JP2001006178A - 光学記録方法及び光学記録装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 露光ビームのビーム径を容易に変更可能と
し、各種光ディスクフォーマットに対応可能とする。 【解決手段】 波長の異なる複数のレーザ光をそれぞれ
光学変調器により記録信号に基づいて強度変調する。強
度変調されたレーザ光を対物レンズの光軸上で合成す
る。強度変調されたレーザ光の合成は、波長選択性ミラ
ーや偏光選択性ミラーにより行う。このとき、各レーザ
光をそれぞれ分割し、強度変調した後、対物レンズの光
軸上で再合成するようにしてもよい。以上の構成によ
り、複数の波長のレーザ光の切り換え、若しくは併用に
よって、対物レンズから出射される光ビーム自体のビー
ム径が容易に変更される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば一面に形成
されたフォトレジスト膜に対してレーザ光を照射するこ
とにより照射軌跡に応じた記録パターンを形成（描画）
する光学記録方法及び光学記録装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】いわゆるＣＤやＬＤ等の再生専用形の光
ディスク、ＭＤ等、プリフォーマットとしての離散的情
報パターンやトラッキング用の案内溝（グルーブ）が予
め形成された書き込み可能な光ディスク、あるいは光磁
気（Magnet Optical：以下、ＭＯと記載する。）ディス
ク等の各種光ディスクが提案されている。

【０００３】このような光ディスクの製造プロセスは、
ピットやグルーブ等の所望の凹凸パターンに応じた表面
形状を有する金属原盤（スタンパ）を作製する工程（い
わゆる原盤工程）と、スタンパの表面形状をディスク基
板上に転写してから光ディスクとして製品化するまでの
工程に大別される。

【０００４】このうち、上記原盤工程においては、表面
を研磨したガラス板を洗浄、乾燥した後、このガラス板
上に感光材料であるフォトレジストを塗布形成し、次い
でこのフォトレジストに対してレーザビーム等の光ビー
ムによる露光を行うことによってピットやグルーブの形
成パターンに応じた凹凸パターンを記録する方法が一般
的に使用されている。

【０００５】上記露光によって上記フォトレジストに形
成された潜像は、現像され、得られた凹凸パターンが電
鋳によって金属表面に転写されてスタンパが作製され
る。このような光ビームによる露光によって凹凸パター
ンを記録する方法では、サブミクロンオーダーで所定の
パターンを上記フォトレジスト表面に忠実に転写するこ
とが要求される。

【０００６】ところで、ＭＤやＭＯディスク等のように
グルーブ自体を記録トラックとして使用する光ディスク
においては、最適なピット幅やグルーブ幅が異なる。こ
こで、露光ビームによりピットやグルーブを形成するた
め、上記ピット幅やグルーブ幅は、光ビームのスポット
径によって決まる。

【０００７】従来、ＣＤやＬＤ等、１つの露光ビームで
記録し原盤を作製する場合は、図３に示すように、気体
を増幅媒質とするガスレーザ光源１０１（例えば、Ｈｅ
−Ｃｄレーザ）を用い、このガスレーザ光源から出射さ
れたレーザ光１０２をミラーＭ１により後段の光学系１
０３に導き、このミラーＭ１を介して導かれたレーザ光
１０２をビーム縮小（集光）レンズＬ１によってそのビ
ーム径を縮小して音響光学変調器（Acousto Optical Mo
dulator ：以下、単にＡＯＭと記載する。）１０４に入
射し、このＡＯＭにおいて駆動系１０５より供給される
超音波（記録信号に基づいて変調されている。）に応じ
てその光強度を変調する。

【０００８】このＡＯＭ１０４にて強度変調されたレー
ザ光１０２は、後段のビーム拡大レンズ（もしくはビー
ム縮小レンズ）Ｌ２によって、そのビーム径が拡大もし
くは縮小され、平行ビームのまま直進して、ミラーＭ２
で反射され、移動光学テーブル１０７上に水平に導かれ
る。

【０００９】移動光学テーブル１０７上には、結像及び
回折光補正光学系と対物レンズ１０６が配設されてな
る。この結像及び回折光補正光学系は、第３のレンズＬ
３から構成される。この第３のレンズＬ３は、上記対物
レンズの結像集光面Ｐ１と共役な位置に形成される入射
側集光面Ｐ２に上記レーザビームを集光させるような位
置に配設される。その後、この結像び回折光補正レンズ
並びに対物レンズを介してフォトレジスト膜１０８に集
光照射される。

