DE60131491T2 - Optisches Aufzeichnungsmedium, Matrizenplatte zur Herstellung des optischen Aufzeichnungsmediums, und optisches Aufzeichnungs- und/oder -Wiedergabegerät - Google Patents

Optisches Aufzeichnungsmedium, Matrizenplatte zur Herstellung des optischen Aufzeichnungsmediums, und optisches Aufzeichnungs- und/oder -Wiedergabegerät Download PDF

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Description

  • HINTERGRUND DER ERFINDUNG
  • Gebiet der Erfindung
  • Diese Erfindung betrifft ein optisches Aufzeichnungsmedium, welches eine Rille aufweist, welche entlang einer Aufzeichnungsspur gebildet ist, eine Masterplatte, welche zur Zubereitung eines optischen Aufzeichnungsmediums verwendet wird, und eine optische Aufzeichnungs- und/oder Reproduktionsvorrichtung zum Aufzeichnen und/oder Reproduzieren von Informationssignalen für ein optisches Aufzeichnungsmedium, welches unter Verwendung dieser Masterplatte zubereitet wird.
  • Beschreibung des Standes der Technik
  • Als optisches Aufzeichnungsmedium wird praktisch eine optische Platte zum optischen Aufzeichnen und/oder Reproduzieren von Informationssignalen verwendet. Unter solchen optischen Aufzeichnungsmedien gibt es eine optische Platte nur zur Wiedergabe, welche geprägte Pits, welche Daten entsprechen, aufweist, welche zuvor auf einem Plattensubstrat gebildet wurden, eine magneto-optische Platte zum Aufzeichnen von Daten durch Ausnutzen photomagnetischer Effekte und eine optische Phasenumwandlungsplatte zum Aufzeichnen von Daten durch Ausnutzen von Phasenänderungen in einem Aufzeichnungsfilm.
  • Von diesen optischen Platten werden diejenigen, welche ein Schreiben erlauben, wie beispielsweise magneto-optische Platten oder optische Phasenumwandlungsplatten, normalerweise mit Rillen gebildet, welche sich entlang einer Aufzeichnungsspur erstrecken. Hier ist mit der Rille eine sogenannte Führungsrille gemeint, welche gebildet ist, um sich entlang der Aufzeichnungsspur zu erstrecken, hauptsächlich um eine Servo-Spureinstellung zu erlauben. Ein Bereich zwischen benachbarten Rillen wird als Land bezeichnet.
  • Bei einer optischen Platte, welche diese Rillen enthält, wird eine Servo-Spureinstellung basierend auf Gegentaktsignalen durchgeführt, welche von dem Licht erhalten werden, welches durch die Rillen reflektiert und gebeugt wird. Die Gegentaktsignale werden durch Detektieren des Lichts erhalten, welches durch die Rille durch zwei Photodetektoren reflektiert und gebeugt wird, welche symmetrisch hinsichtlich des Spurzentrums angeordnet sind, und durch Aufnehmen der Differenz zwischen den Ausgaben der zwei Photodetektoren.
  • Bei diesen optischen Platten wurde eine hohe Aufzeichnungsdichte durch Verbessern der Wiedergabeauflösung einer optischen Aufnahme erreicht, welche auf einem Reproduktionsgerät geladen ist. Zum Verbessern der Wiedergabeauflösung einer optischen Aufnahme wird eine kürzere Wellenlänge λ des Laserlichts für Datenwiedergabe verwendet, oder eine größere numerische Apertur NA einer optischen Linse wird zum Konvergieren des Laserlichts auf der optischen Platte verwendet.
  • Die Wellenlänge λ des Laserlichts, welche zur Datenwiedergabe verwendet wird, die numerische Apertur NA der optischen Linse und die Werte des Spurabstands sind für eine CD, MD MDData2, DVD-RV und DVD-ROM in Tabelle 1 gezeigt. Es wird angemerkt, dass CD, MD, MDData2, DVD-RW und DVD-ROM alle Markenzeichen für unterschiedliche Typen der optischen Platten sind. Tabelle 1
    Laserwellenlänge [nm] NA Spurabstand [nm]
    CD und MD 780 0,45 16020
    DVD-ROM 650 0,60 740
    DVD-RW 650 0,60 800
    MDData2 650 0,52 950
  • Bei einer konventionellen optischen Platte, um eine hohe Aufzeichnungsdichte zu erreichen, wurde eine schmale Spurbreite durch Verkürzen der Wellenlänge λ des Laserlichts oder durch Vergrößern der numerischen Apertur NA der optischen Linse realisiert, wie in Tabelle 1 gezeigt ist.
  • Inzwischen ist bei der konventionellen optischen Platte der Spurabstand in der Größenordnung von 1/2 bis 2/3 der Grenzfrequenz der optischen Aufnahme der Reproduktionsvorrichtung. Die Grenzfrequenz bedeutet hier eine Frequenz, für welche die Amplitude des Wiedergabesignals ungefähr 0 ist. Es wird angemerkt, dass die Grenzfrequenz durch 2NA/λ repräsentiert wird, wobei λ die Wellenlänge des Laserlichts ist, welches zur Datenreproduktion verwendet wird, und NA die numerische Apertur einer optischen Linse ist, welche zum Konvergieren des Laserlichts auf einer optischen Platte verwendet wird.
  • Der Grund, warum der Spurabstand in der Größenordnung von 1/2 bis 2/3 der Grenzfrequenz ist, ist derjenige, dass es zum Realisieren einer stabilen Servo-Spureinstellung oder Spursuche notwendig ist, einen ausreichend hohen Pegel eines Signals zu erreichen, welches zur Servo-Spureinstellung oder zur Suche erforderlich ist.
  • Zum Beispiel werden bei einer optischen Platte, auf welcher Informationssignale von hoher Dichte sind, Gegentaktsignale als Tracking-Fehlersignale verwendet. Falls gewünscht wird, eine stabile Servo-Spureinstellung zu erreichen, muss das Amplitudenverhältnis der Gegentaktsignale in der Größenordnung von 0,14 oder höher sein. Auch werden Querspursignale zum Querzählen beim Suchen und zum Detektieren von radialen Spurpositionen verwendet. Zur stabilen Suche muss eine Querspur-Signalamplitude in der Größenordnung von 0,06 oder mehr sein. Wenn bei einer konventionellen optischen Platte das Amplitudenverhältnis des Gegentaktsignals 0,14 oder mehr betragen soll und die Querspur-Signalamplitude 0,06 oder mehr betragen soll, muss der Spurabstand in der Größenordnung von 1/2 bis 2/3 der Grenzfrequenz sein.
  • Indessen wird ein Gegentaktsignal durch Detektieren von Licht, welches durch eine Spur reflektiert und gebeugt wird, durch zwei Photodetektoren A, B, welche hinsichtlich zu dem Spurzentrum symmetrisch angeordnet sind, und durch Aufnehmen einer Differenz (A – B) der Ausgaben von den zwei Photodetektoren A und B erhalten, wie in 1 gezeigt ist. Die Querspur-Signale werden durch Aufnehmen der Summe der Ausgangssignale von diesen zwei Photodetektoren A und B erhalten.
  • Das Amplitudenverhältnis der Gegentaktsignale wird durch C/Mmax repräsentiert, wobei C die maximale Amplitude des Gegentaktsignals ist, wie in 2 gezeigt ist. Das maximale Amplitudenverhältnis der Querspur-Signale wird durch D/Max repräsentiert, wie in 2 gezeigt ist, wobei D die maximale Amplitude der Querspur-Signale ist und Mmax der maximale Wert eines Summensignals M von Signalen von den zwei Photodetektoren A und B ist, welcher der Wert des Summensignals M der Spiegeloberfläche der Platte ist.
  • Indessen ist es bei einem optischen Aufzeichnungsmedium, wie beispielsweise einer optischen Platte, wünschenswert, die Aufzeichnungsdichte der Aufzeichnungssignale weiter zu steigern. Zu diesem Zweck reicht es, den Spalt zwischen benachbarten Rillen zu verengen, um den Spurabstand zu verengen. Jedoch, wenn bei einem konventionellen optischen Aufzeichnungsmedium der Spurabstand zu eng ist, können die Signale, welche zur Servo-Spureinstellung oder zur Suche notwendig sind, nicht mit einem ausreichenden Pegel erhalten werden, so dass eine stabiles Servo-Spureinstellung oder eine Suche nicht erreicht werden kann.
  • Zum Beispiel ist bei MD Data2 der Spurabstand 0,95 μm, wobei das Gegentaktsignal-Amplitudenverhältnis in der Größenordnung von 0,30 ist. In solch einem Fall ist das Gegentaktsignal-Amplitudenverhältnis groß, um eine stabile Servo-Spureinstellung, welche zu erreichen ist, zu erlauben. Jedoch ist, wenn in einer Konfiguration, welche ähnlich zu derjenigen der MD Data2 ist, der Spurabstand 0,75 μm ist, das Gegentaktsignal-Amplitudenverhältnis so gering wie ungefähr 0,07. Dieses Gegentaktsignal-Amplitudenverhältnis ist zu niedrig, um eine stabile Servo-Spureinstellung zu realisieren.
  • Wenn in einer Konfiguration, welche ähnlich zu der von MD Data2 ist, der Spurabstand auf 0,75 μm ausgelegt ist, ist das Gegentaktsignal-Amplitudenverhältnis so niedrig wie ungefähr 0,06, während das Querspur-Amplitudenverhältnis so niedrig wie ungefähr 0,05 ist. Diese Werte des Gegentaktsignal-Amplitudenverhältnisses und das Querspur-Amplitudenverhältnisses sind zu gering, um eine stabile Servo-Spureinstellung oder eine Suche zu realisieren.
  • US 5 553 051 offenbart ein optisches Aufzeichnungsmedium und eine Masterplatte, welche für die Zubereitung des optischen Aufzeichnungsmediums verwendet wird, gemäß der Präambel der angehängten unabhängigen Ansprüche.
  • Somit wird es bei einem konventionellen optischen Aufzeichnungsmedium, wenn der Spurabstand zu eng ist, unmöglich, Signale, welche zur Servo-Spureinstellung oder zur Suche erforderlich sind, mit einem ausreichenden Pegel zu erreichen, so dass eine stabile Servo-Spureinstellung oder eine Suche nicht erreicht werden können, mit dem Ergebnis, dass bei dem konventionellen optischen Aufzeichnungsmedium die Aufzeichnungsdichte nicht weiter verbessert werden kann.
  • AUFGABE UND ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
  • Es ist daher eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein optisches Aufzeichnungsmedium, eine Masterplatte, welche für die Zubereitung des optischen Aufzeichnungsmediums verwendet wird, und eine optische Aufzeichnungs- und/oder Reproduktionsvorrichtung zum Aufzeichnen und/oder Reproduzieren von Informationssignalen für solch ein optisches Aufzeichnungsmedium vorzusehen, bei welchem ein Servor-Tracking oder eine Suche stabil erreicht werden können, sogar, wenn der Spurabstand auf einen extrem kleinen Wert reduziert wird.
  • In einem Aspekt sieht die vorliegende Erfindung ein optisches Aufzeichnungsmedium vor, in welchem ein Rille gebildet ist, um sich entlang einer Aufzeichnungsspur zu erstrecken, und in welches Licht mit einer Wellelänge λ zum Aufzeichnen und/oder Reproduzieren gestrahlt wird, wobei als die Rille eine erste Rille und eine zweite Rille bis zu einer ersten Tiefe gebildet sind, um eine Doppelspirale zu beschreiben, und wobei eine dritte Rille, welche eine zweite Tiefe aufweist, welche flacher als die erste Tiefe ist, zwischen der ersten und der zweiten Rille gebildet ist, welche Doppelspiralen bilden, wobei eine Phasentiefe, welche von der ersten und zweiten Rille durch x × nX/λ repräsentiert wird, wobei x die erste Tiefe ist und nX ein Brechungsindex eines Mediums von der Lichteinfallsfläche zu der ersten und zweiten Rille ist, gleich X ist, und eine Phasentiefe der dritten Rille, welche durch y × nX/λ repräsentiert wird, wobei y die zweite Tiefe ist und ny ein Brechungsindex eines Mediums von der Lichteinfallsfläche der dritten Rille ist, gleich Y ist, wobei erste, zweite und dritte Rillen ausgelegt sind zum Erfüllen der Gleichungen (1) bis (3) oder Gleichungen (4) und (5): Y ≥ 36,9189 – 208,0190X + 294,3845X2 für X ≤ 0,356, (1) Y ≥ –1,2977 + 8,2017X – 15,8226X2 + 12,3273X3 für X > 0,356, (2) Y ≤ –214,05681 + 2423,29342X – 10933,24673X2 + 24597,79851X3 – 27576,99399X4 + 12319,79865X5, (3) Y ≥ –4,6463 + 30,2156X – 64,3100X2 + 47,1308X3, (4) Y ≤ 2,7669 – 20,0529X + 48,0353X2 – 35,4870X3, (5)wobei 0,33 ≤ X ≤ 0,54 im Fall des Erfüllens der Gleichungen (1) bis (3) und 0,41 ≤ X ≤ 0,57 im Fall des Erfüllens der Gleichungen (4) und (5) ist.
  • Da die ersten bis dritten Rillen gebildet sind, um die obigen Gleichungen (1) bis (3) oder die Gleichungen (4) bis (5) zu erfüllen, können die Signale, welche zur Servo-Spureinstellung oder zur Suche erforderlich sind, mit ausreichenden Pegeln erlangt werden, sogar wenn der Spurabstand verringert wird.
  • Vorzugsweise sind die ersten bis dritten Rillen gebildet, um die Gleichungen (1), (11) und (12) zu erfüllen: Y ≥ 0,8680 – 7,3968X + 21,8561X2 – 17,5125X3 für X > Xlow, (10) Y ≥ 36,9189 – 208,0190X + 294,3845X2 für X ≤ Xlow, (11) Y ≤ –214,05681 + 2423,29342X – 10933,24673X2 + 24597,79851X3 – 27576,99399X4 + 12319,79865X5, (12)wobei 0,33 ≤ X ≤ 0,54 ist, wobei die Polynome der Gleichungen (10) und (11) zwei Schnittpunkte aufweisen, und Xlow der X-Wert des Schnittpunktes mit dem niedrigeren X-Wert ist.
  • Da die ersten bis dritten Rillen gebildet sind, um die obigen Gleichungen (10) bis (12) zu erfüllen, können die Signale, welche zur Spureinstellung und Servo oder zur Suche erforderlich sind, mit ausreichenden Pegeln erlangt werden, sogar, wenn der Spurabstand reduziert wird.
  • Vorzugsweise ist zumindest eine der ersten und zweiten Rillen eine Wobbelrille, welche derartig gebildet ist, dass zumindest ein Abschnitt davon gewunden ist. Dies erlaubt es, Adressinformation zu nichts anderem als zu den Rillen hinzuzufügen.
