JPH01162254A - 光ディスク原盤の製造方法 - Google Patents
光ディスク原盤の製造方法Info
- Publication number
- JPH01162254A JPH01162254A JP32253887A JP32253887A JPH01162254A JP H01162254 A JPH01162254 A JP H01162254A JP 32253887 A JP32253887 A JP 32253887A JP 32253887 A JP32253887 A JP 32253887A JP H01162254 A JPH01162254 A JP H01162254A
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- JP
- Japan
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- pit
- light
- diffracted
- substrate
- laser beam
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims 3
- 238000011161 development Methods 0.000 claims abstract description 18
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- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims 1
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Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（イ］ 産業上の利用分野
本発明は、光ディスクの原盤を作成する際の露光後の現
像方法に関する。
像方法に関する。
（ロ）従来の技術
光感応性材料を設けた基板上に絞り込んだレーザービー
ムを照射し、情報を露光する光学記録方式においては、
露光後、現像を行なって、ピットを形成する。ここで情
報ピットの深さは、情報信号の読み出しに大きな影響を
与えるため、フォトレジストの膜厚、露光時のレーザー
パワー、現像時間等は重要な条件となる。特に現像時間
は、ピットの深さに大きく影響するが、フォトレジスト
の膜厚や、レーザーパワーなどにある程度のばらつきを
含むことは避けられないため、現像時間を常に一定にし
ておくことは、常に一定の形状のピットを形成すること
にはならない。
ムを照射し、情報を露光する光学記録方式においては、
露光後、現像を行なって、ピットを形成する。ここで情
報ピットの深さは、情報信号の読み出しに大きな影響を
与えるため、フォトレジストの膜厚、露光時のレーザー
パワー、現像時間等は重要な条件となる。特に現像時間
は、ピットの深さに大きく影響するが、フォトレジスト
の膜厚や、レーザーパワーなどにある程度のばらつきを
含むことは避けられないため、現像時間を常に一定にし
ておくことは、常に一定の形状のピットを形成すること
にはならない。
そこで、現像時にフォトレジストの感光しない波長のレ
ーザー光を原盤に照射し、この回折光の強度によって現
像時間の制御を行なう方法があ゛る。
ーザー光を原盤に照射し、この回折光の強度によって現
像時間の制御を行なう方法があ゛る。
しかし、回折光を生じさせるレーザー光の出射パワーの
ばらつきや、ピットの形状の封部性のばらつきによって
目的のピット深さやピット形状が得られず、次工程以降
にその欠陥が発見されるという無駄を生じる。
ばらつきや、ピットの形状の封部性のばらつきによって
目的のピット深さやピット形状が得られず、次工程以降
にその欠陥が発見されるという無駄を生じる。
Ｖｌ 発明が解決しようとする問題点回折光の強度の
みによって現像時間を制御しようとすると、回折光の光
源となふレーザー光の出射パワーのばらつきや１フォト
レジスト層の膜厚、基板の透過率などによって、ピット
の深さや形状が一定とならない。また、ピット列にレー
ザー光を照射するとピット列に垂直方向に左右に回折光
が生じるが、このうちの一方のみの強度で制御を行うと
、ピット列に垂直に切ったピットの断面が対称でなかっ
た場合には、やはりピットの形状に対する正しい情報が
得られない。
みによって現像時間を制御しようとすると、回折光の光
源となふレーザー光の出射パワーのばらつきや１フォト
レジスト層の膜厚、基板の透過率などによって、ピット
の深さや形状が一定とならない。また、ピット列にレー
ザー光を照射するとピット列に垂直方向に左右に回折光
が生じるが、このうちの一方のみの強度で制御を行うと
、ピット列に垂直に切ったピットの断面が対称でなかっ
た場合には、やはりピットの形状に対する正しい情報が
得られない。
に）問題点を解決するための手段
本発明は、上記問題点を解決するために、現像中に基板
にレーザー光を垂直に入射し、ピット列によって回折さ
れた左右の透過回折−次光の和を透過光（零次光）で割
った値をもって現像時間を制御することを特徴とする。
にレーザー光を垂直に入射し、ピット列によって回折さ
れた左右の透過回折−次光の和を透過光（零次光）で割
った値をもって現像時間を制御することを特徴とする。
（ホ）作 用
上記手段によって、−次光と零次光の比をとれば、レー
ザー光の出射強度等のばらつきがあってもそのばらつき
に左右されることがなく、また、左右の一次光の和をと
っているために、多少ピットの対称性が悪い場合にも、
この方法によって制御することができる。ただし、ピッ
トの対称性が極端に悪い場合には、原盤としては不良で
あるから、このような方法によっても製造するに値しな
い。この場合には、左右の一次光の比をとることによっ
て原盤の検査値とし、この段階で選別すふことができる
。
ザー光の出射強度等のばらつきがあってもそのばらつき
に左右されることがなく、また、左右の一次光の和をと
っているために、多少ピットの対称性が悪い場合にも、
この方法によって制御することができる。ただし、ピッ
トの対称性が極端に悪い場合には、原盤としては不良で
あるから、このような方法によっても製造するに値しな
い。この場合には、左右の一次光の比をとることによっ
て原盤の検査値とし、この段階で選別すふことができる
。
（へ）実施例
本発明の一実施例を図に従って説明する。
本発明に関る光学記録方式では、一般に露光後の基板（
１）は、ターンテーブル上に乗せ、回転させながら現像
液を浴びせることによって現像を行なう。これによって
