JP2000357343A - 光記録媒体及び光記録媒体製造用原盤 - Google Patents

光記録媒体及び光記録媒体製造用原盤

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JP2000357343A
JP2000357343A JP11165816A JP16581699A JP2000357343A JP 2000357343 A JP2000357343 A JP 2000357343A JP 11165816 A JP11165816 A JP 11165816A JP 16581699 A JP16581699 A JP 16581699A JP 2000357343 A JP2000357343 A JP 2000357343A
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light
recording
grooves
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惣銘 遠藤
Manabu Iwai
学 岩井
Katsuhiko Otomo
勝彦 大友
Fuji Tanaka
富士 田中
Hiroshi Nakayama
比呂史 中山
Masaki Kanno
正喜 管野
Masataka Shinoda
昌孝 篠田
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 記録トラックに沿ってグルーブが形成された
書込可能領域と、記録トラックに沿ってピットが形成さ
れた再生専用領域とを備えた光記録媒体において、トラ
ックピッチを狭めて高記録密度化を図っても、記録再生
を行うのに必要な信号を十分なレベルにて得ることがで
きるようにする。 【解決手段】 光入射面からグルーブ及びピットが形成
された面に至る媒質の屈折率をｎとし、記録再生に使用
される光の波長をλとしたとき、グルーブ及びピットの
深さをλ／７．５ｎ〜λ／６．０ｎの範囲内とする。ま
た、グルーブの幅をＷｇとし、書込可能領域における記
録トラックのトラックピッチをＴｐ１としたときに、Ｗ
ｇ／Ｔｐ１を１８．４％〜３１．１％の範囲内とする。
また、ピットの幅をＷｐとし、再生専用領域における記
録トラックのトラックピッチをＴｐ２としたときに、Ｗ
ｐ／Ｔｐ２を３５．７％〜４４．３％の範囲内とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、記録トラックに沿
ってグルーブが形成された書込可能領域と、記録トラッ
クに沿ってピットが形成された再生専用領域とを備えた
光記録媒体に関する。また、そのような光記録媒体を製
造する際の型となる光記録媒体製造用原盤に関する。
【０００２】
【従来の技術】光記録媒体には、光ディスク、光磁気デ
ィスク、相変化型光ディスク等がある。これらの光記録
媒体には、記録トラックに沿ってグルーブが形成され情
報信号の書き込みが可能とされた書込可能領域と、情報
信号に対応したピットが記録トラックに沿って予め形成
されてなる再生専用領域とを備えたものがあり、そのよ
うな光記録媒体の一つとして「ＭＤ（Mini Disc）」が
商品化されている。
【０００３】ＭＤは、光磁気ディスクであり、図６に示
すような記録フォーマットを有する。すなわち、ＭＤ
は、図６に示すように、記録トラックに沿ってグルーブ
ｇがシングルスパイラル状に形成され情報信号の書き込
みが可能とされた書込可能領域１０１と、情報信号に対
応したピットｐが記録トラックに沿ってシングルスパイ
ラル状に予め形成されてなる再生専用領域１０２とを備
えている。
【０００４】ここで、書込可能領域１０１は、光磁気記
録により、グルーブｇの部分に情報信号の書き込みが可
能とされている。一方、再生専用領域１０２には、ＴＯ
Ｃ（Table Of Contents）情報等がピットｐにより予め
記録される。なお、ＭＤにおいて、書込可能領域１０１
におけるトラックピッチＴ１、並びに再生専用領域１０
２におけるトラックピッチＴ２は、１．６μｍとされて
いる。
【０００５】そして、このようなＭＤの次世代の光磁気
ディスクとして、記録密度をＭＤの４倍程度に高めて、
ＭＤサイズに約６５０ＭＢの容量を持たせるようにした
「ＭＤData2」が提案されている。
【０００６】ＭＤData2で提案されている記録フォーマ
ットを図７に示す。図７に示すように、ＭＤData2で
も、ＭＤと同様に、記録トラックに沿ってグルーブｇ
ｗ，ｇｓが形成され情報信号の書き込みが可能とされる
書込可能領域１１１と、情報信号に対応したピットｐが
記録トラックに沿って予め形成されてなる再生専用領域
１１２と、を設ける。
【０００７】ただし、ＭＤData2では、書込可能領域１
１１に２つのグルーブｇｗ，ｇｓをダブルスパイラル状
に形成し、一方のグルーブｇｗをアドレス情報に対応す
るように蛇行させたウォブリンググルーブとし、他方の
グルーブｇｓを蛇行させることなく形成したストレート
グルーブとする。そして、それらのグルーブｇｗ，ｇｓ
の間のランドの部分に情報信号を記録するようにする。
【０００８】ＭＤData2の書込可能領域１１１では、隣
接するウォブリンググルーブｇｗとストレートグルーブ
ｇｓの間隔がトラックピッチとなる。そして、書込可能
領域１１１におけるトラックピッチＴ３は０．９５μｍ
とする。なお、ＭＤData2において、隣接するストレー
トグルーブｇｓの間隔はトラックピリオドと称される。
トラックピリオドＴ４はトラックピッチＴ３の２倍であ
り、１．９０μｍとなる。
【０００９】一方、ＭＤData2の再生専用領域１１２に
は、ＭＤと同様に、シングルスパイラル状に記録トラッ
クに沿ってピットｐを形成し、当該ピットｐによりＴＯ
Ｃ情報等を記録する。ただし、ＭＤData2では、再生専
用領域１１２におけるトラックピッチＴ５も、書込可能
領域１１１におけるトラックピッチＴ３と同様に、０．
９５μｍとする。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】上述したように、ＭＤ
Data2では、ＭＤに比べてトラックピッチを大幅に狭め
ることにより、記録密度の向上を図ろうとしているが、
トラックピッチを狭めると、記録再生を行ったときに得
られる信号のレベルが低下してしまうという問題が生じ
る。
【００１１】例えば、記録再生時に光スポットを記録ト
ラックに追従させるトラッキングサーボにはプッシュプ
ル信号が用いられるが、トラックピッチを狭めると、得
られるプッシュプル信号のレベルが低下してしまう。特
に、グルーブが形成されておらず、ピットだけが形成さ
れた再生専用領域から得られるプッシュプル信号のレベ
ルはもともと低く、ＭＤData2のようにトラックピッチ
を狭める場合には、再生専用領域からも十分なレベルの
プッシュプル信号を得られるようにすることが大きな課
題となる。
【００１２】また、再生専用領域に記録されたピットを
再生したときのピット変調度やその再生特性（ジッター
特性等）も、トラックピッチを狭めると劣化する傾向に
ある。同様に、書込可能領域に対して記録再生を行った
場合の記録再生特性（ジッター特性等）も、トラックピ
ッチを狭めると劣化する傾向にある。
【００１３】したがって、ＭＤData2のように高記録密
度化を図る際は、単にトラックピッチを狭めるだけでな
く、再生専用領域に記録されたピットを再生したときの
ピット変調度やその再生特性、並びに、書込可能領域に
対して記録再生を行った場合の記録再生特性を、十分に
確保できるようにする必要がある。
【００１４】また、ＭＤData2のように、ウォブリング
グルーブを形成し、当該ウォブリンググルーブにアドレ
ス情報を付加する場合には、当該アドレス情報を良好に
再生できることが望まれる。すなわち、ウォブリンググ
ルーブの蛇行を検出する際のＣ／Ｎを十分に確保する必
要がある。
【００１５】以上のように、光記録媒体の高記録密度化
を図る際は、単にトラックピッチを狭めるだけでなく、
様々な特性を考慮して、記録再生を行うのに必要な各種
信号を十分なレベルにて得られるようにする必要があ
る。
【００１６】本発明は、以上のような従来の実情に鑑み
て提案されたものであり、ＭＤData2のようにトラック
ピッチを狭めて高記録密度化を図っても、記録再生を行
うのに必要な信号を十分なレベルにて得ることが可能な
光記録媒体を提供することを目的としている。また、本
発明は、そのような光記録媒体を製造する際の型となる
光記録媒体製造用原盤を提供することも目的としてい
る。
【００１７】
【課題を解決するための手段】本発明に係る光記録媒体
は、記録トラックに沿ってグルーブが形成された書込可
能領域と、記録トラックに沿ってピットが形成された再
生専用領域とを備えた光記録媒体である。そして、光入
射面からグルーブ及びピットが形成された面に至る媒質
の屈折率をｎとし、記録再生に使用される光の波長をλ
としたとき、グルーブ及びピットの深さがλ／７．５ｎ
〜λ／６．０ｎの範囲内であり、且つ、書込可能領域に
形成されたグルーブの幅をＷｇとし、書込可能領域にお
ける記録トラックのトラックピッチをＴｐ１としたとき
に、Ｗｇ／Ｔｐ１が１８．４％〜３１．１％の範囲内で
あり、且つ、再生専用領域に形成されたピットの幅をＷ
ｐとし、再生専用領域における記録トラックのトラック
ピッチをＴｐ２としたときに、Ｗｐ／Ｔｐ２が３５．７
％〜４４．３％の範囲内であることを特徴とする。
【００１８】グルーブ及びピットの深さや幅を以上のよ
うに規定することにより、トラックピッチを狭めても、
記録再生を行うのに必要な信号を十分なレベルにて得る
ことができる。
【００１９】なお、上記光記録媒体において、書込可能
領域には２つのグルーブをダブルスパイラル状に形成
し、それらのグルーブのうちの少なくとも一方を、少な
くとも一部が蛇行するように形成されたウォブリンググ
ルーブとしてもよい。その場合、ウォブリンググルーブ
