JPH0243590A - ブレーズホログラムの製造方法 - Google Patents

ブレーズホログラムの製造方法

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JPH0243590A
JPH0243590A JP63194161A JP19416188A JPH0243590A JP H0243590 A JPH0243590 A JP H0243590A JP 63194161 A JP63194161 A JP 63194161A JP 19416188 A JP19416188 A JP 19416188A JP H0243590 A JPH0243590 A JP H0243590A
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hologram
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勝裕 久保
Keiji Sakai
啓至 酒井
Yukio Kurata
幸夫 倉田
Hideyoshi Yamaoka
山岡 秀嘉
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光学的に記録された情報の再生を行うホログ
ラムビック゛7ノブの構成部品として用いられるブレー
ズホログラムの製造方法に係り、特に、断面形状が鋸歯
状をなしているブレーズホログラムの製造方法に関する
ものである。
〔従来の技術〕
ブレーズホログラムの断面を鋸歯形状に形成するのは、
光利用率の向上を図るためであり、このように形成する
ことで光利用率の改善が図れることについては、第48
回応用物理学会学術講演会におけるrCD用ホログラム
光ヘッドの高光利用重化」に関する報告等で明らかにさ
れている。
従来のブレーズホログラムの製造方法は、第5図(a)
に示すように、ガラス基板21に洗浄処理を施した後、
同図(b)に示すように、このガラス基板21上に感光
体であるフォトレジスト22を塗布する。次いで、同図
(c)に示すように、三光束干渉法によってフォトレジ
スト22を露光した後、同図(d)に示すように、現像
してブレーズレジストパターン22aを形成する。次に
、同図(e)に示すように、上記のガラス基板21に対
してエツチングを施すことによりブレーズホログラム2
3が得られる。
また、他の方法として、第6図(a)に示すように、ガ
ラス基板21に洗浄処理を施した後、同図(b)に示す
ように、このガラス基板21上に感光体であるフォトレ
ジスト22を塗布する。次いで、同図(C)に示すよう
に、フォトマスク24を介して光を照射してフォトレジ
スト22を露光した後、同図(d)に示すように、現像
して断面矩形のレジストパターン22bを形成する。そ
の後、同図(e)に示すように、Arガスなどを用いて
斜めからイオンビームを照射してエツチングを施すこと
により、同図(f)に示すように、断面鋸歯形状のブレ
ーズホログラム23が得られる。
[発明が解決しようとする課題] ところが、上記従来の方法では、ブレーズホログラム2
3を得るために、多(の工程を必要とし、また、このた
めにトータル作業時間が長くなることから、ブレーズホ
ログラム−個当たりの価格が割高になるという問題を招
来していた。
〔課題を解決するための手段〕
請求項第1項の発明に係るブレーズホログラムの製造方
法は、上記課題を解決するために、ガラス基板又はPM
MA基板上に塗布されたフォトレジストに露光処理およ
び現像処理を施して所定のレジストパターンを形成した
後に上記ガラス基板又はPMMA基板にエンチングを施
して断面鋸歯形状のガラス原盤又はPMMA原盤を製造
し、次いで、このガラス原盤又はPMMA原盤を成形用
スタンパとして射出成形を施すことによりブレーズホロ
グラムを得ることを特徴としている。
また、請求項第2項の発明に係るブレーズホログラムの
製造方法は、ガラス基板又はPMMA基板上に塗布され
たフォトレジストに露光処理および現像処理を施して所
定のレジストパターンを形成した後に上記ガラス基板又
はPMMA基板に工7チングを施して断面鋸歯形状のガ
ラス原盤又はP M M A原盤を製造し、次に、この
ガラス原盤又はPMMA原盤の銅山状表面に金属薄膜を
形成するとともに電鋳部材により電鋳を行って金属原盤
を製造し、次いで、この金属原盤を成形用スタンパとし
て射出成形を施すことによりブレーズホログラムを得る
ことを特徴としている。
(作 用〕 請求項第1項の発明の構成によれば、ガラス原盤又はP
MMA原盤の製造においては従来のブレーズホログラム
の製造と同様、多数の工程を必要とするが、かかる製造
工程によってガラス原盤等を製造してしまえば、射出成
形という一回の工程により、ブレーズホログラムを連続
