JP2001319383A

JP2001319383A - 光記録媒体製造用原盤の製造方法及び製造装置、並びに、光記録媒体製造用原盤、光記録媒体

Info

Publication number: JP2001319383A
Application number: JP2000139151A
Authority: JP
Inventors: Mitsuo Arima; 光雄有馬
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 2000-05-11
Filing date: 2000-05-11
Publication date: 2001-11-16

Abstract

(57)【要約】【課題】グルーブやピット列等の凹凸パターンに対応
した潜像を感光層に高精度に形成する。【解決手段】トラックに沿って所定の凹凸パターンが
形成された光記録媒体製造用原盤の製造方法である。そ
して、支持体上に形成された感光層に対して、トラック
に沿って露光ビームを照射し、当該感光層を露光してい
くことにより、所定の凹凸パターンに対応した潜像を当
該感光層に形成する露光工程と、感光層に形成された潜
像を現像することにより、当該感光層に凹凸パターンを
形成する現像工程と、感光層に形成された凹凸パターン
を原盤に転写する転写工程とを有し、露光工程におい
て、感光層に照射される露光ビームのスポット形状を楕
円とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、再生専用の光ディ
スクや、光磁気ディスク、相変化型光ディスク等の光記
録媒体の原盤となる記録媒体製造用原盤の製造方法及び
製造装置に関する。また、本発明は、そのような光記録
媒体の原盤となる記録媒体製造用原盤、並びに、そのよ
うな記録媒体製造用原盤を用いて作製された光記録媒体
に関する。

【０００２】

【従来の技術】光記録媒体には、再生専用の光ディスク
や、光磁気ディスク、相変化型光ディスク等の光ディス
クがある。これら光ディスクは、光学的に透明な樹脂材
料等からなるディスク基板を有し、このディスク基板上
に情報信号が記録される信号記録領域が形成されてい
る。すなわち、この信号記録領域には、トラックに沿っ
て連続的に形成された案内溝であるグルーブや、多数の
エンボスピットからなるピット列等が、トラック毎に所
定のトラックピッチにてスパイラル状又は同心円状に形
成されている。

【０００３】このような光ディスクにおいて、ディスク
基板の表面に形成されるグルーブやピット列等の凹凸パ
ターンの形状は、記録媒体としての性能を左右する。し
たがって、高記録密度化を図るためには、これら凹凸パ
ターンをディスク基板に高精度に形成することが要求さ
れる。

【０００４】ここで、ディスク基板を作製する際には、
先ず、支持体であるガラス原盤上に感光層となるフォト
レジストを塗布し、このフォトレジストに対してトラッ
クに沿って露光ビームを照射していくことにより、フォ
トレジストを露光する。これにより、所定の凹凸パター
ンに対応した潜像がフォトレジストに形成される。な
お、従来、このようなフォトレジストの露光には、いわ
ゆるレーザーカッティング装置が使用されており、レー
ザー光を対物レンズによってフォトレジスト上に集光し
ながら、このフォトレジストを露光するようになされて
いる。

【０００５】次に、フォトレジストに形成された潜像を
現像することにより、フォトレジストに凹凸パターンを
形成する。次に、凹凸パターンが形成されたフォトレジ
スト上にＮｉメッキを施した後、このＮｉメッキを剥離
する。これにより、フォトレジストに形成されていた凹
凸パターンが転写されたＮｉメッキからなる光記録媒体
製造用原盤、いわゆるスタンパが作製される。

【０００６】そして、このようなスタンパを型として、
例えばポリカーボネート等の光学的に透明な樹脂材料を
射出成形する。これにより、グルーブやピット列等の凹
凸パターンが形成されてなるディスク基板が作製され
る。

【０００７】また、このようなディスク基板を作製する
際に使用されるレーザーカッティング装置は、例えば、
図２２に示すように、所定の波長のレーザー光を出射す
るレーザー光源１２１と、レーザー光の強度が安定なレ
ベルとなるように、このレーザー光の強度を制御する光
強度制御部１２２と、ガラス原盤１１０に塗布されたフ
ォトレジスト１１１に照射されるレーザー光の強度を変
調する光強度変調部１２３と、レーザー光を透過光と反
射光とに分離するビームスプリッタ１２４と、レーザー
光のスポット径を拡大するためのビームエキスパンダ１
２５と、レーザー光をフォトレジスト１１１上に集光さ
せる集光部１２６とを備えている。

【０００８】レーザー光源１２１から出射されたレーザ
ー光は、光強度制御部１２２に入射し、光強度制御部１
２２によってレーザー光の光強度が制御される。この光
強度制御部１２２は、レーザー光源１２１の出力の不安
定さを除去し、フォトレジスト１１１に照射されるレー
ザー光の光強度を安定なものとするためのものであり、
電気光学素子１３１と、アナライザ１３２と、ビームス
プリッタ１３３と、フォトディテクタ１３４と、光パワ
ー制御回路１３５とを有している。

【０００９】そして、レーザー光源１２１から出射され
たレーザー光は、電気光学素子１３１及びアナライザ１
３２を透過してビームスプリッタ１３３に入射し、この
ビームスプリッタ１３３によって透過光と反射光とに分
離される。そして、ビームスプリッタ１３３を透過した
レーザー光は、フォトディテクタ１３４に入射し、この
フォトディテクタ１３４によって、その光強度が検出さ
れる。フォトディテクタ１３４は、検出したレーザー光
の光強度のレベルを電圧レベルに変換して、光パワー制
御回路１３５に供給する。光パワー制御回路１３５は、
フォトディテクタ１３４からの入力と基準電圧レベルＲ
ｅｆとを比較して、電気光学素子１３１を透過してくる
レーザー光の光強度が常に一定となるように、電気光学
素子１３１に電圧を印加する。これにより、光強度制御
部１２２から出射されるレーザー光、すなわちビームス
プリッタ１３３によって反射されるレーザー光の光強度
は、レーザー光源１２１の出力が不安定であったとして
も、常に安定したレベルとなる。

【００１０】そして、ビームスプリッタ１３３によって
反射され、光強度制御部１２２から出射されたレーザー
光は、光強度変調部１２３に入射し、光強度変調部１２
３によって光強度の変調がなされる。この光強度変調部
１２３は、第１の凸レンズ１３６と、光強度変調器１３
７と、第２の凸レンズ１３８とを有している。そして、
ビームスプリッタ１３３によって反射されたレーザー光
は、所定の焦点距離を有する第１の凸レンズ１３６によ
って集光された上で光強度変調器１３７に入射し、この
光強度変調器１３７によって、所望する露光パターンに
対応するように光強度の変調がなされる。

【００１１】光強度変調器１３７によって光強度の変調
がなされたレーザー光は、所定の焦点距離を有する第２
の凸レンズ１３８に入射し、この第２の凸レンズ１３８
によって平行光とされた上で、ビームスプリッタ１２４
に入射し、このビームスプリッタ１２４により反射され
る。そして、ビームスプリッタ１２４により反射された
レーザー光は、ビームエキスパンダ１２５に入射する。
このビームエキスパンダ１２５は、レーザー光のビーム
径を拡大するためのものであり、所定の焦点距離を有す
る第３の凸レンズ１３９と、所定の焦点距離を有する第
４の凸レンズ１４０とを有している。このビームエキス
パンダ１２５において、第３の凸レンズ１３９と第４の
凸レンズ１４０との間隔を変化させると、レーザー光の
ビーム径の拡大率が変化する。これにより、レーザーカ
ッティング装置では、フォトレジスト１１１上に集光さ
れるレーザー光のスポット径を調整することができる。

【００１２】ビームエキスパンダ１２５によりスポット
径が拡大されたレーザー光は、集光部１２６に入射す
る。この集光部１２６は、レーザー光をフォトレジスト
１１１上に集光するためのものであり、対物レンズ１４
２を有している。そして、対物レンズ１４２に入射した
レーザー光は、この対物レンズ１４２によって集光され
てフォトレジスト１１１に照射される。

【００１３】なお、このレーザーカッティング装置にお
いて、図示していないが、フォトレジスト１１１が塗布
されたガラス原盤１１０を保持する回転可能なターンテ
ーブルと、レーザー光の照射位置をガラス原盤１１０の
半径方向に移動させる移動機構とを備えている。そし
て、このレーザーカッティング装置を用いてフォトレジ
スト１１１を露光する際には、ターンテーブルによりフ
ォトレジスト１１１が塗布されたガラス原盤１１０を回
転させながら、移動機構によりレーザー光の照射位置を
ガラス原盤１１０の半径方向に一回転あたり等距離ずつ
移動させる。これにより、ガラス原盤１１０上のフォト
レジスト１１１に、グルーブやピット列等の凹凸パター
ンに対応した潜像が一定のトラックピッチでスパイラル
状又は同心円状に形成される。

【００１４】

【発明が解決しようとする課題】ところで、このような
従来のレーザーカッティング装置における光学系は、い
わゆる円形開口の光学系であり、感光層に照射される露
光ビームのスポット形状は、図２３に示すような円形と
なる。なお、図２３において、（ａ）は、円形開口によ
る露光ビームのスポット形状を示し、（ｂ）は、その露
光ビームのガウシアン形状を示す。

【００１５】したがって、フォーマット露光に関して
は、トラック方向と線密度方向との露光状態を同一とし
ながら、グルーブやピット列等の凹凸パターンに対応し
た潜像をフォトレジスト１１１に形成することになる。
すなわち、従来のレーザーカッティング装置では、円形
開口を基本としながら、レジスト厚や、露光光量、現像
及び円形光束の制御等を行うことにより、エンボスピッ
ト部のサーボ信号の変調や、アシンメトリー及びジッタ
量の制御等を行っていた。

【００１６】しかしながら、このような従来の手法で
は、作製される光記録媒体の高記録密度化や、既存の光
ディスク品質の向上等を図る上で、色々な問題が生じる
こととなる。

【００１７】例えば、このような円形開口を基本とした
場合、トラック方向及び線密度方向に対して２次元的に
均一な露光状態となるために、トラックピッチとエンボ
スピットの線密度の関係によっては、エンボスピット部
のサーボ信号の変調や、アシンメトリー及びジッタ量の
制御等の両立が不可能となる。

