JP2000081584A - 走査光学装置 - Google Patents
走査光学装置Info
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- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/10—Scanning systems
- G02B26/12—Scanning systems using multifaceted mirrors
- G02B26/125—Details of the optical system between the polygonal mirror and the image plane
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Abstract
(57)【要約】
【課題】光学特性を良好に補正することができ、また環
境変動（温度変化）によるピント変化に強く、かつ簡易
な構成で、高精細な印字が得られる小型の走査光学装置
を得ること。 【解決手段】光源手段１から射出された光束を偏向手段
５に導光し、該偏向手段により偏向された光束を走査光
学手段６により被走査面７上にスポット状に結像させ、
該被走査面上を光走査する走査光学装置において、該走
査光学手段を構成する光学素子の各光学面のうち、少な
くとも１面にピッチの変化によるパワーを有する回折格
子８を形成し、該回折格子を形成した光学素子面内にお
いて、該回折格子のパワーは主走査方向、もしくは副走
査方向の少なくとも一方向において、対称軸を持たず非
対称に変化すること。
境変動（温度変化）によるピント変化に強く、かつ簡易
な構成で、高精細な印字が得られる小型の走査光学装置
を得ること。 【解決手段】光源手段１から射出された光束を偏向手段
５に導光し、該偏向手段により偏向された光束を走査光
学手段６により被走査面７上にスポット状に結像させ、
該被走査面上を光走査する走査光学装置において、該走
査光学手段を構成する光学素子の各光学面のうち、少な
くとも１面にピッチの変化によるパワーを有する回折格
子８を形成し、該回折格子を形成した光学素子面内にお
いて、該回折格子のパワーは主走査方向、もしくは副走
査方向の少なくとも一方向において、対称軸を持たず非
対称に変化すること。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は走査光学装置に関
し、特に光源手段から射出される光束（光ビーム）を回
転多面鏡等の光偏向器を介して記録媒体面である被走査
面上に導光し、該被走査面上を該光束で走査することに
より、文字や情報等を記録するようにした、例えばレー
ザービームプリンタやデジタル複写機等の装置に好適な
走査光学装置に関するものである。
し、特に光源手段から射出される光束（光ビーム）を回
転多面鏡等の光偏向器を介して記録媒体面である被走査
面上に導光し、該被走査面上を該光束で走査することに
より、文字や情報等を記録するようにした、例えばレー
ザービームプリンタやデジタル複写機等の装置に好適な
走査光学装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来よりレーザービームプリンタやデジ
タル複写機等に用いられている走査光学装置は、光源手
段から射出された光束を偏向手段で偏向し、該偏向され
た光ビーム（光束）を走査光学手段により被走査面であ
る感光ドラム面上にスポット状に結像させ、該被走査面
上を走査している。
タル複写機等に用いられている走査光学装置は、光源手
段から射出された光束を偏向手段で偏向し、該偏向され
た光ビーム（光束）を走査光学手段により被走査面であ
る感光ドラム面上にスポット状に結像させ、該被走査面
上を走査している。
【０００３】図２８は従来の走査光学装置の要部概略図
である。同図において半導体レーザー等より成る光源手
段１１から射出した光束はコリメーターレンズ１２によ
って略平行光束に変換され、該変換された略平行光束は
開口絞り１３によって最適なビーム形状に整形され、シ
リンドリカルレンズ１４に入射する。該シリンドリカル
レンズ１４は副走査方向にパワーを有し、回転多面鏡等
より成る光偏向器１５の偏向面１５ａ近傍に主走査方向
に長手の線状光束として結像する。ここで主走査方向と
は偏向走査方向に平行な方向、副走査方向とは偏向走査
方向に垂直な方向であり、以後同様とする。そして線状
光束は光偏向器１５により等角速度で反射偏向され、ｆ
θ特性を有する走査光学手段としてのｆθレンズ系１６
により、被走査面である感光ドラム面（記録媒体面）１
８上にスポット状に結像され、該感光ドラム面１８上を
等速度で光走査している。
である。同図において半導体レーザー等より成る光源手
段１１から射出した光束はコリメーターレンズ１２によ
って略平行光束に変換され、該変換された略平行光束は
開口絞り１３によって最適なビーム形状に整形され、シ
リンドリカルレンズ１４に入射する。該シリンドリカル
レンズ１４は副走査方向にパワーを有し、回転多面鏡等
より成る光偏向器１５の偏向面１５ａ近傍に主走査方向
に長手の線状光束として結像する。ここで主走査方向と
は偏向走査方向に平行な方向、副走査方向とは偏向走査
方向に垂直な方向であり、以後同様とする。そして線状
光束は光偏向器１５により等角速度で反射偏向され、ｆ
θ特性を有する走査光学手段としてのｆθレンズ系１６
により、被走査面である感光ドラム面（記録媒体面）１
８上にスポット状に結像され、該感光ドラム面１８上を
等速度で光走査している。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】この種の走査光学装置
における偏向手段には通常多数の偏向面（反射面）を有
する回転多面鏡を用い、走査光学系全系において、偏向
前後における光軸はある角度を成すように配置されてい
る。即ち走査面内において、光源手段から射出された光
束を偏向手段に対し斜め方向から入射させている。その
ため軸上走査時を基準にした場合、１走査内において偏
向面の出入りが非対称に生じる。偏向面近傍に一旦光束
を結像し、該偏向面と被走査面との間を共役結像関係に
している副走査断面内においては、この非対称性による
影響が顕著であり、像面湾曲補正を困難とする。
における偏向手段には通常多数の偏向面（反射面）を有
する回転多面鏡を用い、走査光学系全系において、偏向
前後における光軸はある角度を成すように配置されてい
る。即ち走査面内において、光源手段から射出された光
束を偏向手段に対し斜め方向から入射させている。その
ため軸上走査時を基準にした場合、１走査内において偏
向面の出入りが非対称に生じる。偏向面近傍に一旦光束
を結像し、該偏向面と被走査面との間を共役結像関係に
している副走査断面内においては、この非対称性による
影響が顕著であり、像面湾曲補正を困難とする。
【０００５】また、さらなる高精細（微小スポット）な
走査光学装置を実現するためには、主走査方向における
像面湾曲やｆθ特性に対する非対称性の影響も考慮する
必要がある。これら問題点の１つの解決策として、例え
ば特開平8-122635号公報や特開平8-248308号公報等で提
案されている走査光学装置では副走査方向の曲率半径を
光軸に対し非対称に変化させている。これにより副走査
方向の像面湾曲を走査幅全域に渡り、良好に補正可能と
している。このような形状のレンズを作製するには技術
的・コスト的な観点からプラスチックモールドを行うの
が一般的である。
走査光学装置を実現するためには、主走査方向における
像面湾曲やｆθ特性に対する非対称性の影響も考慮する
必要がある。これら問題点の１つの解決策として、例え
ば特開平8-122635号公報や特開平8-248308号公報等で提
案されている走査光学装置では副走査方向の曲率半径を
光軸に対し非対称に変化させている。これにより副走査
方向の像面湾曲を走査幅全域に渡り、良好に補正可能と
している。このような形状のレンズを作製するには技術
的・コスト的な観点からプラスチックモールドを行うの
が一般的である。
【０００６】しかしながらプラスチックは周知の如く環
境変動に弱いという性質があり、特に環境温度が変化す
ると、それに従い屈折率も変化する。その結果ピント位
置が変動し、被走査面上におけるスポット形状の肥大化
等により、良好なる印字画像を得ることが難しくなって
くるという問題点がある。
境変動に弱いという性質があり、特に環境温度が変化す
ると、それに従い屈折率も変化する。その結果ピント位
置が変動し、被走査面上におけるスポット形状の肥大化
等により、良好なる印字画像を得ることが難しくなって
くるという問題点がある。
【０００７】本発明の第１の目的は走査光学手段を構成
する光学素子の各光学面のうち、少なくとも１面に回折
格子を形成し、該回折格子のパワーを主走査方向、もし
くは副走査方向の少なくとも一方向において、対称軸を
持たず非対称に変化させることにより、光学特性（像面
湾曲等）を良好に補正することができ、また環境変動
（温度変化）によるピント変化に強く、かつ簡易な構成
で、高精細な印字が得られる小型の走査光学装置の提供
にある。
する光学素子の各光学面のうち、少なくとも１面に回折
格子を形成し、該回折格子のパワーを主走査方向、もし
くは副走査方向の少なくとも一方向において、対称軸を
