JPS63124246A - 光学的記録媒体用原盤の製造方法 - Google Patents
光学的記録媒体用原盤の製造方法Info
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- JPS63124246A JPS63124246A JP26861086A JP26861086A JPS63124246A JP S63124246 A JPS63124246 A JP S63124246A JP 26861086 A JP26861086 A JP 26861086A JP 26861086 A JP26861086 A JP 26861086A JP S63124246 A JPS63124246 A JP S63124246A
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 18
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 14
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims abstract description 24
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 claims abstract description 16
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 11
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 7
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims abstract 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、光ビームにより記録、再生を行うことが可能
な光学的記録媒体用原盤の製造方法に関する。
な光学的記録媒体用原盤の製造方法に関する。
（従来の技術）
光ディスクの基板には光学的にトラッキングを行うため
の溝と、アドレス信号を取り出すためのビットが形成し
である。一般に、それぞれの深さはλ／８、λ／４ （
λ：読み取り光の波長）としている。
の溝と、アドレス信号を取り出すためのビットが形成し
である。一般に、それぞれの深さはλ／８、λ／４ （
λ：読み取り光の波長）としている。
従来、この様な溝とビットを形成するための原盤の製造
方法は、第４図に示すガラス基板１にλ／４程度の厚さ
のフォトレジストを塗布し、ベークした後（第５図）、
光量の異なるレーザー光を用いてアドレスピットと案内
溝の深さがλ／４、λ／８になるように露光、現像し、
第６図にある様な断面形状になる工程で行われている。
方法は、第４図に示すガラス基板１にλ／４程度の厚さ
のフォトレジストを塗布し、ベークした後（第５図）、
光量の異なるレーザー光を用いてアドレスピットと案内
溝の深さがλ／４、λ／８になるように露光、現像し、
第６図にある様な断面形状になる工程で行われている。
前記した方法による原盤製造方法では、レーブー光の露
光量の違いによってのみ深さを変えるため、フォトレジ
ストを底まで抜くアドレスピットでは矩形になるが、ア
ドレスピットの１／２の深さの案内溝ではレジストを中
間までしか抜かないので、レーザーの光量分布そのまま
に、底が丸まってしまい、十分大きなトラッキング信号
が得にくいという問題があった。また、案内溝はレーザ
ー光のパワー変動がそのまま深さの変動となるため、全
面均一な深さに形成するのが困難であった。
光量の違いによってのみ深さを変えるため、フォトレジ
ストを底まで抜くアドレスピットでは矩形になるが、ア
ドレスピットの１／２の深さの案内溝ではレジストを中
間までしか抜かないので、レーザーの光量分布そのまま
に、底が丸まってしまい、十分大きなトラッキング信号
が得にくいという問題があった。また、案内溝はレーザ
ー光のパワー変動がそのまま深さの変動となるため、全
面均一な深さに形成するのが困難であった。
本発明は以上の問題点に鑑みなされたものでありその目
的は、矩形な光学的案内溝を有する光学的記録媒体用原
盤を容易に製造する方法を提供することにある。
的は、矩形な光学的案内溝を有する光学的記録媒体用原
盤を容易に製造する方法を提供することにある。
本発明の上記目的は、フォトレジストを塗布しベークす
るという方法を用いて基板上に第１のレジスト層と感度
の異なる第２のレジスト層を順次積層、形成した後、各
々の層の感度に応じて露光し現像することで第２のレジ
スト層のみを貫通する光学的案内溝と両方のレジスト層
を貫通するアドレスピットを形成する方法であって、フ
ォトレジスト塗布後のベーク温度を変えることによって
２つのレジスト層の感度に差を生じさせる光学的記録媒
体用原盤の製造方法によって達成される。
るという方法を用いて基板上に第１のレジスト層と感度
の異なる第２のレジスト層を順次積層、形成した後、各
々の層の感度に応じて露光し現像することで第２のレジ
スト層のみを貫通する光学的案内溝と両方のレジスト層
を貫通するアドレスピットを形成する方法であって、フ
ォトレジスト塗布後のベーク温度を変えることによって
２つのレジスト層の感度に差を生じさせる光学的記録媒
体用原盤の製造方法によって達成される。
以下、本発明の製造方法を第１図〜第３図を用いて説明
する。
する。
図中１は、ガラスやポリカーボ製の基板であり、この基
板上に読み取り波長λのｌ／８に相当する厚さ７２５人
に第−層フォトレジストを塗布後、１２０℃以上でベー
クすることで低感度の第１のレジスト層３が得られる。
板上に読み取り波長λのｌ／８に相当する厚さ７２５人
に第−層フォトレジストを塗布後、１２０℃以上でベー
クすることで低感度の第１のレジスト層３が得られる。
次に、厚さ７２５人に第二層フォトレジストを塗布後、
