JP2001155386A

JP2001155386A - 収縮マザーと収縮ファーザー及びそれらの製造方法

Info

Publication number: JP2001155386A
Application number: JP33391299A
Authority: JP
Inventors: Masahiko Tsukuda; 雅彦佃
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 1999-11-25
Filing date: 1999-11-25
Publication date: 2001-06-08

Abstract

(57)【要約】【課題】光記録媒体原盤露光記録装置（ＬＢＲ）の光
源の波長を短くしたり、対物レンズのＮＡを大きくした
りすることなく、高密度な光記録媒体を得る。【解決手段】フォトレジスト原盤のベースとして収縮
可能な材料を用い、この上にフォトレジスト層を形成し
ＬＢＲを用いて信号ピットに対応する形状にパターニン
グする。その後、フォトレジスト層をマスキングとして
ベース表面をエッチングしてマザースタンパ６を得た
後、収縮させて収縮マザー７を得る。この上に金属メッ
キしてスタンパ９を得る。これを金型として射出成形
し、記録膜などを成膜すれば、高密度な光記録媒体を作
製できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスク等の光
記録媒体の製造に使用されるマザー及びファーザー、お
よびそれらの製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来の光記録媒体の製造方法を説明す
る。

【０００３】光記録媒体の製造は、はじめにフォトレジ
スト原盤の作製から始まる。原盤のベースとして一般的
には厚さ６ｍｍ程度のガラス板が用いられる。ガラス板
表面を研磨、洗浄した後、スピンコーター等によりガラ
ス板上にフォトレジストを塗布する。このフォトレジス
ト膜付きガラス板上に信号ピットを露光記録する。露光
記録には、ＬＢＲと呼ばれる光記録媒体原盤露光記録装
置が用いられる。ＬＢＲの光源としては一般的に青色レ
ーザーあるいは紫外線レーザー等を用い、レーザビーム
を集光する対物レンズにＮＡ（開口数）が０．９程度の
ものが用いられる。ＬＢＲを用いてフォトレジスト膜付
きガラス板にレーザビームを集光し、信号ピットを露光
記録する。これを現像することによってガラス板上のフ
ォトレジスト層に信号ピット形状に対応する凹凸が形成
されたフォトレジスト原盤が作製される。

【０００４】次に、光記録媒体の基板の金型となるスタ
ンパと呼ばれる金属板の作製を行う。信号ピット形状が
形成されたフォトレジスト原盤上にＮｉ薄膜をスパッタ
法あるいは無電解メッキ法等で形成する。それを電極と
してＮｉを約３００μｍ程度メッキを行う。このＮｉ金
属板の裏面を研磨した後、Ｎｉ金属板をフォトレジスト
原盤から剥離し、表面に付着したフォトレジストを取り
除くことでファーザースタンパとよばれる金型が作製さ
れる。

【０００５】その後、マザリング技術によって、ファー
ザースタンパから同様の形状のスタンパを複製する。マ
ザリングは、次のように行われる。信号ピットが形成さ
れているファーザースタンパ表面をアッシング法等によ
り酸化させた後、ファーザースタンパ表面の信号パター
ンが形成されている面にＮｉをメッキする。メッキした
Ｎｉ金属板をファーザースタンパから剥離することによ
って、マザースタンパと呼ばれる金型が形成される。信
号パターンが形成されているマザースタンパ表面をアッ
シング法等により酸化させた後、マザースタンパ表面に
Ｎｉメッキを行い、メッキしたＮｉ板の裏面を研磨した
後剥離し、内外径打ち抜き加工を行うと、光記録媒体基
板の金型となるＮｉスタンパが作製される。同様の方法
を繰り返すことでマザースタンパから同じ形状のＮｉス
タンパを数枚作製することが可能となる。

【０００６】こうして作製されたスタンパを金型とし
て、射出成形等の方法で、光記録媒体の基板を形成す
る。基板の材料としてはポリカーボネート等が用いられ
る。この信号パターンが写し取られた基板上に記録膜あ
るいは反射膜等を形成することによって、光記録媒体が
完成する。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】従来の光記録媒体の製
造方法では、記録密度を大きくするためには、ＬＢＲの
光源であるレーザの波長を短くする、あるいは対物レン
ズのＮＡを大きくするなどの手段を用いて、フォトレジ
スト膜付きガラス板上に集光するレーザビームのスポッ
ト径を絞り込まなければならない。