持たず非対称に変化させることにより、光学特性（像面
湾曲等）を良好に補正することができ、また環境変動
（温度変化）によるピント変化に強く、かつ簡易な構成
で、高精細な印字が得られる小型の走査光学装置の提供
にある。
【０００８】本発明の第２の目的は走査光学手段を構成
する光学素子の各光学面のうち、少なくとも１面に回折
格子を形成し、該回折格子のピッチを主走査方向、もし
くは副走査方向の少なくとも一方向において、対称軸を
持たず変化させ、かつ該走査光学手段を構成する光学素
子の各光学面のうち、少なくとも１面の形状を主走査方
向、もしくは副走査方向の少なくとも一方向において、
軸上から軸外に向けて非対称に形成することにより、光
学特性（像面湾曲等）を良好に補正することができ、ま
た環境変動（温度変化）によるピント変化に強く、かつ
簡易な構成で、高精細な印字が得られる小型の走査光学
装置の提供にある。
する光学素子の各光学面のうち、少なくとも１面に回折
格子を形成し、該回折格子のピッチを主走査方向、もし
くは副走査方向の少なくとも一方向において、対称軸を
持たず変化させ、かつ該走査光学手段を構成する光学素
子の各光学面のうち、少なくとも１面の形状を主走査方
向、もしくは副走査方向の少なくとも一方向において、
軸上から軸外に向けて非対称に形成することにより、光
学特性（像面湾曲等）を良好に補正することができ、ま
た環境変動（温度変化）によるピント変化に強く、かつ
簡易な構成で、高精細な印字が得られる小型の走査光学
装置の提供にある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明の走査光
学装置は、光源手段から射出された光束を偏向手段に導
光し、該偏向手段により偏向された光束を走査光学手段
により被走査面上にスポット状に結像させ、該被走査面
上を光走査する走査光学装置において、該走査光学手段
を構成する光学素子の各光学面のうち、少なくとも１面
にピッチの変化によるパワーを有する回折格子を形成
し、該回折格子を形成した光学素子面内において、該回
折格子のパワーは主走査方向、もしくは副走査方向の少
なくとも一方向において、対称軸を持たず非対称に変化
することを特徴としている。
学装置は、光源手段から射出された光束を偏向手段に導
光し、該偏向手段により偏向された光束を走査光学手段
により被走査面上にスポット状に結像させ、該被走査面
上を光走査する走査光学装置において、該走査光学手段
を構成する光学素子の各光学面のうち、少なくとも１面
にピッチの変化によるパワーを有する回折格子を形成
し、該回折格子を形成した光学素子面内において、該回
折格子のパワーは主走査方向、もしくは副走査方向の少
なくとも一方向において、対称軸を持たず非対称に変化
することを特徴としている。
【００１０】請求項２の発明は請求項１の発明におい
て、前記回折格子の主走査方向のパワーは基準軸の軸上
から軸外に向かって非対称に変化することを特徴として
いる。
て、前記回折格子の主走査方向のパワーは基準軸の軸上
から軸外に向かって非対称に変化することを特徴として
いる。
【００１１】請求項３の発明は請求項１の発明におい
て、前記回折格子の副走査方向のパワーは基準軸の軸上
から主走査方向軸外に向かうに従い非対称に変化し、該
基準軸の軸上のパワーをＰｏ、軸外のパワーをＰｙとし
たとき、 Ｐｏ＞Ｐｙ なる条件を満足することを特徴としている。
て、前記回折格子の副走査方向のパワーは基準軸の軸上
から主走査方向軸外に向かうに従い非対称に変化し、該
基準軸の軸上のパワーをＰｏ、軸外のパワーをＰｙとし
たとき、 Ｐｏ＞Ｐｙ なる条件を満足することを特徴としている。
【００１２】請求項４の発明は請求項１の発明におい
て、前記回折格子の主走査方向と副走査方向のパワーは
ともに基準軸の軸上から軸外に向かって非対称に変化
し、かつ副走査方向のパワーは基準軸の軸上のパワーを
Ｐｏ、軸外のパワーをＰｙとしたとき、 Ｐｏ＞Ｐｙ なる条件を満足することを特徴としている。
て、前記回折格子の主走査方向と副走査方向のパワーは
ともに基準軸の軸上から軸外に向かって非対称に変化
し、かつ副走査方向のパワーは基準軸の軸上のパワーを
Ｐｏ、軸外のパワーをＰｙとしたとき、 Ｐｏ＞Ｐｙ なる条件を満足することを特徴としている。
【００１３】請求項５の発明は請求項１乃至４のいずれ
か１項記載の発明において、前記走査光学手段は装置の
環境変動によるレンズ材質の屈折率変化で生じる主走査
方向、もしくは副走査方向の少なくとも一方向のピント
移動を前記光源手段の波長変動に起因する回折パワーの
変化によって補正することを特徴としている。
か１項記載の発明において、前記走査光学手段は装置の
環境変動によるレンズ材質の屈折率変化で生じる主走査
方向、もしくは副走査方向の少なくとも一方向のピント
移動を前記光源手段の波長変動に起因する回折パワーの
変化によって補正することを特徴としている。
【００１４】請求項６の発明は請求項１乃至５のいずれ
か１項記載の発明において、前記回折格子を形成する光
学素子はプラスチック材で成形されていることを特徴と
している。
か１項記載の発明において、前記回折格子を形成する光
学素子はプラスチック材で成形されていることを特徴と
している。
【００１５】請求項７の発明は請求項２、３又は４記載
の発明において、前記基準軸とは光軸であることを特徴
としている。
の発明において、前記基準軸とは光軸であることを特徴
としている。
【００１６】請求項８の発明の走査光学装置は、光源手
段から射出された光束を偏向手段に導光し、該偏向手段
により偏向された光束を走査光学手段により被走査面上
にスポット状に結像させ、該被走査面上を光走査する走
査光学装置において、該走査光学手段を構成する光学素
子の各光学面のうち、少なくとも１面に回折格子を形成
し、該回折格子を形成した光学素子面内において、該回
折格子のピッチは主走査方向、もしくは副走査方向の少
なくとも一方向において、対称軸を持たずに変化し、か
つ該走査光学手段を構成する光学素子の各光学面のう
ち、少なくとも１面の形状は主走査方向、もしくは副走
査方向の少なくとも一方向において、軸上から軸外に向
けて非対称に形成されていることを特徴としている。
段から射出された光束を偏向手段に導光し、該偏向手段
により偏向された光束を走査光学手段により被走査面上
にスポット状に結像させ、該被走査面上を光走査する走
査光学装置において、該走査光学手段を構成する光学素
子の各光学面のうち、少なくとも１面に回折格子を形成
し、該回折格子を形成した光学素子面内において、該回
折格子のピッチは主走査方向、もしくは副走査方向の少
なくとも一方向において、対称軸を持たずに変化し、か
つ該走査光学手段を構成する光学素子の各光学面のう
ち、少なくとも１面の形状は主走査方向、もしくは副走
査方向の少なくとも一方向において、軸上から軸外に向
けて非対称に形成されていることを特徴としている。
【００１７】請求項９の発明は請求項８の発明におい
て、前記回折格子の主走査方向のパワーは基準軸の軸上
から軸外に向かって非対称に変化することを特徴として
いる。
て、前記回折格子の主走査方向のパワーは基準軸の軸上
から軸外に向かって非対称に変化することを特徴として
いる。
【００１８】請求項１０の発明は請求項８の発明におい
て、前記回折格子の副走査方向のパワーは基準軸の軸上
から主走査方向軸外に向かうに従い非対称に変化し、該
基準軸の軸上のパワーをＰｏ、軸外のパワーをＰｙとし
たとき、 Ｐｏ＞Ｐｙ なる条件を満足することを特徴としている。
て、前記回折格子の副走査方向のパワーは基準軸の軸上
から主走査方向軸外に向かうに従い非対称に変化し、該
基準軸の軸上のパワーをＰｏ、軸外のパワーをＰｙとし
たとき、 Ｐｏ＞Ｐｙ なる条件を満足することを特徴としている。
【００１９】請求項１１の発明は請求項８の発明におい
て、前記回折格子の主走査方向と副走査方向のパワーは
ともに基準軸の軸上から軸外に向かって非対称に変化
し、かつ副走査方向のパワーは基準軸の軸上のパワーを
Ｐｏ、軸外のパワーをＰｙとしたとき、 Ｐｏ＞Ｐｙ なる条件を満足することを特徴としている。
て、前記回折格子の主走査方向と副走査方向のパワーは
ともに基準軸の軸上から軸外に向かって非対称に変化
し、かつ副走査方向のパワーは基準軸の軸上のパワーを
Ｐｏ、軸外のパワーをＰｙとしたとき、 Ｐｏ＞Ｐｙ なる条件を満足することを特徴としている。
【００２０】請求項１２の発明は請求項８の発明におい
て、前記光学面の形状を非対称に形成した光学素子の主
走査方向のパワーは、軸上から軸外に向けて非対称に変
化することを特徴としている。
て、前記光学面の形状を非対称に形成した光学素子の主
走査方向のパワーは、軸上から軸外に向けて非対称に変
化することを特徴としている。
【００２１】請求項１３の発明は請求項８の発明におい
て、前記光学面の形状を非対称に形成した光学素子の副
走査方向のパワーは、軸上から主走査方向軸外に向けて
非対称に変化することを特徴としている。
て、前記光学面の形状を非対称に形成した光学素子の副
走査方向のパワーは、軸上から主走査方向軸外に向けて
非対称に変化することを特徴としている。
【００２２】請求項１４の発明は請求項８の発明におい
て、前記光学面の形状を非対称に形成した光学素子の主
走査方向と副走査方向のパワーは、ともに軸上から軸外
