JP2002334484A - 光記録媒体、光記録媒体作製用原盤、マザースタンパ、成形用スタンパとこれらの製造方法 - Google Patents
光記録媒体、光記録媒体作製用原盤、マザースタンパ、成形用スタンパとこれらの製造方法Info
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- JP2002334484A JP2002334484A JP2001142182A JP2001142182A JP2002334484A JP 2002334484 A JP2002334484 A JP 2002334484A JP 2001142182 A JP2001142182 A JP 2001142182A JP 2001142182 A JP2001142182 A JP 2001142182A JP 2002334484 A JP2002334484 A JP 2002334484A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高密度記録を目指す光記録媒体において、高
密度化により微細化されたピット信号を確実に歩留りよ
く製造すると共に、再生特性を良好に保持する。 【解決手段】 基板上にピットとウォブリンググルーブ
とを有する光記録媒体にあって、少なくとも記録領域
に、ウォブリンググルーブを形成して、作製時の原盤用
基板の平滑面を転写して形成した平滑面、もしくはこの
平滑面を踏襲してこの上に形成された平滑面によってウ
ォブリンググルーブのグルーブ面を形成すると共に、ピ
ットは、上述の平滑面もしくはこの平ら滑面を踏襲して
この上に形成された平滑面に設けられた凹状パターンと
して形成して、ウォブリンググルーブ面を情報記録面と
して、この情報記録面上を覆って全面的に、基板に比し
十分薄い薄膜の光透過性保護膜を形成して、この光透過
性保護膜側を、情報記録面に対する照射光の入射面とす
る。
密度化により微細化されたピット信号を確実に歩留りよ
く製造すると共に、再生特性を良好に保持する。 【解決手段】 基板上にピットとウォブリンググルーブ
とを有する光記録媒体にあって、少なくとも記録領域
に、ウォブリンググルーブを形成して、作製時の原盤用
基板の平滑面を転写して形成した平滑面、もしくはこの
平滑面を踏襲してこの上に形成された平滑面によってウ
ォブリンググルーブのグルーブ面を形成すると共に、ピ
ットは、上述の平滑面もしくはこの平ら滑面を踏襲して
この上に形成された平滑面に設けられた凹状パターンと
して形成して、ウォブリンググルーブ面を情報記録面と
して、この情報記録面上を覆って全面的に、基板に比し
十分薄い薄膜の光透過性保護膜を形成して、この光透過
性保護膜側を、情報記録面に対する照射光の入射面とす
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光記録媒体、光記
録媒体作製用原盤、マザースタンパ、成形用スタンパ及
びこれらの製造方法に係わる。
録媒体作製用原盤、マザースタンパ、成形用スタンパ及
びこれらの製造方法に係わる。
【０００２】
【従来の技術】光記録媒体として、円盤状に形成されて
成り、光学的に記録及び／又は再生が行われる光ディス
クが各種実用化されている。このような光ディスクに
は、データに対応したエンボスピットがディスク基板に
予め形成されて成る再生専用光ディスクや、磁気光学効
果を利用してデータの記録を行う光磁気ディスクや、記
録膜の相変化を利用してデータの記録を行う相変化型光
ディスクなどがある。
成り、光学的に記録及び／又は再生が行われる光ディス
クが各種実用化されている。このような光ディスクに
は、データに対応したエンボスピットがディスク基板に
予め形成されて成る再生専用光ディスクや、磁気光学効
果を利用してデータの記録を行う光磁気ディスクや、記
録膜の相変化を利用してデータの記録を行う相変化型光
ディスクなどがある。
【０００３】これら光ディスクのうち、光磁気ディスク
や相変化型光ディスクのように書き込みが可能な光ディ
スクでは、通常、記録トラックに沿ったグルーブがディ
スク基板に形成される。ここで、グルーブとは、主にト
ラッキングサーボを行えるようにするために、記録トラ
ックに沿って形成される、いわゆる案内溝であり、グル
ーブとグルーブの開口端間をランドと称す。
や相変化型光ディスクのように書き込みが可能な光ディ
スクでは、通常、記録トラックに沿ったグルーブがディ
スク基板に形成される。ここで、グルーブとは、主にト
ラッキングサーボを行えるようにするために、記録トラ
ックに沿って形成される、いわゆる案内溝であり、グル
ーブとグルーブの開口端間をランドと称す。
【０００４】そしてグルーブが形成されて成る光ディス
クでは、通常、グルーブで反射回折された光から得られ
るプッシュプル信号に基づくトラッキングエラー信号に
よって、トラッキングサーボがなされる。ここで、プッ
シュプル信号は、グルーブで反射回折された光を、トラ
ック中心に対して対称に配置された２つの光検出器によ
り検出し、それら２つの光検出器からの出力の差をとる
