JPS63263647A - 光デイスク原盤露光方法 - Google Patents

光デイスク原盤露光方法

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JPS63263647A
JPS63263647A JP62098871A JP9887187A JPS63263647A JP S63263647 A JPS63263647 A JP S63263647A JP 62098871 A JP62098871 A JP 62098871A JP 9887187 A JP9887187 A JP 9887187A JP S63263647 A JPS63263647 A JP S63263647A
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JP
Japan
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disk
photoresist
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rectangular
exposure
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JP62098871A
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Yukio Tomizawa
富沢 幸雄
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NEC Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光ディスク原盤露光方法、WK、フォトレジ
スト円板上にスパイラル吠あるいは同心同大にピットま
たはグループの露光を行なう光ディスク原盤露光方法に
関する。
〔従来の技術〕
従来の光ディスク原盤鉢光方法に用いる露光装置は、フ
ォトレジスト円板を固着し回転摺動する回転移動機構と
、レーダビームをパワーコントロールするパワー制御線
と、前記パワーコントロールされたレーザビームを光変
調する変調部と、前記変調部からのレーザビームを前記
フォトレジスト基板上に合焦集光するオートフォーカス
手段とを含んで構成される。
ζこで、前記露光装置において、例えば前記フォトレジ
スト円板内周上に、レーザビームを公知のオートフォー
カス手段によ〕合焦集光し、さらに前記回転移動機構に
より前記フォトレジスト円板を回転し、前記パワー制御
線によシパワーコント■−ルされたレーザビームが前記
フォトレジスト円板上を内周から外周に向けて露光する
ように走査するととによシスパイラル伏の露光を行なう
ことができることから、前記変調部KON信号を与える
ととKよ〕グループの露光を行ない、前記変調部K O
N −OF F信号を与えることKよシピ、トの路光を
行なうことが可能となる。したがって、前記露光装置に
よる露光方法で例えばスパイラル伏のグループを露光す
ることができる。
第5図は従来の一例におけるガラス基板とフォトレジス
ト面とで構成されたフォトレジスト円板上に合焦集光す
るレーザビームとビームウェスト径でのビーム強度分布
との関係を示す露光説明図である。
第5図において、レーザビーム1をガラス基板2上のフ
ォトレジスト面3に合焦集光したときのビーム9エスト
4の前記フォトレジスト円板17の半径方向rの断面の
ビーム強度分布5は一般にガウス分布となることが知ら
れている。
第6図+8)、 lb)、 ic)は前記露光方法によ
〕フォトレジスト円板上にグループの露光を行ない、現
像処理した後のグループ断面である。現像の進行にとも
ないグループ断面形状は第6図(a)、 lb、、 (
C)の順に変化するがピームワエスト断面のビーム強度
分布がガウス分布となるためにグループ断面形状は矩形
とすることができず、さらに露光条件の微小な変動によ
ジグループ断面形状が変動する。
〔発明が解決しようとする問題点〕
上述した従来の光ディスク原盤露光方法は、フォトレジ
スト円板上に合焦集光するレーザビームのビームウェス
ト径での前記フォトレジスト円板の半径方向のビーム強
度分布がガウス分布となっているため、グループの露光
を行ない、現像処理した後のグループ断面形吠を矩形と
することができず、さらに露光条件、現像条件の微小な
変動によりグループ断面形状が変動するので、作成され
た光ディスク原盤から転写して得られる光ディスク媒体
において再生時のトラッキングサーボが不安定となりた
シ、再生信号に変動を起こすという欠点があった。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明の光ディスク原盤露光方法は、フォトレジスト円
板上に合焦集光するレーザビームにより、スパイラル吠
あるいは同心同次にビットまたはグループの露光を行な
う光ディスク原盤aft、刀法において、前記レーザビ
ームを前記フォトレジスト円板の同−半径上であって半
径方向に互いに重なり合うように配置した複数の平行な
レーザビームを照射することを含んで構成される。
〔実施例〕
次に、本発明の実施例にりいて、図面を参照して詳細に