【００１０】このとき、光源と対物レンズとの間にビー
ムリレー光学系を配し、レンズＬ２もしくはレンズＬ３
の焦点距離を変化させ、フォトレジスト１０８表面に対
物レンズが集光するように再調整することによって上記
対物レンズに対する有効開口数ＮＡを変化させ、露光ビ
ームのスポット径を変化させる。

【００１１】ＭＯディスク等、ピットやグルーブを２つ
の露光ビームで記録する方法は、特開平６−１０３６１
３号公報（光ディスク原盤の製造方法）において報告さ
れてている。

【００１２】この２つの露光ビームで記録する光学的記
録装置は、図４に示すように、同一光軸上に１つの光源
１０１と、この光源１０１から出射されたレーザビーム
１０２を二分割するハーフミラーＢＳ１と、ビームリレ
ー光学系１０３（ＯＭ１，ＯＭ２）と、分割された２本
のレーザビームを再合成する偏光ビームスプリッタ１１
０及び対物レンズ１０６が配設されてなる。

【００１３】上記光学的記録装置では、Ｈｅ−Ｃｄレー
ザ光源１０１より出射されたレーザビーム１０２は、平
行ビームのまま直進して、ビームスプリッタＢＳ１によ
って反射光（Ｓ偏光）と通過光（Ｓ偏光）に分けられ
る。

【００１４】このうち、通過光はミラーＭ１で反射さ
れ、反射光はそのまま各変調光学系に導かれる。通過光
の変調光学系ＯＭ１は、レーザビームを集光レンズＬ１
１を用いてＡＯＭ１０４ａに集光する。このＡＯＭ１０
４ａによって強度変調されて発散したレーザ光は、レン
ズＬ１２によって平行ビーム（Ｓ偏光）になる。さら
に、この平行ビームは、λ／２偏光板１０９によりＰ偏
光平行ビーム１１１になる。

【００１５】反射光も、同様に、変調光学系ＯＭ２のレ
ンズＬ２１、ＡＯＭ１０４ｂ、レンズＬ２２によりＳ偏
光平行ビーム１２１になる。

【００１６】上述の各平行ビームは、ミラーＭ２及びＭ
２１によって移動光学テーブル１０７上に水平かつに平
行に導かれ、Ｐ偏光平行ビーム１１１はそのまま偏光ビ
ームスプリッタ１１０（ＰＢＳ）に入射され、Ｓ偏光平
行ビーム１２１はミラーＭ２２で反射され、その進行方
向が９０°変換されてＰＢＳに入射される。

【００１７】次に、Ｐ偏光平行ビーム１１１はそのまま
ＰＢＳ１１０を透過し、Ｓ偏光平行ビーム１２１はＰＢ
Ｓ１１０で反射してレンズＬ３及び対物レンズ１０６の
光軸上にアライメントされる。

【００１８】すなわち、この偏光ビームスプリッタ１１
０に入射された上記成分Ｙ（Ｓ偏光平行ビーム１２１）
は、該偏光ビームスプリッタ１１０の反射面にて上記成
分Ｘ（Ｐ偏光平行ビーム１１１）と合成される。この
時、この偏光ビームスプリッタ１１０の反射面は、反射
面で合成されて出射されるレーザビームの進行方向に対
して適度な反射角をなして形成される。これにより、こ
の偏光ビームスプリッタ１１０から出射されたレーザビ
ームが上記対物レンズ１０６の結像集光面（すなわち、
露光対象であるフォトレジストの表面）Ｐ１に集光され
る際に、上記成分Ｘ，Ｙに対応する２つのスポットが若
干（上記フォトレジストの感度分解能程度に）ズレた位
置にそれぞれ集光されるようになり、半径方向において
グルーブ間の中央にピットが露光される。上記方法でピ
ットとグルーブを露光することにより、１種類のＭＯフ
ォーマットの記録が可能となる。

【００１９】さらに、レンズＬ２１，Ｌ２２若しくはレ
ンズＬ３の焦点距離を変化させ、フォトレジスト１０８
表面に対物レンズ１０６が集光するように再調整するこ
とによって、露光ビームのスポット径を変化させれば、
１倍密度ＭＯ，２倍密度ＭＯ，４倍密度ＭＯ等、各種フ
ォーマットに対応した記録が可能となる。

