JP3559710B2 - 回折光学素子及びそれを用いた走査光学装置 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は回折光学素子及びそれを用いた走査光学装置に関し、特に半導体レーザーより成る光源手段から放射した光束を偏向素子で偏向させ、ｆθ特性を有した走査光学素子（結像素子）を介して被走査面上を光走査して画像情報を記録するようにした、例えば電子写真プロセスを有するレーザービームプリンター（ＬＢＰ）やデジタル複写機等の画像形成装置に好適なものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来よりレーザービームプリンターやデジタル複写機等に用いられる走査光学装置においては画像信号に応じて光源手段から光変調され放射した光束を、例えば回転多面鏡（ポリゴンミラー）より光偏向器により周期的に偏向させ、ｆθ特性を有する走査光学素子（結像素子）によって感光性の記録媒体（感光ドラム）面上にスポット状に集束させ、その面上を光走査して画像記録を行っている。
【０００３】
図９はこの種の従来の走査光学装置に要部概略図である。
【０００４】
同図において光源手段９１から放射した発散光束はコリメーターレンズ９２により略平行光束とされ、絞り９３によって該光束（光量）を制限して副走査方向にのみ所定のパワーを有するシリンダーレンズ（シリンドリカルレンズ）９４に入射している。シリンダーレンズ９４に入射した平行光束のうち主走査断面内においてはそのまま平行光束の状態で射出する。また副走査断面内においては集束して回転多面鏡（ポリゴンミラー）から成る光偏向器９５の偏向面（反射面）９５ａにほぼ線像として結像している。
【０００５】
そして光偏向器９５の偏向面９５ａで偏向反射された光束はｆθ特性を有する走査光学素子（ｆθレンズ）９６を介して被走査面としての感光ドラム面９８上に導光し、該光偏向器９５を矢印方向に回転させることによって、該感光ドラム面９８上を矢印Ｂ方向に光走査している。これにより記録媒体である感光ドラム面９８上に画像記録を行なっている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
従来の走査光学装置では、非球面を用いて高精度な収差補正が可能なこと、射出成形による低コスト化を行なえることから走査光学系としてプラスチック樹脂製のレンズを用いた走査光学装置が種々と提案されている。
【０００７】
しかしながらプラスチックレンズは環境変動による収差変動（特にピントずれや倍率ずれ等）が大きく、走査光学装置のスポット径を小さくした場合に問題となる。
【０００８】
そこで最近ではこのプラスチックレンズ固有の収差変動を補償するために、例えば特開平１０−６８９０３号公報で提案されているように走査光学系として回折光学素子を導入している例もある。同公報では例えば環境温度が上昇した場合、プラスチックレンズの屈折率低下による収差変化を光源である半導体レーザーの波長変動による収差変化で補償されるよう予め回折光学素子を用い色収差を発生させている。また回折光学素子はそれ単独で用いた場合、その素子の肉厚が一定となり射出成形で製造する場合、成形性に優れているという特徴を有している。
【０００９】
このように回折光学素子は走査光学装置の光学系として非常に有用なものであるが、屈折光学素子と異なり、該回折光学素子では光の利用効率（以下「回折効率η」と称す、η＝設計次数、出射光量／入射光量）が様々な条件により異なるという問題点があった。以下に回折格子モデルを使用し説明する。
【００１０】
図１０は回折格子モデルの説明図であり、該回折格子モデルは格子ピッチがＰμｍ、格子深さがｈμｍの連続格子より成っている。ここで格子ピッチと格子深さとの比をアスペクト比ＡＲと称し、ＡＲ＝格子ピッチＰ／格子深さｈと定義する。ここで回折格子モデルの基板に対し入射角θｉで入射した光束は回折され、設計回折次数方向へ出射する。