【０００８】しかし、レーザの波長を短くすることには
限界があり、また光源の波長が短くなるとＬＢＲ内で使
用している光学素子に入力されるエネルギー（光の波長
に反比例する）が大きくなることから、光学素子の寿命
も短くなり、コストがかかるなどの課題があった。ま
た、対物レンズのＮＡを従来使用されている０．９以上
にすることは非常に困難である。

【０００９】本発明は、従来の課題に鑑み、現在ＬＢＲ
で一般的に使用している波長の光源及び対物レンズを用
い、より高密度な光記録媒体の提供が可能なマザー及び
ファーザーを提供することを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は以下の構成とする。

【００１１】本発明に係る収縮マザーは、収縮可能な材
料板上に信号ピットに対応する凹凸形状が形成されたこ
とを特徴とする。かかる構成によれば、現在ＬＢＲで一
般的に使用している波長の光源及び対物レンズを用いて
より高密度な光記録媒体を得ることができる。

【００１２】上記の構成において、前記収縮可能な材料
は、熱収縮材料であってもよい。あるいは、乾燥収縮材
料であってもよい。

【００１３】また、上記の構成において、前記凹凸形状
の深さが５ｎｍ以上２５０ｎｍ以下であることが好まし
い。かかる構成によれば、好ましいピット深さを有する
光記録媒体が得られる。

【００１４】本発明の第１の構成に係る収縮マザーの製
造方法は、収縮可能な材料板上に所定パターンにフォト
レジスト層を形成し、前記フォトレジスト層をマスキン
グとして前記収縮可能な材料をエッチングし、前記フォ
トレジスト層を除去した後、前記収縮可能な材料を収縮
させることを特徴とする。即ち、フォトレジスト原盤の
ベースとして収縮可能な材料を用い、その上に形成した
フォトレジスト層を露光記録して信号ピットに対応する
パターンを形成する。次いで、これをマスキングとして
収縮可能な材料をエッチングすることによりマザースタ
ンパを得て、これを収縮させて収縮マザーとする。この
収縮マザーからスタンパを製作し、更に光記録媒体を製
造する。従って、現在ＬＢＲで一般的に使用している波
長の光源及び対物レンズを用いてもその後収縮させるこ
とにより、より高密度な凹凸パターンが形成された収縮
マザーを得ることができる。その結果、簡単な方法で高
密度の光記録媒体を製造できる。

【００１５】上記第１の収縮マザーの製造方法におい
て、前記収縮可能な材料を５ｎｍ以上２５０ｎｍ以下の
深さにエッチングすることが好ましい。かかる構成によ
れば、好ましいピット深さを有する光記録媒体が得られ
る。

【００１６】本発明の第２の構成に係る収縮マザーの製
造方法は、スタンパ上に形成された凹凸形状に収縮可能
な材料を密着後剥離して収縮可能な材料に前記凹凸形状
を転写した後、前記収縮可能な材料を収縮させることを
特徴とする。即ち、収縮可能な材料でスタンパ上の凹凸
形状を写し取った後、収縮させて収縮マザーとする。こ
の収縮マザーからスタンパを製作し、更に光記録媒体を
製造する。従って、現在ＬＢＲで一般的に使用している
波長の光源及び対物レンズを用いてもその後収縮させる
ことにより、より高密度な凹凸パターンが形成された収
縮マザーを得ることができる。その結果、簡単な方法で
高密度の光記録媒体を製造できる。

【００１７】上記第１及び第２の収縮マザーの製造方法
において、収縮可能な材料を１０％以上、更に３０％以
上、特に５０％以上収縮させることが好ましい。収縮の
程度を大きくすることにより、形成される凹凸形状をよ
り高密度化でき、最終的に得られる光記録媒体の記録密
度を向上させることができる。

【００１８】次に、本発明の収縮ファーザーは、収縮可
能な材料板上に信号ピットに対応する凹凸形状が形成さ
れたことを特徴とする。かかる構成によれば、現在ＬＢ
Ｒで一般的に使用している波長の光源及び対物レンズを
用いてより高密度な光記録媒体を得ることができる。

【００１９】上記の構成において、前記収縮可能な材料
は、熱収縮材料であってもよい。あるいは、乾燥収縮材
料であってもよい。

【００２０】また、上記の構成において、前記凹凸形状
の深さが５ｎｍ以上２５０ｎｍ以下であることが好まし
い。かかる構成によれば、好ましいピット深さを有する
光記録媒体が得られる。