的に且つ再現性良く製造することができる。これにより
、ブレーズホログラムの製造工程が格段に簡素化されて
製造コストの低減を図ることができることになる。
また、請求項第2項の発明の構成によれば、請求項第1
項の発明と同様、ブレーズホログラムの製造工程が格段
に簡素化されて製造コストの低減を図ることができると
ともに、上記金属原盤の金属製ゆえの耐久性向上等によ
ってその寿命が延び製造コス1−の一層の低減を図るこ
とができる。
〔請求項第1項の発明に係る実施例] 本発明の一実施例を第1図ないし第3図に基づいて説明
すれば、以下の通りである。
本発明の製造方法ろこより製造されるブレーズホログラ
ムは、第1図(C)に示すように、断面鋸歯形状をなし
ており、例えば、透明樹脂を素材として形成されている
に記のブレーズホログラム10を製造するには、同図(
a)に示すように、まず、ブレーズホログラムの成形用
スタンパとなるガラス原盤5を製造する。ガラス原盤5
の製造は、従来のブレーズホログラム製造と同様の手法
により行われる。すなわし、第2図(a)に示すように
、ガラス基板1に洗浄処理を施した後、同図(b)に示
すように、このガラス基板1上に感光体であるフォトレ
ジスト2を塗布する。次いで、同図(c)に示すように
、三光束干渉法によってフォトレジスト2を露光した後
、同図(d)に示すように、現像してブレーズレジスト
パターンを形成する。
上記の三光束干渉法を行う際には、第3図に示すような
光学系11が用いられる。レーザ光源12から照射され
たレーザ光は、ビームエキスパンダ13により直径の大
きな平行光に変換された後、ビームスプリッタ14にて
2分割される。2分割された一方の平行光の光束Aは集
光レンズ15にて一度集光された後に前記フォトレジス
ト2上に照射される。そして、他方の平行光の光束Bは
ミラー16で反射された後、集光レンズ17および円柱
レンズ18を通過して非点収差を持つ光束となって一度
集光された後に前記フォトレジスト2上に照射される。
これにより、ブレーズレジストパターンが形成されるこ
とになる。
ごのように、ブレーズレジストパターンが形成されたガ
ラス基板lに対し、第2図(e)に示すように、エツチ
ングを施すことにより断面鋸歯形状をなし、素材をガラ
スとして形成されたガラス原ηa5が得られる。
次いで、第1図(b)に示すように、上記ガラス原盤5
を成形用金型6内にセットしてこれを成形用スタンパと
し、この成形用金型6のゲート6aから樹脂10’を注
入して射出成形を行う。これにより、樹脂10′を素材
として成形されたブレーズホログラム10が得られるこ
とになる。
上記の構成によれば、ガラス原盤5の製造においては従
来のブレーズホログラムの製造と同様、多数の工程を必
要とするが、かかる製造工程によってガラス原盤5を製
造してしまえば、射出成形という一回の工程により、ブ
レーズホログラム10を連続的に且つ再現性良く製造す
ることができる。これにより、ブレーズホログラムの製
造工程が格段に簡素化されて製造コストの低減を図るこ
とができる。
なお、上記の実施例においては、ガラス原盤5の装造方
法として、三光束干渉法による製造方法を示したが、こ
れに限るものではな(、従来例で示したように、一定の
パターンを有するフォトマスクを用いてフォトレジスト
を露光した後、これを現像し、さらにArガスなどを用
いて斜イオンビーl、エンチングを施すことによりガラ
ス原盤5を得るようにしても良いものである。
〔請求項第2項の発明に係る実施例〕 本発明の一実施例を第4図に基づいて説明すれば、以下
の通りである。なお、説明の便宜上、上記実施例と同様
の機能を有する部材には同一の符号を付記してその説明
を省略しである。
本発明に係るブレーズホログラムの製造方法は、第4図
(a)に示すように、上記実施例で示したガラス原盤5
における鋸歯状面にスパッタリング法によりNi薄膜8
aを形成し、次いで、同図(b)に示すように、これと
同じ材料であるNiの電鋳部材8bを用いて電鋳を行う
。そして、同図(c)に示すように、この電鋳部材8b
を前記の薄膜8aごと剥離して金属原盤8を得る。以後
は、前記の実施例と同様、同図(d)に示すように、金
属原盤8を成形用金型6内にセットし、この成形用金型
6のゲー)6aから樹脂10′を注入して射出成形を行
う。これにより、同図(e)に示すように、樹脂10′
を素材として成形されたブレーズホログラム10が得ら
れる。
−]−記の構成によれば、前記実施例と同様、ブレーズ
ホログラムの製造工程が格段に簡素化されて製造コスト
の低減を図ることができるとともに、上J己金属原盤8
の金属製ゆえの耐久性向上等によってその寿命が延び製
造コストの一層の低減を図ることができる。
なお、上記の第1実施例および第2実施例では、ガラス