に向けて非対称に変化することを特徴としている。
て、前記光学面の形状を非対称に形成した光学素子の主
走査方向と副走査方向のパワーは、ともに軸上から軸外
に向けて非対称に変化することを特徴としている。
【００２３】請求項１５の発明は請求項８乃至１４のい
ずれか１項記載の発明において、前記走査光学手段は装
置の環境変動によるレンズ材質の屈折率変化で生じる主
走査方向、もしくは副走査方向の少なくとも一方向のピ
ント移動を前記光源手段の波長変動に起因する回折パワ
ーの変化によって補正することを特徴としている。
ずれか１項記載の発明において、前記走査光学手段は装
置の環境変動によるレンズ材質の屈折率変化で生じる主
走査方向、もしくは副走査方向の少なくとも一方向のピ
ント移動を前記光源手段の波長変動に起因する回折パワ
ーの変化によって補正することを特徴としている。
【００２４】請求項１６の発明は請求項８乃至１５のい
ずれか１項記載の発明において、前記光学面の形状を非
対称に形成した光学素子の少なくとも１面に前記回折格
子が形成されていることを特徴としている。
ずれか１項記載の発明において、前記光学面の形状を非
対称に形成した光学素子の少なくとも１面に前記回折格
子が形成されていることを特徴としている。
【００２５】請求項１７の発明は請求項８乃至１６のい
ずれか１項記載の発明において、前記回折格子を形成す
る光学素子はプラスチック材で成形されていることを特
徴としている。
ずれか１項記載の発明において、前記回折格子を形成す
る光学素子はプラスチック材で成形されていることを特
徴としている。
【００２６】請求項１８の発明は請求項９、１０又は１
１記載の発明において、前記基準軸とは光軸であること
を特徴としている。
１記載の発明において、前記基準軸とは光軸であること
を特徴としている。
【００２７】
【発明の実施の形態】［実施形態１］図１は本発明の実
施形態１の主走査方向の要部断面図（主走査断面図）で
ある。
施形態１の主走査方向の要部断面図（主走査断面図）で
ある。
【００２８】同図において１は光源手段であり、例えば
半導体レーザーより成っている。２はコリメーターレン
ズであり、光源手段１から射出した発散光束を略平行光
束に変換している。３は開口絞りであり、コリメーター
レンズ２から射出した光束（光ビーム）を所望の最適な
ビーム形状に形成している。４はシリンドリカルレンズ
であり、副走査方向に所定のパワーを有し、開口絞り３
から射出した光束を後述する偏向手段５の偏向面５ａ近
傍に副走査断面内において結像（主走査断面においては
長手の線像）させている。５は偏向手段としての光偏向
器であり、例えば回転多面鏡より成り、モーター等の駆
動手段（不図示）により図中矢印Ａ方向に一定速度で回
転している。
半導体レーザーより成っている。２はコリメーターレン
ズであり、光源手段１から射出した発散光束を略平行光
束に変換している。３は開口絞りであり、コリメーター
レンズ２から射出した光束（光ビーム）を所望の最適な
ビーム形状に形成している。４はシリンドリカルレンズ
であり、副走査方向に所定のパワーを有し、開口絞り３
から射出した光束を後述する偏向手段５の偏向面５ａ近
傍に副走査断面内において結像（主走査断面においては
長手の線像）させている。５は偏向手段としての光偏向
器であり、例えば回転多面鏡より成り、モーター等の駆
動手段（不図示）により図中矢印Ａ方向に一定速度で回
転している。
【００２９】６はｆθ特性を有する走査光学手段であ
り、屈折系よりなる第１の光学素子（ｆθレンズ系）６
ａと、回折系よりなる第２の光学素子（ｆθレンズ系）
６ｂとを有している。屈折系より成る第１の光学素子６
ａは主走査方向、副走査方向ともに異なる正（凸）のパ
ワーを有するアナモフィックレンズより成り、第１面
（光線入射面）６ａ１は球面、第２面（光線射出面）６
ａ２はトーリック面で構成されている。さらに第２面６
ａ２に関し主走査方向は非球面形状であり、副走査方向
は曲率半径が光軸からの距離によらず一定となるように
形成している。回折系より成る第２の光学素子６ｂは主
走査方向、副走査方向ともに平面である透明平板で形成
され、回折系によるパワーが主走査方向、副走査方向と
もに異なる正（凸）になるように第２面（光線射出面）
６ｂ２にピッチの変化によるパワーを有する回折格子８
が形成されている。この回折によるパワーは基準軸の軸
上から軸外に向かい主走査方向、副走査方向ともに対称
軸を持たず非対称に変化している。第１、第２の光学素
子６ａ，６ｂは共にプラスチック材料で成形されてい
る。さらに走査光学手段６は副走査断面内において偏向
面５ａと被走査面７との間を共役関係にすることによ
り、倒れ補正機能を有している。７は被走査面としての
感光ドラム面である。
り、屈折系よりなる第１の光学素子（ｆθレンズ系）６
ａと、回折系よりなる第２の光学素子（ｆθレンズ系）
６ｂとを有している。屈折系より成る第１の光学素子６
ａは主走査方向、副走査方向ともに異なる正（凸）のパ
ワーを有するアナモフィックレンズより成り、第１面
（光線入射面）６ａ１は球面、第２面（光線射出面）６
ａ２はトーリック面で構成されている。さらに第２面６
ａ２に関し主走査方向は非球面形状であり、副走査方向
は曲率半径が光軸からの距離によらず一定となるように
形成している。回折系より成る第２の光学素子６ｂは主
走査方向、副走査方向ともに平面である透明平板で形成
され、回折系によるパワーが主走査方向、副走査方向と
もに異なる正（凸）になるように第２面（光線射出面）
６ｂ２にピッチの変化によるパワーを有する回折格子８
が形成されている。この回折によるパワーは基準軸の軸
上から軸外に向かい主走査方向、副走査方向ともに対称
軸を持たず非対称に変化している。第１、第２の光学素
子６ａ，６ｂは共にプラスチック材料で成形されてい
る。さらに走査光学手段６は副走査断面内において偏向
面５ａと被走査面７との間を共役関係にすることによ
り、倒れ補正機能を有している。７は被走査面としての
感光ドラム面である。
【００３０】尚、本明細書において基準軸とは光軸のこ
とである。
とである。
【００３１】また具体的には、後述する回折系の位相関
数を表わす式におけるＹ軸に一致する軸である。
数を表わす式におけるＹ軸に一致する軸である。
【００３２】本実施形態において半導体レーザー１より
射出した発散光束はコリメーターレンズ２により略平行
光束に変換され、開口絞り３によって所望のビーム形状
に整形してシリンドリカルレンズ４に入射する。シリン
ドリカルレンズ４に入射した光束のうち主走査断面内に
おいてはそのままの状態で射出する。また副走査断面内
においては収束して光偏向器５の偏向面５ａ近傍にほぼ
線像（主走査方向に長手の線像）として結像する。そし
て光偏向器５の偏向面５ａで反射偏向された光束は走査
光学手段６により被走査面７（感光ドラム面）上にスポ
ット形状に結像され、該光偏向器５を矢印Ａ方向に回転
させることによって、該感光ドラム面７上を矢印Ｂ方向
（主走査方向）に等速度で光走査している。これにより
記録媒体である感光ドラム面７上に画像記録を行なって
いる。
射出した発散光束はコリメーターレンズ２により略平行
光束に変換され、開口絞り３によって所望のビーム形状
に整形してシリンドリカルレンズ４に入射する。シリン
ドリカルレンズ４に入射した光束のうち主走査断面内に
おいてはそのままの状態で射出する。また副走査断面内
においては収束して光偏向器５の偏向面５ａ近傍にほぼ
線像（主走査方向に長手の線像）として結像する。そし
て光偏向器５の偏向面５ａで反射偏向された光束は走査
光学手段６により被走査面７（感光ドラム面）上にスポ
ット形状に結像され、該光偏向器５を矢印Ａ方向に回転
させることによって、該感光ドラム面７上を矢印Ｂ方向
（主走査方向）に等速度で光走査している。これにより
記録媒体である感光ドラム面７上に画像記録を行なって
いる。
【００３３】本実施形態における走査光学手段６を構成
する第１の光学素子６ａの屈折系及び第２の光学素子６
ｂの回折系の形状は各光学素子面と光軸もしくは基準軸
との交点を原点とし、光軸もしくは基準軸方向をＸ軸、
主走査断面内において光軸もしくは基準軸に垂直な方向
をＹ軸、副走査断面内において光軸もしくは基準軸に垂
直な方向をＺ軸とすると、各々次のように表わせる。
する第１の光学素子６ａの屈折系及び第２の光学素子６
ｂの回折系の形状は各光学素子面と光軸もしくは基準軸
との交点を原点とし、光軸もしくは基準軸方向をＸ軸、
主走査断面内において光軸もしくは基準軸に垂直な方向
をＹ軸、副走査断面内において光軸もしくは基準軸に垂
直な方向をＺ軸とすると、各々次のように表わせる。
【００３４】屈折系 主走査方向…下式の１０次まで
の関数で表される非球面形状
の関数で表される非球面形状
【００３５】
【数１】
【００３６】＋Ｂ8 Ｙ8 ＋Ｂ10Ｙ10 （但し、Ｒは曲率半径、Ｋ，Ｂ4 ，Ｂ6 ，Ｂ8 ，Ｂ10は
非球面係数） （係数に添え字ｕが付く場合、レーザー側 係数に添え字ｌが付く場合、反レーザー側） 副走査方向…曲率半径がＹの関数で与えられる球面形状 ｒ’＝ｒ（１＋Ｄ2 Ｙ2 ＋Ｄ4 Ｙ4 ＋Ｄ6 Ｙ6 ＋Ｄ8 Ｙ
8 ＋Ｄ10Ｙ10） （但し、ｒは曲率半径、Ｄ2 ，Ｄ4 ，Ｄ6 ，Ｄ8 ，Ｄ10
は非球面係数） （係数に添え字ｕが付く場合、レーザー側 係数に添え字ｌが付く場合、反レーザー側） 回折系 Ｙ、Ｚの１０次までの巾多項式の位相関数で
