JP3125970B2 - 光学走査装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は光学走査装置に係り、特
に、レーザプリンタやディジタル複写機等の画像記録装
置に用いられ、回転多面鏡の反射面の回転方向に沿った
幅よりも、該回転多面鏡に入射する光束の主走査方向に
対応する方向に沿った幅を大きくした、所謂オーバーフ
ィルドタイプの光学走査装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】光ビームを回転多面鏡によって主走査方
向に偏向し被走査面上を走査させる光学走査装置として
は、回転多面鏡の反射面の回転方向に沿った幅（以下、
面幅と称す）を、回転多面鏡に入射する光ビームの主走
査方向に対応する方向に沿った幅よりも大きくした、所
謂アンダーフィルド（UnderFilled)タイプが一般的であ
る。この種の光学走査装置では回転多面鏡に入射された
光ビームが全て略同一方向に反射されるので、光ビーム
のパワーを有効に利用することができる。

【０００３】ところで、レーザビーム等の光ビームを用
いて画像を記録するレーザプリンタやディジタル複写機
等の画像記録装置では、画像記録の高速化及び高解像度
化が常に要求されている。上記のようなアンダーフィル
ドタイプの光学走査装置において、高速化等の要求に応
えるには、回転多面鏡の回転速度を高速とすることによ
って、光ビームの走査速度を高速とすることが考えられ
る。

【０００４】しかし、回転多面鏡を回転駆動させる駆動
モータの駆動軸の回転速度は、現在軸受にボールベアリ
ングを使用した場合で約１５，０００ｒｐｍが限度であ
り、高性能な空気軸受を用いた場合でも約４０，０００
ｒｐｍが限度である。従って、回転多面鏡の回転速度を
高速化による画像記録装置の画像記録速度の高速化には
限界がある。

【０００５】また、回転多面鏡の反射面の数を増やし回
転多面鏡の１回転当りの走査回数を増加させることによ
って、高速化及び高解像度化を図ることも考えられる
が、反射面の数を増加させ、且つ各反射面の面幅を光ビ
ームの幅よりも大きくするには、回転多面鏡を大径化す
る必要があるため、回転多面鏡のサイズや重量等が大き
くなってしまい、通常の駆動モータでは駆動が困難であ
るという不都合が発生する。

【０００６】このため、回転多面鏡の大径化を防止し且
つ反射面の数を増やすために、各反射面の面幅を光ビー
ムの幅よりも小さくした、所謂オーバーフィルド（Over
Filled）タイプの光学走査装置が知られている（特開昭
５０−９３７１９号公報参照）。一例として、この種の
光学走査装置８０は、図１２に示すように、光ビームを
発生する光源８１と、画像信号に応じて光ビームを変調
する変調器８２と、ミラー８４と、光ビーム射出側が曲
面とされ主走査方向に対応する方向に光ビームを発散さ
せる平凸シリンドリカルレンズ８６と、側面に２０数個
程度の反射面が形成された回転多面鏡９０と、平凸シリ
ンドリカルレンズ８６から入射された光ビームを偏向す
ると共に、回転多面鏡９０の複数の反射面に主走査方向
に対応する方向に長い線像として結像させ且つ回転多面
鏡９０で反射された光ビームを感光体９４の近傍に収束
させる結像レンズ８８と、回転多面鏡９０で偏向された
偏向ビームの副走査方向の倒れ補正（面倒れ補正）を行
うシリンドリカルレンズ９２とを備えている。また、一
例として上記の光源８１から射出されるビームの波長λ
は６３２．８ｎｍ、偏向ビームに対しシリンドリカルレ
ンズ９２により面倒れ補正を行う光学系の中心光軸Ｕに
対する偏向ビームの最大偏向角度αは１２°〜１８°、
走査幅Ｘは２８０ｍｍに各々設定されている。

【０００７】一般に感光体９４上に照射される光ビーム
のビーム径は像面湾曲により変動するが、例えば感光体
９４上に照射される光ビームのビーム径の変動の中心値
を１５０μｍとすると、図３に示すように像面湾曲の大
きさ（光軸方向に沿ったビームウエスト位置のずれ）が
１５ｍｍ程度までなら、ビーム径は最大でも１７０μｍ
程度であり、ビーム径の変動幅（図３における点Ａ及び
点Ｂにおけるビーム径の差）は２０μｍ程度であるの
で、像面湾曲による不都合が生ずることはない。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、回転多
面鏡により偏向されたビームＭの主走査方向に対応する
方向のビーム幅Ｄは、アンダーフィルドタイプの光学走
査装置では一定であるのに対して、オーバーフィルドタ
イプの光学走査装置では一定の範囲で変動する。例え
ば、図４に示されるように光軸Ｘを中心とするビームＭ
が所定の回転速度で矢印Ｋ方向に回転する回転多面鏡９
０の複数の面に照射された時、ビーム幅Ｄは、ビームＭ
が軸Ｙ_S の方向に偏向される走査開始位置（Start Of S
can 、以下、「ＳＯＳ」と称す）の場合のビーム幅Ｄ₁
から、ビームＭが軸Ｙ_C の方向に偏向される走査中央位
置（Center Of Scan、以下、「ＣＯＳ」と称す）の場合
のビーム幅Ｄ₂ を経て、ビームＭが軸Ｙ_E の方向に偏向
される走査終了位置（End Of Scan 、以下、「ＥＯＳ」
と称す）の場合のビーム幅Ｄ₃ まで次第に大きくなるよ
うに変動する。従って、これに伴い光学系の焦点距離ｆ
を上記のビーム幅Ｄによって除算した値に相当するＦナ
ンバーはＳＯＳの場合からＥＯＳの場合まで次第に小さ
くなるように変動する。

【０００９】ところで、被走査面（図１２では感光体９
４）上に照射されるビームのビーム径Ｋは、光源におけ
るビームの波長λと上記のＦナンバーとの積にほぼ比例
関係とされているので、ビーム径ＫとＦナンバーとは比
例関係にある。従って、上記のようにＦナンバーが変動
すると、ビーム径Ｋも被走査面上の走査位置によって変
動することになる。

【００１０】例えば、図１２に示す光学走査装置におい
て、感光体９４上における走査幅Ｘが２８０ｍｍ、最大
偏向角度αが１８°、結像レンズ８８の光軸Ｖと上記光
軸Ｕとが成す角度βが９０°、光源におけるビームの波
長λが６３２．８ｎｍ、回転多面鏡の反射面の回転方向
の幅に対する反射面に入射する際の光束の主走査方向と
対応する方向のサイズの比が２である場合、ＥＯＳにお
けるＦナンバーに対するＳＯＳにおけるＦナンバーの比
率（所謂Ｆナンバーの左右差）は最大０．７３となる。
この場合、感光体９４上に照射されるビーム径Ｋの変動
の中心値を１５０μｍとすると、感光体９４上に照射さ
れる光ビームのビーム径Ｋは最大２０５μｍ程度であ
り、前述した像面湾曲による増加分約２０μｍに上記の
Ｆナンバーの左右差による増加分約５５μｍを加え合計
約７５μｍ、即ち最大８０μｍ程度もの照射ビーム径の
変動が生ずることになるので、上記の光学走査装置８０
は実際に使用することが困難であるという不都合が発生
する。

