JPS62223837A - 光記録原盤の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の技術分野］ この発明は、光ビームで情報の記録、再生を行なう例え
ば光ディスク、光カード等の光記録原盤の製造方法に関
する。

［発明の技術的背印とその問題点コ ユーザーにより記録、再生を行なうことのできる追記録
可能形の光ディスクには、通゛ｊ；τ記録、再生ヘッド
の位置決めを行なうための案内溝、およびランダムアク
セスなどに使用する位置情報等を含むアドレス信号が記
録される。

第２図は、このような光ディスクの原盤を示すもので、
同図中、１１はガラス吊板、１２はフォトレジスト層（
感光材ｍ）、１３はトラッキング用の案内溝、１４はア
ドレス信号のビット、１５はユーザーに使用される情報
記録ｆｌｌＩｆｉとなる部分である。

情報の記録、再生用の光の波長をλ、ディスク基板の屈
折率をｎとしたとき、案内溝１３の深さは、トラッキン
グ用の差動出力信号を大きくするためにλ／８ｎに選ば
れ、またアドレス信号のビット１４の深さは信号出力を
大きくするためにλ／４ｎに選ばれる。

第３図は、上記のような光ディスク原１１０の製造装置
を示すものである。第３図中、１７は記録用レーザで、
Ａｒレーデ、；にたはト１ｅ−Ｃｄレーザ等が用いられ
る。

１８はビームスプリッタで、このビームスプリッタ１８
により、記録用レーザ１７からの光ビームは、案内溝１
３記録用の光ビームと、アドレス信号のビット１４記録
用の光ビームとに分けられる。そして各光ビームの光路
に、光強度可変および信号変調のための光変調器２Ｌ２
２がそれぞれ配設されている。

１９ａ〜１９ｅはミラー、２３は他のビームスプリッタ
、２４は記録ヘッドである。

そし′Ｃ２つの光ビームが、各光変調器２１．２２によ
り、案内溝１３記録用の露光パワー、およびアドレス信
号のビット１４記録用の露光パワーにそれぞれ制御され
て案内溝１３、およびアドレス信舅のビット１４が同時
に露光される。露光後、現象処理を行なうことにより所
要の案内溝１３、およびアドレス信号のビット１４が形
成される。

しかしながら上記の光記録原盤の製造方法では、記録用
レーザ１７からの光ビームを２系統に分け、案内溝１３
とアドレス信号のビット１４とを同時に露光するように
していたため、２つの光ビームの伶置合わせ、および各
露光パワーの制御が難しくなり、寸法精度の高い光記録
原盤を製造することが難しい。また光学系の構成が複雑
になるという問題点があった。

［発明の目的］ この発明は、上記事情に基づいてなされたもので、比較
的簡単な）°Ｊ造装賀で寸法精度の高い光記録原盤を製
造することのできる光記録原盤の製造方法を提供するこ
とを目的とする。

［発明の概要］ 上記目的を達成するために、この発明は基板上に設けた
感光材層に案内溝を形成した後、当該案内溝に沿って記
録ヘッドが追随するにうに１〜ラツク制御をかけながら
当該案内溝間に情報信号を記録することにより、単一の
光学系で案内ｉＭおよび情報信号が記録できるとともに
、案内溝の間に精度よく情報信号が記録されるようにし
たものである。

［発明の実施例］ 以下この発明の実施例を図面を参照して説明する。この
実施例は光デイスク原盤の製造方法に適用したものであ
る。

まず第１図を用いてこの発明に適用する製造装置を説明
すると、第１図中、１は記録用レーザ、２は光強度可変
、および信号変Ｅｋｉのための光変調器、３はミラー、
４は記録ヘッドで、記録ヘッドには、公知のトラッキン
グサーボ機構も内蔵されている。トラッキングサーボ機
構における光源としては、露光用のレーザ光源とは別途
にフォトレジストが感光しないような半導体レーザが用
いられる。