  • Vorzugsweise ist, wenn die numerische Apertur einer optischen Linse, welche zum Aufzeichnen und/oder Reproduzieren verwendet wird, durch NA repräsentiert wird, die Raumfrequenz des Spurabstands größer als die Grenzfrequenz, welche durch 2 × NA/λ repräsentiert wird.
  • In einem weiteren Aspekt sieht die vorliegende Erfindung eine Masterplatte zur Zubereitung eines optischen Aufzeichnungsmediums vor, welches eine Rille aufweist, welche entlang einer Aufzeichnungsspur gebildet ist, und durch Licht mit einer Wellenlänge λ zum Aufzeichnen und/oder zur Reproduktion bestrahlt wird, wobei als ein Scheitel- und Rillenmuster entsprechend der Rille ein erstes Rillenmuster und ein zweites Rillemuster bis zu einer ersten Tiefe ausgebildet sind, um eine Doppelspirale zu beschreiben, und wobei ein drittes Rillenmuster, welches eine zweite Tiefe aufweist, welche flacher als die erste Tiefe ist, zwischen den ersten und zweiten Rillenmustern gebildet ist, welche Doppelspiralen beschreiben, wobei eine Phasentiefe, welche durch die ersten und zweiten Rillenmuster durch x × nX/λ repräsentiert wird, wobei x die erste Tiefe ist und nX ein Brechungsindex eines Mediums von der Lichteinfallsfläche zu den ersten und zweiten Rillen ist, gleich X ist, und eine Phasentiefe des dritten Rillenmusters, welches durch y × ny/λ repräsentiert wird, wobei y die zweite Tiefe ist und ny ein Brechungsindex eines Mediums von der Lichteinfallsfläche zu der dritten Rille ist, gleich Y ist, wobei die ersten, zweiten und dritten Rillenmuster ausgelegt sind, um die Gleichungen (1) bis (3) oder die Gleichungen (4) und (5) zu erfüllen: Y ≥ 36,9189 – 208,0190X + 294,3845X2 für X ≤ 0,356, (1) Y ≥ –1,2977 + 8,2017X – 15,8226X2 + 12,3273X3 für X > 0,356, (2) Y ≤ –214,05681 + 2423,29342X – 10933,24673X2 + 24597,79851X3 – 27576,99399X4 + 12319,79865X5, (3) Y ≥ –4,6463 + 30,2156X – 64,3100X2 + 47,1308X3, (4) Y ≤ 2,7669 – 20,0529X + 48,0353X2 – 35,4870X3, (5) wobei 0,33 ≤ X ≤ 0,54 im Fall des Erfüllens der Gleichungen (1) bis (3) und 0,41 ≤ X ≤ 0,57 im Fall des Erfüllens der Gleichungen (4) und (5) ist.
  • Vorzugsweise sind die ersten bis dritten Rillenmuster gebildet, um die Gleichungen (10), (11) und (12) zu erfüllen: Y ≥ 0,8680 – 7,3968X + 21,8561X2 – 17,5125X3 für X > Xlow, (10) Y ≥ 36,9189 – 208,0190X + 294,3845X2 für X ≤ Xlow, (11) Y ≤ –214,05681 + 2423,29342X – 10933,24673X2 + 24597,79851X3 – –27576,99399X4 + 12319,79865X5, (12)wobei 0,33 ≤ X ≤ 0,54 ist, wobei die Polynome der Gleichungen (10) und (11) zwei Schnittpunkte aufweisen, und Xlow der X-Wert des Schnittpunktes mit dem niedrigeren X-Wert ist.
  • Vorzugsweise ist zumindest eines der ersten und zweiten Rillenmuster ein Scheitel- und Rillenmuster entsprechend einer Wobbelrille, welche gebildet ist, so dass zumindest ein Abschnitt davon gewunden ist.
  • In noch einem weiteren Aspekt sieht die vorliegende Erfindung eine optische Aufzeichnungs- und/oder Reproduktionsvorrichtung vor, welche ein optisches Aufzeichnungsmedium gemäß der vorliegenden Erfindung zum Aufzeichnen und/oder Reproduzieren der Information durch Bestrahlen des Lichts mit einer Wellenlänge λ auf das optische Aufzeichnungsmedium umfasst.
  • Andere Aufgaben, Merkmale und Vorteile der vorliegenden Erfindung werden aus der folgenden Beschreibung der bevorzugten Ausführungsform davon und den Ansprüchen offensichtlich werden.
  • KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
  • 1 stellt ein Verfahren zum Detektieren von Gegentaktsignalen und Querspur-Signalen dar.
  • 2 stellt ein Gegentaktsignal-Amplitudenverhältnis und ein Querspur-Signalamplitudenverhältnis dar.
  • 3 ist eine Querschnittsansicht, welche wesentliche Abschnitte einer typischen magneto-optischen Platte der vorliegenden Erfindung in einem vergrößerten Maßstab zeigt.
  • 4 ist eine Draufsicht, welche einen Abschnitt eines Aufzeichnungsbereichs einer typischen magneto-optischen Platte der vorliegenden Erfindung in einem vergrößerten Maßstab zeigt.
  • 5 ist ein Blockdiagramm, welches schematische Darstellungen eines optischen Systems einer typischen Laserschnittvorrichtung zeigt, welche in der Zubereitung eines optischen Aufzeichnungsmediums verwendet wird, und eine Masterplatte für die Zubereitung des optischen Aufzeichnungsmediums gemäß Y ≤ –214.05681 + 2423.29342X – 10933.24673X2 + 24597.79851X3 – 27576.99399X4 + 12319.79865X5 (3) Y ≥ –4.6463 + 30.2156X – 64.3100X2 + 47.1308X3 (4) Y ≤ 2.7669 – 20.0529X + 48.0353X2 – 35.4870X3 (5)
  • In diesem Fall, da die ersten bis dritten Rillenmuster gebildet sind, um die obigen Gleichungen (1) bis (3) oder die Gleichungen (4) und (5) zu erfüllen, ist es möglich, ein optisches Reproduktionsmedium herzustellen, welches darauf gebildet die ersten bis dritten Rillen aufweist, welche die obigen Gleichungen (1) bis (3) oder die Gleichungen (4) und (5) erfüllen durch Verwenden der vorliegenden Masterplatte für die Zubereitung des optischen Aufzeichnungsmediums. Somit ist es mit der vorliegenden Masterplatte für die Zubereitung des optischen Aufzeichnungsmediums möglich, ein optisches Aufzeichnungsmedium herzustellen, in welchem die Signale, welche zur Servo-Spureinstellung oder zur Suche erforderlich sind, mit ausreichenden Pegeln erlangt werden können, sogar bei einem engen Spurabstand.
  • Andererseits sind die ersten bis dritten Rillenmuster vorzugsweise gebildet, um die folgenden Gleichungen (6) und (7) oder die folgenden Gleichungen (8) und (9) zu erfüllen: Y ≥ 0.8680 – 7.39682 + 21.8561X2 – 17.5125X3 (6) Y ≤ –261.77076 + 3646.50412X – 20988.26504X2 + 63944.54992X3 – 108758.21706X4 + 97951.29191X5 – 36518.20328X6 (7) Y ≥ 10.2606 – 60.3765X + 118.5901X2 – 75.9408X2 (8) Y ≤ 6.8296 + 29.9281X – 38.6228X2 + 14.0747X3 (9).
  • Bei der vorliegenden Masterplatte für die Zubereitung des optischen Aufzeichnungsmediums, bei welchem die ersten bis dritten Rillenmuster vorzugsweise gebildet sind, um die folgenden Gleichungen (6) und (7) oder die folgenden Gleichungen (8) und (9) zu erfüllen, kann ein optisches Aufzeichnungsmedium, welches darauf gebildet die ersten bis dritten Rillen aufweist, welche die Gleichungen (6) und (7) oder die Gleichungen (8) und (9) erfüllt, mit der Verwendung der vorliegenden Masterplatte für die Zubereitung des optischen Aufzeichnungsmediums produziert werden. Somit ist es mit der vorliegenden Masterplatte für die Zubereitung des optischen Aufzeichnungsmediums möglich, ein optisches Aufzeichnungsmedium herzustellen, in welchem die Signale, welche zur Servo-Spareinstellung oder zur Suche erforderlich sind, mit ausreichenden Pegeln erlangt werden können, sogar bei einem schmalen Spurabstand.
  • Darüber hinaus sind die ersten bis dritten Rillenmuster vorzugsweise gebildet, um die folgenden Gleichungen (10), (11) und (12) zu erfüllen: Y ≥ 0.8680 – 7.3968X + 21.8561X2 – 17.5125X3 (10) Y ≥ 36.9189 – 208.0190X + 294.3845X2 (11) Y ≤ –214.05681 + 2423.29342X – 10933.24673X2 + 24597.79851X3 – –27576.99399X4 + 12319.79865X5 (12).
  • In der vorliegenden Masterplatte für die Zubereitung des optischen Aufzeichnungsmediums, in welchem die ersten bis dritten Rillenmuster vorzugsweise gebildet sind, um die Gleichungen (10), (11) und (12) zu erfüllen, kann ein optisches Aufzeichnungsmedium, welches darauf gebildet die ersten bis dritten Rillen aufweist, welche die Gleichungen (10), (11) und (12) erfüllen unter Verwendung der vorliegenden Masterplatte für die Zubereitung des optischen Aufzeichnungsmediums hergestellt werden.
  • Somit ist es mit der vorliegenden Masterplatte für die Zubereitung des optischen Aufzeichnungsmediums möglich, ein optisches Aufzeichnungsmedium herzustellen, in welchem die Signale, welche zur Servo-Spureinstellung oder zur Suche erforderlich sind, mit ausreichenden Pegeln erlangt werden können, trotz einem schmalen Spurabstand.
  • Indessen ist in diesen optischen Aufzeichnungsmedien zumindest eine der ersten und zweiten Rillen eine Wobbelrille, welche gebildet ist, so dass zumindest ein Abschnitt davon gewunden ist.
  • Dies erlaubt es, ein optisches Aufzeichnungsmedium herzustellen, in welchem zumindest eine der ersten und zweiten Rillen eine Wobbelrille ist, von welcher zumindest ein Abschnitt gewunden ist. Mit dem optischen Aufzeichnungsmedium, welches so zubereitet ist, kann die Adressinformation zu nichts anderem als zu den Rillen hinzugefügt werden.
  • Die vorliegende Erfindung sieht vor, dass das optische Aufzeichnungsmedium durch eine optische Aufzeichnungs- und/oder Reproduktionsvorrichtung zum Aufzeichnen und/oder Reproduzieren der Information durch Bestrahlen des Lichts mit einer Wellenlänge λ auf ein optisches Aufzeichnungsmedium reproduziert wird, welches eine Rille aufweist, welche entlang einer Aufzeichnungsspur gebildet ist, wobei das optische Aufzeichnungsmedium eines ist, bei welchem als die Rille eine erste Rille und eine zweite Rille mit einer ersten Tiefe gebildet sind, um eine Doppelspirale zu beschreiben, und wobei n, welches eine dritte Rille ist, welche eine zweite Tiefe aufweist, welche flacher als die erste Tiefe ist, zwischen den ersten und zweiten Rillen gebildet ist, welche Doppelspiralen bilden.
  • Bei der vorliegenden optischen Aufzeichnungs- und/oder Reproduktionsvorrichtung, in welcher eine dritte Rille, welche eine zweite Tiefe aufweist, welche flacher als die erste Tiefe ist, zwischen den ersten und zweiten Rillen gebildet ist, welche Doppelspiralen beschreiben, ist der Boden der dritten Rille des optischen Aufzeichnungsmediums im Wesentlichen flach, um es zu erlauben, Signale herzustellen, welche zur Servo-Spureinstellung oder zur Suche erforderlich sind.
  • In der vorliegenden optischen Aufzeichnungs- und/oder Reproduktionsvorrichtung, wenn eine Phasentiefe der ersten und zweiten Rillen, welche durch x × nx/λ repräsentiert wird, wobei x die erste Tiefe ist und nx ein Brechungsindex eines Mediums von der Lichteinfallsfläche zu den ersten und zweiten Rillen ist, gleich X ist, und wenn eine Phasentiefe der dritten Rille, welche durch y × ny/λ repräsentiert wird, wobei y die zweite Tiefe ist und ny ein Brechungsindex eines Mediums von der Lichteinfallsfläche zu der dritten Rille ist, gleich Y ist, die ersten, zweiten und dritten Rillen zum Erfüllen der Gleichungen (1) bis (3) oder der Gleichungen (4) und (5) ausgelegt sind: Y ≥ 36.9189 – 208.0190X + 294.3845X2 (1) Y ≥ –1.2977 + 8.2017X – 15.8226X2 + 12.3273X3 (2) Y ≤ –214.05681 + 2423.29342X – 10933.24673X2 + 24597.79851X3 – 27576.99399X4 + 12319.79865X5 (3) Y ≥ –4.6463 + 30.2156X – 64.3100X2 + 47.1308X3 (4) Y ≤ 2.7669 – 20.0529X + 48.0353X2 – 35.4870X3 (5).
  • Da die ersten bis dritten Rillen des optischen Aufzeichnungsmediums gebildet sind, um die obigen Gleichungen (1) bis (3) oder die Gleichungen (4) und (5) zu erfüllen, können die Signale, welche zur Servo-Spureinstellung oder zur Suche erforderlich sind mit ausreichenden Pegeln erhalten werden, sogar bei einem engen Spurabstand Alternativ werden die ersten bis dritten Rillen des optischen Aufzeichnungsmediums vorzugsweise gebildet, um die folgenden Gleichungen (6) und (7) oder die Gleichungen (8) und (9) zu erfüllen. Y ≥ 0.8680 – 7.3968X + 21.8561X2 – 17.5125X3 (6) P ≤ –261.77076 + 3646.50412X – 20988.26504X2 + 63944.54992X3 – 108758.21706X4 + 97951.29191X5 – 36518.20328X6 (7) Y ≥ 10.2606 – 60.3765X + 118.5901X2 – 75.9408X3 (8) Y ≤ 6.8296 + 29.9281X – 38.6228X2 + 14.0747X3 (9).
  • In der vorliegenden optischen Aufzeichnungs- und/oder Reproduktionsvorrichtung, in welcher die ersten bis dritten Rillen des optischen Aufzeichnungsmediums gebildet sind, um die Gleichungen (6) und (7) oder die Gleichungen (8) und (9) zu erfüllen, können die Signale, welche zur Servo-Spureinstellung oder zur Suche erforderlich sind mit ausreichenden Pegeln erhalten werden, sogar bei einem schmalen Spurabstand.
