JP2508076B2 - 光デイスク原盤露光方法 - Google Patents
光デイスク原盤露光方法Info
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- JP2508076B2 JP2508076B2 JP62098871A JP9887187A JP2508076B2 JP 2508076 B2 JP2508076 B2 JP 2508076B2 JP 62098871 A JP62098871 A JP 62098871A JP 9887187 A JP9887187 A JP 9887187A JP 2508076 B2 JP2508076 B2 JP 2508076B2
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- Japan
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- photoresist
- focused
- exposure
- exposure method
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- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Optical Recording Or Reproduction (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光ディスク原盤露光方法、特に、フォトレ
ジスト円板上にスパイラル状あるいは同心円状にピック
またはグルーブの露光を行なう光ディスク原盤露光方法
に関する。
ジスト円板上にスパイラル状あるいは同心円状にピック
またはグルーブの露光を行なう光ディスク原盤露光方法
に関する。
〔従来の技術〕 従来の光ディスク原盤露光方法に用いる露光装置は、
フォトレジスト円板を固着し回転摺動する回転移動機構
と，レーザビームをパワーコントロールするパワー制御
部と，前記パワーコントロールされたレーザビームを光
変調する変調部と、前記変調部からのレーザビームを前
記フォトレジスト基板上に合焦集光するオートフォーカ
ス手段とを含んで構成される。
フォトレジスト円板を固着し回転摺動する回転移動機構
と，レーザビームをパワーコントロールするパワー制御
部と，前記パワーコントロールされたレーザビームを光
変調する変調部と、前記変調部からのレーザビームを前
記フォトレジスト基板上に合焦集光するオートフォーカ
ス手段とを含んで構成される。
ここで、前記露光装置において、例えば前記フォトレ
ジスト円板内周上に、レーザビームを公知のオートフォ
ーカス手段により合焦集光し、さらに前記回転移動機構
により前記フォトレジスト円板を回転し、前記パワー制
御部によりパワーコントロールれたレーザビームが前記
フォトレジスト円板上を内周から外周に向けて露光する
ように走査することによりスパイラル状の露光を行なう
ことができることから、前記変調部にON信号を与えるこ
とによりグループの露光を行ない、前記変調部ON−OFF
信号を与えることによりピットの露光を行なうことが可
能となる。したがって、前記露光装置による露光方法で
例えばスパイラル状のグループを露光することができ
る。
ジスト円板内周上に、レーザビームを公知のオートフォ
ーカス手段により合焦集光し、さらに前記回転移動機構
により前記フォトレジスト円板を回転し、前記パワー制
御部によりパワーコントロールれたレーザビームが前記
フォトレジスト円板上を内周から外周に向けて露光する
ように走査することによりスパイラル状の露光を行なう
ことができることから、前記変調部にON信号を与えるこ
とによりグループの露光を行ない、前記変調部ON−OFF
信号を与えることによりピットの露光を行なうことが可
能となる。したがって、前記露光装置による露光方法で
例えばスパイラル状のグループを露光することができ
る。
第５図は従来の一例におけるガラス基板とフォトレジ
スト面とで構成されたフォトレジスト円板上に合焦集光
するレーザビームとビームウエスト径でのビーム強度分
布との関係を示す露光説明図である。
スト面とで構成されたフォトレジスト円板上に合焦集光
するレーザビームとビームウエスト径でのビーム強度分
布との関係を示す露光説明図である。
第５図において、レーザビーム１をガラス基板２上の
フォトレジスト面３に合焦集光したときのビームウエス
ト４の前記フォトレジスト円板17の半径方向ｒの断面の
ビーム強度分布５は一般にガウス分布となることが知ら
れている。
フォトレジスト面３に合焦集光したときのビームウエス
ト４の前記フォトレジスト円板17の半径方向ｒの断面の
