JP2000276778A

JP2000276778A - 光記録媒体、光記録媒体製造用原盤及び光記録再生装置

Info

Publication number: JP2000276778A
Application number: JP11082369A
Authority: JP
Inventors: Somei Endo; 惣銘遠藤
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1999-03-25
Filing date: 1999-03-25
Publication date: 2000-10-06

Abstract

(57)【要約】【課題】記録トラックに沿ってグルーブが形成されグ
ルーブ部分に情報信号の書き込みがなされる書込可能領
域と、情報信号に対応したエンボスピット列が記録トラ
ックに沿って形成されてなる再生専用領域とを備えた光
記録媒体において、再生専用領域及び書込可能領域で同
じ極性の十分なレベルのＣＴＳ信号が得られ、しかも、
再生専用領域からは十分なレベルのピット変調度が得ら
れるようにする。【解決手段】書込可能領域には、グルーブとグルーブ
の間のランド部分の幅よりもグルーブの幅のほうが広く
なるように、グルーブを形成する。また、再生専用領域
には、エンボスピット列の間に記録トラックに沿ってグ
ルーブを形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、記録トラックに沿
ってグルーブが形成されグルーブ部分に情報信号の書き
込みがなされる書込可能領域と、情報信号に対応したエ
ンボスピット列が記録トラックに沿って形成されてなる
再生専用領域とを備えた光記録媒体に関する。また、そ
のような光記録媒体を製造する際の型となる光記録媒体
製造用原盤、並びに、そのような光記録媒体の記録再生
を行う光記録再生装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】光記録媒体には、光ディスク、光磁気デ
ィスク、相変化型光ディスク等がある。これらの光記録
媒体には、記録トラックに沿ってグルーブが形成されグ
ルーブ部分に情報信号の書き込みがなされる書込可能領
域と、情報信号に対応したエンボスピット列が記録トラ
ックに沿って形成されてなる再生専用領域とを備えたも
のがある。

【０００３】このような光記録媒体のフォーマットにつ
いて、ＭＤ（Mini Disc：商標）を例に挙げて説明す
る。なお、ＭＤは、光磁気ディスクの一つであり、既に
商品化されている。

【０００４】図６に、ＭＤのフォーマットの一部を拡大
して示す。ＭＤには、リードイントラックに、ＣＤ（Co
npact Disc：商標）と同様に、ＴＯＣ（ＴａｂｌｅＯ
ｆＣｏｎｔｅｎｔｓ）情報や所定周期のパルス信号等
が、エンボスピット列として予め記録されている。すな
わち、リードイントラックが、情報信号に対応したエン
ボスピット列が記録トラックに沿って形成されてなる再
生専用領域となっている。そして、その他の領域が、記
録トラックに沿ってグルーブが形成され、グルーブ部分
に情報信号の書き込みがなされる書込可能領域となる。
したがって、図６に示すように、ＭＤには、エンボスピ
ットｐが形成された再生専用領域Ｒと、グルーブｇが形
成された書込可能領域Ｗとがある。

【０００５】ＭＤにおいて、再生専用領域Ｒに形成され
るエンボスピットｐは、トラックピッチの１／２よりも
幅が狭く、いわゆる幅狭ピット（Narrow Pit）とされて
いる。一方、書込可能領域Ｗに形成されるグルーブｇ
は、トラックピッチの１／２よりも幅が広く、いわゆる
幅広グルーブ（Wide Groove）とされている。

【０００６】したがって、ＭＤでは、書込可能領域Ｗに
形成されるグルーブｇの幅は、再生専用領域Ｒに形成さ
れるエンボスピットｐの幅よりも、広いものとされてい
る。そして、書込可能領域Ｗに情報信号を書き込む際、
当該情報信号は幅広に形成されたグルーブ部分に書き込
まれる。

【０００７】また、ＭＤでは、図６に示すように、書込
可能領域Ｗに形成されるグルーブｇを±３０ｎｍの振幅
にて蛇行させ、いわゆるウォブリンググルーブとするこ
とで、グルーブ自体にアドレス情報を付加している。

【０００８】一般に、幅が狭いグルーブ内に情報信号を
記録すると、グルーブが狭いためにノイズが増え、Ｓ／
Ｎが劣化する。一方、グルーブとグルーブの間の部分で
あるランドに情報信号を記録すると、グルーブをウォブ
リンググルーブとしたときに、ディスク径方向で隣り合
うグルーブの位相が一致していないためにランドの幅が
常に変化し、その結果、再生信号のゆらぎが大きくなっ
てしまう。そこで、ＭＤでは、幅広に形成されたグルー
ブｇの部分に情報信号を記録するようにしており、これ
により、Ｓ／Ｎの劣化や再生信号のゆらぎを抑制してい
る。

【０００９】このようなＭＤにおいて、記録再生用の光
スポットを記録トラックに追従させるトラッキングサー
ボは、３ビーム法により行われる。図７に、３ビーム法
によりトラッキングサーボを行う光記録再生装置に搭載
される光学ヘッドの一例を示す。

【００１０】図７に示す光学ヘッド１００は、光記録媒
体１０７の記録再生時に、半導体レーザ１０１から直線
偏光のレーザ光を出射する。このレーザ光は、コリメー
トレンズ１０２で平行光とされた上でグレーティング１
０３に入射し、当該グレーティング１０３により、０次
光及び±１次光の３つのビームに分けられる。以下、グ
レーティング１０３からの０次光を主ビームと呼び、±
１次光を副ビームと呼ぶ。

【００１１】主ビーム及び副ビームは、偏光ビームスプ
リッタ１０４を透過し、１／４波長板１０５に入射す
る。そして、１／４波長板１０５を透過することで円偏
光となる。その後、円偏光となったこれらのビームは、
対物レンズ１０６により光記録媒体１０７上に集光さ
れ、光記録媒体１０７上に３つの光スポットが形成され
る。

【００１２】これらの光スポットのうち、主ビームの光
スポット（真ん中の光スポット）は、主に情報信号の読
み込みや書き込みに使用され、副ビームの光スポット
は、トラッキングエラーの検出用に使用される。

【００１３】そして、光記録媒体１０７によって反射さ
れて戻ってきた戻り光は、対物レンズ１０６を介して再
び１／４波長板１０５に入射し、１／４波長板１０５を
透過することで直線偏光となる。その後、戻り光は、偏
光ビームスプリッタ１０４に入射し、当該偏光ビームス
プリッタ１０４によって反射され取り出される。

【００１４】偏光ビームスプリッタ１０４によって反射
され取り出された戻り光は、偏光ビームスプリッタ１０
８に入射し、当該偏光ビームスプリッタ１０８により、
Ｓ偏光成分とＰ偏光成分とに偏光分離される。

【００１５】偏光ビームスプリッタ１０８で偏光分離さ
れてなる一方の偏光成分は、組み合わせレンズ１０９に
入射する。組み合わせレンズ１０９に入射した戻り光
は、当該組み合わせレンズ１０９により集光され、戻り
光に非点収差を与えるレンズを介して、フォトダイオー
ド１１０に入射し、当該フォトダイオード１１０によっ
て検出される。

【００１６】ここで、フォトダイオード１１０は、６つ
のディテクタＡ〜Ｆを有し、ディテクタＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄ
により主ビームの戻り光を検出し、ディテクタＥにより
一方の副ビームの戻り光を検出し、ディテクタＦにより
他方の副ビームの戻り光を検出する。

【００１７】また、偏光ビームスプリッタ１０８で偏光
分離されてなる他方の偏光成分は、レンズ１１１に入射
し、当該レンズ１１１により集光される。そして、レン
ズ１１１により集光された戻り光は、フォトダイオード
１１２に入射し、当該フォトダイオード１１２によって
検出される。ここで、フォトダイオード１１２は、１つ
のディテクタＧを有し、主ビームの戻り光をディテクタ
Ｇにより検出する。

【００１８】なお、この光学ヘッド１００が搭載される
光記録再生装置は、図７に示すように、光磁気記録を行
うための磁気ヘッド１１３も備えている。磁気ヘッド１
１３は、光記録媒体１０７を挟んで対物レンズ１０６に
対向する位置に配置され、光磁気記録を行う際に、記録
する情報信号に対応した磁界を光記録媒体１０７に印加
する。

【００１９】以上のような光学ヘッド１００において、
フォトダイオード１１０及びフォトダイオード１１２の
各ディテクタＡ〜Ｇは、入射光の光強度に応じた電気信
号に出力する。そして、この光学ヘッド１００は、各デ
ィテクタＡ〜Ｇから出力された電気信号に対して所定の
演算処理を施して、光記録媒体１０７に記録されていた
信号を再生した再生信号や、フォーカスエラー信号及び
トラッキングエラー信号等のサーボ信号を生成し、それ
らの信号を光記録再生装置のサーボ回路に出力する。

【００２０】ここで、各ディテクタＡ〜Ｇから出力され
る信号をそれぞれＡ〜Ｇとする。このとき、光磁気方式
により記録された情報信号を再生した信号（以下、光磁
気再生信号と称する。）は、下記式（１）で表される。

【００２１】光磁気再生信号＝（Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋Ｄ）−Ｇ・・・（１）また、エンボスピット列として予め記録された情報信号
を再生した信号（以下、ピット再生信号と称する。）
は、下記式（２）又は（３）で表される。

【００２２】ピット再生信号＝Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋Ｄ・・・（２）ピット再生信号＝Ｇ・・・（３）また、光スポットの焦点位置を調整するためのフォーカ
スエラー信号は、下記式（４）で表される。

【００２３】フォーカスエラー信号＝（Ａ＋Ｃ）−（Ｂ＋Ｄ）・・・（４）また、この光学ヘッド１００では、３ビーム法でトラッ
キングサーボを行うようにしている。３ビーム法でトラ
ッキングサーボを行う際は、グレーティング１０３の角
度を調整して、図８に示すように、主ビームＳ０を中心
として、±１／４トラックピッチ離れたところに２つの
副ビームＳ１，Ｓ２がそれぞれ入射するようにアライメ
ントする。そして、一方の副ビームＳ１の戻り光を、フ
ォトダイオード１１０のディテクタＥにより検出し、他
方の副ビームＳ２の戻り光を、フォトダイオード１１０
のディテクタＦで検出する。

【００２４】なお、図８では、主ビームＳ０及び副ビー
ムＳ１，Ｓ２を再生専用領域Ｒに照射している場合と、
主ビームＳ０及び副ビームＳ１，Ｓ２を書込可能領域Ｗ
に照射している場合との両方を図示している。

【００２５】そして、一方の副ビームＳ１の戻り光の光
量と、他方の副ビームＳ２の戻り光の光量との差、すな
わち、ディテクタＥからの出力と、ディテクタＦからの
出力との差を、トラッキングエラー信号とする。すなわ
ち、３ビーム法でトラッキングサーボを行う際、光スポ
ットを記録トラックに追従させるためのトラッキングエ
ラー信号は、下記式（５）で表される。

【００２６】トラッキングエラー信号＝Ｅ−Ｆ・・・（５）なお、図８では、光スポットの位置関係を分かりやすく
するために、グルーブｇが蛇行することなく形成されて
いるように図示したが、グルーブｇがウォブリンググル
ーブの場合も同様にトラッキングエラー信号が得られる
ことは言うまでもない。

【００２７】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述したよ
うに、ＭＤにおいて、再生専用領域Ｒに形成されるエン
ボスピットｐは、トラックピッチの１／２よりも幅が狭
く、いわゆる幅狭ピット（Narrow Pit）とされており、
一方、書込可能領域Ｗに形成されるグルーブｇは、トラ
ックピッチの１／２よりも幅が広く、いわゆる幅広グル
ーブ（Wide Groove）とされている。

【００２８】このとき、光記録媒体によって反射されて
戻ってきた戻り光から得られるプッシュプル信号及びＣ
ＴＳ信号の極性は、図８に示すようになる。なお、ＣＴ
Ｓ信号は、光記録媒体によって反射されて戻ってきた戻
り光の光スポットを分割することなく、光スポット全体
の光量を検出した信号である。また、プッシュプル信号
は、光記録媒体によって反射されて戻ってきた戻り光の
光スポットをトラック方向に対して平行な分割線で２つ
に分割して、それらの光量の差をとった信号であり、図
７に示した光学ヘッド１００の場合、下記式（６）で表
される。

【００２９】プッシュプル信号＝（Ａ＋Ｂ）−（Ｃ＋Ｄ）・・・（６）図８に示すように、ＭＤでは、再生専用領域Ｒにおける
ＣＴＳ信号の極性と、書込可能領域ＷにおけるＣＴＳ信
号の極性とが逆になる。すなわち、再生専用領域Ｒにお
いてＣＴＳ信号は、トラックセンター（すなわちエンボ
スピット列の中心）に光スポットがあるときに極小とな
るが、書込可能領域ＷにおいてＣＴＳ信号は、トラック
センター（すなわちグルーブの中心）に光スポットがあ
るときに極大となる。

【００３０】上記光学ヘッド１００において、フォトダ
イオード１１０のディテクタＥで検出されるのは、一方
の副ビームのＣＴＳ信号であり、フォトダイオード１１
０のディテクタＦで検出されるのは、他方の副ビームの
ＣＴＳ信号である。そして、ＣＴＳ信号の極性は、上述
のように、再生専用領域Ｒと書込可能領域Ｗとで逆にな
る。したがって、上記式（５）で表されるトラッキング
エラー信号の極性は、再生専用領域Ｒと書込可能領域Ｗ
とで逆になる。

【００３１】そのため、安定したトラッキングサーボを
行うには、再生専用領域Ｒと書込可能領域Ｗとでトラッ
キングエラー信号の極性が逆になることを考慮して、光
スポットが再生専用領域Ｒにある場合と、光スポットが
書込可能領域Ｗにある場合とで、トラッキングエラー信
号に対するトラッキングサーボ動作の極性を切り替える
必要があった。

【００３２】従来のＭＤでは、再生専用領域Ｒはディス
ク半径ｒ＝１４．５〜１６．０ｍｍの領域内であり、書
込可能領域Ｗはディスク半径ｒ＝１６．０〜３１．０ｍ
ｍの領域内であるため、トラッキングサーボ動作の極性
の切り替え点は、ディスク半径ｒ＝１６．０ｍｍのポイ
ントだけであり、これならば実用上問題はない。