  • Alternativ werden die ersten Bis dritten Rillen des optischen Aufzeichnungsmediums vorzugsweise gebildet, um die folgenden Gleichungen (10) bis (12) zu erfüllen: Y ≥ 0.8680 – 7.3968X + 21.8561X2 – 17.5125X3 (10) Y ≥ 36.9189 – 208.0190X + 294.3845X2 (11). Y ≤ –214.05681 + 2423.29342X – 10933.24673X2 + 24597.79851X3 – 27576.99399X4 + 12319.79865X5 (12)
  • In der vorliegenden optischen Aufzeichnungs- und/oder Reproduktionsvorrichtung, in welcher die ersten bis dritten Rillen des optischen Aufzeichnungsmediums gebildet sind, um die Gleichungen (10) bis (12) zu erfüllen, können die Signale, welche zur Servo-Spureinstellung oder zur Suche erforderlich sind, mit ausreichenden Pegeln erhalten werden, sogar bei einem schmalen Spurabstand.
  • Indessen ist bei dieser Aufzeichnungs- und/oder Reproduktionsvorrichtung zumindest eine der ersten und zweiten Rillen eine Wobbelrille, welche gebildet ist, so dass zumindest ein Abschnitt davon gewunden ist. Dies ermöglicht, dass die Signale, welche zur Servo-Spureinstellung oder zur Suche erforderlich sind, optimal hergestellt werden.
  • Weitere Aufgaben, Merkmale und Vorteile der vorliegenden Erfindung werden aus der folgenden Beschreibung der bevorzugten Ausführungsform davon und den Ansprüchen offensichtlich.
  • KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
  • 1 stellt ein Verfahren zum Detektieren von Gegentaktsignalen und Querspur-Signalen dar.
  • 2 stellt das Gegentaktsignal-Amplitudenverhältnis und das Querspur-Signalamplitudenverhältnis dar.
  • 3 ist eine Querschnittsansicht, welche wesentliche Abschnitte einer typischen magneto-optischen Platte der vorliegenden Erfindung in vergrößertem Maßstab zeigt.
  • 4 ist eine Draufsicht, welche einen Abschnitt eines Aufzeichnungsbereichs einer typischen magneto-optischen Platte der vorliegenden Erfindung in einem vergrößerten Maßstab zeigt.
  • 5 ist ein Blockdiagramm, welches eine schematische Darstellung eines optischen Systems einer typischen Laserschneidvorrichtung zeigt, welche bei der Zubereitung eines optischen Aufzeichnungsmediums verwendet wird, und eine Masterplatte für die Zubereitung des optischen Aufzeichnungsmediums gemäß der vorliegenden Erfindung.
  • 6 ist ein Graph, welcher die Relation zwischen der Phasentiefe einer tiefen Rille und einer flachen Rille zeigt, wenn das Gegentaktsignal-Amplitudenverhältnis nicht weniger als 0,14 ist, und das Querspur-Signalamplitudenverhältnis nicht weniger als 0,6 ist.
  • 7 ist ein Graph, welcher die Relation zwischen der Phasentiefe einer tiefen Rille und einer flachen Rille zeigt, wenn das Gegentaktsignal- Amplitudenverhältnis nicht weniger als 0,06 ist, und das Querspur-Signalamplitudenverhältnis nicht weniger als 0,14 ist.
  • 8 ist ein Graph, welcher die Relation zwischen der Phasentiefe einer tiefen Rille und einer flachen Rille zeigt, und auch gerade Linien L1 bis L3 in 6 und gerade Linien L1 und L2' in 7 zeigt.
  • BESCHREIBUNG DER BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSFORMEN
  • Bezugnehmend auf die Zeichnungen wird ein optisches Aufzeichnungsmedium, eine Masterplatte, welche für die Zubereitung des optischen Aufzeichnungsmediums verwendet wird, und eine optische Aufzeichnungs- und/oder Reproduktionsvorrichtung zum Aufzeichnen und/oder Reproduzieren von Informationssignalen für solch ein optisches Aufzeichnungsmedium gemäß der vorliegenden Erfindung im Detail erläutert werden.
  • <Magneto-optische Platte>
  • Als erstes wird eine magneto-optische Platte, ein optisches Aufzeichnungsmedium, welches die vorliegende Erfindung verkörpert, mit Bezug auf 3 und 4 erläutert werden.
  • Bei einer magneto-optischen Platte 1 gemäß der vorliegenden Erfindung werden Daten durch Ausnutzen des photomagnetischen Effekts aufgezeichnet. Bezugnehmend auf 3 enthält diese magneto-optische Platte 1 ein Plattensubstrat 2, welches z. B. aus Polymethylmethacrylat (PMMA) oder Polycarbonat (PC) gebildet ist, eine Aufzeichnungsschicht 3, auf welcher ein photomagnetisches Aufzeichnen auszuführen ist, und eine Schutzschicht 4 zum Schützen dieser Aufzeichnungsschicht 3. Die Aufzeichnungsschicht 3 ist eine sequentiell geschichtete Struktur, welche aus einem dielektrischen Film aus z. B. SiN, einem senkrechten magnetischen Aufzeichnungsfilm aus z. B. TeFeCo-Legierungen, einem dielektrischen Film aus z. B. SiN und einem reflektierenden Film z. B. aus A1 aufgebaut ist. Die Schutzschicht 4 ist eine Schicht aus einem UV-aushärtbaren Kunstharz, welcher auf die Aufzeichnungsschicht 3 aufgesponnen ist. In der vorliegenden Erfindung kann die Struktur der Aufzeichnungsschicht 3 oder der Schutzschicht 4 optional ausgewählt werden, ohne auf die Struktur beschränkt zu sein, welche hier dargestellt wird.
  • Auf der Oberfläche der magneto-optischen Platte 1, welche die Aufzeichnungsschicht 3 und die Schutzschicht 4 trägt, sind eine Wobbelrille 5 und eine gerade Rille 6 als Führungsrillen gebildet, um eine Doppelspirale zu bilden, d. h. auf solch eine Weise, dass diese Rillen 5, 6 eine Doppelspirale mit der gleichen Tiefe beschreiben werden, welche unten als eine erste Tiefe x bezeichnet wird.
  • Diese Wobbelrille und die gerade Rille 6 sind gewunden mit einer konstanten Periode mit einer Amplitude von ± 10 nm gebildet. Somit wird bei der magneto-optischen Platte 1 die Adresseinformation an die Rille durch Wobbeln einer der Rillen, hier die Wobbelrille 5, bei einer Amplitude von ± 10 nm angehängt.
  • Wie in 4 gezeigt ist, ist in einem Abschnitt der magneto-optischen Platte 1, welcher zwischen der Doppelspiralen-Wobbelrille und der geraden Rille 6 eingegrenzt ist, und welcher die Wobbelrille 5 auf der inneren Plattenrandseite aufweist, eine flache Rille 7 einer flacheren Tiefe gebildet als die Tiefe der Wobbelrille 5 und der geraden Rille 6, und welche unten als eine zweite Tiefe y bezeichnet wird.
  • Der Abschnitt der magneto-optischen Platte 1, welcher zwischen der Wobbelrille 5 und der geraden Rille 6 eingegrenzt ist, und welcher die gerade Rille 6 auf der inneren Plattenrandseite aufweist, dient als Land 8.
  • In der vorliegenden magneto-optischen Platte 1 wird ein photomagnetisches Datenaufzeichnen in der Wobbelrille 5 und in der geraden Rille 6 ausgeführt, d. h. Aufzeichnungsspuren, in welchen Informationssignale aufzuzeichnen sind, werden in der Wobbelrille 5 und in der geraden Rille 6 gebildet.
  • In dieser magneto-optischen Platte 1 ist der Spurabstand 0,50 μm. Der Spurabstand entspricht einem Intervall der Mittellinien der geraden Rille 6 und der Wobbelrille 5, welche die Doppelspirale beschreiben. Insbesondere ist in der vorliegenden magneto-optischen Platte 1 der Abstand zwischen den Mittelpositionen der geraden Rille 6 und der Wobbelrille 5 0,50 μm.
  • In der folgenden Beschreibung wird das Intervall zwischen benachbarten geraden Rillen 6 als Spurperiode bezeichnet. Diese Spurperiode ist der doppelte Spurabstand. In dieser magneto-optischen Platte 1 ist die Spurperiode 1,00 μm.
  • In der bevorzugten Ausführungsform repräsentieren die zwei Rillen, nämlich die Wobbelrille 5 und die gerade Rille 6 Doppelspiralrillen. Jedoch können in der magneto-optischen Platte gemäß der vorliegenden Erfindung beide dieser Rillen gerade Rillen oder Wobbelrillen sein. Jedoch, wenn die Rille/die Rillen gewobbelt sind, können die Rille/die Rillen per se die Adressinformation enthalten. Darüber hinaus, wenn eine der Rillen die Wobbelrille ist, wobei die andere eine geradere Rille ist, können Spurbreiten schmaler sein als wenn beide Rillen Wobbelrillen sind, wobei eine höhere Aufzeichnungsdichte realisiert wird.
  • Hier sind die Aufzeichnungsspuren in der Wobbelrille 5 und in der geraden Rille 6 gebildet. Jedoch können in dem optischen Aufzeichnungsmedium gemäß der vorliegenden Erfindung die Aufzeichnungsspuren in der flachen Rille 7 oder in dem Land 8 gebildet sein. Alternativ können Aufzeichnungsspuren in dem Land oder den Rillenabschnitten gebildet sein, wie in dem Fall des Land-Rillen-Aufzeichnens.
  • In der magneto-optischen Platte 1 der vorliegenden Erfindung sind die Wobbelrille 5 und die gerade Rille 6 gebildet, so dass die erste Tiefe x der Wobbelrille 5 und der geraden Rille 6 den gleichen Wert haben, und so dass die zweite Tiefe y der flachen Rille 7 flacher sein wird als die erste Tiefe x.
  • So wird bei der magneto-optischen Platte 1 die Bodenoberfläche der flachen Rille 7 im Wesentlichen eben, anders gesagt, ist diese flache Rille 7 hervortretend gebildet in einer im Wesentlichen trapezoiden Form von der Bodenoberfläche der Wobbelrille 5 und der geraden Rille 6, und ist von einer optimalen Form, um die Ultraauflösung zu schaffen. So können mit der vorliegenden magneto-optischen Platte 1 Signale, welche zur Servo-Spureinstellung oder zur Suche notwendig sind, zufriedenstellend hergestellt werden.
  • In der folgenden Beschreibung werden die Wobbelrille 5 und die gerade Rille 6 manchmal kollektiv als tiefe Rillen bezeichnet, im Gegensatz zu der flachen Rille 7.
  • In der magneto-optischen Platte 1 der vorliegenden Erfindung, wenn die Phasentiefe der tiefen Rille 9 repräsentiert wird durch x × nx/λ, wobei λ die Wellenlänge des Laserlichts ist, welches zum Aufzeichnen und/oder Reproduzieren der magneto-optischen Platte 1 verwendet wird, und nx der Brechungsindex des Mediums von der Lichteinfallsfläche der magneto-optischen Platte 1 zu der tiefen Rille 9 ist, und wenn die Phasentiefe der flachen Rille 7 durch y × ny/λ repräsentiert wird, wobei nx der Brechungsindex des Mediums von der Lichteinfallsfläche der magneto-optischen Platte 1 zu der flachen Rille 7 ist, sind die tiefe Rille 9 und die flache Rille 7 gebildet, so dass die folgenden Gleichungen (1-1), (1-2) und (1-3) oder die folgenden Gleichungen (1-5) und (1-6) erfüllt werden: Y ≥ 36,9189 – 208,0190X + 294,3845X2 (1-1) Y ≥ –1,2977 + 8,2017X – 15,8226X2 + 12,3273X3 (1-2) Y ≤ –214,05681 + 2423,29342X – 10933,24673X2 + 24597,79851X3 – 27576,99399X4 + 12319,79865X5 (1-3) Y ≥ –4,6463 + 30,2156X – 64,3100X2 + 47,1308X3 (1-4) Y ≤ 2,7669 – 20,0529X + 48,0353X2 – 35,4870X3 (1-5).
  • Indessen sind ein Medium von der Lichteinfallsfläche der magneto-optischen Platte 1 zu der tiefen Rille 9 und ein Medium von der Lichteinfallsfläche zu der flachen Rille 7 beide das Plattensubstrat 2. Daher, wenn der Brechungsindex des Plattsubstrats 2 n ist, ist nx = ny = n.
  • In der oben beschriebenen magneto-optischen Platte 1, können, da die tiefe Rille 9 und die flache Rille 7 gebildet sind, um die Gleichungen (1-1), (1-2) und (1-3) oder die Gleichungen (1-4) und (1-5) zu erfüllen, die Signale, welche zur Servo-Spureinstellung oder zur Suche notwendig sind, mit einem ausreichenden Pegel hergestellt werden.
  • Darüber hinaus sind in der magneto-optischen Platte 1 der vorliegenden Erfindung die tiefe Rille 9 und die flache Rille 7 vorzugsweise gebildet, um die folgenden Gleichungen (1-10), (1-11) und (1-12) zu erfüllen: Y ≥ 0,8680 – 7,3968X + 21,8561X2 – 17,5125X3 (1-10) Y ≥ 36,9189 – 208,0190X + 294,3845X2 (1-11) Y ≤ –214,05681 + 2423,29342X – 10933,24673X2 + 24597,79851X3 – 27576,99399X4 + 12319,79865X5 (1-12).
  • In der oben beschriebenen magneto-optischen Platte, da die tiefe Rille 9 und die flache Rille 7 gebildet sind, um die Gleichungen (1-10), (1-11) und (1-12) zu erfüllen, wie aus dem experimentellen Ergebnissen offensichtlich wird, wie später erläutert wird, kann ein Signal, welches zur Servo-Spureinstellung oder zur Suche erforderlich ist, mit einem ausreichenden Pegel hergestellt werden.
  • <Laserschneidvorrichtung>
  • Beim Zubereiten der magneto-optischen Platte 1, wie oben beschrieben, wird eine Laserschneidvorrichtung zum Zubereiten einer Masterplatte für die Zubereitung der magneto-optischen Platte 1 verwendet. Eine beispielhafte Laserschneidvorrichtung, welche beim Zubereiten der Masterplatte für das Aufzeichnungsmedium verwendet wird, wird im Detail mit Bezug auf 5 erläutert werden.
  • Eine Laserschneidvorrichtung 10, welche in 5 gezeigt ist, wird zum Belichten eines Photoresists 12, welcher auf einem Glassubstrat 11 beschichtet ist, mit Licht verwendet, um ein latentes Bild zu bilden. Wenn ein latentes Bild durch die Laserschneidvorrichtung 10 auf dem Photoresist 12 gebildet ist, wird das Glassubstrat 11, welches mit dem Photoresist 12 beschichtet ist, auf eine Drehantriebseinheit montiert, welche wiederum auf einem bewegbaren optischen Tisch montiert ist. Wenn das Photoresist 12 mit Licht zu belichten ist, wird das Glassubstrat 11 drehend durch die Drehantriebseinheit betrieben, wie durch Pfeil C1 gekennzeichnet ist, so dass die gesamte Oberfläche des Photoresists 12 mit Licht in einem gewünschten Muster belichtet wird, während das Glassubstrat 11 durch den bewegbaren optischen Tisch versetzt wird.