【００１８】また、グルーブやピット列等に対応した凹
凸パターンを形成するフォーマット露光においては、こ
のような凹凸パターンを形成する際に、サーボ信号及び
変調信号、並びに記録再生特性等のマージン量を含めた
両立が困難となる。

【００１９】また、グルーブ及び／又はランド記録のフ
ォーマット露光においては、トラックピッチの１／２よ
りも幅広となる、いわゆるワイドグルーブを形成する際
に、このワイドグルーブの幅やトラックピッチによって
は、その形状制御や、サーボ信号及び記録再生特性の制
御等を行うことが困難となる。

【００２０】このような問題は、フォットレジストに照
射される露光ビームのスポット形状が円形であることに
起因しており、トラック方向及び線密度方向の露光状態
を均一とせざるを得ないことから、時間軸方向、すなわ
ち線密度方向の擬似的な多重露光により、線密度情報が
ＤＣ（０Ｈｚ）からエンボスピットの周波数領域まで制
御されたにすぎない。

【００２１】また、エンボスピット部に関しては、記録
補償の技術により、フォトレジストに形成される正規の
エンボスピットに対応した潜像をトラック方向及び線密
度方向に制御しながら、サーボ信号の変調や、アシンメ
トリー及びジッタ量の制御等を行うことが考えられる。
しかしながら、このような手法を用いたとしても、線密
度方向のエンボスピットのエッジ形状や、グルーブの幅
及びそのエッジ形状等を適切に制御することは不可能で
ある。

【００２２】そこで、本発明はこのような従来の事情に
鑑みて提案されたものであり、グルーブやピット列等の
凹凸パターンに対応した潜像を感光層に高精度に形成す
ることを可能とし、高密度化に対応した高品質の光記録
媒体を作製することを可能とした光記録媒体製造用原盤
の製造装置及び製造方法を提供することを目的とする。
また、そのような光記録媒体の原盤となる記録媒体製造
用原盤、並びに、そのような記録媒体製造用原盤を用い
て作製された光記録媒体を提供することを目的とする。

【００２３】

【課題を解決するための手段】この目的を達成する本発
明に係る光記録媒体製造用原盤の製造方法は、トラック
に沿って所定の凹凸パターンが形成された光記録媒体製
造用原盤の製造方法である。そして、支持体上に形成さ
れた感光層に対して、トラックに沿って露光ビームを照
射し、当該感光層を露光していくことにより、所定の凹
凸パターンに対応した潜像を当該感光層に形成する露光
工程と、感光層に形成された潜像を現像することによ
り、当該感光層に凹凸パターンを形成する現像工程と、
感光層に形成された凹凸パターンを原盤に転写する転写
工程とを有し、露光工程において、感光層に照射される
露光ビームのスポット形状を楕円とすることを特徴とす
る。

【００２４】この光記録媒体製造用原盤の製造方法で
は、感光層に照射される露光ビームのスポット形状を楕
円とすることにより、所定の凹凸パターンに対応した潜
像を感光層に高精度に形成することができる。

【００２５】また、この目的を達成する本発明に係る光
記録媒体製造用原盤の製造装置は、トラックに沿って所
定の凹凸パターンが形成された光記録媒体製造用原盤を
作製する際に、支持体上に形成された感光層に対して、
トラックに沿って露光ビームを照射し、当該感光層を露
光していくことにより、所定の凹凸パターンに対応した
潜像を当該感光層に形成する光記録媒体製造用原盤の製
造装置である。そして、感光層に照射される露光ビーム
のスポット形状を楕円に変換する楕円変換光学素子を備
えることを特徴とする。

【００２６】この光記録媒体製造用原盤の製造装置で
は、感光層に照射される露光ビームのスポット形状を楕
円に変換する楕円変換光学素子を備えることから、その
楕円に変換された露光ビームを感光層に照射していくこ
とにより、所定の凹凸パターンに対応した潜像を当該感
光層に高精度に形成することができる。

【００２７】また、この目的を達成する本発明に係る光
記録媒体製造用原盤は、上記の製造方法により製造され
た光記録媒体製造用原盤である。

【００２８】そして、この光記録媒体製造用原盤は、凹
凸パターンとして、トラックに沿って形成されたエンボ
スピットパターンを有する場合、このエンボスピットパ
ターンのうち、最短ピットパターンのトラックに対する
幅及び長さをそれぞれＡ及びＢとしたとき、Ａ／Ｂ＞
０．６となることを特徴とする。

【００２９】また、この光記録媒体製造用原盤は、凹凸
パターンとして、トラックに沿って形成されたグルーブ
パターン及びエンボスピットパターンを有する場合、こ
のグルーブパターンのトラックに対する幅をＧとし、エ
ンボスピットパターンのうち、最短ピットパターンの上
記トラックに対する幅をＡとしたとき、Ａ／Ｇ＞０．５
となることを特徴とする。

【００３０】また、この目的を達成する本発明に係る光
記録媒体は、上記光記録媒体製造用原盤を用いて作製さ
れた光記録媒体である。

【００３１】そして、この光記録媒体は、トラックに沿
って形成されたエンボスピットを有する場合、このエン
ボスピットのうち、最短ピットのトラックに対する幅及
び長さをそれぞれＡ及びＢとしたとき、Ａ／Ｂ＞０．６
となることを特徴とする。

【００３２】また、この光記録媒体は、トラックに沿っ
て形成されたグルーブ及びエンボスピットを有する場
合、このグルーブのトラックに対する幅をＧとし、エン
ボスピットのうち、最短ピットのトラックに対する幅を
Ａとしたとき、Ａ／Ｇ＞０．５となることを特徴とす
る。さらに、記録及び／又は再生時に照射される光の波
長をλとしたとき、Ａ／λ＞０．６，Ｇ／λ＞０．８と
なることを特徴とする。

【００３３】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して詳細に説明する。

【００３４】先ず、本発明を適用した光記録媒体製造用
原盤の製造方法の一例について説明する。

【００３５】この光記録媒体製造用原盤を製造する際
は、先ず、支持体として、表面を十分平坦に研磨して洗
浄した略円盤状のガラス原盤を用意する。次に、このガ
ラス原盤上に感光層を形成する。具体的には、例えば、
ガラス原盤の上に、フォトレジストを均一な膜厚となる
ように塗布する。ここで、フォトレジストの膜厚は、所
望するグルーブやピット列等の最大深さに対応した膜厚
とすることが好ましい。

【００３６】次に、露光工程として、ガラス原盤上に形
成されたフォットレジストに対して、トラックに沿って
露光ビームを照射していく。また、露光ビームのフォト
レジストへの照射は、ガラス原盤を回転させるととも
に、ガラス原盤をその半径方向に所定量ずつ移動させな
がら行う。そして、このように露光ビームによってフォ
トレジストを露光することにより、グルーブやピット列
等の凹凸パターンに対応した潜像がフォトレジストに形
成されることとなる。

【００３７】ところで、本手法では、感光層に照射され
る露光ビームのスポット形状を楕円とし、後述する本発
明を適用したレーザーカッティング装置を用いて、フォ
ットレジストを露光することにより、所定の凹凸パター
ンに対応した潜像をフォットレジストに高精度に形成す
ることができる。なお、このことについては、後で詳細
に説明する。

【００３８】次に、露光工程で露光されたフォトレジス
トをアルカリ性現像液を用いて現像することにより、露
光された部分、すなわちフォトレジストの感光部分を除
去する。これにより、フォトレジストに形成された潜像
が現像され、このフォトレジストにグルーブやピット列
等に対応した凹凸パターンが形成される。

【００３９】次に、潜像を現像することによりフォトレ
ジストに形成された凹凸パターンを原盤に転写すること
により、所定の凹凸パターンが形成された光記録媒体製
造用原盤を得る。

【００４０】具体的には、フォトレジスト上に、例えば
Ｎｉ等のメッキを施し、メッキ層を形成する。その後、
このメッキ層を剥離することにより、フォトレジストに
形成されていた所定の凹凸パターンが転写された記録媒
体製造用原盤が得られる。

【００４１】ところで、相変化型光ディスクや光磁気デ
ィスク等のような書き込み可能な記録媒体では、情報信
号の書き込み時に必要となるアドレス信号等を予め記録
媒体に記録しておく必要がある。そこで、書き込み可能
な記録媒体には、アドレス信号等に対応した凹凸パター
ンをディスク基板に予め形成しておくために、グルーブ
やピット列等をダブルスパイラル状に形成したものがあ
る。

【００４２】すなわち、通常、再生専用光ディスクで
は、トラックが図１に示すようなシングルスパイラル構
造とされているが、相変化型光ディスクや光磁気ディス
ク等のような書き込み可能な記録媒体では、トラックを
図２に示すようなダブルスパイラル構造とされたものが
ある。

【００４３】例えば、光磁気ディスクには、図３に示す
ように、グルーブ１とピット列２とがダブルスパイラル
状に形成されたものがある。すなわち、この光磁気ディ
スクでは、グループ１の間に狭まれたランドの部分にア
ドレス信号等を示すピット列２が形成され、グルーブ１
とピット列２とがダブルスパイラル状に形成される。

【００４４】また、光磁気ディスクには、図４に示すよ
うに、一対のグルーブ３，４をダブルスパイラル状に形
成し、一方のグルーブ３を蛇行させることにより、グル
ーブ自体にアドレス情報を付加したものがある。なお、
以下の説明では、グルーブ３のように蛇行するように形
成されたグルーブのことをウォブリンググルーブ３と称
し、グルーブ４のように蛇行することなく形成されたグ
ルーブのことをストレートグルーブ４と称する。

【００４５】このような光記録媒体を作製するには、フ
ォトレジストを露光してグルーブやピット列等の凹凸パ
ターンに対応した潜像を形成する際に、２つの露光ビー
ムによりフォトレジストを露光する必要がある。すなわ
ち、図３に示したようなフォーマット露光を実現するに
は、一方の露光ビームによりグルーブ１に対応した潜像
を形成するのと同時に、他方の露光ビームによりランド
部に形成されるピット列２に対応した潜像を形成するよ
うにする必要がある。また、図４に示したようなフォー
マット露光を実現するには、一方の露光ビームによりス
トレートグルーブ３に対応した潜像を形成するのと同時
に、他方の露光ビームによりウォブリンググルーブ４に
対応した潜像を形成するようにする必要がある。