【００１１】本発明は上記事実を考慮し、回転多面鏡の
大径化を回避すると共に、被走査面上に照射されるビー
ムのビーム径の変動幅を許容範囲内に収めることのでき
る光学走査装置を提供することを目的とする。

【００１２】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項１記載の発明は、光源と、回転軸と平行な複
数の反射面を有し、かつ入射された光束を前記反射面に
より所定方向に略等角速度で偏向させる回転多面鏡と、
前記光源の射出方向に配置されたコリメータレンズ、前
記コリメータレンズの射出側に配置され、かつ前記コリ
メータレンズが射出する光束の副走査方向と対応する方
向にレンズパワーを有する副走査方向調節レンズ、及び
前記副走査方向調節レンズの射出側に配置され、かつ前
記副走査方向調節レンズが射出する光束の主走査方向と
対応する方向にレンズパワーを有する主走査方向調節レ
ンズを備え、かつ前記回転多面鏡の複数の前記反射面に
またがるように前記光源からの光束を主走査方向と対応
する方向に長い線像として結像させる第１の光学系と、
偏向された偏向光束を光スポットが略等速度で走査され
るように被走査面上に収束させる第２の光学系と、を備
えた光学走査装置であって、前記光源は前記コリメータ
レンズの焦点位置よりも内側に配置されると共に、前記
回転多面鏡により偏向された偏向光束の走査開始位置に
おける主走査方向に沿ったビーム幅と前記偏向光束の走
査終了位置における主走査方向に沿ったビーム幅との比
が０．７５以上で、かつ前記回転多面鏡の複数の反射面
の各々に対して略垂直な平面に各々投影した前記第１の
光学系の光軸と前記第２の光学系の中心光軸とが成す角
度βが、０°＜β＜９０°を満たすように前記第１の光
学系、前記回転多面鏡及び前記第２の光学系が構成され
ていることを特徴とする。また、請求項２記載の発明
は、前記偏向光束の走査開始位置における主走査方向に
沿ったビーム幅Ｄ₁及び前記偏向光束の走査終了位置に
おける主走査方向に沿ったビーム幅Ｄ₃は、前記第２の
光学系の中心光軸に対する前記偏向光束の最大偏向角度
をα、前記回転多面鏡の面幅をＦａとして、Ｄ₁＝Ｆａ
×ＣＯＳ（（β＋α）÷２）、Ｄ₃＝Ｆａ×ＣＯＳ
（（β−α）÷２）でそれぞれ表されることを特徴とす
る。また、請求項３記載の発明は、光源と、回転軸と平
行な複数の反射面を有し、かつ入射された光束を前記反
射面により所定方向に略等角速度で偏向させる回転多面
鏡と、前記光源の射出方向に配置されたコリメータレン
ズ、前記コリメータレンズの射出側に配置され、かつ前
記コリメータレンズが射出する光束の副走査方向と対応
する方向にレンズパワーを有する副走査方向調節レン
ズ、及び前記副走査方向調節レンズの射出側に配置さ
れ、かつ前記副走査方向調節レンズが射出する光束の主
走査方向と対応する方向にレンズパワーを有する主走査
方向調節レンズを備え、かつ前記回転多面鏡の複数の前
記反射面にまたがるように前記光源からの光束を主走査
方向と対応する方向に長い線像として結像させる第１の
光学系と、偏向された偏向光束を光スポットが略等速度
で走査されるように被走査面上に収束させる第２の光学
系と、を備えた光学走査装置であって、前記光源は前記
コリメータレンズの焦点位置よりも内側に配置されると
共に、前記回転多面鏡により偏向された偏向光束の走査
終了位置におけるＦナンバーと前記偏向光束の走査開始
位置における主走査方向に沿ったＦナンバーとの比が
０．７５以上で、かつ前記回転多面鏡の複数の反射面の
各々に対して略垂直な平面に各々投影した前記第１の光
学系の光軸と前記第２の光学系の中心光軸とが成す角度
βが、０°＜β＜９０°を満たすように前記第１の光学
系、前記回転多面鏡及び前記第２の光学系が構成されて
いることを特徴とする。

【００１３】また、請求項４記載の発明は、請求項１乃
至請求項３の何れか１項に記載の発明において、前記第
２の光学系の中心光軸に対する前記偏向光束の最大偏向
角度αが１５°以上であり、かつ前記角度βが３０°以
上となるように前記第１の光学系、前記回転多面鏡及び
前記第２の光学系が構成されていることを特徴とする。