原盤5を用いたが、これの代わりに、L)MMΔ(アク
リル樹脂)基板を基にPMMA原盤を作製して用いても
良いものである。
〔発明の効果〕
請求項第1項の発明に係るブレーズホログラムの製造方
法は、以上のように、ガラス基板又はPMMA基板七に
塗布されたフォトレジストに露光処理および現像処理を
施して所定のレジストパターンを形成した後に上記ガラ
ス基板又はP MMA基板にエツチングを施して断面鋸
歯形状のガラス原盤又しよP M M A原盤を製造し
、次いで、このガラス原盤又はP M M A原盤を成
形用スタンパとして射出成形を施すことによりブレーズ
ホログラムを得る構成である。
また、請求項第2項の発明に係るブレーズホログラムの
製造方法は、ガラス基板又はPMMA基板上に塗布され
たフォトレジストに露光処理およヴ現像処理を施して所
定のレジストパターンを形成した後に」二記ガラス基板
又はP M M A基板にエンチングを施して断面鋸歯
形状のガラス原盤又はP M M A原盤を製造し、次
に、このガラス原盤又はPMMA原盤の鋸歯状表面に金
属薄膜を形成するとともに電鋳部材により電鋳を行って
金属原盤を製造し、次いで、この金属原盤を成形用スタ
ンパとして射出成形を施すことによりブレーズホログラ
ムを得る構成である。
これにより、ブレーズホログラムの製造工程が格段に筒
素化されて製造コストの低減を図ることができる。特に
、請求項第2項の発明によれば、金属原盤の金属製ゆえ
の耐久性向上等によってその寿命が延び製造コストの一
層の低減を図ることができるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
第1図ないし第3図は請求項第1項の発明の−・実施例
を示すものであって、第1図(a)はガラス原盤の断面
図、同図(b)はガラス原盤を金型内にセントした状態
を示す断面図、同図(C)はブレーズホログラムの断面
図、第2図(a)ないしくe)はそれぞれガラス原盤製
造工程の各段階を示す断面図、第3図は二光束干渉法に
おいて用いられる光学系を示す概略構成図、第4図は請
求項第2項の発明の一実施例を示すものであって、同図
(a)はガラス原盤上にNi薄膜を形成した状態を示す
断面図、同図(b)は電鋳部+4により電鋳を行ってい
る状態を示す断面図、同図(c)は金属原盤の断面図、
同図(d)は金属原盤を金型内にセットした状態を示す
断面図、同図(e)はブレーズホログラムの断面図、第
5図および第6図はそれぞれ従来例を示すものであって
、第5図(a)ないしくe)はそれぞれブレーズホログ
ラム製造工程の各段階を示す断面図、第6図(a)ない
しく[)はそれぞれブレーズホログラム製造工程の各段
階を示す平面図である。 1はガラス基板、2はフ第1・レジスト、5はガラス原
盤、6は成形用金型、8aはNi薄膜、8bは電鋳部材
、8ば金属原盤、10はブレーズホログラムである。 □]泥薊 第1図(a) ”i医=:=こコニニジL−5第2図(
a)  ロロ]:工=1−1 第 ス a(C) a(d) m(e) 巳で¥Lf 陛呵W。 8ゴロゴゴb〜5 菓 図(a) [コdコ]〜21 フ 図(e) きで上ごb/23 業 零 図(b) 団=fiに21 菓 逼 第 適 図(f) N1訂上で18−−23

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、ガラス基板又はPMMA基板上に塗布されたフォト
    レジストに露光処理および現像処理を施して所定のレジ
    ストパターンを形成した後に上記ガラス基板又はPMM
    A基板にエッチングを施して断面鋸歯形状のガラス原盤
    又はPMMA原盤を製造し、次いで、このガラス原盤又
    はPMMA原盤を成形用スタンパとして射出成形を施す
    ことによりブレーズホログラムを得ることを特徴とする
    ブレーズホログラムの製造方法。 2、ガラス基板又はPMMA基板上に塗布されたフォト
    レジストに露光処理および現像処理を施して所定のレジ
    ストパターンを形成した後に上記ガラス基板またはPM
    MA基板にエッチングを施して断面鋸歯形状のガラス原
    盤又はPMMA原盤を製造し、次に、このガラス原盤又
    はPMMA原盤の鋸歯状表面に金属薄膜を形成するとと
    もに電鋳部材により電鋳を行って金属原盤を製造し、次
    いで、この金属原盤を成形用スタンパとして射出成形を
    施すことによりブレーズホログラムを得ることを特徴と
    するブレーズホログラムの製造方法。
JP63194161A 1988-08-03 1988-08-03 ブレーズホログラムの製造方法 Pending JPH0243590A (ja)

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