ビーム強度分布５は一般にガウス分布となることが知ら
れている。
第６図（ａ），（ｂ），（ｃ）は前記露光方法により
フォトレジスト円板上にグループの露光を行ない、現像
処理した後のグループ断面である。現像の進行にともな
いグループ断面形状は第６図（ａ），（ｂ），（ｃ）の
順に変化するがビームウエスト断面のビーム強度分布が
ガウス分布となるためにグループ断面形状は矩形とする
ことができず、さらに露光条件の微小な変動によりグル
ープ断面形状が変動する。
フォトレジスト円板上にグループの露光を行ない、現像
処理した後のグループ断面である。現像の進行にともな
いグループ断面形状は第６図（ａ），（ｂ），（ｃ）の
順に変化するがビームウエスト断面のビーム強度分布が
ガウス分布となるためにグループ断面形状は矩形とする
ことができず、さらに露光条件の微小な変動によりグル
ープ断面形状が変動する。
上述した従来の光ディスク原盤露光方法は、フォトレ
ジスト円板上に合焦集光するレーザビームのビームウエ
スト径での前記フォトレジスト円板の半径方向のビーム
強度分布がガウス分布となっているため、グループの露
光を行ない、現像処理した後のグループ断面形状を矩形
とすることができず、さらに露光条件、現像条件の微小
な変動によりグループ断面形状が変動するので、作成さ
れた光ディスク原盤から転写して得られる光ディスク媒
体において再生時のトラッキングサーボが不安定となっ
たり、再生信号に変動を起こすという欠点があった。
ジスト円板上に合焦集光するレーザビームのビームウエ
スト径での前記フォトレジスト円板の半径方向のビーム
強度分布がガウス分布となっているため、グループの露
光を行ない、現像処理した後のグループ断面形状を矩形
とすることができず、さらに露光条件、現像条件の微小
な変動によりグループ断面形状が変動するので、作成さ
れた光ディスク原盤から転写して得られる光ディスク媒
体において再生時のトラッキングサーボが不安定となっ
たり、再生信号に変動を起こすという欠点があった。
本発明の光ディスク原盤露光方法は、フォトレジスト
円板上に合焦集光するレーザビームにより、スパイラル
状あるいは同心円状にピットまたはグループの露光を行
なう光ディスク原盤露光方法において、前記レーザビー
ムを前記フォトレジスト円板の同一半径上であって半径
方向に互いに重なり合うように配置した複数の平行なレ
ーザビームを照射することを含んで構成される。
円板上に合焦集光するレーザビームにより、スパイラル
状あるいは同心円状にピットまたはグループの露光を行
なう光ディスク原盤露光方法において、前記レーザビー
ムを前記フォトレジスト円板の同一半径上であって半径
方向に互いに重なり合うように配置した複数の平行なレ
ーザビームを照射することを含んで構成される。
次に、本発明の実施例について、図面を参照して詳細
に説明する。
に説明する。
第１図は、本発明の一実施例を示す平面図であり、フ
ォトレジスト円板上に合焦集光する２本のレーザビーム
の関係を示す平面図である。回転方向Ａに回転するフォ
トレジスト円板17の円板中心Ｏ半径Ｒを有する前記フォ
トレジスト円板17に照射されるレーザビーム10,11は互
いに平行であり、フォトレジスト円板１の半径Ｒ上に互
いに重なり合うように配置される。
ォトレジスト円板上に合焦集光する２本のレーザビーム
の関係を示す平面図である。回転方向Ａに回転するフォ
トレジスト円板17の円板中心Ｏ半径Ｒを有する前記フォ
トレジスト円板17に照射されるレーザビーム10,11は互
いに平行であり、フォトレジスト円板１の半径Ｒ上に互
いに重なり合うように配置される。
第２図はガラス基板３とフォトレジスト面２とで構成
されたフォトレジスト円板17の上に合焦集光する２本の
レーザビーム10,11と該レーザビーム10,11の前記フォト
レジスト円板17の半径方向ｒのビームウエスト径でのビ
ーム強度分布との関係を示す露光説明図である。第２図
に示す露光説明図において、レーザビーム10をガラス基
板３上のフォトレジスト面２に合焦集光したときのビー
ムウエスト径12の半径方向ｒの断面のビーム強度分布14
はガウス分布となる。同様にレーザビーム11をガラス基
板３上のフォトレジスト面２に合焦集光したときのビー
ムウエスト径13の半径方向ｒの断面のビーム強度分布15
もガウス分布となる。ところが前記レーザビーム10によ
るビーム強度分布14と前記レーザビーム11によるビーム
強度分布15とを合成することにより得られる合成ビーム
強度分布はガウス分布とは異なり、前記レーザビーム10
と、前記レーザビーム11の重なり方によりさまざまな分
布形状となる。
されたフォトレジスト円板17の上に合焦集光する２本の
レーザビーム10,11と該レーザビーム10,11の前記フォト
レジスト円板17の半径方向ｒのビームウエスト径でのビ