【００１４】また、請求項５記載の発明は、光源と、回
転軸と平行な複数の反射面を有し、かつ入射された光束
を前記反射面により所定方向に略等角速度で偏向させる
回転多面鏡と、前記光源の射出方向に配置されたコリメ
ータレンズ、前記コリメータレンズの射出側に配置さ
れ、かつ前記コリメータレンズが射出する光束の副走査
方向と対応する方向にレンズパワーを有する副走査方向
調節レンズ、及び前記副走査方向調節レンズの射出側に
配置され、かつ前記副走査方向調節レンズが射出する光
束の主走査方向と対応する方向にレンズパワーを有する
主走査方向調節レンズを備え、かつ前記回転多面鏡の複
数の前記反射面にまたがるように前記光源からの光束を
主走査方向と対応する方向に長い線像となるように結像
させる光学系と、偏向された偏向光束を光スポットが略
等速度で走査されるように被走査面上に収束させるｆθ
レンズと、を備えた光学走査装置であって、前記光源は
前記コリメータレンズの焦点位置よりも内側に配置され
ると共に、前記回転多面鏡の複数の反射面の各々に対し
て略垂直な平面に各々投影した前記光学系の光軸と前記
ｆθレンズの中心光軸とが成す角度βが０°で、かつ前
記回転多面鏡により偏向された偏向光束の走査開始位置
又は走査終了位置における主走査方向に沿ったビーム幅
と前記偏向光束の走査中央位置における主走査方向に沿
ったビーム幅との比が０．８以上となるように前記光学
系、前記回転多面鏡及び前記ｆθレンズが構成され、か
つ前記回転多面鏡に入射する光及び前記回転多面鏡で偏
向された光が前記ｆθレンズを透過するように前記光学
系、前記回転多面鏡及び前記ｆθレンズが構成されてい
ることを特徴とする。また、請求項６記載の発明は、光
源と、回転軸と平行な複数の反射面を有し、かつ入射さ
れた光束を前記反射面により所定方向に略等角速度で偏
向させる回転多面鏡と、前記光源の射出方向に配置され
たコリメータレンズ、前記コリメータレンズの射出側に
配置され、かつ前記コリメータレンズが射出する光束の
副走査方向と対応する方向にレンズパワーを有する副走
査方向調節レンズ、及び前記副走査方向調節レンズの射
出側に配置され、かつ前記副走査方向調節レンズが射出
する光束の主走査方向と対応する方向にレンズパワーを
有する主走査方向調節レンズを備え、かつ前記回転多面
鏡の複数の前記反射面にまたがるように前記光源 からの
光束を主走査方向と対応する方向に長い線像となるよう
に結像させる光学系と、偏向された偏向光束を光スポッ
トが略等速度で走査されるように被走査面上に収束させ
るｆθレンズと、を備えた光学走査装置であって、前記
光源は前記コリメータレンズの焦点位置よりも内側に配
置されると共に、前記回転多面鏡の複数の反射面の各々
に対して略垂直な平面に各々投影した前記光学系の光軸
と前記ｆθレンズの中心光軸とが成す角度βが０°で、
かつ前記回転多面鏡により偏向された偏向光束の走査開
始位置又は走査終了位置におけるＦナンバーと前記偏向
光束の走査中央位置におけるＦナンバーとの比が０．８
以上となるように前記光学系、前記回転多面鏡及び前記
ｆθレンズが構成され、かつ前記回転多面鏡に入射する
光及び前記回転多面鏡で偏向された光が前記ｆθレンズ
を透過するように前記光学系、前記回転多面鏡及び前記
ｆθレンズが構成されていることを特徴とする。

【００１５】

【００１６】

【作用】請求項１記載の発明では、第１の光学系が回転
多面鏡の複数の反射面にまたがるように光源から発せら
れた光束を主走査方向と対応する方向に長い線像として
結像させ、回転多面鏡が回転軸と平行な複数の反射面に
より所定方向に略等角速度で入射された光束を偏向さ
せ、更に第２の光学系が偏向された偏向光束を光スポッ
トが略等速度で走査されるように被走査面上に収束させ
る。この時、偏向光束は、走査方向において第２の光学
系の中心光軸を中心として、前後に略同一の最大偏向角
度α分偏向される。

【００１７】そして、光源はコリメータレンズの焦点位
置よりも内側に配置されると共に、回転多面鏡の複数の
反射面の各々に対して略垂直な平面に各々投影した第１
の光学系の光軸と第２の光学系の中心光軸とが成す角度
βが０°＜β＜９０°の範囲で、前記回転多面鏡により
偏向された偏向光束の走査開始位置における主走査方向
に沿ったビーム幅と前記偏向光束の走査終了位置におけ
る主走査方向に沿ったビーム幅との比が０．７５以上と
なるように、第１の光学系、回転多面鏡、及び第２の光
学系を構成している。

【００１８】ところで、従来技術において説明した回転
多面鏡により偏向された偏向光束の、ＳＯＳ時における
主走査方向に沿ったビーム幅Ｄ₁ 及びＥＯＳ時における
主走査方向に沿ったビーム幅Ｄ₃ は、回転多面鏡の面幅
をＦａとすると請求項２記載の発明のように、各々以下
の（１）式、（２）式で表される。 Ｄ₁ ＝Ｆａ×ＣＯＳ（（β＋α）÷２） −−−−−（１） Ｄ₃ ＝Ｆａ×ＣＯＳ（（β−α）÷２） −−−−−（２） 従って、回転多面鏡により偏向された偏向光束の走査開
始位置における主走査方向に沿ったビーム幅と前記偏向
光束の走査終了位置における主走査方向に沿ったビーム
幅との比は幅Ｄ₁ ÷幅Ｄ₃ に相当し、その条件は次式で
表すことができる。 （ＣＯＳ（（β＋α）÷２））÷（ＣＯＳ（（β−α）÷２））≧０．７５ −−−−−（３） また、幅Ｄ ₁ ÷幅Ｄ ₃ は、 光学系の焦点距離ｆが一定で
あることから、請求項３記載の発明のように、回転多面
鏡により偏向された偏向光束の走査終了位置におけるＦ
ナンバーと前記偏向光束の走査開始位置におけるＦナン
バーとの比、すなわち、（ＥＯＳ時のＦナンバーＦ₃ ÷
ＳＯＳ時のＦナンバーＦ₁ ）にも等しい。

【００１９】上記の（ＥＯＳ時のＦナンバーＦ₃ ÷ＳＯ
Ｓ時のＦナンバーＦ₁ ）が（３）式の境界値である０．
７５に等しい場合、Ｆナンバーの比率において、ＣＯＳ
時のＦナンバーＦ₂ を１とすると、ＥＯＳ時のＦナンバ
ーＦ₃ は約０．８７５、ＳＯＳ時のＦナンバーＦ₁ は約
１．１２５となり、ＣＯＳ時のＦナンバーＦ₂ に対して
約±０．１２５の範囲内で変化する。

【００２０】従って、所定の光束が被走査面上に照射さ
れて生じるビームスポットの径（ビーム径）Ｋと該光束
のＦナンバーとは比例関係にあることから、一例として
ＣＯＳ時において被走査面上に照射される光束のビーム
径Ｋ₂ を７５μｍとすると、上記Ｆナンバーの比率に従
ってＳＯＳ時の照射光束のビーム径（照射ビーム径）Ｋ
₁ 及びＥＯＳ時の照射光束のビーム径（照射ビーム径）
Ｋ₃ を求め、更に誤差等を考慮すると、照射ビーム径Ｋ
はほぼ６０〜９０μｍの範囲内に収まることになる。

【００２１】例えば被走査面が感光面であり、該感光面
上に光束を照射することによって形成された潜像を現像
する場合、現像により顕像化される画像上において縦方
向に延びる細線の幅と横方向に延びる細線の幅との比
（細線の縦横比）は、図７に示すように現像条件に応じ
て変化すると共に、その変化の度合いは照射ビーム径Ｋ
が小さくなるに従って大きくなる。図７より明らかなよ
うに、照射ビーム径Ｋが６０μｍよりも小さくなると、
細線の縦横比が現像条件にもよるが、０．９〜１．１の
範囲から外れ、縦横の細線の幅の違いが容易に視認され
てしまうことになる。また、例えば解像度を６００dpi
（ドット間隔は約４２．５μｍ）として２ｏｎ２ｏｆｆ
（主走査方向に沿って、２ドットを連続して記録し次の
２ドットを記録しないことを繰り返す）で縦線を記録し
たとすると、該縦線の線幅は１７０μｍ（４２．５μｍ
×４）未満にする必要がある（１７０μｍ以上になると
隣接する縦線の間が埋まってしまい縦線として視認でき
ない）。しかし、先に一例として挙げた６０〜９０μｍ
の範囲から外れ、照射ビーム径Ｋが９０μｍよりも大き
くなった場合、図８にも示すように、２ドットを連続し
て記録したときの縦線の線幅は約１７０μｍ以上になっ
てしまい、隣接する縦線の間が埋まってしまうことにな
る。