  • Mit der vorliegenden Laserschneidvorrichtung 10 kann das Photoresist 12 mit Licht durch drei Belichtungslichtstrahlen belichtet werden, so dass ein latentes Bild entsprechend der Wobbelrille 5, ein latentes Bild entsprechend der geraden Rille 6 und ein latentes Bild entsprechend der flachen Rille 7 durch jeweilige Belichtungslichtstrahlen gebildet werden. Insbesondere werden mit der vorliegenden Laserschneidvorrichtung 10 die latenten Bilder entsprechend der flachen Rille 7, der Wobbelrille 5 und der geraden Rille 6 jeweils durch erste bis dritte Belichtungslichtstrahlen gebildet.
  • Diese Laserschneidvorrichtung 10 enthält eine Lichtquelle 13 zum Bestrahlen des Laserlichts, einen elektro-optischen Modulator (EOM) 14 zum Einstellen der Intensität des Laserlichts, welches von einer Lichtquelle 13 abgestrahlt wird, einen Analysator 15, welcher auf einer optischen Achse des Laserlichts angeordnet ist, welches von dem elektro-optischen Modulator 14 abgestrahlt wird, einen ersten Strahlteiler 16 zum Trennen des Laserlichts, welches durch den Analysator 15 übertragen wird, in reflektiertes Licht und transmittiertes Licht, einen zweiten Strahlteiler 17 zum Trennen des Laserlichts, welches durch den ersten Strahlteiler 16 transmittiert wird, in reflektiertes Licht und transmittiertes Licht, einen dritten Strahlteiler 18 zum Trennen des Laserlichts, welches durch den zweiten Strahlteiler 17 transmittiert wird, in reflektiertes Licht und transmittiertes Licht, einen Photodetektor PD 19 zum Detektieren des Laserlichts, welches durch den dritten Strahlteiler 18 transmittiert wird, und einen automatischen Leistungsregler (APC) 20 zum anlegen eines elektrischen Signalfelds an den elektro-optischen Modulator 14, um die Intensität des Laserlichts einzustellen, welches von dem elektro-optischen Modulator 14 abgestrahlt wird.
  • In der vorliegenden Laserschneidvorrichtung 10 wird das Laserlicht, welches von der Lichtquelle 13 abgestrahlt wird, auf eine voreingestellte Intensität durch den elektro-optischen Modulator 14 eingestellt, welcher durch das elektrische Signalfeld angesteuert wird, welches durch den automatischen Leistungsregler 20 angelegt wird, bevor es auf den Analysator 15 einfällt. Der Analysator 15 überträgt nur S-polarisiertes Licht, so dass das Laserlicht, welches durch diesen Analysator 15 transmittiert wird, S-polarisiert ist.
  • Obwohl die Lichtquelle 13 von jeglicher geeigneter Konfiguration sein kann, ist solch eine Lichtquelle, welche das Laserlicht einer kürzeren Wellenlänge abstrahlt, wünschenswert. Insbesondere ist ein Kr-Laser, welcher Laserlicht mit einer Wellenlänge λ von 413 nm abstrahlt oder ein He-Cd-Laser, welcher das Laserlicht mit einer Wellenlänge λ von 422 nm emittiert, als die Lichtquelle 13 wünschenswert.
  • Das Laserlicht, welches durch den Analysator 15 transmittiert wird, wird durch den ersten Strahlteiler 16 in das reflektierte Licht und das transmittierte Licht aufgeteilt. Das Laserlicht, welches durch den ersten Strahlteiler 16 transmittiert wird, wird durch den zweiten Strahlteiler 17 in das reflektierte und transmittierte Licht aufgeteilt, während das Laserlicht, welches durch den zweiten Strahlteiler 17 transmittiert wird, durch den dritten Strahlteiler 18 in das reflektierte Licht und das transmittierte Licht aufgeteilt wird.
  • Indessen wird bei dieser Laserschneidvorrichtung 10 das Laserlicht, welches durch den ersten Strahlteiler 16 reflektiert wird, ein erster Belichtungslichtstrahl, während das Laserlicht, welches durch den zweiten Strahlteiler 17 reflektiert wird, ein zweiter Belichtungslichtstrahl wird, und das Laserlicht, welches durch den dritten Strahlteiler 18 reflektiert wird, ein dritter Belichtungslichtstrahl wird.
  • Von dem Laserlicht, welches durch den dritten Strahlteiler 18 transmittiert wird, wird die Intensität durch den Photodetektor 19 detektiert und ein Signal entsprechend der Lichtintensität wird von dem Photodetektor 19 zu dem automatischen Leistungsregler 20 gesendet. In Antwort auf ein Signal, welches von dem Photodetektor 19 gesendet wird, stellt der automatische Leistungsregler 20 das elektrische Signalfeld ein, welches an den elektro-optischen Modulator 14 angelegt wird, so dass die Lichtintensität, wie durch den Photodetektor 19 detektiert, konstant auf einem voreingestellten Niveau sein wird. Dies bewirkt eine automatische Lichtleistungssteuerung (APC), welche eine konstante Lichtintensität des Laserlichts vorsehen wird, welches von dem elektro-optischen Modulator 14 abgestrahlt wird, um einen stabilen Laserlichtstrahl mit weniger Rauschen zu erreichen.
  • Die Laserschneidvorrichtung 10 enthält auch ein erstes optisches Modulationssystem 21 zum Modulieren der Intensität des Laserlichts, welches durch den ersten Strahlteiler 16 reflektiert wird, ein zweites optisches Modulationssystem 22 zum Modulieren der Intensität des Laserlichts, welches durch den zweiten Strahlteiler 18 reflektiert wird, und ein optisches System 24 zum Re-snythetisieren der jeweiligen Laserlichtstrahlen, welche zur Lichtintensität durch die ersten bis dritten optischen Modulationssystem 21 bis 23 moduliert werden, zum Konvergieren der re-synthetisierten Lichtstrahlen auf dem Photoresist 12.
  • Der erste Belichtungslichtstrahl, welcher durch den ersten Strahlteiler 16 reflektiert wird, wird zu dem ersten optischen Modulationssystem 21 geleitet, und in der Lichtintensität durch das erste optische Modulationssystem 21 moduliert. Ähnlich wird der zweite Belichtungslichtstrahl, welcher durch den zweiten Strahlteiler 17 reflektiert wird, zu dem zweiten optischen Modulationssystem 22 geleitet, und wird dadurch in der Lichtintensität moduliert, während der dritte Belichtungslichtstrahl, welcher durch den dritten Strahlteiler 18 reflektiert wird, zu dem dritten optischen Modulationssystem 23 geleitet wird, und dadurch in der Lichtintensität moduliert wird.
  • Insbesondere wird der erste Belichtungslichtstrahl, welcher auf das erste optische Modulationssystem 21 einfällt, durch eine konvexe Linse 25 konvergiert, um auf einen akusto-optischen Modulator 26 zu fallen, um so in der Lichtintensität moduliert zu werden, um einem gewünschten Lichtbelichtungsmuster zu entsprechen. Ein akusto-optisches Element, welches für den akusto-optischen Modulator 26 verwendet wird, kann z. B. aus Telluroxid (TeO2) gebildet sein. Der erste Belichtungslichtstrahl, welcher in der Lichtintensität durch den akusto-optischen Modulator 26 moduliert wird, wird durch eine Kollimatorlinse 27 kollimiert, um so von dem ersten optischen Modulationssystem 21 abgestrahlt zu werden.
  • Der akusto-optische Modulator 26 ist mit einem Betätigungstreiber 28 zum Ansteuern des akusto-optischen Modulators 26 ausgerüstet. Während des Belichtens des Photoresists 12 mit Licht wird ein Signal S1 in Übereinstimmung mit einem gewünschten Lichtbelichtungsmuster dem Betätigungstreiber 28 eingegeben, so dass der akusto-optische Modulator 26 durch den Betätigungstreiber 28 in Übereinstimmung mit dem Signal S1 angesteuert wird, und in der Lichtintensität hinsichtlich des ersten Belichtungslichtstrahls moduliert wird.
  • Insbesondere, wenn ein latentes Bild eines Wellenmusters, welches der flachen Rille 7 einer voreingestellten Tiefe entspricht, in dem Photoresist 12 gebildet werden soll, wird ein DC-Signal eines voreingestellten Pegels an den Betätigungstreiber 28 angelegt, so dass der akusto-optische Modulator 26 durch den Betätigungstreiber 28 in Reaktion auf dieses DC-Signal angesteuert wird. Dies moduliert den ersten Belichtungslichtstrahl in der Lichtintensität beim Halten mit dem gewünschten Wellenmuster.
  • Der zweite Belichtungslichtstrahl, welcher auf das zweite optische Modulationssystem 22 einfällt, wird durch eine konvexe Linse 29 konvergiert, um auf einen akusto-optischen Modulator 30 zu fallen, um so in der Lichtintensität in Übereinstimmung mit dem gewünschten Belichtungslichtmuster moduliert zu werden. Ein akusto-optischer Modulator, welcher für den akusto-optischen Modulator 30 verwendet wird, ist vorzugsweise ein akusto-optischer Modulator, welcher z. B. aus Telleroxid TeO2 gebildet ist. Der zweite Belichtungslichtstrahl, welcher in der Lichtintensität durch den akusto-optischen Modulator 30 moduliert wird, wird durch eine Kollimatorlinse 31 kollimiert, um so von dem zweiten optischen Modulationssystem 22 abgestrahlt zu werden.
  • Der akusto-optische Modulator 30 ist mit einem Betätigungstreiber 32 zum Ansteuern des akusto-optischen Modulators 30 ausgerüstet. Während der Belichtung des Photoresist mit Licht wird ein Signal S2, welches dem gewünschten Lichtbelichtungsmuster entspricht, dem Betätigungstreiber 32 eingegeben. In Reaktion auf dieses Signal S2 wird der akusto-optische Modulator 30 durch den Betätigungstreiber 32 angesteuert, um den zweiten Belichtungslichtstrahl bezüglich der Lichtintensität zu modulieren.
  • Insbesondere, wenn ein latentes Bild eines Rillenmusters entsprechend einer Wobbelrille 5 von einer voreingestellten Tiefe in dem Photoresist 12 gebildet wird, wird ein DC-Signal eines konstanten Pegels an den Betätigungstreiber 32 eingegeben, so dass der akusto-optische Modulator 30 durch den Betätigungstreiber 32 in Reaktion auf das DC-Signal angesteuert wird. Dies moduliert den zweiten Belichtungslichtstrahl bezüglich der Lichtintensität in Übereinstimmung mit einem gewünschten Rillenmuster.
  • Andererseits wird ein dritter Belichtungslichtstrahl, welcher auf das dritte optische Modulationssystem 23 einfällt, durch eine Licht konvergierende Linse 33 konvergiert, um auf einen akusto-optischen Modulator 34 zu fallen, um so dadurch bezüglich der Lichtintensität im Übereinstimmen mit dem gewünschten Lichtbelichtungsmuster moduliert zu werden. Als ein akusto-optisches Element, welches für den akusto-optischen Modulator 34 verwendet wird, ist ein derartiges Element, welches z. B. aus Telleroxid TeO2 zusammengesetzt ist, wünschenswert. Der dritte Belichtungslichtstrahl, welcher bezüglich der Lichtintensität durch den akusto-optischen Modulator 34 moduliert wird, wird durch eine Kollimatorlinse 35 kollimiert und durch ein λ/2-Plättchen 36 transmittiert, wobei seine Richtung der Polarisation um 90° gedreht wird, und wird durch das dritte optische Modulationssystem abgestrahlt.
  • Auf dem akusto-optischen Modulator 34 ist ein Betätigungstreiber 37 zum Ansteuern des akusto-optischen Modulators 34 montiert. Während der Belichtung des Photoresists 12 mit Licht wird ein Signal S3 entsprechend einem gewünschten Lichtbelichtungsmuster dem Betätigungstreiber 37 eingegeben. Der akusto-optische Modulator 34 wird durch den Betätigungstreiber 37 betätigt, in Reaktion auf das Signal S3, um den dritten Belichtungslichtstrahl bezüglich der Lichtintensität zu modulieren.
  • Insbesondere, wenn ein latentes Bild des Rillenmusters entsprechend der geraden Rille 6 von einer voreingestellten Tiefe in dem Photoresist 12 gebildet werden soll, wird ein DC-Signal an den Betätigungstreiber 37 eingegeben, so dass der akusto-optische Modulator 34 durch den Betätigungstreiber 37 in Reaktion auf dieses DC-Signal angesteuert wird. Dies moduliert den dritten Belichtungslichtstrahl im Übereinstimmen mit dem gewünschten Rillenmuster bezüglich der Lichtintensität.
  • Indessen nutzen die akusto-optischen Modulatoren (AOMs) 26, 30, 34 die Tatsache aus, dass die Lichtintensität des gebrochenen Lichts der ersten Ordnung bei der Bragg'schen Beugung ungefähr proportional der Ultraschallenergie ist, und moduliert die Ultraschallenergie basierend auf Aufzeichnungssignalen, um das Laserlicht zu modulieren. Diese akusto-optischen Modulatoren 26, 30, 34 und die Lichtquelle 13 sind angeordnet, um die Bragg'sche Bedingung 2dsinθ = nλ zu erfüllen, wobei d der Gitterabstand ist, λ die Wellenlänge des Laserlichts ist, und θ ein Winkel in einer ganzen Zahl ist, welcher zwischen dem Laserlicht und der Gitterebene definiert ist.
  • Der erste Belichtungslichtstrahl wird durch das erste optische Modulationssystem 21 bezüglich der Lichtintensität moduliert, während die zweiten und dritten Belichtungslichtstrahlen durch die zweiten bzw. dritten optischen Modulationssystem 22, 23 bezüglich der Lichtintensität moduliert werden. Die ersten und zweiten Belichtungslichtstrahlen, welche von dem ersten und zweiten optischen Modulationssystem 21, 22 abgestrahlt werden, verbleiben S-polarisiert, während der dritte Belichtungslichtstrahl, welcher von dem dritten optischen Modulationssystem 23 abgestrahlt wird, seine Richtung der Lichtpolarisation um 90° gedreht durch das λ/2-Plätten 36 transmittiert wird, so dass er P-polarisiert wird.
  • Der erste Belichtungslichtstrahl, welcher von dem ersten optischen Modulationssystem 21 abgestrahlt wird, wird durch einen Spiegel 40 reflektiert, und wird dazu gebracht, sich horizontal parallel auf dem bewegbaren optischen Tisch zu bewegen. Ähnlich wird der dritte Belichtungslichtstrahl, welcher von dem dritten optischen Modulationssystem 23 abgestrahlt wird, durch einen Spiegel 42 reflektiert und wird dazu gebracht, sich horizontal parallel auf dem bewegbaren optischen Tisch zu bewegen.