ことにより得られる。
クでは、通常、グルーブで反射回折された光から得られ
るプッシュプル信号に基づくトラッキングエラー信号に
よって、トラッキングサーボがなされる。ここで、プッ
シュプル信号は、グルーブで反射回折された光を、トラ
ック中心に対して対称に配置された２つの光検出器によ
り検出し、それら２つの光検出器からの出力の差をとる
ことにより得られる。
【０００５】ところで、従来、これらの光ディスクで
は、再生装置に搭載される光ピックアップの再生分解能
を向上させることで、高記録密度化を達成してきた。そ
して、光ピックアップの再生分解能の向上は、主に、デ
ータの再生に使用するレーザ光の波長λを短くしたり、
光ディスク上にレーザ光を集光する対物レンズの開口数
ＮＡを大きくしたりすることにより、光学的に実現させ
てきた。
は、再生装置に搭載される光ピックアップの再生分解能
を向上させることで、高記録密度化を達成してきた。そ
して、光ピックアップの再生分解能の向上は、主に、デ
ータの再生に使用するレーザ光の波長λを短くしたり、
光ディスク上にレーザ光を集光する対物レンズの開口数
ＮＡを大きくしたりすることにより、光学的に実現させ
てきた。
【０００６】従来、ＣＤ（Compact Disc）の追記型のい
わゆるＣＤ−Ｒや光磁気ディスクの追記型のいわゆるＷ
ＯＲＭ（Write Once Read Many）やＤＶＤ（Digital Ve
rsatile Disc）の追記型のＤＶＤ−Ｒ、又はＤＶＤの書
換え可能型のいわゆるＤＶＤ＋ＲＷ或いはＤＶＤ−ＲＷ
（いずれも光ディスクの登録商標）の各フォーマットで
は、グルーブに記録するグルーブ記録フォーマットが提
案されている。ＩＳＯ系の光磁気（ＭＯ；Magneto Opti
cal ）ディスクの各フォーマットでは、ランドに記録す
るランド記録フォーマットが提案されている。
わゆるＣＤ−Ｒや光磁気ディスクの追記型のいわゆるＷ
ＯＲＭ（Write Once Read Many）やＤＶＤ（Digital Ve
rsatile Disc）の追記型のＤＶＤ−Ｒ、又はＤＶＤの書
換え可能型のいわゆるＤＶＤ＋ＲＷ或いはＤＶＤ−ＲＷ
（いずれも光ディスクの登録商標）の各フォーマットで
は、グルーブに記録するグルーブ記録フォーマットが提
案されている。ＩＳＯ系の光磁気（ＭＯ；Magneto Opti
cal ）ディスクの各フォーマットでは、ランドに記録す
るランド記録フォーマットが提案されている。
【０００７】一方ＤＶＤ−ＲＡＭ（Random Access Memo
ry）等においては、光ディスクの高密度化を実現する一
つの方法として、グルーブとランドとの両方に記録する
ことにより、トラック密度を従来の２倍にして高密度化
をはかる、いわゆるランドグルーブ記録方式が提案され
ている。
ry）等においては、光ディスクの高密度化を実現する一
つの方法として、グルーブとランドとの両方に記録する
ことにより、トラック密度を従来の２倍にして高密度化
をはかる、いわゆるランドグルーブ記録方式が提案され
ている。
【０００８】また近年、次世代光ディスクとして開発が
進められているＤＶＲ（Digital Video Recordable）
や、ＭＤが小径化されたいわゆるμ（マイクロ）−Disc
等の高密度光ディスクでは、ランドグルーブ記録方式が
採られ、データ情報を、ランド上と、グルーブ上に記録
することから、従来の２倍の記録密度を達成することが
できる。
進められているＤＶＲ（Digital Video Recordable）
や、ＭＤが小径化されたいわゆるμ（マイクロ）−Disc
等の高密度光ディスクでは、ランドグルーブ記録方式が
採られ、データ情報を、ランド上と、グルーブ上に記録
することから、従来の２倍の記録密度を達成することが
できる。
【０００９】しかしながら、ＤＶＤ−ＲＡＭ等において
ランドグルーブ記録を行う場合、ランド上の記録とグル
ーブ上の記録において、記録再生時にフォーカス点をそ
れぞれ調節しないと最適な記録再生特性が得られないこ
とから、光学系の複雑化を招くという欠点があった。
ランドグルーブ記録を行う場合、ランド上の記録とグル
ーブ上の記録において、記録再生時にフォーカス点をそ
れぞれ調節しないと最適な記録再生特性が得られないこ
とから、光学系の複雑化を招くという欠点があった。
【００１０】また、"ISOM 2000 Simulation Of Heat Ge
neration And Conduction On Land/Groove Disc"におい
て、ランド上の記録とグルーブ上の記録とにおいて、記
録ビーム形状が異なる報告があることからも明らかなよ
うに、ランド記録再生特性とグルーブ記録再生特性とを
均一化することは困難であり、同一の光記録媒体におい
て、記録再生特性の異なる領域が存在するという問題が
ある。
neration And Conduction On Land/Groove Disc"におい
て、ランド上の記録とグルーブ上の記録とにおいて、記
録ビーム形状が異なる報告があることからも明らかなよ
うに、ランド記録再生特性とグルーブ記録再生特性とを
