JPS6371957A - Ｖ型断面の案内溝付光学的情報記録媒体円盤製作用スタンパの製作法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明はＶ型断面の案内溝付光学的情報記録媒体円盤製
作用スタンパの製作法に関する。

（従来の技術） 各種の情報信号を高い記録密度で記録することについて
の要望が高まるのにつれて、近年になって色々な構成原
理や動作原理に基づいて作られた情報記録媒体を用いて
情報信号の高密度記録再生が行われるようになったこと
は周知のとおりであり、例えば、情報記録媒体の信号面
に情報信号に応じた凹凸を形成させて情報信号の記録を
行い、記録された情報信号を光学的な手段によって再生
するようにしたり、あるいは静電容量値の変化の検出に
よって再生するようにした記録再生装置は、映像信号や
音声信号の記録再生用として既に実用されており、また
、各種の技碕分野における高密度記録再生の要求に応じ
るために、情報記録媒体の記録層に情報信号によって強
度変調された記録用ビームを照射することにより、情報
記録媒体における記録層に情報信号に応じた物理変化あ
るいは化学変化を生じさせて情報信号の記録が行われる
ようにした情報記録媒体についても研究が行われるよう
になったが、近年、安定な動作を行う半導体レーザが容
易に得られるようになったのに伴い、レーザ光を用いて
高密度記録再生を行うようにした各種の光学的情報記録
媒体円盤（光ディスク）が既に実用化されたり、あるい
は実用化のための研究開発が行われている現状にあるこ
とは周知のとおりである。

すなわち、幾何学的な凹部あるいは凸部として形成され
ているピットにより情報信号が記録された原盤から大量
に複製された記録済み光ディスク（再生専用の光ディス
ク）が、例えばビデオ・ディスクやコンパクト・ディス
ク等として、一般の家庭にも普及し始めている他、１回
だけユーザが追加して記録できる光ディスク（追記型光
ディスク）や消去可能な光ディスクなどが、例えばオフ
ィス用ファイルメモリ、その他の用途での実用化のため
に盛んに研究開発が行われており、これまでに追記型の
光ディスクあるいは消去可能な光ディスクとしても、そ
れらのものにおける記録層がレーザ光ビームのスポット
の加熱作用により、どのような物理的な変化で情報信号
の記録が行われるのかに着目して分類した場合に、ピッ
ト形成型、泡あるいは凹凸形成型、光磁気型、相変化型
（熱エネｌレギにより光の透過率２反射率、吸収率等に
変化が生じる熱変態型）等のように大別できる各種形式
のものが提案されている。

ところで、情報信号を光ディスクに高密度記録する場合
、あるいは情報信号が高密度記録されている光ディスク
から情報信号を再生する場合には、トラッキング制御に
よって記録、再生用のビームを情報信号が記録されてい
る記録跡に常に正確に辿らせるようにすることが行われ
るのであり、例えば、光ディスクの信号面に対して、微
小な径の光のスポットを投射して情報信号の記録再生を
行う光学的情報信号記録再生装置におけるトラッキング
制御に際して用いられるトラッキング誤差検出方式とし
ては、情報記録媒体からの反射光の光の強度分布が、ト
ラッキング誤差によって偏ることを利用してトラッキン
グ誤差の検出を行うようにする、いわゆる、プッシュプ
ル法によるトラッキング誤差検出方式が、光学系の構成
が単純なものとなってコスト的に有利になるために広く
使用されている他に、情報記録媒体における信号面に対
して信号読取用の第１の光スポットを投射するとともに
、前記した第１の光スポットを含む直線上で、前記の第
１の光スポットを対称中心とする対称の位置にトラッキ
ング用の第２．第３の光スポットを投射して、前記した
第２．第３の光スポットによって情報記録媒体の信号面
に生じた反射光に基づいてトラッキング誤差の検出を行
うようにするトラッキング誤差検出方式、その他各種の
方式が従来から使用されていることは周知のとおりであ
る。

（発明が解決しようとする問題点） さて、光ディスクによって情報信号の高密度記録再生を
実現するために、光ディスクにトラッキング制御用の溝
を予め形成させておくことも周知のとおりであり、前記
したトラッキング制御用の溝としては、それの巾が広く
浅い方が搬送波対雑音比（Ｃ／Ｎ）が良好であること、
及び、雑音、クロス・トラック信号、ヘッダ部の信号な
どの諸点を総合したときにＶ型断面の細い溝が優れてい
る、などのことも知られている。