【００１１】
図１１は上記の回折格子モデルにおいてアスペクト比をＡＲ＝４としたときの回折効率の入射角依存性を示す説明図である。同図より入射角により回折効率が大きく異なり、特に大きな入射角で入射した光束の回折効率が悪くなることが分かる。
【００１２】
図１２は上記の回折格子モデルにおいて格子部への入射角をθｉ＝０としたときの回折効率のアスペクト比依存性を示す説明図である。同図では格子深さｈを一定とし、格子ピッチＰを変えることによりアスペクト比ＡＲを振っているが、アスペクト比が４より小さくなると急激に回折効率が悪くなることが分かる。
【００１３】
上記の２つの考察から走査光学装置の走査光学系として回折光学素子を使用する場合には入射角が大きく、アスペクト比が小さい軸外において回折効率の低下が起こり、被走査面上における像面照度の一様性が失われるという問題点がある。
【００１４】
本発明は回折光学素子の回折格子を主にパワーを発生させる傾斜部と、該傾斜部の一方の端部と基板とをつなぐ壁部とより構成し、該壁部を基板面の法線に対して傾けることにより、容易な構成でかつコストアップを伴わないで回折光学素子の特にその軸外における回折効率の低下を低減し、被走査面上における像面照度の均一性を高め、諸変動による収差変化が少なく高精細印字に適した回折光学素子及びそれを用いた走査光学装置の提供を目的とする。
【００１５】
【課題を解決するための手段】
請求項１の発明の走査光学装置は、
光源手段と、該光源手段から放射された光束を偏向する偏向素子と、該偏向素子で偏向された光束を被走査面上に結像する走査光学素子と、を備えた走査光学装置において、
前記走査光学素子は、少なくとも１枚の回折光学素子を備え、該回折光学素子は基板面上に回折格子が形成され、該回折格子は、パワーを発生させる傾斜部と、該傾斜部の一方の端部と該基板とを繋ぐ壁部とを備え、該壁部は該基板面の法線に対して傾角θｅ傾いており、該回折光学素子の光軸近傍の傾角θｅは、軸外の傾角θｅよりも小さいことを特徴としている。
【００１６】
請求項２の発明は請求項１の発明において、
前記傾角θｅは、前記回折光学素子の光軸からはなれるに従い連続的に大きくなるように変化していることを特徴としている。
請求項３の発明は請求項１の発明において、
前記傾角θｅは、前記回折光学素子の光軸からはなれるに従い断続的に大きくなるように変化していることを特徴としている。
請求項４の発明は請求項１〜３のいずれか１項の発明において、
前記回折光学素子は、主走査方向と副走査方向とで互いに異なるパワーを有することを特徴としている。
請求項５の発明は請求項１〜４のいずれか１項の発明において、
前記回折格子は前記回折光学素子の前記被走査面側に創設されていることを特徴としている。
請求項６の発明は請求項１〜５のいずれか１項の発明において、
前記回折格子の壁部の前記基板面の法線に対する傾角θｅは、該回折格子の深さをｈ、格子ピッチをＰとしたとき、
ｔａｎ^−１（ｈ／Ｐ）≦θｅ≦ｔａｎ^−１（ｈ／Ｐ）＋１０°
なる条件を満足することを特徴としている。
請求項７の発明は請求項１〜６のいずれか１項の発明において、
前記回折光学素子はガラス製の基板上にレプリカで前記回折格子を形成していることを特徴としている。
請求項８の発明は請求項１〜６のいずれか１項の発明において、
前記回折光学素子は射出成形により前記基板と前記回折格子とがプラスチック材料で一体成形されていることを特徴としている。
請求項９の発明は請求項１〜７のいずれか１項の発明において、
前記基板面は平面もしくは曲面より成ることを特徴としている。
【００１７】
請求項１０の発明の画像形成装置は、