【００２０】

【発明が解決しようとする課題】ところが、高密度光デ
ィスク（いわゆるＤＶＤ−ＲＯＭ、５倍密度ＭＯ、１０
倍密度ＭＯ等）においては、上述のようにＨｅ−Ｃｄレ
ーザを用いレンズＬ２若しくはレンズＬ３の焦点距離を
変化させ、レンズの位置を再調整する方法では、露光ビ
ームのスポット径を充分に小さくすることができず、最
適なピットやグルーブを形成することが困難である。

【００２１】なお、露光ビームのスポット径は、以下の
数式で与えられる。

【００２２】ｄ＝ｋλ／ＮＡ ｄ：スポット径 λ：レーザ波長 ＮＡ：対物レンズの開口数 ｋ：開口形状や入射ビーム断面形状で決まる定数 このため、短波長レーザ、例えばＫｒレーザ（波長λ：
４１３ｎｍ、３５１ｎｍ）を用いスポット径を小さくす
る必要があるが、新たに高価な短波長レーザ光学記録装
置を導入しなければならない等、多大な設備投資が必要
になる。また、光源のみを短波長レーザに交換した場合
でも、リレー光学系の調整が非常に難しく、その作業も
繁雑であり、光学調整の熟練者に頼らなければならなか
ったり、長時間の調整で仕事の効率が良くない等の問題
がある。

【００２３】さらに、近年、ＭＤ ＤａｔａIIと称され
るフォーマット等、２つのグルーブと１つのピットから
なるフォーマットが提案されている。このフォーマット
の露光記録は、それぞれ別々の露光ビームで行うことが
望ましく、これによりはじめて好適なピット形状やグル
ーブ形状を得るとができる。したがって、３ビーム以上
の露光ビームによる記録技術が必要になる。

【００２４】本発明は、かかる従来の状況に鑑みて提案
されたものであり、露光ビームのビーム径を容易に変化
させることができ、各種光ディスクフォーマットに対応
して好適なピット形状、グルーブ形状を得ることが可能
な光学記録方法及び光学記録装置を提供することを目的
とする。

【００２５】

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明の光学記録方法は、波長の異なる複数のレ
ーザ光をそれぞれ光学変調器により記録信号に基づいて
強度変調することを特徴とするものである。

【００２６】また、本発明の光学記録装置は、波長の異
なるレーザ光を出射する複数のレーザ光源と、各レーザ
光源からのレーザ光を記録信号に基づいて強度変調する
変調手段と、強度変調されたレーザ光を対物レンズの光
軸上で合成するための光学系とを有することを特徴とす
るものである。

【００２７】以上の構成を有する本発明の光学記録方
法、光学記録装置では、複数の波長のレーザ光の切り換
え、若しくは併用によって、対物レンズから出射される
光ビーム自体のビーム径が容易に変更される。

【００２８】

【発明の実施の形態】以下、本発明を適用した光学記録
方法、光学記録装置について、図面を参照しながら説明
する。

【００２９】本発明の光学記録方法においては、複数の
波長のレーザ光源から出射されたレーザ光に対して、各
々ビームリレー光学系とその間のＡＯＭをブラッグ条件
を満たすように配置する。またリレー光学系は、上記光
源から出射された光ビームをレンズを用いてＡＯＭに集
光するように配置する。

【００３０】ＡＯＭに集光された各レーザ光は、このＡ
ＯＭに供給される超音波に基づいて強度変調される。

【００３１】各々強度変調されて発散したレーザ光は、
レンズにより平行ビームとなり、さらにダイクロイック
ミラー等により同一光軸上に再合成され、上記対物レン
ズに集光される。

【００３２】ここで、複数の波長のレーザ光の切り換え
によって、フォトレジスト表面に対物レンズで集光する
露光ビームのスポット径を変化させる。露光ビームは、
対物レンズを介してフォトレジスト膜に照射され、照射
軌跡に応じた記録パターンが描画される。

【００３３】次に、描画された記録パターンは、現像に
より記録部分のフォトレジストが溶解除去され、凹凸パ
ターンであるナローピットとワイドグルーブが形成され
る。この凹凸を有するガラス原盤の複製をＮｉメッキす
ることにより、金型（スタンパ）を作製する。その金型
を用いて、ＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）やＰ
Ｃ（ポリカーボネイト）等の透明樹脂に成形を行い、微
小な凹凸（信号に相当するピットやグルーブパターン）
が転写された透明基板を形成する。

【００３４】これらピットやグルーブを含む表面には、
光を反射する金属膜や光磁気膜等が設けられ、さらに保
護膜がピットや反射膜を保護するために設けられ、Ｃ
Ｄ，ＬＤ，ＭＯ等の光ディスクになる。