の振幅をＡとしたとき、Ａ／Ｔｐ１が±１．６８％〜±
２．５３％の範囲内であることが好ましい。このように
ウォブリンググルーブの振幅を規定することにより、ト
ラックピッチを狭めても、ウォブリンググルーブの蛇行
を検出する際のＣ／Ｎを十分に確保することができる。
【００２０】本発明に係る光記録媒体製造用原盤は、以
上のような光記録媒体を製造する際の型となる光記録媒
体製造用原盤であり、少なくとも、上記光記録媒体の書
込可能領域に形成されるグルーブと、上記光記録媒体の
再生専用領域に形成されるピットとに対応した凹凸パタ
ーンが形成されてなる。
【００２１】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照しながら詳細に説明する。
【００２２】なお、以下の説明では、本発明を適用した
光記録媒体として、具体的な光磁気ディスクを例に挙げ
るが、本発明は、記録トラックに沿ってグルーブが形成
され情報信号の書き込みが可能とされた書込可能領域
と、情報信号に対応したピットが記録トラックに沿って
形成されてなる再生専用領域とを備えた光記録媒体に対
して広く適用可能であり、以下に挙げる光磁気ディスク
以外の光記録媒体に対しても適用可能である。
【００２３】１．光磁気ディスク まず、本発明を適用した光磁気ディスクについて説明す
る。図１に示すように、光磁気ディスク１は、円盤状の
ディスク基板２の上に、第１の誘電体膜３、光磁気膜
４、第２の誘電体膜５及び光反射膜６がこの順に積層形
成されてなり、更に光反射膜６の上に紫外線硬化樹脂等
からなる保護膜７が形成されてなる。
【００２４】ディスク基板２は、ポリカーボネート（Ｐ
Ｃ）やポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等からな
り、グルーブやピットが形成されてなる。第１及び第２
の誘電体膜３，５は、ＳｉＯ2、Ｓｉ3Ｎ4又はＡｌ2Ｏ3
等からなる。光磁気膜４は、ＴｂＦｅＣｏやＧｄＦｅＣ
ｏ等からなり、この光磁気膜４に情報信号が光磁気記録
により記録される。すなわち、この光磁気ディスク１に
おいて、情報信号は光磁気膜４の磁化方向として記録さ
れる。なお、光磁気膜４は、単層構造であっても、多層
構造であってもよい。光反射膜６は、Ａｌ等からなり、
記録再生時に入射光を反射するとともに、光照射により
生じた熱を拡散させる熱拡散膜としても作用する。
【００２５】この光磁気ディスク１の情報記録領域の一
部を拡大した図を図２に示す。なお、図２では、情報記
録領域に形成されるグルーブやピットのフォーマットを
分かりやすく示すために、グルーブ及びピットだけを図
示し、ディスク基板２の上に形成される積層膜構造につ
いては図示を省略している。
【００２６】図２に示すように、光磁気ディスク１は、
情報信号の書き込みが可能とされた書込可能領域Ｗと、
情報信号に対応したピットＰが記録トラックに沿って予
め形成されてなる再生専用領域Ｒとを備える。
【００２７】書込可能領域Ｗは、光磁気記録により情報
信号の書き換えを繰り返し行うことが可能な領域であ
る。この書込可能領域Ｗには、記録トラックに沿って、
ウォブリンググルーブＧｗ及びストレートグルーブＧｓ
がダブルスパイラル状に形成されており、それらのグル
ーブＧｗ，Ｇｓの間のランドＬの部分に情報信号の書き
込みがなされる。
【００２８】この書込可能領域Ｗにおいて、隣接するウ
ォブリンググルーブＧｗとストレートグルーブＧｓの間
隔、すなわちトラックピッチＴｐ１は、例えば０．９５
μｍとする。なお、隣接するストレートグルーブＧｓの
間隔、すなわちトラックピリオドＴｐｒは、トラックピ
ッチＴｐ１の２倍であり、例えば１．９０μｍとする。
【００２９】そして、書込可能領域Ｗに形成するグルー
ブＧｗ，Ｇｓは、それらの幅をＷｇとし、書込可能領域
Ｗにおける記録トラックのトラックピッチをＴｐ１とし
たときに、Ｗｇ／Ｔｐ１が１８．４％〜３１．１％の範
囲内となるようにする。したがって、例えば、上述のよ
うにトラックピッチＴｐ１を０．９５μｍとした場合に
は、グルーブＧｗ，Ｇｓの幅を１７５ｎｍ〜２９５ｎｍ
の範囲内とする。
【００３０】また、書込可能領域Ｗに形成するグルーブ
Ｇｗ，Ｇｓの深さは、λ／７．５ｎ〜λ／６．０ｎの範
囲内とする。ここで、ｎは、光磁気ディスク１の光入射
面からグルーブＧｗ，Ｇｓが形成された面に至る媒質の
屈折率、すなわちディスク基板２の屈折率であり、λ
は、光磁気ディスク１の記録再生に使用される光の波長
である。したがって、例えば、ディスク基板２の屈折率
ｎ＝１．５８、光磁気ディスク１の記録再生に使用され
る光の波長λ＝６６０ｎｍの場合、書込可能領域Ｗに形
成するグルーブＧｗ，Ｇｓの深さは、５６ｎｍ〜７０ｎ
ｍの範囲内とする。
【００３１】また、書込可能領域Ｗには、２つのグルー
ブＧｗ，Ｇｓがダブルスパイラル状に形成されており、
それらのうちの一方が、少なくとも一部が蛇行するよう
に形成されたウォブリンググルーブＧｗとされている。
ウォブリンググルーブＧｗは、グルーブを蛇行させるこ
とによりグルーブ自体にアドレス情報を付加したグルー
ブであり、以下の説明では、このようにグルーブ自体に
付加されたアドレス情報のことを、ウォブリングアドレ
ス情報と称する。
【００３２】このウォブリンググルーブＧｗの振幅Ａ
は、書込可能領域Ｗにおける記録トラックのトラックピ
ッチをＴｐ１としたときに、Ａ／Ｔｐ１が±１．６８％
〜±２．５３％の範囲内となるようにする。したがっ
て、例えば、上述のようにトラックピッチＴｐ１を０．
９５μｍとした場合には、ウォブリンググルーブＧｗの
振幅Ａは、±１６ｎｍ〜±２４ｎｍの範囲内とする。
【００３３】一方、再生専用領域Ｒは、情報信号に対応
したピットＰが記録トラックに沿って形成されてなる領
域であり、新たな情報信号が書き込まれることはなく、
多数のピットＰからなるピット列として予め記録された
情報信号の再生のみが可能となっている。
【００３４】この再生専用領域Ｒにおいて、隣接するピ
ット列の間隔、すなわちトラックピッチＴｐ２は、例え
ば０．９５μｍとする。そして、再生専用領域Ｒに形成
するピットＰは、その幅をＷｐとし、再生専用領域Ｒに
おける記録トラックのトラックピッチをＴｐ２としたと
きに、Ｗｐ／Ｔｐ２が３５．７％〜４４．３％の範囲内
となるようにする。したがって、例えば、上述のように
トラックピッチＴｐ２を０．９５μｍとした場合には、
ピットＰの幅を３３９ｎｍ〜４２１ｎｍの範囲内とす
る。
【００３５】また、再生専用領域Ｒに形成するピットＰ
の深さは、書込可能領域Ｗに形成するグルーブＧｗ，Ｇ
ｓの深さと同様に、λ／７．５ｎ〜λ／６．０ｎの範囲
内とする。したがって、例えば、ディスク基板２の屈折
率ｎ＝１．５８、光磁気ディスク１の記録再生に使用さ
れる光の波長λ＝６６０ｎｍの場合、再生専用領域Ｒに
形成するピットＰの深さは、５６ｎｍ〜７０ｎｍの範囲
内とする。
【００３６】以上のような光磁気ディスク１では、トラ
ックピッチＴｐ１，Ｔｐ２を例えば０．９５μｍ程度に
まで狭めたとしても、グルーブＧｗ，Ｇｓ及びピットＰ
の深さや幅を上述のように規定することにより、後述す
る評価結果からも分かるように、記録再生を行うのに必
要な各種信号を十分なレベルにて得ることができる。
【００３７】２．光磁気ディスクの製造方法 つぎに、上記光磁気ディスク１の製造方法について、具
体的な例を挙げて詳細に説明する。
【００３８】光磁気ディスク１を製造する際は、先ず、
原盤工程として、光磁気ディスク１に形成されるグルー
ブＧｗ，ＧｓやピットＰに対応した凹凸パターンを有す
る光記録媒体製造用原盤を作製する。
【００３９】原盤工程では、先ず、表面を研磨した円盤
状のガラス基板を洗浄し乾燥させ、その後、このガラス
基板上に感光材料であるフォトレジストを塗布する。次
に、このフォトレジストをレーザカッティング装置によ
って露光し、光磁気ディスク１に形成されるグルーブＧ
ｗ，Ｇｓ及びピットＰに対応した潜像をフォトレジスト
に形成する。なお、レーザカッティング装置について
は、後で詳細に説明する。
【００４０】そして、フォトレジストに潜像を形成した
ら、次に、フォトレジストが塗布されている面が上面と
なるように、ガラス基板を現像機のターンテーブル上に
載置する。そして、ターンテーブルを回転させることに
よりガラス基板を回転させながら、フォトレジスト上に
現像液を滴下して現像処理を施して、ガラス基板上にグ
ルーブＧｗ，Ｇｓ及びピットＰに対応した凹凸パターン
を形成する。
【００４１】次に、上記凹凸パターン上に無電解メッキ
法によりＮｉ等からなる導電化膜を形成し、その後、導
電化膜が形成されたガラス基板を電鋳装置に取り付け、
電解メッキ法により導電化膜上にＮｉ等からなるメッキ
層を、３００±５μｍ程度の厚さとなるように形成す
る。その後、このメッキ層を剥離し、剥離したメッキを
アセトン等を用いて洗浄し、凹凸パターンが転写された
面に残存しているフォトレジストを除去する。
【００４２】以上の工程により、ガラス基板上に形成さ
れていた凹凸パターンが転写されたメッキからなる光記
録媒体製造用原盤が完成する。なお、この光記録媒体製
造用原盤は、本発明に係る光記録媒体製造用原盤の実施
の形態の一つであり、光磁気ディスク１の書込可能領域
Ｗに形成されるグルーブＧｗ，Ｇｓに対応した凹凸パタ
ーンと、光磁気ディスク１の再生専用領域Ｒに形成され
るピットＰに対応した凹凸パターンとが形成されてな
る。
【００４３】次に、転写工程として、フォトポリマー法
（いわゆる２Ｐ法）により、上記光記録媒体製造用原盤
の表面形状が転写されてなるディスク基板２を作製す
る。具体的には、先ず、光記録媒体製造用原盤の凹凸パ
ターンが形成された面上にフォトポリマーを平滑に塗布
してフォトポリマー層を形成し、次に、当該フォトポリ
マー層に泡やゴミが入らないようにしながら、フォトポ
リマー層上に、ポリカーボネートやポリメチルメタクリ
レート等からなるベースプレートを密着させる。その