【００４６】次に、上記露光工程において使用される本
発明を適用したレーザーカッティング装置の一例につい
て、図５を参照して詳細に説明する。

【００４７】このレーザーカッティング装置１０は、上
述したガラス原盤１１の上に塗布されたフォトレジスト
１２を露光して潜像を形成するためのものである。この
レーザーカッティング装置１０でフォトレジスト１２に
潜像を形成する際には、フォトレジスト１２が塗布され
たガラス原盤１１が、移動光学テーブル上に設けられた
回転駆動装置に取り付けられる。そして、このガラス原
盤１１は、フォトレジスト１２を露光する際に、このフ
ォトレジスト１２の全面に亘って所望のパターンでの露
光がなされるように、回転駆動装置によって図中に示す
矢印の方向に回転駆動されるとともに、移動光学テーブ
ルによって平行移動される。

【００４８】また、このレーザーカッティング装置１０
では、上述したようなグルーブやピット列等がダブルス
パイラル状に形成されてなる光記録媒体を作製するため
に、２つの露光ビームによりフォトレジスト１２を露光
することが可能とされている。

【００４９】なお、ここでは、上述したウォブリンググ
ルーブ３に対応した潜像と、ストレートグルーブ４に対
応した潜像とを、それぞれの露光ビームにより形成した
場合について説明する。すなわち、このレーザーカッテ
ィング装置１０では、２つの露光ビームにより、ウォブ
リンググルーブ３及びストレートグルーブ４に対応した
潜像をダブルスパイラル状に形成する。

【００５０】このレーザーカッティング装置１０は、レ
ーザー光を出射するレーザー光源１３と、このレーザー
光源１３から出射されたレーザー光の光強度を調整する
電気光学変調器（ＥＯＭ：Electro Optical Modulato
r）１４と、この電気光学変調器１４から出射されたレ
ーザー光の光軸上に配された検光子１５と、この検光子
１５を透過してきたレーザー光を反射光と透過光とに分
離する第１のビームスプリッタ１７と、この第１のビー
ムスプリッタ１７を透過してきたレーザー光を反射光と
透過光とに分離する第２のビームスプリッタ１８と、こ
の第２のビームスプリッタ１８を透過してきたレーザー
光を検出するフォトディテクタ（ＰＤ：Photo Detecto
r）１９と、電気光学変調器１４に対して信号電界を印
加して当該電気光学変調器１４から出射されるレーザー
光の光強度を調整するオートパワーコントローラ（ＡＰ
Ｃ：Auto Power Controller）２０とを備えている。

【００５１】このレーザーカッティング装置１０におい
て、レーザー光源１３から出射されたレーザー光は、先
ず、オートパワーコントローラ２０により印加される信
号電界によって駆動される電気光学変調器１４によっ
て、所定の光強度とされた上で検光子１５に入射する。
ここで、検光子１５はＳ偏光だけを透過する検光子であ
り、この検光子１５を透過してきたレーザー光はＳ偏光
となる。

【００５２】なお、レーザー光源１３には、任意のもの
が使用可能であるが、比較的に短波長のレーザー光を出
射するものが好ましく、例えば、波長λが３５１ｎｍの
レーザー光を出射するＫｒレーザや、波長λが４４２ｎ
ｍのレーザー光を出射するＨｅ−Ｃｄレーザ等が適用可
能である。

【００５３】そして、検光子１５を透過してきたＳ偏光
のレーザー光は、先ず、第１のビームスプリッタ１７に
よって反射光と透過光とに分離され、さらに、第１のビ
ームスプリッタ１７を透過したレーザー光は、第２のビ
ームスプリッタ１８によって反射光と透過光とに分離さ
れる。

【００５４】なお、このレーザーカッティング装置１０
では、第１のビームスプリッタ１７によって反射された
レーザー光が第１の露光ビームとなり、第２のビームス
プリッタ１８によって反射されたレーザー光が第２の露
光ビームとなる。

【００５５】第２のビームスプリッタ１８を透過したレ
ーザー光は、フォトディテクタ１９によって、その光強
度が検出され、この光強度に応じた信号がフォトディテ
クタ１９からオートパワーコントローラ２０に送られ
る。そして、フォトディテクタ１９から送られてきた信
号に応じて、オートパワーコントローラ２０は、フォト
ディテクタ１９によって検出される光強度が所定のレベ
ルにて一定となるように、電気光学変調器１４に対して
印加する信号電界を調整する。これにより、電気光学変
調器１４から出射するレーザー光の光強度が一定となる
ように、自動光量制御（ＡＰＣ：Auto Power Control）
が施され、ノイズの少ない安定したレーザー光が得られ
る。

【００５６】また、このレーザーカッティング装置１０
は、第１のビームスプリッタ１７によって反射されたレ
ーザー光の光強度を変調する第１の変調光学系２２と、
第２のビームスプリッタ１８によって反射されたレーザ
ー光の光強度を変調する第２の変調光学系２３と、これ
ら第１の変調光学系２２及び第２の変調光学系２３によ
って光強度の変調が施された各レーザー光を再合成して
フォトレジスト１２上に集光する光学系２４とを備えて
いる。

【００５７】そして、第１のビームスプリッタ１７によ
り反射された第１の露光ビームは、第１の変調光学系２
２に導かれ、第１の変調光学系２２によって光強度の変
調が施される。同様に、第２のビームスプリッタ１８に
より反射された第２の露光ビームは、第２の変調光学系
２３に導かれ、第２の変調光学系２３によって光強度の
変調が施される。

【００５８】すなわち、第１の変調光学系２２に入射し
た第１の露光ビームは、集光レンズ２９によって集光さ
れた上で音響光学変調器３０に入射し、この音響光学変
調器３０によって、所望する露光パターンに対応するよ
うに光強度の変調が施される。ここで、音響光学変調器
３０に使用される音響光学素子としては、例えば、酸化
テルル（ＴｅＯ₂）からなる音響光学素子が好適であ
る。そして、この音響光学変調器３０により光強度の変
調が施された第１の露光ビームは、コリメートレンズ３
１によって平行光とされた上で、第１の変調光学系２２
から出射される。

【００５９】ここで、音響光学変調器３０には、この音
響光学変調器３０を駆動するための駆動用ドライバ３２
が取り付けられている。そして、フォトレジスト１２の
露光時には、所望する露光パターンに応じた信号Ｓ１が
駆動用ドライバ３２に入力され、当該信号Ｓ１に応じて
駆動用ドライバ３２により音響光学変調器３０が駆動さ
れ、第２の露光ビームに対して光強度の変調が施され
る。

【００６０】具体的には、例えば、一定の深さのウォブ
リンググルーブ３に対応したグルーブパターンの潜像を
フォトレジスト１２に形成するような場合には、一定レ
ベルのＤＣ信号が駆動用ドライバ３２に入力され、ＤＣ
信号に応じて駆動用ドライバ３２によって音響光学変調
器３０が駆動される。これにより、所望するグルーブパ
ターンに対応するように、第１の露光ビームに対して光
強度の変調が施される。

【００６１】また、第２の変調光学系２３に入射した第
２の露光ビームは、集光レンズ３３によって集光された
上で音響光学変調器３４に入射し、この音響光学変調器
３４によって、所望する露光パターンに対応するように
光強度の変調が施される。ここで、音響光学変調器３４
に使用される音響光学素子としては、例えば、酸化テル
ル（ＴｅＯ₂）からなる音響光学素子が好適である。そ
して、音響光学変調器３４によって光強度変調された第
２の露光ビームは、コリメートレンズ３５によって平行
光とされるとともに、λ／２波長板３６を透過すること
により偏光方向が９０°回転させられた上で、第２の変
調光学系２３から出射される。

【００６２】ここで、音響光学変調器３４には、この音
響光学変調器３４を駆動するための駆動用ドライバ３７
が取り付けられている。そして、フォトレジスト１２の
露光時には、所望する露光パターンに応じた信号Ｓ２が
駆動用ドライバ３７に入力され、この信号Ｓ２に応じて
駆動用ドライバ３７によって音響光学変調器３４が駆動
され、第２の露光ビームに対して光強度の変調が施され
る。

【００６３】具体的には、例えば、一定の深さのストレ
ートグルーブ４に対応したグルーブパターンの潜像をフ
ォトレジスト１２に形成するような場合には、一定レベ
ルのＤＣ信号が駆動用ドライバ３７に入力され、ＤＣ信
号に応じて駆動用ドライバ３７によって音響光学変調器
３４が駆動される。これにより、所望するグルーブパタ
ーンに対応するように、第２の露光ビームに対して光強
度変調が施される。

【００６４】以上のようにして、第１の露光ビーム及び
第２の露光ビームは、それぞれ第１の変調光学系２２及
び第２の変調光学系によって光強度の変調が施される。
このとき、第１の変調光学系２２から出射された第１の
露光ビームは、Ｓ偏光のままであるが、第２の変調光学
系２３から出射された第２の露光ビームは、λ／２波長
板３６を透過することにより偏光方向が９０°回転させ
られているので、Ｐ偏光となる。

【００６５】そして、第１の変調光学系２２から出射さ
れた第１の露光ビームは、ミラー４１によって反射さ
れ、移動光学テーブル上に水平且つ平行に導かれ、偏向
光学系４６に入射する。そして、第１の露光ビームは、
偏向光学系４６によって光学偏向が施された上で、ミラ
ー４４によって反射されて進行方向が９０°曲げられた
上で偏光ビームスプリッタ４５に入射する。一方、第２
の変調光学系３２から出射された第２の露光ビームは、
ミラー４２によって反射され、移動光学テーブル上に水
平且つ平行に導かれ、そのまま偏光ビームスプリッタ４
５に入射する。

【００６６】ここで、偏向光学系４６は、ウォブリング
グルーブ３のウォブリングに対応するように、第１の露
光ビームに対して光学偏向を施すためのものである。す
なわち、第１の変調光学系２２から出射され偏向光学系
４６に入射した第１の露光ビームは、ウェッジプリズム
４７を介して音響光学偏向器（ＡＯＤ：Acousto Optica
l Deflector）４８に入射し、この音響光学偏向器４８
によって、所望する露光パターンに対応するように光学
偏向が施される。ここで、音響光学偏向器４８に使用さ
れる音響光学素子としては、例えば、酸化テルル（Ｔｅ
Ｏ₂）からなる音響光学素子が好適である。そして、音
響光学偏向器４８によって光学偏向が施された第１の露
光ビームは、ウェッジプリズム４９を介して偏向光学系
４６から出射される。

