JPH0793828A - 光ディスク原盤露光方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】光ディスク原盤の露光方法であって、同一螺旋
上の異なる形状をもつ情報記録ピットあるいは案内溝を
高精度かつ安定的に形成することを可能にする。 【構成】光ディスク原盤のフォトレジスト膜面上での同
じ位置に複数の径の異なるレーザービームを配置し、こ
れを目的とするパターンの幅に応じて切り換え露光す
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、同一螺旋上に配置され
る情報記録ピットあるいは案内溝の光ディスク原盤露光
方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】光ディスクにおいては、再生時にピック
アップを案内するための案内溝を有しその隣接する案内
溝の間（ランド部と呼ばれる）に情報記録ピットを配置
したものが多い。このようなランド記録と呼ばれる配置
の光ディスク原盤をレーザーにより露光する場合には２
つの独立したレーザースポットを所定の間隔に配置して
露光しそれぞれのレーザースポット径は案内溝あるいは
情報記録ピットの必要とされる幅に応じて独立に調整で
きるため高精度かつ安定的に所望の形状を得ることが可
能である。このときレーザースポット径の調整にはアパ
ーチャーあるいはビームエキスパンダーなどを用いて実
効的なＮＡを調整する方法などが用いられる。

【０００３】しかしながら、同一螺旋上に配置される情
報記録ピットあるいは案内溝を形成する場合にはフォト
レジスト原盤を回転させそのフォトレジスト膜面に同一
のレーザースポットにより露光しその強度を調整するこ
とにより所定の幅をもつ情報記録ピットあるいは案内溝
を形成する方法が一般的である。また、極端に幅の広い
（１．０〜１．２μｍ程度）案内溝を形成する場合には
非常に高速に露光用レーザースポットを蛇行させその蛇
行量により形成されるパターンの幅を調整するる方法な
どが用いられる。

【０００４】たとえば、０．５μｍ程度の幅と１．０μ
ｍ程度の幅の情報記録ピットあるいは案内溝が同一螺旋
上に混在する配置の場合、単一のレーザービームを両者
の幅を形成可能な形状にあらかじめレーザースポット径
の調整を行なう。これを用いて０．５μｍ幅の部分を露
光する際は弱いレーザー強度で、１．０μｍ幅の部分を
露光する際には強いレーザー強度で露光する方法、ある
いは０．５μｍ幅の部分では蛇行をさせず、１．０μｍ
幅の部分では非常に高速にレーザービームを蛇行させそ
の振幅を調整することにより所望のパターンの幅を得る
方法などが用いられる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、同一の
レーザースポットによって幅の異なる情報記録ピットあ
るいは案内溝を形成する場合、レーザースポットの形状
が一定であるためその強度の調整のみでそれぞれの必要
とされる幅を得ることが非常に困難でありまたその範囲
は非常に限定される。このとき、小さな径をもつレーザ
ースポットにより幅の広いレジストパターンを露光強度
の調整により形成すると未露光部の形状に悪影響を及ぼ
す可能性も大きい。また、高速にレーザービームを蛇行
させる方法の場合、主に音響光学偏向素子が用いられる
が、非常に高度な光学系の調整技術を要しその蛇行量を
高精度に制御することは非常に困難である。

【０００６】本発明はこのような事情に鑑みなされたも
ので、同一螺旋上に配置される幅の異なる情報記録ピッ
トあるいは案内溝を高精度かつ安定的に形成することが
可能な光ディスク原盤の露光方法を提供することを目的
とするものである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明の光ディスク原盤
露光方法は、ビーム径の異なる複数の露光用レーザービ
ームをそれぞれ異なるビーム径にあらかじめ調整を施し
それら複数のビームが光ディスク原盤のレジスト膜面上
の同じ位置に集光されるよう光軸調整を行ない、これら
を情報記録ピットあるいは案内溝の必要とされる幅に応
じ切り換えながら同一原盤の同一螺旋上にレーザー露光
を行なうことにより同一螺旋上に配置される異なる幅を
もつ情報記録ピットあるいは案内溝を形成するものであ
る。

【０００８】

【実施例】次に、本発明の実施例について図面を用いて
説明する。図１に示すように一般に光ディスク原盤の製
造工程はガラス基板上にレジスト膜を形成するレジスト
工程と、このレジスト膜に所定の形状のパターンを得る
ためにレーザービームを用いて露光するカッティング工
程と、この露光部分を現像により除去し最終的にパター
ンを形成する現像工程に大きく分けられる。

