JP2003059121A - 光記録媒体製造用原盤の製造方法、露光装置、並びに光記録媒体製造用原盤および光記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光記録媒体に記録される複雑な形状のピッ
ト、グルーブ、ランドのうち少なくとも１つに対応した
凹凸パターンを形成することができる光記録媒体製造用
原盤、および、複雑な形状のピット、グルーブ、ランド
のうち少なくとも１つを備えた光記録媒体を提供する。 【解決手段】 トラッキング機構を備えた露光装置を用
いて、第１層目のフォトレジスト５０に形成された第１
の凹凸パターン３９上に記録光であるレーザビームＬを
追従させ、第２層目のフォトレジスト１２に第２の凹凸
パターンの潜像５５を形成する。この後、第２層目のフ
ォトレジスト１２を現像する。第１の凹凸パターン３９
と第２の凹凸パターンにより、光ディスクに記録される
グルーブおよびランドに対応する凹凸パターンがガラス
原盤１１上に形成される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光記録媒体を複製
するスタンパを複製する際にその原盤となる光記録媒体
製造用原盤の製造方法、露光装置、並びに光記録媒体製
造用原盤および光記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば、再生専用光ディスク、光磁気デ
ィスク、相変化型ディスク等の光記録媒体は、光記録媒
体に記録するピット、グルーブおよびランドに対応した
凹凸パターンが形成された光記録媒体製造用原盤により
作製される。

【０００３】この光記録媒体製造用原盤を作製するに
は、まず、ガラス原盤上に感光性材料層であるフォトレ
ジストを塗布する。そして、露光装置により、ガラス原
盤上のフォトレジストを露光して、凹凸パターンの潜像
をフォトレジストに形成する。すなわち、ガラス原盤を
回転させながら、フォトレジスト上に、記録信号に合わ
せて強度変調を受けたレーザ光を１軸アクチュエータに
より駆動される対物レンズによりフォーカシングして照
射する。その後、この露光されたフォトレジストを現像
することにより、凹凸パターンが形成された光記録媒体
製造用原盤を得ることができる。

【０００４】この原盤の凹凸パターンが形成された面に
Ｎｉメッキを施し、このＮｉメッキを剥離することによ
り、凹凸パターンが転写されたスタンパが得られる。こ
のスタンパを型にして、例えば樹脂材料を射出成形する
ことにより、凹凸パターンが光ディスク基板上に形成さ
れる。そして、この光ディスク基板上に、所定の記録
膜、光反射膜及び保護膜等を形成することにより光記録
媒体が作製される。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところで、光記録媒体
においては、記録密度の向上、多値記録の実現、信号の
特性上有利にするため等の理由から、複雑な形状のピッ
ト、グルーブ、ランドが形成されることが望まれること
がある。

【０００６】例えば、書き換え型光ディスクの記録密度
を向上させる手段として、ランド／グルーブ記録という
記録方法が盛んに検討されている。このランド／グルー
ブ記録においては、ランドとグルーブの両方に信号を記
録する。これにより、ランドのみ、若しくはグルーブの
みに信号を記録する場合と比較して、記録密度を向上さ
せることができる。

【０００７】このようなランド／グルーブ記録を行う光
ディスクにおいても、ランドのみ、若しくはグルーブの
みに信号を記録する一般の光ディスクと同様に、トラッ
クピッチが狭い程、記録密度を向上させる上で有利とな
る。その一方で、トラックピッチは隣接トラックからの
クロストークの影響を受けない程度に広い必要があり、
その値を無闇に小さくすることはできない。

【０００８】よって、もし、ランドとグルーブの間に物
理的な遮断壁となる突起を備えた形状のランドが実現で
きれば、通常の形状のランドを有する光ディスクと比較
してクロストークを低減することができ、その結果、ト
ラックピッチをより狭くすることができ、記録密度をよ
り向上させることができる。

【０００９】しかしながら、上述のような従来の露光装
置では、レーザ光をガラス原盤のフォトレジスト上に集
光する対物レンズのアクチュエータが、対物レンズをフ
ォーカス方向にのみ駆動可能であるいわゆる１軸アクチ
ュエータであり、トラッキング方向には駆動できないた
め、断面が台形状のランド形状の凹凸パターンの潜像を
何も形成されていないフォトレジストに形成することが
できるのみで、その結果、突起を備えた複雑な形状であ
るランドに対応した凹凸パターンをフォトレジストに形
成することはできなかった。このように、上述のような
従来の露光装置を用いても、ガラス原盤上のフォトレジ
ストに複雑な形状のピット、グルーブ、ランドに対応し
た凹凸パターンを形成することは不可能であり、その結
果、光記録媒体に複雑な形状のピット、グルーブ、ラン
ドを形成することは不可能であった。

【００１０】本発明はかかる問題点に鑑みてなされたも
ので、その目的は、光記録媒体に記録される複雑な形状
のピット、グルーブ、ランドのうち少なくとも１つに対
応した凹凸パターンを形成することができる光記録媒体
製造用原盤の製造方法および露光装置、光記録媒体に記
録される複雑な形状のピット、グルーブ、ランドのうち
少なくとも１つに対応した凹凸パターンを備えた光記録
媒体製造用原盤、複雑な形状のピット、グルーブ、ラン
ドのうち少なくとも１つを備えた光記録媒体を提供する
ことにある。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明による光記録媒体
製造用原盤の製造方法は、原盤上の第１の感光性材料層
にレーザビームによりピット形状、または、グルーブ形
状およびランド形状のうち少なくとも１つからなる第１
の凹凸パターンを露光記録する工程と、第１の感光性材
料層を現像して第１の感光性材料層に第１の凹凸パター
ンを形成する工程と、第１の感光性材料層に第１の凹凸
パターンが形成された原盤上に第２の感光性材料層を塗
布する工程と、第１の凹凸パターンにレーザビームを追
従させながら、第２の感光性材料層に、ピット形状、ま
たは、グルーブ形状およびランド形状のうち少なくとも
１つからなる第２の凹凸パターンを露光記録する工程
と、第２の感光性材料層を現像して第２の感光性材料層
に第２の凹凸パターンを形成する工程とを有するもので
ある。

【００１２】本発明による光記録媒体製造用原盤の製造
方法では、第１の感光性材料層に形成された第１の凹凸
パターンにレーザビームを追従させながら、第２の感光
性材料層に第２の凹凸パターンを露光記録することがで
きるので、第１の凹凸パターンおよび第２の凹凸パター
ンを組み合わせることにより、光記録媒体に記録される
ピット、または、グルーブおよびランドのうち少なくと
も１つに対応する凹凸パターンが形成された光記録媒体
製造用原盤を製造することができる。