後、紫外線を照射してフォトポリマーを硬化させ、フォ
トポリマー層の硬化後、光記録媒体製造用原盤を剥離す
ることにより、光記録媒体製造用原盤の表面形状が転写
されてなるディスク基板２を作製する。
【００４４】なお、ここでは、光記録媒体製造用原盤に
形成された凹凸パターンがより正確にディスク基板２に
転写されるように、２Ｐ法を用いてディスク基板２を作
製する例を挙げたが、ディスク基板２を量産するような
場合には、ポリメチルメタクリレートやポリカーボネー
ト等の透明樹脂を用いて射出成形によってディスク基板
２を作製するようにしても良い。
【００４５】次に、成膜工程として、光記録媒体製造用
原盤の表面形状が転写されてなるディスク基板２の上
に、第１の誘電体膜３、光磁気膜４、第２の誘電体膜
５、光反射膜６及び保護膜７を形成する。
【００４６】具体的には例えば、先ず、ディスク基板２
の凹凸パターンが形成された面上に、Ｓｉ3Ｎ4、ＳｉＯ
2又はＡｌ2Ｏ3等からなる第１の誘電体膜３と、ＴｅＦ
ｅＣｏ又はＧｄＦｅＣｏ等からなる光磁気膜４と、Ｓｉ
3Ｎ4、ＳｉＯ2又はＡｌ2Ｏ3等からなる第２の誘電体膜
５と、Ａｌ等からなる光反射膜６とをこの順にスパッタ
リング法により積層形成する。次に、紫外線硬化樹脂等
からなる保護膜材料を光反射膜６の上にスピンコート法
により塗布し、当該紫外線硬化樹脂に対して紫外線を照
射し硬化させることにより、保護膜７を形成する。
【００４７】以上の工程により、光磁気ディスク１が完
成する。
【００４８】３．レーザカッティング装置 以上のような光磁気ディスク１を製造する際には、上述
したように、光記録媒体製造用原盤を作製する際に、レ
ーザカッティング装置が使用される。以下、レーザカッ
ティング装置の一例について、図３を参照して詳細に説
明する。
【００４９】図３に示したレーザカッティング装置１０
は、ガラス基板１１の上に塗布されたフォトレジスト１
２を露光して、フォトレジスト１２に潜像を形成するた
めのものである。このレーザカッティング装置１０でフ
ォトレジスト１２に潜像を形成する際、フォトレジスト
１２が塗布されたガラス基板１１は、移動光学テーブル
上に設けられた回転駆動装置に取り付けられる。そし
て、フォトレジスト１２を露光する際、ガラス基板１１
は、フォトレジスト１２の全面にわたって所望のパター
ンでの露光がなされるように、図中矢印Ｃ１に示すよう
に回転駆動装置によって回転駆動されるとともに、移動
光学テーブルによって平行移動される。
【００５０】このレーザカッティング装置１０は、３つ
の露光ビームによってフォトレジスト１２を露光するこ
とが可能となっており、これらの露光ビームにより、光
磁気ディスク１に形成されるグルーブＧｗ，Ｇｓやピッ
トＰに対応した潜像を形成する。
【００５１】このレーザカッティング装置１０は、レー
ザ光を出射する光源１３と、光源１３から出射されたレ
ーザ光の光強度を調整するための電気光学変調器（ＥＯ
Ｍ：Electro Optical Modulator）１４と、電気光学変
調器１４から出射されたレーザ光の光軸上に配された検
光子１５と、検光子１５を透過してきたレーザ光を反射
光と透過光とに分割する第１のビームスプリッタ１６
と、第１のビームスプリッタ１６を透過してきたレーザ
光を反射光と透過光とに分割する第２のビームスプリッ
タ１７と、第２のビームスプリッタ１７を透過してきた
レーザ光を反射光と透過光とに分割する第３のビームス
プリッタ１８と、第３のビームスプリッタ１８を透過し
てきたレーザ光を検出するフォトディテクタ（ＰＤ：Ph
oto Detector）１９と、電気光学変調器１４に対して信
号電界を印加して当該電気光学変調器１４から出射され
るレーザ光強度を調整するオートパワーコントローラ
（ＡＰＣ：Auto Power Controller）２０とを備えてい
る。
【００５２】このレーザカッティング装置１０におい
て、光源１３から出射されたレーザ光は、先ず、オート
パワーコントローラ２０から印加される信号電界によっ
て駆動される電気光学変調器１４によって所定の光強度
とされた上で検光子１５に入射する。ここで、検光子１
５はＳ偏光だけを透過するようになされており、この検
光子１５を透過してきたレーザ光はＳ偏光となる。
【００５３】なお、光源１３には、任意のものが使用可
能であるが、比較的に短波長のレーザ光を出射するもの
が好ましい。具体的には、例えば、波長λが４１３ｎｍ
のレーザ光を出射するＫｒレーザや、波長λが４４２ｎ
ｍのレーザ光を出射するＨｅ−Ｃｄレーザなどが、光源
１３として好適である。
【００５４】検光子１５を透過してきたＳ偏光のレーザ
光は、先ず、第１のビームスプリッタ１６によって反射
光と透過光とに分けられ、更に、第１のビームスプリッ
タ１６を透過したレーザ光は、第２のビームスプリッタ
１７によって反射光と透過光とに分けられ、更に、第２
のビームスプリッタ１７を透過したレーザ光は、第３の
ビームスプリッタ１８によって反射光と透過光とに分け
られる。
【００５５】なお、このレーザカッティング装置１０で
は、第１のビームスプリッタ１６によって反射されたレ
ーザ光が、ピットＰに対応した潜像を形成するための第
１の露光ビームとなる。また、第２のビームスプリッタ
１７によって反射されたレーザ光が、ウォブリンググル
ーブＧｗに対応した潜像を形成するための第２の露光ビ
ームとなる。また、第３のビームスプリッタ１８によっ
て反射されたレーザ光が、ストレートグルーブＧｓに対
応した潜像を形成するための第３の露光ビームとなる。
【００５６】一方、第３のビームスプリッタ１８を透過
したレーザ光は、フォトディテクタ１９によって、その
光強度が検出され、当該光強度に応じた信号がフォトデ
ィテクタ１９からオートパワーコントローラ２０に送ら
れる。オートパワーコントローラ２０は、フォトディテ
クタ１９から送られてきた信号に応じて、フォトディテ
クタ１９によって検出される光強度が所定のレベルにて
一定となるように、電気光学変調器１４に対して印加す
る信号電界を調整する。これにより、電気光学変調器１
４から出射するレーザ光の光強度が一定となるように、
自動光量制御（ＡＰＣ：Auto Power Control）が施さ
れ、ノイズの少ない安定したレーザ光が得られる。
【００５７】また、このレーザカッティング装置１０
は、第１のビームスプリッタ１６によって反射されたレ
ーザ光を光強度変調するための第１の変調光学系２１
と、第２のビームスプリッタ１７によって反射されたレ
ーザ光を光強度変調するための第２の変調光学系２２
と、第３のビームスプリッタ１８によって反射されたレ
ーザ光を光強度変調するための第３の変調光学系２３
と、第１乃至第３の変調光学系２１，２２，２３によっ
て光強度変調が施された各レーザ光を再合成してフォト
レジスト１２上に集光するための光学系２４とを備えて
いる。
【００５８】そして、第１のビームスプリッタ１６によ
って反射されてなる第１の露光ビームは、第１の変調光
学系２１に導かれ、第１の変調光学系２１によって光強
度変調が施される。同様に、第２のビームスプリッタ１
７によって反射されてなる第２の露光ビームは、第２の
変調光学系２２に導かれ、第２の変調光学系２２によっ
て光強度変調が施される。同様に、第３のビームスプリ
ッタ１８によって反射されてなる第３の露光ビームは、
第３の変調光学系２３に導かれ、第３の変調光学系２３
によって光強度変調が施される。
【００５９】第１の変調光学系２１に入射した第１の露
光ビームは、集光レンズ２５によって集光された上で、
酸化テルル（ＴｅＯ2）等からなる音響光学素子を用い
て光強度変調を行う音響光学変調器（ＡＯＭ：Acousto
Optical Modulator）２６に入射し、この音響光学変調
器２６によって、所望する露光パターンに対応するよう
に光強度変調される。すなわち、第１の露光ビームは、
再生専用領域Ｒに形成されるピットＰのパターンに対応
するように、音響光学変調器２６により光強度変調され
る。そして、音響光学変調器２６によって光強度変調さ
れた第１の露光ビームは、コリメートレンズ２７によっ
て平行光とされた上で、第１の変調光学系２１から出射
される。
【００６０】ここで、音響光学変調器２６には、当該音
響光学変調器２６を駆動するための駆動用ドライバ２８
が取り付けられている。そして、フォトレジスト１２の
露光時には、所望する露光パターンに応じた信号Ｓ１、
すなわち再生専用領域Ｒに形成されるピットＰのパター
ンに対応した信号Ｓ１が駆動用ドライバ２８に入力さ
れ、当該信号Ｓ１に応じて駆動用ドライバ２８によって
音響光学変調器２６が駆動され、第１の露光ビームに対
して光強度変調が施される。
【００６１】また、第２の変調光学系２２に入射した第
２の露光ビームは、集光レンズ２９によって集光された
上で、酸化テルル（ＴｅＯ2）等からなる音響光学素子
を用いて光強度変調を行う音響光学変調器３０に入射
し、この音響光学変調器３０によって、所望する露光パ
ターンに対応するように光強度変調される。すなわち、
第２の露光ビームは、書込可能領域Ｗに形成されるウォ
ブリンググルーブＧｗのパターンに対応するように、音
響光学変調器３０により光強度変調される。そして、音
響光学変調器３０によって光強度変調された第２の露光
ビームは、コリメートレンズ３１によって平行光とされ
た上で、第２の変調光学系２２から出射される。
【００６２】ここで、音響光学変調器３０には、当該音
響光学変調器３０を駆動するための駆動用ドライバ３２
が取り付けられている。そして、フォトレジスト１２の
露光時には、所望する露光パターンに応じた信号Ｓ２、
すなわち書込可能領域Ｗに形成されるウォブリンググル
ーブＧｗのパターンに対応した一定レベルの信号Ｓ２が
駆動用ドライバ３２に入力され、当該信号Ｓ２に応じて
駆動用ドライバ３２によって音響光学変調器３０が駆動
され、第２の露光ビームに対して光強度変調が施され
る。
【００６３】また、第３の変調光学系２３に入射した第