【００３３】しかしながら、ＭＤの新たなフォーマット
として、ディスク半径ｒ＝１６．０ｍｍ以上の部分に
も、再生専用領域Ｒと書込可能領域Ｗとが混在する、い
わゆるハイブリッドＭＤフォーマットが提案されてお
り、このようなハイブリッドＭＤフォーマットでは、ト
ラッキングサーボ動作の極性の切り替えが問題となる。

【００３４】ハイブリッドＭＤフォーマットを採用する
際に、再生専用領域Ｒで得られるＣＴＳ信号の極性と、
書込可能領域Ｗで得られるＣＴＳ信号の極性とが逆にな
るようだと、再生専用領域Ｒと書込可能領域Ｗの境界に
おいて、トラッキングサーボ動作の極性をその都度切り
替える必要がある。

【００３５】従来のＭＤのように、再生専用領域Ｒと書
込可能領域Ｗの境界が特定の位置にあるのならば、その
境界でトラッキングサーボ動作の極性を切り替えるのは
容易である。しかし、ハイブリッドＭＤフォーマットで
は、再生専用領域Ｒ及び書込可能領域Ｗの場所を特定す
ることなく、それらを自由に設定できることが望まれ、
その場合には、再生専用領域Ｒと書込可能領域Ｗの境界
を検出する機能を光記録再生装置に付加する必要があ
る。

【００３６】一方、再生専用領域Ｒで得られるＣＴＳ信
号の極性と、書込可能領域Ｗで得られるＣＴＳ信号の極
性とが同じであれば、再生専用領域Ｒと書込可能領域Ｗ
の境界において、トラッキングサーボ動作の極性を切り
替える必要がなくなる。

【００３７】ただし、再生専用領域Ｒで得られるＣＴＳ
信号の極性と、書込可能領域Ｗで得られるＣＴＳ信号の
極性とを同じにしても、それらの信号レベルが低くては
問題であり、単に極性を同じするだけでなく、十分に振
幅が大きく、十分なレベルの信号が得られる必要があ
る。更に、再生専用領域Ｒからは、エンボスピット列と
して記録された情報信号を安定に再生するために、十分
なレベルのピット変調度が得られる必要がある。

【００３８】本発明は、以上のような従来の実情に鑑み
て提案されたものであり、再生専用領域と書込可能領域
とを備えた光記録媒体において、再生専用領域及び書込
可能領域で同じ極性の十分なレベルのＣＴＳ信号が得ら
れ、しかも、再生専用領域からは十分なレベルのピット
変調度が得られるようにすることを目的としている。ま
た、本発明は、そのような光記録媒体を製造する際の型
となる光記録媒体製造用原盤、並びに、そのような光記
録媒体の記録再生を行う光記録再生装置を提供すること
も目的としている。

【００３９】

【課題を解決するための手段】本発明に係る第１の光記
録媒体は、記録トラックに沿ってグルーブが形成されグ
ルーブ部分に情報信号の書き込みがなされる書込可能領
域と、情報信号に対応したエンボスピット列が記録トラ
ックに沿って形成されてなる再生専用領域とを備える。
そして、書込可能領域は、グルーブとグルーブの間のラ
ンド部分の幅よりもグルーブの幅のほうが広く、再生専
用領域は、エンボスピット列の間に記録トラックに沿っ
てグルーブが形成されてなる。

【００４０】この光記録媒体では、再生専用領域及び書
込可能領域から十分なレベルのＣＴＳ信号を得ることが
可能であり、しかも、再生専用領域から得られるＣＴＳ
信号の極性と、書込可能領域から得られるＣＴＳ信号の
極性とが同じとなる。更に、再生専用領域からは十分な
レベルのピット変調度が得られる。

【００４１】また、本発明に係る第２の光記録媒体は、
記録トラックに沿ってグルーブが形成されグルーブ部分
に情報信号の書き込みがなされる書込可能領域と、情報
信号に対応したエンボスピット列が記録トラックに沿っ
て形成されてなる再生専用領域とを備える。そして、書
込可能領域は、グルーブとグルーブの間のランド部分の
幅よりもグルーブの幅の方が広く、再生専用領域は、各
エンボスピット列の両脇に、エンボスピット列と隣接一
体とされた一対のグルーブが形成されてなる。

【００４２】この光記録媒体では、再生専用領域及び書
込可能領域から十分なレベルのＣＴＳ信号を得ることが
可能であり、しかも、再生専用領域から得られるＣＴＳ
信号の極性と、書込可能領域から得られるＣＴＳ信号の
極性とが同じとなる。更に、再生専用領域からは十分な
レベルのピット変調度が得られる。

【００４３】また、本発明に係る第１の光記録媒体製造
用原盤は、記録トラックに沿ってグルーブが形成されグ
ルーブ部分に情報信号の書き込みがなされる書込可能領
域と、情報信号に対応したエンボスピット列が記録トラ
ックに沿って形成されてなる再生専用領域とを備えた光
記録媒体を製造する際の型となる光記録媒体製造用原盤
である。ここで、光記録媒体の書込可能領域は、グルー
ブとグルーブの間のランド部分の幅よりもグルーブの幅
のほうが広く、再生専用領域は、エンボスピット列の間
に記録トラックに沿ってグルーブが形成されてなる。そ
して、この光記録媒体製造用原盤は、少なくとも、上記
光記録媒体の書込可能領域に形成されるグルーブと、上
記光記録媒体の再生専用領域に形成されるグルーブ及び
エンボスピット列とに対応した凹凸パターンが形成され
てなる。この光記録媒体製造用原盤を用いることで、上
述の本発明に係る第１の光記録媒体を製造することがで
きる。

【００４４】また、本発明に係る第２の光記録媒体製造
用原盤は、記録トラックに沿ってグルーブが形成されグ
ルーブ部分に情報信号の書き込みがなされる書込可能領
域と、情報信号に対応したエンボスピット列が記録トラ
ックに沿って形成されてなる再生専用領域とを備えた光
記録媒体を製造する際の型となる光記録媒体製造用原盤
である。ここで、光記録媒体の書込可能領域は、グルー
ブとグルーブの間のランド部分の幅よりもグルーブの幅
の方が広く、再生専用領域は、各エンボスピット列の両
脇に、エンボスピット列と隣接一体とされた一対のグル
ーブが形成されてなる。そして、この光記録媒体製造用
原盤は、少なくとも、上記光記録媒体の書込可能領域に
形成されるグルーブと、上記光記録媒体の再生専用領域
に形成されるグルーブ及びエンボスピット列とに対応し
た凹凸パターンが形成されてなる。この光記録媒体製造
用原盤を用いることで、上述の本発明に係る第２の光記
録媒体を製造することができる。

【００４５】また、本発明に係る第１の光記録再生装置
は、記録トラックに沿ってグルーブが形成されグルーブ
部分に情報信号の書き込みがなされる書込可能領域と、
情報信号に対応したエンボスピット列が記録トラックに
沿って形成されてなる再生専用領域とを備えた光記録媒
体の記録再生を行う光記録再生装置である。ここで、光
記録媒体の書込可能領域は、グルーブとグルーブの間の
ランド部分の幅よりもグルーブの幅のほうが広く、再生
専用領域は、エンボスピット列の間に記録トラックに沿
ってグルーブが形成されてなる。

【００４６】この光記録再生装置では、光記録媒体の再
生専用領域及び書込可能領域から十分なレベルのＣＴＳ
信号を得ることが可能であり、しかも、光記録媒体の再
生専用領域から得られるＣＴＳ信号の極性と、光記録媒
体の書込可能領域から得られるＣＴＳ信号の極性とが同
じとなる。更に、光記録媒体の再生専用領域からは十分
なレベルのピット変調度が得られる。

【００４７】また、本発明に係る第２の光記録再生装置
は、記録トラックに沿ってグルーブが形成されグルーブ
部分に情報信号の書き込みがなされる書込可能領域と、
情報信号に対応したエンボスピット列が記録トラックに
沿って形成されてなる再生専用領域とを備えた光記録媒
体の記録再生を行う光記録再生装置である。ここで、光
記録媒体の書込可能領域は、グルーブとグルーブの間の
ランド部分の幅よりもグルーブの幅の方が広く、再生専
用領域は、各エンボスピット列の両脇に、エンボスピッ
ト列と隣接一体とされた一対のグルーブが形成されてな
る。

【００４８】この光記録再生装置では、光記録媒体の再
生専用領域及び書込可能領域から十分なレベルのＣＴＳ
信号を得ることが可能であり、しかも、光記録媒体の再
生専用領域から得られるＣＴＳ信号の極性と、光記録媒
体の書込可能領域から得られるＣＴＳ信号の極性とが同
じとなる。更に、再生専用領域からは十分なレベルのピ
ット変調度が得られる。

【００４９】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照しながら詳細に説明する。

【００５０】なお、以下の説明では、本発明を適用した
光記録媒体として、２種類の光磁気ディスクを例に挙げ
る。ただし、本発明の実施の形態は、本発明の技術的思
想に基づいて様々に変形可能である。すなわち、本発明
は、記録トラックに沿ってグルーブが形成されグルーブ
部分に情報信号の書き込みがなされる書込可能領域と、
情報信号に対応したエンボスピット列が記録トラックに
沿って形成されてなる再生専用領域とを備えた光記録媒
体に対して広く適用可能であり、以下に挙げる光磁気デ
ィスク以外の光記録媒体に対しても適用可能である。

【００５１】＜第１の光磁気ディスク＞まず、本発明を
適用した第１の光磁気ディスクについて説明する。図１
に示すように、第１の光磁気ディスク１Ａは、円盤状の
ディスク基板２Ａの上に、第１の誘電体膜３Ａ、光磁気
膜４Ａ、第２の誘電体膜５Ａ及び光反射膜６Ａがこの順
に積層形成されてなり、更に光反射膜６Ａの上に紫外線
硬化樹脂等からなる保護膜７Ａが形成されてなる。

【００５２】ディスク基板２Ａは、ポリメチルメタクリ
レート（ＰＭＭＡ）やポリカーボネート（ＰＣ）等から
なり、グルーブやエンボスピット列が形成されてなる。
第１及び第２の誘電体膜３Ａ，５Ａは、ＳｉＯ₂、Ｓｉ₃
Ｎ₄又はＡｌ₂Ｏ₃等からなる。光磁気膜４Ａは、ＧｄＦ
ｅＣｏやＴｂＦｅＣｏ等からなり、この光磁気膜４Ａに
情報信号が光磁気記録により記録される。すなわち、第
１の光磁気ディスク１Ａにおいて、情報信号は光磁気膜
４Ａの磁化方向として記録される。なお、光磁気膜４Ａ
は、単層構造であっても、多層構造であってもよい。光
反射膜６Ａは、Ａｌ等からなり、記録再生時に入射光を
反射するとともに、光照射により生じた熱を拡散させる
熱拡散膜としても作用する。

【００５３】この第１の光磁気ディスク１Ａの情報記録
領域の一部を拡大した図を図２に示す。なお、図２で
は、情報記録領域に形成されるグルーブやエンボスピッ
ト列を分かりやすく示すために、グルーブやエンボスピ
ット列だけを図示し、ディスク基板２Ａの上に形成され
る積層膜構造については図示を省略している。また、図
２では、第１の光磁気ディスク１Ａから得られるＣＴＳ
信号及びプッシュプル信号と、グルーブやエンボスピッ
ト列との対応関係についても図示している。

【００５４】図２に示すように、第１の光磁気ディスク
１Ａは、記録トラックに沿ってグルーブｇ１が形成され
グルーブ部分に情報信号の書き込みがなされる書込可能
領域Ｗ１と、情報信号に対応したエンボスピットｐ１が
記録トラックに沿って形成されてなる再生専用領域Ｒ１
とを備える。

【００５５】書込可能領域Ｗ１は、記録トラックに沿っ
てグルーブｇ１が形成され、グルーブ部分に情報信号の
書き込みがなされる領域であり、光磁気記録により繰り
返し情報信号の書き換えが可能となっている。

【００５６】書込可能領域Ｗ１に形成されるグルーブｇ
１は、トラックピッチの１／２よりも幅が広く、いわゆ
る幅広グルーブ（Wide Groove）とされている。すなわ
ち、書込可能領域Ｗ１は、グルーブｇ１とグルーブｇ１
の間のランドＬ１の部分の幅よりも、グルーブｇ１の幅
のほうが広く形成されている。このように、グルーブｇ
１の幅を広く形成することにより、グルーブ部分に記録
した情報信号を再生する際のＳ／Ｎを向上することがで
きる。

【００５７】なお、図２において、書込可能領域Ｗ１に
形成されたグルーブｇ１は、記録トラックに平行に形成
されているように図示されているが、これらのグルーブ
ｇ１をウォブリンググルーブとして、グルーブ自体にア
ドレス情報を付加してもよい。

【００５８】グルーブｇ１をウォブリンググルーブとし
た場合、ランドＬ１に情報信号を記録すると、ディスク
径方向で隣り合うグルーブｇ１の位相が一致していない
ためにランドＬ１の幅が常に変化し、その結果、再生信
号のゆらぎが大きくなってしまう。しかし、第１の光磁
気ディスク１Ａでは、グルーブｇ１の部分に情報信号を
記録するようにしているので、グルーブｇ１をウォブリ
ンググルーブにしたとしても、再生信号のゆらぎは抑制
され、安定な信号再生が可能である。

【００５９】一方、再生専用領域Ｒ１は、情報信号に対
応したエンボスピットｐ１が記録トラックに沿って形成
されてなる領域であり、新たな情報信号が書き込まれる
ことはなく、エンボスピット列として予め記録された情
報信号の再生のみが可能となっている。

【００６０】この再生専用領域Ｒ１には、エンボスピッ
ト列が形成されているだけでなく、各エンボスピット列
の間に記録トラックに沿ってグルーブｇ２が形成されて
いる。このように各エンボスピット列の間に記録トラッ
クに沿ってグルーブｇ２を形成することにより、図２に
示すように、書込可能領域Ｗ１から得られるＣＴＳ信号
の極性と、再生専用領域Ｒ１から得られるＣＴＳ信号の
極性とが同じとなる。