【００１３】本発明による露光装置は、原盤上の感光材
料層にレーザビームにより凹凸パターンを露光記録する
露光装置であって、原盤上の第１の感光材料層に形成さ
れたピット形状、または、グルーブ形状およびランド形
状のうち少なくとも１つからなる第１の凹凸パターンに
レーザビームを追従させるトラッキング機構を備え、こ
のトラッキング機構により第１の凹凸パターンにレーザ
ビームを追従させながら、第１の感光材料層に第１の凹
凸パターンが形成された原盤上に塗布された第２の感光
材料層に、ピット形状、または、グルーブ形状およびラ
ンド形状のうち少なくとも１つからなる第２の凹凸パタ
ーンを露光記録するものである。

【００１４】本発明による露光装置では、トラッキング
機構により、第１の感光性材料層に形成された第１の凹
凸パターンにレーザビームを追従させながら、第２の感
光性材料層に第２の凹凸パターンを露光記録することが
できるので、第１の凹凸パターンおよび第２の凹凸パタ
ーンを組み合わせることにより、光記録媒体に記録され
るピット、または、グルーブおよびランドのうち少なく
とも１つに対応する凹凸パターンが形成された光記録媒
体製造用原盤を製造することができる。

【００１５】本発明による光記録媒体製造用原盤は、光
記録媒体に記録されるピット、または、グルーブおよび
ランドのうち少なくとも１つに対応する凹凸パターンが
形成された光記録媒体製造用原盤であって、原盤上の第
１の感光材料層に形成されたピット形状、または、グル
ーブ形状およびランド形状のうち少なくとも１つからな
る第１の凹凸パターンにレーザビームを追従させなが
ら、第１の凹凸パターンが形成された原盤上に塗布され
た第２の感光材料層に、ピット形状、または、グルーブ
形状およびランド形状のうち少なくとも１つからなる第
２の凹凸パターンが露光記録され、第２の感光材料層が
現像されることにより、第１の凹凸パターンおよび第２
の凹凸パターンにより構成される、光記録媒体に記録さ
れるピット、または、グルーブおよびランドのうち少な
くとも１つに対応する凹凸パターンが形成されたもので
ある。

【００１６】本発明による光記録媒体製造用原盤では、
第１の凹凸パターンおよび第２の凹凸パターンにより構
成された、光記録媒体に記録されるピット、または、グ
ルーブおよびランドのうち少なくとも１つに対応する凹
凸パターンが形成されているので、複雑な形状のピッ
ト、グルーブ、ランドのうち少なくとも１つが記録され
た光記録媒体を製造することができる。

【００１７】本発明による光記録媒体は、光記録媒体製
造用原盤に形成されたピット、または、グルーブおよび
ランドのうち少なくとも１つに対応する凹凸パターンが
転写されて、ピット、または、グルーブおよびランドの
うち少なくとも１つが記録された光記録媒体であって、
光記録媒体製造用原盤には、原盤上の第１の感光材料層
に形成されたピット形状、または、グルーブ形状および
ランド形状のうち少なくとも１つからなる第１の凹凸パ
ターンにレーザビームを追従させながら、第１の凹凸パ
ターンが形成された原盤上に塗布された第２の感光材料
層に、ピット形状、または、グルーブ形状およびランド
形状のうち少なくとも１つからなる第２の凹凸パターン
が露光記録され、第２の感光材料層が現像されることに
より、第１の凹凸パターンおよび第２の凹凸パターンに
より構成される、ピット、または、グルーブおよびラン
ドのうち少なくとも１つに対応する凹凸パターンが形成
されたものである。

【００１８】本発明による光記録媒体では、第１の凹凸
パターンおよび第２の凹凸パターンにより構成された、
光記録媒体に記録されるピット、または、グルーブおよ
びランドのうち少なくとも１つに対応する凹凸パターン
が形成された光記録媒体製造用原盤により製造されてい
るため、複雑な形状のピット、グルーブ、ランドのうち
少なくとも１つが形成されている。

【００１９】また、本発明による光記録媒体は、グルー
ブおよびランドが記録された光記録媒体であって、グル
ーブの底面の両端がグルーブの底面より低い窪み状、ま
たは、ランドの上面の両端がランドの上面より高い突起
状となっているものである。

【００２０】本発明による光記録媒体では、グルーブと
ランドとの間を物理的に遮断する窪み、または、グルー
ブとランドとの間の物理的な遮断壁となる突起が存在す
るため、ランド／グルーブ記録を行っても、クロストー
クを低減することができ、その結果、トラックピッチを
より狭くすることができ、記録密度を向上させることが
できる。

【００２１】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して詳細に説明する。

【００２２】図１は本発明の一実施の形態に係る露光装
置の構成の一例を表したものである。

【００２３】この露光装置１０は、光記録媒体を複製す
るスタンパを複製する際にその原盤となる光記録媒体製
造用原盤を作製するのに用いられる。この露光装置１０
は、ピット形状、または、グルーブ形状およびランド形
状のうち少なくとも１つからなる第１の凹凸パターン３
９が第１層目のフォトレジスト５０に形成されたガラス
原盤１１上に塗布された第２層目のフォトレジスト１２
に、その既に形成された第１の凹凸パターン３９にレー
ザビームＬを追従させながら、再度、ピット形状、グル
ーブ形状およびランド形状のうち少なくとも１つからな
る第２の凹凸パターンの潜像を形成することを目的とす
る。なお、この露光装置１０を、第１層目のフォトレジ
スト５０に第１の凹凸パターン３９の潜像を形成するの
に用いることはもちろん可能である。また、重なった第
１層目のフォトレジスト５０の膜厚と第２層目のフォト
レジスト１２の膜厚との合計は、読み取り光の干渉条件
を満たす厚み（通常１００ｎｍ程度）となっている。

【００２４】露光装置１０は、レーザビームＬを出射す
るレーザ光源１３と、レーザ光源１３から出射されたレ
ーザビームＬの光強度を調整するオートパワーコントロ
ーラ（ＡＰＣ：Auto Power Controller）１４と、オー
トパワーコントローラ１４から出射されたレーザビーム
Ｌを反射するミラー１５と、ミラー１５で反射されたレ
ーザビームＬが入射する光変調器１６と、光変調器１６
が接続され光変調信号を出力する信号発生器１７と、光
変調器１６により光強度変調が施されたレーザビームＬ
を反射するミラー１８と、ミラー１８で反射されたレー
ザビームＬを球面波に変換し、対物レンズ２１の入射瞳
位置において所定のビーム径とする凸レンズ１９と、凸
レンズ１９を介したレーザビームＬを反射するミラー２
０と、ミラー２０により反射されたレーザビームＬを第
２層目のフォトレジスト１２上に集光する対物レンズ２
１とを備えている。