３の露光ビームは、集光レンズ３３によって集光された
上で、酸化テルル（ＴｅＯ2）等からなる音響光学素子
を用いて光強度変調を行う音響光学変調器３４に入射
し、この音響光学変調器３４によって、所望する露光パ
ターンに対応するように光強度変調される。そして、音
響光学変調器３４によって光強度変調された第３の露光
ビームは、コリメートレンズ３５によって平行光とされ
るとともに、λ／２波長板３６を透過することにより偏
光方向が９０°回転させられた上で、第３の変調光学系
２３から出射される。
【００６４】ここで、音響光学変調器３４には、当該音
響光学変調器３４を駆動するための駆動用ドライバ３７
が取り付けられている。そして、フォトレジスト１２の
露光時には、所望する露光パターンに応じた信号Ｓ３、
すなわち書込可能領域Ｗに形成されるストレートグルー
ブＧｓのパターンに対応した一定レベルの信号Ｓ３が駆
動用ドライバ３７に入力され、当該信号Ｓ３に応じて駆
動用ドライバ３７によって音響光学変調器３４が駆動さ
れ、第３の露光ビームに対して光強度変調が施される。
【００６５】以上のようにして、第１の露光ビームは、
再生専用領域Ｒに形成するピットＰのパターンに対応す
るように、第１の変調光学系２１によって光強度変調が
施され、また、第２の露光ビームは、書込可能領域Ｗに
形成するウォブリンググルーブＧｗのパターンに対応す
るように、第２の変調光学系２２によって光強度変調が
施され、また、第３の露光ビームは、書込可能領域Ｗに
形成するストレートグルーブＧｓのパターンに対応する
ように、第３の変調光学系２３によって光強度変調が施
される。
【００６６】このとき、第１の変調光学系２１から出射
する第１の露光ビーム、及び第２の変調光学系２２から
出射する第２の露光ビームは、Ｓ偏光のままであるが、
第３の変調光学系２３から出射する第３の露光ビーム
は、λ／２波長板３６を透過することにより偏光方向が
９０°回転させられているので、Ｐ偏光となっている。
【００６７】そして、第１の変調光学系２１から出射し
た第１の露光ビームは、ミラー４０によって反射され、
移動光学テーブル上に水平且つ平行に導かれる。同様
に、第２の変調光学系２２から出射した第２の露光ビー
ムは、ミラー４１によって反射され、移動光学テーブル
上に水平且つ平行に導かれる。同様に、第３の変調光学
系２３から出射した第３の露光ビームは、ミラー４２に
よって反射され、移動光学テーブル上に水平且つ平行に
導かれる。
【００６８】第１の変調光学系２１から出射し、移動光
学テーブル上に水平且つ平行に導かれた第１の露光ビー
ムは、ミラー４３によって反射されて進行方向が９０°
曲げられた上で、ハーフミラー４４を介して偏光ビーム
スプリッタ４５に入射する。また、第２の変調光学系２
２から出射し、移動光学テーブル上に水平且つ平行に導
かれた第２の露光ビームは、偏向光学系４６によって光
学偏向が施された上で、ハーフミラー４４によって反射
されて進行方向が９０°曲げられた上で偏光ビームスプ
リッタ４５に入射する。また、第３の変調光学系２３か
ら出射し、移動光学テーブル上に水平且つ平行に導かれ
た第３の露光ビームは、そのまま偏光ビームスプリッタ
４５に入射する。
【００６９】ここで、偏向光学系４６は、書込可能領域
Ｗに形成するウォブリンググルーブＧｗの蛇行に対応す
るように、第２の露光ビームに対して光学偏向を施すた
めのものである。すなわち、第２の変調光学系２２から
出射し偏向光学系４６に入射した第２の露光ビームは、
ウェッジプリズム４７を介して、酸化テルル（Ｔｅ
Ｏ2）等からなる音響光学素子を用いて光学偏向を行う
音響光学偏向器（ＡＯＤ：Acousto Optical Deflecto
r）４８に入射し、この音響光学偏向器４８によって、
ウォブリンググルーブＧｗの蛇行に対応するように光学
偏向が施される。そして、音響光学偏向器４８によって
光学偏向が施された第２の露光ビームは、ウエッジプリ
ズム４９を介して偏向光学系４６から出射される。
【００７０】なお、ウェッジプリズム４７，４９は、音
響光学偏向器４８の音響光学素子の格子面に対してブラ
ッグ条件を満たすように第２の露光ビームが入射するよ
うにするとともに、音響光学偏向器４８によって第２の
露光ビームに対して光学偏向を施したとしてもビーム水
平高さが変わらないようにするためのものである。換言
すれば、ウエッジプリズム４７、音響光学偏向器４８及
びウエッジプリズム４９は、音響光学偏向器４８の音響
光学素子の格子面が第２の露光ビームに対してブラッグ
条件を満たし、且つ、偏向光学系４６から出射される第
２の露光ビームのビーム水平高さが変わらないように配
置される。
【００７１】ここで、音響光学偏向器４８には、当該音
響光学偏向器４８を駆動するための駆動用ドライバ５０
が取り付けられており、当該駆動用ドライバ５０には、
電圧制御発振器（ＶＣＯ：Voltage Controlled Oscilla
tor）５１からの高周波信号が、アドレス情報を含む制
御信号Ｓ４によりＦＭ変調され供給される。そして、フ
ォトレジスト１２の露光時には、所望する露光パターン
に応じた信号が、電圧制御発振器５１から駆動用ドライ
バ５０に入力され、当該信号に応じて駆動用ドライバ５
０によって音響光学偏向器４８が駆動され、これによ
り、第２の露光ビームに対して光学偏向が施される。
【００７２】そして、偏向光学系４６によって光学偏向
が施された第２の露光ビームは、上述したように、ハー
フミラー４４によって反射されて進行方向が９０°曲げ
られた上で偏光ビームスプリッタ４５に入射する。
【００７３】ここで、偏光ビームスプリッタ４５は、Ｓ
偏光を反射し、Ｐ偏光を透過するようになされている。
そして、第１の変調光学系２１から出射された第１の露
光ビーム、並びに第２の変調光学系２２から出射され偏
向光学系４６によって光学偏向が施された第２の露光ビ
ームは、Ｓ偏光であり、また、第３の変調光学系２３か
ら出射された第３の露光ビームはＰ偏光である。したが
って、第１及び第２の露光ビームは、偏光ビームスプリ
ッタ４５によって反射され、第３の露光ビームは、偏光
ビームスプリッタ４５を透過する。これにより、第１の
変調光学系２１から出射された第１の露光ビームと、第
２の変調光学系２２から出射され偏向光学系４６によっ
て光学偏向が施された第２の露光ビームと、第３の変調
光学系２３から出射された第３の露光ビームとは、進行
方向が同一方向となるように再合成される。
【００７４】進行方向が同一方向となるように再合成さ
れて偏光ビームスプリッタ４５から出射した第１乃至第
３の露光ビームは、拡大レンズ５２によって所定のビー
ム径とされた上でミラー５３によって反射されて対物レ
ンズ５４へと導かれ、当該対物レンズ５４によってフォ
トレジスト１２上に集光される。これにより、フォトレ
ジスト１２が露光され、フォトレジスト１２に潜像が形
成されることとなる。
【００７５】このとき、フォトレジスト１２が塗布され
ているガラス基板１１は、上述したように、フォトレジ
スト１２の全面にわたって所望のパターンでの露光がな
されるように、図中矢印Ｃ１に示すように回転駆動装置
によって回転駆動されるとともに、移動光学テーブルに
よって平行移動される。この結果、第１乃至第３の露光
ビームの照射軌跡に応じた潜像が、フォトレジスト１２
の全面にわたって形成されることとなる。
【００７６】なお、フォトレジスト１２を露光する際
に、３つの露光ビームの全てを常に使うとは限らない。
例えば、再生専用領域Ｒに形成されるピットＰに対応し
た潜像の形成を行う場合には、第１の露光ビームだけを
用い、書込可能領域Ｗに形成されるグルーブＧｗ，Ｇｓ
に対応した潜像の形成を行う場合には、第２及び第３の
露光ビームだけを用いる。そこで、第１の露光ビームが
不要の場合には、第１の変調光学系２１の音響光学変調
器２６により第１の露光ビームを遮光する。同様に、第
２の露光ビームが不要の場合には、第２の変調光学系２
２の音響光学変調器３０により第２の露光ビームを遮光
する。同様に、第３の露光ビームが不要の場合には、第
３の変調光学系２３の音響光学変調器３４により第３の
露光ビームを遮光する。
【００７７】以上のようなレーザカッティング装置１０
では、再生専用領域Ｒに形成するピットＰに対応した潜
像を形成するための第１の露光ビームに対応した光学系
と、書込可能領域Ｗに形成するウォブリンググルーブＧ
ｗに対応した潜像を形成するための第２の露光ビームに
対応した光学系と、書込可能領域Ｗに形成するストレー
トグルーブＧｓに対応した潜像を形成するための第３の
露光ビームに対応した光学系とを備えているので、この
レーザカッティング装置１０だけで、ピットＰに対応し
た潜像と、ウォブリンググルーブＧｗに対応した潜像
と、ストレートグルーブＧｓに対応した潜像とをまとめ
て形成することができる。
【００７８】また、このレーザカッテング装置１０で
は、ミラー４３、ハーフミラー４４及び偏光ビームスプ
リッタ４５の向きを調整することにより、第１乃至第３
の露光ビームを対物レンズ５４によりフォトレジスト１
２上に集光する際に、それらの露光ビームに対応する各
スポットの相対的な位置を調整することができる。
【００７９】例えば、ウォブリンググルーブＧｗに対応
した潜像の第２の露光ビームによる形成と、ストレート
グルーブＧｓに対応した潜像の第３の露光ビームによる
形成とを同時に行うときに、ミラー４３、ハーフミラー
４４及び偏光ビームスプリッタ４５の向きを調整するこ
とで、第２の露光ビームによるスポットと、第３の露光
ビームによるスポットとの相対的な位置を制御すること
ができ、これにより、ウォブリンググルーブＧｗとスト
レートグルーブＧｓの間隔（すなわちトラックピッチＴ
ｐ１）を、精度良く所望する間隔とすることができる。
【００８０】また、このレーザカッティング装置１０に
おいて、第１の変調光学系２１のコリメートレンズ２７
の焦点距離を変えることにより、光磁気ディスク１の再