【００２２】このようにＣＯＳ時における照射ビーム径
が７５μｍである場合には、主走査方向に沿った照射ビ
ーム径の変動を６０〜９０μｍの範囲内に収める必要が
あり、この条件は、（３）式を満足するように第１の光
学系、回転多面鏡及び第２の光学系を構成することによ
り達成できる。なお、上記ではＣＯＳ時における照射ビ
ーム径が７５μｍである場合を例に説明したが、それ以
外の場合についても（３）式を満足することで照射ビー
ム径の変動幅を許容範囲内に収めることができる。ま
た、上述したように、回転多面鏡の反射面の面幅を、入
射光束のビーム幅よりも大きくする必要がないので回転
多面鏡の大径化を回避できる。

【００２３】なお、請求項１乃至請求項３に記載の発明
は請求項４にも記載したように、第１の光学系、回転多
面鏡及び第２の光学系が最大偏向角度αが１５°以上で
ありかつ角度βが３０°以上となるように構成されてい
る場合に適用することが特に好ましい。

【００２４】即ち、最大偏向角度αが１５°未満の場
合、一例として図９に示すように走査幅Ｘを２９７ｍｍ
とすると、焦点距離ｆが５５０ｍｍ以上となり、これに
伴って回転多面鏡から被走査面までの光路長が６００ｍ
ｍ以上となる。このため、例えば図１に示すようにミラ
ー１８、２６、２８を配置する等により光学走査装置の
小型化を図ったとしても、該光学走査装置が例えばＡ４
用紙サイズからも逸脱する大きさとなってしまい、本発
明に係る光学走査装置が搭載されるレーザプリンタやデ
ィジタル複写機等の装置の大型化にもつながる。これに
対し、最大偏向角度αが１５°以上とすれば、例えば図
１に示すようにミラー１８、２６、２８を配置する等に
より、該光学走査装置の大きさを少なくともＡ４用紙サ
イズより小さくすることができる。

【００２５】また、ＳＯＳ時におけるＦナンバーとＥＯ
Ｓ時におけるＦナンバーとの比（Ｆナンバーの左右差と
いう）は、最大偏向角度α及び角度βの変化に対し、図
６に示すように変化する。この図６より明らかなよう
に、最大偏向角度αを１５°以上としても角度βが３０
°未満であれば、Ｆナンバーの左右差は一般に視認でき
ない程度のレベル（０．９程度）以上に元々なっている
ので、本発明を適用しなくてもある程度の画質は確保で
きる。これに対し角度βが３０°以上の場合には、Ｆナ
ンバーの左右差は０．９にも達せず画質の低下が著し
い。このため、最大偏向角度αが１５°以上、角度βが
３０°以上となるように第１の光学系、回転多面鏡及び
第２の光学系が構成されている場合に本発明を適用すれ
ば、特に画質が明確に向上することになる。

【００２６】ところで、回転多面鏡の回転軸に平行な方
向から投影した時に、第１の光学系の光軸と前記第２の
光学系の中心光軸とが重なるように、第１の光学系、回
転多面鏡、及び第２の光学系を配置することにより、角
度βは０°とすることもできる。この場合、上述したＦ
ナンバーの左右差がなくなり、ＳＯＳ（又はＥＯＳ）に
おけるＦナンバーＦ₁ （又はＦ₃ ）とＣＯＳにおけるＦ
ナンバーＦ₂ との差異、即ち、ＣＯＳ（α÷２）の値
も、図１０に示すように少なくとも約０．７６以上とな
るので好ましい。

【００２７】しかし、図１０に示すように、上記ＣＯＳ
（α÷２）の値が０．８未満の場合には、αは７０°よ
り大きくなってしまい、第２の光学系として用いられる
レンズ、例えばｆθレンズの設計限界を越えてしまい、
ｆθレンズに要求される、像面湾曲と走査方向の位置補
正の性能を満足できなくなる。

【００２８】従って、請求項５又は請求項６に記載した
ように、前記回転多面鏡の複数の反射面の各々に対して
略垂直な平面に各々投影した前記光学系の光軸と前記ｆ
θレンズの中心光軸とが成す角度βが０°で、かつ前記
回転多面鏡により偏向された偏向光束の走査開始位置又
は走査終了位置における主走査方向に沿ったビーム幅あ
るいはＦナンバーと前記偏向光束の走査終了位置におけ
る主走査方向に沿ったビーム幅あるいはＦナンバーとの
比が０．８以上となるように、光学系、回転多面鏡及び
ｆθレンズを構成することにより、ｆθレンズの設計限
界を越えることなく、光学走査装置を構成することがで
き、β＝０°とし、かつ前記回転多面鏡に入射する光及
び前記回転多面鏡で偏向された光が前記ｆθレンズを透
過するように前記光学系、前記回転多面鏡及び前記ｆθ
レンズを構成することにより、光学走査装置の小型化を
図ることが可能となる。

【００２９】また、請求項１乃至請求項６記載の発明で
は、光源がコリメータレンズの焦点位置よりも内側に配
置されているので、コリメータレンズから射出される光
束は発散光となる。この発散光の主走査方向と対応する
方向の幅は主走査方向調節レンズにより所定の幅に調整
される。即ち、光束の主走査方向と対応する方向の幅は
光源とコリメータレンズとの間隔及びコリメータレンズ
と主走査方向調節レンズとの間隔をそれぞれ調整するこ
とにより調整される。一方、この発散光の副走査方向と
対応する方向の幅は、副走査方向調節レンズと回転多面
鏡との間隔を調整することにより調整される。

【００３０】ここで、前述の主走査方向調節レンズは副
走査方向調節レンズと回転多面鏡との間に配置されてい
る。即ち、主走査方向と対応する方向の幅を調整するの
に必要な間隔と、副走査方向と対応する方向の幅を調整
するのに必要な間隔とは副走査方向調節レンズと主走査
方向調節レンズとの間で重なっている。また、光源はコ
リメータレンズの焦点位置よりも内側に配置されてお
り、光源とコリメータレンズとの距離は短縮されてい
る。このため、回転多面鏡の反射面の面幅よりも広い入
射光束幅を有する光束を得るための光源から回転多面鏡
までの光路長を短縮できる。