説明する。
第1図は、本発明の一実施例を示す平面図であり、フォ
トレジスト円板上に合焦集光する2本のレーザビームの
関係を示す平面図である。回転方向A K:回転するフ
ォトレジスト円板170円板中心0半径Rを有する前記
フォトレジスト円板17に照射されるレーザビーム10
.11は互いに平行であり、フォトレジスト円板10半
径R上に互いに重なり合うように配置される。
第2図はガラス基板3とフォトレジスト面2とで構成さ
れたフォトレジスト円板17の上に合焦集光する2本の
レーザビーム10.11と該レーザビーム10.11の
前記フォトレジスト円板17の半径方向rのビームウェ
スト径でのビーム強度分布との関係を示す露光説明図で
ある。第2檜宗す霧光説明図において、レーザビーム1
0klfラス基板3上のフォトレジスト面2に合焦集光
したトキのビームウェスト径12の半径方向rの断面の
ビーム強度分布14はガウス分布となる。lil[Kレ
ーザビーム11をガラス基板3上のフォトレジスト面2
に合焦集光したときのビーム9エスト径130半径方向
rの断面のビーム強度分布15も゛ガウス分布となる。
ところが前記レーザビーム10によるビーム強度分布1
4と前記レーザビームIIKよるビーム強度分布15と
を合成することにより得られる合成ビーム強度分布はガ
ウス分布とは異なシ、前記レーザビームlOと、前記レ
ーザビーム11の重なり万によ)さまざまな分布形状と
なる。
第3図は前記ビームの強度分布14と、前記ビーム強度
分布15とが等しくビーム強度分布が半値幅の長さだけ
互い忙重なり合ったときの合成ビーム5!J度分布16
を示すビーム合成説明図である。
第4図1a)、 (b)、 (c)は第1図に示す実施
例を用いた露光現像後のグループ断面を示す断面図で、
第3図に示す合成ビーム強度分布16によシフオドレジ
スト円板17、上にグループの露光を行ない現像処理し
た後のグループ断面である。
現像の進行にともないグループ断面形犬は第4図ia)
、 を目、 (c)の順に変化するがビームウェストの
半径方向rの断面のビーム強度分布が合成ビーム強度分
布となるためグループ断面形式は矩形とすることができ
さらに、露光、現像条件の微小な変動に対しグループ断
面形犬の変動を小さくできる。
〔発明の効果〕
本発明の元ディスク原盤IIIG元方法は、フォトレジ
スト円板上に合焦集光した複数のレーザビームを前記フ
ォトレジスト円板の同−半径上であって半径方向上に互
いに互いに重なり合うように配置することKよシ、ガウ
ス分布をなすビーム強度分布から矩形に近い合成ビーム
強度分布とすることができるため、露光処理を行ない視
像処理した後のグループ断面膨大を矩形とすることがで
きるとともに露光・現像条件の微少変動によるグループ
断面膨大の変動を小さくできるので、作成された光ディ
スク原盤から転写して得られる光ディスク媒体における
再生時のトク、キングサーボを安定にすることができる
とともに再生信号の変動を小さくできるという効果があ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一笑飽例を示す平面図、第2図は第1
図に示す一対のレーザビームのフォトレジスト面上での
合焦状態とビームウェストでのビーム強度分布との関係
を示す露光説明図、第3図は第1図に示す一対のレーザ
ビームの合成状態を示すビーム合成説明図、第4因(a
)、 +fig、 (C)はそれぞれ第1図に示す実施
例を用いた露光・現像工程後のグループ断面を示す断面
図、第5図は従来の一例におけるレーザビームの7オト
レジストffi上での合焦状態とビーム9エストでのビ
ーム強度分布との関係を示す露光説明図、第6図ta)
、 (b)、 (C)は第5図に示すレーザビームを用
いた露光・現像工程後のグループ断面を示す断面図であ
る。 1.10.11・・・・・・レーザビーム、2・・・・
・・フォトレジスト面、3・・・・・・ガラス基板、4
.12.13・・・・・・ビームウェスト、5.14.
15・・・・・・ビーム強度分布、16・・・・・・合
成ビーム強度分布、17・・・・・・フォトンシスト円
板、 A・・・・・・回転方向、0・・・・・・円板中心、B
・・・・・・半径、r・・・・・・半径方向。 箒 21!r 茅 3 回 茅 4 回 (幻        (多)        (C)第
 sym 芽 l 回 (oL)        (bl (C)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. フォトレジスト円板上に合焦集光するレーザビームによ
    りスパイラル状あるいは同心円状にピットまたはグルー
    プの露光を行なう光ディスク原盤露光方法において、前
    記レーザビームを前記フォトレジスト円板の同一半径上
    であって半径方向に互いに重なり合うように配置した複
    数の平行レーザビームで露光することを特徴とする光デ
    ィスク原盤露光方法。
JP62098871A 1987-04-21 1987-04-21 光デイスク原盤露光方法 Expired - Lifetime JP2508076B2 (ja)

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