JPS63263647A - 光デイスク原盤露光方法 - Google Patents
光デイスク原盤露光方法Info
- Publication number
- JPS63263647A JPS63263647A JP62098871A JP9887187A JPS63263647A JP S63263647 A JPS63263647 A JP S63263647A JP 62098871 A JP62098871 A JP 62098871A JP 9887187 A JP9887187 A JP 9887187A JP S63263647 A JPS63263647 A JP S63263647A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- disk
- photoresist
- intensity distribution
- rectangular
- exposure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 15
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims abstract description 31
- 238000009826 distribution Methods 0.000 abstract description 33
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 3
- 244000111306 Torreya nucifera Species 0.000 description 2
- 235000006732 Torreya nucifera Nutrition 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 241000218691 Cupressaceae Species 0.000 description 1
- 206010011732 Cyst Diseases 0.000 description 1
- 244000007853 Sarothamnus scoparius Species 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 208000031513 cyst Diseases 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Optical Head (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Optical Recording Or Reproduction (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、光ディスク原盤露光方法、ＷＫ、フォトレジ
スト円板上にスパイラル吠あるいは同心同大にピットま
たはグループの露光を行なう光ディスク原盤露光方法に
関する。
スト円板上にスパイラル吠あるいは同心同大にピットま
たはグループの露光を行なう光ディスク原盤露光方法に
関する。
従来の光ディスク原盤鉢光方法に用いる露光装置は、フ
ォトレジスト円板を固着し回転摺動する回転移動機構と
、レーダビームをパワーコントロールするパワー制御線
と、前記パワーコントロールされたレーザビームを光変
調する変調部と、前記変調部からのレーザビームを前記
フォトレジスト基板上に合焦集光するオートフォーカス
手段とを含んで構成される。
ォトレジスト円板を固着し回転摺動する回転移動機構と
、レーダビームをパワーコントロールするパワー制御線
と、前記パワーコントロールされたレーザビームを光変
調する変調部と、前記変調部からのレーザビームを前記
フォトレジスト基板上に合焦集光するオートフォーカス
手段とを含んで構成される。
ζこで、前記露光装置において、例えば前記フォトレジ
スト円板内周上に、レーザビームを公知のオートフォー
カス手段によ〕合焦集光し、さらに前記回転移動機構に
より前記フォトレジスト円板を回転し、前記パワー制御
線によシパワーコント■−ルされたレーザビームが前記
フォトレジスト円板上を内周から外周に向けて露光する
ように走査するととによシスパイラル伏の露光を行なう
ことができることから、前記変調部ＫＯＮ信号を与える
ととＫよ〕グループの露光を行ない、前記変調部Ｋ Ｏ
Ｎ −ＯＦ Ｆ信号を与えることＫよシピ、トの路光を
行なうことが可能となる。したがって、前記露光装置に
よる露光方法で例えばスパイラル伏のグループを露光す
ることができる。
スト円板内周上に、レーザビームを公知のオートフォー
カス手段によ〕合焦集光し、さらに前記回転移動機構に
より前記フォトレジスト円板を回転し、前記パワー制御
線によシパワーコント■−ルされたレーザビームが前記
フォトレジスト円板上を内周から外周に向けて露光する
ように走査するととによシスパイラル伏の露光を行なう
ことができることから、前記変調部ＫＯＮ信号を与える