【００６１】すなわち、再生専用領域Ｒ１から得られる
ＣＴＳ信号は、トラックセンター（すなわちエンボスピ
ット列の中心）に光スポットがあるときに極大となり、
同様に、書込可能領域Ｗ１から得られるＣＴＳ信号も、
トラックセンター（すなわちグルーブｇ１の中心）に光
スポットがあるときに極大となる。また、再生専用領域
Ｒ１から得られるＣＴＳ信号は、記録トラックの間（す
なわちグルーブｇ２の中心）に光スポットがあるときに
極小となり、同様に、書込可能領域Ｗ１から得られるＣ
ＴＳ信号も、記録トラックの間（すなわちランドＬ１の
中心）に光スポットがあるときに極小となる。

【００６２】したがって、第１の光磁気ディスク１Ａで
は、３ビーム法によりトラッキングサーボを行うとき
に、再生専用領域Ｒ１と書込可能領域Ｗ１との境界でト
ラッキングサーボ動作の極性を切り替える必要はなく、
再生専用領域Ｒ１から書込可能領域Ｗ１にわたって、安
定にトラッキングサーボを行うことができる。

【００６３】なお、再生専用領域Ｒ１の各エンボスピッ
ト列の間に記録トラックに沿ってグルーブｇ２を形成し
た場合、図２に示すように、書込可能領域Ｗ１から得ら
れるプッシュプル信号、及び再生専用領域Ｒ１から得ら
れるプッシュプル信号は、どちらもトラックセンターに
光スポットがあるときにほぼゼロとなる。

【００６４】ただし、書込可能領域Ｗ１に形成するグル
ーブｇ１をウォブリンググルーブとした場合、書込可能
領域Ｗ１から得られるプッシュプル信号は、ウォブリン
ググルーブの蛇行に対応して変化する。したがって、プ
ッシュプル信号を検出することにより、ウォブリンググ
ルーブの蛇行を検出し、アドレス情報を再生することが
できる。

【００６５】以上のような第１の光磁気ディスク１Ａで
は、後述する実験結果からも分かるように、グルーブｇ
１，ｇ２やエンボスピットｐ１の深さを適切に設定する
ことで、十分に高いレベルのＣＴＳ信号やプッシュプル
信号が得られ、且つ、エンボスピット列として記録され
た情報信号を再生したときのピット変調度についても十
分なレベルが得られる。

【００６６】したがって、第１の光磁気ディスク１Ａで
は、再生専用領域Ｒ１と書込可能領域Ｗ１との境界でト
ラッキングサーボ動作の極性を切り替えることなく、再
生専用領域Ｒ１から書込可能領域Ｗ１にわたって、安定
にトラッキングサーボを行いつつ、情報信号の記録再生
を安定に行うことができる。

【００６７】なお、以上のような第１の光磁気ディスク
１Ａを記録媒体として用い、第１の光磁気ディスク１Ａ
の記録再生を行う光記録再生装置は、本発明に係る第１
の光記録再生装置の実施の形態の一つである。この光記
録再生装置は、従来のＭＤ用の光記録再生装置とほぼ同
様の構成でよく、図７に示したような光学ヘッド１００
を用いて、３ビーム法によりトラッキングサーボを行い
つつ、第１の光磁気ディスク１Ａの記録再生を行う。た
だし、この光記録再生装置では、再生専用領域Ｒ１と書
込可能領域Ｗ１との境界でトラッキングサーボ動作の極
性を切り替える機能が不要である。

【００６８】すなわち、第１の光磁気ディスク１Ａは、
再生専用領域Ｒ１から得られるＣＴＳ信号の極性と、書
込可能領域Ｗ１から得られるＣＴＳ信号の極性とが同じ
であるので、第１の光磁気ディスク１Ａを記録媒体とし
て用いる光記録再生装置は、再生専用領域Ｒ１と書込可
能領域Ｗ１との境界でトラッキングサーボ動作の極性を
切り替える必要がない。換言すれば、第１の光磁気ディ
スク１Ａを記録媒体として用いる光記録再生装置では、
再生専用領域Ｒ１と書込可能領域Ｗ１との境界でトラッ
キングサーボ動作の極性を切り替えることなく、再生専
用領域Ｒ１から書込可能領域Ｗ１にわたって、安定にト
ラッキングサーボを行いつつ、情報信号の記録再生を安
定に行うことができる。

【００６９】＜第２の光磁気ディスク＞つぎに、本発明
を適用した第２の光磁気ディスク１Ｂについて説明す
る。図３に示すように、第２の光磁気ディスク１Ｂは、
円盤状のディスク基板２Ｂの上に、第１の誘電体膜３
Ｂ、光磁気膜４Ｂ、第２の誘電体膜５Ｂ及び光反射膜６
Ｂがこの順に積層形成されてなり、更に光反射膜６Ｂの
上に紫外線硬化樹脂等からなる保護膜７Ｂが形成されて
なる。

【００７０】ディスク基板２Ｂは、ポリメチルメタクリ
レート（ＰＭＭＡ）やポリカーボネート（ＰＣ）等から
なり、グルーブやエンボスピット列が形成されてなる。
第１及び第２の誘電体膜３Ｂ，５Ｂは、ＳｉＯ₂、Ｓｉ₃
Ｎ₄又はＡｌ₂Ｏ₃等からなる。光磁気膜４Ｂは、ＧｄＦ
ｅＣｏやＴｂＦｅＣｏ等からなり、この光磁気膜４Ｂに
情報信号が光磁気記録により記録される。すなわち、第
２の光磁気ディスク１Ｂにおいて、情報信号は光磁気膜
４Ｂの磁化方向として記録される。なお、光磁気膜４Ｂ
は、単層構造であっても、多層構造であってもよい。光
反射膜６Ｂは、Ａｌ等からなり、記録再生時に入射光を
反射するとともに、光照射により生じた熱を拡散させる
熱拡散膜としても作用する。

【００７１】この第２の光磁気ディスク１Ｂの情報記録
領域の一部を拡大した図を図４に示す。なお、図４で
は、情報記録領域に形成されるグルーブやエンボスピッ
ト列を分かりやすく示すために、グルーブやエンボスピ
ット列だけを図示し、ディスク基板２Ｂの上に形成され
る積層膜構造については図示を省略している。また、図
４では、第２の光磁気ディスク１Ｂから得られるＣＴＳ
信号及びプッシュプル信号と、グルーブやエンボスピッ
ト列との対応関係についても図示している。

【００７２】図４に示すように、第２の光磁気ディスク
１Ｂは、記録トラックに沿ってグルーブｇ３が形成され
グルーブ部分に情報信号の書き込みがなされる書込可能
領域Ｗ２と、情報信号に対応したエンボスピットｐ２が
記録トラックに沿って形成されてなる再生専用領域Ｒ２
とを備える。

【００７３】書込可能領域Ｗ２は、記録トラックに沿っ
てグルーブｇ３が形成され、グルーブ部分に情報信号の
書き込みがなされる領域であり、光磁気記録により繰り
返し情報信号の書き換えが可能となっている。

【００７４】書込可能領域Ｗ２に形成されるグルーブｇ
３は、トラックピッチの１／２よりも幅が広く、いわゆ
る幅広グルーブ（Wide Groove）とされている。すなわ
ち、書込可能領域Ｗ２は、グルーブｇ３とグルーブｇ３
の間のランドＬ２の部分の幅よりも、グルーブｇ３の幅
のほうが広く形成されている。このように、グルーブｇ
３の幅を広く形成することにより、グルーブ部分に記録
した信号を再生する際のＳ／Ｎを向上することができ
る。

【００７５】なお、図４において、書込可能領域Ｗ２に
形成されたグルーブｇ３は、記録トラックに平行に形成
されているように図示されているが、これらのグルーブ
ｇ３をウォブリンググルーブとして、グルーブ自体にア
ドレス情報を付加してもよい。

【００７６】グルーブｇ３をウォブリンググルーブとし
た場合、ランドＬ２に情報信号を記録すると、ディスク
径方向で隣り合うグルーブｇ３の位相が一致していない
ためにランドＬ２の幅が常に変化し、その結果、再生信
号のゆらぎが大きくなってしまう。しかし、第２の光磁
気ディスク１Ｂでは、グルーブｇ３の部分に情報信号を
記録するようにしているので、グルーブｇ３をウォブリ
ンググルーブにしたとしても、再生信号のゆらぎは抑制
され、安定な信号再生が可能である。

【００７７】一方、再生専用領域Ｒ２は、情報信号に対
応したエンボスピットｐ２が記録トラックに沿って形成
されてなる領域であり、新たな情報信号が書き込まれる
ことはなく、エンボスピット列として予め記録された情
報信号の再生のみが可能となっている。

【００７８】この再生専用領域Ｒ２には、エンボスピッ
ト列が形成されているだけでなく、各エンボスピット列
の両脇に、エンボスピット列と隣接一体とされた一対の
グルーブｇ４，ｇ５が形成されている。このように各エ
ンボスピット列の両脇にエンボスピット列と隣接一体と
された一対のグルーブｇ４，ｇ５を形成することによ
り、図４に示すように、書込可能領域Ｗ２から得られる
ＣＴＳ信号の極性と、再生専用領域Ｒ２から得られるＣ
ＴＳ信号の極性とが同じとなる。

【００７９】すなわち、再生専用領域Ｒ２から得られる
ＣＴＳ信号は、トラックセンター（すなわちエンボスピ
ット列の中心）に光スポットがあるときに極大となり、
同様に、書込可能領域Ｗ２から得られるＣＴＳ信号も、
トラックセンター（すなわちグルーブｇ３の中心）に光
スポットがあるときに極大となる。また、再生専用領域
Ｒ２から得られるＣＴＳ信号は、記録トラックの間（す
なわち、隣り合うエンボスピット列の間の部分であっ
て、グルーブｇ４とグルーブｇ５の間の部分）に光スポ
ットがあるときに極小となり、同様に、書込可能領域Ｗ
２から得られるＣＴＳ信号も、記録トラックの間（すな
わちランドＬ２の部分）に光スポットがあるときに極小
となる。

【００８０】したがって、第２の光磁気ディスク１Ｂで
は、３ビーム法によりトラッキングサーボを行うとき
に、再生専用領域Ｒ２と書込可能領域Ｗ２との境界でト
ラッキングサーボ動作の極性を切り替える必要はなく、
再生専用領域Ｒ２から書込可能領域Ｗ２にわたって、安
定にトラッキングサーボを行うことができる。

【００８１】なお、再生専用領域Ｒ２の各エンボスピッ
ト列の両脇に、エンボスピット列と隣接一体とされた一
対のグルーブｇ４，ｇ５を形成した場合、図４に示すよ
うに、書込可能領域Ｗ２から得られるプッシュプル信
号、及び再生専用領域Ｒ２から得られるプッシュプル信
号は、どちらもトラックセンターに光スポットがあると
きにほぼゼロとなる。

【００８２】ただし、書込可能領域Ｗ２に形成するグル
ーブｇ３をウォブリンググルーブとした場合、書込可能
領域Ｗ２から得られるプッシュプル信号は、ウォブリン
ググルーブの蛇行に対応して変化する。したがって、プ
ッシュプル信号を検出することにより、ウォブリンググ
ルーブの蛇行を検出し、アドレス情報を再生することが
できる。

【００８３】以上のような第２の光磁気ディスク１Ｂで
は、後述する実験結果からも分かるように、グルーブｇ
３，ｇ４，ｇ５やエンボスピットｐ２の深さを適切に設
定することで、十分に高いレベルのＣＴＳ信号やプッシ
ュプル信号が得られ、且つ、エンボスピット列として記
録された情報信号を再生したときのピット変調度につい
ても、十分なレベルが得られる。

【００８４】したがって、第２の光磁気ディスク１Ｂで
は、再生専用領域Ｒ２と書込可能領域Ｗ２との境界でト
ラッキングサーボ動作の極性を切り替えることなく、再
生専用領域Ｒ２から書込可能領域Ｗ２にわたって、安定
にトラッキングサーボを行いつつ、情報信号の記録再生
を安定に行うことができる。

【００８５】なお、以上のような第２の光磁気ディスク
１Ｂを記録媒体として用い、第２の光磁気ディスク１Ｂ
の記録再生を行う光記録再生装置は、本発明に係る第２
の光記録再生装置の実施の形態の一つである。この光記
録再生装置は、従来のＭＤ用の光記録再生装置とほぼ同
様の構成でよく、図７に示したような光学ヘッド１００
を用いて、３ビーム法によりトラッキングサーボを行い
つつ、第２の光磁気ディスク１Ｂの記録再生を行う。た
だし、この光記録再生装置では、再生専用領域とＲ２書
込可能領域Ｗ２との境界でトラッキングサーボ動作の極
性を切り替える機能が不要である。

【００８６】すなわち、第２の光磁気ディスク１Ｂは、
再生専用領域Ｒ２から得られるＣＴＳ信号の極性と、書
込可能領域Ｗ２から得られるＣＴＳ信号の極性とが同じ
であるので、第２の光磁気ディスク１Ｂを記録媒体とし
て用いる光記録再生装置は、再生専用領域Ｒ２と書込可
能領域Ｗ２との境界でトラッキングサーボ動作の極性を
切り替える必要がない。換言すれば、第２の光磁気ディ
スク１Ｂを記録媒体として用いる光記録再生装置では、
再生専用領域Ｒ２と書込可能領域Ｗ２との境界でトラッ
キングサーボ動作の極性を切り替えることなく、再生専
用領域Ｒ２から書込可能領域Ｗ２にわたって、安定にト
ラッキングサーボを行いつつ、情報信号の記録再生を安
定に行うことができる。

【００８７】＜第１及び第２の光磁気ディスクの製造方
法＞つぎに、上記第１及び第２の光磁気ディスク１Ａ，
１Ｂの製造方法について、具体的な例を挙げて詳細に説
明する。なお、以下の説明において、第１の光磁気ディ
スク１Ａと第２の光磁気ディスク１Ｂとを区別する必要
がない場合、それらをまとめて光磁気ディスク１と称す
る。