請求項１〜９記載の走査光学装置と、前記被走査面が感光ドラム面であることを特徴としている。
【００１８】
請求項１１の発明の回折光学素子は、
基板と、基板面上に形成された回折格子と、該回折格子は、パワーを発生させる傾斜部と、該傾斜部の一方の端部と該基板とを繋ぐ壁部とを備え、該壁部は該基板面の法線に対して傾角θｅ傾いており、該回折光学素子の光軸近傍の傾角θｅは、軸外の傾角θｅよりも小さいことを特徴としている。
請求項１２の発明は請求項１１の発明において、
前記傾角θｅは、前記回折光学素子の光軸からはなれるに従い連続的に大きくなるように変化していることを特徴としている。
請求項１３の発明は請求項１１の発明において、
前記傾角θｅは、前記回折光学素子の光軸からはなれるに従い断続的に大きくなるように変化していることを特徴としている。
【００１９】
【発明の実施の形態】
［実施形態１］
図１は本発明の実施形態１の走査光学装置の要部概略図、図２は図１に示した走査光学装置の光学系の主走査方向の要部断面図である。尚、後述する回折光学素子の格子部は誇張して表現しており、実際の形状とは異なる。
【００２０】
図中、１は光源手段であり、例えば半導体レーザーより成っている。２は変換光学素子（コリメーターレンズ）であり、光源手段１から放射された光束（光ビーム）を略平行光束に変換している。３は開口絞りであり、通過光束（光量）を制限している。４はシリンドリカルレンズ（シリンダーレンズ）であり、副走査方向にのみ所定のパワーを有しており、開口絞り３を通過した光束を副走査断面内で後述する光偏向器の偏向面にほぼ線像として結像させている。
【００２１】
５は偏向素子としての、例えばポリゴンミラー（回転多面鏡）より成る光偏向器であり、モータ等の駆動手段（不図示）により図中矢印Ａ方向に一定速度で回転している。
【００２２】
６はｆθ特性を有する走査光学素子であり、少なくとも１枚の屈折光学素子と、少なくとも１枚の回折光学素子とを有している。屈折光学素子は主走査方向と副走査方向とで互いに異なるパワーを有する単一のプラスチック製のトーリックレンズ６１より成り、該トーリックレンズ６１の主走査方向の両レンズ面は非球面形状より成っている。回折光学素子は主走査方向と副走査方向とで互いに異なるパワーを有する長尺の回折光学素子６２より成り、基板面上に回折格子が形成され、該回折格子は該回折光学素子６２の感光ドラム面（被走査面）８側に創設され、また基板面は平面より形成されている。本実施形態における回折光学素子６２の回折格子は後述するように主にパワーを発生させる傾斜部と、該傾斜部の一方の端部と該基板とをつなぐ壁部とを有し、該壁部は基板面の法線に対して傾けて構成している。尚、本実施形態における回折光学素子６２は射出成形により基板と回折格子とがプラスチック材料で一体成形して製作しているが、これに限らず、例えばガラス製の基板上にレプリカで回折格子を製作しても同等の効果が得られる。本実施形態では光偏向器５の回転軸と感光ドラム面８の中点より該光偏向器５側にトーリックレンズ６１、該感光ドラム面８側に回折光学素子６２を配している。走査光学素子６は光偏向器５によって偏向された画像情報に基づく光束を感光ドラム面８上に結像させ、かつ光偏向器５の偏向面の面倒れを補正している。
【００２３】
本実施形態において半導体レーザー１から放射した発散光束は変換光学素子２により略平行光束に変換され、開口絞り３によって該光束（光量）を制限してシリンドリカルレンズ４に入射している。シリンドリカルレンズ４に入射した光束のうち主走査断面においてはそのままの状態で射出する。また副走査断面においては収束して光偏向器５の偏向面５ａにほぼ線像（主走査方向に長手の線像）として結像している。そして光偏向器５の偏向面５ａで偏向された光束は走査光学素子６を介して感光ドラム面８上に導光され、該光偏向器５を矢印Ａ方向に回転させることによって、該感光ドラム面８上を矢印Ｂ方向に光走査している。これにより記録媒体である感光ドラム面８上に画像記録を行なっている。