【００２１】本発明の収縮ファーザーの製造方法は、フ
ォトレジスト層を露光現像して凹凸形状を形成し、収縮
可能な材料を前記凹凸形状に密着して収縮可能な材料に
前記凹凸形状を転写し、前記収縮可能な材料から前記フ
ォトレジスト層を除去後、前記収縮可能な材料を収縮さ
せることを特徴とする。かかる構成によれば、現在ＬＢ
Ｒで一般的に使用している波長の光源及び対物レンズを
用いてもその後収縮させることにより、より高密度な凹
凸パターンが形成された収縮ファーザーを得ることがで
きる。その結果、簡単な方法で高密度の光記録媒体を製
造できる。

【００２２】上記の収縮ファーザーの製造方法におい
て、収縮可能な材料を１０％以上、更に３０％以上、特
に５０％以上収縮させることが好ましい。収縮の程度を
大きくすることにより、形成される凹凸形状をより高密
度化でき、最終的に得られる光記録媒体の記録密度を向
上させることができる。

【００２３】

【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態につ
いて説明する。

【００２４】（実施の形態１）図１，図２に本発明の実
施の形態１の収縮マザー及びそれを用いた光記録媒体の
製造方法の一例を示す。

【００２５】まず、延伸されたポリ塩化ビニル製の薄板
１上に、スピンコーターを用いてフォトレジスト２を塗
布する（図１（Ａ））。このフォトレジスト膜付きポリ
塩化ビニル薄板上に３５１ｎｍのＡｒ⁺レーザを光源と
し、集光用対物レンズ３のＮＡが０．９であるＬＢＲ
（光記録媒体原盤露光記録装置）を用いて、信号ピット
を露光記録する（図１（Ｂ））。露光記録した後、現像
を行うことによって、フォトレジスト層が所定形状にパ
ターニングされて、ポリ塩化ビニル製の薄板１上にフォ
トレジストによる信号ピット形状４が凹凸状に形成され
たフォトレジスト原盤が作製される（図１（Ｃ））。こ
のフォトレジスト層による信号ピット４をマスキングと
して、エッチングを行う。こうして信号ピットが彫り込
まれたポリ塩化ビニル製の薄板５を得る（図１
（Ｄ））。ポリ塩化ビニル製の薄板５表面に付着してい
るフォトレジスト層４を除去し、ポリ塩化ビニル製マザ
ースタンパ６が完成する（図２（Ｅ））。このマザース
タンパに熱を加えることで熱収縮させる。収縮後のポリ
塩化ビニル製マザースタンパ７を収縮マザーとよぶ（図
２（Ｆ））。露光記録時の信号ピット長が０．３μｍ、
ピット深さが１０ｎｍのとき、加熱時間５秒で、加熱温
度を１００度から１５０度まで変化させたときの収縮マ
ザー７のピット長を電子顕微鏡で、またピット深さをＡ
ＦＭで測定した。結果を表１に示す。

【００２６】

【表１】

【００２７】なお、ここでは、熱収縮する材料として、
ポリ塩化ビニルを使用したが、その他の熱収縮する材料
あるいは乾燥収縮する材料に置き換えることは可能であ
る。

【００２８】こうしてできた収縮マザー７の信号ピット
が形成されている面にスパッタ法によりＮｉ薄膜をスパ
ッタする。このＮｉ薄膜を電極として、Ｎｉメッキを行
う。メッキしたＮｉ金属板８の裏面を研磨した後（図２
（Ｇ））、Ｎｉ金属板８を収縮マザー７から剥離するこ
とで、Ｎｉ金属でできたファーザースタンパ９が完成す
る。

【００２９】ファーザースタンパ９を内外径打ち抜き加
工し、これを金型として射出成形することによって、ポ
リカーボネート製の光記録媒体基板が作製できる。

【００３０】また、このようにファーザースタンパ９を
成形に使用しても良いが、マザリング技術を使用すれ
ば、同様の形状を持ったファーザースタンパを複数枚作
製することが可能である。マザリングは、次のようにし
て行われる。ファーザースタンパ９の信号パターンが形
成されている表面をアッシングすることによって酸化さ
せ、Ｎｉ表面に酸化膜を形成する。酸化膜が形成された
Ｎｉ表面に再びＮｉメッキを行い、剥離する。剥離した
Ｎｉ板をマザースタンパとして、表面アッシングおよび
Ｎｉメッキ、剥離を行うことによって、ファーザースタ
ンパ９と同一形状のファーザースタンパが作製できる。
同様の方法を繰り返すことによって、同一形状のファー
ザースタンパが複数枚作製できる。こうして作製された
ファーザースタンパを使用して、射出成形を行い、光記
録媒体基板が作製される。