しかし、Ｖ型断面の細い溝はそれの作成が難しいために
、従来は断面が凹型のトラッキング制御用の溝が多く用
いられているのが実情である。

（問題点を解決するための手段） 本発明は製作の対象にされている光学的情報記録媒体円
盤よりも大きく、かつ、表面が（１００）面となされて
いるシリコンウェハの面に、光学的情報記録媒体円盤に
形成させるべき案内溝の平面形状に対応するパターンを
有するマスクパターンを構成させた後に、水酸化カリウ
ム水溶液によってシリコンウェハに異方性・選択性エツ
チングを施こしてＶ型断面の溝を形成させ、前記のＶ溝
が形成された状態のシリコンウェハの面の形状をスタン
バとして用いられる金属に転写することを特徴とするＶ
型断面の案内溝付光学的情報記録媒体円盤製作用スタン
パの製作法を提供するものであり、この本発明のＶ型断
面の案内溝付光学的情報記録媒体円盤製作用スタンパの
製作法によって製作されたスタンパによって、Ｖ型断面
の案内溝付の光ディスクの製作を容易にすることができ
るのである。

（実施例） 以下、本発明のＶ型断面の案内溝付光学的情報記録媒体
円盤製作用スタンパの製作法の具体的な内容を添付図面
を参照して詳細に説明する。第１図は製作の対象にされ
ている光学的情報記録媒体円盤（光ディスク）よりも大
きく、表面が（１００）面となされているシリコンウェ
ハ１であり、この第１図示のシリコンウェハ１は、洗浄
された後に拡散炉中で１０００℃〜１１００℃に加熱さ
れた状態でウェット酸化されることにより、第２図示の
ようにそれの表面に０．１ミクロン程度の厚さの熱酸化
膜２（＃化シリコン膜２）を形成させる。

前記のように、表面に酸化シリコン膜２が形成されたシ
リコンウェハ１は、それの裏面を第３図に示されている
ようにガラス円盤３上に接着剤によって接着する。

次に、前記した酸化シリコン膜２の面上に第４図示のよ
うにフォトレジストの薄膜（０，１〜０゜３ミクロンの
厚さ）を塗布してからプリベークする。第４図示の状態
のものをターンテーブルに固定し、ターンテーブルを所
定の回転数で回転させながら、フォトレジストの薄膜４
に例えば４５０ｎｍの短波長アルゴンレーザ光のスポッ
トを投射して、フォトレジストの薄膜４を光ディスクに
形成させるべき案内溝の平面形状と対応するパターンに
露光させる。

次に、ターンテーブルを回転させながら、フォトレジス
トの薄膜４に現像液をスプレィして現像処理を行い、次
いで水洗してから乾燥すると、第５図の断面図に示され
ているようにフォトレジストの薄膜４に光ディスクに形
成させるべき案内溝の平面形状と対応するパターンの切
欠部４ａ、４ａ・・・が構成されているものが得られる
。

次に、現像処理後のフォトレジストの薄膜４の耐薬品性
の向上のためにボストベークを８０℃〜１４０℃で３０
分間行い、次いでバッファ酸（弗酸二弗化アンモニウム
＝ｌ：６）を用いて、前記したフォトレジストの薄膜４
をマスクとして酸化シリコン膜２をエツチングすると、
第６図示のように酸化シリコン膜２の一部２ａ、２ａ・
・・が除去された状態のものが得られる。

第６図示の状態のものは、次にフォトレジスト剥離液に
よってそれのフォトレジストの薄膜４が除去されること
によって第７図示のような状態のものとなされる。

第７図示の状態のものは、それを８０℃の水酸化カリウ
ム水溶液中に入れることにより、それの酸化シリコン膜
２をマスクパターンとして、シリコン膜１に異方性・選
択性のエツチング処理が施こされて第８図に示されてい
るようにシリコン膜１にはＶ型断面の溝１ａ、ｌａ・・
・が形成される。

次いで、バッファ酸（弗酸：弗化アンモニウム＝１：６
）を用いて第８図示のものの酸化シリコン膜２，２・・
・の部分を除去すると、第９図示の状態のものが得られ
る。

次に、第９図示のものにおけるシリコン膜１上に第１Ｏ
図中の５に示すようにニッケルの電鋳を行い、それを剥
離すると第１１図示のようなスタンパ５が得られる。

第１図乃至第１１図を参照して説明した実施例において
は、表面に酸化シリコン膜２を形成させたシリコンウェ
ハ１の裏面を接着剤によってガラス円盤３上に接着し、
シリコンウェハ１の機械的強度を高めた状態として、以
後の工程を進めるようにしているが、シリコンウェハ１
として機械的強度の充分に大きな厚さのものが使用され
る場合には、ガラス円盤３による裏打ちは必要とされな
いことは勿論である。また、シリコンウェハ１にガラス
円盤３を接着する場合であっても、所要のＶ型断面の溝
１ａ、ｌａ・・・が形成され終った状態のシリコンウェ
ハ１をガラス円盤３に接着されるようにしてもよい。