【００３５】以上が本発明を適用した光学記録方法のプ
ロセスの概略であるが、以下、ピットやグルーブを有す
る光ディスクの製造プロセス等において、所望の凹凸パ
ターンをディスク基板の表面に転写するためのスタンパ
を形成するに際し、好適なピット形状やグルーブ形状を
容易に形成するための具体的な方法及び装置について説
明する。

【００３６】図１は、本発明を適用した光学記録装置の
一構成例を示すものである。この光学記録装置は、光デ
ィスクの製造プロセスにおいて、各所望の凹凸パターン
をディスク基板の表面に転写するためのスタンパを形成
するに際し、２つ異なる波長の光源から出射されたレー
ザビームをダイクロイックミラーにより同一光軸上に合
成し、２つのレーザビームのスポット径を波長により変
化させ露光することによって、好適な上記凹凸パターン
を形成し得るものである。

【００３７】この光学記録装置において、光源は特に限
定されるものではなく、適宜選択して使用すればよい。
ここでは、波長の異なるレーザ光を出射する複数のレー
ザ光源として、Ｈｅ−Ｃｄレーザ光源１（波長λ：４４
２ｎｍ）と短波長のＫｒレーザ光源１３（波長λ：３５
１ｎｍ）を使用した。

【００３８】これらの光源より出射されたレーザビーム
は、平行ビームのまま直進してミラーＭ１，Ｍ３１で反
射され、変調光学系ＯＭ１，ＯＭ３に導かれる。

【００３９】変調光学系ＯＭ１において、Ｈｅ−Ｃｄレ
ーザ光源１から出射されたレーザ光は集光レンズＬ１１
を用いてＡＯＭ４ａに集光されるが、このＡＯＭ４ａに
より強度変調され発散されたレーザ光は、レンズＬ１２
によって平行ビーム１２になる。

【００４０】同様に、変調光学系ＯＭ３において、Ｋｒ
レーザ光源１３から出射されたレーザ光は集光レンズＬ
３１を用いてＡＯＭ４ｃに集光され、このＡＯＭ４ｃに
より強度変調され発散されたレーザ光は、レンズＬ３２
によって平行ビーム３２になる。

【００４１】上述の平行ビーム３２は、ミラーＭ３２に
より反射され、ダイクロイックミラー４０（波長選択性
ミラー：波長λ３５１ｎｍ＝反射、波長λ４４２ｎｍ＝
透過）でさらに反射される。

【００４２】一方、平行ビーム１２はダイクロイックミ
ラー４０に導かれ透過し、平行ビーム３２と同一光軸上
に合成される。

【００４３】その結果、平行ビーム１２，３２は移動光
学テーブル７上に水平に導かれ、さらにレンズＬ３、ミ
ラーＭ３、対物レンズ６を通り、フォトレジスト８表面
にスポット径の異なる露光ビームが集光される。

【００４４】なお、ここでは対物レンズの開口数ＮＡは
０．９に設定した。また、音響光学変調器ＡＯＭ４ａ及
びＡＯＭ４ｃには、酸化テルル（ＴｅＯ₂ ）を用いた。
これら音響光学変調器ＡＯＭ４ａ，ＡＯＭ４ｃには、入
力端子から信号がドライバーを介して供給されるが、こ
の信号はピットを形成する場合はＥＦＭ（８→１４変
調）信号であり、グルーブを形成する場合は一定レベル
のＤＣ信号である。このＥＦＭ信号によって、レーザ光
が強度変調（ＯＮ／ＯＦＦ）される。

【００４５】上記構成の光学記録装置では、レンズＬ１
２，Ｌ３２，Ｌ３の焦点距離を変えることにより露光ビ
ームのスポット径を変えることが可能であり、本例で
は、Ｈｅ−Ｃｄレーザにより記録したピット幅は０．４
〜０．８μｍ、Ｋｒレーザにより記録したピット幅は
０．２５〜０．５μｍであった。

【００４６】したがって、この光学記録装置では、レー
ザの切り替えにより、ピット幅を０．２５〜０．８μｍ
の範囲で大きく変えることができ、ＣＤ，ＬＤ，ＤＶＤ
等の既存の光ディスクに好適なピット幅（形状）を得る
ことが可能である。