１２０℃未満でベークすることで第１のレジスト層よ
り高感度の第２のレジスト層４が得られる。本発明にお
いては、第二層フォトレジストと第−層フォトレジスト
は同じ材料を用いることができる。
１２０℃未満でベークすることで第１のレジスト層よ
り高感度の第２のレジスト層４が得られる。本発明にお
いては、第二層フォトレジストと第−層フォトレジスト
は同じ材料を用いることができる。
この様に得られた感度の異なる二層のレジスト層に対し
て、高感度の第２のレジスト層４だけを感光させる光量
のレーザー光と二層とも感光させる光量のレーザー光を
用いて露光、現像することで、アドレスピットと案内溝
の深さがλ／４、λ／８で、両方の形状が矩形となった
第６図に示すような原盤が得られる。
て、高感度の第２のレジスト層４だけを感光させる光量
のレーザー光と二層とも感光させる光量のレーザー光を
用いて露光、現像することで、アドレスピットと案内溝
の深さがλ／４、λ／８で、両方の形状が矩形となった
第６図に示すような原盤が得られる。
本発明においてフォトレジストは従来使用されていたＡ
Ｚ−１３５０：ヘキスト社製等が使用できる。
Ｚ−１３５０：ヘキスト社製等が使用できる。
これらのフォトレジストのうち１種類を用いて第１と第
２の両レジスト層を形成する場合、第２のレジスト層の
ベーク温度を従来と同様の約９０℃に、すると、第１の
レジスト層のベーク温度は１２０℃もしくはそれ以上の
温度にすれば両層の感度に有意の差が表れる。
２の両レジスト層を形成する場合、第２のレジスト層の
ベーク温度を従来と同様の約９０℃に、すると、第１の
レジスト層のベーク温度は１２０℃もしくはそれ以上の
温度にすれば両層の感度に有意の差が表れる。
本発明の製造方法においては、案内溝の深さは露光量に
対して鈍感であるので、容易に第２のレジスト層の厚さ
に等しくできるため、均一なトラッキング信号が得られ
る。
対して鈍感であるので、容易に第２のレジスト層の厚さ
に等しくできるため、均一なトラッキング信号が得られ
る。
以下に本発明の具体的実施例を挙げる。
実施例１
直径２５０ｍｍ、厚さｌ Ｏｍｍのガラス基板１を用意
した。この上に第−層フォトレジスト（ＡＺ−１３５０
：ヘキスト社製）を厚さ７２５人に塗布後、 １２０”
Ｃで３０分間ベークした。次に、第−層フォトレジスト
上に第二層フォトレジストを厚さ７２５人に塗布後、９
０℃で３０分間ベークした。これに、各々の層に応じた
光量（線速４．２ｍ／ｓｅｃで１９ｍＷと２７ｍＷ）の
レーザー光で露光し現像することで、第６図のようなア
ドレスピット、案内溝とも矩形の光学的記録媒体用原盤
を得ることができた。
した。この上に第−層フォトレジスト（ＡＺ−１３５０
：ヘキスト社製）を厚さ７２５人に塗布後、 １２０”
Ｃで３０分間ベークした。次に、第−層フォトレジスト
上に第二層フォトレジストを厚さ７２５人に塗布後、９
０℃で３０分間ベークした。これに、各々の層に応じた
光量（線速４．２ｍ／ｓｅｃで１９ｍＷと２７ｍＷ）の
レーザー光で露光し現像することで、第６図のようなア
ドレスピット、案内溝とも矩形の光学的記録媒体用原盤
を得ることができた。
この原盤を用いて光デイスク基板を作り、ドライブ装置
にのせて読み取り波長８３０ｎｍでトラッキング信号を
測定したところ、均一で大きな信号が得られた。
にのせて読み取り波長８３０ｎｍでトラッキング信号を
測定したところ、均一で大きな信号が得られた。
実施例２
実施例１で用いたのと同じ第−層フォトレジストを厚さ
７２５人に塗布した後、 １２０℃の代りに １４０℃
で３０分間ベークした以外は実施例１と全く同様にして
原盤の製造を行った。その結果、第６図のような原盤を
得ることができ、光デイスク基板を作りドライブ装置に
のせて読み取り波長８３０ｎｍでトラッキング信号を測
定したところ、均一で大きな信号が得られた。
７２５人に塗布した後、 １２０℃の代りに １４０℃
で３０分間ベークした以外は実施例１と全く同様にして
原盤の製造を行った。その結果、第６図のような原盤を
得ることができ、光デイスク基板を作りドライブ装置に
のせて読み取り波長８３０ｎｍでトラッキング信号を測
定したところ、均一で大きな信号が得られた。
比較例１
実施例１で用いたのと同じ基板上に、厚さ１４５０人に
フォトレジスト２ （ＡＺ−１３５０：ヘキスト社製）
を塗布し、これに深さがλ／８、λ／４になるように露
光しく線速４．２ｍ／ｓｅｃで１５ｍＷと２２ｍＷ）現
像することにより案内溝とアドレスピットを形成し、第
６図のような原盤を得た。
フォトレジスト２ （ＡＺ−１３５０：ヘキスト社製）
を塗布し、これに深さがλ／８、λ／４になるように露
光しく線速４．２ｍ／ｓｅｃで１５ｍＷと２２ｍＷ）現
像することにより案内溝とアドレスピットを形成し、第
６図のような原盤を得た。
この原盤を用いて光デイスク基板を作り、ドライブ装置
にのせて読み取り波長８３０ｎｍでトラッキング信号を
測定したところ、従来法で製造したものより大きな値で
あった。
にのせて読み取り波長８３０ｎｍでトラッキング信号を
測定したところ、従来法で製造したものより大きな値で
あった。
以上に説明したように本発明の製造方法によれば、均一
で大きなトラッキング信号の得られる光学的記録媒体用
原盤を容易に製造することができる。また、１種類のフ
ォトレジストのみを用い、ベーク温度を変えるだけで感
度を変化させるので生産性がよく、更に従来の設備をそ
のまま使用することかできるという有利さを備えている
。
で大きなトラッキング信号の得られる光学的記録媒体用
原盤を容易に製造することができる。また、１種類のフ
ォトレジストのみを用い、ベーク温度を変えるだけで感
度を変化させるので生産性がよく、更に従来の設備をそ
のまま使用することかできるという有利さを備えている
。
第１図〜第３図は、本発明の光学的記録媒体用原盤の製
造方法の実施例を示す模式断面図である。また第４図〜
第６図は、従来の光学的記録媒体用原盤の製造方法の実