第１２図は、第１１図に示されているようなスタンパ５
を用いて、スタンパ５の表面の状態が転写されている状
態の合成便脂製の基板６を示している図である。また、
第１３図はスタンパ５によって表面にＶ型断面の溝が形
成されている合成樹脂製の基板６に、記録材料ＷＪ、７
と光反射膜８と保護膜９とが順次に付着されることによ
って完成された光ディスクを示している。

（効果） 以上、詳細に説明したところから明らかなように、本発
明のＶ型断面の案内溝付光学的情報記録媒体円盤製作用
スタンパの製作法は、製作の対象にされている光学的情
報記録媒体円盤よりも大きく、かつ、表面が（１００）
面となされているシリコンウェハの面に、光学的情報記
録媒体円盤に形成させるべき案内溝の平面形状に対応す
るパターンを有するマスクパターンを構成させた後に、
水酸化カリウム水溶液によってシリコンウェハに異方性
・選択性エツチングを施こしてＶ型断面の溝を形成させ
、前記のＶ溝が形成された状態のシリコンウェハの面の
形状をスタンバとして用いられる金属に転写するように
したものであり、この本発明のＶ型断面の案内溝付光学
的情報記録媒体円盤製作用スタンパの製作法では、シリ
コンウェハに異方性・選択性エツチングを施こしてＶ型
断面の溝が形成された部材を得て、それにスタンパ用の
金属を電鋳することにより、容易にＶ型断面の溝が形成
されたスタンバを提供することができるのであり、その
スタンバを用いて表面にＶ型断面の溝が形成されている
合成樹脂製のディスクの基板６を容易に製作することが
でききるので、本発明によれば既述した問題点は良好に
解決できる。

【図面の簡単な説明】

第１図／！ｌ至＋第１１図は本発明のＶ型断面の案内溝
付光学的情報記録媒体円盤製作用スタンパの製作法の工
程の説明図、第１２図及び第１３図はＶ型断面の案内溝
付光ディスクの製作工程の説明図である。 １・・・シリコンウェハ、１ａ・・・シリコン膜１に形
成されたＶ型断面の溝、２・・・熱酸化膜２（Ｍ化シリ
コン膜２）、２ａ・・・酸化シリコン膜２の一部の除去
部分、３・・・ガラス円盤、４・・・フォトレジストの
薄膜−４ａ・・・光ディスクに形成させるべき案内溝の
平面形状と対応するパターンでフォトレジストの薄膜４
に設けられた切欠部、５・・・ニッケルの電鋳層、６・
・・合成樹脂の基板、７・・・記録材料膜、８・・・光
反射膜、９・・・保護膜、 亮１３　爾 手続有ｌｌ正書（自発） 昭和６１年１１月１２日 特許庁長官　黒　１）明　雄　殿 昭和６１年特許願第２１７５６１号 ２、発明の名称 Ｖ型断面の案内溝付光学的情報記録媒体円盤製作用スタ
ンパの製作法 ３、補正をする者 事件との関係　　　　特　許　出願人 性　所　神奈川県横浜市神奈用区守屋町３丁目１２番地
名称（４３２）　　日本ビクター株式会社４、代理人 住　所　東京部品用区東品用３丁目４番１９　９１５号
ファクシミリ０３（４７２）　２２５７番５、補正命令
の日付　　（自　発　） ６、補正の対象 （１）明細書の発明の詳細な説明の欄 （２）添付図面（第６図） ７、補正の内容 （１）明細書第８頁第２０行「バッファ酸」を「バッフ
ァ弗酸」に補正する。 （２）明細書第９頁第１６行「バッファ酸」を「バッフ
ァ弗酸」に補正する。 （３）添付図面筒６（２Ｉを別紙のように補正する。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 製作の対象にされている光学的情報記録媒体円盤よりも
   大きく、かつ、表面が（１００）面となされているシリ
   コンウェハの面に、光学的情報記録媒体円盤に形成させ
   るべき案内溝の平面形状に対応するパターンを有するマ
   スクパターンを構成させた後に、水酸化カリウム水溶液
   によってシリコンウェハに異方性・選択性エッチングを
   施こしてＶ型断面の溝を形成させ、前記のＶ溝が形成さ
   れた状態のシリコンウェハの面の形状をスタンパとして
   用いられる金属に転写することを特徴とするＶ型断面の
   案内溝付光学的情報記録媒体円盤製作用スタンパの製作
   法