JPS63155445A - 情報記録原盤の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は一般にスタンパ−と呼ばれる情報記録原盤の製
造方法に関するものである。

（従来の技術） 従来、ビデオディスク等の作成に用いるスタンパ−（情
報記録原盤）を製造するには、通常、第３図に例示の如
くにフォトレジスト１を塗布したガラス板等の所望の基
材２に対してレーザビームを照射して、情報信号に対応
した凹凸形状を設けることにより、原型５をまず形成し
ていた（第３図（ａ）乃至（ｂ））。その後、この原型
５をもとに無電解メッキや電気メッキ等により複製を繰
返してマスターあるいはマザーと呼ばれる型３を作成し
、この型からスタンパ−４を複製していた（第３図（ｃ
）乃至（ｆ））。

しかしながら、このような従来法には下記のような問題
があった。

１）工程数が多く、しかも高精度の転写性が要求される
ためにコストの増加を招く、 ２）複製（レプリカ）を繰返すので高精度の転写が難し
く欠陥が増加しやすい、 ３）スタンパ−厚みとして一般的に厚さ０．３　ｍｍ程
度が要求されるが、メッキに長時間が必要である、 ４）スタンパ−形成をメッキによっているため、材質や
耐久性が限定される（例えばスタンパ−形成材料として
一般的な電気ニッケルはその硬度がビッカース硬度（Ｉ
ｌｖ）で２００〜４００程度であり、無電解ニッケルで
もＨｖは４００〜５００程度である）。

〔発明が解決しようとする問題点〕

本発明は上記の諸点に鑑み成されたものであって、上記
従来法の種々の欠点を除去し、溝深さの異なった高精度
の情報記録原盤を経済的に製造することのできる情報記
録原盤の製造方法を提供することを目的とする。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明の上記目的は、以下の本発明によって達成される
。

情報記録原盤となる基材表面に深さの異なる２種以上の
パターンを有するパターン層を感光性材料で形成する工
程と、該基材および基材上のパターン層をともにエツチ
ングして前記基材に深さの異なる２種以上のパターンを
形成する工程とを有することを特徴とする情報記録原盤
の製造方法。

〔作　用〕 本発明の方法では、情報記録原盤とする基材表面に形成
した上記の如きパターン層と基材とをともにエツチング
することにより、該基材に深さの異なる溝を形成して情
報記録原盤を作成するため、従来法におけるが如き複数
の転写工程を行なう必要がなくなり、溝深さの異なる情
報記録原盤を高精度かつ経済性よく提供することができ
る。

更には、メッキ工程を特に必要としないため、耐久性あ
るいは経済性などを勘案した広範な材料選、択を行なう
こともできる。

以下、図面を参照しながら本発明の詳細な説明する。

第１図に本発明の方法の一態様を示す。尚、以下におい
ては主として深さの異なる２種のパターンを形成する場
合を例として本発明を説明するが、３種以上のパターン
を形成する場合にも本発明が適用されることは言うまで
もない。

まず、第１図（ａ）に例示の如くに所望の基材２０を準
備し、この基材２０上に感光性材料を用いてパターン形
成層２１を形成する。基材２０は、その耐久性や経済性
等を適宜勘案して、例えば金属あるいはセラミックス等
の所望材質ならびに形状のものを使用することができる
。具体的には、例えばＳＵＳ　（ステンレス）、にＮ、
　ＷＣ，Ｓｉ０％　Ｔｉ　Ｎ。

Ａｊ１２０３　、５ｉ０２等からなる板を挙げることが
できる。

感光性材料としては、ポジ型あるいはネガ型のフォトレ
ジストが好ましく用いられる。これら感光性材料はフィ
ルム状あるいは液状等の所望の形態で用いられ、塗布あ
るいはラミネートなどにより基材２０に積層される。

次いで、上記パターン形成層２１に深さの異なる２種以
上のパターンを形成し、例えば第１図（ｂ）に例示の如
き深さの異なるパターン２２．２３を有するパターン層
２４を得る。