【００３１】

【実施例】以下、本発明の実施例として、レーザプリン
タ及びデジタル複写機等に用いられる光学走査装置１０
について詳細に説明する。

【００３２】図１に示すように、本実施例の光学走査装
置１０は所定形状の筐体３０を備えており、この筐体３
０は、偏平な下部３０Ｂと、下部３０Ｂの一方の端から
斜め上方に延びた上部３０Ｃと、で構成されている。上
部３０Ｃの下面には、開口部の形状が筐体３０の幅方向
（矢印Ｒ方向）に長い略長方形とされた孔３０Ａが設け
られており、この孔３０Ａは筐体３０の外部へ射出され
る光ビームの通過孔となる。下部３０Ｂと上部３０Ｃと
の接合部付近の下面３０Ｄは、幅方向にわたって切り欠
かれており、後述する感光ドラム３２が配置されるに充
分な空間が形成されている。

【００３３】筐体３０の幅方向の一方の側部には、光源
としての半導体レーザ１２を備えたレーザダイオードア
センブリ１３が配置されており、半導体レーザ１２の光
ビーム射出側には、半導体レーザ１２から射出された光
ビームを平行光ビームに整形するためのコリメータレン
ズ１４｛焦点距離（ｆ１）＝１２．５ｍｍ｝が、当該コ
リメータレンズ１４と半導体レーザ１２との距離が上記
焦点距離ｆ１よりも略０．８ｍｍ短くなるように配置さ
れている。即ち、半導体レーザ１２はコリメータレンズ
１４に対し該コリメータレンズ１４の焦点距離ｆ１より
も内側に位置している。コリメータレンズ１４の光ビー
ム射出側にはビーム成形用のスリット１５が配設されて
おり、スリット１５に隣接する位置には矢印Ｓで示す副
走査方向にのみレンズパワーを有し光ビームを副走査方
向において後述する回転多面鏡２２の偏向面近傍に収束
させるためのシリンドリカルレンズ１６が配設されてい
る。なお、図１には、半導体レーザ１２から射出された
光ビームの軌跡の端部の線を破線Ｍで示す。

【００３４】一方、筐体３０の幅方向の他方の側部に
は、フラットミラー１８が配設されており、これにより
シリンドリカルレンズ１６を透過した光ビームが筐体３
０の内方へ向けて反射される。この反射方向の下流側に
あたる筐体３０の略中央部には、正十五角柱状の回転多
面鏡２２が配設されており、この回転多面鏡２２は、各
々所定の面幅とされた複数の偏向面２２Ａを周面に備
え、略鉛直方向の回転軸Ｖを中心として図示しない駆動
機構から供給される駆動力により所定の角速度で矢印Ｐ
方向に回転するように構成されている。上述したフラッ
トミラー１８と回転多面鏡２２との間には、フラットミ
ラー１８により反射された光ビームを主走査方向におい
て略平行光束にするための凸レンズ２０が配設されてい
る。

【００３５】また、筐体３０の長手方向の一方の側部に
は別のフラットミラー２６が配設されており、このフラ
ットミラー２６と上述した回転多面鏡２２との間には２
枚のレンズ２４Ａ、２４Ｂにより構成されたｆθレンズ
２４｛焦点距離（ｆ２）＝２８６．５ｍｍ｝が配置され
ている。このｆθレンズ２４は、感光ドラム３２の表面
上に照射される小さな径の略円形の光スポットが上述し
た回転多面鏡２２の等角速度での回転に伴い感光ドラム
３２の表面上を走査方向（矢印Ｒ方向）に略等速度で移
動するように、回転多面鏡２２によって偏向された光ビ
ームを感光ドラム３２の表面近傍に収束させる。

【００３６】また、筐体３０の長手方向の他方の側部に
は、上述したフラットミラー２６により反射された光ビ
ームの副走査方向の倒れを補正するためのシリンドリカ
ルミラー２８が配設されている。なお、上述したコリメ
ータレンズ１４、シリンドリカルレンズ１６及び凸レン
ズ２０は本発明の第１の光学系に対応し、ｆθレンズ２
４は本発明の第２の光学系に対応する。また、以下にお
いてコリメータレンズ１４、シリンドリカルレンズ１６
及び凸レンズ２０を総称して便宜上「第１の光学系」と
称す。

【００３７】本実施例では、一例として、回転多面鏡２
２の底面に内接する円の直径ＰΦは２２ｍｍとされ、各
偏向面２２Ａの面幅Ｆａは４．６８ｍｍとされている。
なお、面幅Ｆａは、回転多面鏡の反射面の数をｎとする
と、「Ｆａ＝ＰΦ×ｔａｎ（１８０°÷ｎ）」で表され
る。また、複数の偏向面２２Ａの各々に対して略垂直な
仮想的な平面に各々投影した、第１の光学系の中心光軸
とｆθレンズ２４の中心光軸とが成す角度βは４５°と
され、回転多面鏡２２へ入射する入射ビームのビーム幅
Ｄ₀ は約１０．３ｍｍとされている。

【００３８】また、以上説明した光学走査装置１０によ
り走査される感光材料が表面に貼布された細長い略円柱
状の感光ドラム３２が、矢印Ｒで示す走査方向が該感光
ドラム３２の長手方向に略一致するように筐体３０の下
面３０Ｄの下に配設されている。この感光ドラム３２
は、回転軸Ｗを中心として図示しない駆動機構から供給
される駆動力により予め定められた一定の回転速度で矢
印Ｑ方向に回転する。

【００３９】次に本実施例の作用を説明する。図２
（Ａ）及び（Ｂ）に示されるように、半導体レーザ１２
は主走査方向に対応する方向（図２（Ａ）における上下
方向）における拡がり角θ１が副走査方向に対応する方
向（図２（Ｂ）における上下方向）における拡がり角θ
２よりも大きい拡散光である光ビームを照射する。この
半導体レーザ１２はコリメータレンズ１４の焦点位置よ
りも内側に配置されているため、光ビームはコリメータ
レンズ１４によって、副走査方向に対応する方向に略平
行に進むと共に主走査方向に対応する方向に緩く発散す
る発散光とされる。発散光とされた光ビームは、スリッ
ト１５によって副走査方向に対応する方向のビーム幅が
制限される。