【００２５】レーザ光源１３は、第２層目のフォトレジ
スト１２が感度を有している４００ｎｍ付近の発振波長
を有するものが使用可能である。具体的には、例えば、
発振波長が３５１ｎｍのＡｒ⁺レーザや、発振波長が４
１３ｎｍのＫｒ⁺レーザ等のガスレーザや、発振波長が
４０５ｎｍのＧａＮ系半導体レーザ等がレーザ光源１３
として好適である。

【００２６】このレーザ光源１３から出射されたレーザ
ビームＬは、ＡＰＣ１４により光強度が一定に保持され
る。このＡＰＣ１４は、レーザ光源１３からのレーザビ
ームＬが入射する電気光学変調素子（ＥＯＭ:Electro O
ptical Modulator）（図示せず）の出射口に偏光ビーム
スプリッタ（ＰＢＳ）（図示せず）を配置し、このＰＢ
Ｓを透過したレーザビームＬの光強度の一部をフォトデ
ィテクタ（ＰＤ）（図示せず）でモニタすることにより
構成される。ＥＯＭは、印加電圧に依存して入射したレ
ーザビームＬの偏光状態を変化させる。このレーザビー
ムＬの偏光状態に依存して、ＰＢＳでの透過率が変化
し、この透過率の変化をＰＤでモニタしてその出力電圧
を参照電圧と比較する。この出力電圧と参照電圧の差分
をＥＯＭの印加電圧にフィードバックすることにより、
レーザ光源１３の電源のスイッチング等に起因するレー
ザビームＬに重畳されたノイズ分が低減され、ＡＰＣ１
４から出力されるレーザビームＬの光強度は一定に保た
れ安定する。また参照電圧を変化させることにより、Ａ
ＰＣ１４から出力されるレーザビームＬの光強度を変化
させることもできる。

【００２７】ＡＰＣ１４から出射されたレーザビームＬ
は、ミラー１５で反射されて、光路をほぼ９０°曲げら
れ、光変調器１６に入射する。光変調器１６は、例えば
音響光学偏光素子（ＡＯＭ：Acousto Optical Ｍodulat
or）により構成される。この光変調器１６に入射したレ
ーザビームＬは、信号発生器１７からの所望する第２層
目のフォトレジスト１２の露光パターンに対応した光変
調信号に応じて、所望の光強度変調がなされる。

【００２８】光変調器１６により光強度変調が施された
レーザビームＬは、ミラー１８で反射されて、光路をほ
ぼ９０°曲げられる。このミラー１８で反射されたレー
ザビームＬは、凸レンズ１９により球面波に変換され、
対物レンズ２１の入射瞳位置において所定のビーム径と
される。すなわち、凸レンズ１９の焦点距離を変化させ
ることにより、凸レンズ１９を介して対物レンズ２１に
入射するレーザビームＬのビーム径が変化する。これに
より、対物レンズ２１の有効開口数が調整され、第２層
目のフォトレジスト１２の表面に集光されるレーザビー
ムＬの露光スポットの径を変化させ調整することができ
る。なお、対物レンズ２１に入射するレーザビームの波
面が球面である場合、すなわち、対物レンズ２１が有限
補正対物レンズである場合には、凸レンズ１９ではなく
凹レンズを用いることもできる。また、対物レンズ２１
に入射するレーザビームの波面が平面である場合、すな
わち、対物レンズ２１が無限補正対物レンズである場合
には、凸レンズ１９の代わりに、少なくともレンズ２枚
の組み合わせよりなるビームエキスパンダが挿入され
る。

【００２９】凸レンズ１９を介したレーザビームＬは、
ミラー２０によって反射され、ほぼ鉛直方向下向きに９
０°光路が折り曲げられる。このミラー２０で反射され
たレーザビームＬは、対物レンズ２１に入射して、この
対物レンズ２１により第２層目のフォトレジスト１２上
に集光される。

【００３０】また、露光装置１０は、対物レンズ２１の
焦点位置が常に第２層目のフォトレジスト１２上に存在
するように調整するフォーカスサーボ装置２２と、対物
レンズ２１をガラス原盤１１上の第１層目のフォトレジ
スト５０に既に形成されたピット形状や、グルーブ形状
およびランド形状の第１の凹凸パターン３９に追従させ
るトラッキングサーボ装置２３と、対物レンズ２１をフ
ォーカス方向（レーザビームＬの光軸に沿った方向）及
びトラッキング方向（レーザビームＬの光軸とほぼ直交
する方向）に駆動可能な２軸アクチュエータ２４とを備
えている。従来の露光装置では、フォーカスサーボ装置
のみを備えており、対物レンズのアクチュエータは、対
物レンズをフォーカス方向のみに駆動可能ないわゆる１
軸アクチュエータであった。しかし、本発明の露光装置
１０では、ピット形状や、グルーブ形状およびランド形
状の第１の凹凸パターン３９がガラス原盤１１上に形成
され、この第１の凹凸パターン３９が形成されたガラス
原盤１１上に第２層目のフォトレジスト１２が塗布され
た後、対物レンズ２１をこの既に形成された第１の凹凸
パターン３９に追従させて、再度ピット形状やグルーブ
形状およびランド形状の第２の凹凸パターンを第２層目
のフォトレジスト１２に露光記録することを目的とす
る。したがって、露光装置１０において、レーザビーム
Ｌの記録スポットの位置をトラックと垂直方向（トラッ
キング方向）に変位させて、記録スポットを最初に形成
した凹凸パターンに追従させる必要がある。このため、
露光装置１０は、トラッキングサーボ装置２３と、トラ
ッキング方向にも対物レンズ２１を駆動可能な２軸アク
チュエータ２４とにより構成されるトラッキング機構を
有している。

【００３１】フォーカスサーボ装置２２によって、対物
レンズ２１の位置は、常にその焦点位置が第２層目のフ
ォトレジスト１２上に存在するように調整される。フォ
ーカスサーボ装置２２においては、例えば、いわゆる非
点収差法に基づいて、フォトディテクタ（図示せず）よ
り供給されるサーボ用信号からフォーカスエラー信号が
算出され、フォーカスサーボ回路（図示せず）に出力さ
れる。このフォーカスサーボ回路により出力されるフォ
ーカスエラー信号に応じて、２軸アクチュエータ２４が
フォーカス方向に制御され、第２層目のフォトレジスト
１２上における対物レンズ２１の焦点位置の調整が行わ
れる。