  • Der erste Belichtungslichtstrahl, welcher von dem ersten optischen Modulationssystem 21 abgestrahlt wird, und dazu gebracht wird, sich horizontal parallel auf dem bewegbaren optischen Tisch zu bewegen, wird durch den Spiegel 43 reflektiert, und weist eine fortlaufende Richtung auf, welche um 90° gekrümmt ist, um so über einen Halbspiegel 44 auf den polarisierenden Strahlteiler 45 zu fallen. Der dritte Belichtungslichtstrahl, welcher von dem dritten optischen Modulationssystem 23 abgestrahlt wird, und welcher dazu gebracht wird, sich horizontal parallel auf dem bewegbaren optischen Tisch zu bewegen, fällt direkt auf den polarisierenden Strahlteiler 45 ein.
  • Die Rolle eines ablenkenden optischen Systems 46 ist es, optisch den zweiten Belichtungslichtstrahl abzulenken, um so das Wobbeln der Wobbelrille 5 aufzunehmen. Das heißt, der zweite Belichtungslichtstrahl, welcher von dem zweiten optischen Modulationssystem 22 abgestrahlt wird, um auf das ablenkende optische System 46 zu fallen, fällt auf einen akusto-optischen Deflektor (AOD) 48, über ein Keilprisma 47, um so optisch durch den akusto-optischen Deflektor 48 zum Übereinstimmen mit einem gewünschten Lichtbelichtungsmuster abgelenkt wird. Als ein akusto-optisches Element, welches für den akusto-optischen Deflektor 48 verwendet wird, ist ein solches Element, welches z. B. aus Telluroxid TeO2 zusammengesetzt ist, wünschenswert. Der zweite Belichtungslichtstrahl, welcher optisch durch den akusto-optischen Deflektor 48 abgelenkt wird, wird von dem ablenkenden optischen System 46 über das Keilprisma 49 abgestrahlt.
  • Die Rolle des Keilprismas 47, 48 ist es, zu bewirken, dass der zweite Belichtungslichtstrahl auf die Gitterebene des akusto-optischen Elements des akusto-optischen Deflektors 48 fällt, und die horizontale Höhe des Lichtstrahls unverändert zu halten, sogar wenn der zweite Belichtungslichtstrahl optisch durch den akusto-optischen Deflektor 48 abgelenkt wird. Anders gesagt sind der akusto-optische Deflektor 48 und das Keilprisma 49 derartig angeordnet, dass die Gitterebene des akusto-optischen Elements des akusto-optischen Deflektors 48 die Bragg'sche Bedingung in Zusammenhang mit dem zweiten Belichtungslichtstrahl erfüllt, und so dass die horizontale Höhe des zweiten Belichtungslichtstrahls, welcher von dem ablenkenden optischen System 46 abgestrahlt wird, unverändert verbleibt.
  • Der akusto-optische Deflektor 48 ist mit einem Betätigungstreiber 50 zum Betätigen des akusto-optischen Deflektors 48 ausgestattet. Der Betätigungstreiber 50 wird mit hochfrequenten Signalen, welche durch ein Steuersignal S4 frequenzmoduliert sind, welche die Adressinformation enthalten, von einem spannungsgesteuerten Oszillator (VCO) versorgt. Während der Lichtbelichtung des Photoresists 12 wird ein Signal entsprechend einem gewünschten Lichtbelichtungsmuster von dem VCO 51 zu dem Betätigungstreiber 50 eingegeben, um den akusto-optischen Deflektor 48 durch den Betätigungstreiber 50 zum Übereinstimmen mit diesem Signal zu betätigen, um den zweiten Belichtungslichtstrahl optisch abzulenken.
  • Insbesondere, wenn die Rille mit z. B. der Frequenz von 84,672 kHz gewobbelt wird, um die Adressinformation der Rille hinzuzufügen, wird ein hochfrequentes Signal mit einer Mittenfrequenz von z. B. 224 MHz frequenzmoduliert mit einen Steuersignal mit der Frequenz von 84,672 kHz, und wird von dem VCO 51 zu dem Betätigungstreiber 50 gesendet. Der akusto-optische Deflektor 48 wird durch den Betätigungstreiber 50 in Reaktion auf dieses Signal angesteuert, um den Bragg'schen Winkel des akusto-optischen Elements des akusto-optischen Deflektors 48 zu variieren, um den zweiten Belichtungslichtstrahl zum Übereinstimmen mit den Wobbeln mit einer Frequenz von 84,672 kHz abzulenken.
  • Der zweite Belichtungslichtstrahl, welcher optisch durch das Ablenken des optischen Systems 46 auf diese Weise zum Übereinstimmen mit dem Wobbeln der Wobbelrille 5 abgelenkt wird, weist eine fortschreitende Richtung auf, welche um 90° durch den Halbspiegel 44 gekrümmt ist, und ist dann auf dem polarisierenden Strahlteiler 45 einfallend.
  • Es wird angemerkt, dass der polarisierende Strahltaler 45 konstruiert ist, um das S-polarisierte Licht zu reflektieren, und um das P-polarisierte Licht zu transmittieren. Der erste Belichtungslichtstrahl, welcher von dem ersten optischen Modulationssystem 21 abgestrahlt wird, und der zweite Belichtungslichtstrahl, welcher von dem zweiten optischen Modulationssystem 22 abgestrahlt wird, und optisch durch das Ablenken des optischen Systems 46 abgelenkt wird, sind S-polarisiert, während der dritte Belichtungslichtstrahl, welcher von dem dritten optischen Modulationssystem 23 abgestrahlt wird, P-polarisiert ist. So werden die ersten und zweiten Belichtungslichtstrahlen durch diesen polarisierenden Strahlteiler 45 reflektiert, während der dritte Belichtungslichtstrahl durch den polarisierenden Strahlteiler 45 trasmittiert wird. Dies re-synthetisiert den ersten Belichtungslichtstrahl, welcher von dem ersten optischen Modulationssystem 21 abgestrahlt wird, der den zweiten Belichtungslichtstrahl, welcher von dem zweiten optischen Modulationssystem 22 abgestrahlt wird, und welcher optisch durch das Ablenken des optischen System 46 abgelenkt wird, und den dritten Belichtungslichtstrahl, welcher von dem dritten optischen Modulationssystem 23 abgestrahlt wird, so dass die jeweilige Fortschreitungsrichtung die gleiche sein wird.
  • Die ersten bis dritten Belichtungslichtstrahlen, welche re-synthetisiert sind, so dass die jeweilige Fortschreitungsrichtung die gleiche sein wird, und welche in diesem Zustand von dem polarisierenden Strahlteiler 45 abgestrahlt werden, werden eingestellt auf einen voreingestellten Strahldurchmesser durch die Vergrößerungslinse 52 und werden durch einen Spiegel 53 an eine optische Linse 54 reflektiert, um so dadurch auf dem Photoresist 12 konvergiert zu werden. Dies belichtet das Photoresist 12 mit Licht, um ein latentes Bild darauf zu bilden.
  • Das Glassubstrat 11, welches mit dem Photoresist 12 beschichtet ist, wird durch den bewegbaren optischen Tisch versetzt, so dass das Glassubstrat 11 in Drehung durch eine Drehantriebsvorrichtung in der Richtung, welche durch Pfeil C1 gekennzeichnet ist, betrieben wird, auf solch eine Weise, dass die gesamte Oberfläche des Photoresists 12 mit Licht in einem bestimmten Muster belichtet wird. Das Ergebnis ist, dass ein latentes Bild entsprechend dem Belichtungspfad durch die ersten bis dritten Belichtungslichtstrahlen auf der gesamten Oberfläche des Photoresists 12 gebildet wird.
  • Zum Bilden eines feineren Pit- oder Rillenmusters weist die optische Linse 54 zum Konvergieren des Lichts des Belichtungslichtstrahls auf dem Photoresist 12 vorzugsweise eine größere numerische Apertur NA auf. Insbesondere ist die optische Linse mit einer numerischen Apertur NA in der Größenordnung von 0,9 wünschenswert.
  • Beim Belichten der ersten bis dritten Belichtungslichtstrahlen auf dem Photoresist 12 können die Strahldurchmesser der ersten bis dritten Belichtungslichtstrahlen durch die Vergrößerungslinse 52 variiert werden, um die effektive numerische Apertur hinsichtlich der optischen Linse 54 einzustellen. Dies ermöglicht, dass die Punktdurchmesser der ersten bis dritten Belichtungslichtstrahlen auf der Oberfläche des Photoresists 12 konvergiert werden.
  • Zwischenzeitlich wird der zweite Belichtungslichtstrahl, welcher auf den polarisierenden Strahlteiler 45 einfällt, auf dieser reflektierenden Oberfläche von diesem polarisierenden Strahlteiler 45 mit dem dritten Belichtungslichtstrahl synthetisiert. Es wird angemerkt, dass der polarisierende Strahlteiler 45 derartig angeordnet ist, dass seine reflektierende Oberfläche einen mittleren Winkel hinsichtlich der Ausbreitungsrichtung des Lichts bildet, welches nach der Synthese der reflektierenden Oberfläche abgestrahlt wird.
  • Insbesondere ist der reflektierende Winkel der reflektierenden Oberfläche des polarisierenden Strahlteilers 45 derartig eingestellt, dass der Abstand zwischen einem Punkt des zweiten Belichtungslichtstrahls und einem Punkt des dritten Belichtungslichtstrahls in der radialen Richtung der Glasoberfläche 11 dem Spurabstand entspricht. Auf diese Weise kann der Abschnitt des Photoresists 12 in Register mit der flachen Rille 7 sein, d. h., ein Bereich des Photoresists 12, welcher zwischen einem Abschnitts des Photoresists 12 gebildet ist, ist in Register mit derr Wobbelrille 5, welche mit Licht des zweiten Belichtungslichtstrahls belichtet wird, und ein Abschnitt des Photoresists 12 ist in Register mit der geraden Rille 6, welche mit Licht des dritten Belichtungslichtstrahls belichtet wird.
  • Die oben beschriebene Laserschneidvorrichtung 10 weist ein optisches System auf, welches mit dem ersten Belichtungslichtstrahl zum Bilden eines latenten Bildes assoziiert ist, welches mit der flachen Rille 7 assoziiert ist, ein optisches System, welches mit dem zweiten Belichtungslichtstrahl zum Bilden eines latenten Bildes assoziiert ist, welches mit der Wobbelrille 5 assoziiert ist, und ein optisches System, welches mit dem dritten Belichtungslichtstrahls zum Bilden eines latenten Bildes assoziiert ist, welches mit der geraden Rille 6 assoziiert ist. Somit können unter Verwendung nur dieser Laserschneidvorrichtung 10 das latente Bild, welches mit der flachen Rille 7 assoziiert ist, das latente Bild, welches mit der Wobbelrille 5 assoziiert ist, und das latente Bild, welches mit der geraden Rillen 6 assoziiert ist, kollektiv gebildet werden. Darüber hinaus können bei dieser Laserschneidvorrichtung 20 die Beleuchtungspositionen der ersten bis dritten Belichtungslichtstrahlen leicht eingestellt werden durch Einstellen der Richtung des polarisierenden Strahlteilers 45 zum Synthetisieren der ersten bis dritten Belichtungslichtstrahlen, und der Richtung des Spiegels 43, welcher zum Reflektieren des ersten Belichtungslichtstrahls verwendet wird.
  • Darüber hinaus, wenn bei dieser Laserschneidvorrichtung 10 der Photoresist 12 mit Licht durch die ersten bis dritten Belichtungslichtstrahlen zu belichten ist, wird der Signalpegel des DC-Signals, welches den Betätigungstreibern 28, 32 und 37 eingegeben wird, eingestellt, um die Leistung der ersten bis dritten Belichtungslichtstrahlen einzustellen. Insbesondere wird die Energie des ersten Belichtungslichtstrahls auf einen Wert eingestellt, welcher schwächer als derjenige der Energie der zweiten und dritten Belichtungslichtstrahlen ist. Dies ermöglicht, dass die Tiefe des latenten Bildes für die flache Rille 7 flacher als diejenige der Wobbelrille 5 und der geraden Rille 6 ist.
  • Die Bodenoberfläche des latenten Bildes, welche der flachen Rille 7 entspricht, ist im Wesentlichen flach. Anders gesagt, ragt das latente Bild entsprechend der flachen Rille 7 in einer im Wesentlichen trapezoiden Form von der Bodenoberfläche der latenten Bilder der Wobbelrille 5 und der geraden Rille 6 hervor, wodurch eine optimale Form präsentiert wird, welche mit der Ultraauflösung kompatibel ist.
  • Indessen können die latenten Bilder der Wobbelrille 5, der geraden Rille 6 und der geraden Rille 6 in der Breite eingestellt werden durch Einstellen des Signalpegels der DC-Signale, welche den Betätigungstreibern 28, 32 und 37 eingegeben werden.
  • <Verfahren für die Zubereitung einer magneto-optischen Platte>
  • Ein spezifisches Beispiel eines Verfahrens für die Zubereitung einer magneto-optischen Platte 1, welche in 3 und 4 gezeigt ist, wird nun im Detail erläutert werden.
  • Beim Zubereiten einer magneto-optischen Platte wird eine Masterplatte für die Zubereitung eines Aufzeichnungsmediums, welches ein Muster von Scheiteln und Rillen entsprechend der Wobbelrille 5, der geraden Rille 6 und der flachen Rille 7 aufweist, mittels eines Masterplattenverfahrens zubereitet.
  • In diesem Masterplattenverfahren wird ein plattenförmiges Glassubstrat 11, dessen Oberfläche poliert ist, gewaschen und getrocknet. Das resultierende Glassubstrat 11 wird dann mit dem Photoresist 12 als das photosensitive Material beschichtet. Das Photoresist 12 wird dann mit Licht durch die oben beschriebene Laserschneidvorrichtung 10 belichtet, um latente Bilder entsprechend der Wobbelrille 5, der geraden Rille 6 und der flachen Rille 7 auf dem Photoresist 12 zu bilden.
  • Bei der Zubereitung einer magneto-optischen Platte zur Evaluierung wurde ein Kr-Laser, welcher das Laserlicht mit einer Wellenlänge von 413 nm abstrahlt, als eine Lichtquelle 13 der Laserschneidvorrichtung 10 verwendet, während eine optische Linse mit einer numerischen Apertur NA von 0,9 als die optische Linse 54 zum Konvergieren der ersten bis dritten Belichtungslichtstrahlen auf dem Photoresist 12 verwendet wurden. Auch wurden Licht konvergierende Linsen 25, 29 und 33 mit der Brennweite von 80 mm, Kollimatorlinsen 27, 31 und 35 mit der Brennweite von 120 mm und eine Vergrößerungslinse 52 mit der Brennweite von 80 nm verwendet.
  • Beim Belichten des Photoresists 12 mit Licht durch die oben beschriebene Laserschneidvorrichtung 10 wird das Photoresist 12 mit Licht durch die ersten bis dritten Belichtungslichtstrahlen belichtet, um latente Bilder entsprechend der Wobbelrille 5, der geraden Rille 6 und der flachen Rille 7 auf dem Photoresist 12 zu bilden.