表される回折面 Ｗ＝Ｃ1 Ｙ＋Ｃ2 Ｙ2 ＋Ｃ3 Ｙ3 ＋Ｃ4 Ｙ4 ＋Ｃ5 Ｙ5
＋Ｃ6 Ｙ6 ＋Ｃ7 Ｙ7 ＋Ｃ8 Ｙ8 ＋Ｃ9 Ｙ9 ＋Ｃ10Ｙ10
＋Ｅ1 Ｚ2 ＋Ｅ2 ＹＺ2 ＋Ｅ3 Ｙ2 Ｚ2 ＋Ｅ4 Ｙ3 Ｚ2
＋Ｅ5 Ｙ4 Ｚ2＋Ｅ6 Ｙ5 Ｚ2 ＋Ｅ7 Ｙ6 Ｚ2 ＋Ｅ8 Ｙ7
Ｚ2 ＋Ｅ9 Ｙ8 Ｚ2（Ｃ1 〜Ｃ10、Ｅ1 〜Ｅ9 は位相係
数） 表−１に本実施形態における光学配置を示し、表−２に
屈折系の非球面係数及び回折系の位相係数を示す。
非球面係数） （係数に添え字ｕが付く場合、レーザー側 係数に添え字ｌが付く場合、反レーザー側） 副走査方向…曲率半径がＹの関数で与えられる球面形状 ｒ’＝ｒ（１＋Ｄ2 Ｙ2 ＋Ｄ4 Ｙ4 ＋Ｄ6 Ｙ6 ＋Ｄ8 Ｙ
8 ＋Ｄ10Ｙ10） （但し、ｒは曲率半径、Ｄ2 ，Ｄ4 ，Ｄ6 ，Ｄ8 ，Ｄ10
は非球面係数） （係数に添え字ｕが付く場合、レーザー側 係数に添え字ｌが付く場合、反レーザー側） 回折系 Ｙ、Ｚの１０次までの巾多項式の位相関数で
表される回折面 Ｗ＝Ｃ1 Ｙ＋Ｃ2 Ｙ2 ＋Ｃ3 Ｙ3 ＋Ｃ4 Ｙ4 ＋Ｃ5 Ｙ5
＋Ｃ6 Ｙ6 ＋Ｃ7 Ｙ7 ＋Ｃ8 Ｙ8 ＋Ｃ9 Ｙ9 ＋Ｃ10Ｙ10
＋Ｅ1 Ｚ2 ＋Ｅ2 ＹＺ2 ＋Ｅ3 Ｙ2 Ｚ2 ＋Ｅ4 Ｙ3 Ｚ2
＋Ｅ5 Ｙ4 Ｚ2＋Ｅ6 Ｙ5 Ｚ2 ＋Ｅ7 Ｙ6 Ｚ2 ＋Ｅ8 Ｙ7
Ｚ2 ＋Ｅ9 Ｙ8 Ｚ2（Ｃ1 〜Ｃ10、Ｅ1 〜Ｅ9 は位相係
数） 表−１に本実施形態における光学配置を示し、表−２に
屈折系の非球面係数及び回折系の位相係数を示す。
【００３７】ここでθ１は偏向手段前後の光学系の、各
々の光軸の成す角、θｍａｘは最軸外を走査したときの
光束と走査光学手段の光軸との成す角、ｆは像高をＹ、
走査角をθとしたときにＹ＝ｆθで与えられる定数であ
る。
々の光軸の成す角、θｍａｘは最軸外を走査したときの
光束と走査光学手段の光軸との成す角、ｆは像高をＹ、
走査角をθとしたときにＹ＝ｆθで与えられる定数であ
る。
【００３８】
【表１】
【００３９】
【表２】
【００４０】本実施形態における第２の光学素子６ｂの
主走査方向の回折パワーの変化の様子を図２に示し、副
走査方向の回折パワーの変化の様子を図３に示す。回折
格子のピッチを位置によって変化させることにより、そ
の場所を通過する光束を集束もしくは発散させることが
できる。光線通過点ｙにおける格子ピッチをＰ（ｙ）と
すると、その光線通過点における格子空間周波数Ｈ
（ｙ）は、 Ｈ（ｙ）＝１／Ｐ（ｙ） と表わされ、回折格子によるパワーφは、 φ＝ｍλ・ｄＨ／ｄｙ で与えられる。ここでｍは次数、λは波長である。
主走査方向の回折パワーの変化の様子を図２に示し、副
走査方向の回折パワーの変化の様子を図３に示す。回折
格子のピッチを位置によって変化させることにより、そ
の場所を通過する光束を集束もしくは発散させることが
できる。光線通過点ｙにおける格子ピッチをＰ（ｙ）と
すると、その光線通過点における格子空間周波数Ｈ
（ｙ）は、 Ｈ（ｙ）＝１／Ｐ（ｙ） と表わされ、回折格子によるパワーφは、 φ＝ｍλ・ｄＨ／ｄｙ で与えられる。ここでｍは次数、λは波長である。
【００４１】本実施形態においては回折によるパワーは
基準軸の軸上から軸外に向かい主走査方向、副走査方向
ともに非対称に変化している。さらに副走査方向に関し
ては基準軸の軸上のパワーをＰｏ、軸外のパワーをＰｙ
としたとき、 Ｐｏ＞Ｐｙ ‥‥‥（１） なる条件を満足させている。条件式（１）を外れると像
面湾曲の補正を困難にしたり、副走査倍率の均一性が保
てず良くない。なお本実施形態においては第１の光学素
子６ａの光軸と第２の光学素子６ｂの基準軸は一致して
おり、全系の光軸に対し０．９ｍｍ反レーザー側にシフ
トしている。
基準軸の軸上から軸外に向かい主走査方向、副走査方向
ともに非対称に変化している。さらに副走査方向に関し
ては基準軸の軸上のパワーをＰｏ、軸外のパワーをＰｙ
としたとき、 Ｐｏ＞Ｐｙ ‥‥‥（１） なる条件を満足させている。条件式（１）を外れると像
面湾曲の補正を困難にしたり、副走査倍率の均一性が保
てず良くない。なお本実施形態においては第１の光学素
子６ａの光軸と第２の光学素子６ｂの基準軸は一致して
おり、全系の光軸に対し０．９ｍｍ反レーザー側にシフ
トしている。
【００４２】さらに本実施形態において走査光学手段６
は装置の環境変動（温度変化）によるレンズ材質の屈折
率変化で生じる主走査方向と副走査方向とのピント移動
を半導体レーザー１の波長変動に起因する第２の光学素
子６ｂの回折パワーの変化によって補正している。
は装置の環境変動（温度変化）によるレンズ材質の屈折
率変化で生じる主走査方向と副走査方向とのピント移動
を半導体レーザー１の波長変動に起因する第２の光学素
子６ｂの回折パワーの変化によって補正している。
【００４３】図４は本実施形態における昇温前後の主走
査方向の像面湾曲を示した図、図５は本実施形態におけ
る昇温前後の副走査方向の像面湾曲を示した図、図６は
本実施形態における歪曲収差（ｆθ特性）及び像高ずれ
等を示した図である。図４、図５に示した像面湾曲にお
いて点線は常温２５℃での像面湾曲、実線は２５℃昇温
した５０℃ときの像面湾曲を示している。ここで２５℃
昇温したときの第１の光学素子６ａ及び第２の光学素子
６ｂの屈折率ｎ＊、及び光源手段１の波長λ＊は各々、 ｎ＊＝１．５２１２ λ＊＝７８６．４ｎｍ である。同図より主走査方向、副走査方向ともにピント
移動が良好に補正されていることが解る。
査方向の像面湾曲を示した図、図５は本実施形態におけ
る昇温前後の副走査方向の像面湾曲を示した図、図６は
本実施形態における歪曲収差（ｆθ特性）及び像高ずれ
等を示した図である。図４、図５に示した像面湾曲にお
いて点線は常温２５℃での像面湾曲、実線は２５℃昇温
した５０℃ときの像面湾曲を示している。ここで２５℃
昇温したときの第１の光学素子６ａ及び第２の光学素子
６ｂの屈折率ｎ＊、及び光源手段１の波長λ＊は各々、 ｎ＊＝１．５２１２ λ＊＝７８６．４ｎｍ である。同図より主走査方向、副走査方向ともにピント
移動が良好に補正されていることが解る。
【００４４】このように本実施形態では上述の如く走査
光学手段６を構成する光学素子の各光学面のうち、第２
の光学素子６ｂの第２面６ｂ２にピッチの変化によるパ
ワーを有する回折格子８を形成し、該回折格子８を形成
した第２の光学素子６ｂ面内において、該回折格子８の
パワーを主走査方向、副走査方向ともに、対称軸を持た
ず非対称に変化させることにより、光学特性を良好に補
正することができ、また環境変動（温度変化）によるピ
ント変化に強く、かつ簡易な構成で、高精細な印字が得
られる小型の走査光学装置を得ている。
光学手段６を構成する光学素子の各光学面のうち、第２
の光学素子６ｂの第２面６ｂ２にピッチの変化によるパ
ワーを有する回折格子８を形成し、該回折格子８を形成
した第２の光学素子６ｂ面内において、該回折格子８の
パワーを主走査方向、副走査方向ともに、対称軸を持た
ず非対称に変化させることにより、光学特性を良好に補
正することができ、また環境変動（温度変化）によるピ
ント変化に強く、かつ簡易な構成で、高精細な印字が得
られる小型の走査光学装置を得ている。
【００４５】［実施形態２］図７は本発明の実施形態２
の主走査方向の要部断面図（主走査断面図）である。同
図において図１に示した要素と同一要素には同符番を付
している。
の主走査方向の要部断面図（主走査断面図）である。同
図において図１に示した要素と同一要素には同符番を付
している。
【００４６】本実施形態において前述の実施形態１と異
なる点は走査光学手段を屈折系よりなる第１の光学素子
と、屈折系と回折系の両方を有する第２の光学素子とよ
り構成し、それに伴ない第１、第２の光学素子の形状を
適切に形成したことである。その他の構成及び光学的作
用は実施形態１と略同様であり、これにより同様な効果
を得ている。
なる点は走査光学手段を屈折系よりなる第１の光学素子
と、屈折系と回折系の両方を有する第２の光学素子とよ
り構成し、それに伴ない第１、第２の光学素子の形状を
適切に形成したことである。その他の構成及び光学的作
用は実施形態１と略同様であり、これにより同様な効果
を得ている。
【００４７】即ち、同図において２６はｆθ特性を有す
る走査光学手段であり、屈折系よりなる第１の光学素子
（ｆθレンズ系）２６ａと、屈折系と回折系の両方を有
する第２の光学素子（ｆθレンズ系）２６ｂとを有して
いる。屈折系よりなる第１の光学素子２６ａは正（凸）
のパワーを有する回転対称レンズより成り、第１面（光
線入射面）２６ａ１は球面、第２面（光線射出面）２６
ａ２は非球面で構成されている。ここで第１の光学素子
２６ａの屈折系の形状は、該光学素子面と光軸との交点
を原点とし、光軸方向をＸ軸、主走査断面内において光
軸に垂直な方向をＹ軸、副走査断面内において光軸に垂
直な方向をＺ軸とすると、次のように表わせる。
る走査光学手段であり、屈折系よりなる第１の光学素子
（ｆθレンズ系）２６ａと、屈折系と回折系の両方を有
する第２の光学素子（ｆθレンズ系）２６ｂとを有して
いる。屈折系よりなる第１の光学素子２６ａは正（凸）
のパワーを有する回転対称レンズより成り、第１面（光
線入射面）２６ａ１は球面、第２面（光線射出面）２６
ａ２は非球面で構成されている。ここで第１の光学素子