【００８８】光磁気ディスク１を製造する際は、先ず、
原盤工程として、光磁気ディスク１に形成されるエンボ
スピット列及びグルーブに対応した凹凸パターンを有す
る光記録媒体製造用原盤を作製する。

【００８９】原盤工程では、先ず、表面を研磨した円盤
状のガラス基板を洗浄し乾燥させ、その後、このガラス
基板上に感光材料であるフォトレジストを塗布する。次
に、このフォトレジストをレーザカッティング装置によ
って露光し、光磁気ディスク１に形成されるエンボスピ
ット列及びグルーブに対応した潜像をフォトレジストに
形成する。なお、レーザカッティング装置については、
後で詳細に説明する。

【００９０】そして、フォトレジストに潜像を形成した
ら、次に、フォトレジストが塗布されている面が上面と
なるように、ガラス基板を現像機のターンテーブル上に
載置する。そして、ターンテーブルを回転させることに
よりガラス基板を回転させながら、フォトレジスト上に
現像液を滴下して現像処理を施して、ガラス基板上にグ
ルーブ及びエンボスピット列に対応した凹凸パターンを
形成する。

【００９１】次に、上記凹凸パターン上に無電解メッキ
法によりＮｉ等からなる導電化膜を形成し、その後、導
電化膜が形成されたガラス基板を電鋳装置に取り付け、
電解メッキ法により導電化膜上にＮｉ等からなるメッキ
層を、３００±５μｍ程度の厚さとなるように形成す
る。その後、このメッキ層を剥離し、剥離したメッキを
アセトン等を用いて洗浄し、凹凸パターンが転写された
面に残存しているフォトレジストを除去する。

【００９２】以上の工程により、ガラス基板上に形成さ
れていた凹凸パターンが転写されたメッキからなる光記
録媒体製造用原盤が完成する。なお、この光記録媒体製
造用原盤は、本発明に係る光記録媒体製造用原盤の実施
の形態の一つであり、光磁気ディスク１の再生専用領域
に形成されるグルーブ及びエンボスピット列に対応した
凹凸パターンと、光磁気ディスク１の書込可能領域に形
成されるグルーブに対応した凹凸パターンとが形成され
てなる。

【００９３】次に、転写工程として、フォトポリマー法
（いわゆる２Ｐ法）により、上記光記録媒体製造用原盤
の表面形状が転写されてなるディスク基板を作製する。

【００９４】具体的には、先ず、光記録媒体製造用原盤
の凹凸パターンが形成された面上にフォトポリマーを平
滑に塗布してフォトポリマー層を形成し、次に、当該フ
ォトポリマー層に泡やゴミが入らないようにしながら、
フォトポリマー層上にベースプレートを密着させる。こ
こで、ベースプレートには、例えば、１．２ｍｍ厚のポ
リメチルメタクリレート（屈折率１．４９）からなるベ
ースプレートを使用する。

【００９５】その後、紫外線を照射してフォトポリマー
を硬化させ、その後、光記録媒体製造用原盤を剥離する
ことにより、光記録媒体製造用原盤の表面形状が転写さ
れてなるディスク基板（いわゆる２Ｐディスク）を作製
する。

【００９６】なお、ここでは、光記録媒体製造用原盤に
形成された凹凸パターンがより正確にディスク基板に転
写されるように、２Ｐ法を用いてディスク基板を作製す
る例を挙げたが、ディスク基板を量産するような場合に
は、ポリメチルメタクリレートやポリカーボネート等の
透明樹脂を用いて射出成形によってディスク基板を作製
するようにしても良いことは言うまでもない。

【００９７】次に、成膜工程として、光記録媒体製造用
原盤の表面形状が転写されてなるディスク基板上に、第
１の誘電体膜、光磁気膜、第２の誘電体膜、光反射膜及
び保護膜を形成する。

【００９８】具体的には例えば、先ず、ディスク基板の
凹凸パターンが形成された面上に、ＳｉＯ₂、Ｓｉ₃Ｎ₄
又はＡｌ₂Ｏ₃等からなる第１の誘電体膜と、ＧｄＦｅＣ
ｏ又はＴｅＦｅＣｏ等からなる光磁気膜と、ＳｉＯ₂、
Ｓｉ₃Ｎ₄又はＡｌ₂Ｏ₃等からなる第２の誘電体膜と、Ａ
ｌ等からなる光反射膜とをこの順にスパッタリング法に
より積層形成する。次に、紫外線硬化樹脂等からなる保
護膜材料を光反射膜上にスピンコート法により塗布し、
当該紫外線硬化樹脂に対して紫外線を照射し硬化させる
ことにより、保護膜を形成する。

【００９９】以上の工程により、光磁気ディスク１が完
成する。

【０１００】＜レーザカッティング装置＞以上のような
光磁気ディスク１を製造する際には、上述したように、
光記録媒体製造用原盤を作製する際に、レーザカッティ
ング装置が使用される。以下、レーザカッティング装置
の一例について、図５を参照して詳細に説明する。

【０１０１】図５に示したレーザカッティング装置１０
は、ガラス基板１１の上に塗布されたフォトレジスト１
２を露光して、フォトレジスト１２に潜像を形成するた
めのものである。このレーザカッティング装置１０でフ
ォトレジスト１２に潜像を形成する際、フォトレジスト
１２が塗布されたガラス基板１１は、移動光学テーブル
上に設けられた回転駆動装置に取り付けられる。そし
て、フォトレジスト１２を露光する際、ガラス基板１１
は、フォトレジスト１２の全面にわたって所望のパター
ンでの露光がなされるように、図中矢印Ｃ１に示すよう
に回転駆動装置によって回転駆動されるとともに、移動
光学テーブルによって平行移動される。

【０１０２】このレーザカッティング装置１０は、３つ
の露光ビームによってフォトレジスト１２を露光するこ
とが可能となっており、これらの露光ビームにより、光
磁気ディスク１に形成されるエンボスピット列やグルー
ブに対応した潜像を形成する。

【０１０３】このレーザカッティング装置１０は、レー
ザ光を出射する光源１３と、光源１３から出射されたレ
ーザ光の光強度を調整するための電気光学変調器（ＥＯ
Ｍ：Electro Optical Modulator）１４と、電気光学変
調器１４から出射されたレーザ光の光軸上に配された検
光子１５と、検光子１５を透過してきたレーザ光を反射
光と透過光とに分割する第１のビームスプリッタ１６
と、第１のビームスプリッタ１６を透過してきたレーザ
光を反射光と透過光とに分割する第２のビームスプリッ
タ１７と、第２のビームスプリッタ１７を透過してきた
レーザ光を反射光と透過光とに分割する第３のビームス
プリッタ１８と、第３のビームスプリッタ１８を透過し
てきたレーザ光を検出するフォトディテクタ（ＰＤ：Ph
oto Detector）１９と、電気光学変調器１４に対して信
号電界を印加して当該電気光学変調器１４から出射され
るレーザ光強度を調整するオートパワーコントローラ
（ＡＰＣ：Auto Power Controller）２０とを備えてい
る。

【０１０４】このレーザカッティング装置１０におい
て、光源１３から出射されたレーザ光は、先ず、オート
パワーコントローラ２０から印加される信号電界によっ
て駆動される電気光学変調器１４によって所定の光強度
とされた上で検光子１５に入射する。ここで、検光子１
５はＳ偏光だけを透過する検光子であり、この検光子１
５を透過してきたレーザ光はＳ偏光となる。

【０１０５】なお、光源１３には、任意のものが使用可
能であるが、比較的に短波長のレーザ光を出射するもの
が好ましい。具体的には、例えば、波長λが４１３ｎｍ
のレーザ光を出射するＫｒレーザや、波長λが４４２ｎ
ｍのレーザ光を出射するＨｅ−Ｃｄレーザなどが、光源
１３として好適である。

【０１０６】検光子１５を透過してきたＳ偏光のレーザ
光は、先ず、第１のビームスプリッタ１６によって反射
光と透過光とに分けられ、更に、第１のビームスプリッ
タ１６を透過したレーザ光は、第２のビームスプリッタ
１７によって反射光と透過光とに分けられ、更に、第２
のビームスプリッタ１７を透過したレーザ光は、第３の
ビームスプリッタ１８によって反射光と透過光とに分け
られる。

【０１０７】なお、このレーザカッティング装置１０で
は、第１のビームスプリッタ１６によって反射されたレ
ーザ光が第１の露光ビームとなり、第２のビームスプリ
ッタ１７によって反射されたレーザ光が第２の露光ビー
ムとなり、第３のビームスプリッタ１８によって反射さ
れたレーザ光が第３の露光ビームとなる。

【０１０８】一方、第３のビームスプリッタ１８を透過
したレーザ光は、フォトディテクタ１９によって、その
光強度が検出され、当該光強度に応じた信号がフォトデ
ィテクタ１９からオートパワーコントローラ２０に送ら
れる。オートパワーコントローラ２０は、フォトディテ
クタ１９から送られてきた信号に応じて、フォトディテ
クタ１９によって検出される光強度が所定のレベルにて
一定となるように、電気光学変調器１４に対して印加す
る信号電界を調整する。これにより、電気光学変調器１
４から出射するレーザ光の光強度が一定となるように、
自動光量制御（ＡＰＣ：Auto Power Control）が施さ
れ、ノイズの少ない安定したレーザ光が得られる。

【０１０９】また、このレーザカッティング装置１０
は、第１のビームスプリッタ１６によって反射されたレ
ーザ光を光強度変調するための第１の変調光学系２１
と、第２のビームスプリッタ１７によって反射されたレ
ーザ光を光強度変調するための第２の変調光学系２２
と、第３のビームスプリッタ１８によって反射されたレ
ーザ光を光強度変調するための第３の変調光学系２３
と、第１乃至第３の変調光学系２１，２２，２３によっ
て光強度変調が施された各レーザ光を再合成してフォト
レジスト１２上に集光するための光学系２４とを備えて
いる。

【０１１０】そして、第１のビームスプリッタ１６によ
って反射されてなる第１の露光ビームは、第１の変調光
学系２１に導かれ、第１の変調光学系２１によって光強
度変調が施される。同様に、第２のビームスプリッタ１
７によって反射されてなる第２の露光ビームは、第２の
変調光学系２２に導かれ、第２の変調光学系２２によっ
て光強度変調が施される。同様に、第３のビームスプリ
ッタ１８によって反射されてなる第３の露光ビームは、
第３の変調光学系２３に導かれ、第３の変調光学系２３
によって光強度変調が施される。

【０１１１】第１の変調光学系２１に入射した第１の露
光ビームは、集光レンズ２５によって集光された上で音
響光学変調器（ＡＯＭ：Acousto Optical Modulator）
２６に入射し、この音響光学変調器２６によって、所望
する露光パターンに対応するように光強度変調される。
ここで、音響光学変調器２６に使用される音響光学素子
としては、例えば、酸化テルル（ＴｅＯ₂）からなる音
響光学素子が好適である。そして、音響光学変調器２６
によって光強度変調された第１の露光ビームは、コリメ
ートレンズ２７によって平行光とされた上で、第１の変
調光学系２１から出射される。

【０１１２】ここで、音響光学変調器２６には、当該音
響光学変調器２６を駆動するための駆動用ドライバ２８
が取り付けられている。そして、フォトレジスト１２の
露光時には、所望する露光パターンに応じた信号Ｓ１が
駆動用ドライバ２８に入力され、当該信号Ｓ１に応じて
駆動用ドライバ２８によって音響光学変調器２６が駆動
され、第１の露光ビームに対して光強度変調が施され
る。

【０１１３】また、第２の変調光学系２２に入射した第
２の露光ビームは、集光レンズ２９によって集光された
上で音響光学変調器３０に入射し、この音響光学変調器
３０によって、所望する露光パターンに対応するように
光強度変調される。ここで、音響光学変調器３０に使用
される音響光学素子としては、例えば、酸化テルル（Ｔ
ｅＯ₂）からなる音響光学素子が好適である。そして、
音響光学変調器３０によって光強度変調された第２の露
光ビームは、コリメートレンズ３１によって平行光とさ
れた上で、第２の変調光学系２２から出射される。

【０１１４】ここで、音響光学変調器３０には、当該音
響光学変調器３０を駆動するための駆動用ドライバ３２
が取り付けられている。そして、フォトレジスト１２の
露光時には、所望する露光パターンに応じた信号Ｓ２が
駆動用ドライバ３２に入力され、当該信号Ｓ２に応じて
駆動用ドライバ３２によって音響光学変調器３０が駆動
され、第２の露光ビームに対して光強度変調が施され
る。

【０１１５】また、第３の変調光学系２３に入射した第
３の露光ビームは、集光レンズ３３によって集光された
上で音響光学変調器３４に入射し、この音響光学変調器
３４によって、所望する露光パターンに対応するように
光強度変調される。ここで、音響光学変調器３４に使用
される音響光学素子としては、例えば、酸化テルル（Ｔ
ｅＯ₂）からなる音響光学素子が好適である。そして、
音響光学変調器３４によって光強度変調された第３の露
光ビームは、コリメートレンズ３５によって平行光とさ
れるとともに、λ／２波長板３６を透過することにより
偏光方向が９０°回転させられた上で、第３の変調光学
系２３から出射される。

【０１１６】ここで、音響光学変調器３４には、当該音
響光学変調器３４を駆動するための駆動用ドライバ３７
が取り付けられている。そして、フォトレジスト１２の
露光時には、所望する露光パターンに応じた信号Ｓ３が
駆動用ドライバ３７に入力され、当該信号Ｓ３に応じて
駆動用ドライバ３７によって音響光学変調器３４が駆動
され、第３の露光ビームに対して光強度変調が施され
る。

【０１１７】以上のようにして、第１の露光ビームは第
１の変調光学系２１によって光強度変調が施され、第２
の露光ビームは第２の変調光学系２２によって光強度変
調が施され、第３の露光ビームは第３の変調光学系２３
によって光強度変調が施される。このとき、第１の変調
光学系２１から出射する第１の露光ビーム、及び第２の
変調光学系２２から出射する第２の露光ビームは、Ｓ偏
光のままであるが、第３の変調光学系２３から出射する
第３の露光ビームは、λ／２波長板３６を透過すること
により偏光方向が９０°回転させられているので、Ｐ偏
光となっている。