【００４０】次に、スリット１５を通過した光ビームは
シリンドリカルレンズ１６によって、副走査方向に対応
する方向においてのみ収束する収束光とされる。シリン
ドリカルレンズ１６を通過した光ビームはフラットミラ
ー１８により筐体３０の内方へ向けて反射された後、凸
レンズ２０によって主走査方向に対応する方向において
略平行な平行光束とされると共に副走査方向に対応する
方向において回転多面鏡２２の偏向面２２Ａ上に収束す
る収束光とされる。収束光とされた光ビームは、主走査
方向に対応する方向においてビーム幅Ｄ₀ が約１０．３
ｍｍとされて回転多面鏡２２の偏向面２２Ａに入射する
と共に、副走査方向に対応する方向においては回転多面
鏡２２の偏向面２２Ａの表面近傍に収束する。この時、
各偏向面２２Ａの面幅Ｆａは４．６８ｍｍであり、上記
ビーム幅Ｄ₀ よりも小さいため、光ビームは、複数の偏
向面２２Ａにまたがる主走査方向に長い線像として結像
する。

【００４１】この結像された光ビームは、複数の偏向面
２２Ａで反射され、ｆθレンズ２４に至り、該ｆθレン
ズ２４によって主走査方向において感光ドラム３２の表
面近傍に収束するように偏向される。偏向された光ビー
ムはフラットミラー２６により反射された後、シリンド
リカルミラー２８に至る。ここで、光ビームは該シリン
ドリカルミラー２８によって副走査方向における倒れが
補正されると共に孔３０Ａの方向へ反射される。反射さ
れた光ビームは、孔３０Ａを通り筐体３０の外部へ射出
され、感光ドラム３２の表面に照射される。この時、光
ビームは、副走査方向においては上記シリンドリカルレ
ンズ１６による作用、主走査方向においては上記ｆθレ
ンズ２４による作用、の各々によって感光ドラム３２の
表面近傍に収束し、感光ドラム３２の表面上に所定の照
射ビーム径Ｋの略円形の光スポットとして照射される。

【００４２】ところで、回転多面鏡２２は矢印Ｐ方向に
略等角速度で回転していることから、偏向面２２Ａで反
射される光ビームの進行方向は変動し、これに伴い感光
ドラム３２の表面上に照射される光スポットの位置も変
動する。

【００４３】この光スポットの位置の変動について以下
に説明する。図５に示すように、光ビームが偏向面２２
Ａに対し、上述した角度βが４５°となるように入射す
ると、偏向面２２Ａで反射した光ビームの中心軸は回転
多面鏡２２の回転によりＳＯＳの場合の反射方向Ｙs と
ＥＯＳの場合の反射方向Ｙ_E との間で変動することにな
る。なお、上記の反射方向Ｙs 及び反射方向Ｙ_E は、図
５の紙面に垂直方向に投影した場合にｆθレンズ２４の
中心光軸Ｗと重なる反射方向Ｙc を中心として等角度
（最大偏向角度α）分ずれた位置となる（本実施例では
この最大偏向角度αは±２１°となるように設定されて
いる）。

【００４４】更に、回転多面鏡２２は矢印Ｐ方向に略等
角速度で回転するため、偏向面２２Ａで反射された光ビ
ームの中心軸は反射方向Ｙs から矢印Ｐ方向に略等角速
度で移動し、反射方向Ｙ_E に至ると、再び反射方向Ｙs
へ戻りそこから再び矢印Ｐ方向に略等角速度で移動す
る。

【００４５】これにより、図１において、感光ドラム３
２上に照射された光スポットは感光ドラム３２上をＳＯ
Ｓの場合の位置Ｌ_S から破線Ｎで示す軌跡を通って矢印
Ｒ方向に移動し、ＥＯＳの場合の位置Ｌ_E に至ると、再
び位置Ｌ_S に戻る。光スポットは上記のような移動を繰
り返す。更にこの時、光スポットはｆθレンズ２４のレ
ンズパワーにより略等速度で感光ドラム３２上を移動す
ることになる。

【００４６】既に述べたように感光ドラム３２は軸Ｗを
中心として矢印Ｑ方向に予め定められた一定の回転速度
で回転しているため、この感光ドラム３２の一定の回転
速度での回転及び光スポットの矢印Ｒ方向への略等速度
での移動によって、感光ドラム３２の表面上に記録され
た磁気情報が所定の走査速度で走査されることになる。

【００４７】以上説明したように本実施例では、最大偏
向角度αが±２１°、角度βが４５°となるように、第
１の光学系、回転多面鏡２２及びｆθレンズ２４が構成
されているので、請求項１に記載した最大偏向角度α及
び角度βに関する条件式を満足する（ＣＯＳ３３°÷Ｃ
ＯＳ１２°≒０．８５８≧０．７５）と共に、請求項２
に記載したように最大偏向角度αが１５°以上、角度β
が３０°以上である。この場合、Ｆナンバーの左右差は
約０．８５８であり、０．９にも達しないものの、〔作
用〕において詳細に説明した理由により、回転多面鏡２
２の大径化を回避しつつ、感光ドラム３２上に照射され
る光束のビーム径の変動幅を許容範囲内に収め、画質を
所定レベル以上に維持することができる。

【００４８】また、本実施例では、図２（Ａ）及び
（Ｂ）に示すように、半導体レーザ１２はコリメータレ
ンズ１４の焦点位置よりも内側に配置されているため、
主走査方向においてコリメータレンズ１４から射出され
る光ビームは発散光となる。そして、主走査方向と対応
する方向の光ビームのビーム幅は半導体レーザ１２とコ
リメータレンズ１４との間隔Ｉ₁ 及びコリメータレンズ
１４と凸レンズ２０との間隔Ｉ₂ をそれぞれ調整するこ
とにより所定の幅に調整される。

【００４９】一方、この光ビームはシリンドリカルレン
ズ１６及び凸レンズ２０によって副走査方向と対応する
方向に収束されており、光ビームの副走査方向と対応す
る方向の幅は、この光ビームの主走査方向と対応する方
向の幅を調整した後に、コリメータレンズ１４から射出
された光ビームが回転多面鏡２２の偏向面２２Ａ近傍に
収束されるように、シリンドリカルレンズ１６と回転多
面鏡２２との間隔Ｉ₃を調整することによって調整され
る。図２（Ａ）及び（Ｂ）より明らかなように、光ビー
ムの主走査方向と対応する方向の幅の調整をするための
間隔（半導体レーザ１２とコリメータレンズ１４との間
隔Ｉ₁ 及びコリメータレンズ１４と凸レンズ２０との間
隔Ｉ₂ ）とこの光ビームの副走査方向と対応する方向の
幅の調整をするための間隔（シリンドリカルレンズ１６
と回転多面鏡２２との間隔Ｉ₃ ）とが、シリンドリカル
レンズ１６と凸レンズ２０との間で重なっている（但
し、本実施例でも光ビームの主走査方向と対応する方向
の幅の調整と副走査方向と対応する方向の幅の調整とを
独立して行うことができる）。

【００５０】従って、前述の従来技術における配置のレ
ンズや、上記のような光ビームの主走査方向及び副走査
方向の各々に対応する方向の幅を調整するための間隔が
重なるように配置されていない従来のレンズに比べ、光
源から回転多面鏡までの光路長を短縮することができ
る。