２６ａの屈折系の形状は、該光学素子面と光軸との交点
を原点とし、光軸方向をＸ軸、主走査断面内において光
軸に垂直な方向をＹ軸、副走査断面内において光軸に垂
直な方向をＺ軸とすると、次のように表わせる。
【００４８】
【数２】
【００４９】＋Ｂｈ4 ＋Ｃｈ6 ＋Ｄｈ8 ＋Ｅｈ10 （ここで、ｈ＝（Ｙ2 ＋Ｚ2 ）1/2 ） （但し、Ｒは曲率半径、Ｋ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅは非球面係
数） 屈折系と回折系の両方を有する第２の光学素子２６ｂは
第１面（光線入射面）２６ｂ１が副走査方向にシリンド
リカル面を有し、第２面（光線射出面）２６ｂ２が平面
のシリンドリカルレンズであり、副走査方向に正（凸）
のパワーを有する。シリンドリカル面の曲率半径は第２
の光学素子２６ｂの光軸に対し、軸上から主走査方向軸
外に向かって非対称に変化している。また回折系による
パワーは主走査方向、副走査方向ともに異なる正（凸）
になるように第２面２６ｂ２に回折格子２８が形成され
ている。この回折によるパワーは基準軸の軸上から軸外
に向かい主走査方向、副走査方向ともに対称軸を持たず
非対称に変化している。この第２の光学素子２６ｂは副
走査方向において屈折系による正のパワーと回折系によ
る正のパワーの両方を有している。これらの第１、第２
の光学素子２６ａ，２６ｂは共にプラスチック材料で成
形されている。さらに走査光学手段２６は副走査断面内
において偏向面５ａと被走査面７との間を共役関係にす
ることにより、倒れ補正機能を有している。
数） 屈折系と回折系の両方を有する第２の光学素子２６ｂは
第１面（光線入射面）２６ｂ１が副走査方向にシリンド
リカル面を有し、第２面（光線射出面）２６ｂ２が平面
のシリンドリカルレンズであり、副走査方向に正（凸）
のパワーを有する。シリンドリカル面の曲率半径は第２
の光学素子２６ｂの光軸に対し、軸上から主走査方向軸
外に向かって非対称に変化している。また回折系による
パワーは主走査方向、副走査方向ともに異なる正（凸）
になるように第２面２６ｂ２に回折格子２８が形成され
ている。この回折によるパワーは基準軸の軸上から軸外
に向かい主走査方向、副走査方向ともに対称軸を持たず
非対称に変化している。この第２の光学素子２６ｂは副
走査方向において屈折系による正のパワーと回折系によ
る正のパワーの両方を有している。これらの第１、第２
の光学素子２６ａ，２６ｂは共にプラスチック材料で成
形されている。さらに走査光学手段２６は副走査断面内
において偏向面５ａと被走査面７との間を共役関係にす
ることにより、倒れ補正機能を有している。
【００５０】表−３に本実施形態における光学配置を示
し、表−４に屈折系の非球面係数及び回折系の位相係数
を示す。
し、表−４に屈折系の非球面係数及び回折系の位相係数
を示す。
【００５１】
【表３】
【００５２】
【表４】
【００５３】本実施形態における第２の光学素子２６ｂ
の主走査方向の回折パワーの変化の様子を図８に示し、
副走査方向の回折パワーの変化の様子を図９に示す。本
実施形態においては回折によるパワーは基準軸の軸上か
ら軸外に向かい主走査方向、副走査方向ともに非対称に
変化している。さらに副走査方向に関しては基準軸の軸
上のパワーをＰｏ、軸外のパワーをＰｙとしたとき、 Ｐｏ＞Ｐｙ ‥‥‥（１） なる条件を満足させている。条件式（１）を外れると前
述の実施形態１と同様に像面湾曲の補正を困難にした
り、副走査倍率の均一性が保てず良くない。なお本実施
形態においては第１の光学素子２６ａの光軸と第２の光
学素子２６ｂの基準軸は一致しており、全系の光軸に対
し０．４５ｍｍ反レーザー側にシフトしている。
の主走査方向の回折パワーの変化の様子を図８に示し、
副走査方向の回折パワーの変化の様子を図９に示す。本
実施形態においては回折によるパワーは基準軸の軸上か
ら軸外に向かい主走査方向、副走査方向ともに非対称に
変化している。さらに副走査方向に関しては基準軸の軸
上のパワーをＰｏ、軸外のパワーをＰｙとしたとき、 Ｐｏ＞Ｐｙ ‥‥‥（１） なる条件を満足させている。条件式（１）を外れると前
述の実施形態１と同様に像面湾曲の補正を困難にした
り、副走査倍率の均一性が保てず良くない。なお本実施
形態においては第１の光学素子２６ａの光軸と第２の光
学素子２６ｂの基準軸は一致しており、全系の光軸に対
し０．４５ｍｍ反レーザー側にシフトしている。
【００５４】また第２の光学素子２６ｂの第１面２６ｂ
１であるシリンドリカル面の曲率半径は上述の如く該第
２の光学素子２６ｂの光軸に対し、軸上から主走査方向
軸外に向かって非対称に変化している。その様子を図１
０に示す。これらのことにより光学特性を良好に補正す
ることができる。
１であるシリンドリカル面の曲率半径は上述の如く該第
２の光学素子２６ｂの光軸に対し、軸上から主走査方向
軸外に向かって非対称に変化している。その様子を図１
０に示す。これらのことにより光学特性を良好に補正す
ることができる。
【００５５】さらに本実施形態において走査光学手段２
６は装置の環境変動（温度変化）によるレンズ材質の屈
折率変化で生じる主走査方向と副走査方向のピント移動
を、半導体レーザー１の波長変動に起因する第２の光学
素子２６ｂの回折パワーの変化によって補正している。
６は装置の環境変動（温度変化）によるレンズ材質の屈
折率変化で生じる主走査方向と副走査方向のピント移動
を、半導体レーザー１の波長変動に起因する第２の光学
素子２６ｂの回折パワーの変化によって補正している。
【００５６】図１１は本実施形態における昇温前後の主
走査方向の像面湾曲を示した図、図１２は本実施形態に
おける昇温前後の副走査方向の像面湾曲を示した図、図
１３は本実施形態における歪曲収差（ｆθ特性）及び像
高ずれ等を示した図である。図１１、図１２に示した像
面湾曲において点線は常温２５℃での像面湾曲、実線は
２５℃昇温した５０℃ときの像面湾曲を示している。こ
こで２５℃昇温したときの第１の光学素子２６ａ及び第
２の光学素子２６ｂの屈折率ｎ＊、及び光源手段１の波
長λ＊は各々、 ｎ＊＝１．５２１２ λ＊＝７８６．４ｎｍ である。同図より主走査方向、副走査方向ともにピント
移動が良好に補正されていることが解る。
走査方向の像面湾曲を示した図、図１２は本実施形態に
おける昇温前後の副走査方向の像面湾曲を示した図、図
１３は本実施形態における歪曲収差（ｆθ特性）及び像
高ずれ等を示した図である。図１１、図１２に示した像
面湾曲において点線は常温２５℃での像面湾曲、実線は
２５℃昇温した５０℃ときの像面湾曲を示している。こ
こで２５℃昇温したときの第１の光学素子２６ａ及び第
２の光学素子２６ｂの屈折率ｎ＊、及び光源手段１の波
長λ＊は各々、 ｎ＊＝１．５２１２ λ＊＝７８６．４ｎｍ である。同図より主走査方向、副走査方向ともにピント
移動が良好に補正されていることが解る。
【００５７】このように本実施形態では上述の如く走査
光学手段２６を構成する光学素子の各光学面のうち、第
２の光学素子２６ｂの第２面２６ｂ２にピッチの変化に
よるパワーを有する回折格子２８を形成し、該回折格子
２８を形成した第２の光学素子２６ｂ面内において、該
回折格子２８のパワーを主走査方向、副走査方向ともに
対称軸を持たず非対称に変化させ、また第２の光学素子
２６ｂの第１面２６ｂ１であるシリンドリカル面の曲率
半径を該第２の光学素子２６ｂの光軸に対し、軸上から
主走査方向軸外に向かって非対称に変化させることによ
り、光学特性を良好に補正することができ、また環境変
動（温度変化）によるピント変化に強く、かつ簡易な構
成で、高精細な印字が得られる小型の走査光学装置を得
ている。
光学手段２６を構成する光学素子の各光学面のうち、第
２の光学素子２６ｂの第２面２６ｂ２にピッチの変化に
よるパワーを有する回折格子２８を形成し、該回折格子
２８を形成した第２の光学素子２６ｂ面内において、該
回折格子２８のパワーを主走査方向、副走査方向ともに
対称軸を持たず非対称に変化させ、また第２の光学素子
２６ｂの第１面２６ｂ１であるシリンドリカル面の曲率
半径を該第２の光学素子２６ｂの光軸に対し、軸上から
主走査方向軸外に向かって非対称に変化させることによ
り、光学特性を良好に補正することができ、また環境変
動（温度変化）によるピント変化に強く、かつ簡易な構
成で、高精細な印字が得られる小型の走査光学装置を得
ている。
【００５８】［実施形態３］図１４は本発明の実施形態
３の主走査方向の要部断面図（主走査断面図）である。
同図において図１に示した要素と同一要素には同符番を
付している。
３の主走査方向の要部断面図（主走査断面図）である。
同図において図１に示した要素と同一要素には同符番を
付している。
【００５９】本実施形態において前述の実施形態１と異
なる点は走査光学手段を屈折系と回折系の両方を有する
単一の光学素子より構成し、それに伴ない該光学素子の
形状を適切に形成したことである。その他の構成及び光
学的作用は実施形態１と略同様であり、これにより同様
な効果を得ている。
なる点は走査光学手段を屈折系と回折系の両方を有する
単一の光学素子より構成し、それに伴ない該光学素子の
形状を適切に形成したことである。その他の構成及び光
学的作用は実施形態１と略同様であり、これにより同様
な効果を得ている。
【００６０】即ち、同図において３６はｆθ特性を有す