【０１１８】そして、第１の変調光学系２１から出射し
た第１の露光ビームは、ミラー４０によって反射され、
移動光学テーブル上に水平且つ平行に導かれる。同様
に、第２の変調光学系２２から出射した第２の露光ビー
ムは、ミラー４１によって反射され、移動光学テーブル
上に水平且つ平行に導かれる。同様に、第３の変調光学
系２３から出射した第３の露光ビームは、ミラー４２に
よって反射され、移動光学テーブル上に水平且つ平行に
導かれる。

【０１１９】第１の変調光学系２１から出射し、移動光
学テーブル上に水平且つ平行に導かれた第１の露光ビー
ムは、ミラー４３によって反射されて進行方向が９０°
曲げられた上で、ハーフミラー４４を介して偏光ビーム
スプリッタ４５に入射する。また、第２の変調光学系２
２から出射し、移動光学テーブル上に水平且つ平行に導
かれた第２の露光ビームは、必要に応じて偏向光学系４
６によって光学偏向が施された上で、ハーフミラー４４
によって反射されて進行方向が９０°曲げられた上で偏
光ビームスプリッタ４５に入射する。また、第３の変調
光学系２３から出射し、移動光学テーブル上に水平且つ
平行に導かれた第３の露光ビームは、そのまま偏光ビー
ムスプリッタ４５に入射する。

【０１２０】ここで、偏向光学系４６は、光磁気ディス
ク１に形成するグルーブをウォブリンググルーブとする
ときに、当該ウォブリンググルーブの蛇行に対応するよ
うに、第２の露光ビームに対して光学偏向を施すための
ものである。すなわち、第２の変調光学系２２から出射
し偏向光学系４６に入射した第２の露光ビームは、ウェ
ッジプリズム４７を介して音響光学偏向器（ＡＯＤ：Ac
ousto Optical Deflector）４８に入射し、この音響光
学偏向器４８によって、所望する露光パターンに対応す
るように光学偏向が施される。ここで、音響光学偏向器
４８に使用される音響光学素子としては、例えば、酸化
テルル（ＴｅＯ₂）からなる音響光学素子が好適であ
る。そして、音響光学偏向器４８によって光学偏向が施
された第２の露光ビームは、ウエッジプリズム４９を介
して偏向光学系４６から出射される。

【０１２１】なお、ウェッジプリズム４７，４９は、音
響光学偏向器４８の音響光学素子の格子面に対してブラ
ッグ条件を満たすように第２の露光ビームが入射するよ
うにするとともに、音響光学偏向器４８によって第２の
露光ビームに対して光学偏向を施したとしてもビーム水
平高さが変わらないようにするためのものである。換言
すれば、ウエッジプリズム４７、音響光学偏向器４８及
びウエッジプリズム４９は、音響光学偏向器４８の音響
光学素子の格子面が第２の露光ビームに対してブラッグ
条件を満たし、且つ、偏向光学系４６から出射される第
２の露光ビームのビーム水平高さが変わらないように配
置される。

【０１２２】ここで、音響光学偏向器４８には、当該音
響光学偏向器４８を駆動するための駆動用ドライバ５０
が取り付けられており、当該駆動用ドライバ５０には、
電圧制御発振器（ＶＣＯ：Voltage Controlled Oscilla
tor）５１からの高周波信号が、アドレス情報を含む制
御信号Ｓ４によりＦＭ変調され供給される。そして、フ
ォトレジスト１２の露光時には、所望する露光パターン
に応じた信号が、電圧制御発振器５１から駆動用ドライ
バ５０に入力され、当該信号に応じて駆動用ドライバ５
０によって音響光学偏向器４８が駆動され、これによ
り、第２の露光ビームに対して光学偏向が施される。

【０１２３】偏向光学系４６によって光学偏向が施され
た第２の露光ビームは、上述したように、ハーフミラー
４４によって反射されて進行方向が９０°曲げられた上
で偏光ビームスプリッタ４５に入射する。

【０１２４】ここで、偏光ビームスプリッタ４５は、Ｓ
偏光を反射し、Ｐ偏光を透過するようになされている。
そして、第１の変調光学系２１から出射された第１の露
光ビーム、並びに第２の変調光学系２２から出射され偏
向光学系４６によって光学偏向が施された第２の露光ビ
ームは、Ｓ偏光であり、また、第３の変調光学系２３か
ら出射された第３の露光ビームはＰ偏光である。したが
って、第１及び第２の露光ビームは、偏光ビームスプリ
ッタ４５によって反射され、また、第３の露光ビーム
は、偏光ビームスプリッタ４５を透過する。これによ
り、第１の変調光学系２１から出射された第１の露光ビ
ームと、第２の変調光学系２２から出射され偏向光学系
４６によって光学偏向が施された第２の露光ビームと、
第３の変調光学系２３から出射された第３の露光ビーム
とは、進行方向が同一方向となるように再合成される。

【０１２５】進行方向が同一方向となるように再合成さ
れて偏光ビームスプリッタ４５から出射した第１乃至第
３の露光ビームは、拡大レンズ５２によって所定のビー
ム径とされた上でミラー５３によって反射されて対物レ
ンズ５４へと導かれ、当該対物レンズ５４によってフォ
トレジスト１２上に集光される。これにより、フォトレ
ジスト１２が露光され、フォトレジスト１２に潜像が形
成されることとなる。

【０１２６】このとき、フォトレジスト１２が塗布され
ているガラス基板１１は、上述したように、フォトレジ
スト１２の全面にわたって所望のパターンでの露光がな
されるように、図中矢印Ｃ１に示すように回転駆動装置
によって回転駆動されるとともに、移動光学テーブルに
よって平行移動される。この結果、第１乃至第３の露光
ビームの照射軌跡に応じた潜像が、フォトレジスト１２
の全面にわたって形成されることとなる。

【０１２７】なお、フォトレジスト１２を露光する際
に、３つの露光ビームの全てを常に使うとは限らない。
そこで、第１の露光ビームが不要の場合には、第１の変
調光学系２１の音響光学変調器２６により第１の露光ビ
ームを遮光する。同様に、第２の露光ビームが不要の場
合には、第２の変調光学系２２の音響光学変調器３０に
より第２の露光ビームを遮光する。同様に、第３の露光
ビームが不要の場合には、第３の変調光学系２３の音響
光学変調器３４により第３の露光ビームを遮光する。

【０１２８】ところで、このレーザカッテング装置１０
において、露光ビームをフォトレジスト１２の上に集光
するための対物レンズ５４は、より微細なエンボスピッ
トやグルーブに対応した潜像を形成できるようにするた
めに、開口数ＮＡが大きい方が好ましく、具体的には、
開口数ＮＡが０．９程度の対物レンズが好適である。

【０１２９】また、このレーザカッティング装置１０に
おいて、露光ビームをフォトレジスト１２に照射する際
は、必要に応じて、拡大レンズ５２によって露光ビーム
のビーム径を変化させ、対物レンズ５４に対する有効開
口数を調整する。これにより、フォトレジスト１２の表
面に集光される露光ビームのスポット径を調整すること
ができる。

【０１３０】また、このレーザカッテング装置１０で
は、ミラー４３、ハーフミラー４４及び偏光ビームスプ
リッタ４５の向きを調整することにより、第１乃至第３
の露光ビームを対物レンズ５４によりフォトレジスト１
２上に集光する際に、それらの露光ビームに対応する各
スポットの相対的な位置を調整することができる。

【０１３１】したがって、このレーザカッテング装置１
０では、ミラー４３、ハーフミラー４４及び偏光ビーム
スプリッタ４５の向きを調整することにより、第１の光
磁気ディスク１Ａの再生専用領域Ｒ１に形成されるグル
ーブｇ２及びエンボスピットｐ１に対応した潜像や、第
１の光磁気ディスク１Ａの書込可能領域Ｗ１に形成され
るグルーブｇ１に対応した潜像や、第２の光磁気ディス
ク１Ｂの再生専用領域Ｒ２に形成されるグルーブｇ４，
ｇ５及びエンボスピットｐ２に対応した潜像や、第２の
光磁気ディスク１Ｂの書込可能領域Ｗ２に形成されるグ
ルーブｇ３に対応した潜像など、様々なパターンに対応
した潜像を形成することができる。

【０１３２】＜第１の光磁気ディスクの評価＞つぎに、
上述した第１の光磁気ディスク１Ａを実際に作製し、そ
の特性を評価した結果について説明する。なお、ここで
は、エンボスピットｐ１及びグルーブｇ１，ｇ２の深さ
が異なる複数の評価用ディスクを作製し、それらの特性
を比較して評価した。

【０１３３】評価用ディスクにおいて、再生専用領域Ｒ
１には、情報信号としてＥＦＭ（Eight to Fourteen Mo
dulation）信号をエンボスピット列として記録した。ま
た、書込可能領域Ｗ１には、記録トラックに沿って形成
されるグルーブｇ１として、所定の周期で蛇行させるこ
とによりアドレス情報を付加したウォブリンググルーブ
を形成した。なお、ウォブリンググルーブの蛇行の振幅
は±３０ｎｍとした。

【０１３４】評価用ディスクは、上述したように、レー
ザカッティング装置１０を用いて光記録媒体製造用原盤
を作製し、当該光記録媒体製造用原盤を型としてディス
ク基板２Ａを作製し、その後、当該ディスク基板２Ａの
上に第１の誘電体膜３Ａ、光磁気膜４Ａ、第２の誘電体
膜５Ａ、光反射膜６Ａ及び保護膜７Ａを形成することで
作製した。

【０１３５】ここで、エンボスピットｐ１及びグルーブ
ｇ１，ｇ２の深さが異なる複数の評価用ディスクを作製
するために、レーザカッティング装置１０によりエンボ
スピットｐ１及びグルーブｇ１，ｇ２に対応した潜像を
フォトレジスト１２に形成するにあたり、フォトレジス
ト１２の厚さを変化させた。ガラス基板１１の上に塗布
するフォトレジスト１２の厚さは、最終的に得られる光
磁気ディスクに形成されるエンボスピットｐ１及びグル
ーブｇ１，ｇ２の深さに対応する。そこで、ガラス基板
１１の上に塗布するフォトレジスト１２の厚さを変化さ
せて、複数の光記録媒体製造用原盤を作製し、それらを
もとに複数の評価用ディスクを作製した。これにより、
エンボスピットｐ１及びグルーブｇ１，ｇ２の深さが異
なる複数の評価用ディスクを作製した。

【０１３６】なお、レーザカッティング装置１０により
エンボスピットｐ１及びグルーブｇ１，ｇ２に対応した
潜像をフォトレジスト１２に形成する際、光源１３に
は、波長λが４１３ｎｍのレーザ光を出射するＫｒレー
ザを用いた。また、第１乃至第３の変調光学系２１，２
２，２３の集光レンズ２５，２９，３３には、焦点距離
が８０ｍｍのものを用い、コリメートレンズ２７，３
１，３５には、焦点距離が１２０ｍｍのものを用いた。
また、拡大レンズ５２には、焦点距離が８０ｍｍのもの
を用いた。また、対物レンズ５４には、開口数ＮＡが
０．９のものを用いた。

【０１３７】また、露光ビームによりフォトレジスト１
２を露光する際は、ガラス基板１１を回転駆動させると
ともに移動光学テーブルによって平行移動させたが、こ
のときの線速は１．２０ｍ／ｓｅｃとし、送りピッチは
１．６０μｍとした。なお、ここでの送りピッチは、最
終的に得られる光磁気ディスクのトラックピッチに相当
する。また、露光時のレーザパワーは約０．５ｍＷとし
た。

【０１３８】また、再生専用領域Ｒ１に形成されるエン
ボスピットｐ１及びグルーブｇ２に対応する潜像をフォ
トレジスト１２に形成する際は、エンボスピットｐ１に
対応した潜像を第２の露光ビームにより形成し、グルー
ブｇ２に対応した潜像を第３の露光ビームにより形成し
た。

【０１３９】このとき、再生専用領域Ｒ１に形成するエ
ンボスピットｐ１に対応するように、第２の露光ビーム
に対して、第２の変調光学系２２により光強度変調を施
した。なお、ここでは偏向光学系４６による光学偏向は
行わなかった。また、再生専用領域Ｒ１に形成するグル
ーブｇ２に対応するように、第３の露光ビームに対し
て、第３の変調光学系２３により光強度変調を施した。

【０１４０】具体的には、第２の変調光学系２２の駆動
用ドライバ３２に、再生専用領域Ｒ１に記録するＥＦＭ
信号を入力し、当該ＥＦＭ信号に応じて駆動用ドライバ
３２によって音響光学変調器３０を駆動した。これによ
り、再生専用領域Ｒ１に形成するエンボスピットｐ１に
対応するように、第２の露光ビームに対して光強度変調
を施した。すなわち、再生専用領域Ｒ１に記録するＥＦ
Ｍ信号に対応するように、第２の露光ビームのＯＮ／Ｏ
ＦＦが切り替わるようにした。

【０１４１】同時に、第３の変調光学系２３の駆動用ド
ライバ３７に、一定レベルのＤＣ信号を入力し、当該Ｄ
Ｃ信号に応じて駆動用ドライバ３７によって音響光学変
調器３４を駆動した。これにより、再生専用領域Ｒ１に
形成するグルーブｇ２に対応するように、第３の露光ビ
ームに対して光強度変調を施した。すなわち、一定深さ
のグルーブｇ２に対応するように、第３の露光ビームが
一定の光強度となるようにした。

【０１４２】なお、第１の光磁気ディスク１Ａの再生専
用領域Ｒ１では、図２に示したように、エンボスピット
列とエンボスピット列との間の中心にグルーブｇ２が位
置する。そこで、再生専用領域Ｒ１に形成されるエンボ
スピットｐ１に対応した潜像を第２の露光ビームにより
形成するとともに、再生専用領域に形成されるグルーブ
ｇ２に対応した潜像を第３の露光ビームにより形成する
にあたり、第２の露光ビームによる光スポットと、第３
の露光ビームによる光スポットとの相対的な位置が、図
２に示したエンボスピットｐ１及びグルーブｇ２の形成
パターンに適切に対応するように、ハーフミラー４４及
び偏光ビームスプリッタ４５の向きを調整した。