上記パターンの形成方法としては、１）例えばパターン
形成層をポジ型のフォトレジストで形成し、このフォト
レジストに露光量の異なる複数の高エネルギービーム（
例えば計レーザ等）を照射してパターン形成部分におけ
る露光深さを変化させ、該露光部分を上記フォトレジス
トの現像液で溶解除去して深さの異なる所望のパターン
を形成する方法、あるいは２）基材上の感光性材料を全
面露光して硬化した後、エネルギー強度の異なるレーザ
光を照射して深さの異なる所望のパターンをエツチング
形成する方法等を挙げることができる。

こうして基材２０上にパターン層２４を形成した後、上
記基材２０およびパターン層２４をともにエツチングし
て第１図（ｅ）に示したような深さの異なる２種以上の
パターンを有する情報記録原盤を完成する。尚、上記に
おいては特に説明しなかつ外が、第１図（Ｃ）および（
ｄ）は、エツチング！ｌにおける上記基材２０およびパ
ターン層２４の状態変化を時間を追って説明したもので
、第１図（Ｃ）はエツチング途中における状態変化図で
あり、第１図（ｄ）の状態まででエツチングを終了し、
パターン層２４を剥離した状態が第１図（ｅ）の完成品
となる。

上記エツチングを行なうに際して、エツチング方法とし
ては乾式あるいは湿式のいずれをも採用することができ
る。本例では基材の材質として、そのエツチングレート
がパターン層を構成する感光性材料のエツチングレート
と実質的に同程度のものを用い、ＣＦ鴫などの所望のガ
スをエツチングガスとするりアクティブエツチングによ
り、上述の第１図（Ｃ）乃至（ｅ）に例示の如くに基材
とパターン層とのエツチングを同時に行なって、基材に
深さの異なるパターンを形成した。

もちろん、基材とパターン層のエツチングは、必ずしも
上記の如くに同時に行なうことは必要ではなく、基材と
パターン層のエツチングレートが異なる場合など、必要
に応じて基材のエツチングとパターン層のエツチングと
を交互に繰返して行なつてもよい。工程数の点からはエ
ツチングが一段で行なえる同時の方が有利である。

次に、このようなエツチングを交互に行なう場合の例を
第２図に示す。

この第２図の態様では、第２図（ａ）乃至（ｂ）に例示
の如くに、上記第１図（ａ）乃至（ｂ）と同様にして所
望の基材２０上に深さの異なる所望のパターン２２．２
３を有するパターン層２４をまず形成する。

このパターン層２４の形成に際しては、最終的に基材２
０に得ようとするパターンのうち、その深さが最も深い
パターンに対応する部分の基材表面が露出（本例ではパ
ターン２３）するようにパターン層２４を形成するとよ
い。

次いで、第２図（Ｃ）に例示の如くに上記パターン層２
４を形成した基材２０の露出部、本例ではパターン２３
の形成部分に、例えば基材２０のみを溶解するエツチン
グ液をスプレー塗布するなどして基材２０のみをエツチ
ングする第１のエツチングを行なう。この第１のエツチ
ングでは、基材に形成するパターンの最終深さまでのエ
ツチングは行なわず、途中の深さにとどめておくとよい
。例えば本例の如くに２種の深さの異なるパターンを形
成する場合には、双方の深さの差ｄ程度までとしておく
とよい。

次いで、上記エツチングを施した基材のパターン層２４
に、該層２４のみを溶解するエラチン液をスプレー塗布
するなどして、パターン層２４のみをエツチングする第
２のエツチングを行ない、第２図（ｄ）に例示の如くに
基材２０を新たに露出させる。

次いで、上記第１のエツチングと同様の基材２０のみを
エツチングする第３のエツチングを行なって、第２図（
ｅ）に例示の如くに深さの異なる所望のパターンを基材
２０に得る。

最後に、上記第２のエツチングと同様のパターン層２４
のみをエツチングする第４のエツチングを行なって、基
材２０上のパターン層２４を除去し、第２図（ｆ）に例
示の如き深さの異なるパターンを有する情報記録原盤を
完成する。以上のような操作を繰返すことにより、所望
数の深さの異なるパターンを有する情報記録原盤を得る
ことができる。