る走査光学手段であり、屈折系と回折系の両方を有する
単一の光学素子（ｆθ単レンズ）３６ａより成ってい
る。単一の光学素子３６ａの第１面（光線入射面）３６
ａ１はシリンドリカル面であり、主走査方向にパワーを
有する。また回折系によるパワーは主走査方向、副走査
方向ともに異なる正（凸）になるように第１面３６ａ１
に回折格子３８が形成されている。この回折によるパワ
ーは基準軸の軸上から軸外に向かい主走査方向、副走査
方向ともに対称軸を持たず非対称に変化している。第２
面（光線射出面）３６ａ２はトーリック面であり、主走
査方向、副走査方向の各々のパワーが単一の光学素子３
６ａの光軸に対し軸上から軸外に向かって非対称に変化
している。この単一の光学素子３６ａはプラスチック材
料で成形されている。さらに走査光学手段３６は副走査
断面内において偏向面５ａと被走査面７との間を共役関
係にすることにより、倒れ補正機能を有している。
る走査光学手段であり、屈折系と回折系の両方を有する
単一の光学素子（ｆθ単レンズ）３６ａより成ってい
る。単一の光学素子３６ａの第１面（光線入射面）３６
ａ１はシリンドリカル面であり、主走査方向にパワーを
有する。また回折系によるパワーは主走査方向、副走査
方向ともに異なる正（凸）になるように第１面３６ａ１
に回折格子３８が形成されている。この回折によるパワ
ーは基準軸の軸上から軸外に向かい主走査方向、副走査
方向ともに対称軸を持たず非対称に変化している。第２
面（光線射出面）３６ａ２はトーリック面であり、主走
査方向、副走査方向の各々のパワーが単一の光学素子３
６ａの光軸に対し軸上から軸外に向かって非対称に変化
している。この単一の光学素子３６ａはプラスチック材
料で成形されている。さらに走査光学手段３６は副走査
断面内において偏向面５ａと被走査面７との間を共役関
係にすることにより、倒れ補正機能を有している。
【００６１】表−５に本実施形態における光学配置を有
し、表−６に屈折系の非球面係数及び回折系の位相係数
を示す。
し、表−６に屈折系の非球面係数及び回折系の位相係数
を示す。
【００６２】
【表５】
【００６３】
【表６】
【００６４】本実施形態における単一の光学素子３６ａ
の主走査方向の回折パワーの変化の様子を図１５に示
し、副走査方向の回折パワーの変化の様子を図１６に示
す。本実施形態においては回折によるパワーは基準軸の
軸上から軸外に向かい主走査方向、副走査方向ともに非
対称に変化している。さらに副走査方向に関しては基準
軸の軸上のパワーをＰｏ、軸外のパワーをＰｙとしたと
き、 Ｐｏ＞Ｐｙ ‥‥‥（１） なる条件を満足させている。条件式（１）を外れると前
述の実施形態１と同様に像面湾曲の補正を困難にした
り、副走査倍率の均一性が保てず良くない。なお本実施
形態においては単一の光学素子３６ａの基準軸は全系の
光軸に対し０．７ｍｍ反レーザー側にシフトしている。
の主走査方向の回折パワーの変化の様子を図１５に示
し、副走査方向の回折パワーの変化の様子を図１６に示
す。本実施形態においては回折によるパワーは基準軸の
軸上から軸外に向かい主走査方向、副走査方向ともに非
対称に変化している。さらに副走査方向に関しては基準
軸の軸上のパワーをＰｏ、軸外のパワーをＰｙとしたと
き、 Ｐｏ＞Ｐｙ ‥‥‥（１） なる条件を満足させている。条件式（１）を外れると前
述の実施形態１と同様に像面湾曲の補正を困難にした
り、副走査倍率の均一性が保てず良くない。なお本実施
形態においては単一の光学素子３６ａの基準軸は全系の
光軸に対し０．７ｍｍ反レーザー側にシフトしている。
【００６５】また単一の光学素子３６ａの第２面３６ａ
２であるトーリック面の主走査方向の形状は該光学素子
３６ａの光軸に対し軸上から軸外に向かい非対称に変化
している。その様子を図１７に示す。またトーリック面
の副走査方向の曲率半径は単一の光学素子３６ａの光軸
に対し軸上から軸外に向かい非対称に変化している。そ
の様子を図１８に示す。これらのことにより光学特性を
良好に補正することができる。
２であるトーリック面の主走査方向の形状は該光学素子
３６ａの光軸に対し軸上から軸外に向かい非対称に変化
している。その様子を図１７に示す。またトーリック面
の副走査方向の曲率半径は単一の光学素子３６ａの光軸
に対し軸上から軸外に向かい非対称に変化している。そ
の様子を図１８に示す。これらのことにより光学特性を
良好に補正することができる。
【００６６】さらに本実施形態において走査光学手段３
６は装置の環境変動（温度変化）によるレンズ材質の屈
折率変化で生じる主走査方向と副走査方向のピント移動
を半導体レーザー１の波長変動に起因する単一の光学素
子３６ｂの回折パワーの変化によって補正している。
６は装置の環境変動（温度変化）によるレンズ材質の屈
折率変化で生じる主走査方向と副走査方向のピント移動
を半導体レーザー１の波長変動に起因する単一の光学素
子３６ｂの回折パワーの変化によって補正している。
【００６７】図１９は本実施形態における昇温前後の主
走査方向の像面湾曲を示した図、図２０は本実施形態に
おける昇温前後の副走査方向の像面湾曲を示した図、図
２１は本実施形態における歪曲収差（ｆθ特性）及び像
高ずれ等を示した図である。図１９、図２０に示した像
面湾曲において点線は常温２５℃での像面湾曲、実線は
２５℃昇温した５０℃ときの像面湾曲を示している。こ
こで２５℃昇温したときの第１の光学素子３６ａ及び第
２の光学素子３６ｂの屈折率ｎ＊、及び光源手段１の波
長λ＊は各々、 ｎ＊＝１．５２１２ λ＊＝７８６．４ｎｍ である。同図より主走査方向、副走査方向ともにピント
移動が良好に補正されていることが解る。
走査方向の像面湾曲を示した図、図２０は本実施形態に
おける昇温前後の副走査方向の像面湾曲を示した図、図
２１は本実施形態における歪曲収差（ｆθ特性）及び像
高ずれ等を示した図である。図１９、図２０に示した像
面湾曲において点線は常温２５℃での像面湾曲、実線は
２５℃昇温した５０℃ときの像面湾曲を示している。こ
こで２５℃昇温したときの第１の光学素子３６ａ及び第
２の光学素子３６ｂの屈折率ｎ＊、及び光源手段１の波
長λ＊は各々、 ｎ＊＝１．５２１２ λ＊＝７８６．４ｎｍ である。同図より主走査方向、副走査方向ともにピント
移動が良好に補正されていることが解る。
【００６８】このように本実施形態では上述の如く走査
光学手段３６を構成する単一の光学素子３６ａの各光学
面のうち、第１面３６ａ１にピッチの変化によるパワー
を有する回折格子３８を形成し、該回折格子３８を形成
した光学素子面内において、該回折格子３８のパワーを
主走査方向、副走査方向ともに対称軸を持たず非対称に
変化させ、かつ第２面３６ａ２の形状を主走査方向、副
走査方向ともに軸上から軸外に向けて非対称に形成する
ことにより、光学特性を良好に補正することができ、ま
た環境変動（温度変化）によるピント変化に強く、かつ
簡易な構成で、高精細な印字が得られる小型の走査光学
装置を得ている。
光学手段３６を構成する単一の光学素子３６ａの各光学
面のうち、第１面３６ａ１にピッチの変化によるパワー
を有する回折格子３８を形成し、該回折格子３８を形成
した光学素子面内において、該回折格子３８のパワーを
主走査方向、副走査方向ともに対称軸を持たず非対称に
変化させ、かつ第２面３６ａ２の形状を主走査方向、副
走査方向ともに軸上から軸外に向けて非対称に形成する
ことにより、光学特性を良好に補正することができ、ま
た環境変動（温度変化）によるピント変化に強く、かつ
簡易な構成で、高精細な印字が得られる小型の走査光学
装置を得ている。
【００６９】［実施形態４］図２２は本発明の実施形態
４の主走査方向の要部断面図（主走査断面図）である。
同図において図１に示した要素と同一要素には同符番を
付している。
４の主走査方向の要部断面図（主走査断面図）である。
同図において図１に示した要素と同一要素には同符番を
付している。
【００７０】本実施形態において前述の実施形態１と異
なる点は走査光学手段を屈折系よりなる第１の光学素子
と、屈折系と回折系の両方を有する第２の光学素子とよ
り構成し、それに伴ない第１、第２の光学素子の形状を
適切に形成したことである。その他の構成及び光学的作
用は実施形態１と略同様であり、これにより同様な効果
を得ている。
なる点は走査光学手段を屈折系よりなる第１の光学素子
と、屈折系と回折系の両方を有する第２の光学素子とよ
り構成し、それに伴ない第１、第２の光学素子の形状を
適切に形成したことである。その他の構成及び光学的作
用は実施形態１と略同様であり、これにより同様な効果
を得ている。
【００７１】即ち、同図において４６はｆθ特性を有す
る走査光学手段であり、屈折系よりなる第１の光学素子
（ｆθレンズ系）４６ａと、屈折系と回折系の両方を有
する第２の光学素子（ｆθレンズ系）４６ｂとを有して
いる。屈折系よりなる第１の光学素子４６ａは正（凸）
のパワーを有する球面レンズより成り、第１面（光線入
射面）４６ａ１、第２面（光線射出面）４６ａ２ともに
球面で構成されている。
る走査光学手段であり、屈折系よりなる第１の光学素子
（ｆθレンズ系）４６ａと、屈折系と回折系の両方を有
する第２の光学素子（ｆθレンズ系）４６ｂとを有して
いる。屈折系よりなる第１の光学素子４６ａは正（凸）
のパワーを有する球面レンズより成り、第１面（光線入
射面）４６ａ１、第２面（光線射出面）４６ａ２ともに