【００３２】図２に、本実施の形態に係るトラッキング
サーボ装置２３の構成の一例を示す。トラッキングサー
ボ装置２３は、トラッキング用レーザ光源３１と、偏光
ビームスプリッタ（ＰＢＳ）３２と、λ／４板３３と、
集光レンズ３４と、フォトディテクタ（ＰＤ）３５と、
トラッキングエラー作成回路３６と、アクチュエータ駆
動回路３７とを備えている。

【００３３】トラッキング用レーザ光源３１には、第２
層目のフォトレジスト１２が感光しないように、第２層
目のフォトレジスト１２が感度を有しない、例えば発振
波長が６３３ｎｍのＨｅ−Ｎｅレーザであるとか、発振
波長が６３０〜６５０ｎｍの半導体レーザが用いられ
る。

【００３４】また、トラッキング用レーザ光源３１の偏
光方向を、出射されるトラッキングレーザビームＬｔが
ＰＢＳ３２を透過するように調整しておく。これにより
トラッキングレーザビームＬｔは、ＰＢＳ３２及びλ／
４板３３を経て、ミラー２０で反射され、対物レンズ２
１に入射し、ガラス原盤１１上に照射される。

【００３５】ところで、トラッキングサーボ動作用にト
ラッキングエラーを得る必要があるが、このためには、
３スポット法やプッシュプル法を用いることができる。
図３に、３スポット法を用いた場合のトラッキングの例
を示す。

【００３６】３スポットを得るためには、図３に示すよ
うに、トラッキング用レーザ光源３１の後、かつ、ＰＢ
Ｓ３２の前に回折格子３８を配置し、トラッキングレー
ザビームＬｔについて回折格子３８による回折効果を利
用する。即ち、回折格子３８により回折されたトラッキ
ングレーザビームＬｔの±１次回折光が０次回折光の両
側にそれぞれ、ガラス原盤１１上に既に形成されている
第１の凹凸パターン３９のトラックピッチａの１／４だ
けデトラック（ｂ＝ａ／４）されてガラス原盤１１上に
照射されるように、回折格子３８の角度等を調整する。

【００３７】このようにして、回折格子３８により回折
され、ＰＢＳ３２、λ／４板３３、ミラー２０及び対物
レンズ２１を介して、ガラス原盤１１上に入射したトラ
ッキングレーザビームＬｔは、ガラス原盤１１上で反射
され、対物レンズ２１を経て、ミラー２０で反射され、
λ／４板３３を経てＰＢＳ３２に入射する。

【００３８】λ／４板３３は、ガラス原盤１１から反射
されて戻ってきたトラッキングレーザビームＬｔがＰＢ
Ｓ３２で反射されるように調整されているために、トラ
ッキングレーザビームＬｔは今度はＰＢＳ３２で反射さ
れ、集光レンズ３４でＰＤ３５上に集光される。

【００３９】ＰＤ３５は＋１次回折光用と−１次回折光
用にそれぞれ独立した受光素子（図示せず）を持ってい
る。トラッキングエラー作成回路３６により、ＰＤ３５
の独立した両受光素子からの信号の差分が演算され、ト
ラッキングエラー信号を得ることができる。

【００４０】このトラッキングエラー信号が０となるよ
うに、アクチュエータ駆動回路３７で２軸アクチュエー
タ２４をトラッキング方向に駆動して、対物レンズ２１
をトラッキング方向に移動させれば、レーザビームＬを
第１層目のフォトレジスト５０に記録した第１の凹凸パ
ターン３９に追従させることができる。

【００４１】なお、トラッキングエラー信号の振幅を増
加させるために、Ａｌ、Ｃｒ等の反射膜を第１層目のフ
ォトレジスト５０に第１の凹凸パターン３９が形成され
たガラス原盤１１上に形成するようにしてもよい。

【００４２】また、トラッキングにプッシュプル法を用
いる場合には、回折格子は不要となる。プッシュプル法
による場合には、ガラス原盤１１により反射して、対物
レンズ２１、ミラー２０、λ／４板３３、ＰＢＳ３２及
び集光レンズ３４を介して入射するトラッキングレーザ
ビームＬｔを２分割のＰＤ３５で受光する。そして、ト
ラッキングエラー作成回路３６で２分割のＰＤ３５の左
右の出力の差分を演算し、トラッキングエラー信号を得
る。

【００４３】このトラッキングエラー信号が０となるよ
うにアクチュエータ駆動回路３７を駆動して、対物レン
ズ２１をトラッキング方向に移動させれば、レーザビー
ムＬを第１層目のフォトレジスト５０に記録した第１の
凹凸パターン３９に追従させることができる。

【００４４】ところで、記録光軸を変位させる方法とし
てはいくつかのものが考えられるが、例えば光ディスク
プレーヤと同様の２軸アクチュエータ２４を用いる方法
が考えられる。

【００４５】また、図４に示すように、アクチュエータ
としては従来どおり１軸アクチュエータ４０を使用し、
対物レンズ２１に向けてレーザビームＬを反射するミラ
ーをガルバノミラー４１にしてもよい。このガルバノミ
ラー４１は、トラッキングサーボ装置２３からのトラッ
キング信号によってレーザビームＬの光軸に対し垂直方
向に角度変位される。これにより、対物レンズ２１に入
射するレーザビームＬが偏向されて、トラッキング制御
が行われる。

【００４６】そして、ターンテーブル４２上に固定され
た第２層目のフォトレジスト１２が塗布されたガラス原
盤１１は、角速度一定又は線速度一定の所望の速度で回
転されると同時に、対物レンズ２１を有する光ヘッドは
ガラス原盤１１の径方向に並進運動する。これにより、
ピット形状、または、グルーブ形状およびランド形状の
うち少なくとも１つからなる第１の凹凸パターン３９が
形成されたガラス原盤１１上に塗布された第２層目のフ
ォトレジスト１２上の全面にわたって、その既に形成さ
れた第１の凹凸パターン３９にレーザビームＬが追従し
ながら、再度、ピット形状、または、グルーブ形状およ
びランド形状のうち少なくとも１つからなる第２の凹凸
パターンが露光記録されることになる。

【００４７】上記のように新たなピット形状やグルーブ
形状およびランド形状からなる第２の凹凸パターンの潜
像を形成した後、ガラス原盤１１をターンテーブル４２
によって回転させながら、第２層目のフォトレジスト１
２上に現像液を滴下して現像する。これにより、現像に
より新たに形成されたピット形状やグルーブ形状および
ランド形状からなる第２の凹凸パターンと、既に形成さ
れていたピット形状やグルーブ形状およびランド形状か
らなる第１の凹凸パターンとの組み合わせによって、光
記録媒体に記録される複雑な形状のピット、グルーブ、
ランドのうち少なくとも１つに対応した凹凸パターンが
ガラス原盤１１上に形成されることになる。これによ
り、光記録媒体製造用原盤が完成する。