【００２４】
本実施形態における走査光学素子６を構成するトーリックレンズ６１と回折光学素子６２との形状はそれぞれ、
▲１▼トーリックレンズ．主走査方向が１０次までの関数で表せる非球面形状、
トーリックレンズと光軸との交点を原点とし、光軸方向をｘ軸、主走査断面内において光軸と直交する軸をｙ軸、副走査断面内において光軸と直交する軸をｚ軸としたとき、
主走査方向と対応する母線方向が、
【００２５】
【数１】

（但し、Ｒは曲率半径、Ｋ、Ｂ_４ 、Ｂ_６ 、Ｂ_８ 、Ｂ_１０は非球面係数）
副走査方向（光軸を含み主走査方向に対して直交する方向）と対応する子線方向が、
【００２６】
【数２】

ここで ｒ ’＝ｒ_０（１＋Ｄ_２Ｙ^２＋ Ｄ_４Ｙ^４＋ Ｄ_６Ｙ^６＋ Ｄ_８Ｙ^８＋ Ｄ_１０Ｙ^１０）
（但し、ｒ_０は光軸上の子線曲率半径、Ｄ_２、Ｄ_４、Ｄ_６、Ｄ_８、Ｄ_１０ は非球面係数）
▲２▼回折光学素子．．主走査方向が６次まで、副走査方向が主走査方向の位置により異なる２次の位相関数で表される回折面
φ＝ｍλ＝ｂ_２ Ｙ^２ ＋ｂ_４ Ｙ^４ ＋ｂ_６ Ｙ^６
＋（ｄ_０ ＋ｄ_１ Ｙ＋ｄ_２ Ｙ^２ ＋ｄ_３ Ｙ^３ ＋ｄ_４ Ｙ^４ ）Ｚ^２
（但し、ｍは回折次数：実施形態１〜３では＋１次回折光を使用）
表−１に本実施形態における光学配置とトーリックレンズ６１の非球面係数及び回折光学素子６２の位相項を示す。表−１において回折格子の深さはｈ＝１．５１μｍ、最軸外光束において回折格子に入射する光束の入射角はθｉ＝２２°、格子ピッチはＰ＝５．６μｍである。
【００２７】
【表１】

図３は本実施形態における回折光学素子の主走査方向の要部断面図であり、格子部を拡大して示してある。同図において回折格子１１は主にパワーを発生させる傾斜部３１と、該傾斜部３１の一方の端部３１ａと基板２２とをつなぐ壁部３２とより構成されており、該壁部３２を該基板２２面の法線（以下「基板法線」とも称す。）に対して傾角θｅだけ傾けている。本実施形態において壁部３２の基板法線に対する傾角θｅは、回折格子１１の深さをｈ、格子ピッチをＰとしたとき、
θｅ＝ｔａｎ^−１（ｈ／Ｐ）
なる関係式を満たすように設定しており、回折光学素子６２の光軸から離れるに従って大きくなるよう連続的に変化させている。これは回折格子１１の傾斜部３１と壁部３２とが常に直角を成していることを意味する。
【００２８】
尚、本実施例では壁部３２の基板法線に対する傾角θｅを回折光学素子６２の光軸から離れるに従って大きくなるよう連続的に変化させたが、断続的に変化させても良い。
【００２９】
図４は本実施形態における回折光学素子６２を本装置上で使用したときの回折効率を示す説明図であり、横軸は被走査面上での光線到達位置に変換してある。またここでの回折効率はそれぞれの光線通過位置での入射角、アスペクト比、格子壁部の傾角等を考慮して算出したものである。
【００３０】
同図において実線ａは本実施形態を示しており、壁部を基板法線に対してθｅ＝ｔａｎ^−１（ｈ／Ｐ）だけ傾けている場合の回折効率、点線ｂは従来例を示しており、壁部を基板面に対して垂直に形成している場合の回折効率である。
【００３１】
同図より回折格子の壁部を基板法線に対してθｅだけ傾けて創設することにより、軸外の回折効率で約１１．７％の改善が認められる。
【００３２】
このように本実施形態では上述の如く回折光学素子６２の回折格子１１を傾斜部３１と壁部３２とから形成し、該壁部３２を基板法線に対して傾けて創設するという容易な方法により、該回折光学素子６２を走査光学装置で使用する上で問題となる軸外での高入射角、低アスペクト比による回折効率の低下を軽減させる効果を有する。そして走査光学装置の被走査面上における像面照度の均一性を高め、諸変動による収差変化が少なく高精細印字に適した走査光学装置（画像形成装置）を実現することが可能となる。