  • Wenn ein latentes Bild entsprechend der Wobbelrille 5 auf dem Photoresist 12 durch den zweiten Belichtungslichtstrahl zu bilden ist, um ein latentes Bild entsprechend der Wobbelrille 5 auf dem Photoresist 12 zu bilden, wird der zweite Belichtungslichtstrahl bezüglich der Lichtintensität moduliert durch das erste optische Modulationssystem 22, während er durch das optisch ablenkende System 46 optisch abgelenkt wird.
  • Insbesondere wird ein DC-Signal eines voreingestellten Pegels dem Betätigungstreiber 32 eingegeben, und basierend auf diesem DC-Signal wird der akusto-optische Modulator 30 durch den Betätigungstreiber 32 betätigt, um den zweiten Belichtungslichtstrahl zum Übereinstimmen mit den Mustern der Wobbelrille 5 bezüglich der Lichtintensität zu modulieren. Da die Wobbelrille 5 eine kontinuierliche Rille mit einer konstanten Tiefe ist, wird der zweite Belichtungslichtstrahl bezüglich der Lichtintensität moduliert, so dass der zweite Belichtungslichtstrahl über die Zeit in der Lichtintensität konstant bleibt, während das latente Bild entsprechend der Wobbelrille 5 gebildet wird.
  • Der zweite Belichtungslichtstrahl, welcher bezüglich der Lichtintensität durch das zweite optische Modulationssystem 22 moduliert ist, wird optisch durch das Ablenken des optischen Systems 46 moduliert. Insbesondere werden hochfrequente Signale frequenzmoduliert durch ein Steuersignal von dem VCO 51 und werden zu dem Betätigungstreiber 50 umgeleitet, welcher dann den akusto-optischen Deflektor 48 basierend auf dem Steuersignal betätigt, um den Bragg'schen Winkel des akusto-optischen Elements des akusto-optischen Deflektors 48 zu variieren, um so den zweiten Belichtungslichtstrahl optisch abzulenken.
  • Bein Zubereiten einer magneto-optischen Platte zur Evaluierung, wie später erläutert wird, wird ein hochfrequentes Signal mit einer Mittelfrequenz von 224 MHz frequenzmoduliert mit einem Steuersignal mit einer Frequenz von 84,672 kHz, und wird von dem VCO 51 zu dem Betätigungstreiber 50 umgeleitet. Basierend auf diesem Signal wird der akusto-optische Deflektor 48 durch den Betätigungstreiber 50 betätigt, um den Bragg'schen Winkel des akusto-optischen Elements des akusto-optischen Deflektors 48 zu variieren, um so optisch den zweiten Belichtungslichtstrahl abzulenken, so dass die Position des Lichtpunktes des zweiten Belichtungslichtstrahls, welcher auf dem Photoresist 12 konvergiert, in der radialen Richtung des Glassubstrats 11 bei einer Frequenz von 84,672 kHz und einer Amplitude von ± 10 nm oszilliert werden wird.
  • Durch Konvergieren des zweiten Belichtungslichtstrahls, welcher bezüglich der Lichtintensität moduliert wird, und welcher wie oben beschrieben, auf dem Photoresist 12 durch die optische Linse 54 abgelenkt wird, wird das Photoresist 12 mit Licht belichtet, um ein latentes Bild entsprechend der Wobbelrille 5 auf dem Photoresist 12 zu bilden.
  • Durch Belichten des Photoresists 12 mit Licht des dritten Belichtungslichtstrahls wird zu der gleichen Zeit, wie das Photoresist 12 mit Licht durch den zweiten Belichtungslichtstrahl belichtet wird, ein latentes Bild entsprechend der geraden Rille 6 auf dem Photoresist 12 gebildet.
  • Beim Bilden des latenten Bildes entsprechend der geraden Rille 6 auf dem Photoresist 12 durch Belichten des Photoresists 12 mit Licht des dritten Belichtungslichtstrahls wird der dritte Belichtungslichtstrahl bezüglich der Lichtintensität durch das dritte optische Modulationssystem 23 moduliert.
  • Insbesondere wird ein DC-Signal eines konstanten Pegels dem Betätigungstreiber 37 eingegeben, und basierend auf diesem DC-Signal wird der akusto-optische Modulator 34 durch den Betätigungstreiber 37 betätigt, um den dritten Belichtungslichtstrahl zum Übereinstimmen mit dem Muster der geraden Rille 6 zu modulieren. Da die gerade Linie 6 eine kontinuierliche Rille mit einer konstanten Tiefe ist, wird der dritte Belichtungslichtstrahl bezüglich der Lichtintensität moduliert, so dass der zweite Belichtungslichtstrahl konstant in der Lichtintensität während der Zeit sein wird, wo das latente Bild entsprechend der geraden Rille 6 gebildet wird.
  • Durch Konvergieren dieses Belichtungslichtstrahls, welcher bezüglich der Lichtintensität wie oben beschrieben moduliert wird, durch die optische Linse 54 auf dem Photoresist 12 wird das Photoresist 12 mit Licht belichtet, um ein latentes Bild zu bilden, welches in Register mit der geraden Rille 6 auf dem Photoresist 12 ist.
  • Durch Belichten des Photoresists 12 mit Licht des ersten Belichtungslichtstrahls zu der gleichen Zeit, während das Photoresist 12 mit Licht durch die zweiten und dritten Belichtungslichtstrahlen belichtet wird, wird ein latentes Bild entsprechend der flachen Rille 7 auf dem Photoresist 12 gebildet.
  • Beim Bilden des latenten Bildes entsprechend der geraden Rille 6 auf dem Photoresist 12 durch Belichten des Photoresists 12 mit Licht des ersten Belichtungslichtstrahls wird der erste Belichtungslichtstrahl bezüglich der Lichtintensität durch das erste optische Modulationssystem 23 moduliert.
  • Insbesondere wird ein DC-Signal eines konstanten Pegels dem Betätigungstreiber 28 eingegeben, und basierend auf diesem DC-Signal wird der akusto-optische Modulator 26 durch den Betätigungstreiber 28 betätigt, um den ersten Belichtungslichtstrahl zum Übereinstimmen mit dem Muster der flachen Rille 7 bezüglich des Lichts zu modulieren. Da die gerade Rille 6 eine kontinuierliche Rille mit einer konstanten Tiefe ist, wird der erste Belichtungslichtstrahl bezüglich der Lichtintensität moduliert, so dass der erste Belichtungslichtstrahl in der Lichtintensität während der Zeit konstant sein wird, wo das latente Bild entsprechend der flachen Rille 7 gebildet wird.
  • Durch Konvergieren des ersten Belichtungslichtstrahls, welcher bezüglich der Lichtintensität moduliert wird, wie oben beschrieben, durch die optische Linse 54 auf dem Photoresist 12 wird der Photoresist 12 mit Licht belichtet, um ein latentes Bild zu bilden, welches in Register mit der flachen Rille 7 auf dem Photoresist 12 ist.
  • Beim Bilden des latenten Bildes entsprechend der flachen Rille 7 auf dem Photoresist 12 durch Belichten des Photoresists 12 mit Licht wird das Glassubstrat 11, welches mit dem Photoresist 12 beschichtet ist, in Rotation mit einem vorbestimmten rpm betrieben, während es mit einer voreingestellten Geschwindigkeit versetzt wird.
  • Insbesondere wird im Zubereiten einer magneto-optischen Platte zur Evaluierung, wie später beschrieben wird, das Glassubstrat 11 in Rotation betrieben, so dass die relative Bewegungsgeschwindigkeit als lineare Geschwindigkeit zwischen dem Photoresist 12 und dem Lichtpunkt durch die ersten bis dritten Belichtungslichtstrahlen 2,00 m/sec sein wird. Das Glassubstrat 11 wird auch durch den bewegbaren optischen Tisch in der radialen Richtung des Glassubstrats 11 um 1,00 um pro Drehung des Glassubstrats 11 versetzt, d. h. um einen Abstand entsprechend dem Spurabstand.
  • Beim Belichten des Photoresists 12 durch die ersten bis dritten Belichtungslichtstrahlen wird das DC-Signal, welches den Betätigungstreibern 28, 32, 37 eingegeben wird, im Signalpegel eingestellt, so dass die Energie des ersten Belichtungslichtstrahls schwächer sein wird als die Energie der zweiten und dritten Belichtungslichtstrahlen. Insbesondere wird die Energie der zweiten und dritten Belichtungslichtstrahlen auf ungefähr 0,8 mW eingestellt, wobei diejenige des ersten Belichtungslichtstrahls auf ungefähr 0,10 bis 0,45 mW eingestellt wird.
  • Dies bildet ein latentes Bild entsprechend der flachen Rille 7 oder eine flachere Tiefe als die Tiefe der latenten Bilder, welche der Wobbelrille 5 und der geraden Rille 6 entsprechen.
  • Die Bodenoberfläche des latenten Bildes, welches der flachen Rille 7 entspricht, ist im Wesentlichen flach. Anders gesagt ragt das latente Bild, welches der flachen Rille 7 entspricht, in einer im Wesentlichen trapezoiden Form von Bodenoberfläche der latenten Bilder der Wobbelrille 7 und der geraden Rille 6 hervor, wodurch eine optimale Form, welche mit der Ultraauflösung kompatibel ist, präsentiert wird.
  • Bei der oben beschriebenen Laserschneidvorrichtung 10 wird der Winkel der Reflexion der reflektierenden Oberfläche des polarisierenden Strahlteilers 45 eingestellt, so dass das Intervall zwischen dem Lichtpunkt durch den zweiten Belichtungslichtstrahl und dem Lichtpunkt durch den dritten Belichtungslichtstrahl in der radialen Richtung des Glassubstrats 11 dem Spurabstand entspricht.
  • Durch Einstellen des Winkels der Reflexion der reflektierenden Oberfläche des polarisierenden Strahlteilers 45 auf diese Weise werden ein latentes Bild für die Wobbelrille 5 durch den zweiten Belichtungslichtstrahl und das für die gerade Rille 6 durch den dritten Belichtungslichtstrahl in einer Doppelspiralkonfiguration gebildet. Anders gesagt, erfolgt die relative Positionierung der Wobbelrille 5 und der graden Rille 6 durch Einstellen der Richtung des polarisierenden Strahlteilers 45.
  • Darüber hinaus wird bei der vorliegenden Laserschneidvorrichtung 10 der Winkel der Reflexion der reflektierenden Oberfläche des Spiegels 45 eingestellt, so dass der Punkt des ersten Belichtungslichtstrahls zwischen dem Punkt des zweiten Belichtungslichtstrahls und dem Punkt des dritten Belichtungslichtstrahls angeordnet ist.
  • Durch Einstellen des Winkels der Reflexion der reflektierenden Oberfläche des Spiegels 43 auf diese Weise wird ein latentes Bild für die flache Rille 7, welche durch den ersten Belichtungslichtstrahl gebildet wird, zwischen einem latenten Bild für die Wobbelrille 5, welche durch den dritten Strahl gebildet wird, und einem latenten Bild für die gerade Linie 6, welche durch den dritten Strahl gebildet wird, gebildet. Mit anderen Worten besteht eine relative Positionierung zwischen der flachen Rille 7 und der tiefen Rille 9 durch Einstellen der Orientierung des Spiegels 43.
  • Durch Belichten des Photoresists 12 mit Licht durch die ersten bis dritten Belichtungslichtstrahlen werden ein latentes Bild für die Wobbelrille 5, ein latentes Bild für die gerade Rille 6 und ein latentes Bild für die gerade Rille 6 in einer Doppelspiralkonfiguration in dem Photoresist 12 gebildet.
  • Nach dem Bilden der latenten Bilder in dem Photoresist 12, wie oben beschrieben, wird das Glassubstrat 11 auf einem Drehtisch eines Entwicklers mit der Oberfläche des Photoresists 12, welche mit dem Photoresist 12 beschichtet ist, nach oben gerichtet eingestellt. Dieser Drehtisch wird gedreht, um das Glassubstrat 11 zu drehen und eine Entwicklungslösung wird auf das Photoresist 12 mittels einer Entwicklungsverarbeitung geträufelt, um ein Muster von Scheiteln und Rillen in Register mit der Wobbelrille 7, der geraden Rille 6 und der flachen Rille 7 auf dem Glassubstrat 11 zu bilden.
  • Ein elektrischer Film aus z. B. Ni wird dann durch ein autokatalytisches Verfahren auf dem Muster den Scheiteln und Rillen gebildet. Das Glassubstrat 11, welches nun den elektrisierenden Film enthält, wird nun auf einer Schmelzformvorrichtung montiert und eine Beschichtungsschicht aus z. B. Ni wird in einer Dicke von 300 ± 5 um auf dem elektrisierenden Film durch das Elektroplattierverfahren gebildet. Die Plattierschicht wird dann abgeschält und die Plattierung, welche so abgeschält wird, wird z. B. mit Aceton gespült, um das Photoresist 12, welches noch auf der Oberfläche des Photoresists 12 ist, auf welche das Scheitel- und Rillen-Muster kopiert worden ist, zu entfernen.
  • Das obige Verfahren vervollständigt die Masterplatte für die Zubereitung des optischen Aufzeichnungsmediums, welches aus dem Glassubstrat 11 und dem Muster aus Scheiteln und Rillen, welches darauf als eine Plattierung gebildet wird, besteht, d. h. eine Masterplatte, welche ein Muster aus Scheiteln und Rillen enthält, welche der Wobbelrille 5, der geraden Rille 6 und der flachen Rille 7 entsprechen.
  • Indessen ist die Masterplatte für die Zubereitung des optischen Aufzeichnungsmediums eine Masterplatte für die Zubereitung des optischen Aufzeichnungsmediums gemäß der vorliegenden Erfindung. Das heißt die Masterplatte für die Zubereitung eines optischen Aufzeichnungsmediums, welches eine Rille aufweist, welche entlang einer Aufzeichnungsspur gebildet ist, weist als ein Scheitel- und Rillen-Muster entsprechend solch einer Rille ein erstes Rillenmuster und ein zweites Rillenmuster von einer ersten Tiefe x auf, welche eine Doppelspirale beschreiben, und ein drittes Rillenmuster, welches eine zweite Tiefe y aufweist, welche flacher als die erste Tiefe x ist, und welche zwischen den ersten und zweiten Rillenmustern, welche die Doppelspirale beschreiben, gebildet ist.
  • Dann unter Verwendung des Photopolymerverfahrens (sogenanntes 2P-Verfahren) wird ein Plattensubstrat, auf welches die Oberflächenform einer Masterplatte für die Zubereitung eines optischen Aufzeichnungsmediums übertragen worden ist, zubereitet.