【００６７】ここで、音響光学偏向器４８には、この音
響光学偏向器４８を駆動するための駆動用ドライバ５０
が取り付けられており、この駆動用ドライバ５０には、
電圧制御発振器（ＶＣＯ：Voltage Controlled Oscilla
tor）５１からの高周波信号が、アドレス情報を含む制
御信号Ｓ３によりＦＭ変調されて供給される。そして、
フォトレジスト１２の露光時には、所望する露光パター
ンに応じた信号が、電圧制御発振器５１から駆動用ドラ
イバ５０に入力され、当該信号に応じて駆動用ドライバ
５０によって音響光学偏向器４８が駆動され、これによ
り、第１の露光ビームに対して光学偏向が施される。

【００６８】具体的には、例えば、周波数８４．６７２
ｋＨｚにてグルーブをウォブリングさせることにより、
グルーブにアドレス情報を付加するような場合には、例
えば中心周波数が２２４ＭＨｚの高周波信号を周波数８
４．６７２ｋＨｚの制御信号にてＦＭ変調した信号を、
電圧制御発振器５１から駆動用ドライバ５０に供給す
る。そして、この信号に応じて、駆動用ドライバ５０に
よって音響光学偏向器４８を駆動し、当該音響光学偏向
器４８の音響光学素子のブラッグ角を変化させ、これに
より、周波数８４．６７２ｋＨｚのウォブリングに対応
するように、第１の露光ビームに対して光学偏向を施
す。

【００６９】そして、このような偏向光学系４６によっ
て、ウォブリンググルーブ３のウォブリングに対応する
ように光学偏向が施された第１の露光ビームは、上述し
たように、ミラー４４によって反射されて進行方向が９
０°曲げられた上で偏光ビームスプリッタ４５に入射す
る。

【００７０】ここで、偏光ビームスプリッタ４５は、Ｓ
偏光を反射し、Ｐ偏光を透過するようになされている。
そして、第１の変調光学系２２から出射され偏向光学系
４６によって光学偏向が施された第１の露光ビームは、
Ｓ偏光であり、また、第２の変調光学系２３から出射さ
れた第２の露光ビームは、Ｐ偏光である。したがって、
第１の露光ビームは、この偏光ビームスプリッタ４５に
よって反射され、第２の露光ビームは当該偏光ビームス
プリッタ４５を透過する。これにより、第１の変調光学
系２２から出射され偏向光学系４６によって光学偏向が
施された第１の露光ビームと、第２の変調光学系２３か
ら出射された第２の露光ビームとは、進行方向が同一方
向となるように再合成される。

【００７１】そして、進行方向が同一方向となるように
再合成されて偏光ビームスプリッタ４５から出射した第
１の露光ビーム及び第２の露光ビームは、拡大レンズ５
２によって所定のビーム径とされた上でミラー５３によ
って反射されて対物レンズ５４へと導かれ、当該対物レ
ンズ５４によってフォトレジスト１２上に集光される。
これにより、フォトレジスト１２が露光され、フォトレ
ジスト１２に潜像が形成されることとなる。このとき、
フォトレジスト１２が塗布されているガラス原盤１１
は、上述したように、フォトレジスト１２の全面に亘っ
て所望のパターンでの露光がなされるように、回転駆動
装置によって図２中に示す矢印の方向に回転駆動される
とともに、移動光学テーブルによって平行に移動操作さ
れる。その結果、第１の露光ビーム及び第２の露光ビー
ムの照射軌跡に応じた潜像が、フォトレジスト１２の全
面に亘って形成されることとなる。

【００７２】なお、露光ビームをフォトレジスト１２の
上に集光するための対物レンズ５４は、より微細なグル
ーブパターンを形成できるようにするために、開口数Ｎ
Ａが大きい方が好ましい。

【００７３】また、このように第１及び第２の露光ビー
ムをフォトレジスト１２に照射する際は、必要に応じ
て、拡大レンズ５２によって第１の露光ビーム及び第２
の露光ビームのビーム径を変化させ、対物レンズ５４に
対する有効開口数を調整する。これにより、フォトレジ
スト１２の表面に集光される第１の露光ビーム及び第２
の露光ビームのスポット径を変化させることができる。

【００７４】ところで、偏光ビームスプリッタ４５に入
射した第１の露光ビームは、この偏光ビームスプリッタ
４５の反射面にて、第２の露光ビームと合成される。こ
こで、偏光ビームスプリッタ４５は、その反射面が、こ
の反射面で合成されて出射されるレーザー光の進行方向
に対して適度な反射角をなすように配置されている。

【００７５】具体的には、偏光ビームスプリッタ５４の
反射面の反射角は、ガラス原盤１１の半径方向におい
て、第１の露光ビームに対応するスポットと第２の露光
ビームに対応するスポットとの間隔が、トラックピッチ
に対応するように設定しておく。これにより、第１の露
光ビームによりウォブリンググルーブ３に対応する部分
を露光し、同時に、第２の露光ビームによりストレート
グルーブ４に対応する部分を露光することが可能とな
る。

【００７６】以上のようなレーザーカッティング装置１
０は、ウォブリンググルーブ３に対応した潜像を形成す
るための第１の露光ビームに対応した光学系と、ストレ
ートグルーブ４に対応した潜像を形成するための第２の
露光ビームに対応した光学系とを備えているので、この
レーザーカッティング装置１０だけで、ウォブリンググ
ルーブ３に対応した潜像と、ストレートグルーブ４に対
応した潜像とをまとめて形成することができる。しか
も、このレーザーカッティング装置１０では、第１の露
光ビームと第２の露光ビームとを合成するための偏向ビ
ームスプリッタ４５の向きを調整することにより、第１
の露光ビームの照射位置と第２の露光ビームの照射位置
とを容易に調整することができる。

【００７７】また、これとは別に、レーザーカッティン
グ装置１０は、対物レンズ５４の焦点制御を行うための
補助光学系６０を備えている。すなわち、Ｈｅ−Ｎｅレ
ーザー等のレーザー光源６１から出射したレーザー光
を、ハーフミラー６２及びミラー５３を介して対物レン
ズ５４に導いた後に、この対物レンズ５４を通してフォ
トレジスト１２の表面に斜めに集光させる。そして、こ
のフォトレジスト１２からの戻り光をミラー５３及びハ
ーフミラー６２を介してフォトディテクタ（ＰＤ：Phot
o Detector）６３に受光させ、ガラス原盤１１の焦点方
向の変動をフォトディテクタ６３上の戻り光の位置変化
に変えて検出する。これにより、レーザーカッティング
装置１０では、対物レンズ５４とガラス原盤１１との距
離を一定に保つような制御が行われる。

【００７８】ところで、このレーザーカッティング装置
１０は、フォトレジスト１２に照射される第１及び第２
の露光ビームのスポット形状を楕円に変換するための楕
円変換光学素子を備えている。なお、以下の説明では、
第１及び第２の露光ビームのことをまとめて露光ビーム
と称する。

【００７９】この楕円変換光学素子としては、図６に示
すように、平行光束で入射する露光ビームを集光光束と
して出射しながら、その出射される露光ビームの光スポ
ットを楕円に変換する第１の楕円変換光学素子７０があ
る。

【００８０】この第１の楕円変換光学素子７０は、図７
に示すように、第１のレンズ７１と第２のレンズ７２と
からなる２群のレンズにより構成されている。この第１
のレンズ７１と第２のレンズ７２とは、互いに直交する
シリンドリカル面を有しており、これら２群のレンズを
通過した露光ビームを楕円集光するようになされてい
る。

【００８１】例えば、このような第１のレンズ７１及び
第２のレンズ７２の組合せからなる第１の楕円変換光学
素子７１の具体的な一例を図８に示す。なお、ここで
は、露光ビームが入射する側から順に、第１面７１ａ及
び第２面７１ｂを有する第１のレンズ７１、並びに、第
３面７２ａ及び第４面７２ｂを有する第２のレンズ７２
とする。また、第１のレンズ７１及び第２のレンズ７２
は、共に屈折率が１．５１６８０、アッペ数が６４．１
７、レンズの中心厚が４．００ｍｍである。

【００８２】そして、第１のレンズ７１及び第２のレン
ズ７２は、楕円に変換された光スポットの長径方向Ｘに
おいて、第１面７１ａを曲率半径が無限大となる平面、
第２面７１ｂを曲率半径が４５．９１３ｍｍとなる凹
面、第３面７２ａを曲率半径が４５．９１３ｍｍとなる
凸面、第４面７２ｂを曲率半径が１３７．４７２ｍｍと
なる凹面とする。

【００８３】このとき、第１のレンズ７１の長径方向Ｘ
における焦点距離ｆｘ１は、ｆｘ１＜０となり、第２の
レンズ７２の長径方向Ｘにおける焦点距離ｆｘ２は、ｆ
ｘ２＞０となる。すなわち、楕円に変換された光スポッ
トの長径方向Ｘにおいて、第１のレンズ７１は負のパワ
ーをもち、第２のレンズは正のパワーをもつこととな
る。

【００８４】また、第１のレンズ７１及び第２のレンズ
７２は、楕円に変換された光スポットの短径方向Ｙにお
いて、第１面７１ａを曲率半径が２４．４８３ｍｍとな
る凸面、第２面７１ｂを曲率半径が４５．９１３ｍｍと
なる凹面、第３面を曲率半径が無限大となる平面、第４
面を曲率半径が１３７．４７２ｍｍとなる凹面とする。

【００８５】このとき、第１のレンズ７１の短径方向Ｙ
における焦点距離ｆｙ１は、ｆｙ１＞０となり、第２の
レンズ７２の短径方向Ｙにおける焦点距離ｆｘ２は、ｆ
ｙ２＜０となる。すなわち、楕円に変換された光スポッ
トの短径方向Ｙにおいて、第１のレンズ７１は正のパワ
ーをもち、第２のレンズは負のパワーをもつこととな
る。

【００８６】そして、この第１の楕円変換光学素子７０
では、互いに直交する長径方向Ｘ及び短径方向Ｙの焦点
距離が、それぞれ６０ｍｍ及び１２０ｍｍと異なったも
のとなり、且つ、この第１の楕円変換光学素子７０から
出射される露光ビームが、同一の焦点位置にて集光され
る。