【００５１】また、従来は半導体レーザ１２がコリメー
タレンズ１４の焦点位置に略一致するように配置し、半
導体レーザ１２から射出された発散光をコリメータレン
ズ１４により平行光束としていたのに対し、本実施例で
は、半導体レーザ１２がコリメータレンズ１４の焦点位
置よりも内側に配置されている。これにより、従来に比
べ、配置するコリメータレンズ１４の口径が小さくて済
むので、高価な大口径のコリメータレンズを使用するこ
となく、口径が中程度以下のコリメータレンズで代用す
ることができ、構成部材のコスト節約が図れる。

【００５２】なお、本実施例では、複数の偏向面２２Ａ
の各々に対して略垂直な仮想的な平面に各々投影した、
第１の光学系の中心光軸とｆθレンズ２４の中心光軸と
が成す角度βが４５°となるように、第１の光学系、回
転多面鏡２２及びｆθレンズ２４を配置した例を示した
が、既に〔作用〕において説明したように、最大偏向角
度αが「ＣＯＳ（α÷２）≧０．８」というもう１つの
条件を満たすように、第１の光学系、回転多面鏡２２及
びｆθレンズ２４を構成することにより、図１１（Ａ）
に示すように上記の角度βが０°となるように、第１の
光学系、回転多面鏡２２及びｆθレンズ２４を構成する
こともできる。

【００５３】例えば、図１１（Ｂ）に示すように回転多
面鏡２２の偏向面２２Ａで偏向された光のみがｆθレン
ズ２４を透過するように、副走査方向（図１１（Ｂ）に
おいて上下方向）において第１の光学系、回転多面鏡２
２及びｆθレンズ２４の各々の位置がずれるように配置
したり、また図１１（Ｃ）に示すように偏向面２２Ａに
入射する光及び偏向面２２Ａで偏向された光がｆθレン
ズ２４を透過するように、副走査方向（図１１（Ｃ）に
おいて上下方向）において第１の光学系、回転多面鏡２
２及びｆθレンズ２４の各々の位置が若干ずれるように
配置することにより実現できる。このように、角度βが
０°となるように、第１の光学系、回転多面鏡２２及び
ｆθレンズ２４を構成することにより、光学走査装置の
小型化を図ることが可能となる。

【００５４】また、本実施例では、主走査方向と対応す
る方向及び副走査方向と対応する方向の双方にレンズパ
ワーを有する凸レンズ２０を使用したが、主走査方向と
対応する方向にのみレンズパワーを有するシリンドリカ
ルレンズをこの凸レンズ２０の代わりに使用してもよ
い。

【００５５】

【発明の効果】請求項１乃至請求項４に記載の発明によ
れば、回転多面鏡の大径化を回避すると共に、被走査面
上に照射される光束のビーム径の変動幅を許容範囲内に
収めることができ、更に、回転多面鏡の反射面の面幅よ
りも広い入射ビーム幅を有する光束を得るための光源か
ら回転多面鏡までの光路長を短縮できるという優れた効
果を有する。

【００５６】また、請求項５又は請求項６記載の発明に
よれば、β＝０°とし、かつ回転多面鏡に入射する光及
び回転多面鏡で偏向された光がｆθレンズを透過するよ
うに光学系、回転多面鏡及びｆθレンズを構成すること
により、光学走査装置の小型化を図ることができ、更
に、回転多面鏡の反射面の面幅よりも広い入射ビーム幅
を有する光束を得るための光源から回転多面鏡までの光
路長を短縮できるという優れた効果を有する。

【００５７】

【図面の簡単な説明】

【図１】本実施例に係る光学走査装置を示す概略構成図
である。

【図２】（Ａ）は光源、第１の光学系及び回転多面鏡の
配置を示す上面図であり、（Ｂ）は（Ａ）の側面図であ
る。

【図３】光束の波長が６３２．８ｎｍの場合の、焦点位
置からの離間距離と照射ビーム径との関係を示す線図で
ある。

【図４】多面鏡からの偏向光束のビーム幅を示す概略図
である。

【図５】第２の光学系及び感光ドラムの配置を示す上面
図である。

【図６】最大偏向角度αと走査開始／終了時のＦナンバ
ー左右差との関係を示す線図である。

【図７】照射ビーム径と縦横の線幅比との関係を示す線
図である。

【図８】縦線における入力信号のビット数と線幅との関
係を示す線図である。

【図９】最大偏向角度αと焦点距離ｆとの関係を示す線
図である。

【図１０】角度αとＣＯＳ（α÷２）との関係を示す線
図である。

【図１１】（Ａ）は入射角βが０°の場合の第２の光学
系及び感光ドラムの配置を示す上面図であり、（Ｂ）及
び（Ｃ）は（Ａ）における第２の光学系の配置を示す側
面図である。

【図１２】従来の光学走査装置を示す概略構成図であ
る。

【符号の説明】

１０ 光学走査装置 １２ 半導体レーザ（光源） １４ コリメータレンズ １６ シリンドリカルレンズ（副走査方向調節レン
ズ） ２０ 凸レンズ（主走査方向調節レンズ） ２２ 回転多面鏡 ２４ ｆθレンズ（第２の光学系）

フロントページの続き (56)参考文献 特開 平６−214182（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−59209（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−125736（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−67816（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−231015（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−58315（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−87123（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G02B 26/10