【００３３】
また本実施形態の固有の特徴として壁部３２の基板法線に対する傾角をθｅ＝ｔａｎ^−１（ｈ／Ｐ）とすることにより、回折格子１１の傾斜部３１と壁部３２とが常に直角を成すため、回折格子、またはその型を製造することが非常に容易であるという特徴を有する。
【００３４】
図５は本発明の実施形態２の回折光学素子の主走査方向の要部断面図であり、格子部を拡大して示してある。同図において図３に示した要素と同一要素には同符番を付している。
【００３５】
本実施形態において前述の実施形態１と異なる点は回折格子１２の壁部５２の基板法線に対する傾角θｅを異ならせたことであり、その他の構成及び光学的作用は実施形態１と略同様であり、これにより同様な効果を得ている。
【００３６】
即ち、本実施形態における回折格子１２は同図に示すように主にパワーを発生させる傾斜部５１と、該傾斜部５１の一方の端部５１ａと基板２２とをつなぐ壁部５２とより構成されており、該壁部５２を基板法線に対して傾角θｅだけ傾けている。本実施形態において壁部５２の基板法線に対する傾角θｅは、回折格子１２の深さをｈ、格子ピッチをＰとしたとき、
θｅ＝ｔａｎ^−１（ｈ／Ｐ）＋５°
なる関係式を満たすように設定しており、回折光学素子６４の光軸から離れるに従って大きくなるよう連続的に変化させている。
【００３７】
図６は本実施形態における回折光学素子６４を本装置上で使用したときの回折効率を示す説明図であり、横軸は被走査面上での光線到達位置に変換してある。またここでの回折効率はそれぞれの光線通過位置での入射角、アスペクト比、格子壁部の傾角等を考慮して算出したものである。
【００３８】
同図において実線ａは本実施形態を示しており、壁部を基板法線に対してθｅ＝ｔａｎ^−１（ｈ／Ｐ）＋５°だけ傾けている場合の回折効率、点線ｂは従来例を示しており、壁部を基板面に対して垂直に形成している場合の回折効率である。
【００３９】
同図より回折格子の壁部を基板法線に対してθｅだけ傾けて創設することにより、軸外の回折効率で約１１．１％の改善が認められる。
【００４０】
このように本実施形態では上述の如く回折光学素子６４の回折格子１２を傾斜部５１と壁部５２とから形成し、該壁部５２を基板法線に対して傾けて創設するという容易な方法により、該回折光学素子６４を走査光学装置で使用する上で問題となる軸外での高入射角、低アスペクト比による回折効率の低下を軽減させる効果を有する。そして走査光学装置の被走査面上における像面照度の均一性を高め、諸変動による収差変化が少なく高精細印字に適した走査光学装置（画像形成装置）を実現することが可能となる。
【００４１】
また本実施形態の固有の特徴として壁部５２の基板法線に対する傾角をθｅ＝ｔａｎ^−１（ｈ／Ｐ）＋５°とすることにより、回折格子１２の傾斜部５１と壁部５２とが常に鈍角（９５°）を成すため、軸上付近のピッチが大きい部分においても回折格子１２の壁部５２を傾け抜き勾配を付けることが可能となり、射出成形やレプリカ時の型からの離型性が向上し、製造誤差による回折効率の低下を防ぐことが可能になるという特徴を有する。
【００４２】
図７は本発明の実施形態３の走査光学装置の光学系の主走査方向の要部断面図、図８は図７に示した回折光学素子の主走査方向の要部断面図であり、格子部を拡大して示してある。図７において図２に示した要素と同一要素には同符番を付してある。
【００４３】
本実施形態において前述の実施形態１と異なる点は回折光学素子に基板面を曲面とした長尺の回折光学素子６３を用いたことであり、その他の構成及び光学的作用は実施形態１と略同様であり、これにより同様な効果を得ている。