生専用領域Ｒに形成するピットＰの幅を調整することが
できる。すなわち、コリメートレンズ２７の焦点距離を
変えて、第１の露光ビームのビーム径を小さくすること
により、ピットＰの幅を狭くすることができ、また、第
１の露光ビームのビーム径を大きくすることにより、ピ
ットＰの幅を広くすることができる。
【００８１】また、第２の変調光学系２２のコリメート
レンズ３１の焦点距離を変えることにより、光磁気ディ
スクの書込可能領域Ｗに形成するウォブリンググルーブ
Ｇｗの幅を調整することができる。すなわち、コリメー
トレンズ３１の焦点距離を変えて、第２の露光ビームの
ビーム径を小さくすることにより、ウォブリンググルー
ブＧｗの幅を狭くすることができ、また、第２の露光ビ
ームのビーム径を大きくすることにより、ウォブリング
グルーブＧｗの幅を広くすることができる。
【００８２】また、第３の変調光学系のコリメートレン
ズ３５の焦点距離を変えることにより、光磁気ディスク
の書込可能領域Ｗに形成するストレートグルーブＧｓの
幅を調整することができる。すなわち、コリメートレン
ズ３５の焦点距離を変えて、第３の露光ビームのビーム
径を小さくすることにより、ストレートグルーブＧｓの
幅を狭くすることができ、また、第３の露光ビームのビ
ーム径を大きくすることにより、ストレートグルーブＧ
ｓの幅を広くすることができる。
【００８３】なお、ピットＰ、ウォブリンググルーブＧ
ｗ及びストレートグルーブＧｓの幅は、露光ビームのパ
ワーを変えることにより調整することもできる。すなわ
ち、第１の露光ビームのパワーを高めることにより、ピ
ットＰの幅を広くすることができ、第１の露光ビームの
パワーを弱めることにより、ピットＰの幅を狭くするこ
とができる。また、第２の露光ビームのパワーを高める
ことにより、ウォブリンググルーブＧｗの幅を広くする
ことができ、第２の露光ビームのパワーを弱めることに
より、ウォブリンググルーブＧｗの幅を狭くすることが
できる。また、第３の露光ビームのパワーを高めること
により、ストレートグルーブＧｓの幅を広くすることが
でき、第３の露光ビームのパワーを弱めることにより、
ストレートグルーブＧｓの幅を狭くすることができる。
【００８４】ところで、このレーザカッテング装置１０
において、露光ビームをフォトレジスト１２の上に集光
するための対物レンズ５４は、より微細なピットＰやグ
ルーブＧｗ，Ｇｓに対応した潜像を形成できるようにす
るために、開口数ＮＡが大きい方が好ましく、具体的に
は、開口数ＮＡが０．９程度のものが好適である。ま
た、このレーザカッティング装置１０において、露光ビ
ームをフォトレジスト１２に照射する際は、必要に応じ
て、拡大レンズ５２によって露光ビームのビーム径を変
化させ、対物レンズ５４に対する有効開口数を調整す
る。これにより、フォトレジスト１２の表面に集光され
る露光ビームのスポット径を調整することができる。
【００８５】４．光学ヘッド つぎに、上記光磁気ディスク１の記録再生を行う際に使
用される光学ヘッド、並びに当該光学ヘッドにより記録
再生に必要な各種信号を検出する方法について説明す
る。
【００８６】上記光磁気ディスク１の記録再生を行う際
に使用される光学ヘッドの一例を図４に示す。この光学
ヘッド７０は、光磁気ディスク１の記録再生時に、半導
体レーザ７１から直線偏光のレーザ光を出射する。この
レーザ光は、コリメートレンズ７２で平行光とされた上
でグレーティング７３に入射し、当該グレーティング７
３により、０次光及び±１次光の３つのビームに分けら
れる。以下、グレーティング７３からの０次光を主ビー
ムと呼び、±１次光を副ビームと呼ぶ。
【００８７】主ビーム及び副ビームは、偏光ビームスプ
リッタ７４を透過し、１／４波長板７５に入射する。そ
して、１／４波長板７５を透過することで円偏光とな
る。その後、円偏光となったこれらのビームは、対物レ
ンズ７６により光磁気ディスク１上に集光され、光磁気
ディスク１上に３つの光スポットが形成される。
【００８８】これらの光スポットのうち、主ビームの光
スポット（真ん中の光スポット）は、主に情報信号の読
み出しや書き込みに使用され、副ビームの光スポット
は、主にトラッキングエラーの検出用に使用される。
【００８９】そして、光磁気ディスク１によって反射さ
れて戻ってきた戻り光は、対物レンズ７６を介して再び
１／４波長板７５に入射し、１／４波長板７５を透過す
ることで直線偏光となる。その後、戻り光は、偏光ビー
ムスプリッタ７４に入射し、当該偏光ビームスプリッタ
７４によって反射され取り出される。
【００９０】偏光ビームスプリッタ７４によって反射さ
れ取り出された戻り光は、偏光ビームスプリッタ７８に
入射し、当該偏光ビームスプリッタ７８により、Ｓ偏光
成分とＰ偏光成分とに偏光分離される。
【００９１】偏光ビームスプリッタ７８で偏光分離され
てなる一方の偏光成分は、組み合わせレンズ７９に入射
する。組み合わせレンズ７９に入射した戻り光は、当該
組み合わせレンズ７９により集光され、戻り光に非点収
差を与えるレンズを介して、フォトディテクタ８０に入
射し、当該フォトディテクタ８０によって検出される。
【００９２】ここで、フォトディテクタ８０は、主ビー
ムの戻り光を受光する第１の受光部８０ａと、一方の副
ビームの戻り光を受光する第２の受光部８０ｂと、他方
の副ビームの戻り光を受光する第３の受光部８０ｃとを
備える。そして、第１の受光部８０ａは、受光面が４分
割されており、４つのディテクタＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄを備え
ている。第２の受光部８０ｂは、受光面が２分割されて
おり、２つのディテクタＥ，Ｆを備えている。第３の受
光部８０ｃは、受光面が２分割されており、２つのディ
テクタＧ，Ｈを備えている。すなわち、フォトディテク
タ８０は、８つのディテクタＡ〜Ｈを有し、ディテクタ
Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄにより主ビームの戻り光を検出し、ディ
テクタＥ，Ｆにより一方の副ビームの戻り光を検出し、
ディテクタＧ，Ｈにより他方の副ビームの戻り光を検出
する。
【００９３】また、偏光ビームスプリッタ７８で偏光分
離されてなる他方の偏光成分は、レンズ８１に入射し、
当該レンズ８１により集光される。そして、レンズ８１
により集光された戻り光は、フォトディテクタ８２に入
射し、当該フォトディテクタ８２によって検出される。
ここで、フォトディテクタ８２は、１つのディテクタＩ
を有し、主ビームの戻り光をディテクタＩにより検出す
る。
【００９４】なお、この光学ヘッド７０が搭載される光
記録再生装置は、図４に示すように、光磁気記録を行う
ための磁気ヘッド８３も備えている。磁気ヘッド８３
は、光磁気ディスク１を挟んで対物レンズ７６に対向す
る位置に配置され、光磁気記録を行う際に、記録する情
報信号に対応した磁界を光磁気ディスク１に印加する。
【００９５】以上のような光学ヘッド７０において、フ
ォトディテクタ８０及びフォトディテクタ８２の各ディ
テクタＡ〜Ｉは、入射光の光強度に応じた電気信号を出
力する。そして、この光学ヘッド７０は、各ディテクタ
Ａ〜Ｉから出力された電気信号に対して所定の演算処理
を施して、光磁気ディスク１に記録されていた信号を再
生した再生信号や、光スポットの焦点位置を調整するた
めのフォーカスエラー信号や、光スポットを記録トラッ
クに追従させるためのトラッキングエラー信号等を検出
する。
【００９６】ここで、各ディテクタＡ〜Ｉから出力され
る信号をそれぞれＡ〜Ｉとする。このとき、光磁気ディ
スク１の書込可能領域Ｗに光磁気記録方式により記録さ
れた情報信号を再生した信号（以下、光磁気再生信号と
称する。）は、下記式（１）で表される。
【００９７】 光磁気再生信号＝（Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋Ｄ）−Ｉ ・・・（１） また、光磁気ディスク１の再生専用領域ＲにピットＰを
形成することにより予め記録されていた情報信号を再生
した信号（以下、ピット再生信号と称する。）は、下記
式（２）又は（３）で表される。
【００９８】 ピット再生信号＝Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋Ｄ ・・・（２） ピット再生信号＝Ｉ ・・・（３） また、この光学ヘッド７０では、光スポットの焦点位置
を調整するフォーカスサーボを非点収差法により行うよ
うになされており、フォーカスエラー信号は、下記式
（４）で表される。
【００９９】 フォーカスエラー信号＝（Ａ＋Ｃ）−（Ｂ＋Ｄ） ・・・（４） また、この光学ヘッド７０では、光スポットを記録トラ
ックに追従させるトラッキングサーボを、差動プッシュ
プル法（ＤＰＰ法：Differential Push-Pull法）により
行うようになされている。ＤＰＰ法でトラッキングサー
ボを行う際は、グレーティング７３の角度等を調整し
て、図５に示すように、主ビームＳ０を中心として、±
１／２トラックピッチ離れたところに２つの副ビームＳ
１，Ｓ２がそれぞれ入射するようにアライメントする。
そして、一方の副ビームＳ１の戻り光を、フォトディテ
クタ８０のディテクタＥ，Ｆにより検出し、他方の副ビ
ームＳ２の戻り光を、フォトディテクタ８０のディテク
タＧ，Ｈで検出する。
【０１００】なお、図５では、主ビームＳ０及び副ビー
ムＳ１，Ｓ２を再生専用領域Ｒに照射している場合と、
主ビームＳ０及び副ビームＳ１，Ｓ２を書込可能領域Ｗ
に照射している場合との両方を図示している。
【０１０１】そして、ＤＰＰ法では、主ビームの戻り光
の差信号（（Ａ＋Ｄ）−（Ｂ＋Ｃ））と、一方の副ビー
ムの戻り光の差信号（Ｅ−Ｆ）と、他方の副ビームの戻
り光の差信号（Ｇ−Ｈ）とをもとに、差動プッシュプル
信号を検出し、当該差動プッシュプル信号をトラッキン
グエラー信号として用いる。