【００８７】これにより、第１の楕円変換光学素子７０
は、平行光束で入射する露光ビームを集光光束として出
射しながら、その出射される露光ビームの光スポットを
楕円に変換することができる。

【００８８】なお、この場合、第１のレンズの第１面７
１ａ及び第２のレンズの第３面がシリンドリカル面とな
る。また、楕円変換された露光ビームの光スポットの楕
円率は、互いに直交する長径方向Ｘ及び短径方向Ｙの焦
点距離が、それぞれ６０ｍｍ及び１２０ｍｍとなること
から、０．５となる。また、第１のレンズ７１及び第２
のレンズ７２の焦点位置は、それぞれ２７．００ｍｍ及
び７５．０４５ｍｍとなり、この第１の楕円変換光学素
子７０から出射された露光ビームは同一の焦点位置にて
集光することから、これら第１のレンズ７１と第２のレ
ンズ７２との光学的な距離ｄは、４８．０４５ｍｍとな
る。

【００８９】また、この第１の楕円変換光学素子７０か
ら出射された露光ビームに発生する球面収差について測
定した特性図を図９に示す。なお、図９において、
（ａ）は、長径方向Ｘの球面収差について測定した特性
図であり、（ｂ）は、短径方向Ｙの球面収差について測
定した特性図である。また、縦軸は、球面収差の発生量
を示し、横軸は、露光ビームのスポット中心から端部へ
と向かう方向を示す。

【００９０】以上のように構成される第１の楕円変換光
学素子７０は、図５示すレーザーカッティング装置１０
において、例えば、集光レンズ２９，３３又は拡大レン
ズ５２と置換される。すなわち、この第１の楕円変換光
学素子７０は、露光ビームが平行光束で入射され、且
つ、集光光束で出射されるような位置に配置される。

【００９１】例えば、レーザーカッティング装置１０に
おいて、集光レンズ２９，３３と置換された場合には、
この第１の楕円変換光学素子７０に対して、ビームスプ
リッタ１７，１８から露光ビームが平行光束で入射す
る。そして、第１の楕円変換光学素子７０は、この平行
光束で入射した露光ビームを集光光束として出射し、そ
の出射される露光ビームの光スポットを楕円に変換す
る。そして、この第１の楕円変換光学素子７０から出射
された露光ビームは、音響光学変調器３０，３４上に楕
円集光され、最終的に対物レンズ５４を通してフォトレ
ジスト１２上に楕円集光される。

【００９２】また、拡大レンズ５２と置換された場合に
は、この第１の楕円変換光学素子７０に対して、偏向ビ
ームスプリッタ４５から露光ビームが平行光束で入射す
る。そして、第１の楕円変換光学素子７０は、この平行
光束で入射した露光ビームを集光光束で出射し、その出
射される露光ビームの光スポットを楕円に変換する。そ
して、この第１の楕円変換光学素子７０から出射された
露光ビームは、その焦点位置が対物レンズ５４の露光ビ
ームに対する前段側の集光点と一致するように楕円集光
され、最終的に対物レンズ５４を通してフォトレジスト
１２上に楕円集光される。

【００９３】これにより、レーザーカッティング装置１
０では、楕円集光された露光ビームがフォトレジスト１
２に照射され、このフォットレジスト１２を露光してい
くことにより、所定の凹凸パターンに対応した潜像をフ
ォトレジスト１２上に形成する。

【００９４】また、楕円変換光学素子としては、図１０
に示すように、発散光束で入射する露光ビームを平行光
束として出射しながら、その露光ビームの光スポットを
楕円に変換する第２の楕円変換光学素子７３がある。

【００９５】この第２の楕円変換光学素子７３は、図１
１に示すように、第１のレンズ７４と第２のレンズ７５
とからなる２群のレンズにより構成されている。この第
１のレンズ７４と第２のレンズ７５とは、互いに直交す
るシリンドリカル面を有しており、これら２群のレンズ
を通過した露光ビームを楕円平行光束とするようになさ
れている。

【００９６】例えば、このような第１のレンズ７４及び
第２のレンズ７５の組合せからなる第２の楕円変換光学
素子７３の具体的な一例を図１２に示す。なお、ここで
は、露光ビームが入射する側から順に、第１面７４ａ及
び第２面７４ｂを有する第１のレンズ７４、並びに、第
３面７５ａ及び第４面７５ｂを有する第２のレンズ７５
とする。また、第１のレンズ７４及び第２のレンズ７５
は、共に屈折率が１．５１６８０、アッペ数が６４．１
７、レンズの中心厚が４．００ｍｍである。

【００９７】そして、第１のレンズ７４及び第２のレン
ズ７５は、楕円に変換された光スポットの長径方向Ｘに
おいて、第１面７４ａを曲率半径が−１３７．４７２ｍ
ｍとなる凹面、第２面７４ｂを曲率半径が無限大となる
平面、第３面７５ａを曲率半径が−４５．９１３ｍｍと
なる凹面、第４面７５ｂを曲率半径が−２４．４８３ｍ
ｍとなる凸面とする。

【００９８】このとき、第１のレンズ７１の長径方向Ｘ
における焦点距離ｆｘ１は、ｆｘ１＜０となり、第２の
レンズ７２の長径方向Ｘにおける焦点距離ｆｘ２は、ｆ
ｘ２＞０となる。すなわち、楕円に変換された光スポッ
トの長径方向Ｘにおいて、第１のレンズ７１は負のパワ
ーをもち、第２のレンズは正のパワーをもつこととな
る。

【００９９】また、第１のレンズ７４及び第２のレンズ
７５は、楕円に変換された光スポットの短径方向Ｙにお
いて、第１面７４ａを曲率半径が−１３７．４７２ｍｍ
となる凹面、第２面７４ｂを曲率半径が−２１．０１２
ｍｍとなる凸面、第３面７５ａを曲率半径が−４５．９
１３ｍｍとなる凹面、第４面７５ｂを曲率半径が無限大
となる平面とする。

【０１００】このとき、第１のレンズ７１の短径方向Ｙ
における焦点距離ｆｙ１は、ｆｙ１＞０となり、第２の
レンズ７２の短径方向Ｙにおける焦点距離ｆｘ２は、ｆ
ｙ２＜０となる。すなわち、楕円に変換された光スポッ
トの短径方向Ｙにおいて、第１のレンズ７４は正のパワ
ーをもち、第２のレンズ７５は負のパワーをもつことと
なる。

【０１０１】そして、この第２の楕円変換光学素子７３
では、互いに直交する長径方向Ｘ及び短径方向Ｙの焦点
距離が、それぞれ−１２０ｍｍ及び−６０ｍｍと異なっ
たものとなり、且つ、この第２の楕円変換光学素子７３
の露光ビームに対する前段側の焦点位置が同一なものと
なる。すなわち、第２の楕円変換光学素子７３は、上述
した第１の楕円変換光学素子７０を露光ビームの入射方
向に対して逆向きとした構成とされる。

【０１０２】これにより、第２の楕円変換光学素子７３
は、発散光束で入射する露光ビームを平行光束として出
射しながら、その露光ビームの光スポットを楕円に変換
することができる。

【０１０３】なお、この場合、第１のレンズ７４の第２
面７４ｂ及び第２のレンズ７５の第４面がシリンドリカ
ル面となる。また、楕円変換された露光ビームの光スポ
ットの楕円率は、互いに直交するＸ方向及びＹ方向の焦
点距離が、それぞれ−１２０ｍｍ及び−６０ｍｍとなる
ことから、０．５となる。また、第１のレンズ７４及び
第２のレンズ７５の焦点位置は、それぞれ−７５．０４
５ｍｍ及び−２７．００ｍｍとなり、この第２の楕円変
換光学素子７０の露光ビームに対する前段側の焦点位置
が同一なものとなることから、これら第１のレンズ７１
と第２のレンズ７２との光学的な距離ｄは、４８．０４
５ｍｍとなる。

【０１０４】なお、この第２の楕円変換光学素子７３か
ら出射された露光ビームに発生する球面収差について
は、図９に示すように、上述した第１の楕円変換光学素
子７０の球面収差について測定した特性図において、長
径方向Ｘと短径方向Ｙとを入れ替えたものとなることか
ら、その図示を省略する。

【０１０５】以上のように構成される第２の楕円変換光
学素子７３は、図５示すレーザーカッティング装置１０
において、例えば、コリメートレンズ３１，３５と置換
される。すなわち、この第２の楕円変換光学素子７３
は、露光ビームが発散光束で入射され、且つ、平行光束
で出射されるような位置に配置される。

【０１０６】例えば、レーザーカッティング装置１０に
おいて、コリメートレンズ３１，３５と置換された場合
には、第２の楕円変換光学素子７３の露光ビームに対す
る前段側の焦点位置にて露光ビームが集光レンズ２９，
３３により集光され、発散しながら当該第２の楕円変換
光学素子７３に入射する。そして、この第２の楕円変換
光学素子７３は、発散光束で入射した露光ビームを平行
光束として出射し、その出射される露光ビームの光スポ
ットを楕円に変換する。そして、この第２の楕円変換光
学素子７０から出射された露光ビームは、拡大レンズ５
２により楕円集光されるとともに、最終的に対物レンズ
５４を通してフォトレジスト１２上に楕円集光される。

【０１０７】これにより、このレーザーカッティング装
置１０では、楕円集光された露光ビームがフォトレジス
ト１２に照射され、このフォトレジスト１２を露光して
いくことにより、所定の凹凸パターンに対応した潜像を
フォトレジスト１２上に形成する。

【０１０８】また、楕円変換光学素子としては、図１３
に示すように、平行光束で入射する露光ビームを平行光
束のまま出射しながら、その露光ビームの光スポットを
楕円に変換する第３の楕円変換光学素子７６がある。

【０１０９】この第３の楕円変換光学素子７６は、図１
４に示すように、第１のレンズ７７と第２のレンズ７８
とからなる２群のレンズにより構成されている。この第
１のレンズ７７と第２のレンズ７８とは、互いに直交す
るシリンドリカル面を有しており、これら２群のレンズ
を通過した露光ビームを楕円平行光束とするようになさ
れている。