基板（１）上のフォトレジスト（２）に記録された潜像
がピットとして形成されることになる。この時、フォト
レジスト（２）を感光しない波長をもつレーザー光（３
）を基板裏面側より照射する。
１）は、ターンテーブル上に乗せ、回転させながら現像
液を浴びせることによって現像を行なう。これによって
基板（１）上のフォトレジスト（２）に記録された潜像
がピットとして形成されることになる。この時、フォト
レジスト（２）を感光しない波長をもつレーザー光（３
）を基板裏面側より照射する。
この光は現像開始時には、ピットがまだできていないた
め、殆んどは透過光（零次光）（４）となる。
め、殆んどは透過光（零次光）（４）となる。
現像が進むにつれてピットが形成されてくるために１こ
のピット列によって回折現像を起こし、ピット列のピッ
チによって決まる角度に回折光が生じてくる。従って透
過光（４）の強度はしだいに弱くなり、回折光（５）（
６）の強度は強くなる。特に回折−次光（５）（６）は
、ピットの深さ、巾に大きく影響されるので、この（５
）と（６）の和を透過光（零次光）（４）で割った値を
もって現像を制御する。ここで（５）と（６）の和をと
るのけ、ピットが多少非対称にできていた場合に、片方
のみで制御を行なうことによる誤差をなくすためであり
、零次光（４）の強度で割るのは、レーザー光強度のば
らつきなどの影響をなくすためである。尚、上記透過光
（４）及び回折光（５）（６）は夫々センサー（７）に
て検出される。
のピット列によって回折現像を起こし、ピット列のピッ
チによって決まる角度に回折光が生じてくる。従って透
過光（４）の強度はしだいに弱くなり、回折光（５）（
６）の強度は強くなる。特に回折−次光（５）（６）は
、ピットの深さ、巾に大きく影響されるので、この（５
）と（６）の和を透過光（零次光）（４）で割った値を
もって現像を制御する。ここで（５）と（６）の和をと
るのけ、ピットが多少非対称にできていた場合に、片方
のみで制御を行なうことによる誤差をなくすためであり
、零次光（４）の強度で割るのは、レーザー光強度のば
らつきなどの影響をなくすためである。尚、上記透過光
（４）及び回折光（５）（６）は夫々センサー（７）に
て検出される。
（ト）効 果
上記の方法により、現像工程においてそれ以前の工程の
ばらつきを吸収し、ピット形状の悪いものを選別し、カ
ッティング工程へのフィードバックを早くかけ為ことが
できる。
ばらつきを吸収し、ピット形状の悪いものを選別し、カ
ッティング工程へのフィードバックを早くかけ為ことが
できる。
４、図の簡単な説明
第」図は、本発明の一実施例を示す原盤の断面図である
。
。
（１）・・・基板、（２）・・・フォトレジストＱ、（
３）・・・入射光、（４）−・・零次光（透過光）、（
５）（６）・・・回折−次光、（７）・・・センサー。
３）・・・入射光、（４）−・・零次光（透過光）、（
５）（６）・・・回折−次光、（７）・・・センサー。
Claims (1)
- （１）円形基板上にフォトレジストを塗布し、このレジ
スト膜にレーザービームを照射して情報を露光し、現像
処理によりピットを形成する光ディスク原盤の製造方法
において、前記基板に垂直に前記レジストを感光しない
波長をもつレーザー光を照射し、その左右の透過回折１
次光の和と、零次光の比で現像時間を制御することを特
徴とする光ディスク原盤の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32253887A JPH01162254A (ja) | 1987-12-18 | 1987-12-18 | 光ディスク原盤の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32253887A JPH01162254A (ja) | 1987-12-18 | 1987-12-18 | 光ディスク原盤の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01162254A true JPH01162254A (ja) | 1989-06-26 |
Family
ID=18144784
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32253887A Pending JPH01162254A (ja) | 1987-12-18 | 1987-12-18 | 光ディスク原盤の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01162254A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5357304A (en) * | 1992-03-25 | 1994-10-18 | Sony Corporation | Image development apparatus and method |
| WO1995006943A1 (de) * | 1993-09-02 | 1995-03-09 | Sonopress Produktionsgesellschaft für Ton- und Informationsträger mbH | Cd-masteringverfahren |
-
1987
- 1987-12-18 JP JP32253887A patent/JPH01162254A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5357304A (en) * | 1992-03-25 | 1994-10-18 | Sony Corporation | Image development apparatus and method |
| WO1995006943A1 (de) * | 1993-09-02 | 1995-03-09 | Sonopress Produktionsgesellschaft für Ton- und Informationsträger mbH | Cd-masteringverfahren |
| US5652747A (en) * | 1993-09-02 | 1997-07-29 | Schiewe; Hilmar | Optical disk recording method having duration ratio between high and low levels during formation of pits |
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