【０１０２】ここで、差動プッシュプル信号は、下記式
（５）で表され、主ビームの光スポットの照射位置に依
存して、図５中に示すように変化する。そして、この光
学ヘッド７０では、下記式（５）に示す差動プッシュプ
ル信号を、光スポットを記録トラックに追従させるため
のトラッキングエラー信号として用いる。なお、下記式
（５）において、αは予め設定された所定の定数であ
る。
【０１０３】 差動プッシュプル信号＝{(A+D)-(B+C)}-α{(E-F)+(G-H)} ・・・（５） また、この光学ヘッド７０では、光スポットを任意の記
録トラックに移動させるトラックシークを行う際に、光
スポットが横断した記録トラック数をカウントするため
に、クロストラック信号を用いる。
【０１０４】クロストラック信号は、下記式（６）で表
され、主ビームの光スポットの照射位置に依存して、図
５中に示すように変化する。そして、この光学ヘッド７
０では、トラックシーク時に、下記式（６）に示すクロ
ストラック信号に基づいて、光スポットが横断した記録
トラック数をカウントして、光スポットを所望する記録
トラックへと移動させる。
【０１０５】 クロストラック信号＝（Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋Ｄ） ・・・（６） ところで、上記光磁気ディスクでは、書込可能領域Ｗに
ウォブリンググルーブＧｗを形成し、ＦＭ変調されたウ
ォブリングアドレス情報をグルーブ自体に付加してい
る。そして、上記光学ヘッド７０では、このウォブリン
グアドレス情報を、フォトディテクタ８０の第１の受光
部８０ａからの和信号（Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋Ｄ）に基づいて検
出する。
【０１０６】すなわち、ウォブリングアドレス情報を再
生する際は、図４に示すように、フォトディテクタ８０
の第１の受光部８０ａからの和信号（Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋Ｄ）
がバンドパスフィルタ８４に供給され、バンドパスフィ
ルタ８４からの出力信号が波形整形回路８５に供給され
る。波形整形回路８５は、バンドパスフィルタ８４から
の出力信号に基づいてクロック信号を生成し、当該クロ
ック信号をスピンドルモータ制御回路８６に供給する。
クロック信号を受け取ったスピンドルモータ制御回路８
６は、当該クロック信号に基づいてスピンドルモータ８
７を制御し、線速度一定となるように光磁気ディスク１
を回転駆動させる。また、波形整形回路８５からの出力
信号は、ＦＭデコーダ８８に供給される。そして、波形
整形回路８５からの出力信号をＦＭデコーダ８８により
復号することで、ウォブリングアドレス情報が再生され
る。そして、光学ヘッド７０により書込可能領域Ｗへ情
報信号を書き込む際は、このように再生されたウォブリ
ングアドレス情報に基づいてアドレスを確認しながら行
う。
【０１０７】５．光磁気ディスクの評価 つぎに、上記光磁気ディスク１を実際に作製し、上記光
学ヘッド７０を用いて記録再生を行い、その特性を評価
した結果について説明する。なお、ここでは、ピット
Ｐ、ウォブリンググルーブＧｗ及びストレートグルーブ
Ｇｓの深さ及び幅、並びにウォブリンググルーブＧｗの
振幅が異なる複数の評価用光磁気ディスクを作製し、そ
れらの特性を比較して評価した。
【０１０８】５−１．評価用光磁気ディスクの作製 評価用光磁気ディスクは、上述したように、先ず、レー
ザカッティング装置１０を用いて光記録媒体製造用原盤
を作製し、次に、当該光記録媒体製造用原盤を型とし
て、ポリカーボネート（屈折率ｎ＝１．５８）からなる
ディスク基板２を作製し、次に、当該ディスク基板２の
上に、Ｓｉ3Ｎ4からなる第１の誘電体膜３と、ＴｂＦｅ
Ｃｏを主成分とする光磁気膜４と、Ｓｉ3Ｎ4からなる第
２の誘電体膜５と、Ａｌからなる光反射膜６とをスパッ
タリング装置により成膜し、その後、光反射膜６の上に
紫外線効果樹脂からなる保護膜７を形成することで作製
した。
【０１０９】このように作製した評価用光磁気ディスク
において、再生専用領域Ｒには１−７変調を施した情報
信号を多数のピットＰからなるピット列として記録し、
書込可能領域Ｗには、記録トラックに沿ってウォブリン
ググルーブＧｗとストレートグルーブＧｓをダブルスパ
イラル状に形成した。
【０１１０】なお、レーザカッティング装置１０により
ピットＰ、ウォブリンググルーブＧｗ及びストレートグ
ルーブＧｓに対応した潜像をフォトレジスト１２に形成
する際、光源１３には、波長λが４１３ｎｍのレーザ光
を出射するＫｒレーザを用いた。また、第１の変調光学
系２１において、集光レンズ２５には焦点距離が８０ｍ
ｍのものを用い、コリメートレンズ２７には焦点距離が
９０ｍｍのものを用いた。一方、第２及び第３の変調光
学系２２，２３の集光レンズ２９，３３には、焦点距離
が８０ｍｍのものを用い、コリメートレンズ３１，３５
には、焦点距離が１２０ｍｍのものを用いた。また、拡
大レンズ５２には、焦点距離が８０ｍｍのものを用い、
対物レンズ５４には、開口数ＮＡが０．９のものを用い
た。
【０１１１】また、第１の露光ビームによりフォトレジ
スト１２を露光してピットＰに対応した潜像を形成する
際は、ガラス基板１１を回転駆動させるとともに、当該
ガラス基板１１を移動光学テーブルによって平行移動さ
せたが、このときの線速は２．０ｍ／ｓｅｃとし、送り
ピッチは０．９５μｍとした。なお、ここでの送りピッ
チは、再生専用領域ＲのトラックピッチＴｐ２に相当す
る。すなわち、再生専用領域Ｒには、トラックピッチＴ
ｐ２＝０．９５μｍにて、シングルスパイラル状にピッ
ト列を形成した。
【０１１２】また、第２及び第３の露光ビームによりフ
ォトレジスト１２を露光してウォブリンググルーブＧｗ
及びストレートグルーブＧｓに対応した潜像を形成する
際は、ガラス基板１１を回転駆動させるとともに、当該
ガラス基板１１を移動光学テーブルによって平行移動さ
せたが、このときの線速は２．０ｍ／ｓｅｃとし、送り
ピッチは１．９０μｍとした。なお、ここでの送りピッ
チは、書込可能領域ＷのトラックピリオドＴｐｒに相当
する。すなわち、書込可能領域Ｗには、トラックピリオ
ドＴｐｒ＝１．９０μｍ、トラックピッチＴｐ１＝０．
９５μｍにて、ダブルスパイラル状にウォブリンググル
ーブＧｗ及びストレートグルーブＧｓを形成した。
【０１１３】なお、ウォブリンググルーブＧｗに対応し
た潜像を第２の露光ビームにより形成するとともに、ス
トレートグルーブＧｓに対応した潜像を第３の露光ビー
ムにより形成する際は、第２の露光ビームによる光スポ
ットと第３の露光ビームによる光スポットとの間隔がト
ラックピッチＴｐ１に相当するように、ミラー４３、ハ
ーフミラー４４及び偏光ビームスプリッタ４５の向きを
調整し、これにより、ウォブリンググルーブＧｗとスト
レートグルーブＧｓがダブルスパイラル状となるように
した。
【０１１４】また、ウォブリンググルーブＧｗに対応す
る潜像をフォトレジスト１２に形成する際は、第２の露
光ビームに対して偏向光学系４６により光学偏向を施し
た。具体的には、中心周波数が２２４ＭＨｚの高周波信
号を、周波数８４．６７２ｋＨｚのアドレス情報を含む
制御信号にてＦＭ変調し、この変調信号を、偏向光学系
４６の電圧制御発振器５１から駆動用ドライバ５０に供
給した。そして、この変調信号に基づいて、駆動用ドラ
イバ５０によって音響光学偏向器４８を駆動し、当該音
響光学偏向器４８の音響光学素子のブラッグ角を変化さ
せ、これにより、第２の露光ビームに対して光学偏向を
施した。
【０１１５】なお、第２の露光ビームに対して偏向光学
系４６により光学偏向を施す際に、音響光学偏向器４８
による光学偏向の振幅を変化させることで、ウォブリン
ググルーブＧｗの振幅を変化させることができる。そこ
で、ウォブリンググルーブＧｗの振幅が異なる複数の評
価用光磁気ディスクを作製する際は、第２の露光ビーム
に対して偏向光学系４６により光学偏向を施す際に、音
響光学偏向器４８による光学偏向の振幅を変化させるよ
うにした。具体的には、ウォブリンググルーブＧｗの振
幅Ａが±１６ｎｍ、±２０ｎｍ、±２４ｎｍの各評価用
光磁気ディスクを作製した。
【０１１６】また、評価用光磁気ディスクを作製するに
あたり、ピットＰ、ウォブリンググルーブＧｗ及びスト
レートグルーブＧｓの深さが異なる複数の評価用光磁気
ディスクを作製するために、レーザカッティング装置１
０によりピットＰ、ウォブリンググルーブＧｗ及びスト
レートグルーブＧｓに対応した潜像をフォトレジスト１
２に形成する際に、フォトレジスト１２の厚さを変化さ
せた。ガラス基板１１の上に塗布するフォトレジスト１
２の厚さは、最終的に得られる光磁気ディスクに形成さ
れるピットＰ、ウォブリンググルーブＧｗ及びストレー
トグルーブＧｓの深さに対応する。そこで、ガラス基板
１１の上に塗布するフォトレジスト１２の厚さを変化さ
せて、複数の光記録媒体製造用原盤を作製し、それらを
もとに、ピットＰ、ウォブリンググルーブＧｗ及びスト
レートグルーブＧｓの深さが異なる複数の評価用光磁気
ディスクを作製した。具体的には、ピットＰ、ウォブリ
ンググルーブＧｗ及びストレートグルーブＧｓの深さ
が、５６ｎｍ、６３ｎｍ、７０ｎｍの各評価用光磁気デ
ィスクを作製した。
【０１１７】また、グルーブＧｗ，Ｇｓの幅が異なる複
数の評価用光磁気ディスクを作製するために、レーザカ
ッティング装置１０によりグルーブＧｗ，Ｇｓに対応し
た潜像をフォトレジスト１２に形成するにあたり、第２
及び第３の露光ビームのパワーを変化させた。具体的に
は、グルーブＧｗ，Ｇｓに対応した潜像を形成する際
に、第２及び第３の露光ビームのパワーを０．５ｍＷを
中心として評価用光磁気ディスク毎に変化させた。
【０１１８】具体的には、評価用光磁気ディスクを作製
する際、０．５ｍＷを１００％とし、第２及び第３の露
光ビームのパワーを８０％〜１４０％の範囲で変化させ