球面で構成されている。
【００７２】屈折系と回折系の両方を有する第２の光学
素子４６ｂは第１面（光線入射面）４６ｂ１、第２面
（光線射出面）４６ｂ２ともにトーリック面で構成され
ている。また回折系によるパワーは主走査方向、副走査
方向ともに異なる正（凸）になるように第２面４６ｂ２
に回折格子４８が形成されている。この回折によるパワ
ーは基準軸の軸上から軸外に向かい主走査方向、副走査
方向ともに対称軸を持たず非対称に変化している。この
第２の光学素子４６ｂは主走査方向、副走査方向ともに
屈折系によるパワーと回折系によるパワーの両方を有し
ている。これらの第１、第２の光学素子４６ａ，４６ｂ
は共にプラスチック材料で成形されている。さらに走査
光学手段４６は副走査断面内において偏向面５ａと被走
査面７との間を共役関係にすることにより、倒れ補正機
能を有している。
素子４６ｂは第１面（光線入射面）４６ｂ１、第２面
（光線射出面）４６ｂ２ともにトーリック面で構成され
ている。また回折系によるパワーは主走査方向、副走査
方向ともに異なる正（凸）になるように第２面４６ｂ２
に回折格子４８が形成されている。この回折によるパワ
ーは基準軸の軸上から軸外に向かい主走査方向、副走査
方向ともに対称軸を持たず非対称に変化している。この
第２の光学素子４６ｂは主走査方向、副走査方向ともに
屈折系によるパワーと回折系によるパワーの両方を有し
ている。これらの第１、第２の光学素子４６ａ，４６ｂ
は共にプラスチック材料で成形されている。さらに走査
光学手段４６は副走査断面内において偏向面５ａと被走
査面７との間を共役関係にすることにより、倒れ補正機
能を有している。
【００７３】表−７に本実施形態における光学配置を示
し、表−８に屈折系の非球面係数及び回折系の位相係数
を示す。
し、表−８に屈折系の非球面係数及び回折系の位相係数
を示す。
【００７４】
【表７】
【００７５】
【表８】
【００７６】本実施形態における第２の光学素子４６ｂ
の主走査方向の回折パワーの変化の様子を図２３に示
し、副走査方向の回折パワーの変化の様子を図２４に示
す。本実施形態においては回折によるパワーは基準軸の
軸上から軸外に向かい主走査方向、副走査方向ともに非
対称に変化している。さらに副走査方向に関しては基準
軸の軸上のパワーをＰｏ、軸外のパワーをＰｙとしたと
き、 Ｐｏ＞Ｐｙ ‥‥‥（１） なる条件を満足させている。条件式（１）を外れると前
述の実施形態１と同様に像面湾曲の補正を困難にした
り、副走査倍率の均一性が保てず良くない。
の主走査方向の回折パワーの変化の様子を図２３に示
し、副走査方向の回折パワーの変化の様子を図２４に示
す。本実施形態においては回折によるパワーは基準軸の
軸上から軸外に向かい主走査方向、副走査方向ともに非
対称に変化している。さらに副走査方向に関しては基準
軸の軸上のパワーをＰｏ、軸外のパワーをＰｙとしたと
き、 Ｐｏ＞Ｐｙ ‥‥‥（１） なる条件を満足させている。条件式（１）を外れると前
述の実施形態１と同様に像面湾曲の補正を困難にした
り、副走査倍率の均一性が保てず良くない。
【００７７】また本実施形態においては第２の光学素子
４６ｂの両面４６ｂ１，４６ｂ２に関し、主走査方向は
非球面形状より形成することにより、設計上の自由度を
増大させ、これにより光学特性を良好に補正することが
可能になることにより、より微小スポット径を要求され
る高精細な走査光学装置を得ている。
４６ｂの両面４６ｂ１，４６ｂ２に関し、主走査方向は
非球面形状より形成することにより、設計上の自由度を
増大させ、これにより光学特性を良好に補正することが
可能になることにより、より微小スポット径を要求され
る高精細な走査光学装置を得ている。
【００７８】さらに本実施形態において走査光学手段４
６は装置の環境変動（温度変化）によるレンズ材質の屈
折率変化で生じる主走査方向と副走査方向のピント移動
を、半導体レーザー１の波長変動に起因する第２の光学
素子４６ｂの回折パワーの変化によって補正している。
６は装置の環境変動（温度変化）によるレンズ材質の屈
折率変化で生じる主走査方向と副走査方向のピント移動
を、半導体レーザー１の波長変動に起因する第２の光学
素子４６ｂの回折パワーの変化によって補正している。
【００７９】図２５は本実施形態における昇温前後の主
走査方向の像面湾曲を示した図、図２６は本実施形態に
おける昇温前後の副走査方向の像面湾曲を示した図、図
２７は本実施形態における歪曲収差（ｆθ特性）及び像
高ずれ等を示した図である。図２５、図２６に示した像
面湾曲において点線は常温２５℃での像面湾曲、実線は
２５℃昇温した５０℃ときの像面湾曲を示している。こ
こで２５℃昇温したときの第１の光学素子４６ａ及び第
２の光学素子４６ｂの屈折率ｎ＊、及び光源手段１の波
長λ＊は各々、 ｎ＊＝１．５２１２ λ＊＝７８６．４ｎｍ である。同図より主走査方向、副走査方向ともにピント
移動が良好に補正されていることが解る。
走査方向の像面湾曲を示した図、図２６は本実施形態に
おける昇温前後の副走査方向の像面湾曲を示した図、図
２７は本実施形態における歪曲収差（ｆθ特性）及び像
高ずれ等を示した図である。図２５、図２６に示した像
面湾曲において点線は常温２５℃での像面湾曲、実線は
２５℃昇温した５０℃ときの像面湾曲を示している。こ
こで２５℃昇温したときの第１の光学素子４６ａ及び第
２の光学素子４６ｂの屈折率ｎ＊、及び光源手段１の波
長λ＊は各々、 ｎ＊＝１．５２１２ λ＊＝７８６．４ｎｍ である。同図より主走査方向、副走査方向ともにピント
移動が良好に補正されていることが解る。
【００８０】このように本実施形態では上述の如く走査
光学手段４６を構成する光学素子の各光学面のうち、第
２の光学素子４６ｂの第２面４６ｂ２にピッチの変化に
よるパワーを有する回折格子４８を形成し、該回折格子
４８を形成した第２の光学素子４６ｂ面内において、該
回折格子４８のパワーを主走査方向、副走査方向ともに
対称軸を持たず非対称に変化させることにより、光学特
性を良好に補正することができ、また環境変動（温度変
化）によるピント変化に強く、かつ簡易な構成で、高精
細な印字が得られる小型の走査光学装置を得ている。
光学手段４６を構成する光学素子の各光学面のうち、第
２の光学素子４６ｂの第２面４６ｂ２にピッチの変化に
よるパワーを有する回折格子４８を形成し、該回折格子
４８を形成した第２の光学素子４６ｂ面内において、該
回折格子４８のパワーを主走査方向、副走査方向ともに
対称軸を持たず非対称に変化させることにより、光学特
性を良好に補正することができ、また環境変動（温度変
化）によるピント変化に強く、かつ簡易な構成で、高精
細な印字が得られる小型の走査光学装置を得ている。
【００８１】尚、各実施形態では変換光学素子２により
光源手段１から射出された光束を略平行光束に変換した
が、光偏向器５の偏向面５ａと被走査面８との間の距離
を短縮するために収束光束に変換してもよい。
光源手段１から射出された光束を略平行光束に変換した
が、光偏向器５の偏向面５ａと被走査面８との間の距離
を短縮するために収束光束に変換してもよい。
【００８２】また、各実施形態では基準軸を光軸とした
が、回折格子は光学素子面上に自由に形成することが可
能であるので、光軸以外の任意の位置に基準軸を設定し
ても良い。
が、回折格子は光学素子面上に自由に形成することが可
能であるので、光軸以外の任意の位置に基準軸を設定し
ても良い。
【００８３】
【発明の効果】第１の発明によれば前述の如く走査光学
手段を構成する光学素子の各光学面のうち、少なくとも
１面に回折格子を形成し、該回折格子を形成した光学素
子面内において、該回折格子のパワーを主走査方向、も
しくは副走査方向の少なくとも一方向において、対称軸
を持たず非対称に変化させることにより、光学特性（像
面湾曲等）を良好に補正することができ、また環境変動
（温度変化）によるピント変化に強く、かつ簡易な構成
で、高精細な印字が得られる小型の走査光学装置を達成
することができる。
手段を構成する光学素子の各光学面のうち、少なくとも
１面に回折格子を形成し、該回折格子を形成した光学素
子面内において、該回折格子のパワーを主走査方向、も
しくは副走査方向の少なくとも一方向において、対称軸
を持たず非対称に変化させることにより、光学特性（像
面湾曲等）を良好に補正することができ、また環境変動
（温度変化）によるピント変化に強く、かつ簡易な構成
で、高精細な印字が得られる小型の走査光学装置を達成
することができる。
【００８４】第２の発明によれば前述の如く走査光学手
段を構成する光学素子の各光学面のうち、少なくとも１
面に回折格子を形成し、該回折格子を形成した光学素子
面内において、該回折格子のピッチを主走査方向、もし
くは副走査方向の少なくとも一方向において、対称軸を
持たず非対称に変化させ、かつ該走査光学手段を構成す
る光学素子の各光学面のうち、少なくとも１面の形状を
主走査方向、もしくは副走査方向の少なくとも一方向に
おいて、軸上から軸外に向けて非対称に形成することに
より、光学特性（像面湾曲等）を良好に補正することが
でき、また環境変動（温度変化）によるピント変化に強
く、かつ簡易な構成で、高精細な印字が得られる小型の
走査光学装置を達成することができる。
段を構成する光学素子の各光学面のうち、少なくとも１
面に回折格子を形成し、該回折格子を形成した光学素子