ととＫよ〕グループの露光を行ない、前記変調部Ｋ Ｏ
Ｎ −ＯＦ Ｆ信号を与えることＫよシピ、トの路光を
行なうことが可能となる。したがって、前記露光装置に
よる露光方法で例えばスパイラル伏のグループを露光す
ることができる。
第５図は従来の一例におけるガラス基板とフォトレジス
ト面とで構成されたフォトレジスト円板上に合焦集光す
るレーザビームとビームウェスト径でのビーム強度分布
との関係を示す露光説明図である。
ト面とで構成されたフォトレジスト円板上に合焦集光す
るレーザビームとビームウェスト径でのビーム強度分布
との関係を示す露光説明図である。
第５図において、レーザビーム１をガラス基板２上のフ
ォトレジスト面３に合焦集光したときのビーム９エスト
４の前記フォトレジスト円板１７の半径方向ｒの断面の
ビーム強度分布５は一般にガウス分布となることが知ら
れている。
ォトレジスト面３に合焦集光したときのビーム９エスト
４の前記フォトレジスト円板１７の半径方向ｒの断面の
ビーム強度分布５は一般にガウス分布となることが知ら
れている。
第６図＋８）、 ｌｂ）、 ｉｃ）は前記露光方法によ
〕フォトレジスト円板上にグループの露光を行ない、現
像処理した後のグループ断面である。現像の進行にとも
ないグループ断面形状は第６図（ａ）、 ｌｂ、、 （
Ｃ）の順に変化するがピームワエスト断面のビーム強度
分布がガウス分布となるためにグループ断面形状は矩形
とすることができず、さらに露光条件の微小な変動によ
ジグループ断面形状が変動する。
〕フォトレジスト円板上にグループの露光を行ない、現
像処理した後のグループ断面である。現像の進行にとも
ないグループ断面形状は第６図（ａ）、 ｌｂ、、 （
Ｃ）の順に変化するがピームワエスト断面のビーム強度
分布がガウス分布となるためにグループ断面形状は矩形
とすることができず、さらに露光条件の微小な変動によ
ジグループ断面形状が変動する。
上述した従来の光ディスク原盤露光方法は、フォトレジ
スト円板上に合焦集光するレーザビームのビームウェス
ト径での前記フォトレジスト円板の半径方向のビーム強
度分布がガウス分布となっているため、グループの露光
を行ない、現像処理した後のグループ断面形吠を矩形と
することができず、さらに露光条件、現像条件の微小な
変動によりグループ断面形状が変動するので、作成され
た光ディスク原盤から転写して得られる光ディスク媒体
において再生時のトラッキングサーボが不安定となりた
シ、再生信号に変動を起こすという欠点があった。
スト円板上に合焦集光するレーザビームのビームウェス
ト径での前記フォトレジスト円板の半径方向のビーム強
度分布がガウス分布となっているため、グループの露光
を行ない、現像処理した後のグループ断面形吠を矩形と
することができず、さらに露光条件、現像条件の微小な
変動によりグループ断面形状が変動するので、作成され
た光ディスク原盤から転写して得られる光ディスク媒体
において再生時のトラッキングサーボが不安定となりた
シ、再生信号に変動を起こすという欠点があった。
本発明の光ディスク原盤露光方法は、フォトレジスト円
板上に合焦集光するレーザビームにより、スパイラル吠
あるいは同心同次にビットまたはグループの露光を行な
う光ディスク原盤ａｆｔ、刀法において、前記レーザビ
ームを前記フォトレジスト円板の同−半径上であって半
径方向に互いに重なり合うように配置した複数の平行な
レーザビームを照射することを含んで構成される。
板上に合焦集光するレーザビームにより、スパイラル吠
あるいは同心同次にビットまたはグループの露光を行な
う光ディスク原盤ａｆｔ、刀法において、前記レーザビ
ームを前記フォトレジスト円板の同−半径上であって半
径方向に互いに重なり合うように配置した複数の平行な
レーザビームを照射することを含んで構成される。
次に、本発明の実施例にりいて、図面を参照して詳細に
説明する。
説明する。
第１図は、本発明の一実施例を示す平面図であり、フォ
トレジスト円板上に合焦集光する２本のレーザビームの
関係を示す平面図である。回転方向Ａ Ｋ：回転するフ
ォトレジスト円板１７０円板中心０半径Ｒを有する前記
フォトレジスト円板１７に照射されるレーザビーム１０
．１１は互いに平行であり、フォトレジスト円板１０半
径Ｒ上に互いに重なり合うように配置される。
トレジスト円板上に合焦集光する２本のレーザビームの
関係を示す平面図である。回転方向Ａ Ｋ：回転するフ
ォトレジスト円板１７０円板中心０半径Ｒを有する前記
フォトレジスト円板１７に照射されるレーザビーム１０
．１１は互いに平行であり、フォトレジスト円板１０半
径Ｒ上に互いに重なり合うように配置される。
第２図はガラス基板３とフォトレジスト面２とで構成さ
れたフォトレジスト円板１７の上に合焦集光する２本の
レーザビーム１０．１１と該レーザビーム１０．１１の
前記フォトレジスト円板１７の半径方向ｒのビームウェ
スト径でのビーム強度分布との関係を示す露光説明図で
ある。第２檜宗す霧光説明図において、レーザビーム１
０ｋｌｆラス基板３上のフォトレジスト面２に合焦集光
したトキのビームウェスト径１２の半径方向ｒの断面の