  • Insbesondere ist eine Photopolymerschicht durch glattes Beschichten eines Photopolymers auf einer Oberfläche der Masterplatte für die Zubereitung eines optischen Aufzeichnungsmediums gebildet. Eine Basisplatte wird dann dicht auf der Photopolymerschicht angebracht, so dass feiner Staub oder Schaum vor dem Eintreten in die Photopolymerschicht bewahrt wird. Als die Basisplatte wird eine Polymethlymethacrylatbasisplatte, 1,2 mm in der Dicke, mit einem Brechungsindex von 1,49 verwendet.
  • Das UV-Licht wird dann illuminiert, um das Photopolymer auszuhärten, und die Masterplatte für die Zubereitung des optischen Aufzeichnungsmediums wird dann abgeschält, um das Plattensubstrat 2 fertig zu stellen, auf welches die Oberflächenform der Masterplatte für die Zubereitung des optischen Aufzeichnungsmediums kopiert worden ist.
  • In der oben beschriebenen Ausführungsform wird das Plattensubstrat 2 zubereitet unter Verwendung des 2P-Verfahrens, so dass das Muster von Scheiteln und Rillen, welches auf der Masterplatte für die Zubereitung des optischen Aufzeichnungsmediums gebildet wird, noch genauer auf das Plattensubstrat 2 kopiert werden wird. Jedoch kann für eine Massenproduktion von Plattensubstraten 2 ein Plattensubstrat 2 auch durch Spritzgießen unter Verwendung eines transparenten Kunstharzmaterials, wie beispielsweise Polymethylmethacrylat oder Polycarbonat, zubereitet werden.
  • Dann werden mittels eines Filmbildungsverfahrens eine Aufzeichnungsschicht 3 und eine Schutzschicht 4 auf dem Plattensubstrat 2 gebildet, auf welches die Oberflächenform der Masterplatte für die Zubereitung des optischen Aufzeichnungsmediums kopiert worden ist. Insbesondere werden ein erster dielektrischer Film aus z. B. SiN, ein senkrechter magnetischer Aufzeichnungsfilm aus z. B. TeFeCO-Legierungen und ein zweiter dielektrischer Film aus z. B. SiN sequentiell durch Sputtern auf eine Oberfläche des Plattensubstrat 2 gebildet, welches das Muster von Scheiteln und Rillen enthält. Ein Licht reflektierender Film aus z. B. A1 wird durch Aufdampfen auf den zweiten dielektrischen Film gebildet, um einen Aufzeichnungsfilm 3 zu bilden, welcher aus dem ersten dielektrischen Film, dem senkrechten magnetischen Aufzeichnungsfilm und dem zweiten dielektrischen Film besteht. Auf diese Aufzeichnungsschicht 3 wird ein UV-Kunstharz durch ein Aufspinnverfahren beschichtet, und UV-Strahlen werden auf den UV-aushärtbaren Kunstharz zur Aushärtung gestrahlt, wodurch die Schutzschicht 4 gebildet wird.
  • Das obige Verfahren stellt die magneto-optische Platte 1 fertig.
  • <Evaluierung der magneto-optischen Platte>
  • Durch das Verfahren zur Zubereitung, wie oben beschrieben, wurden mehrere magneto-optische Platten zur Evaluierung mit jeweilig unterschiedlichen ersten Tiefen der Wobbelrille 5 und der geraden Rille 6 (tiefe Rille 9) und jeweiligen unterschiedlichen zweiten Tiefen y der flachen Rille 7 zubereitet, und eine Evaluierung davon wurde vorgenommen. Die Ergebnisse der Evaluierung werden nun erläutert.
  • Die erste Tiefe x wurde durch Variieren der Dicke des Photoresists 12, welches auf dem Glassubstrat 11 gebildet ist, gesteuert, während die zweite Tiefe y durch Steuern der Energie der ersten bis dritten Belichtungslichtstrahlen gesteuert wurde.
  • Beim Evaluieren der magneto-optischen Platten zur Evaluierung wurden mehrere Masterplatten für die Zubereitung der optischen Aufzeichnungsmedien zubereitet, während die ersten und zweiten Tiefen x, y variiert wurden. Die Masterplatten dieser optischen Aufzeichnungsmedien wurden durch ein Rasterkraftmikroskop (AFM) geprüft und Messungen der Breite und der ersten Tiefe x des Musters von Scheiteln und Rillen, welche der tiefen Rille 9 entsprechen, und der Breite und der zweiten Tiefe y des Musters von Scheiteln und Rillen, welche der flachen Rille 7 entsprechen, wurden durchgeführt.
  • Als Ergebnis wurde herausgefunden, dass die Breite der Bodenoberfläche ungefähr 400 nm betrug, die Breite der oberen Oberfläche ungefähr 240 nm betrug, wobei die erste Tiefe x ungefähr 148 bis 241 nm ist, während die flache Rille 7 eine im Wesentlichen flache Bodenform aufweist, wobei ihre Breite ungefähr 100 nm ist und wobei die zweite Tiefe y ungefähr 97 bis 160 nm ist.
  • Schließlich wurde eine magneto-optische Platte zur Evaluierung durch das 2P-Verfahren zubereitet, wobei die Masterplatten für diese optischen Aufzeichnungsmedien verwendet wurden. Das Material des Scheibensubstrats der magneto-optischen Platten, welches zur Evaluierung verwendet wurde, war Polymethylmethacrylat mit einem Brechungsindex von 1,49.
  • Messungen von den Gegentaktsignalen und den Querspur-Signalen von mehreren magneto-optischen Platten wurden zur Evaluierung mit jeweilig unterschiedlichen ersten Tiefen x der tiefen Rille 9 und mit jeweilig unterschiedlichen Tiefen y der flachen Rillen vorgenommen. Zur Messung der Gegentaktsignale und der Querspur-Signale wurde eine optische Aufnahme mit einer Wellenlänge des Laserlichts λ von 660 nm und die numerische Apertur NA der optischen Linse von 0,52 verwendet.
  • Von diesen magneto-optischen Platten zur Evaluierung wurden die Phasentiefe x der tiefen Rille 9 und die Phasentiefe y der flachen Rille 7 geprüft, wobei das Gegentaktsignal-Amplitudenverhältnis und das Querspur-Signalamplitudenverhältnis nicht mehr als 0,14 bzw. nicht weniger als 0,06 war.
  • Es ist als Ergebnis herausgefunden worden, dass das Gegentaktsignalamplitudenverhältnis und das Querspur-Signalamplitudenverhältnis von nicht mehr als 0,14 bzw. nicht weniger als 0,06, wenn innerhalb eines Bereichs, welcher durch Punkte a, b, c, d, e, f, g, h, i, j, k und l oder eines Bereichs, welcher durch Punkte, m, n, o, p, q, r, s, t, u, v, w und z in 6 umgeben ist, erreicht werden kann.
  • In 6 kennzeichnet die Ordinate die Phasentiefe der flachen Rille 7, während die Abszisse die Phasentiefe X der tiefen Rille 6 kennzeichnet, welche die Wobbelrille 5 und die gerade Rille 6 sind.
  • Indessen wird eine ungefähr gerade Linie L1, welche Punkte a, b und c verbindet, durch die folgende Gleichung 2-1 repräsentiert, während eine ungefähr gerade Linie L2, welche Punkte a, d, e, f und g verbindet, durch die folgende Gleichung 2-2 repräsentiert wird, und eine ungefähr gerade Linie L3, welche Punkte, c, h, i, j, k, l und g verbindet, durch die folgende Gleichung 2-3 repräsentiert wird: Y ≥ 36,9189 – 208,0190X + 294,3845X2 (2-1) Y ≥ –1,2977 + 8,2017X – 15,8226X2 + 12,3273X3 (2-2) Y ≤ –214,05681 + 2423,29342X – 10933,24673X2 + 24597,79851X3 – 27576,99399X4 + 12319.79865X5 (2-3).
  • Andererseits werden eine ungefähr gerade Line L4, welche die Punkte m, n, o, p, q, r und s verbindet und eine ungefähr gerade Linie L4, welche die Punkte m, t, u, v, w, z und s verbindet, durch die folgenden Gleichungen 2-4 bzw. 2-5 repräsentiert: Y ≥ –4,6463 + 30,2156X – 64,3100X2 + 47,1308X3 (2-4) Y ≤ 2,7669 – 20,0529X + 48,0353X2 – 35,4870X3 (2-5).
  • Daher kann ein Bereich, welcher durch die Punkte a, b, c, d, e, f, g, h, i, j, k und l umgeben wird, ungefähr durch einen Bereich repräsentiert werden, welcher die folgenden Gleichungen 3-1, 3-2 und 3-3 repräsentiert: Y ≥ 36,9189 – 208,0190X + 294,3845X2 (3-1) Y ≥ –1,2977 + 8,2017X – 15,8226X2 + 12,3273X3 (3-2) Y ≤ –214,05681 + 2423,29342X – 10933,24673X2 + 24597,79851X3 – 27576,99399X4 + 12319,79865X5 (3-3).
  • Andererseits kann ein Bereich, welcher durch die Punkte, m, n, o, p, q, r, s, t, u, v, w und z umgeben wird, ungefähr durch einen Bereich repräsentiert werden, welcher die folgenden Gleichungen 3-4 und 3-5 erfüllt: Y ≥ –4,6463 + 30,2156X – 64,3100X2 + 47,1308X3 (3-4) Y ≤ 2,7669 – 20,0529X + 48,0353X2 – 35,4870X3 (3-5).
  • Es ist gleichbedeutend zu sagen, dass, wenn bei der Phasentiefe X der tiefen Rille 9 und bei der Phasentiefe Y der flachen Rille 7 die tiefe Rille 9 und die flache Rille 7 gebildet sind, um die obigen Gleichungen 3-1 bis 3-3 oder die Gleichungen 3-4 und 3-5 zu erfüllen, das Gegentaktsignal-Amplitudenverhältnis von nicht weniger als 0,14 und das Querspur-Signalamplitudenverhältnis von nicht weniger als 0,06 erreicht werden kann, wodurch eine stabile Servo-Spureinstellung und Suche ermöglicht werden kann.
  • Bei diesen magneto-optischen Platten zur Evaluierung wurden die Phasentiefe x der tiefen Rille 9 und die Phasentiefe Y der flachen Rille 7 geprüft, wobei das Gegentaktsignal-Amplitudenverhältnis und das Querspur-Signalamplitudenverhältnis nicht weniger als 0,06 bzw. nicht weniger als 0,14 ist.
  • Es ist als Ergebnis herausgefunden worden, dass das Gegentaktsignal-Amplitudenverhältnis und das Querspur-Signalamplitudenverhältnis von nicht weniger als 0,06 bzw. nicht weniger als 0,14, wenn innerhalb eines Bereichs, welcher durch Punkte, a', b', c', d', e', f', g', h', i' j', k', l' und m' umgegeben wird oder eines Bereichs welcher durch Punkte n', o', p', q', r' und s' in 4 umgeben wird, erreicht werden kann.
  • In dieser Figur kennzeichnet die Ordinate die Phasentiefe der flachen Rille 7, während die Abszisse die Phasentiefe X der Wobbelrille 5 und der geraden Rille 6, d. h. die tiefe Rille 6, kennzeichnet.
  • Indessen wird eine ungefähr gerade Linie L1', welche Punkte a', b', c', d', e' und f' verbindet, durch die folgende Gleichung 2-6 repräsentiert, während eine ungefähr gerade Linie L2', welche die Punkte a', g', h', i', j', k', l', m' und f' verbindet, durch die folgende Gleichung 2-7 repräsentiert wird: Y ≥ 0,8680 – 7,3968X + 21,8561X2 – 17,5125X3 (2-6) Y ≤ –261,77076 + 3646,50412X – 20988,26504X2 + 63944,54992X3 – 108758,21706X4 + 97951,29191X5 – 36518,20328X6 (2-7).
  • Andererseits werden eine ungefähr gerade Linie L3', welche die Punkte n', o', p' und q' verbindet und eine ungefähr gerade Linie L4', welche die Punkte n', r', s' und q' verbindet, durch die folgende Gleichung 2-8 bzw. 2-9 repräsentiert: Y ≥ 10,2606 – 60,3765X + 118,5901X2 – 75,9408X3 (2-8) Y ≤ 6,8296 + 29,9281X – 38,6228X2 + 14,0747X3 (2-9).
  • Daher kann ein Bereich welcher durch die Punkte a', b', c', d', e', f', g', h', i', j', k' und l' umgeben wird, ungefähr durch einen Bereich repräsentiert werden, welcher die folgenden Gleichungen 3-6 und 3-7 erfüllt: Y ≥ 0,8680 – 7,3968X + 21,8561X2 – 17,5125X3 (3-6) Y ≤ –261,77076 + 3646,50412X – 20988,26504X2 + 63944,54992X3 – 108758,21706X4 + 97951,29191X5 – 36518,20328X6 (3-7).
  • Andererseits kann ein Bereich, welcher durch die Punkte n, o, p, q, r und s umgeben wird, ungefähr als ein Bereich repräsentiert werden, welcher die folgenden Gleichungen 3-8 und 3-9 erfüllt: Y ≥ 10,2606 – 60,3765X + 118,5901X2 – 75,9408X3 (3-8) Y ≤ 6,8296 + 29,9281X – 38,6228X2 + 14,0747X3 (3-9).
  • Es ist gleichbedeutend zu sagen, dass, wenn bei der Phasentiefe X der tiefen Rille 9 und bei der Phasentiefe X der flachen Rille 7 die tiefe Rille 9 und die flache Rille 7 gebildet sind, um die obigen Gleichungen 3-6 und 3-7 oder die Gleichungen 3-8 und 3-9 zu erfüllen, das Gegentaktsignal-Amplitudenverhältnis von nicht weniger als 0,06 und das Querspur-Signalamplitudenverhältnis von nicht weniger als 0,14 erreicht werden kann.
  • Da die Wellenlänge λ des Laserlichts 650 nm ist und die numerische Apertur NA der optischen Linse 0,52 ist, ist die Grenzfrequenz der optischen Aufnahme 2NA/λ 1600 mm–1. Andererseits, da der Spurabstand der magneto-optischen Platten zur Evaluierung 0,50 μm ist, ist ihre Raumfrequenz 2000 mm–1. Somit ist in der magneto-optischen Platte zur Evaluierung die Raumfrequenz des Spurabstands größer als die Grenzfrequenz der optischen Aufnahme 2NA/λ.
  • Bisher, wenn die Raumfrequenz des Spurabstands auf diese Weise größer als die Grenzfrequenz der optischen Aufnahme 2NA/λ ist, können ausreichende Pegel der Gegentaktsignale oder der Querspur-Signale nicht hergestellt werden mit dem Ergebnis, dass eine stabile Servo-Spureinstellung oder Suche nicht erreicht werden kann.