【０１４３】また、書込可能領域Ｗ１に形成されるグル
ーブｇ１に対応する潜像をフォトレジスト１２に形成す
る際は、当該グルーブｇ１に対応した潜像を第２の露光
ビームにより形成した。このとき、書込可能領域Ｗ１に
形成するグルーブｇ１はウォブリンググルーブであるの
で、第２の露光ビームに対して、第２の変調光学系２２
により光強度変調を施すとともに、偏向光学系４６によ
り光学偏向を施した。

【０１４４】具体的には、第２の変調光学系２２の駆動
用ドライバ３２に、一定レベルのＤＣ信号を入力し、当
該ＤＣ信号に応じて駆動用ドライバ３２によって音響光
学変調器３０を駆動した。これにより、書込可能領域Ｗ
１に形成するグルーブｇ１に対応するように、第２の露
光ビームに対して光強度変調を施した。すなわち、一定
深さのグルーブｇ１に対応するように、第２の露光ビー
ムが一定の光強度となるようにした。

【０１４５】また、中心周波数が２２４ＭＨｚの高周波
信号を、周波数２２．０５ｋＨｚの信号と周波数５ＭＨ
ｚの信号とを重畳した制御信号にてＦＭ変調し、この変
調信号を、偏向光学系４６の電圧制御発振器５１から駆
動用ドライバ５０に供給した。そして、この変調信号に
基づいて、駆動用ドライバ５０によって音響光学偏向器
４８を駆動し、当該音響光学偏向器４８の音響光学素子
のブラッグ角を変化させ、これにより、第２の露光ビー
ムに対して光学偏向を施した。

【０１４６】ここで、制御信号に含まれる周波数２２．
０５ｋＨｚの信号は、グルーブｇ１を蛇行させてアドレ
ス情報を付加するための信号であり、この信号に基づい
て第２の露光ビームを偏向させることにより、グルーブ
自体にアドレス情報を付加したウォブリンググルーブに
対応した潜像が形成されることとなる。

【０１４７】また、制御信号に含まれる周波数５ＭＨｚ
の信号は、幅広のグルーブｇ１に対応した潜像を形成す
るための信号である。すなわち、この信号に基づいて、
第２の露光ビームを、記録トラックに直交する方向に非
常に短い周期で偏向させることで、記録トラックに直交
する方向に光スポットが振幅を繰り返し、多重露光がな
される。その結果、小さな光スポットでも、幅広のグル
ーブｇ１に対応した潜像が形成されることとなる。な
お、このように第２の露光ビームを偏向させる際、その
振幅量を調整することにより、グルーブｇ１に対応した
潜像の幅を調整することが可能である。

【０１４８】そして、第１の光磁気ディスク１Ａを評価
するにあたっては、以上のような製造方法により、エン
ボスピットｐ１及びグルーブｇ１，ｇ２の深さの異なる
３種類の評価用ディスクを作製した。それらの評価用デ
ィスクに形成されたエンボスピットｐ１及びグルーブｇ
１，ｇ２の形状を測定した結果を表１に示す。

【０１４９】

【表１】

【０１５０】なお、エンボスピットｐ１及びグルーブｇ
１，ｇ２の形状の測定は、実際には、評価用ディスク自
体を測定するのではなく、光記録媒体製造用原盤に形成
された凹凸パターンを原子間力顕微鏡（ＡＦＭ：Atomic
Force Microscope）で測定することにより行った。す
なわち、ここでは、光記録媒体製造用原盤に形成された
凹凸パターンがディスク基板２Ａに精度良く転写される
ものと仮定し、光記録媒体製造用原盤に形成された凹凸
パターンの形状を測定した結果を、評価用ディスクに形
成されたエンボスピットｐ１及びグルーブｇ１，ｇ２の
形状を示す値として用いた。

【０１５１】そして、以上のような第１乃至第３の評価
用ディスクについて、それらの特性をＭＤ用評価機を用
いて測定し評価した。ＭＤ用評価機は、図７に示したよ
うな構成の光学ヘッド１００及び磁気ヘッド１１３を用
いて、実際に記録再生を行い、そのときの記録再生特性
を測定するものである。なお、ここで用いたＭＤ用評価
機に搭載される光学ヘッドにおいて、半導体レーザから
出射されるレーザ光の波長は７８０ｎｍ、対物レンズの
開口数ＮＡは０．４５である。また、ＭＤ用評価機によ
り記録再生を行うにあたり、線速は１．２０ｍ／ｓｅｃ
とし、再生時のレーザ光のパワーは１．０ｍＷとし、記
録時のレーザ光のパワーは４．０ｍＷとした。

【０１５２】そして、評価用ディスクの再生専用領域Ｒ
１にエンボスピットｐ１として記録されたＥＦＭ信号を
再生する際は、図７を参照して説明したようにピット再
生信号を検出し、当該ピット再生信号からＥＦＭ信号を
再生した。なお、ピット再生信号は、上述したように、
下記式（２）で表される。

【０１５３】ピット再生信号＝Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋Ｄ・・・（２）また、評価用ディスクの記録再生を行う際、トラッキン
グサーボは３ビーム法により行った。すなわち、トラッ
キングサーボは、図７を参照して説明したようにトラッ
キングエラー信号を検出し、当該トラッキングエラー信
号に基づいて行った。なお、トラッキングエラー信号
は、上述したように、下記式（５）で表される。

【０１５４】トラッキングエラー信号＝Ｅ−Ｆ・・・（５）そして、評価用ディスクを評価するにあたっては、特性
値として、Ｉ₃／Ｉ_top、Ｉ₁₁／Ｉ_top、プッシュプル信
号、ＲＣを測定した。ここで、Ｉ₃は、マーク長が３Ｔ
のエンボスピットにおいて得られるピット変調度であ
り、Ｉ₁₁は、マーク長が３Ｔのエンボスピットにおいて
得られるピット変調度であり、Ｉ_topは、ピット変調度
の最大値である。また、プッシュプル信号は、上述した
ように、下記式（６）で表される。

【０１５５】プッシュプル信号＝（Ａ＋Ｂ）−（Ｃ＋Ｄ）・・・（６）ＲＣは、Radial Constantの略であり、ＣＴＳ信号の振
幅の大きさを示す値である。ＲＣは、隣接する記録トラ
ック間の中心に光スポットがあるときのＣＴＳ信のピー
ク値をＣ₁、記録トラックの中心に光スポットがあると
きのＣＴＳ信号のピーク値をＣ₂としたとき、下記式
（７）で表される。

【０１５６】ＲＣ＝（Ｃ₁−Ｃ₂）／｛（Ｃ₁＋Ｃ₂）／２｝・・・（７）なお、従来のＭＤのフォーマットにおいて、Ｉ₃／
Ｉ_top、Ｉ₁₁／Ｉ_top、プッシュプル信号、ＲＣは、表２
に示す範囲を満たすように規定されている。

【０１５７】

【表２】

【０１５８】表２に示すように、従来のＭＤのフォーマ
ットでは、ＲＣの極性（すなわちＣＴＳ信号の極性）
が、再生専用領域と書込可能領域とで逆になってもよ
い。しかしながら、複数の再生専用領域と書込可能領域
とが混在する、いわゆるハイブリッドＭＤフォーマット
では、ＲＣの極性が、再生専用領域と書込可能領域とで
同じになっていることが望まれる。

【０１５９】第１乃至第３の評価用ディスクの再生専用
領域Ｒ１の特性を測定した結果を表３に示す。なお、表
３では、各評価用ディスクの再生専用領域Ｒ１に形成し
たエンボスピットｐ１及びグルーブｇ２の深さを再掲し
ている。ここで、記録再生に使用するレーザ光のディス
ク基板内での波長をλ’とした場合、７４ｎｍはλ’／
７に相当し、８７ｎｍはλ’／６に相当し、１０４ｎｍ
はλ’／５に相当する。

【０１６０】

【表３】

【０１６１】各評価用ディスクにおいて、書込可能領域
Ｗ１におけるＲＣ及びプッシュプル信号の極性は、従来
のＭＤのフォーマットの場合と同じであった。そして、
表３に示すように、各評価用ディスクにおいて、再生専
用領域Ｒ１におけるＲＣの極性は、書込可能領域Ｗ１と
同じになった。すなわち、各評価用ディスクにおいて、
再生専用領域Ｒ１から得られるＣＴＳ信号の極性と、書
込可能領域Ｗ１から得られるＣＴＳ信号の極性とが同じ
になった。したがって、これらの評価用ディスクでは、
再生専用領域Ｒ１と書込可能領域Ｗ１の境界でトラッキ
ングサーボ動作の極性を切り替える必要はなく、再生専
用領域Ｒ１から書込可能領域Ｗ１にわたって、安定にト
ラッキングサーボを行うことができる。

【０１６２】特に、エンボスピットｐ１及びグルーブｇ
２の深さを８７ｎｍ〜１０４ｎｍとした第２及び第３の
評価用ディスクでは、ＲＣのレベルが非常に高く、３ビ
ーム法によるトラッキングサーボを非常に安定に行うこ
とができた。

【０１６３】しかも、エンボスピットｐ１及びグルーブ
ｇ２の深さを８７ｎｍ〜１０４ｎｍとした第２及び第３
の評価用ディスクでは、ピット変調度のレベルも非常に
高く、再生専用領域Ｒ１にエンボスピット列として記録
された情報信号を、非常に安定に再生をすることができ
た。

【０１６４】ところで、表３に示した特性測定結果を、
表２に示した従来のＭＤの規格と比較すると、エンボス
ピットｐ１及びグルーブｇ２の深さを７４ｎｍとした第
１の評価用ディスクでは、Ｉ₃／Ｉ_topの値がやや低す
ぎ、エンボスピットｐ１及びグルーブｇ２の深さを１０
４ｎｍとした第３の評価用ディスクでは、ＲＣの絶対値
がやや大きすぎる。一方、エンボスピットｐ１及びグル
ーブｇ２の深さを８７ｎｍとした第２の評価用ディスク
では、全ての特性値について、従来のＭＤの規格に適合
する。したがって、第１の光磁気ディスク１Ａにおい
て、ハイブリッドＭＤフォーマットを実現するには、再
生専用領域Ｒ１に形成するエンボスピット１ｐ及びグル
ーブｇ２の深さを、７４ｎｍよりも深く、且つ、１０４
ｎｍよりも浅くすることが好ましく、より詳しくは、第
２の評価用ディスクのように、エンボスピットｐ１及び
グルーブｇ２の深さを８７ｎｍ程度とすることが好まし
い。

【０１６５】なお、各評価用ディスクにおいて、書込可
能領域Ｗ１での記録再生は問題なく正常に行えた。ここ
で、書込可能領域Ｗ１への情報信号の記録は、評価用デ
ィスクに対して、光学ヘッドからのレーザ光を照射する
とともに、磁気ヘッドからの磁界を印加することにより
行った。なお、記録時のレーザ光のパワーは、４．０ｍ
Ｗとした。また、書込可能領域Ｗ１に記録した情報信号
の再生は、図７を参照して説明したように光磁気再生信
号を検出することで行った。なお、光磁気再生信号は、
上述したように、下記式（１）で表される。

【０１６６】光磁気再生信号＝（Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋Ｄ）−Ｇ・・・（１）また、各評価用ディスクでは、書込可能領域Ｗ１に形成
されるグルーブｇ１をウォブリンググルーブとして、グ
ルーブ自体にアドレス情報を付加したが、このアドレス
情報は、プッシュプル信号を検出することで安定に再生
することができた。なお、プッシュプル信号は、上述し
たように下記式（６）で表される。

【０１６７】プッシュプル信号＝（Ａ＋Ｂ）−（Ｃ＋Ｄ）・・・（６）＜第２の光磁気ディスクの評価＞つぎに、上述した第２
の光磁気ディスク１Ｂを実際に作製し、その特性を評価
した結果について説明する。なお、ここでは、エンボス
ピットｐ２及びグルーブｇ３，ｇ４，ｇ５の深さが異な
る複数の評価用ディスクを作製し、それらの特性を比較
して評価した。

【０１６８】評価用ディスクにおいて、再生専用領域Ｒ
２には、情報信号としてＥＦＭ（Eight to Fourteen Mo
dulation）信号をエンボスピット列として記録した。ま
た、書込可能領域Ｗ２には、記録トラックに沿って形成
されるグルーブｇ３として、所定の周期で蛇行させるこ
とによりアドレス情報を付加したウォブリンググルーブ
を形成した。なお、ウォブリンググルーブの蛇行の振幅
は±３０ｎｍとした。

【０１６９】評価用ディスクは、上述したように、レー
ザカッティング装置１０を用いて光記録媒体製造用原盤
を作製し、当該光記録媒体製造用原盤を型としてディス
ク基板２Ｂを作製し、その後、当該ディスク基板２Ｂの
上に第１の誘電体膜３Ｂ、光磁気膜４Ｂ、第２の誘電体
膜５Ｂ、光反射膜６Ｂ及び保護膜７Ｂを形成することで
作製した。

【０１７０】ここで、エンボスピットｐ２及びグルーブ
ｇ３，ｇ４，ｇ５の深さが異なる複数の評価用ディスク
を作製するために、レーザカッティング装置１０により
エンボスピットｐ２及びグルーブｇ３，ｇ４，ｇ５に対
応した潜像をフォトレジスト１２に形成するにあたり、
フォトレジスト１２の厚さを変化させた。ガラス基板１
１の上に塗布するフォトレジスト１２の厚さは、最終的
に得られる光磁気ディスクに形成されるエンボスピット
ｐ２及びグルーブｇ３，ｇ４，ｇ５の深さに対応する。
そこで、ガラス基板１１の上に塗布するフォトレジスト
１２の厚さを変化させて、複数の光記録媒体製造用原盤
を作製し、それらをもとに複数の評価用ディスクを作製
した。これにより、エンボスピットｐ２及びグルーブｇ
３，ｇ４，ｇ５の深さが異なる複数の評価用ディスクを
作製した。