【００４４】
即ち、本実施形態における回折光学素子６３の回折格子１３は図８に示すように主にパワーを発生させる傾斜部８１と、該傾斜部８１の一方の端部８１ａと基板４２とをつなぐ壁部８２とより構成されており、該壁部８２を基板法線に対して傾角θｅだけ傾けている。本実施形態において壁部８２の基板法線に対する傾角θｅは、回折格子１３の深さをｈ、格子ピッチをＰとしたとき、
θｅ＝ｔａｎ^−１（ｈ／Ｐ）
なる関係式を満たすように設定しており、回折光学素子６３の光軸から離れるに従って大きくなるよう連続的に変化させている。本実施形態においても基板面が平面であるときと同等の効果を有しており、回折格子の壁部を基板面に対して垂直に形成したときと比較し、軸外において回折効率の改善が図れる。
【００４５】
表−２に本実施形態における光学配置とトーリックレンズ７１の非球面係数及び回折光学素子６３の位相項を示す。表−２において回折格子の深さはｈ＝１．５１μｍ、最軸外光束において回折格子に入射する光束の入射角はθｉ＝２２°、格子ピッチはＰ＝５．６μｍである。
【００４６】
【表２】

このように本実施形態では上述の如く回折光学素子６３の回折格子１３を傾斜部８１と壁部８２とから形成し、該壁部８２を基板法線に対して傾けて創設するという容易な方法により、該回折光学素子６３を走査光学装置で使用する上で問題となる軸外での高入射角、低アスペクト比による回折効率の低下を軽減させる効果を有する。そして走査光学装置の被走査面上における像面照度の均一性を高め、諸変動による収差変化が少なく高精細印字に適した走査光学装置（画像形成装置）を実現することが可能となる。
【００４７】
尚、上記の実施形態１、３においては回折格子の壁部の基板法線に対する傾角θｅをθｅ＝ｔａｎ^−１（ｈ／Ｐ）、実施形態２においては壁部の基板法線に対する傾角θｅをθｅ＝ｔａｎ^−１（ｈ／Ｐ）＋５°としたが、以下の条件式（１）を満足させれば本発明は前述の各実施形態１，２，３と同様に適用することができる。
【００４８】
ｔａｎ^−１（ｈ／Ｐ）≦θｅ≦ｔａｎ^−１（ｈ／Ｐ）＋１０° ‥‥（１）
条件式（１）は回折格子の壁部の基板法線に対する傾角を規定したものであり、条件式（１）を外れると入射角が大きく、アスペクト比が小さい軸外において回折効率の低下が起こり、被走査面上における像面照度の一様性が失われるので良くない。
【００４９】
【発明の効果】
本発明によれば前述の如く回折光学素子の回折格子を主にパワーを発生させる傾斜部と、該傾斜部の一方の端部と基板とをつなぐ壁部とより構成し、該壁部を基板面の法線に対して傾けることにより、容易な構成でかつコストアップを伴わないで回折光学素子の特にその軸外における回折効率の低下を低減し、被走査面上における像面照度の均一性を高め、諸変動による収差変化が少なく高精細印字に適した回折光学素子及びそれを用いた走査光学装置を達成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態１の走査光学装置の要部概略図
【図２】図１に示した走査光学装置の光学系の主走査方向の要部断面図
【図３】本発明の実施形態１における回折光学素子の主走査方向の拡大説明図
【図４】本発明の実施形態１における回折光学素子の回折効率を示す説明図
【図５】本発明の実施形態２における回折光学素子の主走査方向の拡大説明図
【図６】本発明の実施形態２における回折光学素子の回折効率を示す説明図
【図７】本発明の実施形態３の走査光学装置の要部概略図
【図８】本発明の実施形態３における回折光学素子の主走査方向の拡大説明図
【図９】従来の走査光学装置の主走査方向の要部断面図
【図１０】従来の回折光学素子の格子モデルを示す説明図