ビーム強度分布１４はガウス分布となる。ｌｉｌ［Ｋレ
ーザビーム１１をガラス基板３上のフォトレジスト面２
に合焦集光したときのビーム９エスト径１３０半径方向
ｒの断面のビーム強度分布１５も゛ガウス分布となる。
れたフォトレジスト円板１７の上に合焦集光する２本の
レーザビーム１０．１１と該レーザビーム１０．１１の
前記フォトレジスト円板１７の半径方向ｒのビームウェ
スト径でのビーム強度分布との関係を示す露光説明図で
ある。第２檜宗す霧光説明図において、レーザビーム１
０ｋｌｆラス基板３上のフォトレジスト面２に合焦集光
したトキのビームウェスト径１２の半径方向ｒの断面の
ビーム強度分布１４はガウス分布となる。ｌｉｌ［Ｋレ
ーザビーム１１をガラス基板３上のフォトレジスト面２
に合焦集光したときのビーム９エスト径１３０半径方向
ｒの断面のビーム強度分布１５も゛ガウス分布となる。
ところが前記レーザビーム１０によるビーム強度分布１
４と前記レーザビームＩＩＫよるビーム強度分布１５と
を合成することにより得られる合成ビーム強度分布はガ
ウス分布とは異なシ、前記レーザビームｌＯと、前記レ
ーザビーム１１の重なり万によ）さまざまな分布形状と
なる。
４と前記レーザビームＩＩＫよるビーム強度分布１５と
を合成することにより得られる合成ビーム強度分布はガ
ウス分布とは異なシ、前記レーザビームｌＯと、前記レ
ーザビーム１１の重なり万によ）さまざまな分布形状と
なる。
第３図は前記ビームの強度分布１４と、前記ビーム強度
分布１５とが等しくビーム強度分布が半値幅の長さだけ
互い忙重なり合ったときの合成ビーム５！Ｊ度分布１６
を示すビーム合成説明図である。
分布１５とが等しくビーム強度分布が半値幅の長さだけ
互い忙重なり合ったときの合成ビーム５！Ｊ度分布１６
を示すビーム合成説明図である。
第４図１ａ）、 （ｂ）、 （ｃ）は第１図に示す実施
例を用いた露光現像後のグループ断面を示す断面図で、
第３図に示す合成ビーム強度分布１６によシフオドレジ
スト円板１７、上にグループの露光を行ない現像処理し
た後のグループ断面である。
例を用いた露光現像後のグループ断面を示す断面図で、
第３図に示す合成ビーム強度分布１６によシフオドレジ
スト円板１７、上にグループの露光を行ない現像処理し
た後のグループ断面である。
現像の進行にともないグループ断面形犬は第４図ｉａ）
、 を目、 （ｃ）の順に変化するがビームウェストの
半径方向ｒの断面のビーム強度分布が合成ビーム強度分
布となるためグループ断面形式は矩形とすることができ
さらに、露光、現像条件の微小な変動に対しグループ断
面形犬の変動を小さくできる。
、 を目、 （ｃ）の順に変化するがビームウェストの
半径方向ｒの断面のビーム強度分布が合成ビーム強度分
布となるためグループ断面形式は矩形とすることができ
さらに、露光、現像条件の微小な変動に対しグループ断
面形犬の変動を小さくできる。
本発明の元ディスク原盤ＩＩＩＧ元方法は、フォトレジ
スト円板上に合焦集光した複数のレーザビームを前記フ
ォトレジスト円板の同−半径上であって半径方向上に互
いに互いに重なり合うように配置することＫよシ、ガウ
ス分布をなすビーム強度分布から矩形に近い合成ビーム
強度分布とすることができるため、露光処理を行ない視
像処理した後のグループ断面膨大を矩形とすることがで
きるとともに露光・現像条件の微少変動によるグループ
断面膨大の変動を小さくできるので、作成された光ディ
スク原盤から転写して得られる光ディスク媒体における
再生時のトク、キングサーボを安定にすることができる
とともに再生信号の変動を小さくできるという効果があ
る。
スト円板上に合焦集光した複数のレーザビームを前記フ
ォトレジスト円板の同−半径上であって半径方向上に互
いに互いに重なり合うように配置することＫよシ、ガウ
ス分布をなすビーム強度分布から矩形に近い合成ビーム
強度分布とすることができるため、露光処理を行ない視
像処理した後のグループ断面膨大を矩形とすることがで
きるとともに露光・現像条件の微少変動によるグループ
断面膨大の変動を小さくできるので、作成された光ディ
スク原盤から転写して得られる光ディスク媒体における
再生時のトク、キングサーボを安定にすることができる
とともに再生信号の変動を小さくできるという効果があ
る。
第１図は本発明の一笑飽例を示す平面図、第２図は第１
図に示す一対のレーザビームのフォトレジスト面上での
合焦状態とビームウェストでのビーム強度分布との関係
を示す露光説明図、第３図は第１図に示す一対のレーザ
ビームの合成状態を示すビーム合成説明図、第４因（ａ
）、 ＋ｆｉｇ、 （Ｃ）はそれぞれ第１図に示す実施
例を用いた露光・現像工程後のグループ断面を示す断面
図、第５図は従来の一例におけるレーザビームの７オト
レジストｆｆｉ上での合焦状態とビーム９エストでのビ
ーム強度分布との関係を示す露光説明図、第６図ｔａ）
、 （ｂ）、 （Ｃ）は第５図に示すレーザビームを用
いた露光・現像工程後のグループ断面を示す断面図であ
る。 １．１０．１１・・・・・・レーザビーム、２・・・・
・・フォトレジスト面、３・・・・・・ガラス基板、４