【０１７１】なお、レーザカッティング装置１０により
エンボスピットｐ２及びグルーブｇ３，ｇ４，ｇ５に対
応した潜像をフォトレジスト１２に形成する際、光源１
３には、波長λが４１３ｎｍのレーザ光を出射するＫｒ
レーザを用いた。また、第１乃至第３の変調光学系２
１，２２，２３の集光レンズ２５，２９，３３には、焦
点距離が８０ｍｍのものを用い、コリメートレンズ２
７，３１，３５には、焦点距離が１２０ｍｍのものを用
いた。また、拡大レンズ５２には、焦点距離が８０ｍｍ
のものを用いた。また、対物レンズ５４には、開口数Ｎ
Ａが０．９のものを用いた。

【０１７２】また、露光ビームによりフォトレジスト１
２を露光する際は、ガラス基板１１を回転駆動させると
ともに移動光学テーブルによって平行移動させたが、こ
のときの線速は１．２０ｍ／ｓｅｃとし、送りピッチは
１．６０μｍとした。なお、ここでの送りピッチは、最
終的に得られる光磁気ディスクのトラックピッチに相当
する。また、露光時のレーザパワーは約０．５ｍＷとし
た。

【０１７３】また、再生専用領域Ｒ２に形成されるエン
ボスピットｐ２及びグルーブｇ４，ｇ５に対応する潜像
をフォトレジスト１２に形成する際は、エンボスピット
ｐ２に対応した潜像を第２の露光ビームにより形成し、
エンボスピット列の両側に形成する一対のグルーブｇ
４，ｇ５に対応した潜像を第１及び第３の露光ビームに
より形成した。

【０１７４】このとき、再生専用領域Ｒ２に形成するエ
ンボスピットｐ２に対応するように、第２の露光ビーム
に対して、第２の変調光学系２２により光強度変調を施
した。なお、ここでは、偏向光学系４６による光学偏向
は行わなかった。また、再生専用領域Ｒ２に形成するグ
ルーブｇ４，ｇ５に対応するように、第１の露光ビーム
に対して、第１の変調光学系２１により光強度変調を施
すとともに、第３の露光ビームに対して、第３の変調光
学系２３により光強度変調を施した。

【０１７５】具体的には、第２の変調光学系２２の駆動
用ドライバ３２に、再生専用領域Ｒ２に記録するＥＦＭ
信号を入力し、当該ＥＦＭ信号に応じて駆動用ドライバ
３２によって音響光学変調器３０を駆動した。これによ
り、再生専用領域Ｒ２に形成するエンボスピットｐ２に
対応するように、第２の露光ビームに対して光強度変調
を施した。すなわち、再生専用領域Ｒ２に記録するＥＦ
Ｍ信号に対応するように、第２の露光ビームのＯＮ／Ｏ
ＦＦが切り替わるようにした。

【０１７６】同時に、第１及び第３の変調光学系２１，
２３の駆動用ドライバ２８，３７に、それぞれ一定レベ
ルのＤＣ信号を入力し、当該ＤＣ信号に応じて駆動用ド
ライバ２８，３７によって音響光学変調器２６，３４を
それぞれ駆動した。これにより、再生専用領域Ｒ２に形
成するグルーブｇ４，ｇ５に対応するように、第１及び
第３の露光ビームに対して光強度変調を施した。すなわ
ち、一定深さのグルーブｇ４，ｇ５に対応するように、
第１及び第３の露光ビームが一定の光強度となるように
した。

【０１７７】なお、第２の光磁気ディスク１Ｂにおい
て、再生専用領域Ｒ２には、図４に示したように、エン
ボスピット列の両側に、エンボスピット列と隣接一体と
なるように一対のグルーブｇ４，ｇ５を形成する。そこ
で、再生専用領域Ｒ２に形成されるエンボスピットｐ２
に対応した潜像を第２の露光ビームにより形成するとと
もに、再生専用領域Ｒ２に形成されるグルーブｇ４，ｇ
５に対応した潜像を第１及び第３の露光ビームにより形
成するにあたり、エンボスピットｐ２に対応した潜像を
形成する第２の露光ビームによる光スポットと、一方の
グルーブｇ４に対応した潜像を形成する第１の露光ビー
ムによる光スポットと、他方のグルーブｇ５に対応した
潜像を形成する第３の露光ビームによる光スポットとの
相対的な位置が、図４に示したエンボスピットｐ２及び
グルーブｇ４，ｇ５の形成パターンに適切に対応するよ
うに、ミラー４３、ハーフミラー４４及び偏光ビームス
プリッタ４５の向きを調整した。

【０１７８】具体的には、再生専用領域Ｒ２において、
エンボスピット列の中心と、当該エンボスピット列の左
側に当該エンボスピット列と隣接一体に形成されるグル
ーブｇ４の中心との間隔、並びに、エンボスピット列の
中心と、当該エンボスピット列の右側に当該エンボスピ
ット列と隣接一体に形成されるグルーブｇ５の中心との
間隔が、それぞれ４００ｎｍとなるようにした。

【０１７９】また、書込可能領域Ｗ２に形成されるグル
ーブｇ３に対応する潜像をフォトレジスト１２に形成す
る際は、当該グルーブｇ３に対応した潜像を第２の露光
ビームにより形成した。このとき、書込可能領域Ｗ２に
形成するグルーブｇ３はウォブリンググルーブであるの
で、第２の露光ビームに対して、第２の変調光学系２２
により光強度変調を施すとともに、偏向光学系４６によ
り光学偏向を施した。

【０１８０】具体的には、第２の変調光学系２２の駆動
用ドライバ３２に、一定レベルのＤＣ信号を入力し、当
該ＤＣ信号に応じて駆動用ドライバ３２によって音響光
学変調器３０を駆動した。これにより、書込可能領域Ｗ
２に形成するグルーブｇ３に対応するように、第２の露
光ビームに対して光強度変調を施した。すなわち、一定
深さのグルーブｇ３に対応するように、第２の露光ビー
ムが一定の光強度となるようにした。

【０１８１】また、中心周波数が２２４ＭＨｚの高周波
信号を、周波数２２．０５ｋＨｚの信号と周波数５ＭＨ
ｚの信号とを重畳した制御信号にてＦＭ変調し、この変
調信号を、偏向光学系４６の電圧制御発振器５１から駆
動用ドライバ５０に供給した。そして、この変調信号に
基づいて、駆動用ドライバ５０によって音響光学偏向器
４８を駆動し、当該音響光学偏向器４８の音響光学素子
のブラッグ角を変化させ、これにより、第２の露光ビー
ムに対して光学偏向を施した。

【０１８２】ここで、制御信号に含まれる周波数２２．
０５ｋＨｚの信号は、グルーブｇ３を蛇行させてアドレ
ス情報を付加するための信号であり、この信号に基づい
て第２の露光ビームを偏向させることにより、グルーブ
自体にアドレス情報を付加したウォブリンググルーブに
対応した潜像が形成されることとなる。

【０１８３】また、制御信号に含まれる周波数５ＭＨｚ
の信号は、幅広のグルーブｇ３に対応した潜像を形成す
るための信号である。すなわち、この信号に基づいて、
第２の露光ビームを、記録トラックに直交する方向に非
常に短い周期で偏向させることで、記録トラックに直交
する方向に光スポットが振幅を繰り返し、多重露光がな
される。その結果、小さな光スポットでも、幅広のグル
ーブｇ３に対応した潜像が形成されることとなる。な
お、このように第２の露光ビームを偏向させる際、その
振幅量を調整することにより、グルーブｇ３に対応した
潜像の幅を調整することが可能である。

【０１８４】そして、第２の光磁気ディスク１Ｂを評価
するにあたっては、以上のような製造方法により、エン
ボスピットｐ２及びグルーブｇ３，ｇ４，ｇ５の深さの
異なる４種類の評価用ディスクを作製した。それらの評
価用ディスクに形成されたエンボスピットｐ２及びグル
ーブｇ３，ｇ４，ｇ５の形状を測定した結果を表４に示
す。なお、表４において、再生専用領域Ｒ２のエンボス
ピットｐ２の幅は、エンボスピットｐ２の両側に形成さ
れたグルーブｇ４，ｇ５も含んだ幅を示している。

【０１８５】

【表４】

【０１８６】なお、エンボスピットｐ２及びグルーブｇ
３，ｇ４，ｇ５の形状の測定は、実際には、評価用ディ
スク自体を測定するのではなく、光記録媒体製造用原盤
に形成された凹凸パターンを原子間力顕微鏡（ＡＦＭ：
Atomic Force Microscope）で測定することにより行っ
た。すなわち、ここでは、光記録媒体製造用原盤に形成
された凹凸パターンがディスク基板２Ｂに精度良く転写
されるものと仮定し、光記録媒体製造用原盤に形成され
た凹凸パターンの形状を測定した結果を、評価用ディス
クに形成されたエンボスピットｐ２及びグルーブｇ３，
ｇ４，ｇ５の形状を示す値として用いた。

【０１８７】そして、以上のような第１乃至第４の評価
用ディスクについて、それらの特性をＭＤ用評価機を用
いて測定し評価した。ＭＤ用評価機は、図７に示したよ
うな構成の光学ヘッド１００及び磁気ヘッド１１３を用
いて、実際に記録再生を行い、そのときの記録再生特性
を測定するものである。なお、ここで用いたＭＤ用評価
機に搭載される光学ヘッドにおいて、半導体レーザから
出射されるレーザ光の波長は７８０ｎｍ、対物レンズの
開口数ＮＡは０．４５である。また、ＭＤ用評価機によ
り記録再生を行うにあたり、線速は１．２０ｍ／ｓｅｃ
とし、再生時のレーザ光のパワーは１．０ｍＷとし、記
録時のレーザ光のパワーは４．０ｍＷとした。

【０１８８】そして、評価用ディスクの再生専用領域Ｒ
２にエンボスピットｐ２として記録されたＥＦＭ信号を
再生する際は、図７を参照して説明したようにピット再
生信号を検出し、当該ピット再生信号からＥＦＭ信号を
再生した。なお、ピット再生信号は、上述したように、
下記式（２）で表される。

【０１８９】ピット再生信号＝Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋Ｄ・・・（２）また、評価用ディスクの記録再生を行う際、トラッキン
グサーボは３ビーム法により行った。すなわち、トラッ
キングサーボは、図７を参照して説明したようにトラッ
キングエラー信号を検出し、当該トラッキングエラー信
号に基づいて行った。なお、トラッキングエラー信号
は、上述したように、下記式（５）で表される。

【０１９０】トラッキングエラー信号＝Ｅ−Ｆ・・・（５）そして、評価用ディスクを評価するにあたっては、特性
値として、Ｉ₃／Ｉ_top、Ｉ₁₁／Ｉ_top、プッシュプル信
号、ＲＣを測定した。ここで、Ｉ₃は、マーク長が３Ｔ
のエンボスピットにおいて得られるピット変調度であ
り、Ｉ₁₁は、マーク長が３Ｔのエンボスピットにおいて
得られるピット変調度であり、Ｉ_topは、ピット変調度
の最大値である。また、プッシュプル信号は、上述した
ように、下記式（６）で表される。

【０１９１】プッシュプル信号＝（Ａ＋Ｂ）−（Ｃ＋Ｄ）・・・（６）ＲＣは、Radial Constantの略であり、ＣＴＳ信号の振
幅の大きさを示す値である。ＲＣは、上述したように、
隣接する記録トラック間の中心に光スポットがあるとき
のＣＴＳ信号のピーク値をＣ₁、記録トラックの中心に
光スポットがあるときのＣＴＳ信号のピーク値をＣ₂と
したとき、下記式（７）で表される。

【０１９２】ＲＣ＝（Ｃ₁−Ｃ₂）／｛（Ｃ₁＋Ｃ₂）／２｝・・・（７）なお、従来のＭＤのフォーマットにおいて、Ｉ₃／
Ｉ_top、Ｉ₁₁／Ｉ_top、プッシュプル信号、ＲＣは、表５
に示す範囲を満たすように規定されている。

【０１９３】

【表５】

【０１９４】表５に示すように、従来のＭＤのフォーマ
ットでは、ＲＣの極性（すなわちＣＴＳ信号の極性）
が、再生専用領域と書込可能領域とで逆になってもよ
い。しかしながら、複数の再生専用領域と書込可能領域
とが混在する、いわゆるハイブリッドＭＤフォーマット
では、ＲＣの極性が、再生専用領域と書込可能領域とで
同じになっていることが望まれる。

【０１９５】第１乃至第４の評価用ディスクの再生専用
領域Ｒ２の特性を測定した結果を表６に示す。なお、表
６では、各評価用ディスクの再生専用領域Ｒ２に形成し
たエンボスピットｐ２及びグルーブｇ４，ｇ５の深さを
再掲している。ここで、記録再生に使用するレーザ光の
ディスク基板内での波長をλ’とした場合、６５ｎｍは
λ’／８に相当し、７４ｎｍはλ’／７に相当し、８７
ｎｍはλ’／６に相当し、１０４ｎｍはλ’／５に相当
する。

【０１９６】

【表６】

【０１９７】各評価用ディスクにおいて、書込可能領域
Ｗ２におけるＲＣ及びプッシュプル信号の極性は、従来
のＭＤのフォーマットの場合と同じであった。そして、
表６に示すように、各評価用ディスクにおいて、再生専
用領域Ｒ２におけるＲＣの極性は、書込可能領域Ｗ２と
同じになった。すなわち、各評価用ディスクにおいて、
再生専用領域Ｒ２から得られるＣＴＳ信号の極性と、書
込可能領域Ｗ２から得られるＣＴＳ信号の極性とが同じ
になった。したがって、これらの評価用ディスクでは、
再生専用領域Ｒ２と書込可能領域Ｗ２の境界でトラッキ
ングサーボ動作の極性を切り替える必要はなく、再生専
用領域Ｒ２から書込可能領域Ｗ２にわたって、安定にト
ラッキングサーボを行うことができる。

【０１９８】特に、エンボスピットｐ２及びグルーブｇ
４，ｇ５の深さを８７ｎｍ〜１０４ｎｍとした第３及び
第４の評価用ディスクでは、ＲＣのレベルが非常に高
く、３ビーム法によるトラッキングサーボを非常に安定
に行うことができた。