【００４８】このように本実施の形態に係る露光装置で
は、トラッキング機構を備え、レーザビームＬを第２層
目のフォトレジスト１２に集光させる対物レンズ２１を
トラッキング方向に駆動して位置制御するトラッキング
制御ができるため、レーザビームＬを既に形成された第
１の凹凸パターン３９に追従させて、新たな第２の凹凸
パターンの潜像を第２層目のフォトレジスト１２に形成
することができる。よって、新たな第２の凹凸パターン
と既に形成された第１の凹凸パターンとの組み合わせに
よって、光記録媒体に記録される複雑な形状のピット、
グルーブ、ランドのうち少なくとも１つに対応した凹凸
パターンをガラス原盤１１上に形成することができる。

【００４９】次に、上述した露光装置１０を用いた本発
明の一実施の形態に係る光記録媒体製造用原盤の製造方
法、この原盤によって複製されたスタンパを用いて光デ
ィスクを製造する方法について図５及び図６を用いて説
明する。

【００５０】まず、図５（Ａ）に示すように、従来の光
ディスク露光記録と同様に、図示しないターンテーブル
上に固定された、第１層目の感光性材料層であるフォト
レジスト５０を塗布したガラス原盤１１に、レーザビー
ムによりグルーブ形状およびランド形状からなる第１の
凹凸パターンの潜像５１を記録する。この露光記録に
は、上述した露光装置１０を用いても、従来の露光装置
を用いてもよい。

【００５１】次に、図５（Ｂ）に示すように、このガラ
ス原盤１１を一度ターンテーブルから取り外し、ガラス
原盤１１上の第１層目のフォトレジスト５０を現像液で
現像する。例えば第１層目のフォトレジスト５０がポジ
型であれば、アルカリ性の現像液で現像することによ
り、記録光であるレーザビームＬで露光された部分がア
ルカリ可溶になり、グルーブ形状およびランド形状から
なる第１の凹凸パターン３９が形成される。第１の凹凸
パターン３９は、ランド形状の凸部３９Ｌと、グルーブ
形状の凹部３９Ｇとにより構成されている。

【００５２】このように現像した後、第１層目のフォト
レジスト５０をベークすることにより、焼き固める。ベ
ーク温度は約１５０〜２００℃程度、ベーク時間は約１
０〜３０分が適当である。これにより第１層目のフォト
レジスト５０内部で架橋反応が起こり、第１層目のフォ
トレジスト５０はレジスト溶媒に不溶となるため、記録
形成したグルーブ形状およびランド形状からなる第１の
凹凸パターン３９を破壊することなく、後述する第２層
目のフォトレジスト１２を塗布することが容易となる。

【００５３】次に、図５（Ｃ）に示すように、第１層目
のフォトレジスト５０がベークされたガラス原盤１１上
に、例えばＡｌ等のアルカリ可溶の反射膜５３を形成す
る。なお、反射膜５３は必ずしもアルカリ可溶である必
要はなく、Ｃｒ等でもよい。これにより、第１層目のフ
ォトレジスト５０に形成されたグルーブ形状およびラン
ド形状からなる第１の凹凸パターン３９より得られるト
ラッキング信号の振幅を増加させることができる。

【００５４】ここで反射膜５３を形成する場合、反射率
をあまり高くすると、後述する第２層目のフォトレジス
ト１２を露光する際に記録光の定在波が発生してしま
い、後述する再度新たに形成するグルーブ形状およびラ
ンド形状からなる第２の凹凸パターン５６の形状を著し
く損なう。したがって、反射膜５３の反射率は、トラッ
キングレーザビームＬｔに対して１〜５％のできるだけ
低い値が望ましい。

【００５５】なお、反射膜５３をガラス原盤１１上に必
ずしも形成しなくても、ベークされた第１層目のフォト
レジスト５０の表面反射によっても十分なトラッキング
信号を得ることも可能である。

【００５６】また、反射膜５３をガラス原盤１１上に形
成することによって、反射膜５３が第１層目のフォトレ
ジスト５０のレジスト溶媒による溶解を防ぐことになる
ので、第１層目のフォトレジスト５０をベークする工程
を省くことも可能である。

【００５７】次に、図５（Ｄ）に示すように、ガラス原
盤１１上に形成された反射膜５３上に、第２層目のフォ
トレジスト１２を塗布する。

【００５８】そして、図５（E）に示すように、上述し
たトラッキングサーボ機構を備えた露光装置１０を用い
て、第１層目のフォトレジスト５０に形成された第１の
凹凸パター３９のランド形状である凸部３９Ｌ上に記録
光であるレーザビームＬを追従させ、第２層目のフォト
レジスト１２にグルーブ形状およびランド形状からなる
第２の凹凸パターン５６を露光記録し、第２の凹凸パタ
ーン５６の潜像５５を形成する。

【００５９】このガラス原盤１１上の第２層目のフォト
レジスト１２を第１層目のフォトレジスト５０と同様に
してアルカリ性の現像液で現像すると、図６（Ａ）に示
すように、第２層目のフォトレジスト１２にグルーブ形
状およびランド形状からなる第２の凹凸パターン５６が
形成されることになる。これにより、第２層目のフォト
レジスト１２に新たに形成されたランド／グルーブ形状
の第２の凹凸パターン５６と、既に第１層目のフォトレ
ジスト５０に形成されていたランド／グルーブ形状の第
１の凹凸パターン３９との組み合わせによって、光ディ
スクに形成されるグルーブおよびランドに対応する凹凸
パターン５７が形成された光記録媒体製造用原盤５８が
得られる。なお、この際、アルカリ性の現像液によって
アルカリ可溶である反射膜５３も溶けることになる。凹
凸パターン５７は、光ディスクに形成されるランドに対
応するグルーブ形状の凹部５７Ｇと、光ディスクに形成
されるグルーブに対応するランド形状の凸部５７Ｌとに
より構成されている。なお、本実施の形態では、光ディ
スクについて、ディスク基板側からの信号読み取りを前
提としており、読み取り側から見て手前にある方をラン
ド、奥にある方をグルーブとする。この光ディスクに形
成されるランドに対応するグルーブ形状の凹部５７Ｇの
底面５７１Ｇの両端には、底面５７１Ｇより低い窪み５
７２Ｇが形成されることになり、複雑な形状のランドに
対応した凹部５７Ｇが形成されることになる。