施例を示す模式断面図である。 ｌ；基板 ２；フォトレジスト ３；第１のレジスト層 ４：第２のレジスト層
造方法の実施例を示す模式断面図である。また第４図〜
第６図は、従来の光学的記録媒体用原盤の製造方法の実
施例を示す模式断面図である。 ｌ；基板 ２；フォトレジスト ３；第１のレジスト層 ４：第２のレジスト層
Claims (2)
- （１）、フォトレジストを塗布しベークするという方法
を用いて基板上に第１のレジスト層と感度の異なる第２
のレジスト層を順次積層、形成した後、各々の層の感度
に応じて露光し現像することで第２のレジスト層のみを
貫通する光学的案内溝と両方のレジスト層を貫通するア
ドレスピットを形成する方法であって、フォトレジスト
塗布後のベーク温度を変えることによって２つのレジス
ト層の感度に差を生じさせることを特徴とする光学的記
録媒体用原盤の製造方法。 - （２）、前記フォトレジスト塗布後のベーク温度が、前
記第１のレジスト層においては１２０℃以上であり、前
記第２のレジスト層においては１２０℃未満である特許
請求の範囲第１項記載の光学的記録媒体用原盤の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26861086A JPS63124246A (ja) | 1986-11-13 | 1986-11-13 | 光学的記録媒体用原盤の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26861086A JPS63124246A (ja) | 1986-11-13 | 1986-11-13 | 光学的記録媒体用原盤の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63124246A true JPS63124246A (ja) | 1988-05-27 |
Family
ID=17460931
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26861086A Pending JPS63124246A (ja) | 1986-11-13 | 1986-11-13 | 光学的記録媒体用原盤の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63124246A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5489757A (en) * | 1991-03-06 | 1996-02-06 | Elpatronic Ag | Process for resistance welding arrangement for carrying out the process |
| JPH08227538A (ja) * | 1994-10-21 | 1996-09-03 | Nec Corp | 光ディスクの露光原盤及びその製造方法 |
| EP0905684A2 (en) * | 1997-09-30 | 1999-03-31 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Master disk for optical disk and method for manufacturing the same |
| KR100265886B1 (ko) * | 1997-05-02 | 2000-09-15 | 윤종용 | 고밀도 광디스크 및 그 제조방법 |
-
1986
- 1986-11-13 JP JP26861086A patent/JPS63124246A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5489757A (en) * | 1991-03-06 | 1996-02-06 | Elpatronic Ag | Process for resistance welding arrangement for carrying out the process |
| JPH08227538A (ja) * | 1994-10-21 | 1996-09-03 | Nec Corp | 光ディスクの露光原盤及びその製造方法 |
| KR100265886B1 (ko) * | 1997-05-02 | 2000-09-15 | 윤종용 | 고밀도 광디스크 및 그 제조방법 |
| EP0905684A2 (en) * | 1997-09-30 | 1999-03-31 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Master disk for optical disk and method for manufacturing the same |
| EP0905684A3 (en) * | 1997-09-30 | 2000-08-16 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Master disk for optical disk and method for manufacturing the same |
| KR100263878B1 (ko) * | 1997-09-30 | 2000-08-16 | 윤종용 | 광디스크제작용마스터디스크제조방법 |
| US6219330B1 (en) | 1997-09-30 | 2001-04-17 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Master disk for optical disk and having first and second photoresist layers |
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