【０１１０】例えば、このような第１のレンズ７７及び
第２のレンズ７８の組合せからなる第３の楕円変換光学
素子７６の具体的な一例を図１５に示す。なお、ここで
は、露光ビームが入射する側から順に、第１面７７ａ及
び第２面７７ｂを有する第１のレンズ７７、並びに、第
３面７８ａ及び第４面７８ｂを有する第２のレンズ７８
とする。また、第１のレンズ７７及び第２のレンズ７８
は、共に屈折率が１．５１６８０、アッペ数が６４．１
７、レンズの中心厚が４．００ｍｍである。

【０１１１】そして、第１のレンズ７７及び第２のレン
ズ７８は、楕円に変換された光スポットの長径方向Ｘに
おいて、第１面７７ａを曲率半径が無限大となる平面、
第２面７７ｂを曲率半径が２０．４８７ｍｍとなる凹
面、第３面７８ａを曲率半径が２８．１９８ｍｍとなる
凸面、第４面７８ｂを曲率半径が１４６．２００ｍｍと
なる凹面とする。

【０１１２】また、第１のレンズ７７及び第２のレンズ
７８は、楕円に変換された光スポットの短径方向Ｙにお
いて、第１面７７ａを曲率半径が１９．５７０ｍｍとな
る凸面、第２面７７ｂを曲率半径が２０．４８７ｍｍと
なる凹面、第３面を曲率半径が無限大となる平面、第４
面を曲率半径が１４６．２００ｍｍとなる凹面とする。

【０１１３】これにより、第３の楕円変換光学素子７６
は、平行光束で入射する露光ビームを平行光束のまま出
射しながら、その出射される露光ビームの光スポットを
楕円に変換することができる。

【０１１４】そして、この第３の楕円変換光学素子７６
から出射された露光ビームは、例えば図１４に示すよう
な結像レンズ７９により楕円集光される。

【０１１５】この結像レンズ７９は、２枚のレンズより
構成された組合せレンズであり、この結像レンズ７９と
第３の楕円変換光学素子７６を含む光学系では、第１の
レンズ７７の長径方向Ｘにおける焦点距離ｆｘ１が、ｆ
ｘ１＜０となり、第２のレンズ７８の長径方向Ｘにおけ
る焦点距離ｆｘ２が、ｆｘ２＞０となる。すなわち、楕
円に変換された光スポットの長径方向Ｘにおいて、第１
のレンズ７７は負のパワーをもち、第２のレンズ７８は
正のパワーをもつこととなる。

【０１１６】また、この結像レンズ７９と第３の楕円変
換光学素子７６を含む光学系では、第１のレンズ７７の
短径方向Ｙにおける焦点距離ｆｙ１が、ｆｙ１＞０とな
り、第２のレンズ７８の短径方向Ｙにおける焦点距離ｆ
ｘ２が、ｆｙ２＜０となる。すなわち、楕円に変換され
た光スポットの短径方向Ｙにおいて、第１のレンズ７７
は正のパワーをもち、第２のレンズ７８は負のパワーを
もつこととなる。

【０１１７】この場合、互いに直交する長径方向Ｘ及び
短径方向Ｙの焦点距離は、それぞれ６０ｍｍ及び１２０
ｍｍと異なったものとなり、且つ、この光学系から出射
される露光ビームが、同一の焦点位置にて集光されるこ
とになる。なお、結像レンズの焦点距離は、１００ｍｍ
である。

【０１１８】これにより、この光学系では、平行光束で
入射する露光ビームを集光光束として出射しながら、そ
の出射される露光ビームの光スポットを楕円に変換する
ことができる。

【０１１９】なお、この場合、第１のレンズ７７の第１
面７７ａ及び第２のレンズ７８の第３面７８ａがシリン
ドリカル面となる。また、楕円変換された露光ビームの
楕円率は、互いに直交する長径方向Ｘ及び短径方向Ｙの
焦点距離が、それぞれ６０ｍｍ及び１２０ｍｍとなるこ
とから、０．５となる。また、第１のレンズ７７及び第
２のレンズ７８の焦点位置は、それぞれ２７．００ｍｍ
及び９７．３０ｍｍとなり、上記結像レンズ７９を含む
光学系から出射された露光ビームは同一の焦点位置にて
集光することから、これら第１のレンズ７１と第２のレ
ンズ７２との光学的な距離ｄは、７０．３０ｍｍとな
る。

【０１２０】また、この第３の楕円変換光学素子７６か
ら出射された露光ビームに発生する球面収差について測
定した特性図を図１６に示す。なお、図１６において、
（ａ）は、長径方向Ｘの球面収差について測定した特性
図であり、（ｂ）は、短径方向Ｙの球面収差について測
定した特性図である。また、縦軸は、球面収差の発生量
を示し、横軸は、露光ビームのスポット中心から端部へ
と向かう方向を示す。

【０１２１】以上のように構成される第３の楕円変換光
学素子７６は、図５に示すレーザーカッティング装置１
０において、例えば、Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３の何れかの位置
に配置される。すなわち、この第１の楕円変換光学素子
７０は、露光ビームが平行光束で入射され、且つ、平行
光束で出射されるような位置に配置される。

【０１２２】例えば、レーザーカッティング装置１０に
おいて、Ｐ１の位置に配置された場合には、この第３の
楕円変換光学素子７６に対して、第１の変調光学系２２
及び第２の変調光学系２３から露光ビームが平行光束で
入射する。そして、この第３の楕円変換光学素子７６
は、平行光束で入射した露光ビームを平行光束のまま出
射し、その出射される露光ビームの光スポットを楕円に
変換する。そして、この第３の楕円変換光学素子７６か
ら出射された露光ビームは、ミラー４１，４２に入射
し、最終的に対物レンズ５４を通してフォトレジスト１
２上に楕円集光される。

【０１２３】また、Ｐ２の位置に配置された場合には、
この第３の楕円変換光学素子７６に対して、偏向光学系
４６及びミラー４２から露光ビームが平行光束で入射す
る。そして、第３の楕円変換光学素子７６は、この平行
光束で入射した露光ビームを平行光束のまま出射し、そ
の出射される露光ビームの光スポットを楕円に変換す
る。そして、この第３の楕円変換光学素子７６から出射
された露光ビームは、ミラー４４及び偏向ビームスプリ
ッタ４５に入射し、最終的に対物レンズ５４を通してフ
ォトレジスト１２上に楕円集光される。

【０１２４】また、Ｐ３の位置に配置された場合には、
この第３の楕円変換光学素子７６に対して、偏向ビーム
スプリッタ４５から露光ビームが平行光束で入射する。
そして、第３の楕円変換光学素子７６は、この平行光束
で入射した露光ビームを平行光束のまま出射し、その出
射される露光ビームの光スポットを楕円に変換する。そ
して、この第３の楕円変換光学素子７６から出射された
露光ビームは、拡大レンズ５２により、その焦点位置が
対物レンズ５４の露光ビームに対する前段側の集光点と
一致するように楕円集光され、最終的に対物レンズ５４
を通してフォトレジスト１２上に楕円集光される。

【０１２５】これにより、このレーザーカッティング装
置１０では、楕円集光された露光ビームがフォトレジス
ト１２に照射され、このフォットレジスト１２を露光し
ていくことにより、所定の凹凸パターンに対応した潜像
をフォトレジスト１２上に形成する。

【０１２６】なお、楕円変換光学素子としては、発散光
束で入射する露光ビームを集光光束として出射しなが
ら、その露光ビームの光スポットを楕円に変換するもの
もある。

【０１２７】このように、これら楕円変換光学素子は、
互いに直交するシリンドリカル面を有する第１のレンズ
と第２のレンズとの２群のレンズにより構成される。そ
して、第１のレンズは、長径方向Ｘにおいて負のパワー
をもち、短径方向Ｙにおいて正のパワーをもつこととな
る。一方、第２のレンズは、長径方向Ｘにおいて正のパ
ワーをもち、短径方向にＹおいて負のパワーをもつこと
となる。

【０１２８】これにより、楕円変換光学素子では、長径
方向Ｘにおける焦点距離の短縮がなされ、短径方向Ｙに
おける焦点距離の延長がなされることから、図５に示す
レーザーカッティング装置１０において、フォトレジス
ト１２に照射される露光ビームのスポット形状を、当該
Ｘ方向に拡大するとともに、当該Ｙ方向に縮小する図１
７及び図１８にような楕円とすることができる。なお、
図１７は、この楕円変換された露光ビームのスポット形
状を模式的に示す図であり、図１８は、この楕円変換さ
れた露光ビームのガウシアン形状を立体的に示す図であ
る。

【０１２９】ここで、第１のレンズと第２のレンズとの
光学的な距離ｄは、１５ｍｍ以上とすることが好まし
い。これにより、楕円変換光学素子から出射された露光
ビームに発生する球面収差を良好なものとすることがで
きる。

【０１３０】なお、フォトレジスト１２に照射される露
光ビームのスポットの楕円率は、１／３以上とすること
が好ましい。

【０１３１】以上のように、フォトレジスト１２に照射
される露光ビームのスポット形状を楕円とすることによ
り、上述したトラック方向に沿って形成されるグルーブ
やピット列等の凹凸パターンに対応した潜像を、例えば
図１９に示すように、トラック方向にワイド化し、且
つ、線方向に高密度化しながら、フォトレジスト１２上
に高精度に形成することができる。

【０１３２】このような手法により作製された光記録媒
体製造用原盤では、エンボスピット部のサーボ信号の変
調や、アシンメトリー及びジッタ量の制御等の両立が可
能な光記録媒体を作製することができる。

【０１３３】また、グルーブやピット列等に対応した凹
凸パターンを形成するフォーマット露光においては、こ
のような凹凸パターンを形成する上で、サーボ信号及び
変調信号、並びに記録再生特性等のマージン量を含めた
両立が可能となる。

【０１３４】また、グルーブ及び／又はランド記録のフ
ォーマット露光においては、トラックピッチの１／２よ
りも幅広となる、いわゆるワイドグルーブを形成する場
合に、その形状制御や、サーボ信号及び記録再生特性の
制御を行うことが可能となる。

【０１３５】このように、本手法によれば、線密度方向
のエンボスピットのエッジ形状や、グルーブの幅及びそ
のエッジ形状等を適切に制御することができる。具体的
には、エンボスピット部の歪み補正や、エンボスピット
のフォーマット露光時に発生するトラック方向及び線密
度方向の変形等を補正することができる。