【００６０】この光記録媒体製造用原盤５８にＮｉメッ
キを施すことにより、図６（Ｂ）に示すようなスタンパ
５９が得られる。このようにして、スタンパ５９には、
原盤５８の凹凸パターン５７が反転した凹凸パターン６
０が形成される。

【００６１】更に、図６（Ｃ）に示すように、このスタ
ンパ５９を用いて、例えばポリカーボネイトを材料とし
て、射出成形または２Ｐ法によって、スタンパ５９の凹
凸パターン６０が反転した凹凸パターン６１が形成され
たディスク基板６２を作製することができる。よって、
ディスク基板６２には、スタンパ５９の凹凸パターン６
０を介して、原盤５８の凹凸パターン５７が転写され
て、凹凸パターン６１を構成するランド６１Ｌと、グル
ーブ６１Ｇが記録される。このランド６１Ｌの上面６１
１Ｌの両端には、上面６１１Ｌより高い突起６１２Ｌが
形成されることになり、複雑な形状のランド６１Ｌが形
成されることになる。

【００６２】そして、図６（Ｄ）に示すように、ディス
ク基板６２上に記録層６３、保護層６４を順次成膜す
る。具体的には、例えば、凹凸パターン６１が形成され
た面上に、SiN等からなる誘電体膜と、TeFeCo合金等か
らなる垂直磁気記録膜と、SiN等からなる誘電体膜と、
Ａｌ等からなる光反射膜とをスパッタリング法により積
層形成し、記録層６３を形成する。その後、この記録層
６３の上に紫外線硬化樹脂をスピンコート法により塗布
し、この紫外線硬化樹脂に対して紫外線を照射し硬化さ
せることにより、保護層６４を形成する。これにより光
磁気ディスク６５が完成する。なお、光磁気ディスク以
外の光記録媒体であっても、例えば、再生専用の光ディ
スク、相変化型光ディスク、更には光ディスク以外の光
カード等他のものに本発明を適用することができること
はいうまでもない。

【００６３】このように本実施の形態に係る光記録媒体
製造用原盤の製造方法によれば、トラッキング機構を備
えトラッキング制御ができる露光装置１０を用いるよう
にしたので、底面５７１Ｇの両端に底面５７１Ｇより低
い窪み５７２Ｇが形成された複雑な形状のランドに対応
するグルーブ形状の凹部５７Ｇを備えた光記録媒体製造
用原盤を製造することができる。

【００６４】また、このように本実施の形態に係る光記
録媒体である光磁気ディスク６５には、上面６１１Ｌの
両端に上面６１１Ｌより高い突起６１２Ｌが形成された
複雑なランド６１Ｌが形成されているので、このような
光磁気ディスク６５にランド／グルーブ記録を行えば、
ランド６１Ｌとグルーブ６１Ｇとの間の物理的な遮断壁
となる突起６１２Ｌが存在するため、クロストークを低
減することができ、その結果、トラックピッチをより狭
くすることができ、記録密度を向上させることができ
る。なお、光磁気ディスク６５について、ディスク基板
６２側からではなく、保護膜６４側からの信号読み取り
をする場合には、上面６１１Ｌの両端に上面６１１Ｌよ
り高い突起６１２Ｌが形成された複雑なランド６１Ｌで
はなく、底面の両端に底面より低い窪みが形成された複
雑なグルーブが形成されていることになる。

【００６５】次に、図７を用いて、上述した露光装置１
０を用いた本発明の他の実施の形態に係る光記録媒体製
造用原盤の製造方法について説明する。

【００６６】本実施の形態では、上述したトラッキング
機構を備えた露光装置１０を用いて、第１層目のフォト
レジスト５０に形成されたピット形状の第１の凹凸パタ
ーン７０上に記録光であるレーザビームＬを追従させ、
第２層目のフォトレジスト１２にピット形状の第２の凹
凸パターン７１を露光記録して、第２の凹凸パターン７
１の潜像を形成する。なお、第１層目のフォトレジスト
５０がベークされたガラス原盤１１上に、例えばＡｌ、
Ｃｒ等の反射膜を形成して、トラッキング信号の増幅を
増加させるようにしてもよいのは、上述した実施の形態
と同様である。また、この露光記録の際に、ガラス原盤
１１が固定されているターンテーブル４２の回転と同期
したクロックに信号発生器１７を同期させて、クロック
を数えることにより、ガラス原盤１１上での正確なピッ
ト形状の第１の凹凸パターン７０の位置を把握するよう
にしてもよい。

【００６７】この後、第２層目のフォトレジスト１２を
現像する。これにより、光ディスクに形成されるピット
に対応する凹凸パターン７２がガラス原盤１１上に形成
された光記録媒体製造用原盤５８が得られる。その他の
製造工程については、上述した実施の形態と同様である
ので、上述した実施の形態の説明を援用する。

【００６８】第２層目のフォトレジスト１２のピット形
状からなる第２の凹凸パターン７１の下に、第１層目の
フォトレジスト５０のピット形状からなる第１の凹凸パ
ターン７０が存在しなければ、ピット高さが第２層目の
フォトレジスト１２の厚みで決定された、光ディスクに
形成されるピットに対応する凹凸パターン７２ａが形成
されることになる。

【００６９】また、第２層目のフォトレジスト１２のピ
ット形状からなる第２の凹凸パターン７１の下に、第１
層目のフォトレジスト５０のピット形状からなる第１の
凹凸パターン７０が存在すれば、ピット高さは第１層目
のフォトレジスト５０及び第２層目のフォトレジスト１
２の厚みの和で決定された、光ディスクに形成されるピ
ットに対応する凹凸パターン７２ｂが形成されることに
なる。

【００７０】そして、この光記録媒体製造用原盤５８の
凹凸パターン７２をディスク基板６２に転写して、光デ
ィスクを得ることができる。よって、この実施の形態に
係る光ディスクには、原盤５８の凹凸パターン７２が転
写されて、２段階のピット高さのピットが形成されてい
る。

【００７１】このように本実施の形態に係る光記録媒体
製造用原盤の製造方法によれば、トラッキング機構を備
えトラッキング制御ができる露光装置１０を用いるよう
にしたので、２段階のピット高さを有する複雑な形状の
ピットに対応する凹凸パターン７２を備えた光記録媒体
製造用原盤を製造することができる。