【図１１】従来の回折光学素子の回折効率の入射角依存性を示す説明図
【図１２】従来の回折光学素子の回折効率のアウペクト比を示す説明図
【符号の説明】
１ 光源手段（半導体レーザー）
２ 変換光学素子
３ 開口絞り
４ シリンダーレンズ
５ 偏向素子（光偏向器）
６，１６ 走査光学素子
６１，７１ プラスチック製のトーリックレンズ
６２，６３，６４ 回折光学素子
８ 被走査面（感光ドラム面）
１１，１２，１３ 回折格子
３１，５１，８１ 傾斜部
３２，５２，８２ 壁部
２２，４２基板目的

Claims (13)

1. 光源手段と、該光源手段から放射された光束を偏向する偏向素子と、該偏向素子で偏向された光束を被走査面上に結像する走査光学素子と、を備えた走査光学装置において、
   前記走査光学素子は、少なくとも１枚の回折光学素子を備え、該回折光学素子は基板面上に回折格子が形成され、該回折格子は、パワーを発生させる傾斜部と、該傾斜部の一方の端部と該基板とを繋ぐ壁部とを備え、該壁部は該基板面の法線に対して傾角θｅ傾いており、該回折光学素子の光軸近傍の傾角θｅは、軸外の傾角θｅよりも小さいことを特徴とする走査光学装置。
2. 前記傾角θｅは、前記回折光学素子の光軸からはなれるに従い連続的に大きくなるように変化していることを特徴とする請求項１記載の走査光学装置。
3. 前記傾角θｅは、前記回折光学素子の光軸からはなれるに従い断続的に大きくなるように変化していることを特徴とする請求項１記載の走査光学装置。
4. 前記回折光学素子は、主走査方向と副走査方向とで互いに異なるパワーを有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の走査光学装置。
5. 前記回折格子は前記回折光学素子の前記被走査面側に創設されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の走査光学装置。
6. 前記回折格子の壁部の前記基板面の法線に対する傾角θｅは、該回折格子の深さをｈ、格子ピッチをＰとしたとき、
   ｔａｎ^−１（ｈ／Ｐ）≦θｅ≦ｔａｎ^−１（ｈ／Ｐ）＋１０°
   なる条件を満足することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の走査光学装置。
7. 前記回折光学素子はガラス製の基板上にレプリカで前記回折格子を形成していることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の走査光学装置。
8. 前記回折光学素子は射出成形により前記基板と前記回折格子とがプラスチック材料で一体成形されていることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の走査光学装置。
9. 前記基板面は平面もしくは曲面より成ることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の走査光学装置。
10. 請求項１〜９記載の走査光学装置と、前記被走査面が感光ドラム面であることを特徴とする画像形成装置。
11. 基板と、基板面上に形成された回折格子と、該回折格子は、パワーを発生させる傾斜部と、該傾斜部の一方の端部と該基板とを繋ぐ壁部とを備え、該壁部は該基板面の法線に対して傾角θｅ傾いており、該回折光学素子の光軸近傍の傾角θｅは、軸外の傾角θｅよりも小さいことを特徴とする回折光学素子。
12. 前記傾角θｅは、前記回折光学素子の光軸からはなれるに従い連続的に大きくなるように変化していることを特徴とする請求項１１記載の回折光学素子。
13. 前記傾角θｅは、前記回折光学素子の光軸からはなれるに従い断続的に大きくなるように変化していることを特徴とする請求項１１記載の回折光学素子。

Images