  • Jedoch kann mit der magneto-optischen Platte 1 der vorliegenden Erfindung, bei welcher durch Bilden der Wobbelrille 5 und der geraden Rille 6 als die tiefe Rille 9 und die flache Rille 7, welche flacher als die tiefe Rille 9 ist, nun die obigen Gleichungen 3-1 bis 3-3 oder die obigen Gleichungen 3-4 und 3-5 zu erfüllen, die Raumfrequenz des Spurabstands größer als die Grenzfrequenz 2NA/λ der optischen Aufnahme sein, sogar obwohl ausreichende Pegel der Gegentaktsignale oder der Querspur-Signale aufrechterhalten werden, wie aus den Ergebnisse der obigen Experimente offensichtlich ist. Das heißt, durch Anwenden der vorliegenden Erfindung kann der Spurabstand schmaler sein, um die Aufzeichnungsdichte merklich zu verbessern, trotz der Tatsache, dass ausreichende Pegel der Gegentaktsignale oder der Querspur-Signale aufrechterhalten werden.
  • Zusätzlich, wie in 8 gezeigt ist, kann von diesen magneto-optischen Platten zur Evaluierung ein Bereich, in welchem das Gegentaktsignal-Amplitudenverhältnis nicht weniger als 0,14 ist und das Querspur-Signalamplitudenverhältnis nicht weniger als 0,14 ist, ungefähr durch einen Bereich repräsentiert werden, welcher die folgenden Gleichungen 3-10 bis 3-12 erfüllt: Y ≥ 0,8680 – 7,3968X + 21,8561X2 – 17,5125X3 (3-10) Y ≥ 36,9189 – 208,0190X + 294,3845X2 (3-11) Y ≤ –214,05681 + 2423,29342X – 10933,24673X2 + 24597,79851X3 – 27576,99399X4 + 12319,79865X5 (3-12).
  • 9 ist ein Graph, welcher sowohl gerade Linien L1 bis L3, welche in 6 gezeigt sind, als auch gerade Linien L1' und L2', welche in 7 gezeigt sind, zeigt.
  • Es gleichbedeutend zu sagen, dass, wenn bei der Phasentiefe X der tiefen Rille 9 und bei der Phasentiefe Y der flachen Rille 7 die tiefe Rille 9 und die flache Rille 7 gebildet sind, um die obigen Gleichungen 3-10 bis 3-12 zu erfüllen, das Gegentaktsignal-Amplitudenverhältnis von nicht weniger als 0,14 und das Querspur-Signalamplitudenverhältnis von nicht weniger als 0,14 erreicht werden kann, wodurch eine stabile Servo-Spureinstellung und Suche ermöglicht werden kann.
  • Das magneto-optische Aufzeichnungsmedium der vorliegenden Erfindung ist soweit erläutert worden, wobei die magneto-optische Platte 1 als ein Beispiel genommen wurde. Diese magneto-optische Platte 1 wird aufgezeichnet und/oder reproduziert durch eine optische Aufzeichnungs- und/oder Reproduktionsvorrichtung gemäß der vorliegenden Erfindung. Das heißt, die vorliegende optische Aufzeichnungs- und/oder Reproduktionsvorrichtung verwendet ein magneto-optisches Aufzeichnungsmedium als ein Aufzeichnungsmedium und bewirkt eine Servo-Spureinstellung und eine Spursuche unter Verwendung von Gegentaktsignalen bzw. Querspur-Signalen.
  • Insbesondere verwendet die vorliegende optische Aufzeichnungs- und/oder Reproduktionsvorrichtung die oben erwähnte magneto-optische Platte als das Aufzeichnungsmedium und verwendet auch ein Gegentaktverfahren zur Servo-Spureinstellung, um die magneto-optische Platte 1 aufzuzeichnen und/oder zu reproduzieren.
  • Indessen ist die Aufzeichnungs- und/oder Reproduktionsvorrichtung gemäß der vorliegenden Erfindung ähnlich zu der konventionellen optischen Aufzeichnungs- und/oder Reproduktionsvorrichtung konfiguriert, außer der Verwendung des magneto-optischen Aufzeichnungsmediums, welches die vorliegende Erfindung als das Aufzeichnungsmedium verkörpert, unter Verwendung von Gegentaktsignalen zur Servo-Spureinstellung, und auch außer der Verwendung von Querspur-Signalen zur Spursuche.
  • Somit können bei der Aufzeichnungs- und/oder Reproduktionsvorrichtung gemäß der vorliegenden Erfindung ausreichende Pegel der Gegentaktsignale, Querspur-Signale und der Pit-Modulationsfaktor erhalten werden, um eine stabile Signalreproduktion zu erhalten.
  • Es sollte angemerkt werden, dass die vorliegende Erfindung extensiv auf ein optisches Aufzeichnungsmedium angewandt werden kann, welches eine Rille aufweist, welche sich entlang einer Aufzeichnungsspur erstreckt, und auf eine Masterplatte für die Zubereitung des optischen Aufzeichnungsmediums, und dass das optische Aufzeichnungsmedium gemäß der vorliegenden Erfindung irgendeines sein kann von einem optischen Aufzeichnungsmedium nur zum Abspielen, einem optischen Aufzeichnungsmedium, welches in der Lage von wiederholten Datenüberschreiben ist, und einem optischen Aufzeichnungsmedium, auf welchem Daten einmal geschrieben werden können, jedoch nicht gelöscht werden können.
  • Es besteht auch keine Beschränkung auf das Datenaufzeichnungsverfahren, so dass das optische Aufzeichnungsmedium gemäß der vorliegenden Erfindung irgendeines sein kann von einem optischen Aufzeichnungsmedium nur zur Wiedergabe, auf welchen Daten am Anfang z. B. durch Prägen von Pits geschrieben worden sind, ein magneto-optisches Plattenaufzeichnungsmedium zum Aufzeichnen von Daten, welches den photomagnetischen Effekt ausnutzt, und ein optisches Phasenänderungsaufzeichnungsmedium zum Aufzeichnen von Daten unter Verwendung von Phasenänderungen der Aufzeichnungsschicht.
  • Die vorliegende Erfindung ist auch extensiv auf ein optisches Aufzeichnungsmedium in dem Aufzeichnungsbereich anwendbar, von welchem eine Rille gebildet wird, und auf eine Masterplatte, welche für die Zubereitung des optischen Aufzeichnungsmediums verwendet wird. Das heißt, die Rille kann in dem gesamten Aufzeichnungsbereich oder einem Bereich gebildet sein, in welchem Daten durch Prägen von Pits aufgezeichnet werden ohne Bilden der Rille, welche in dem Aufzeichnungsbereich vorhanden sein kann.

Claims (8)

  1. Optisches Aufzeichnungsmedium (1), in welchem eine Rille zum Erstrecken entlang einer Aufzeichnungsspur gebildet ist, und in welches Licht mit einer Wellenlänge λ zum Aufzeichnen und/oder zur Reproduktion gestrahlt wird, wobei als die Rille eine erste Rille (8) und eine zweite Rille (8) bis zu einer ersten Tiefe gebildet sind, um eine Doppelspirale zu beschreiben, und wobei eine dritte Rille (7), welche eine zweite Tiefe aufweist, welche flacher als die erste Tiefe ist, zwischen der ersten und der zweiten Rille gebildet ist, welche Doppelspiralen bilden, dadurch gekennzeichnet dass, wenn eine Phasentiefe von erster und zweiter Rille (8), welche durch x × nx/λ repräsentiert ist, wobei x die erste Tiefe ist und nx ein Brechungsindex eines Mediums von der Lichteinfallsfläche zu erster und zweiter Rille ist, gleich X ist, und wenn eine Phasentiefe der dritten Rille (7), welche durch y × nx/λ repräsentiert ist, wobei y die zweite Tiefe ist und ny ein Brechungsindex eines Mediums von der Lichteinfallsfläche der dritten Rille ist, gleich Y ist, erste, zweite und dritte Rille zum Erfüllen der Gleichungen (1) bis (3) oder der Gleichungen (4) und (5) ausgelegt sind: Y ≥ 36,9189 – 208,0190X + 294,3845X2 für X ≤ 0,356, (1) Y ≥ –1,2977 + 8,2017X –15,8226X2 + 12,3273X3 für X > 0,356, (2) Y ≤ –214,05681 + 2423,29342X –10933,24673X2 + 24597,79851X3 – 27576,99399X4 + 12319,79865X5, (3) Y ≥ –4,6463 + 30,2156X – 64,3100X2 + 47,1308X3, (4) Y ≤ 2,7669 – 20,0529X + 48,0353X2 – 35,4870X3 (5)wobei 0,33 ≤ X ≤ 0,54 im Fall des Erfüllens der Gleichungen (1) bis (3) und 0,41 ≤ X ≤ 0,57 im Fall des Erfüllens der Gleichungen (4) und (5) ist.
  2. Optisches Aufzeichnungsmedium (1) gemäß Anspruch 1, wobei, wenn eine Phasentiefe von erster und zweiter Rille (8), welche durch x × nx/λ repräsentiert ist, wobei x die erste Tiefe ist und nx ein Brechungsindex eines Mediums von der Lichteinfallsfläche zu erster und zweiter Rille ist, gleich X ist, und wenn eine Phasentiefe der dritten Rille (7), welche durch y × nx/λ repräsentiert ist, wobei y die zweite Tiefe ist und ny ein Brechungsindex eines Mediums von der Lichteinfallsfläche der dritten Rille ist, gleich Y ist, erste, zweite und dritte Rille zum Erfüllen der Gleichungen (10), (11) und (12) ausgelegt sind: Y ≥ 0,8680 – 7,3968X + 21,8561X2 – 17,5125X3 für X > Xlow, (10) Y ≥ 36,9189 – 208,0190X + 294,3845X2 für X ≤ Xlow, (11) Y ≤ –214,05681 + 2423,29342X – 10933,24673X2 + 24597,79851X3 – 27576,99399X4 + 12319,79865X5, (12)wobei 0,33 ≤ X ≤ 0,54 ist, wobei die Polynome der Gleichungen (10) und (11) zwei Schnittpunkte aufweisen, und Xlow der X-Wert des Schnittpunktes mit dem niedrigeren X-Wert ist.
  3. Optisches Aufzeichnungsmedium gemäß Anspruch 1, wobei zumindest eine von erster und zweiter Rille (8) eine Wobbelrille ist, welche derartig gebildet ist, dass zumindest ein Abschnitt davon gewunden ist.
  4. Optisches Aufzeichnungsmedium gemäß Anspruch 1, wobei, wenn die numerische Apertur einer optischen Linse, welche zum Aufzeichnen und/oder zur Reproduktion verwendet wird, NA ist, die Raumfrequenz der Spurschrittweite größer als die Grenzfrequenz ist, welche durch 2 × NA/λ repräsentiert ist.
  5. Masterplatte für die Zubereitung eines optischen Aufzeichnungsmediums (1), welche eine Rille aufweist, welche entlang einer Aufzeichnungsspur gebildet ist, und durch Licht mit einer Wellenlänge λ zum Aufzeichnen und/oder zur Reproduktion bestrahlt wird, wobei als ein Scheitel-und-Rillenmuster entsprechend der Rille ein erstes Rillenmuster und ein zweites Rillenmuster bis zu einer ersten Tiefe ausgebildet sind, um eine Doppelspirale zu beschreiben, und wobei eine dritte Rille, welche eine zweite Tiefe aufweist, welche flacher als die erste Tiefe ist, zwischen ersten und zweiten Rillenmustern gebildet ist, welche Doppelspiralen beschreiben, dadurch gekennzeichnet, dass, wenn eine Phasentiefe von ersten und zweiten Rillenmustern, welche durch x × nx/λ repräsentiert ist, wobei x die erste Tiefe ist und nx ein Brechungsindex eines Mediums von der Lichteinfallsfläche zu erster und zweiter Rille ist, gleich X ist, und wenn eine Phasentiefe des dritten Rillenmusters, welche durch y × ny/λ repräsentiert ist, wobei y die zweite Tiefe ist und ny ein Brechungsindex eines Mediums von der Lichteinfallsfläche der dritten Rille ist, gleich Y ist, erste, zweite und dritte Rille zum Erfüllen der Gleichungen (1) bis (3) oder der Gleichungen (4) und (5) ausgelegt sind: Y ≥ 36,9189 – 208,0190X + 294,3845X2 für X ≤ 0,356, (1) Y ≥ –1,2977 + 8,2017X – 15,8226X2 + 12,3273X3 für X > 0,356, (2) Y ≤ –214,05681 + 2423,29342X – 10933,24673X2 + 24597,79851X3 – 27576,99399X4 + 12319,79865X5, (3) Y ≥ –4,6463 + 30,2156X – 64,3100X2 + 47,1308X3, (4) Y ≤ 2,7669 – 20,0529X + 48,0353X2 – 35,4870X3 (5)wobei 0,33 ≤ X ≤ 0,54 im Fall des Erfüllens der Gleichungen (1) bis (3) und 0,41 ≤ X ≤ 0,57 im Fall des Erfüllens der Gleichungen (4) und (5) ist.
  6. Masterplatte zur Zubereitung eines optischen Aufzeichnungsmediums (1) gemäß Anspruch 5, wobei, wenn eine Phasentiefe von ersten und zweiten Rillenmustern, welche durch x × nx/λ repräsentiert ist, wobei x die erste Tiefe ist und nx ein Brechungsindex eines Mediums von der Lichteinfallsfläche zu der ersten und zweiten Rille ist, gleich X ist, und wenn eine Phasentiefe des dritten Rillenmusters, welche durch y × ny/λ repräsentiert ist, wobei y die zweite Tiefe ist und ny ein Brechungsindex eines Mediums von der Lichteinfallsfläche der dritten Rille ist, gleich Y ist, erste, zweite und dritte Rille zum Erfüllen der Gleichungen (10), (11) und (12) ausgelegt sind: Y ≥ 0,8680 – 7,3968X + 21,8561X2 – 17,5125X3 für X > Xlow, (10) Y ≥ 36,9189 – 208,0190X + 294,3845X2 für X ≤ Xlow, (11) Y ≤ –214,05681 + 2423,29342X – 10933,24673X2 + 24597,79851X3 – 27576,99399X4 + 12319,79865X5, (12)wobei 0,33 ≤ X ≤ 0,54 ist, wobei die Polynome der Gleichungen (10) und (11) zwei Schnittpunkte aufweisen, und Xlow der X-Wert des Schnittpunktes mit dem niedrigeren X-Wert ist.
  7. Masterplatte für die Zubereitung eines optischen Aufzeichnungsmediums (1) gemäß Anspruch 5, wobei zumindest eines von erstem und zweitem Aussparungsmuster ein Scheitel-und-Rillenmuster entsprechend einer Wobbelrille ist, welche derartig ausgebildet ist, dass zumindest ein Abschnitt davon gewunden ist.
  8. Optische Aufzeichnungs- und/oder Reproduktionsvorrichtung, welche ein optisches Aufzeichnungsmedium (1) gemäß irgendeinem der Ansprüche 1 bis 4 zum Aufzeichnen und/oder Reproduzieren der Information durch Strahlen des Lichts mit einer Wellenlänge λ auf das optische Aufzeichnungsmedium (1) umfasst.
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