【００７２】また、このように本実施の形態に係る光デ
ィスクには、２段階のピット高さのピットが形成されて
いるので、多値記録の実現が可能となる。

【００７３】更に、図８を用いて、上述した露光装置１
０を用いた本発明のさらに他の実施の形態に係る光記録
媒体製造用原盤の製造方法について説明する。

【００７４】本実施の形態では、上述したトラッキング
サーボ装置２３を備えた露光装置１０を用いて、第１層
目のフォトレジスト５０に形成されたピット形状からな
る第１の凹凸パターン８０上に記録光であるレーザビー
ムＬを追従させ、第２層目のフォトレジスト１２にグル
ーブ形状からなる第２の凹凸パターン８１を露光記録
し、第２の凹凸パターン８１の潜像を形成する。なお、
第１層目のフォトレジスト５０がベークされたガラス原
盤１１上に、例えばＡｌ、Ｃｒ等の反射膜を形成して、
トラッキング信号の増幅を増加させるようにしてもよい
のは、上述した実施の形態と同様である。また、この露
光記録の際に、ガラス原盤１１が固定されているターン
テーブル４２の回転と同期したクロックに信号発生器１
７を同期させて、クロックを数えることにより、ガラス
原盤１１上での正確なピット形状からなる第１の凹凸パ
ターン８０の位置を把握するようにしてもよい。

【００７５】この後、第２層目のフォトレジスト１２を
現像する。これにより、光ディスクに形成されるピット
に対応する凹凸パターン８２がガラス原盤１１上に形成
された光記録媒体製造用原盤５８が得られる。その他の
製造工程については、上述した実施の形態と同様である
ので、上述した実施の形態の説明を援用する。

【００７６】第２層目のフォトレジスト１２のグルーブ
形状からなる第２の凹凸パターン８１の下に、第１層目
のフォトレジスト５０のピット形状からなる第１の凹凸
パターン８０が存在することになり、浅いグルーブの中
の深いピットに対応する凹凸パターン８２が形成される
ことになる。

【００７７】そして、この光記録媒体製造用原盤５８の
凹凸パターン８２がディスク基板６２に転写され、この
ディスク基板６２から光ディスクを得ることができる。
よって、この光ディスクには、原盤５８の凹凸パターン
８２が転写されて、浅いグルーブの中に深いピットが形
成されている。

【００７８】このように本実施の形態に係る光記録媒体
製造用原盤の製造方法によれば、トラッキング機構を備
えトラッキング制御ができる露光装置１０を用いるよう
にしたので、浅いグルーブの中にある深いピットのよう
な複雑な形状のピットに対応する凹凸パターン８２を備
えた光記録媒体製造用原盤を製造することができる。

【００７９】また、このように本実施の形態に係る光デ
ィスクでは、浅いグルーブの中に深いピットが形成され
ているので、例えば、書き換え型光ディスクにおいて、
浅いグルーブ高さをλ／（８ｎ）（λ：読み取り光の波
長、ｎ：ディスク基板の屈折率）、深いアドレスピット
高さをλ／（４ｎ）に設定すると、グルーブから良好な
プッシュプル信号が得られ、安定したトラッキングを実
現することができるとともに、アドレスピットからの再
生信号を強くできるので、アドレス情報を、正確に、安
定して再生できる。

【００８０】このように本発明を適用すれば、従来にな
い複雑な形状のピット、グルーブ、ランドを光ディスク
に形成できるため、全く新しい情報記録方法の開発へと
繋がることが期待される。

【００８１】以上、実施の形態を挙げて本発明を説明し
たが、本発明は上記各実施の形態に限定されるものでは
なく、種々変形可能である。

【００８２】例えば、上記実施の形態では、露光装置に
より、レーザビームＬを既に形成された第１の凹凸パタ
ーン３９に追従させて、新たな第２の凹凸パターン５６
の潜像を第２層目のフォトレジスト１２に形成する例に
ついて説明したが、露光装置を現像直後の光記録媒体製
造用原盤の状態を評価することに用いることもできる。
例えば、ガラス原盤上のフォトレジストを現像して、フ
ォトレジストにピットやグルーブおよびランドに対応す
る凹凸パターンを形成して光記録媒体製造用原盤を作製
した後、この光記録媒体製造用原盤を露光装置のターン
テーブルに装着する。そして、トラッキング機構を備え
たトラッキング制御ができる露光装置をプレーヤとして
用いて、光記録媒体製造用原盤の凹凸パターンにレーザ
ビームを追従させて、光記録媒体製造用原盤を再生し
て、例えばＲＦ信号、プッシュプル信号、エラーレート
等を測定する。

【００８３】すなわち、光記録媒体製造用原盤上の感光
材料層に形成された、光記録媒体に記録されるピット、
または、グルーブおよびランドのうち少なくとも１つに
対応する凹凸パターンにレーザビームを追従させるトラ
ッキング機構を備えた光照射装置である露光装置を用い
て、光記録媒体製造用原盤をトラッキング機構により凹
凸パターンにレーザビームを追従させながら再生し、光
記録媒体製造用原盤の性能の評価を行うことを特徴とす
る光記録媒体製造用原盤の性能の評価方法が実現でき
る。

【００８４】なお、この光記録媒体製造用原盤の表面に
は反射膜がない状態であるが、数％の表面反射でも光記
録媒体製造用原盤について再生することは可能である。

【００８５】このように露光装置による光記録媒体製造
用原盤の性能の評価をして、光記録媒体製造用原盤の性
能に問題があると判断された場合には、それ以降の製造
プロセスにはその性能に問題がある光記録媒体製造用原
盤を流さないということも可能である。また、光記録媒
体製造用原盤を用いて製造された光ディスクに何か不備
があったときには、複雑な製造プロセスの中で、少なく
とも光記録媒体製造用原盤についての露光現像までは問
題がなかったという診断を行うことも可能である。

【００８６】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
第１の感光性材料層に形成された第１の凹凸パターンに
レーザビームを追従させながら、第２の感光性材料層に
第２の凹凸パターンを露光記録することができるので、
第１の凹凸パターンおよび第２の凹凸パターンを組み合
わせることにより、光記録媒体に記録される複雑なピッ
ト、または、グルーブおよびランドのうち少なくとも１
つに対応する凹凸パターンが形成された光記録媒体製造
用原盤を製造することができる。よって、この光記録媒
体製造用原盤を用いることにより、複雑なピット、グル
ーブ、ランドのうち少なくとも１つが形成された光記録
媒体を製造することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施の形態に係る露光装置の概略構
成図である。