【０１９９】しかも、エンボスピットｐ２及びグルーブ
ｇ４，ｇ５の深さを８７ｎｍ〜１０４ｎｍとした第３及
び第４の評価用ディスクでは、ピット変調度のレベルも
非常に高く、再生専用領域Ｒ２にエンボスピット列とし
て記録された情報信号を、非常に安定に再生をすること
ができた。

【０２００】ところで、表６に示した特性測定結果を、
表５に示した従来のＭＤの規格と比較すると、エンボス
ピットｐ２及びグルーブｇ４，ｇ５の深さを６５ｎｍと
した第１の評価用ディスクでは、Ｉ₃／Ｉ_topの値がやや
低すぎる。また、エンボスピットｐ２及びグルーブｇ
４，ｇ５の深さを８７ｎｍとした第３の評価用ディス
ク、並びにエンボスピットｐ２及びグルーブｇ４，ｇ５
の深さを１０４ｎｍとした第４の評価用ディスクでは、
ＲＣの絶対値がやや大きすぎる。一方、エンボスピット
ｐ２及びグルーブｇ４，ｇ５の深さを７４ｎｍとした第
２の評価用ディスクでは、全ての特性値について、従来
のＭＤの規格に適合する。

【０２０１】したがって、第２の光磁気ディスク１Ｂに
おいて、ハイブリッドＭＤフォーマットを実現するに
は、再生専用領域Ｒ２に形成するエンボスピットｐ２及
びグルーブｇ４，ｇ５の深さを、６５ｎｍよりも深く、
且つ、８７ｎｍよりも浅くすることが好ましく、より詳
しくは、第２の評価用ディスクのように、エンボスピッ
トｐ２及びグルーブｇ４，ｇ５の深さを７４ｎｍ程度と
することが好ましい。

【０２０２】なお、各評価用ディスクにおいて、書込可
能領域Ｗ２での記録再生は問題なく正常に行えた。ここ
で、書込可能領域Ｗ２への情報信号の記録は、評価用デ
ィスクに対して、光学ヘッドからのレーザ光を照射する
とともに、磁気ヘッドからの磁界を印加することにより
行った。なお、記録時のレーザ光のパワーは、４．０ｍ
Ｗとした。また、書込可能領域Ｗ２に記録した情報信号
の再生は、図７を参照して説明したように光磁気再生信
号を検出することで行った。なお、光磁気再生信号は、
上述したように、下記式（１）で表される。

【０２０３】光磁気信号＝（Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋Ｄ）−Ｇ・・・（１）また、各評価用ディスクでは、書込可能領域Ｗ２に形成
されるグルーブｇ３をウォブリンググルーブとして、グ
ルーブ自体にアドレス情報を付加したが、このアドレス
情報は、プッシュプル信号を検出することで安定に再生
することができた。なお、プッシュプル信号は、上述し
たように下記式（６）で表される。

【０２０４】プッシュプル信号＝（Ａ＋Ｂ）−（Ｃ＋Ｄ）・・・（６）＜本発明の対象となる光記録媒体＞以上詳細に説明した
ように、本発明を適用した第１及び第２の光磁気ディス
ク１Ａ，１Ｂでは、再生専用領域と書込可能領域との境
界でトラッキングサーボ動作の極性を切り替えることな
く、再生専用領域から書込可能領域にわたって安定にト
ラッキングサーボを行うことができるので、ハイブリッ
ドＭＤフォーマットを実現する上で非常に好適である。
ただし、本発明は、ハイブリッドＭＤフォーマット以外
の場合にも有効である。

【０２０５】すなわち、第１及び第２の光磁気ディスク
１Ａ，１Ｂのようなフォーマットは、対象となる光記録
媒体が、再生専用領域に幅狭ピット、書込可能領域に幅
広グルーブが形成されてなり、且つ、トラッキングサー
ボにＣＴＳ信号を利用する光記録媒体であれば、ハイブ
リッドＭＤフォーマットに限らず、様々な光記録媒体に
対して非常に有効である。また、光磁気ディスクに限定
されることもなく、例えば、相変化型光ディスクなどに
も適用可能である。

【０２０６】したがって、例えば、いわゆる８倍密度の
光磁気ディスクや、高密度相変化型光ディスクであるＤ
ＶＤ＋ＲＷなどにおいて、複数の再生専用領域と書込可
能領域を混在させるような場合にも、本発明は非常に有
効である。

【０２０７】なお、本発明に係る光記録媒体の記録再生
を行う際に用いるトラッキングサーボの方式は、３ビー
ム法に限定されるものではない。すなわち、ＣＴＳ信号
を利用したトラッキングサーボであれば、トラッキング
サーボにどのような方式を採用した場合でも、本発明は
有効である。

【０２０８】

【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明に係
る光記録媒体では、再生専用領域及び書込可能領域から
十分なレベルのＣＴＳ信号を得ることが可能であり、し
かも、再生専用領域から得られるＣＴＳ信号の極性と、
書込可能領域から得られるＣＴＳ信号の極性とが同じに
なる。更に、再生専用領域からは十分なレベルのピット
変調度を得ることが可能である。

【０２０９】したがって、本発明に係る光記録媒体で
は、記録再生時に、光記録媒体の再生専用領域と、光記
録媒体の書込可能領域との境界で、トラッキングサーボ
動作の極性を切り替えるようなことなく、再生専用領域
から書込可能領域にわたって安定に記録再生を行うこと
ができる。

【０２１０】また、本発明に係る光記録媒体製造用原盤
によれば、上述のような本発明に係る光記録媒体を製造
することができる。

【０２１１】また、本発明に係る光記録再生装置では、
光記録媒体の再生専用領域及び書込可能領域から十分な
レベルのＣＴＳ信号を得ることが可能であり、しかも、
再生専用領域から得られるＣＴＳ信号の極性と、書込可
能領域から得られるＣＴＳ信号の極性とが同じになる。
更に、再生専用領域からは十分なレベルのピット変調度
を得ることが可能である。

【０２１２】したがって、本発明に係る光記録再生装置
では、光記録媒体の再生専用領域と、光記録媒体の書込
可能領域との境界で、トラッキングサーボ動作の極性を
切り替えるようなことなく、再生専用領域から書込可能
領域にわたって安定に記録再生を行うことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を適用した第１の光磁気ディスクについ
て、要部を拡大して示す断面図である。

【図２】本発明を適用した第１の光磁気ディスクについ
て、再生専用領域に形成されたグルーブ及びエンボスピ
ット列、並びに書込可能領域に形成されたグルーブを示
すとともに、それらとＣＴＳ信号及びプッシュプル信号
との関係を示す図である。

【図３】本発明を適用した第２の光磁気ディスクについ
て、要部を拡大して示す断面図である。

【図４】本発明を適用した第２の光磁気ディスクについ
て、再生専用領域に形成されたグルーブ及びエンボスピ
ット列、並びに書込可能領域に形成されたグルーブを示
すとともに、それらとＣＴＳ信号及びプッシュプル信号
との関係を示す図である。

【図５】本発明を適用した光記録媒体製造用原盤を製造
する際に使用されるレーザカッティング装置の一例につ
いて、その光学系の概要を示す図である。

【図６】従来のＭＤの書込可能領域及び再生専用領域の
フォーマットを示す図である。

【図７】３ビーム法によりトラッキングサーボを行う光
記録再生装置に搭載される光学ヘッド及び磁気ヘッドの
一例を示す図である。

【図８】従来のＭＤについて、再生専用領域に形成され
たエンボスピット列、並びに書込可能領域に形成された
グルーブを示すとともに、それらとＣＴＳ信号及びプッ
シュプル信号との関係を示す図である。

【符号の説明】

１Ａ第１の光磁気ディスク、２Ｂ第２の光磁気デ
ィスク、２Ａ，２Ｂディスク基板、３Ａ，３Ｂ第
１の誘電体膜、４Ａ，４Ｂ光磁気膜、５Ａ，５Ｂ
第２の誘電体膜、６Ａ，６Ｂ光反射膜、７Ａ，７
Ｂ保護膜

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】記録トラックに沿ってグルーブが形成さ
れグルーブ部分に情報信号の書き込みがなされる書込可
能領域と、情報信号に対応したエンボスピット列が記録トラックに
沿って形成されてなる再生専用領域とを備え、上記書込可能領域は、グルーブとグルーブの間のランド
部分の幅よりもグルーブの幅のほうが広く、上記再生専用領域は、エンボスピット列の間に記録トラ
ックに沿ってグルーブが形成されてなることを特徴とす
る光記録媒体。
【請求項２】上記書込可能領域に形成されたグルー
ブ、及び上記再生専用領域に形成されたグルーブのうち
の少なくともいずれかは、少なくとも一部が蛇行するよ
うに形成されたウォブリンググルーブであることを特徴
とする請求項１記載の光記録媒体。
【請求項３】記録トラックに沿ってグルーブが形成さ
れグルーブ部分に情報信号の書き込みがなされる書込可
能領域と、情報信号に対応したエンボスピット列が記録トラックに
沿って形成されてなる再生専用領域とを備え、上記書込可能領域は、グルーブとグルーブの間のランド
部分の幅よりもグルーブの幅の方が広く、上記再生専用領域は、各エンボスピット列の両脇に、エ
ンボスピット列と隣接一体とされた一対のグルーブが形
成されてなることを特徴とする光記録媒体。
【請求項４】上記書込可能領域に形成されたグルー
ブ、及び上記再生専用領域に形成されたグルーブのうち
の少なくともいずれかは、少なくとも一部が蛇行するよ
うに形成されたウォブリンググルーブであることを特徴
とする請求項３記載の光記録媒体。
【請求項５】記録トラックに沿ってグルーブが形成さ
れグルーブ部分に情報信号の書き込みがなされる書込可
能領域と、情報信号に対応したエンボスピット列が記録
トラックに沿って形成されてなる再生専用領域とを備え
た光記録媒体を製造する際の型となる光記録媒体製造用
原盤であって、上記光記録媒体の書込可能領域は、グルーブとグルーブ
の間のランド部分の幅よりもグルーブの幅のほうが広
く、上記光記録媒体の再生専用領域は、エンボスピット列の
間に記録トラックに沿ってグルーブが形成されてなり、少なくとも、上記光記録媒体の書込可能領域に形成され
るグルーブと、上記光記録媒体の再生専用領域に形成さ
れるグルーブ及びエンボスピット列とに対応した凹凸パ
ターンが形成されてなることを特徴とする光記録媒体製
造用原盤。
【請求項６】上記光記録媒体の書込可能領域に形成さ
れるグルーブ、及び上記光記録媒体の再生専用領域に形
成されるグルーブのうちの少なくともいずれかは、少な
くとも一部が蛇行するように形成されたウォブリンググ
ルーブであることを特徴とする請求項５記載の光記録媒
体製造用原盤。
【請求項７】記録トラックに沿ってグルーブが形成さ
れグルーブ部分に情報信号の書き込みがなされる書込可
能領域と、情報信号に対応したエンボスピット列が記録
トラックに沿って形成されてなる再生専用領域とを備え
た光記録媒体を製造する際の型となる光記録媒体製造用
原盤であって、上記光記録媒体の書込可能領域は、グルーブとグルーブ
の間のランド部分の幅よりもグルーブの幅の方が広く、上記光記録媒体の再生専用領域は、各エンボスピット列
の両脇に、エンボスピット列と隣接一体とされた一対の
グルーブが形成されてなり、少なくとも、上記光記録媒体の書込可能領域に形成され
るグルーブと、上記光記録媒体の再生専用領域に形成さ
れるグルーブ及びエンボスピット列とに対応した凹凸パ
ターンが形成されてなることを特徴とする光記録媒体製
造用原盤。
【請求項８】上記書込可能領域に形成されたグルー
ブ、及び上記再生専用領域に形成されたグルーブのうち
の少なくともいずれかは、少なくとも一部が蛇行するよ
うに形成されたウォブリンググルーブであることを特徴
とする請求項７記載の光記録媒体製造用原盤。
【請求項９】記録トラックに沿ってグルーブが形成さ
れグルーブ部分に情報信号の書き込みがなされる書込可
能領域と、情報信号に対応したエンボスピット列が記録
トラックに沿って形成されてなる再生専用領域とを備え
た光記録媒体の記録再生を行う光記録再生装置であっ
て、上記光記録媒体の書込可能領域は、グルーブとグルーブ
の間のランド部分の幅よりもグルーブの幅のほうが広
く、上記光記録媒体の再生専用領域は、エンボスピット列の
間に記録トラックに沿ってグルーブが形成されてなるこ
とを特徴とする光記録再生装置。
【請求項１０】上記光記録媒体の書込可能領域に形成
されたグルーブ、及び上記光記録媒体の再生専用領域に
形成されたグルーブのうちの少なくともいずれかは、少
なくとも一部が蛇行するように形成されたウォブリング
グルーブであることを特徴とする請求項９記載の光記録
再生装置。
【請求項１１】３ビーム法によりトラッキングサーボ
を行うことを特徴とする請求項９記載の光記録再生装
置。
【請求項１２】記録トラックに沿ってグルーブが形成
されグルーブ部分に情報信号の書き込みがなされる書込
可能領域と、情報信号に対応したエンボスピット列が記
録トラックに沿って形成されてなる再生専用領域とを備
えた光記録媒体の記録再生を行う光記録再生装置であっ
て、上記光記録媒体の書込可能領域は、グルーブとグルーブ
の間のランド部分の幅よりもグルーブの幅の方が広く、上記光記録媒体の再生専用領域は、各エンボスピット列
の両脇に、エンボスピット列と隣接一体とされた一対の
グルーブが形成されてなることを特徴とする光記録再生
装置。
【請求項１３】上記光記録媒体の書込可能領域に形成
されたグルーブ、及び上記光記録媒体の再生専用領域に
形成されたグルーブのうちの少なくともいずれかは、少
なくとも一部が蛇行するように形成されたウォブリング
グルーブであることを特徴とする請求項１２記載の光記
録再生装置。
【請求項１４】３ビーム法によりトラッキングサーボ
を行うことを特徴とする請求項１２記載の光記録再生装
置。