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光源と、回転軸と平行な複数の反射面を
   有し、かつ入射された光束を前記反射面により所定方向
   に略等角速度で偏向させる回転多面鏡と、前記光源の射
   出方向に配置されたコリメータレンズ、前記コリメータ
   レンズの射出側に配置され、かつ前記コリメータレンズ
   が射出する光束の副走査方向と対応する方向にレンズパ
   ワーを有する副走査方向調節レンズ、及び前記副走査方
   向調節レンズの射出側に配置され、かつ前記副走査方向
   調節レンズが射出する光束の主走査方向と対応する方向
   にレンズパワーを有する主走査方向調節レンズを備え、
   かつ前記回転多面鏡の複数の前記反射面にまたがるよう
   に前記光源からの光束を主走査方向と対応する方向に長
   い線像として結像させる第１の光学系と、偏向された偏
   向光束を光スポットが略等速度で走査されるように被走
   査面上に収束させる第２の光学系と、を備えた光学走査
   装置であって、 前記光源は前記コリメータレンズの焦点位置よりも内側
   に配置されると共に、前記回転多面鏡により偏向された
   偏向光束の走査開始位置における主走査方向に沿ったビ
   ーム幅と前記偏向光束の走査終了位置における主走査方
   向に沿ったビーム幅との比が０．７５以上で、かつ前記
   回転多面鏡の複数の反射面の各々に対して略垂直な平面
   に各々投影した前記第１の光学系の光軸と前記第２の光
   学系の中心光軸とが成す角度βが、０°＜β＜９０°を
   満たすように前記第１の光学系、前記回転多面鏡及び前
   記第２の光学系が構成されていることを特徴とする光学
   走査装置。
2. 【請求項２】 前記偏向光束の走査開始位置における主
   走査方向に沿ったビーム幅Ｄ₁及び前記偏向光束の走査
   終了位置における主走査方向に沿ったビーム幅Ｄ₃は、
   前記第２の光学系の中心光軸に対する前記偏向光束の最
   大偏向角度をα、前記回転多面鏡の面幅をＦａとして、 Ｄ₁＝Ｆａ×ＣＯＳ（（β＋α）÷２）、 Ｄ₃＝Ｆａ×ＣＯＳ（（β−α）÷２） でそれぞれ表されることを特徴とする請求項１記載の光
   学走査装置。
3. 【請求項３】 光源と、回転軸と平行な複数の反射面を
   有し、かつ入射された光束を前記反射面により所定方向
   に略等角速度で偏向させる回転多面鏡と、前記光源の射
   出方向に配置されたコリメータレンズ、前記コリメータ
   レンズの射出側に配置され、かつ前記コリメータレンズ
   が射出する光束の副走査方向と対応する方向にレンズパ
   ワーを有する副走査方向調節レンズ、及び前記副走査方
   向調節レンズの射出側に配置され、かつ前記副走査方向
   調節レンズが射出する光束の主走査方向と対応する方向
   にレンズパワーを有する主走査方向調節レンズを備え、
   かつ前記回転多面鏡の複数の前記反射面にまたがるよう
   に前記光源からの光束を主走査方向と対応する方向に長
   い線像として結像させる第１の光学系と、偏向された偏
   向光束を光スポットが略等速度で走査されるように被走
   査面上に収束させる第２の光学系と、を備えた光学走査
   装置であって、 前記光源は前記コリメータレンズの焦点位置よりも内側
   に配置されると共に、前記回転多面鏡により偏向された
   偏向光束の走査終了位置におけるＦナンバーと前記偏向
   光束の走査開始位置における主走査方向に沿ったＦナン
   バーとの比が０．７５以上で、かつ前記回転多面鏡の複
   数の反射面の各々に対して略垂直な平面に各々投影した
   前記第１の光学系の光軸と前記第２の光学系の中心光軸
   とが成す角度βが、０°＜β＜９０°を満たすように前
   記第１の光学系、前記回転多面鏡及び前記第２の光学系
   が構成されていることを特徴とする光学走査装置。
4. 【請求項４】 前記第２の光学系の中心光軸に対する前
   記偏向光束の最大偏向角度αが１５°以上であり、かつ
   前記角度βが３０°以上となるように前記第１の光学
   系、前記回転多面鏡及び前記第２の光学系が構成されて
   いることを特徴とする請求項１乃至請求項３の何れか１
   項に記載の光学走査装置。
5. 【請求項５】 光源と、回転軸と平行な複数の反射面を
   有し、かつ入射された光束を前記反射面により所定方向
   に略等角速度で偏向させる回転多面鏡と、前記光源の射
   出方向に配置されたコリメータレンズ、前記コリメータ
   レンズの射出側に配置され、かつ前記コリメータレンズ
   が射出する光束の副走査方向と対応する方向にレンズパ
   ワーを有する副走査方向調節レンズ、及び前記副走査方
   向調節レンズの射出側に配置され、かつ前記副走査方向
   調節レンズが射出する光束の主走査方向と対応する方向
   にレンズパワーを有する主走査方向調節レンズを備え、
   かつ前記回転多面鏡の複数の前記反射面にまたがるよう
   に前記光源からの光束を主走査方向と対応する方向に長
   い線像となるように結像させる光学系と、偏向された偏
   向光束を光スポットが略等速度で走査されるように被走
   査面上に収束させるｆθレンズと、を備えた光学走査装
   置であって、前記光源は前記コリメータレンズの焦点位置よりも内側
   に配置されると共に、 前記回転多面鏡の複数の反射面の
   各々に対して略垂直な平面に各々投影した前記光学系の
   光軸と前記ｆθレンズの中心光軸とが成す角度βが０°
   で、かつ前記回転多面鏡により偏向された偏向光束の走
   査開始位置又は走査終了位置における主走査方向に沿っ
   たビーム幅と前記偏向光束の走査中央位置における主走
   査方向に沿ったビーム幅との比が０．８以上となるよう
   に前記光学系、前記回転多面鏡及び前記ｆθレンズが構
   成され、かつ前記回転多面鏡に入射する光及び前記回転
   多面鏡で偏向された光が前記ｆθレンズを透過するよう
   に前記光学系、前記回転多面鏡及び前記ｆθレンズが構
   成されていることを特徴とする光学走査装置。
6. 【請求項６】 光源と、回転軸と平行な複数の反射面を
   有し、かつ入射された光束を前記反射面により所定方向
   に略等角速度で偏向させる回転多面鏡と、前記光源の射
   出方向に配置されたコリメータレンズ、前記コリメータ
   レンズの射出側に配置され、かつ前記コリメータレンズ
   が射出する光束の副走査方向と対応する方向にレンズパ
   ワーを有する副走査方向調節レンズ、及び前記副走査方
   向調節レンズの射出側に配置され、かつ前記副走査方向
   調節レンズが射出する光束の主走査方向と対応する方向
   にレンズパワーを有する主走査方向調節レンズを備え、
   かつ前記回転多面鏡の複数の前記反射面にまたがるよう
   に前記光源からの光束を主走査方向と対応する方向に長
   い線像となるように結像させる光学系と、偏向された偏
   向光束を光スポットが略等速度で走査されるように被走
   査面上に収束させるｆθレンズと、を備えた光学走査装
   置であって、前記光源は前記コリメータレンズの焦点位置よりも内側
   に配置されると共に、 前記回転多面鏡の複数の反射面の各々に対して略垂直な
   平面に各々投影した前記光学系の光軸と前記ｆθレンズ
   の中心光軸とが成す角度βが０°で、かつ前記回転多面
   鏡により偏向された偏向光束の走査開始位置又は走査終
   了位置におけるＦナンバーと前記偏向光束の走査中央位
   置におけるＦナンバーとの比が０．８以上となるように
   前記光学系、前記回転多面鏡及び前記ｆθレンズが構成
   され、かつ前記回転多面鏡に入射する光及び前記回転多
   面鏡で偏向された光が前記ｆθ レンズを透過するように
   前記光学系、前記回転多面鏡及び前記ｆθレンズが構成
   されていることを特徴とする光学走査装置。