．１２．１３・・・・・・ビームウェスト、５．１４．
１５・・・・・・ビーム強度分布、１６・・・・・・合
成ビーム強度分布、１７・・・・・・フォトンシスト円
板、 Ａ・・・・・・回転方向、０・・・・・・円板中心、Ｂ
・・・・・・半径、ｒ・・・・・・半径方向。 箒 ２１！ｒ 茅 ３ 回 茅 ４ 回 （幻 （多） （Ｃ）第
ｓｙｍ 芽 ｌ 回 （ｏＬ） （ｂｌ （Ｃ）
図に示す一対のレーザビームのフォトレジスト面上での
合焦状態とビームウェストでのビーム強度分布との関係
を示す露光説明図、第３図は第１図に示す一対のレーザ
ビームの合成状態を示すビーム合成説明図、第４因（ａ
）、 ＋ｆｉｇ、 （Ｃ）はそれぞれ第１図に示す実施
例を用いた露光・現像工程後のグループ断面を示す断面
図、第５図は従来の一例におけるレーザビームの７オト
レジストｆｆｉ上での合焦状態とビーム９エストでのビ
ーム強度分布との関係を示す露光説明図、第６図ｔａ）
、 （ｂ）、 （Ｃ）は第５図に示すレーザビームを用
いた露光・現像工程後のグループ断面を示す断面図であ
る。 １．１０．１１・・・・・・レーザビーム、２・・・・
・・フォトレジスト面、３・・・・・・ガラス基板、４
．１２．１３・・・・・・ビームウェスト、５．１４．
１５・・・・・・ビーム強度分布、１６・・・・・・合
成ビーム強度分布、１７・・・・・・フォトンシスト円
板、 Ａ・・・・・・回転方向、０・・・・・・円板中心、Ｂ
・・・・・・半径、ｒ・・・・・・半径方向。 箒 ２１！ｒ 茅 ３ 回 茅 ４ 回 （幻 （多） （Ｃ）第
ｓｙｍ 芽 ｌ 回 （ｏＬ） （ｂｌ （Ｃ）
Claims (1)
- フォトレジスト円板上に合焦集光するレーザビームによ
りスパイラル状あるいは同心円状にピットまたはグルー
プの露光を行なう光ディスク原盤露光方法において、前
記レーザビームを前記フォトレジスト円板の同一半径上
であって半径方向に互いに重なり合うように配置した複
数の平行レーザビームで露光することを特徴とする光デ
ィスク原盤露光方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62098871A JP2508076B2 (ja) | 1987-04-21 | 1987-04-21 | 光デイスク原盤露光方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62098871A JP2508076B2 (ja) | 1987-04-21 | 1987-04-21 | 光デイスク原盤露光方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63263647A true JPS63263647A (ja) | 1988-10-31 |
| JP2508076B2 JP2508076B2 (ja) | 1996-06-19 |
Family
ID=14231245
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62098871A Expired - Lifetime JP2508076B2 (ja) | 1987-04-21 | 1987-04-21 | 光デイスク原盤露光方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2508076B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06274944A (ja) * | 1993-03-24 | 1994-09-30 | Nec Corp | 微細パターン形成装置 |
| US6009071A (en) * | 1997-09-30 | 1999-12-28 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Optical disk having information pits with projections formed therein |
| EP1158504A1 (en) * | 1999-09-08 | 2001-11-28 | Mitsubishi Chemical Corporation | Rewritable compact disk and method for manufacturing the same |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6278740A (ja) * | 1985-10-02 | 1987-04-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 情報記録原盤記録方法 |
| JPS63149846A (ja) * | 1986-12-15 | 1988-06-22 | Ricoh Co Ltd | 光デイスク原盤露光方法 |
-
1987