【００４７】図２は、上記図１に示す構成の光学記録装
置をさらに改良したものである。具体的には、ＭＤ Ｄ
ａｔａIIフォーマット等のようにピットと２つのグルー
ブの両方を有する光ディスクの製造プロセスにおいて、
各所望の凹凸パターンをディスク基板の表面に転写する
ためのスタンパを形成するに際し、２つの異なる波長の
光源から出射されたレーザビームをビームスプリッタに
より二分割し、ダイクロイックミラーと偏光ビームスプ
リッタにより同一光軸上に再合成し、４つのレーザビー
ムのスポット径を波長、光学系により変化させ露光する
ことによって、好適な上記凹凸パターンを形成した例で
ある。

【００４８】この光学記録装置においては、Ｈｅ−Ｃｄ
レーザ光源１より出射されたレーザビームは、平行ビー
ムのまま直進して、ビームスプリッタＢＳ２によって反
射光（Ｓ偏光）と通過光（Ｓ偏光）に分けられる。

【００４９】それらのうち、通過光はミラーＭ１で反射
され、反射光はそのまま各変調光学系に導かれる。通過
光の変調光学系ＯＭ１は、レーザビームを集光レンズＬ
１１を用いてＡＯＭ４ａに集光する。このＡＯＭ４ａに
よって強度変調されて発散したレーザ光は、レンズＬ１
２によって平行ビーム（Ｐ偏光）になる。さらに、この
平行ビームはλ／２偏光板９ａによりＳ偏光平行ビーム
１２になる。

【００５０】反射光も、同様にレンズＬ２１，ＡＯＭ４
ｂ，レンズＬ２２からなる変調光学系ＯＭ２よって平行
ビーム２２（Ｓ偏光）になる。

【００５１】一方、Ｋｒレーザ光源１３より出射された
レーザビームも、同様に、平行ビームのまま直進して、
ビームスプリッタＢＳ４によって反射光（Ｓ偏光）と通
過光（Ｓ偏光）に分けられる。

【００５２】ここでも通過光はミラーＭ３１で反射さ
れ、反射光はそのまま各変調光学系に導かれる。そし
て、通過光の変調光学系ＯＭ３は、レーザビームを集光
レンズＬ３１を用いてＡＯＭ４ｃに集光する。このＡＯ
Ｍ４ｃによって強度変調されて発散されたレーザ光は、
レンズＬ３２によって平行ビーム（Ｐ偏光）になる。さ
らに、この平行ビームは、λ／２偏光板９ｂによりＳ偏
光平行ビーム３２になる。

【００５３】反射光も、レンズＬ４１，ＡＯＭ４ｄ，レ
ンズＬ４２からなる変調光学系ＯＭ４よって平行ビーム
４２（Ｓ偏光）になる。

【００５４】次に、上述のＰ偏光平行ビーム３２は、ミ
ラーＭ３２により反射され、ダイクロイックミラー４０
でさらに反射される。これに対し、Ｐ偏光平行ビーム１
２は、ダイクロイックミラー４０に導かれ透過し、平行
ビーム３２と同一光軸上に再合成される。

【００５５】これらＰ偏光平行ビーム１２，３２は、ミ
ラーＭ２により反射され、移動光学テーブル７上に水平
に導かれ、さらに偏光ビームスプリッタ１０、レンズＬ
３、対物レンズ６を通り、フォトレジスト８表面にスポ
ット径の異なる露光ビームとして集光される。

【００５６】同様に、上述のＳ偏光平行ビーム４２は、
ミラーＭ４２により反射され、ダイクロイックミラー４
１でさらに反射される。Ｓ偏光平行ビーム２２はダイク
ロイックミラー４１に導かれ透過し、平行ビーム４２と
同一光軸上に再合成される。

【００５７】これらＳ偏光平行ビーム２２，４２は、ミ
ラーＭ２１によって移動光学テーブル７上に水平かつに
平行に導かれ、ミラーＭ２２で反射され、その進行方向
が９０°変換されて偏光ビームスプリッタ１０に入射さ
れる。

【００５８】そして、そのまま偏光ビームスプリッタ１
０を通過したＰ偏光平行ビーム１２，３２と、偏光ビー
ムスプリッタ１０で反射されたＳ偏光平行ビーム２２，
４２とは、結果的に同一光軸上に再合成されることにな
る。

【００５９】したがって、これらビームは、さらにレン
ズＬ３、対物レンズ６を通り、フォトレジスト８表面に
スポット径の異なる４つの露光ビームとして集光され
る。

【００６０】上記装置により、ＭＤ ＤａｔａIIフォー
マット等に対応して、２つのグルーブと１つのピットを
同時に記録する記録技術が可能になる。さらに４つの露
光ビームによる記録技術により、例えば２種類のピット
形状と２種類のグルーブ形状を同時に形成できる。

