JPH0487036A - 光ディスクの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （イ）産業上の利用分野 この発明は先ディスクの製造方法に係り、ガラス基板に
異なる形状のグループやピットを形成する光ディスクの
製造方法に関する。

（ロ）従来の技術 従来のガラス型光ディスクの製造方法では、ガラス基板
表面にフォトレジストを塗布し、プリベーク後、グルー
プやピットのパターンが刻まれたフォトマスクを重ね合
わせ、ＵＶ光で露出して現像することにより、グループ
・ピットパターンのレジストをガラス基板表面に形成し
、さらにポストベークの後、表面をエツチングすること
により、ガラス基板表面にグループ・ピットのパターン
を形成するようにしている。

（ハ）発明が解決しようとする課題 しかしながら、従来の製造方法ではガラス基板表面に形
成されたグループ・ピットパターンは、全て同じ断面形
状となってしまう。すなわち、ウェットエツチングでは
グループもピットも全て半円状になり、ドライエツチン
グでは全て方形の断面形状になる。従って、グループ及
びピットの断面形状を個々に制御することか出来なかっ
た。

この発明はこのような事情を考慮してなされたもので、
グループおよびピットの断面形状を個々に制御すること
が可能な光ディスクの製造方法を提供するものである。

（ニ）課題を解決する１こめの手段 この発明は、ガラスをエツチングすることによりグルー
プやピットを形成する光ディスクの製造方法において、
ガラス基板にフェトレジストを塗布し複数のグループ及
びピットに対応するパターンを露光して現像した後、一
部のピット部およびグループ部をマスキングして他のピ
ット部およびグループ部のみに対してもう一度露光した
後、ポストベークを施して一部のピット部およびグルー
プ部のレジストの断面を方形状に維持しながら他のピッ
ト部およびグループ部のレジスト断面を三角形又は台形
状に形成し、次にドライエツチングを施した後、残存フ
ォトレジストを除去することにより、一部のピット部お
よびグループ部の断面形状を方形状に、他のピット部お
よびグループの断面形状を三角形又は台形状にすること
を特徴とする先ディスクの製造方法である。

（ホ）作用 この発明によれば、グループやピットによって断面形状
を個々に制御すことができるため、ピックアップでグル
ープやピットを読み取る時の回折光量を各々最適になる
ように独立して制御することができる。

（へ）実施例 第１図（Ａ）〜第１図（Ｇ）にこの本発明の一実施例の
製造プロセスを示す。第１図（Ａ）に示すように、ガラ
ス基板！の表面にスピン法等によりフォトレジスト２を
塗布する。フォトレジスト２の膜厚はガラス基板１とフ
ォトレジスト２の選択比やグループ深さ等により決まる
。プリベーク後、第１図（Ｂ）に示すように、グループ
やピットのパターンを有するフォトマスク３を重ね合わ
せ、ＵＶ光４を照射してフォトレジスト２を露光する。

露光後、現像することにより第１図（Ｃ）に示すように
グループやピットのパターン状にレジスト５が残存する
。この残存したレジスト５の断面形状は、はぼ矩形状を
呈する。

次に、第１図（Ｄ）に示すように、別のパターンを有す
るフォトマスク６を再び重ね合わせ、もう−度ＵＶ光４
を照射する。その後ポストベークすると、ＵＶ光を照射
していない部分のレノストの断面は矩形を呈したままで
あるが、ＵＶ光４を照射したレジストは壁面が垂直では
なくなりななめに傾斜して断面が台形状になる（第１図
（Ｅ））。

次に、表面をドライエツチングしく第１図（Ｆ））、残
存するレジストを除去すると同一基板上に四角や台形、
Ｖ形等の断面形状のグループやピットを持つ光デイスク
基板が形成される（第１図（Ｇ））。

レジスト壁面の傾斜角度は２回目のＵＶ光の露光量とポ
ストベーク温度によって調整することができる。すなわ
ち、２回目の露光量を多くするほど、また、ポストベー
クの温度を高くするほどレジスト壁面の傾斜角度が大き
くなっていく。ただし、ポストベーク温度がレノストの
軟化温度よりも高くなると、ＵＶ光を照射していない部
分のレノスト壁面も傾斜するため、あまり高い温度での
ポストベークは好ましくない。従って、ポストベーク温
度は１３０℃以下が通常好ましい。また、ドライエツチ
ングではレジストとガラス基板のエツチング速度が同じ
であれば残存するレジストとほぼ同じ形状をしたグルー
プやピットを形成できる。

また、エツチングの異方性が大きいほどＵＶ光の未照射
部分のグループやピット形状がより垂直に近くなる。

（ト）発明の効果 この発明によれば、レーザのピックアップで光ディスク
をドライブする時にグループやピット毎に最適の回折光
を得ることができるためトラッキング等が容易になる。

すなわちアドレス等のピットは四角い断面形状の方が信
号振幅が大きく、またグループは台形や三角形の断面形
状の方がより大きなプッシュプル信号が得られる。

【図面の簡単な説明】

第１図（Ａ）〜第１図（Ｇ）はこの発明の一実施例を示
す工程説明図である。 ■・・・・・ガラス基板、 ２・・・・・・フォトレジスト、 ・・・・フォトマスク、 ４・・・・・・ＵＶ光、 ５・・・・・・残存レノスト、 ６・・・・・・フォトマスク。 （Ｃ）

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、ガラスをエッチングすることによりグループやピッ
   トを形成する光ディスクの製造方法において、ガラス基
   板にフェトレジストを塗布し複数のグループ及びピット
   に対応するパターンを露光して現像した後、一部のピッ
   ト部およびグループ部をマスキングして他のピット部お
   よびグループ部のみに対してもう一度露光した後、ポス
   トベークを施して一部のピット部およびグループ部のレ
   ジストの断面を方形状に維持しながら他のピット部およ
   びグループ部のレジスト断面を三角形又は台形状に形成
   し、次にドライエッチングを施した後、残存フォトレジ
   ストを除去することにより、一部のピット部およびグル
   ープ部の断面形状を方形状に、他のピット部およびグル
   ープの断面形状を三角形又は台形状にすることを特徴と
   する光ディスクの製造方法。