上記第２図の態様は、基材のエツチングとパターン層の
エツチングとを別途性なうので、１）パターン層の膜厚
が基材に形成するパターンの深さに影習しない、 ２）基材に形成するパターンの深さを基材のエツチング
時間のみで任意に設定できる、 等の利点を有する。

〔実施例〕

本発明を更に具体的に説明するため、以下に本発明の実
施例を示す。

実施例１ 第１図に例示の手順に従って情報記録原盤を以下のよう
に作成した。

まず、第１図（ａ）に例示の如くにＴｉＮ製の所望形状
の基板２０を準備した後、上記基板と同程度のエツチン
グレートを有するポジ型のフォトレジスト（商品名、　
ＡＺ−１３７０、ヘキスト社製）を用いてパターン形成
層２１を形成した。

次に、このパターン形成層２１に出力の異なる高エネル
ギービーム（本例ではＡｒレーザ）を照射し、該出力差
に基づくパターン形成層２１への露光量差を利用して、
第１図（ｂ）に例示の如き深さの異なる２種の微細パタ
ーン２２．２３を形成した。

尚、Ａｒレーザの出力は５〜１５ｍＷとした。また、パ
ターンの深さは、パターン２２を０．１μｍ、パターン
２３を０．１７．とじた。

次に、ＣＦ、をエツチングガスとするりアクティブエツ
チングを用いて、上記パターン層および該パターン層を
形成した基板のエツチングを第１図（Ｃ）乃至（ｅ）に
例示の如くに行ない、深さの異なる２種のパターンを有
する第１図（ｅ）に例示の如き情報記録原盤を得た。こ
の原盤のパターンの深さは上記パターン層に形成したも
のと実質的に同じであり、精度よく転写が行なわれてい
ることが分った。

実施例２ 第２図に例示の手順に従って情報記録原盤を以下のよう
に作成した。

まず、実施例１と同様にして、第２図（ｂ）に例示の如
き深さの異なる２種のパターン２２．２３を有するパタ
ーン層２４を基板２０上に形成した。パターン２２．２
３の深さは実施例１と同じにした。

次いで、この基板２０のみを溶解させるエツチング液（
フッ化水素）を用いて、第２図（Ｃ）に例示の如きパタ
ーンを基板２０上に形成した。このパターンの深さは０
．０７ｐとした。

次いで、第２図（ｄ）に例示の如くに、パターン層２４
のみを溶解するエツチング液（Ｎａｖａｌ）を用いて、
上記パターン層２４を基板表面が新たに露出するまでエ
ツチングした。

その後、第２図（ｅ）乃至（ｆ）に例示の如くに基板２
０のみのエツチングと、パターン層２４のみのエツチン
グとを順次行ない、第２図（ｆ）に例示の如き深さの異
なる２種のパターンを有する情報記録原盤を得た。この
原盤のパターンの深さは上記パターン層に形成したもの
と関係なく、基材のエツチング時間のみで任意に設定で
きた。

〔発明の効果〕

以上の本発明によってもたらされる効果としては、次ぎ
のようなものを挙げることができる。

Ｉ）メッキ工程を特に必要としないので、短時間で情報
記録原盤を作成できる。

２）耐久性あるいは経済性などを勘案した広範な型材質
の選択が可能である。

３）２種以上の深さの興なるパターンの形成が可能であ
る。

４）高精度のパターン形成が可能である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の詳細な説明する図、第２図は本発明の
別の態様を説明する図、第３図は従来法の代表的な態様
を説明する図である。 １・・・フォトレジスト　２．２０−・・基材２１−・
・パターン形成層　２２．２３・・・パターン２４−・
・パターン層

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）情報記録原盤となる基材表面に深さの異なる２種
   以上のパターンを有するパターン層を感光性材料で形成
   する工程と、該基材および基材上のパターン層をともに
   エッチングして前記基材に深さの異なる２種以上のパタ
   ーンを形成する工程とを有することを特徴とする情報記
   録原盤の製造方法。