【００３１】この光記録媒体基板に記録膜あるいは反射
膜等を成膜すれば、光記録媒体が完成する。

【００３２】（実施の形態２）図３，図４に本発明の実
施の形態２の収縮マザー及びそれを用いた光記録媒体の
製造方法の一例を示す。

【００３３】まず、ガラス原盤１０を研磨、洗浄したの
ち、スピンコーターを用いてフォトレジスト１１をガラ
ス板１０上に塗布する（図３（Ａ））。このフォトレジ
スト膜付きガラス板上に波長３５１ｎｍのＡｒ⁺レーザ
を光源とし、集光用対物レンズ１２のＮＡが０．９であ
るＬＢＲ（光記録媒体原盤露光記録装置）を用いて、信
号ピットを露光記録する（図３（Ｂ））。露光記録した
のち、現像を行うことによって、フォトレジスト層が所
定形状にパターニングされて、ガラス板１０上にフォト
レジストによる信号ピット形状１３が凹凸状に形成され
たフォトレジスト原盤が作製される（図３（Ｃ））。こ
のフォトレジスト原盤の表面にスパッタ法によってＮｉ
薄膜を形成した後、これを電極としてＮｉメッキを行
い、フォトレジスト原盤上にＮｉ金属板１４を形成する
（図３（Ｄ））。メッキしたＮｉ板１４をフォトレジス
ト原盤から剥離した後、信号ピットが形成されているＮ
ｉ板表面に付着しているフォトレジストを取り除き、Ｎ
ｉ金属でできたスタンパ１５を得る（図３（Ｅ））。こ
のようにして作製されたファーザースタンパ１５表面に
延伸されたポリ塩化ビニル薄板１６を押しつけ、ファー
ザースタンパ１５表面の形状を写し取る（図４
（Ｆ））。その後、ポリ塩化ビニル薄板１６をファーザ
ースタンパ１５から剥離して、ポリ塩化ビニル製マザー
スタンパ１７が完成する（図４（Ｇ））。このポリ塩化
ビニル製マザースタンパ１７に熱を加え、熱収縮させる
（図４（Ｇ））。この熱収縮されたマザースタンパ１８
を収縮マザーとよぶ。ポリ塩化ビニル薄板は１５０度、
５秒間の加熱により、約６０％の熱収縮が生じるため、
フォトレジスト膜上に形成されたピット長０．３μｍの
信号ピットは収縮後、ピット長約０．１９μｍの信号ピ
ットとなる。このようにして作製された収縮マザー１８
の信号ピットが形成されている面にスパッタ法によって
Ｎｉ薄膜を形成した後、これを電極としてＮｉメッキを
行う。メッキしたＮｉ金属板１９の裏面を研磨した後
（図４（Ｉ））、Ｎｉ金属板１９を収縮マザー１８から
剥離することで、ファーザースタンパ２０が作製される
（図４（Ｊ））。

【００３４】ファーザースタンパ２０を内外径打ち抜き
加工し、これを金型として射出成形することによって、
ポリカーボネート製の光記録媒体基板が作製できる。

【００３５】また、ファーザースタンパ２０を成形に使
用しても良いが、マザリング技術を使用すれば、同様の
形状を持ったファーザースタンパを複数枚作製すること
が可能である。マザリングは、次のようにして行われ
る。ファーザースタンパ２０の信号パターンが形成され
ている表面をアッシングすることによって酸化させ、Ｎ
ｉ表面に酸化膜を形成する。酸化膜が形成されたＮｉ表
面に再びＮｉメッキを行い、剥離する。剥離したＮｉ板
をマザースタンパとして、表面アッシングおよびＮｉメ
ッキ、剥離を行うことによって、ファーザースタンパ２
０と同一形状のファーザースタンパが作製できる。同様
の方法を繰り返すことによって、同一形状のファーザー
スタンパが複数枚作製できる。こうして作製されたファ
ーザースタンパを使用して、射出成形を行い、光記録媒
体基板が作製される。