ーム強度分布との関係を示す露光説明図である。第２図
に示す露光説明図において、レーザビーム10をガラス基
板３上のフォトレジスト面２に合焦集光したときのビー
ムウエスト径12の半径方向ｒの断面のビーム強度分布14
はガウス分布となる。同様にレーザビーム11をガラス基
板３上のフォトレジスト面２に合焦集光したときのビー
ムウエスト径13の半径方向ｒの断面のビーム強度分布15
もガウス分布となる。ところが前記レーザビーム10によ
るビーム強度分布14と前記レーザビーム11によるビーム
強度分布15とを合成することにより得られる合成ビーム
強度分布はガウス分布とは異なり、前記レーザビーム10
と、前記レーザビーム11の重なり方によりさまざまな分
布形状となる。
第３図は前記ビームの強度分布14と、前記ビーム強度
分布15とが等しくビーム強度分布が半値幅の長さだけ互
いに重なり合ったときの合成ビーム強度分布16を示すビ
ーム合成説明図である。
分布15とが等しくビーム強度分布が半値幅の長さだけ互
いに重なり合ったときの合成ビーム強度分布16を示すビ
ーム合成説明図である。
第４図（ａ），（ｂ），（ｃ）は第１図に示す実施例
を用いた露光現像後のグルーブ断面を示す断面図で、第
３図に示す合成ビーム強度分布16によりフォトレジスト
円板17、上にグループの露光を行ない現像処理した後の
グループ断面である。
を用いた露光現像後のグルーブ断面を示す断面図で、第
３図に示す合成ビーム強度分布16によりフォトレジスト
円板17、上にグループの露光を行ない現像処理した後の
グループ断面である。
現像の進行にともないグループ断面形状は第４図
（ａ），（ｂ），（ｃ）の順に変化するがビームウエス
トの半径方向ｒの断面のビーム強度分布が合成ビーム強
度分布となるためグループ断面形状は矩形とすることが
できさらに、露光，現像条件の微小な変動に対しグルー
プ断面形状の変動を小さくできる。
（ａ），（ｂ），（ｃ）の順に変化するがビームウエス
トの半径方向ｒの断面のビーム強度分布が合成ビーム強
度分布となるためグループ断面形状は矩形とすることが
できさらに、露光，現像条件の微小な変動に対しグルー
プ断面形状の変動を小さくできる。
本発明の光ディスク原盤露光方法は、フォトレジスト
円板上に合焦集光した複数のレーザビームを前記フォト
レジスト円板の同一半径上であって半径方向上に互いに
重なり合うように配置することにより、ガウス分布をな
すビーム強度分布から矩形に近い合成ビーム強度分布と
することができるため、露光処理を行ない現像処理した
後のグループ断面形状を矩形とすることができるととも
に露光・現像条件の微少変動によるグループ断面形状の
変動を小さくできるので、作成された光ディスク原盤か
ら転写して得られる光ディスク媒体における再生時のト
ラッキングサーボを安定にすることができるとともに再
生信号の変動を小さくできるという効果がある。
円板上に合焦集光した複数のレーザビームを前記フォト
レジスト円板の同一半径上であって半径方向上に互いに
重なり合うように配置することにより、ガウス分布をな
すビーム強度分布から矩形に近い合成ビーム強度分布と
することができるため、露光処理を行ない現像処理した
後のグループ断面形状を矩形とすることができるととも
に露光・現像条件の微少変動によるグループ断面形状の
変動を小さくできるので、作成された光ディスク原盤か
ら転写して得られる光ディスク媒体における再生時のト
ラッキングサーボを安定にすることができるとともに再
生信号の変動を小さくできるという効果がある。
第１図は本発明の一実施例を示す平面図、第２図は第１
図に示す一対のレーザビームのフォトレジスト面上での
合焦状態とビームウエストでのビーム強度分布との関係
を示す露光説明図、第３図は第１図に示す一対のレーザ
ビームの合成状態を示すビーム合成説明図、第４図
（ａ），（ｂ），（ｃ）はそれぞれ第１図に示す実施例
を用いた露光・現像工程後のグルーブ断面を示す断面
図、第５図は従来の一例におけるレーザビームのフォト
レジスト面上での合焦状態とビームウエストでのビーム
強度分布との関係を示す露光説明図、第６図（ａ），
（ｂ），（ｃ）は第５図に示すレーザビームを用いた露
光・現像工程後のグルーブ断面を示す断面図である。 1,10,11……レーザビーム、２……フォトレジスト面、
３……ガラス基板、4,12,13……ビームウエスト、5,14,
15……ビーム強度分布、16……合成ビーム強度分布、17
……フォトレジスト円板、 Ａ……回転方向、Ｏ……円板中心、Ｒ……半径、ｒ……
半径方向。
図に示す一対のレーザビームのフォトレジスト面上での
合焦状態とビームウエストでのビーム強度分布との関係
を示す露光説明図、第３図は第１図に示す一対のレーザ
ビームの合成状態を示すビーム合成説明図、第４図