た。このとき、第２及び第３の露光ビームのパワーと、
書込可能領域Ｗに形成されたググルーブＧｗ，Ｇｓの幅
との関係を調べた結果を表１に示す。なお、グルーブＧ
ｗ，Ｇｓの幅の測定は、光記録媒体製造用原盤に形成さ
れた凹凸パターンが転写されてなるディスク基板２を作
製し、当該ディスク基板２に形成されたグルーブＧｗ，
Ｇｓの幅を原子間力顕微鏡（ＡＦＭ：Atomic Force Mic
roscope）で測定することにより行った。
【０１１９】
【表１】
【０１２０】表１に示すように、ここでは、第２及び第
３の露光ビームのパワーを変えることにより、グルーブ
Ｇｗ，Ｇｓの幅が１７５ｎｍ、１９７ｎｍ、２１８ｎ
ｍ、２３８ｎｍ、２５７ｎｍ、２７６ｎｍ、２９５ｎｍ
の各評価用光磁気ディスクを作製した。
【０１２１】また、ピットＰの幅が異なる複数の評価用
光磁気ディスクを作製するために、レーザカッティング
装置１０によりピットＰに対応した潜像をフォトレジス
ト１２に形成するにあたり、第１の露光ビームのパワー
を変化させた。具体的には、ピットＰに対応した潜像を
形成する際に、第１の露光ビームのパワーを０．５ｍＷ
を中心として評価用光磁気ディスク毎に変化させた。
【０１２２】具体的には、評価用光磁気ディスクを作製
する際、０．５ｍＷを１００％とし、第１の露光ビーム
のパワーを８０％〜１３０％の範囲で変化させた。第１
の露光ビームのパワーと、再生専用領域Ｒに形成された
ピットＰの幅との関係を調べた結果を表２に示す。な
お、ピットＰの幅の測定は、光記録媒体製造用原盤に形
成された凹凸パターンが転写されてなるディスク基板２
を作製し、当該ディスク基板２に形成されたピットＰの
幅を原子間力顕微鏡（ＡＦＭ：Atomic Force Microscop
e）で測定することにより行った。
【０１２３】
【表２】
【０１２４】表２に示すように、ここでは、第１の露光
ビームのパワーを変えることにより、ピットＰの幅が３
３９ｎｍ、３５６ｎｍ、３７３ｎｍ、３９０ｎｍ、４０
６ｎｍ、４２１ｎｍの各評価用光磁気ディスクを作製し
た。
【０１２５】５−２．評価条件 以上のように作製した各評価用光磁気ディスクについ
て、その特性をＭＤData2用評価機を用いて評価した。
ＭＤData2用評価機は、図４に示したような構成の光学
ヘッド７０及び磁気ヘッド８３を用いて実際に記録再生
を行い、そのときの特性を測定するものである。
【０１２６】ここで、記録再生に使用するレーザ光の波
長λは６６０ｎｍとし、当該レーザ光を集光する対物レ
ンズの開口数ＮＡは０．５２とした。また、多数のピッ
トＰからなるピット列として再生専用領域Ｒに記録され
た情報信号の再生や、光磁気記録方式により書込可能領
域Ｗに記録された情報信号の再生をＭＤData2用評価機
により行う際、線速は２．０ｍ／ｓｅｃとし、再生レー
ザパワーは１．０ｍＷとした。また、書込可能領域Ｗへ
の光磁気記録方式による情報信号の書き込みをＭＤData
2用評価機により行う際、線速は２．０ｍ／ｓとし、記
録レーザパワーは８．０ｍＷとした。そして、記録レー
ザパルスをデューティサイクル５０％のパルストレイン
として、磁界変調方式により情報信号の書き込みを行っ
た。
【０１２７】そして、各評価用光磁気ディスクの評価
は、ＭＤData2のフォーマットにおいて提案されている
規格を基準にして行った。ＭＤData2のフォーマットで
は、Ｉ2／Ｉtop、Ｉ8／Ｉtop、アシンメトリ、ＲＣ、プ
ッシュプル信号量、ウォブリングアドレス情報再生時の
Ｃ／Ｎ、及びジッターの各特性が、表３に示すように規
定されている。
【０１２８】
【表３】
【０１２９】ここで、Ｉ2は、マーク長が２Ｔのピット
において得られるピット変調度であり、Ｉ8は、マーク
長が８Ｔのピットにおいて得られるピット変調度であ
り、Ｉtopは、ピット変調度の最大値である。すなわ
ち、Ｉ2／Ｉtopは、２Ｔピットを再生したときのピット
再生信号のピット変調度を、ピット変調度の最大値で規
格化した値であり、Ｉ8／Ｉtopは、８Ｔピットを再生し
たときのピット再生信号のピット変調度を、ピット変調
度の最大値で規格化した値である。
【０１３０】また、ＲＣは、Radial Constantの略であ
り、クロストラック信号の振幅の大きさを示す値であ
る。ＲＣは、グルーブ上に主ビームの光スポットがある
とき（すなわち、隣接する記録トラックの間に主ビーム
の光スポットがあるとき）のクロストラック信号のピー
ク値をＣ1とし、ランド上に主ビームの光スポットがあ
るとき（すなわち、記録トラック上に主ビームの光スポ
ットがあるとき）のクロストラック信号のピーク値をＣ
2としたとき、下記式（７）で表される。
【０１３１】 ＲＣ＝（Ｃ1−Ｃ2）／｛（Ｃ1＋Ｃ2）／２｝ ・・・（７） そして、上記光磁気ディスク１においても、安定した記
録再生を実現するためには、上記表３に示す条件を満た
すことが望まれる。
【０１３２】すなわち、書込可能領域Ｗ及び再生専用領
域Ｒにおいて、トラッキングサーボやトラックシークを
安定に行うためには、プッシュプル信号量、並びにＲＣ
の値が、表３に示す範囲内であることが望まれる。
【０１３３】また、書込可能領域Ｗにおいて、記録再生
を安定に行うためには、光磁気記録方式により記録した
情報信号を再生したときに得られる光磁気再生信号のジ
ッターが十分に小さい必要があり、光磁気再生信号のジ
ッターの値が表３に示す範囲内であることが望まれる。
【０１３４】また、再生専用領域Ｒにおいて、多数のピ
ットＰからなるピット列として記録された情報信号を安
定に再生するためには、十分なピット変調度が得られ、
且つ、アシンメトリが適切な範囲内にある必要があり、
Ｉ2／Ｉtop、Ｉ8／Ｉtop及びアシンメトリの値が表３に
示す範囲内であることが望まれる。また、再生専用領域
Ｒにおいて、多数のピットＰからなるピット列として記
録された情報信号を安定に再生するためには、ピットＰ
により記録された情報信号を再生したときに得られるピ
ット再生信号のジッターが十分に小さい必要もあり、ピ
ット再生信号のジッターの値が表３に示す範囲内である
ことも望まれる。
【０１３５】また、書込可能領域Ｗにおいて、ウォブリ
ングアドレス情報を安定に再生するためには、ウォブリ
ングアドレス情報を再生したときのＣ／Ｎが十分に大き
い必要があり、ウォブリングアドレス情報再生時のＣ／
Ｎの値が表３に示す範囲内であることが望まれる。
【０１３６】そして、ここでは、各評価用光磁気ディス
クについて、以上のような各特性を測定し、それらを評
価した。なお、ジッターの測定は、横河電機製タイムイ
ンターバルアナライザー「ＴＡ３２０」を用いて行っ
た。ここで、ウィンドウ幅は１１３．４ｎｓｅｃとし、
σの値をウィンドウ幅で規格化した。また、ウォブリン
グアドレス情報再生時のＣ／Ｎの測定は、３ｋＨｚの通
過帯域を持つバンドパスフィルタを用いてウォブリング
アドレス情報を再生し、そのときのＣ／Ｎを測定するこ
とにより行った。
【０１３７】５−３．評価結果 グルーブＧｗ，Ｇｓの幅及び深さが異なる各評価用光磁
気ディスクについて、書込可能領域ＷにおけるＲＣ、プ
ッシュプル信号量、及び光磁気再生信号のジッターの各
特性を測定した結果を表４に示す。
【０１３８】
【表４】
【０１３９】また、ピットＰの幅及び深さが異なる各評
価用光磁気ディスクについて、再生専用領域Ｒにおける
Ｉ2／Ｉtop、Ｉ8／Ｉtop、アシンメトリ、ＲＣ、プッシ
ュプル信号量、及びピット再生信号のジッターの各特性
を測定した結果を表５に示す。
【０１４０】
【表５】
【０１４１】また、ウォブリンググルーブＧｗの振幅及
びグルーブＧｗ，Ｇｓの幅が異なる各評価用光磁気ディ
スクについて、ウォブリングアドレス情報再生時のＣ／
Ｎを測定した結果を表６に示す。なお、ここでのグルー
ブＧｗ，Ｇｓの深さは６３ｎｍで一定とした。
【０１４２】
【表６】
【０１４３】表４から分かるように、書込可能領域Ｗに
おいて、グルーブＧｗ，Ｇｓの深さを５６〜７０ｎｍの
範囲内とし、グルーブＧｗ，Ｇｓの幅を１７５ｎｍ〜２
９５ｎｍの範囲内とすることにより、書込可能領域Ｗに
おけるＲＣ、プッシュプル信号量、及び光磁気再生信号
のジッターの各特性が、表３に示した規格を満たすよう
になる。したがって、書込可能領域Ｗにおいて、グルー
ブＧｗ，Ｇｓの深さを５６〜７０ｎｍの範囲内とし、グ
ルーブＧｗ，Ｇｓの幅を１７５ｎｍ〜２９５ｎｍの範囲
内とすることにより、トラッキングサーボやトラックシ
ークを安定に行うことが可能となり、しかも、情報信号
の光磁気記録による記録再生を安定に行うことが可能と
なる。
【０１４４】また、表５から分かるように、再生専用領
域Ｒにおいて、ピットＰの深さを５６〜７０ｎｍの範囲
内とし、ピットＰの幅を３３９ｎｍ〜４２１ｎｍの範囲
内とすることにより、再生専用領域ＲにおけるＩ2／Ｉt
op、Ｉ8／Ｉtop、アシンメトリ、ＲＣ、プッシュプル信
号量、及びピット再生信号のジッターの各特性が、表３
に示した規格を満たすようになる。したがって、再生専
用領域Ｒにおいて、ピットＰの深さを５６〜７０ｎｍの
範囲内とし、ピットＰの幅を３３９ｎｍ〜４２１ｎｍの
範囲内とすることにより、トラッキングサーボやトラッ
クシークを安定に行うことが可能となり、しかも、多数
のピットＰからなるピット列として記録された情報信号
を安定に再生することが可能となる。
【０１４５】また、表６から分かるように、書込可能領
域Ｗにおいて、グルーブＧｗ，Ｇｓの幅が１７５ｎｍ〜
２９５ｎｍの範囲内にあるとき、ウォブリンググルーブ
Ｇｗの振幅を±１６ｎｍ〜±２４ｎｍの範囲内とするこ
とにより、ウォブリングアドレス情報再生時のＣ／Ｎ
が、表３に示した規格を満たすようになる。したがっ
て、書込可能領域Ｗにおいて、グルーブＧｗ，Ｇｓの幅
が１７５ｎｍ〜２９５ｎｍの範囲内にあるとき、ウォブ
リンググルーブＧｗの振幅を±１６ｎｍ〜±２４ｎｍの
範囲内とすることにより、ウォブリングアドレス情報を
安定に再生することが可能となる。