【００６１】本発明の光学記録方法、光学記録装置は、
ＣＤ，ＬＤ，ＭＯの他、種々のピットまたはグルーブを
有する高密度光ディスク［ＤＶＤ−ＲＯＭ，ＤＶＤ−Ｒ
Ｗ、高密度ＭＯ（５倍密度ＭＯ，１０倍密度ＭＯ等）、
ＭＤ ＤａｔａII等］の製造に適用することが可能であ
る。本発明を適用することで、１台の光学記録装置によ
り、各種フォーマットの光ディスクの製造が可能にな
る。

【００６２】以上、本発明を適用した光学記録方法及び
光学記録装置について説明してきたが、例えば装置構成
等は本発明の技術的思想に基いて様々に変形可能であ
る。

【００６３】例えば、上記の例ではレーザとしてＨｅ−
Ｃｄレーザ（波長４４２ｎｍ）及び短波長のＫｒレーザ
（波長３５１ｎｍ）を用いたが、他のレーザ、例えばＡ
ｒレーザ（波長４８８ｎｍ，４５８ｎｍ，３５１ｎｍ）
やＨｅ−Ｃｄレーザ（波長３２５ｎｍ）、Ｋｒレーザ
（波長４１３ｎｍ）等を用いてもよい。

【００６４】また、本発明は、上述した２ビームや４ビ
ームの光学記録方法に限らず、レーザ光源、波長選択性
ミラー（ダイクロイックミラー）、偏光選択性ミラー
（偏光ビームスプリッタ）等の増設により、６ビームや
８ビームの光学的記録方法とすることができる。

【００６５】さらに、本発明は、光ディスク原盤の製造
のみならず、信号記録システムやこれら双方の機能を有
するシステム等にも適用可能である。

【００６６】

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明によれば、異なる波長のレーザの切り換えによって対
物レンズが集光するレーザビームのスポット径を変化さ
せることができ、幅の異なるピットやグルーブを容易に
形成することができる。

【００６７】また、スポット径の異なる多ビーム（４ビ
ーム、６ビーム、８ビーム等）による光学記録が可能で
あり、各種フォーマットの光ディスクを簡便かつ容易に
製造することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を適用した光学記録装置の一構成例を示
す模式図である。

【図２】本発明を適用した光学記録装置の他の構成例を
示す模式図である。

【図３】従来の光学記録装置の一例を示す模式図であ
る。

【図４】従来の光学記録装置の他の例を示す模式図であ
る。

【符号の説明】

１ Ｈｅ−Ｃｄレーザ光源、４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄ
ＡＯＭ（音響光学変調器）、６ 対物レンズ、８ フォ
トレジスト、１０ 偏光ビームスプリッタ、１３Ｋｒレ
ーザ光源、４０，４１ ダイクロイックミラー、ＯＭ
１，ＯＭ２，ＯＭ３，ＯＭ４ 変調光学系

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 波長の異なる複数のレーザ光をそれぞれ
   光学変調器により記録信号に基づいて強度変調すること
   を特徴とする光学記録方法。
2. 【請求項２】 上記強度変調されたレーザ光を対物レン
   ズの光軸上で合成することを特徴とする請求項１記載の
   光学記録方法。
3. 【請求項３】 波長選択性ミラーにより合成することを
   特徴とする請求項２記載の光学記録方法。
4. 【請求項４】 波長選択性ミラー及び偏光選択性ミラー
   により合成することを特徴とする請求項２記載の光学記
   録方法。
5. 【請求項５】 各レーザ光をそれぞれ分割し、強度変調
   した後、対物レンズの光軸上で再合成することを特徴と
   する請求項２記載の光学記録方法。
6. 【請求項６】 波長の異なるレーザ光を出射する複数の
   レーザ光源と、各レーザ光源からのレーザ光を記録信号
   に基づいて強度変調する変調手段と、強度変調されたレ
   ーザ光を対物レンズの光軸上で合成するための光学系と
   を有することを特徴とする光学記録装置。
7. 【請求項７】 上記光学系は、波長選択性ミラーを備え
   ることを特徴とする請求項６記載の光学記録装置。
8. 【請求項８】 上記光学系は、波長選択性ミラー及び偏
   光選択性ミラーを備えることを特徴とする請求項６記載
   の光学記録装置。
9. 【請求項９】 各レーザ光源からのレーザ光を分割する
   光学系を有することを特徴とする請求項６記載の光学記
   録装置。