面内において、該回折格子のピッチを主走査方向、もし
くは副走査方向の少なくとも一方向において、対称軸を
持たず非対称に変化させ、かつ該走査光学手段を構成す
る光学素子の各光学面のうち、少なくとも１面の形状を
主走査方向、もしくは副走査方向の少なくとも一方向に
おいて、軸上から軸外に向けて非対称に形成することに
より、光学特性（像面湾曲等）を良好に補正することが
でき、また環境変動（温度変化）によるピント変化に強
く、かつ簡易な構成で、高精細な印字が得られる小型の
走査光学装置を達成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の実施形態１の主走査方向の要部断面
図（主走査断面図）
図（主走査断面図）
【図２】 本発明の実施形態１の主走査方向の回折パワ
ーの変化の様子を示す図
ーの変化の様子を示す図
【図３】 本発明の実施形態１の副走査方向の回折パワ
ーの変化の様子を示す図
ーの変化の様子を示す図
【図４】 本発明の実施形態１の昇温前後の主走査方向
の像面湾曲を示す図
の像面湾曲を示す図
【図５】 本発明の実施形態１の昇温前後の副走査方向
の像面湾曲を示す図
の像面湾曲を示す図
【図６】 本発明の実施形態１の歪曲収差（ｆθ特性）
及び像高ずれを示す図
及び像高ずれを示す図
【図７】 本発明の実施形態２の主走査方向の要部断面
図（主走査断面図）
図（主走査断面図）
【図８】 本発明の実施形態２の主走査方向の回折パワ
ーの変化の様子を示す図
ーの変化の様子を示す図
【図９】 本発明の実施形態２の副走査方向の回折パワ
ーの変化の様子を示す図
ーの変化の様子を示す図
【図１０】 本発明の実施形態２のシリンドリカル面の
曲率半径の変化の様子を示す図
曲率半径の変化の様子を示す図
【図１１】 本発明の実施形態２の昇温前後の主走査方
向の像面湾曲を示す図
向の像面湾曲を示す図
【図１２】 本発明の実施形態２の昇温前後の副走査方
向の像面湾曲を示す図
向の像面湾曲を示す図
【図１３】 本発明の実施形態２の歪曲収差（ｆθ特
性）及び像高ずれを示す図
性）及び像高ずれを示す図
【図１４】 本発明の実施形態３の主走査方向の要部断
面図（主走査断面図）
面図（主走査断面図）
【図１５】 本発明の実施形態３の主走査方向の回折パ
ワーの変化を示す図。
ワーの変化を示す図。
【図１６】 本発明の実施形態３の副走査方向の回折パ
ワーの変化の様子を示す図
ワーの変化の様子を示す図
【図１７】 本発明の実施形態３のトーリック面の主走
査断面内の形状を示す図
査断面内の形状を示す図
【図１８】 本発明の実施形態３のトーリック面の副走
査方向の曲率半径の変化の様子を示す図
査方向の曲率半径の変化の様子を示す図
【図１９】 本発明の実施形態３の昇温前後の主走査方
向の像面湾曲を示す図
向の像面湾曲を示す図
【図２０】 本発明の実施形態３の昇温前後の副走査方
向の像面湾曲を示す図
向の像面湾曲を示す図
【図２１】 本発明の実施形態３の歪曲収差（ｆθ特
性）及び像高ずれを示す図
性）及び像高ずれを示す図
【図２２】 本発明の実施形態４の主走査方向の要部断
面図（主走査断面図）
面図（主走査断面図）
【図２３】 本発明の実施形態４の主走査方向の回折パ
ワーの変化の様子を示す図
ワーの変化の様子を示す図
【図２４】 本発明の実施形態４の副走査方向の回折パ
ワーの変化の様子を示す図
ワーの変化の様子を示す図
【図２５】 本発明の実施形態４の昇温前後の主走査方
向の像面湾曲を示す図
向の像面湾曲を示す図
【図２６】 本発明の実施形態４の昇温前後の副走査方
向の像面湾曲を示す図
向の像面湾曲を示す図
【図２７】 本発明の実施形態４の歪曲収差（ｆθ特
性）及び像高ずれを示す図
性）及び像高ずれを示す図
【図２８】 従来の走査光学装置の主走査方向の要部断
面図（主走査断面図）
面図（主走査断面図）
１ 光源手段 ２ 変換光学素子 ３ 開口絞り ４ シリンドリカルレンズ ５ 偏向手段（光偏向器） ６，２６，３６，４６ 走査光学手段 ６ａ，２６ａ，４６ａ 第１の光学素子 ６ｂ，２６ｂ，４６ｂ 第２の光学素子 ３６ａ 光学素子 ７ 被走査面（感光ドラム面） ８，２８，３８，４８ 回折格子
Claims (18)
- 【請求項１】 光源手段から射出された光束を偏向手段
に導光し、該偏向手段により偏向された光束を走査光学
手段により被走査面上にスポット状に結像させ、該被走
査面上を光走査する走査光学装置において、 該走査光学手段を構成する光学素子の各光学面のうち、
少なくとも１面にピッチの変化によるパワーを有する回
折格子を形成し、該回折格子を形成した光学素子面内に
おいて、該回折格子のパワーは主走査方向、もしくは副
走査方向の少なくとも一方向において、対称軸を持たず
非対称に変化することを特徴とする走査光学装置。 - 【請求項２】 前記回折格子の主走査方向のパワーは基
準軸の軸上から軸外に向かって非対称に変化することを
特徴とする請求項１記載の走査光学装置。 - 【請求項３】 前記回折格子の副走査方向のパワーは基
準軸の軸上から主走査方向軸外に向かうに従い非対称に
変化し、該基準軸の軸上のパワーをＰｏ、軸外のパワー
をＰｙとしたとき、 Ｐｏ＞Ｐｙ なる条件を満足することを特徴とする請求項１記載の走
査光学装置。 - 【請求項４】 前記回折格子の主走査方向と副走査方向
のパワーはともに基準軸の軸上から軸外に向かって非対
称に変化し、かつ副走査方向のパワーは基準軸の軸上の
パワーをＰｏ、軸外のパワーをＰｙとしたとき、 Ｐｏ＞Ｐｙ なる条件を満足することを特徴とする請求項１記載の走
査光学装置。 - 【請求項５】 前記走査光学手段は装置の環境変動によ
るレンズ材質の屈折率変化で生じる主走査方向、もしく
は副走査方向の少なくとも一方向のピント移動を前記光
源手段の波長変動に起因する回折パワーの変化によって
補正することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１
項記載の走査光学装置。 - 【請求項６】 前記回折格子を形成する光学素子はプラ
スチック材で成形されていることを特徴とする請求項１
乃至５のいずれか１項記載の走査光学装置。 - 【請求項７】 前記基準軸とは光軸であることを特徴と
する請求項２、３又は４項記載の走査光学装置。 - 【請求項８】 光源手段から射出された光束を偏向手段
に導光し、該偏向手段により偏向された光束を走査光学
手段により被走査面上にスポット状に結像させ、該被走
査面上を光走査する走査光学装置において、 該走査光学手段を構成する光学素子の各光学面のうち、
少なくとも１面に回折格子を形成し、該回折格子を形成
した光学素子面内において、該回折格子のピッチは主走
査方向、もしくは副走査方向の少なくとも一方向におい
て、対称軸を持たずに変化し、 かつ該走査光学手段を構成する光学素子の各光学面のう
ち、少なくとも１面の形状は主走査方向、もしくは副走
査方向の少なくとも一方向において、軸上から軸外に向
けて非対称に形成されていることを特徴とする走査光学
装置。 - 【請求項９】 前記回折格子の主走査方向のパワーは基
準軸の軸上から軸外に向かって非対称に変化することを
特徴とする請求項８記載の走査光学装置。 - 【請求項１０】 前記回折格子の副走査方向のパワーは
基準軸の軸上から主走査方向軸外に向かうに従い非対称
に変化し、該基準軸の軸上のパワーをＰｏ、軸外のパワ
ーをＰｙとしたとき、 Ｐｏ＞Ｐｙ なる条件を満足することを特徴とする請求項８記載の走
査光学装置。 - 【請求項１１】 前記回折格子の主走査方向と副走査方
向のパワーはともに基準軸の軸上から軸外に向かって非
対称に変化し、かつ副走査方向のパワーは基準軸の軸上
のパワーをＰｏ、軸外のパワーをＰｙとしたとき、 Ｐｏ＞Ｐｙ なる条件を満足することを特徴とする請求項８記載の走
査光学装置。 - 【請求項１２】 前記光学面の形状を非対称に形成した
光学素子の主走査方向のパワーは、軸上から軸外に向け
て非対称に変化することを特徴とする請求項８記載の走
査光学装置。 - 【請求項１３】 前記光学面の形状を非対称に形成した
光学素子の副走査方向のパワーは、軸上から主走査方向
軸外に向けて非対称に変化することを特徴とする請求項
８記載の走査光学装置。 - 【請求項１４】 前記光学面の形状を非対称に形成した
光学素子の主走査方向と副走査方向のパワーは、ともに
軸上から軸外に向けて非対称に変化することを特徴とす
る請求項８記載の走査光学装置。 - 【請求項１５】 前記走査光学手段は装置の環境変動に
よるレンズ材質の屈折率変化で生じる主走査方向、もし
くは副走査方向の少なくとも一方向のピント移動を前記
光源手段の波長変動に起因する回折パワーの変化によっ
て補正することを特徴とする請求項８乃至１４のいずれ
か１項記載の走査光学装置。 - 【請求項１６】 前記光学面の形状を非対称に形成した
光学素子の少なくとも１面に前記回折格子が形成されて
いることを特徴とする請求項８乃至１５のいずれか１項
記載の走査光学装置。 - 【請求項１７】 前記回折格子を形成する光学素子はプ
ラスチック材で成形されていることを特徴とする請求項
８乃至１６のいずれか１項記載の走査光学装置。 - 【請求項１８】 前記基準軸とは光軸であることを特徴
とする請求項９、１０又は１１項記載の走査光学装置。
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