- 1987-04-21 JP JP62098871A patent/JP2508076B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6278740A (ja) * | 1985-10-02 | 1987-04-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 情報記録原盤記録方法 |
| JPS63149846A (ja) * | 1986-12-15 | 1988-06-22 | Ricoh Co Ltd | 光デイスク原盤露光方法 |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06274944A (ja) * | 1993-03-24 | 1994-09-30 | Nec Corp | 微細パターン形成装置 |
| US6009071A (en) * | 1997-09-30 | 1999-12-28 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Optical disk having information pits with projections formed therein |
| US6346367B1 (en) | 1997-09-30 | 2002-02-12 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Optical disk and method for manufacturing the same |
| EP1158504A1 (en) * | 1999-09-08 | 2001-11-28 | Mitsubishi Chemical Corporation | Rewritable compact disk and method for manufacturing the same |
| EP1158504A4 (en) * | 1999-09-08 | 2002-10-23 | Mitsubishi Chem Corp | RECORDABLE COMPACT DISC AND MANUFACTURING METHOD THEREOF |
| US6580678B2 (en) | 1999-09-08 | 2003-06-17 | Mitsubishi Chemical Corporation | Rewritable compact disk and manufacturing method thereof |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2508076B2 (ja) | 1996-06-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS5918771B2 (ja) | 回折トラツクに沿つて記録したしたパルス時間変調波の再生装置 | |
| JP3577870B2 (ja) | 記録媒体原盤の製造方法及び記録媒体 | |
| JPS63263647A (ja) | 光デイスク原盤露光方法 | |
| JP3175153B2 (ja) | 光ディスク信号記録方法及び装置 | |
| KR100200803B1 (ko) | 정보소스 디스크와 이 정보소스 디스크의 광기록장치 및 그 정보소스 디스크의 복제방법과 그 복제장치 | |
| JP2002298445A (ja) | 光記録媒体及び光記録媒体製造用原盤 | |
| JP2540582B2 (ja) | 光ディスク用マスタ―原盤の作成方法 | |
| JPH02244440A (ja) | 光ディスク原盤の製造方法 | |
| JPH0793828A (ja) | 光ディスク原盤露光方法 | |
| JP2508076C (ja) | ||
| JP2715449B2 (ja) | 光ディスク原盤記録方法 | |
| JPS62177730A (ja) | 光情報記録デイスク用レ−ザ装置 | |
| JPS58199448A (ja) | 光学式情報記録装置 | |
| JPH0827944B2 (ja) | 光ディスクの製造方法 | |
| JPH0449542A (ja) | 光ディスク原盤露光方法 | |
| JPS63300445A (ja) | 光ディスク製造装置 | |
| JPH04248147A (ja) | 光ディスク原盤記録装置 | |
| JPS62223837A (ja) | 光記録原盤の製造方法 | |
| JPH01143037A (ja) | デイスク製造用原盤並びにその製造方法及び製造装置 | |
| JPH07118103B2 (ja) | 光情報記録用媒体の製造方法及び光情報記録用媒体原盤の露光装置 | |
| JPH0555937B2 (ja) | ||
| JPH10302300A (ja) | 記録媒体原盤の製造方法、露光方法、記録及び／又は再生装置 | |
| JPH11339329A (ja) | 露光装置及び露光方法 | |
| JPH07254165A (ja) | 光ディスク原盤の露光方法と露光装置 | |
| JPH05314543A (ja) | 光ディスク原盤記録装置 |