【図２】図１に示した露光装置が備えたトラッキングサ
ーボ装置の概略構成図である。

【図３】図２に示したトラッキングサーボ装置により３
スポット法によるトラッキングを行う場合の説明図であ
る。

【図４】図１に示した露光装置において、ガルバノミラ
ーを用いた場合の概略構成図である。

【図５】本発明の一実施の形態に係る光記録媒体製造用
原盤および光記録媒体の製造方法の主要工程を表す工程
図である。

【図６】図５に続く、本発明の一実施の形態に係る光記
録媒体製造用原盤および光記録媒体の製造方法の主要工
程を表す工程図である。

【図７】本発明の他の実施の形態に係る光記録媒体製造
用原盤の断面図である。

【図８】本発明のさらに他の実施の形態に係る光記録媒
体製造用原盤の断面図である。

【符号の説明】

１０…露光装置、１１…ガラス原盤、１２…第２層目の
フォトレジスト、１３…レーザ光源、２１…対物レン
ズ、２２…フォーカスサーボ装置、２３…トラッキング
サーボ装置、２４…２軸アクチュエータ、３１…トラッ
キング用レーザ光源、３６…トラッキングエラー回路、
３７…アクチュエータ駆動回路、３８…回折格子、３
９，７０，８０…第１の凹凸パターン、５０…第１層目
のフォトレジスト、５３…反射膜、５６，７１，８１…
第２の凹凸パターン、５７…グルーブおよびランドに対
応する凹凸パターン、５７Ｇ…グルーブ形状の凹部、５
７Ｌ…ランド形状の凸部、５７２Ｇ…窪み、５８…光記
録媒体製造用原盤、５９…スタンパ、６１Ｇ…グルー
ブ、６１Ｌ…ランド、６１２Ｌ…突起、６２…ディスク
基板、６５…光磁気ディスク

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 原盤上の第１の感光性材料層にレーザビ
   ームによりピット形状、または、グルーブ形状およびラ
   ンド形状のうち少なくとも１つからなる第１の凹凸パタ
   ーンを露光記録する工程と、 前記第１の感光性材料層を現像して前記第１の感光性材
   料層に前記第１の凹凸パターンを形成する工程と、 前記第１の感光性材料層に前記第１の凹凸パターンが形
   成された前記原盤上に第２の感光性材料層を塗布する工
   程と、 前記第１の凹凸パターンにレーザビームを追従させなが
   ら、前記第２の感光性材料層に、ピット形状、または、
   グルーブ形状およびランド形状のうち少なくとも１つか
   らなる第２の凹凸パターンを露光記録する工程と、 前記第２の感光性材料層を現像して前記第２の感光性材
   料層に前記第２の凹凸パターンを形成する工程とを有す
   ることを特徴とする光記録媒体製造用原盤の製造方法。
2. 【請求項２】 前記第１の凹凸パターンが形成された前
   記第１の感光性材料層をベークする工程を有することを
   特徴とする請求項１記載の光記録媒体製造用原盤の製造
   方法。
3. 【請求項３】 前記第１の感光性材料層に前記第１の凹
   凸パターンが形成された前記原盤上に反射膜を形成する
   工程と、 前記原盤上に形成された前記反射膜上に前記第２の感光
   性材料層を塗布する工程とを有することを特徴とする請
   求項１記載の光記録媒体製造用原盤の製造方法。
4. 【請求項４】 前記第１の凹凸パターンが形成された前
   記第１の感光性材料層をベークする工程と、 前記第１の感光性材料層がベークされた前記原盤上に反
   射膜を形成する工程と、前記原盤上に形成された前記反
   射膜上に前記第２の感光性材料層を塗布する工程とを有
   することを特徴とする請求項１記載の光記録媒体製造用
   原盤の製造方法。
5. 【請求項５】 前記反射膜の反射率が５％以下であるこ
   とを特徴とする請求項３記載の光記録媒体製造用原盤の
   製造方法。
6. 【請求項６】 原盤上の感光材料層にレーザビームによ
   り凹凸パターンを露光記録する露光装置であって、 前記原盤上の第１の感光材料層に形成されたピット形
   状、または、グルーブ形状およびランド形状のうち少な
   くとも１つからなる第１の凹凸パターンに前記レーザビ
   ームを追従させるトラッキング機構を備え、 このトラッキング機構により前記第１の凹凸パターンに
   前記レーザビームを追従させながら、前記第１の感光材
   料層に前記第１の凹凸パターンが形成された前記原盤上
   に塗布された第２の感光材料層に、ピット形状、また
   は、グルーブ形状およびランド形状のうち少なくとも１
   つからなる第２の凹凸パターンを露光記録することを特
   徴とする露光装置。
7. 【請求項７】 光記録媒体に記録されるピット、また
   は、グルーブおよびランドのうち少なくとも１つに対応
   する凹凸パターンが形成された光記録媒体製造用原盤で
   あって、 原盤上の第１の感光材料層に形成されたピット形状、ま
   たは、グルーブ形状およびランド形状のうち少なくとも
   １つからなる第１の凹凸パターンにレーザビームを追従
   させながら、前記第１の凹凸パターンが形成された前記
   原盤上に塗布された第２の感光材料層に、ピット形状、
   または、グルーブ形状およびランド形状のうち少なくと
   も１つからなる第２の凹凸パターンが露光記録され、前
   記第２の感光材料層が現像されることにより、前記第１
   の凹凸パターンおよび前記第２の凹凸パターンにより構
   成される、前記光記録媒体に記録されるピット、また
   は、グルーブおよびランドのうち少なくとも１つに対応
   する凹凸パターンが形成されたことを特徴とする光記録
   媒体製造用原盤。
8. 【請求項８】 光記録媒体製造用原盤に形成されたピッ
   ト、または、グルーブおよびランドのうち少なくとも１
   つに対応する凹凸パターンが転写されて、ピット、また
   は、グルーブおよびランドのうち少なくとも１つが記録
   された光記録媒体であって、 前記光記録媒体製造用原盤には、原盤上の第１の感光材
   料層に形成されたピット形状、または、グルーブ形状お
   よびランド形状のうち少なくとも１つからなる第１の凹
   凸パターンにレーザビームを追従させながら、前記第１
   の凹凸パターンが形成された前記原盤上に塗布された第
   ２の感光材料層に、ピット形状、または、グルーブ形状
   およびランド形状のうち少なくとも１つからなる第２の
   凹凸パターンが露光記録され、前記第２の感光材料層が
   現像されることにより、前記第１の凹凸パターンおよび
   前記第２の凹凸パターンにより構成される、前記ピッ
   ト、または、グルーブおよびランドのうち少なくとも１
   つに対応する凹凸パターンが形成されたことを特徴とす
   る光記録媒体。
9. 【請求項９】 グルーブおよびランドが記録された光記
   録媒体であって、 前記グルーブの底面の両端が前記グルーブの底面より低
   い窪み状、または、前記ランドの上面の両端が前記ラン
   ドの上面より高い突起状となっていることを特徴とする
   光記録媒体。