【０１３６】次に、上記光記録媒体製造用原盤を用いて
作製された光記録媒体について説明する。

【０１３７】この光記録媒体を作製する際は、先ず、上
記光記録媒体製造用原盤を型として、例えばポリカーボ
ネート等の光学的に透明な樹脂材料等を射出成形するこ
とにより光記録媒体用基板（ディスク基板）を作製す
る。このとき、作製される記録媒体用基板には、情報信
号が記録される信号記録領域に、光記録媒体製造用原盤
に形成されているグルーブやピット列等の凹凸パターン
が転写されることになる。

【０１３８】なお、この光記録媒体用基板を作製する方
法は、射出成形以外の方法を用いてもよく、例えば、加
熱して軟化させた樹脂材料に上記光記録媒体製造用原盤
原盤を押し付けることにより凹凸パターンを転写する、
いわゆる熱転写方法を用いてもよい。また、上記光記録
媒体製造用原盤上にフォトポリマーを塗布し、紫外線を
照射してフォトポリマーを硬化させた後に、このフォト
ポリマーを剥離することで凹凸パターンが転写された光
記録媒体用基板を作製する、いわゆる２Ｐ法を用いても
よい。

【０１３９】そして、光記録媒体は、以上のように作製
された光記録媒体用基板上に、情報信号の記録再生に必
要な記録層を形成し、この記録層上に紫外線硬化樹脂等
からなる保護層を形成することにより作製される。この
ように作製される光記録媒体としては、具体的には、光
学的に記録及び／又は再生がなされる光ディスクが挙げ
られる。以下、このような光ディスクについて、更に詳
細に説明する。

【０１４０】図２０に示すように、光ディスク１００
は、上述した手法により製造された光記録媒体用基板で
あるディスク基板１０１を有し、このディスク基板１０
１上に記録層１０２及び保護層１０３が順次積層されて
なる。

【０１４１】この光ディスク１００は、情報信号が記録
される領域である信号記録領域を有しており、この信号
記録領域に、上述したような図５に示すグルーブ１とピ
ット列２とがダブルスパイラル状に形成され、或いは、
図６に示すウォブリンググルーブ３とストレートグルー
ブ４とがダブルスパイラル状に形成されている。

【０１４２】なお、光ディスク１００では、例えば、デ
ィスク基板１０１の一方の面をグルーブやピット列等が
形成される信号記録面とし、他方の面を読み取り面とす
る。すなわち、光ディスク１００から信号を再生する際
は、グルーブやピット列等が形成されていない側を読み
取り面とし、この読み取り面の側からレーザー光を照射
することになる。

【０１４３】光ディスク１００では、例えば、グルーブ
の間の部分であるランドを記録エリアとし、グルーブを
トラッキング用光反射エリアとする。このような方式
は、ランド記録方式と呼ばれている。また、例えば、グ
ルーブを記録エリアとし、グルーブの間の部分であるラ
ンドをトラッキング用光反射エリアとしてもよい。この
ような方式は、グルーブ記録方式と呼ばれている。ま
た、例えば、グルーブとランドの両方を記録エリアとし
てもよい。このような方式は、ランド・グルーブ記録方
式と呼ばれている。ランド・グルーブ記録方式では、記
録密度をランド記録やグルーブ記録の約２倍にまで増大
することが可能となる。

【０１４４】また、光ディスク１００は、グルーブが形
成されずに、情報信号を示すピット列だけが予め形成さ
れてなる再生専用光ディスクであってもよい。この場合
は、信号記録面に形成されたピット列をトラッキング用
回折格子としても用いる。すなわち、再生専用光ディス
クでは、情報信号を示すピット列からの回折光に基づい
てトラッキング制御を行う。ただし、再生専用光ディス
クにおいても、グルーブやランドを形成して、グルーブ
やランドをトラッキング用光反射エリアとすることも可
能である。

【０１４５】そして、光ディスク１００において、ディ
スク基板１０１の信号記録面上には、記録及び／又は再
生に必要な記録層１０２が形成される。具体的には、光
ディスク１００が相変化型光ディスクである場合、相変
化記録膜及び反射膜等からなる記録層１０２が形成され
る。また、光ディスク１００が光磁気ディスクである場
合、垂直磁気記録膜及び反射膜等からなる記録層１０２
が形成される。また、光ディスク１００が情報信号を示
すピット列が予め形成されてなる再生専用光ディスクで
ある場合、反射膜等からなる記録層１０２が形成され
る。また、光ディスク１００には、これらの記録層１０
２上に、紫外線硬化樹脂等からなる保護層１０３が形成
される。

【０１４６】このような光ディスク１００から情報信号
を再生するときは、この光ディスク１００を回転させな
がら、光学ピックアップからのレーザー光を光ディスク
１００に対して読み取り面側から照射し、その反射光を
検出する。具体的には、この光ディスク１００が相変化
型光ディスクである場合や、情報信号を示すピット列が
予め形成されてなる再生専用光ディスクである場合に
は、反射光の強度変化を検出することにより、情報信号
を再生する。また、光ディスク１００が光磁気ディスク
である場合、反射光のカー回転角の変化を検出すること
により、情報信号を再生する。

【０１４７】一方、光ディスク１００に情報信号を記録
するときは、この光ディスク１００を回転させながら、
光学ピックアップからのレーザー光を光ディスク１００
に対して読み取り面側から照射する。具体的には、この
光ディスク１００が相変化型光ディスクの場合、記録す
べき情報信号に対応させて強度変調を施したレーザー光
を照射する。これにより、レーザー光が照射された領域
に、情報信号が記録される。また、この光ディスク１０
０が光磁気ディスクの場合、情報信号を記録しようとす
る領域にレーザー光を照射するとともに、レーザー光が
照射されている領域に磁界を印加する。このとき、記録
すべき情報信号に対応させてレーザー光又は磁界に対し
て強度変調を施す。これにより、磁界が印加されるとと
もにレーザー光が照射された領域に、情報信号が記録さ
れる。

【０１４８】ところで、この光ディスク１００は、上記
光記録媒体製造用原盤を用いて作製されたものであり、
図２１に示すようなピット列２を形成するエンボスピッ
トのうち、最短ピットのトラックに対する幅及び長さ
を、それぞれＡ及びＢとしたとき、Ａ／Ｂ＞０．６とな
ることを特徴としている。

【０１４９】これにより、光ディスク１００では、エン
ボスピットの形状がトラック方向及び線密度方向におい
て良好なものとなり、エンボスピット部のサーボ信号の
変調や、アシンメトリー、クロストーク及びジッタ量等
を高次元で両立させることができる。

【０１５０】また、この光ディスク１００は、図２１に
示すように、グルーブのトラックに対する幅をＧとした
とき、Ａ／Ｇ＞０．５となることを特徴としている。

【０１５１】これにより、光ディスク１００では、エン
ボスピット及びグルーブの形状が、幅方向において良好
なものとなる。

【０１５２】さらに、記録及び／又は再生時に照射され
るレーザー光の波長をλとしたとき、Ａ／λ＞０．６，
Ｇ／λ＞０．８となることを特徴としている。

【０１５３】これにより、光ディスク１００では、エン
ボスピット及びグルーブの絶対量が、幅方向において良
好なものとなる。

【０１５４】したがって、この光ディスク１００は、グ
ルーブやピット列等のサーボ信号及び変調信号、並びに
記録再生特性等を高次元で両立させることができ、さら
に、トラックピッチの１／２よりも幅広となる、いわゆ
るワイドグルーブを有する場合であっても、サーボ特性
及び記録再生特性等が良好なものとなる。

【０１５５】なお、特に、本発明を用いて好適な光記録
媒体としては、１４×１３０ＭＯ、１２×１３０ＷＯＲ
Ｍ、２０×９０ＭＯ、ＤＶＲ、μＤｉｓｋ、ＭＤ２００
０（ＭＤの高品質バージョン）等を挙げることができ
る。

【０１５６】

【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明によ
れば、感光層に照射される露光ビームのスポット形状を
楕円とすることにより、所定の凹凸パターンに対応した
潜像を感光層に高精度に形成することができる。したが
って、本発明によれば、より高記録密度化を図った光記
録媒体に対応した記録媒体製造用原盤を製造することが
可能となる。また、そのような記録媒体製造用原盤を製
造することにより、より高記録密度化を図った光記録媒
体を製造することが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】シングルスパイラル構造を示す図である。

【図２】ダブルスパイラル構造を示す図である。

【図３】グルーブとピット列とがダブルスパイラル状に
形成された状態を示す図である。

【図４】ウォブリンググルーブとストレートグルーブと
がダブルスパイラル状に形成された状態を示す図であ
る。

【図５】本発明を適用したレーザーカッティング装置の
一構成例を示す図である。

【図６】第１の楕円変換光学素子の構成を示す図であ
る。

【図７】第１の楕円変換光学素子の内部構造を３次元的
に示す図である。

【図８】第１の楕円変換光学素子における第１のレンズ
及び第２のレンズの構成を示す図である。

【図９】第１の楕円変換光学素子から出射された露光ビ
ームに発生する球面収差について測定した特性図であ
り、（ａ）は、長径方向Ｘの球面収差について測定した
特性図であり、（ｂ）は、短径方向Ｙの球面収差につい
て測定した特性図である。

【図１０】第２の楕円変換光学素子の構成を示す図であ
る。

【図１１】第２の楕円変換光学素子の内部構造を３次元
的に示す図である。

【図１２】第２の楕円変換光学素子における第１のレン
ズ及び第２のレンズの構成を示す図である。

【図１３】第３の楕円変換光学素子の構成を示す図であ
る。

【図１４】第３の楕円変換光学素子の内部構造を３次元
的に示す図である。

【図１５】第３の楕円変換光学素子における第１のレン
ズ及び第２のレンズの構成を示す図である。

【図１６】第３の楕円変換光学素子から出射された露光
ビームに発生する球面収差について測定した特性図であ
り、（ａ）は、長径方向Ｘの球面収差について測定した
特性図であり、（ｂ）は、短径方向Ｙの球面収差につい
て測定した特性図である。