【００３６】この光記録媒体基板に記録膜あるいは反射
膜等を成膜すれば、光記録媒体が完成する。

【００３７】また、ここでは、収縮マザー１８から１枚
のスタンパ２０を作製したが、収縮マザー１８を用いて
マザリングを行い、複数枚のファーザースタンパを作製
することも可能である。

【００３８】（実施の形態３）図５，図６に本発明の実
施の形態３の収縮ファーザー及びそれを用いた光記録媒
体の製造方法の一例を示す。

【００３９】まず、ガラス原盤２２を研磨、洗浄したの
ち、スピンコーターを用いてフォトレジスト２１をガラ
ス板２２上に塗布する（図５（Ａ））。このフォトレジ
スト膜付きガラス板上に波長３５１ｎｍのＡｒ⁺レーザ
を光源とし、集光用対物レンズ２３のＮＡが０．９であ
るＬＢＲ（光記録媒体原盤露光記録装置）を用いて、信
号ピットを露光記録する（図５（Ｂ））。露光記録した
のち、現像を行うことによって、フォトレジスト層が所
定形状にパターニングされて、ガラス板２２上にフォト
レジストによる信号ピット形状２４が凹凸状に形成され
たフォトレジスト原盤が作製される（図５（Ｃ））。こ
のフォトレジスト原盤の信号ピットが形成された面に、
延伸されたポリ塩化ビニル薄板２５を押しつけ、信号ピ
ット形状２４を写し取る（図５（Ｄ））。ポリ塩化ビニ
ル薄板２５をフォトレジスト原盤から剥離し、表面に付
着したフォトレジストを除去することで、ポリ塩化ビニ
ル製のファーザースタンパ２６が作製できる（図５
（Ｅ））。このファーザースタンパ２６に熱を加えるこ
とによって、熱収縮を生じさせる（図６（Ｆ））。収縮
後のファーザースタンパ２７を収縮ファーザーと呼ぶ。
ポリ塩化ビニル薄板は１５０度、５秒間の加熱により、
約６０％の熱収縮が生じるため、フォトレジスト膜上に
形成されたピット長０．３μｍの信号ピットは収縮後、
ピット長約０．１９μｍの信号ピットとなる。このよう
にして作製された収縮ファーザー２７の信号ピットが形
成されている面にスパッタ法によってＮｉ薄膜を形成し
た後、これを電極としてＮｉメッキを行う。メッキした
Ｎｉ金属板２８の裏面を研磨した後（図６（Ｇ））、Ｎ
ｉ金属板２８を収縮ファーザー２７から剥離すること
で、マザースタンパ２９が作製される（図６（Ｈ））。
マザースタンパ２９の信号パターンが形成されている表
面をアッシングすることによって酸化させ、Ｎｉ表面に
酸化膜を形成する。酸化膜が形成されたＮｉ表面に再び
Ｎｉメッキを行い、Ｎｉ金属板３０を形成する（図６
（Ｉ））。その後、マザースタンパ２９を剥離すること
で、ファーザースタンパ３１が作製される（図６
（Ｊ））。マザースタンパ２９から同様の方法でファー
ザースタンパ３１が複数枚作製できる。このスタンパ３
１を金型として射出成形を行い、ポリカーボネート製の
光記録媒体基板が形成される。この光記録媒体基板の信
号ピットが形成されている面に、記録膜および反射膜を
スパッタ法によって形成することで、光記録媒体が実現
できる。

【００４０】上記に示した実施の形態１〜３では、収縮
可能な材料としてポリ塩化ビニルを用いたが、これ以外
の熱収縮可能な材料や乾燥収縮可能な材料を用いること
ができる。熱収縮可能な材料としては、ポリ塩化ビニ
ル、ポリプロピレン、ポリスチレン、架橋ポリエチレン
等があり、これらの中ではポリ塩化ビニルが好ましい。
また、乾燥収縮可能な材料としては高吸水性高分子材料
があり、フィルム状ポリアクリル酸塩系材料等が好まし
い。

【００４１】

【発明の効果】本発明によれば、簡単な方法で、現在Ｌ
ＢＲで一般的に使用している波長の光源及び対物レンズ
を用いて高密度の光記録媒体を製造できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態１の収縮マザー及び光記録
媒体の製造方法を工程順に示した模式的断面図