【０００９】ここで、本発明に係る光ディスク原盤の露
光方法について説明する。図２は本発明による光ディス
ク原盤露光方法の概略図である。同一螺旋上に配置され
る幅の異なる情報記録ピットあるいは案内溝を形成する
ための露光工程においてそれぞれ異なるスポット径に調
整されたレーザースポットによりフォトレジスト膜の露
光を行なう。このとき、第１ビーム１は幅の広いパター
ンを形成するためにアパーチャー等を用いて対物レンズ
３に入射するビーム径を小さくすることにより実効的な
ＮＡを低下させ集光スポット径を大きくしており、第２
ビーム２はビームエキスパンダー等を用いて対物レンズ
３に入射するビーム径を大きくすることにより実効的な
ＮＡを高くし集光スポット径を小さくしている。このこ
とにより、フォトレジスト膜面に形成される情報記録ピ
ットあるいは案内溝は第１ビームを用いれば幅広に、第
２ビームを用いれば幅狭にすることが可能となる。この
ときに用いるレーザー光学系の概略図を図３（ａ）に示
す。露光用レーザー光源６から出射されたレーザービー
ムは電気光学素子７によりその強度を制御されビームス
プリッター８で第１ビーム１と第２ビーム２の２系統に
分割される。それぞれのレーザービームは音響光学素子
１０で記録信号により強度変調され対物レンズ３により
絞り込まれ、回転機構１５により回転するフォトレジス
ト原盤に照射される。このとき、２つのレーザースポッ
トの相対位置は第１ビーム１を基準として第２ビーム２
をミラー１２の角度を調整することによりフォトレジス
ト膜面上の同じ位置に配置される。また、使用するビー
ムの選択は音響光学素子１０により変調と同時に行なわ
れる。以上説明した方法により同一螺旋上の幅の異なる
情報記録ピットあるいは案内溝を独立したレーザースポ
ットにより露光する事が可能となる。

【００１０】また、２つのレーザースポットの相対位置
の調整に音響光学素子を用いた場合のレーザー光学系の
概略図を図３（ｂ）に示す。この場合、第２ビーム２は
音響光学素子１６により基準となる第１ビーム１のフォ
トレジスト膜面上での集光点に一致させることが可能と
なり、音響光学素子に入力する電気信号によりスポット
位置の微調整が可能となる。

【００１１】

【発明の効果】以上説明したように本発明の光ディスク
原盤露光方法によれば、同一螺旋上に配置される異なる
幅をもつ情報記録ピットあるいは案内溝を形成するため
の露光工程において、それぞれの必要とされる形状を最
も得易いビーム径に調整されたレーザースポットを使用
できるため高精度かつ安定的に異なる幅をもつ情報記録
ピットあるいは案内溝を得ることが可能となる。これに
より、小さな径をもつレーザースポットで幅の広い形状
を形成したり、大きな径を持つレーザースポットで幅の
狭い形状を形成する必要がないため、同一螺旋上に配置
される情報記録ピットあるいは案内溝を所望の形状に高
精度、安定的に形成することが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】光ディスク原盤の製造工程を説明するためのフ
ローチャート。

【図２】本発明の実施例方法による光ディスク原盤露光
方法の概略図。

【図３】本発明の実施例方法に使用する装置のブロック
図。

【符号の説明】

１ ・・・第１ビーム ２ ・・・第２ビーム ３ ・・・対物レンズ ４ ・・・幅広パターン ５ ・・・幅狭パターン ６ ・・・露光用レーザー光源 ７ ・・・電気光学素子 ８ ・・・ビームスプリッター ９、１１・・・ミラー １０ ・・・音響光学変調器 １２ ・・・合成用ハーフミラー １３ ・・・フォトレジスト膜 １４ ・・・ガラス基板 １５ ・・・回転機構 １６ ・・・音響光学偏向器

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ガラス基板上にフォトレジスト膜を有す
   る光ディスク原盤上にレーザービームを照射しその露光
   部分を現像することにより所定の形状を持つ情報記録ピ
   ットあるいは案内溝を形成する光ディスク原盤の露光方
   法において、複数のスポット径の異なるレーザービーム
   の集光位置を一致させ形成するパターンの幅に応じてレ
   ーザービームを切り換えて同一螺旋上の情報記録ピット
   あるいは案内溝を露光することを特徴とする光ディスク
   原盤露光方法。