【０１４６】ところで、上述したように、書込可能領域
Ｗに形成するグルーブＧｗ，Ｇｓの深さ、並びに、再生
専用領域Ｒに形成するピットＰの深さは、５６〜７０ｎ
ｍの範囲内とすることが好ましい。これらを、記録再生
に使用するレーザ光の波長λと、ディスク基板２の屈折
率ｎを用いて一般化すると、評価用光磁気ディスクでは
λ＝６６０ｎｍ，ｎ＝１．５８であるので、５６ｎｍは
λ／７．５ｎとなり、７０ｎｍはλ／６．０ｎとなる。
したがって、書込可能領域Ｗに形成するグルーブＧｗ，
Ｇｓの深さ、並びに、再生専用領域Ｒに形成するピット
Ｐの深さは、λ／７．５ｎ〜λ／６．０ｎの範囲内とす
ることが好ましい。
【０１４７】また、上述したように、書込可能領域Ｗに
形成するグルーブＧｗ，Ｇｓの幅は、１７５ｎｍ〜２９
５ｎｍの範囲内とすることが好ましい。これらをトラッ
クピッチＴｐ１＝９５０ｎｍで規格化すると、１７５ｎ
ｍ／９５０ｎｍ＝１８．４％、２９５ｎｍ／９５０ｎｍ
＝３１．１％となる。したがって、書込可能領域Ｗに形
成するグルーブＧｗ，Ｇｓの幅をＷｇとし、書込可能領
域Ｗにおける記録トラックのトラックピッチをＴｐ１と
した場合、Ｗｇ／Ｔｐ１は１８．４％〜３１．１％の範
囲内とすることが好ましい。
【０１４８】また、上述したように、再生専用領域Ｒに
形成するピットＰの幅は、３３９ｎｍ〜４２１ｎｍの範
囲内とすることが好ましい。これらをトラックピッチＴ
ｐ２＝９５０ｎｍで規格化すると、３３９ｎｍ／９５０
ｎｍ＝３５．７％、４２１ｎｍ／９５０ｎｍ＝４４．３
％となる。したがって、再生専用領域Ｒに形成するピッ
トＰの幅をＷｐとし、再生専用領域Ｒにおける記録トラ
ックのトラックピッチをＴｐ２とした場合、Ｗｐ／Ｔｐ
２は３５．７％〜４４．３％の範囲内とすることが好ま
しい。
【０１４９】また、上述したように、書込可能領域Ｗに
形成するウォブリンググルーブＧｗの振幅は、±１６ｎ
ｍ〜±２４ｎｍの範囲内とすることが好ましい。これら
をトラックピッチＴｐ１＝９５０ｎｍで規格化すると、
±１６ｎｍ／９５０ｎｍ＝±１．６８％、±２４ｎｍ／
９５０ｎｍ＝２．５３％となる。したがって、書込可能
領域Ｗに形成するウォブリンググルーブＧｗの振幅をＡ
とし、書込可能領域Ｗにおける記録トラックのトラック
ピッチをＴｐ１とした場合、Ａ／Ｔｐ１は±１．６８％
〜±２．５３％の範囲内とすることが好ましい。
【０１５０】以上の評価結果から分かるように、グルー
ブＧｗ，Ｇｓ及びピットＰの深さをλ／７．５ｎ〜λ／
６．０ｎの範囲内とし、グルーブ幅をトラックピッチで
規格化した値Ｗｇ／Ｔｐ１を１８．４％〜３１．１％の
範囲内とし、ピット幅をトラックピッチで規格化した値
Ｗｐ／Ｔｐ２を３５．７％〜４４．３％の範囲内とし、
ウォブリンググルーブＧｗの振幅をトラックピッチで規
格化した値Ａ／Ｔｐ１を±１．６８％〜±２．５３％の
範囲内とすることにより、９５０ｎｍという非常に狭い
トラックピッチであっても、書込可能領域Ｗ及び再生専
用領域Ｒにおけるトラッキングサーボ及びトラックシー
クと、書込可能領域における情報信号の記録再生と、再
生専用領域に記録された情報信号の再生と、書込可能領
域におけるウォブリングアドレス情報の再生とを、全て
十分に安定に行えるようになる。
【０１５１】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明によ
れば、ＭＤData2のようにトラックピッチを狭めて高記
録密度化を図っても、記録再生を行うのに必要な各種信
号を十分なレベルにて得ることが可能となる。すなわ
ち、本発明によれば、トラックピッチを狭めることによ
り、更なる高記録密度化を図った光記録媒体を実現する
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明を適用した光磁気ディスクの一構成例に
ついて、要部を拡大して示す断面図である。
【図２】図１に示した光磁気ディスクの記録フォーマッ
トを説明するための図であり、図１に示した光磁気ディ
スクの情報記録領域の一部を拡大して示す図である。
【図３】本発明を適用した光記録媒体製造用原盤を製造
する際に使用されるレーザカッティング装置の一例につ
いて、その光学系の概要を示す図である。
【図４】本発明を適用した光磁気ディスクの記録再生に
使用される光学ヘッド、並びにその周辺回路等を示す図
である。
【図５】差動プッシュプル法によるトラッキングサーボ
を説明するための図であり、光磁気ディスクの情報記録
領域に照射される主ビーム及び副ビームの光スポットを
示すとともに、それらとプッシュプル信号及びクロスト
ラック信号との関係を示す図である。
【図６】従来のＭＤの記録フォーマットを説明するため
の図であり、ＭＤの情報記録領域の一部を拡大して示す
図である。
【図７】ＭＤData2で提案されている記録フォーマット
を説明するための図であり、ＭＤData2の情報記録領域
の一部を拡大して示す図である。
【符号の説明】
１ 光磁気ディスク、 ２ ディスク基板、 ３ 第１
の誘電体膜、 ４ 光磁気膜、 ５ 第２の誘電体膜、
６ 光反射膜、 ７ 保護膜、 Ｗ 書込可能領域、
Ｒ 再生専用領域、 Ｇｗ ウォブリンググルーブ、
Ｇｓ ストレートグルーブ、 Ｐ ピット
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ１１Ｂ 11/10 ５１１ Ｇ１１Ｂ 11/10 ５１１Ｄ ５４１ ５４１Ｄ (72)発明者 大友 勝彦 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ ー株式会社内 (72)発明者 田中 富士 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ ー株式会社内 (72)発明者 中山 比呂史 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ ー株式会社内 (72)発明者 管野 正喜 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ ー株式会社内 (72)発明者 篠田 昌孝 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ ー株式会社内 Ｆターム(参考） 5D029 WA02 WA16 WB11 WB17 WC04 WC05 WC09 WC10 5D075 DD04 DD06 EE03 FG18 5D121 AA02 BB26 BB32

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 記録トラックに沿ってグルーブが形成さ
    れた書込可能領域と、記録トラックに沿ってピットが形
    成された再生専用領域とを備えた光記録媒体であって、 光入射面からグルーブ及びピットが形成された面に至る
    媒質の屈折率をｎとし、記録再生に使用される光の波長
    をλとしたとき、グルーブ及びピットの深さがλ／７．
    ５ｎ〜λ／６．０ｎの範囲内であり、 書込可能領域に形成されたグルーブの幅をＷｇとし、書
    込可能領域における記録トラックのトラックピッチをＴ
    ｐ１としたときに、Ｗｇ／Ｔｐ１が１８．４％〜３１．
    １％の範囲内であり、 再生専用領域に形成されたピットの幅をＷｐとし、再生
    専用領域における記録トラックのトラックピッチをＴｐ
    ２としたときに、Ｗｐ／Ｔｐ２が３５．７％〜４４．３
    ％の範囲内であることを特徴とする光記録媒体。
  2. 【請求項２】 上記書込可能領域には、２つのグルーブ
    がダブルスパイラル状に形成され、 それらのグルーブのうちの少なくとも一方は、少なくと
    も一部が蛇行するように形成されたウォブリンググルー
    ブであり、 上記ウォブリンググルーブの振幅をＡとしたとき、Ａ／
    Ｔｐ１が±１．６８％〜±２．５３％の範囲内であるこ
    とを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
  3. 【請求項３】 記録トラックに沿ってグルーブが形成さ
    れた書込可能領域と、記録トラックに沿ってピットが形
    成された再生専用領域とを備えた光記録媒体を製造する
    際の型となる光記録媒体製造用原盤であって、 上記光記録媒体の光入射面からグルーブ及びピットが形
    成された面に至る媒質の屈折率をｎとし、記録再生に使
    用される光の波長をλとしたとき、グルーブ及びピット
    の深さがλ／７．５ｎ〜λ／６．０ｎの範囲内であり、 上記光記録媒体の書込可能領域に形成されたグルーブの
    幅をＷｇとし、書込可能領域における記録トラックのト
    ラックピッチをＴｐ１としたときに、Ｗｇ／Ｔｐ１が１
    ８．４％〜３１．１％の範囲内であり、 上記光記録媒体の再生専用領域に形成されたピットの幅
    をＷｐとし、再生専用領域における記録トラックのトラ
    ックピッチをＴｐ２としたときに、Ｗｐ／Ｔｐ２が３
    ５．７％〜４４．３％の範囲内であり、 少なくとも、上記光記録媒体の書込可能領域に形成され
    るグルーブと、上記光記録媒体の再生専用領域に形成さ
    れるピットとに対応した凹凸パターンが形成されてなる
    ことを特徴とする光記録媒体製造用原盤。
  4. 【請求項４】 上記光記録媒体の書込可能領域には、２
    つのグルーブがダブルスパイラル状に形成され、 それらのグルーブのうちの少なくとも一方は、少なくと
    も一部が蛇行するように形成されたウォブリンググルー
    ブであり、 上記ウォブリンググルーブの振幅をＡとしたとき、Ａ／
    Ｔｐ１が±１．６８％〜±２．５３％の範囲内であるこ
    とを特徴とする請求項３記載の光記録媒体製造用原盤。
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