次に上記の装置を用いて光デイスク原盤を製造する方法
を述べる。

まずガラス基板１１上にスピンコード法によりフォトレ
ジス１−を塗布してフォトレジストＮ１２を形成する。

フォトレジスト層１２の厚さは、アドレス信号のビット
１４の深さであるλ／４ｎに、さらに現像の際の膜減り
賞を加えた厚さにする。

ディスク基板としてはＰＭＭＡ　（ポリメヂルアクリレ
ート）、またはＰＣ（ポリカーボネート）等のプラスデ
ックが用いられるので、ｎ＝１．５である。また記録再
生光源としては半導体レーデが用いられるので、λ＝３
３Ｑｎｍである。したがってλ／４ｎ龜１４０ｎｍとな
る。

一方、１回の現像の膜減り岳は、約２０ｎｍで、この実
施例では都合２回の現像を行なうので、２回の現像によ
る膜減りｍをさらに加えると、フォトレジスト層１２の
所要厚さは約１８０ｎｍである。

上記のように基板を準備したのち、第１図の装置を用い
て、案内溝１３の刻設、およびアドレス信号のビット１
４の刻設が順次行なわれる。

まず装置に基板を装着し、基板の回転と同時に記録ヘッ
ド４を半径方向に移動させて集束したレーザ光で露光す
ることにより、案内溝１３の温性を記録する。次いで第
１回目の現像処理を行なって案内溝１３を形成する。

案内溝１３の深さはλ／８ｎ＝７０ｎｍとされるが、第
２回目の現像による膜減りを考慮して第１回目では５Ｑ
ｎｍ程度の深さにする。

レーザ光の強度等の露光条件、および現条件を選ぶこと
により上記の５Ｑｎｍ程度の深さが達成される。

次に第２回目の露光、現像によりアドレス信号のビット
１４の刻設が行なわれる。

第２回目の露光は第１回目で形成した案内溝１３を利用
してトラック制御をかけながら行なわれる。即ち、記録
ヘッド４にトラッキング動作をさせ、相隣る案内溝１３
間の中心に光ビームが照射されるように制御をかけなが
ら記録信号に従ってレーザ光を照射する。

第２回目の露光、現像条件は、アドレス信号のビット１
４の深さがλ／４ｎに、また案内溝１３の深さが最終的
にλ／８ｎになるように選ばれる。

なお上述の実施例では、この発明を光デイスク原盤の製
造方法に適用した場合について述べたが、この発明は光
ディスクと同様の方法により記録、再生が行なわれる光
カードの原盤の製造方法にも適用することができる。

次に具体例を）ホベる。

具体例１ ガラス基板１１上にスピンコード法によりフォトレジス
トを塗布して１８０ｎｍ厚さのフォト−ジスｌ一層１２
を形成した。次に第１図の装置に基板を装着し、基板を
回転さ１！ながら記録ヘッド４を半径方向に移動させて
Ａｒレーザからの光ビームで露光することにより、ピッ
チ１．６μｍのスパイラル状の案内溝１３を記録した。

光ビームの露光パワーは、光変調器２で制御することに
より、基板の内、外周の線速に応じてほぼ一定となるよ
うにした。

記録後、基板を現像して案内？：／ｉ　１３を形成した
。

次に、再び基板を第１図の装置に装着し、案内溝１３に
沿ってトラッキングをかけながら相隣る案内溝１３間に
アドレス信号を記録した。

アドレス信号を記録する際の露光パワーは、前記の案内
溝１３記録の際の２倍とした。

アドレス信号の記録後、第２回目の現像処理をして光デ
イスク原盤１０を得た。

上記のようにして製造した光ディスク原１１０を光学顕
微鏡およびＳＥＭで観察したところ、所定の案内溝１３
間の中心線上にアドレス信号のビット１４が形成されて
Ｊ３す、案内溝１３の溝幅は０．３μｍ１深さは７Ｑｎ
ｍであり、またアドレス信号のビット１４の幅は０．６
μｍ、深さは１４Ｑｎｍで、案内溝１３、およびアドレ
ス信号のビット１４ともに所定の寸法に形成された。