（ａ），（ｂ），（ｃ）はそれぞれ第１図に示す実施例
を用いた露光・現像工程後のグルーブ断面を示す断面
図、第５図は従来の一例におけるレーザビームのフォト
レジスト面上での合焦状態とビームウエストでのビーム
強度分布との関係を示す露光説明図、第６図（ａ），
（ｂ），（ｃ）は第５図に示すレーザビームを用いた露
光・現像工程後のグルーブ断面を示す断面図である。 1,10,11……レーザビーム、２……フォトレジスト面、
３……ガラス基板、4,12,13……ビームウエスト、5,14,
15……ビーム強度分布、16……合成ビーム強度分布、17
……フォトレジスト円板、 Ａ……回転方向、Ｏ……円板中心、Ｒ……半径、ｒ……
半径方向。
Claims (1)
- 【請求項１】フォトレジスト円板上に合焦集光するレー
ザビームによりスパイラル状あるいは同心円状にピット
またはグループの露光を行なう光ディスク原盤露光方法
において、前記レーザビームを前記フォトレジスト円板
の同一半径上であって半径方向に互いに重なり合うよう
に配置した複数の平行レーザビームで露光することを特
徴とする光ディスク原盤露光方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62098871A JP2508076B2 (ja) | 1987-04-21 | 1987-04-21 | 光デイスク原盤露光方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62098871A JP2508076B2 (ja) | 1987-04-21 | 1987-04-21 | 光デイスク原盤露光方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63263647A JPS63263647A (ja) | 1988-10-31 |
| JP2508076B2 true JP2508076B2 (ja) | 1996-06-19 |
Family
ID=14231245
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62098871A Expired - Lifetime JP2508076B2 (ja) | 1987-04-21 | 1987-04-21 | 光デイスク原盤露光方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2508076B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2713083B2 (ja) * | 1993-03-24 | 1998-02-16 | 日本電気株式会社 | 微細パターン描画方法 |
| KR100224871B1 (ko) * | 1997-09-30 | 1999-10-15 | 윤종용 | 광디스크 및 그 광디스크의 제조방법 |
| TW476957B (en) | 1999-09-08 | 2002-02-21 | Mitsubishi Chem Corp | Rewritable compact disk and manufacturing method thereof |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6278740A (ja) * | 1985-10-02 | 1987-04-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 情報記録原盤記録方法 |
| JPS63149846A (ja) * | 1986-12-15 | 1988-06-22 | Ricoh Co Ltd | 光デイスク原盤露光方法 |
-
1987
- 1987-04-21 JP JP62098871A patent/JP2508076B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6278740A (ja) * | 1985-10-02 | 1987-04-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 情報記録原盤記録方法 |
| JPS63149846A (ja) * | 1986-12-15 | 1988-06-22 | Ricoh Co Ltd | 光デイスク原盤露光方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63263647A (ja) | 1988-10-31 |
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