【図１７】楕円変換された露光ビームのスポット形状を
模式的に示す図である。

【図１８】楕円変換された露光ビームのガウシアン形状
を立体的に示す図である。

【図１９】楕円変換された露光ビームにより形成された
グルーブやピット列等の凹凸パターンに対応した潜像を
示す図である。

【図２０】本発明を適用した光ディスクの一構成例を示
す図である。

【図２１】同光ディスクのエンボスピット及びグルーブ
の形状を示す図である。

【図２２】従来のレーザーカッティング装置の一構成例
を示す図である。

【図２３】（ａ）は、円形開口による露光ビームのスポ
ット形状を示す図であり、（ｂ）は、円形開口による露
光ビームのガウシアン形状を示す図である。

【符号の説明】

１グルーブ、２ピット列、３ウォブリンググルー
ブ、４ストレートグルーブ、１０レーザーカッティ
ング装置、１２フォトレジスト、７０第１の楕円変
換光学素子、７３第２の楕円変換光学素子、７６第
３の楕円変換光学素子、１００光ディスク、１０１
ディスク基板、１０２記録層、１０３保護層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｇ１１Ｂ 7/24 ５６１Ｇ１１Ｂ 7/24 ５６１Ｓ５６３５６３ＡＦターム(参考） 2H097 AB07 BA06 BB01 BB03 CA17 JA03 LA20 5D029 WA05 WA20 WA29 WC05 WC09 WC10 WD10 5D119 BB09 EB04 EC40 HA08 HA36 JA44 JA45 JB01 5D121 BB01 BB21 BB28

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】トラックに沿って所定の凹凸パターンが
形成された光記録媒体製造用原盤の製造方法であって、支持体上に形成された感光層に対して、トラックに沿っ
て露光ビームを照射し、当該感光層を露光していくこと
により、所定の凹凸パターンに対応した潜像を当該感光
層に形成する露光工程と、上記感光層に形成された潜像を現像することにより、当
該感光層に凹凸パターンを形成する現像工程と、上記感光層に形成された凹凸パターンを原盤に転写する
転写工程とを有し、上記露光工程において、上記感光層に照射される露光ビ
ームのスポット形状を楕円とすることを特徴とする光記
録媒体製造用原盤の製造方法。
【請求項２】上記露光工程において、上記感光層に照
射される露光ビームのスポットの楕円率を１／３以上と
することを特徴とする請求項１記載の光記録媒体製造用
原盤の製造方法。
【請求項３】上記露光工程において、上記凹凸パター
ンに対応した潜像として、トラックに沿って形成される
グルーブに対応した潜像を上記感光層に形成することを
特徴とする請求項１記載の光記録媒体製造用原盤の製造
方法。
【請求項４】上記露光工程において、上記グルーブの
少なくとも一部が蛇行するように、上記露光ビームの偏
向動作及び強度変調を行うことを特徴とする請求項３記
載の光記録媒体製造用原盤の製造方法。
【請求項５】上記露光工程において、上記凹凸パター
ンに対応した潜像として、トラックに沿って形成される
エンボスピットに対応した潜像を上記感光層に形成する
ことを特徴とする請求項１記載の光記録媒体製造用原盤
の製造方法。
【請求項６】トラックに沿って所定の凹凸パターンが
形成された光記録媒体製造用原盤を作製する際に、支持
体上に形成された感光層に対して、トラックに沿って露
光ビームを照射し、当該感光層を露光していくことによ
り、所定の凹凸パターンに対応した潜像を当該感光層に
形成する光記録媒体製造用原盤の製造装置であって、上記感光層に照射される露光ビームのスポット形状を楕
円に変換する楕円変換光学素子を備えることを特徴とす
る光記録媒体製造用原盤の製造装置。
【請求項７】上記楕円変換光学素子は、少なくとも２
群のレンズにより構成されており、このうち少なくとも
１面のシリンドリカル面を有するレンズを備えることを
特徴とする請求項６記載の光記録媒体製造用原盤の製造
装置。
【請求項８】上記楕円変換光学素子は、互いに直交す
るシリンドリカル面を有する２群のレンズにより構成さ
れていることを特徴とする請求項７記載の光記録媒体製
造用原盤の製造装置。
【請求項９】上記楕円変換光学素子は、楕円に変換さ
れたスポットの長径方向において、上記２群のレンズの
うち、上記露光ビームが入射する側のレンズの焦点距離
をｆ１ｘとし、上記露光ビームが出射する側のレンズの
焦点距離をｆ２ｘとしたとき、ｆ１ｘ＜０，ｆ２ｘ＞０
となることを特徴とする請求項８記載の光記録媒体製造
用原盤の製造装置。
【請求項１０】上記楕円変換光学素子は、楕円に変換
されたスポットの短径方向において、上記２群のレンズ
のうち、上記露光ビームが入射する側のレンズの焦点距
離をｆ１ｙとし、上記露光ビームが出射する側のレンズ
の焦点距離をｆ２ｙとしたとき、ｆ１ｙ＞０，ｆ２ｙ＜
０となることを特徴とする請求項８記載の光記録媒体製
造用原盤の製造装置。
【請求項１１】上記楕円変換光学素子は、上記２群の
レンズの光学的な距離が１５ｍｍ以上となることを特徴
とする請求項８記載の光記録媒体製造用原盤の製造装
置。
【請求項１２】上記楕円変換光学素子は、上記感光層
に照射される露光ビームのスポットの楕円率が１／３以
上となることを特徴とする請求項６記載の光記録媒体製
造用原盤の製造装置。
【請求項１３】上記凹凸パターンに対応した潜像とし
て、トラックに沿って形成されるグルーブに対応した潜
像を上記感光層に形成することを特徴とする請求項６記
載の光記録媒体製造用原盤の製造装置。
【請求項１４】上記グルーブの少なくとも一部が蛇行
するように上記露光ビームの偏向動作及び強度変調を行
うことを特徴とする請求項１３記載の光記録媒体製造用
原盤の製造装置。
【請求項１５】上記凹凸パターンに対応した潜像とし
て、トラックに沿って形成されるエンボスピットに対応
した潜像を上記感光層に形成することを特徴とする請求
項６記載の記録媒体製造用原盤の製造装置。
【請求項１６】トラックに沿って所定の凹凸パターン
が形成された光記録媒体製造用原盤であって、支持体上に形成された感光層に対して、トラックに沿っ
て露光ビームを照射し、当該感光層を露光していくこと
により、所定の凹凸パターンに対応した潜像を当該感光
層に形成するとともに、上記感光層に照射される露光ビ
ームのスポットの形状を楕円とし、上記凹凸パターンに
対応した潜像を当該感光層に形成する露光工程と、上記感光層に形成された潜像を現像することにより、当
該感光層に凹凸パターンを形成する現像工程と、上記感光層に形成された凹凸パターンを原盤に転写する
転写工程とを経ることにより作製されてなることを特徴
とする光記録媒体製造用原盤。
【請求項１７】上記凹凸パターンとして、トラックに
沿って形成されたグルーブパターンを有することを特徴
とする請求項１６記載の光記録媒体製造用原盤。
【請求項１８】上記グルーブパターンの少なくとも一
部が蛇行していることを特徴とする請求項１７記載の光
記録媒体製造用原盤。
【請求項１９】上記凹凸パターンとして、トラックに
沿って形成されたエンボスピットパターンを有すること
を特徴とする請求項１６記載の光記録媒体製造用原盤。
【請求項２０】上記エンボスピットパターンのうち、
最短ピットパターンの上記トラックに対する幅及び長さ
をそれぞれＡ及びＢとしたとき、Ａ／Ｂ＞０．６となる
ことを特徴とする請求項１９記載の光記録媒体製造用原
盤。
【請求項２１】上記凹凸パターンとして、トラックに
沿って形成されたグルーブパターン及びエンボスピット
パターンを有することを特徴とする請求項１６記載の光
記録媒体製造用原盤。
【請求項２２】上記グルーブパターンの上記トラック
に対する幅をＧとし、上記エンボスピットパターンのう
ち、最短ピットパターンの上記トラックに対する幅をＡ
としたとき、Ａ／Ｇ＞０．５となることを特徴とする請
求項２１記載の光記録媒体製造用原盤。
【請求項２３】トラックに沿って所定の凹凸パターン
が形成された光記録媒体製造用原盤を用いて作製された
光記録媒体であって、上記光記録媒体製造用原盤は、支持体上に形成された感光層に対して、トラックに沿っ
て露光ビームを照射し、当該感光層を露光していくこと
により、所定の凹凸パターンに対応した潜像を当該感光
層に形成するとともに、上記感光層に照射される露光ビ
ームのスポットの形状を楕円とし、上記凹凸パターンに
対応した潜像を当該感光層に形成する露光工程と、上記感光層に形成された潜像を現像することにより、当
該感光層に凹凸パターンを形成する現像工程と、上記感光層に形成された凹凸パターンを原盤に転写する
転写工程とを経ることにより作製されてなることを特徴
とする光記録媒体。
【請求項２４】トラックに沿って形成されたグルーブ
を有することを特徴とする請求項２３記載の光記録媒
体。
【請求項２５】上記グルーブの少なくとも一部が蛇行
していることを特徴とする請求項２４記載の光記録媒
体。
【請求項２６】トラックに沿って形成されたエンボス
ピットを有することを特徴とする請求項２３記載の光記
録媒体。
【請求項２７】上記エンボスピットのうち、最短ピッ
トの上記トラックに対する幅及び長さをそれぞれＡ及び
Ｂとしたとき、Ａ／Ｂ＞０．６となることを特徴とする
請求項２６記載の光記録媒体。
【請求項２８】トラックに沿って形成されたグルーブ
及びエンボスピットを有することを特徴とする請求項２
３記載の光記録媒体。
【請求項２９】上記グルーブの上記トラックに対する
幅をＧとし、上記エンボスピットのうち、最短ピットの
上記トラックに対する幅をＡとしたとき、Ａ／Ｇ＞０．
５となることを特徴とする請求項２８記載の光記録媒
体。
【請求項３０】上記グルーブの上記トラックに対する
幅をＧとし、上記エンボスピットのうち、最短ピットの
上記トラックに対する幅をＡとし、記録及び／又は再生
時に照射される光の波長をλとしたとき、Ａ／λ＞０．
６，Ｇ／λ＞０．８となることを特徴とする請求項２８
記載の光記録媒体。