製造した光ディスク原１ｌＡ１０をマスター盤としてニ
ッケル電鋳によりスタンパを作製し、さらに射出成形に
よりＰＭＭＡＥｉ板に案内溝１３およびアドレス信号の
ビット１４を転写したのち、記録膜として案内溝１３お
よびビット１４の形成面側にＣ８２−Ｔｅ薄膜をプラズ
マ重合法により形成し光ディスクを作製した。

このようにして得た光ディスクを半導体レーザを用いた
記録、再生装置に装着し、記録、再生をしたところ、所
定のアドレス信号の検出、および情報記録領域１５での
記録、再生の動作を確認し、且つ良好な品質の再生信号
を得た。

具体例２ ガラス基板上にスピンコード法によりフォトレジストを
孕布して１８０ｎｍの厚さのフォトレジスト層を形成し
た。

次に第１図に示したものとほぼ同様の構成からなる光カ
ード用原盤の製造装置に基板を装着し、基板を平行移動
させなからＡｒレー管アの光ビームにより露光し、次い
で現象することによりピッチ２μｍの直線上の案内溝を
形成した。

再び製造装置に基板を装着し、案内溝に沿ってトラッキ
ングをかけながら、相隣る案内溝間にアドレス信号を記
録した。露光条件は線速換偉で前記具体例１と同じにな
るようにし、且つアドレス信号を記録する場合の露光パ
ワーは、案内溝を記録する場合の約２倍とした。

アドレス信号の記録後、第２回目の現像処理をして光カ
ード原盤を得た。

上記のようにして装造した光カード原盤を光学顕微鏡Ｊ
３よびＳＥＭで観察したところ、所定の案内溝の中心に
アドレス信号のビットが形成されており、案内溝の溝幅
は０．３μｍ、深さは７０ｎｍであり、またアドレス信
号のビットの幅は０゜６μｍ、深さは１／ＩＯｎｍで、
案内溝およびアドレス信号のビットともに所定の寸法と
なっていた。

製造した光カード原盤をマスター板どじでニッケル電鋳
によりスタンパを作製し、さらに射出成形法によりＰＣ
基板に案内溝およびアドレス信号のビットを転写したの
ち、案内溝およびピッ１〜の形成面側にＣ８２−Ｔｅｎ
膜をプラズマ重合法により形成し、光カードを作製した
。

このようにして得た光カードを半導体レーザを用いた記
録、再生装置に装着し、記録、再生実験をしたところ、
所定のアドレス信すの検出、および情報記録領域での記
録、再生の動作を確認し、且つ良好な品７ａの再生信号
を１ｑた。

［発明の効果］ 以上説明したように、この発明の構成によれば、甲−の
光学系で案内溝および情報信号が記録できるとともに、
情報１８号は案内溝にＪζリドラック制ｕｌ＋をかけな
がら記録されるので、比較的簡単な製造装置で寸法゛積
度の高い光記録原盤を製造することかでさるという利点
がある。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明に係わる光記録原盤の製造方法に適用
する装）４装置の一例を示す構成図、第２図は光記録原
盤の一例を部分的に示す斜視図、第３図は従来の光記録
原盤の製造方法に使用するツＪｊ４装同を示ザ構成図で
ある。 １：記録用レーザ、　　　２：光変調器、４：記録ヘッ
ド、　　　　　１０：記録原盤、１１ニガラス基板、 １２：フォトレジスト層、　１３；案内溝、１４ニアド
レス信号のビット、 １５：情報記録領域。 第１図 第２図 第８図 ＝＃＃弁

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 基板上に設けた感光材層に案内溝を形成する工程と、該
   工程の後当該案内溝に沿つて記録ヘッドが追随するよう
   にトラック制御をかけながら当該案内溝間に情報信号を
   記録する工程とを有することを特徴とする光記録原盤の
   製造方法。