【図２】本発明の実施の形態１の収縮マザー及び光記録
媒体の製造方法を工程順に示した模式的断面図

【図３】本発明の実施の形態２の収縮マザー及び光記録
媒体の製造方法を工程順に示した模式的断面図

【図４】本発明の実施の形態２の収縮マザー及び光記録
媒体の製造方法を工程順に示した模式的断面図

【図５】本発明の実施の形態３の収縮ファーザー及び光
記録媒体の製造方法を工程順に示した模式的断面図

【図６】本発明の実施の形態３の収縮ファーザー及び光
記録媒体の製造方法を工程順に示した模式的断面図

【符号の説明】

１ポリ塩化ビニル薄板（収縮可能な材料板）２，１１，２１フォトレジスト層３，１２，２３レーザービーム集光用対物レンズ４，１３，２４信号ピット形状が形成されたフォトレ
ジスト層５エッチングされたポリ塩化ビニル薄板６，１７ポリ塩化ビニル製マザースタンパ７，１８収縮後のポリ塩化ビニル製マザースタンパ
（収縮マザー）８，１９収縮マザー上にメッキされたＮｉ金属板９，２０Ｎｉ金属でできたファーザースタンパ１０，２２ガラス原盤１４フォトレジスト原盤上にメッキされたＮｉ金属板１５Ｎｉ金属でできたスタンパ１６スタンパ形状を写し取ったポリ塩化ビニル薄板２５フォトレジスト原盤上に形成されたピット形状を
写し取ったポリ塩化ビニル薄板２６ポリ塩化ビニル製ファーザースタンパ２７収縮後のポリ塩化ビニル製ファーザースタンパ
（収縮ファーザー）２８収縮ファーザー上にメッキされたＮｉ金属板２９Ｎｉ金属でできたマザースタンパ３０マザースタンパ上にメッキされたＮｉ金属板３１Ｎｉ金属でできたファーザースタンパ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】収縮可能な材料板上に凹凸形状が形成さ
れた光記録媒体製作用の収縮マザー。
【請求項２】前記収縮可能な材料が熱収縮材料である
請求項１に記載の収縮マザー。
【請求項３】前記収縮可能な材料が乾燥収縮材料であ
る請求項１に記載の収縮マザー。
【請求項４】前記凹凸形状の深さが５ｎｍ以上２５０
ｎｍ以下である請求項１に記載の収縮マザー。
【請求項５】収縮可能な材料板上に所定パターンにフ
ォトレジスト層を形成し、前記フォトレジスト層をマス
キングとして前記収縮可能な材料をエッチングし、前記
フォトレジスト層を除去した後、前記収縮可能な材料を
収縮させることを特徴とする収縮マザーの製造方法。
【請求項６】前記収縮可能な材料を５ｎｍ以上２５０
ｎｍ以下の深さにエッチングする請求項５に記載の収縮
マザーの製造方法。
【請求項７】スタンパ上に形成された凹凸形状に収縮
可能な材料を密着後剥離して前記収縮可能な材料に前記
凹凸形状を転写した後、前記収縮可能な材料を収縮させ
ることを特徴とする収縮マザーの製造方法。
【請求項８】収縮可能な材料を１０％以上収縮させる
請求項５又は７に記載の収縮マザーの製造方法。
【請求項９】収縮可能な材料板上に凹凸形状が形成さ
れた光記録媒体製作用の収縮ファーザー。
【請求項１０】前記収縮可能な材料が熱収縮材料であ
る請求項９に記載の収縮ファーザー。
【請求項１１】前記収縮可能な材料が乾燥収縮材料で
ある請求項９に記載の収縮ファーザー。
【請求項１２】前記凹凸形状の深さが５ｎｍ以上２５
０ｎｍ以下である請求項９に記載の収縮ファーザー。
【請求項１３】フォトレジスト層を露光現像して凹凸
形状を形成し、収縮可能な材料を前記凹凸形状に密着し
て前記収縮可能な材料に前記凹凸形状を転写し、前記収
縮可能な材料から前記フォトレジスト層を除去後、前記
収縮可能な材料を収縮させることを特徴とする収縮ファ
ーザーの製造方法。
【請求項１４】収縮可能な材料を１０％以上収縮させ
る請求項１３に記載の収縮ファーザーの製造方法。