 포함하고,

    상기 제1선분과 감광체가 이동하는 부주사 방향에 대응하는 제2 선분 사이의 각도가 발광부들 사이의 간섭을 없애도록 소정 각도로 세팅되는 것을 특징으로 하는 멀티 빔 주사장치.
11. 멀티빔 주사 장치에서의 간섭을 보정하는 방법에 있어서,

    출사면을 통해 두 개의 발광부를 가지는 광원으로부터 감과체상으로 광을 조사하고, 상기 출사면상의 제1 선분을 따라 발광부의 중심이 배열되는 단계;

    상기 제1선분과 감광체가 이동하는 부주사 방향에 대응하는 제2 선분 사이의 각도를 발광부들 사이의 간섭을 없애도록 소정 각도 내로 조절하는 단계:를 포함하는 것을 특징으로 하는 멀티빔 주사 장치에서의 간섭을 보정하는 방법.
12. 제 11항에 있어서,

    광원 피치를 제어하고, 상기 광원 피치는 상기 광원의 광 출사면 상에 두 개의 발광부의 중심들 사이에 있는 제1 선분에서의 거리인 것을 특징으로 하는 방법.
13. 제 12항에 있어서,

    상기 광원 피치는 100㎛ 이하가 되도록 제어되는 것을 특징으로 하는 방법.
14. 제 11항에 있어서,

    상기 두 개의 발광부로부터 발광된 광으로 감광체상에 적어도 두 개의 빔 스폿을 형성하는 단계:

    주주사방향으로 복수의 빔 스폿을 가지는 제1 주사선을 형성하는 단계;

    상기 감광체상에 복수의 빔 스폿을 가지는 제2 주사선을 형성하고, 상기 제1 및 제2 주사선은 부주사 방향으로 서로 떨어져 있는 단계;

    부주사 방향으로 광학 배율을 제어하는 단계;를 포함하고,

    상기 광학 배율은 감광체 상의 제1 및 제2 주사선 사이의 거리와 부주사 방향으로 광 출사면상의 두 개의 발광부의 중심 사이의 거리의 비인 것을 특징으로 하는 방법.
15. 제 14항에 있어서,

    상기 감광체에 형성된 복수의 빔 스폿의 크기를 조절하는 것을 특징으로 하는 방법.
16. 제 14항에 있어서,

    상기 광학 배율이 1.5배 내지 18배 범위 내의 값을 가지도록 조절되고 각도가 0°보다 크고 35°이하이거나 55°이상 80°이하로 조절되는 것을 특징으로 하는 방법.

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