均一化することは困難であり、同一の光記録媒体におい
て、記録再生特性の異なる領域が存在するという問題が
ある。
【００１１】更にまた、ＤＶＲ等の高密度光ディスクに
おいて、読み取り面に近い方、即ちＤＶＲの場合はラン
ド上の記録再生特性は良好であるが、読み取り面から遠
い方、即ちＤＶＲの場合グルーブでの記録再生特性を良
好に保持することは困難な結果を得ている。
おいて、読み取り面に近い方、即ちＤＶＲの場合はラン
ド上の記録再生特性は良好であるが、読み取り面から遠
い方、即ちＤＶＲの場合グルーブでの記録再生特性を良
好に保持することは困難な結果を得ている。
【００１２】このような高密度ディスクを作製する際
に、基板を成形する際にその凹凸を反転させてグルーブ
を読み取り面に近い方に形成することは可能であるが、
この場合、ピットによる信号記録領域において、高記録
密度化に伴って微細化されたピット形状を良好に射出成
形等により転写することは困難であった。
に、基板を成形する際にその凹凸を反転させてグルーブ
を読み取り面に近い方に形成することは可能であるが、
この場合、ピットによる信号記録領域において、高記録
密度化に伴って微細化されたピット形状を良好に射出成
形等により転写することは困難であった。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述したよ
うな各種の光記録媒体において、高記録密度化を可能と
すると共に、良好な記録再生特性が得られる光記録媒体
と、これを高い歩留り、生産性をもって作製し得る光記
録媒体作製用原盤、マザースタンパ、成形用スタンパ及
びこれらの製造方法を提供することを目的とする。
うな各種の光記録媒体において、高記録密度化を可能と
すると共に、良好な記録再生特性が得られる光記録媒体
と、これを高い歩留り、生産性をもって作製し得る光記
録媒体作製用原盤、マザースタンパ、成形用スタンパ及
びこれらの製造方法を提供することを目的とする。
【００１４】
【課題を解決するための手段】本発明は、基板上にピッ
トとウォブリンググルーブとを有する光記録媒体にあっ
て、少なくとも記録領域に、ウォブリンググルーブを形
成して、作製時の原盤用基板の平滑面を転写して形成し
た平滑面、もしくはこの平滑面を踏襲してこの上に形成
された平滑面によってウォブリンググルーブのグルーブ
面を形成すると共に、ピットは、上述の平滑面もしくは
この平ら滑面を踏襲してこの上に形成された平滑面に設
けられた凹状パターンとして形成して、ウォブリンググ
ルーブ面を情報記録面として、この情報記録面上を覆っ
て全面的に、基板に比し十分薄い薄膜の光透過性保護膜
を形成して、この光透過性保護膜側を、情報記録面に対
する照射光の入射面として構成する。
トとウォブリンググルーブとを有する光記録媒体にあっ
て、少なくとも記録領域に、ウォブリンググルーブを形
成して、作製時の原盤用基板の平滑面を転写して形成し
た平滑面、もしくはこの平滑面を踏襲してこの上に形成
された平滑面によってウォブリンググルーブのグルーブ
面を形成すると共に、ピットは、上述の平滑面もしくは
この平ら滑面を踏襲してこの上に形成された平滑面に設
けられた凹状パターンとして形成して、ウォブリンググ
ルーブ面を情報記録面として、この情報記録面上を覆っ
て全面的に、基板に比し十分薄い薄膜の光透過性保護膜
を形成して、この光透過性保護膜側を、情報記録面に対
する照射光の入射面として構成する。
【００１５】また本発明は、原盤用基板の上にフォトレ
ジストを被着して、原盤用基板の平滑面を露出させるパ
ターンとしてウォブリンググルーブパターンをパターニ
ング形成し、平滑面上の突起状パターンとしてピットパ
ターンをパターニング形成して光記録媒体作製用原盤を
作製し、この光記録媒体作製用原盤を２回転写して作製
したマザースタンパを成形用スタンパとして、又はこの
マザースタンパを２回転写して作製した成形用スタンパ
を用いて基板を作製し、その基板上に、少なくとも記録
層と、この基板に比し十分薄い薄膜の光透過性保護膜と
を形成して光記録媒体を製造する。
ジストを被着して、原盤用基板の平滑面を露出させるパ
ターンとしてウォブリンググルーブパターンをパターニ
ング形成し、平滑面上の突起状パターンとしてピットパ
ターンをパターニング形成して光記録媒体作製用原盤を
作製し、この光記録媒体作製用原盤を２回転写して作製
したマザースタンパを成形用スタンパとして、又はこの
マザースタンパを２回転写して作製した成形用スタンパ
を用いて基板を作製し、その基板上に、少なくとも記録
層と、この基板に比し十分薄い薄膜の光透過性保護膜と
を形成して光記録媒体を製造する。
【００１６】また更に本発明は、原盤用基板の上にフォ
トレジストが被着され、所要のパターンの露光及び現像
がなされてこのフォトレジストが記録情報に対応するパ
ターンとして形成される光記録媒体作製用原盤にあっ
て、現像後にフォトレジストが残されるパターンとして
ピットパターンを形成し、現像後にフォトレジストが除
去されるパターンとしてウォブリンググルーブパターン
を形成して構成し、ウォブリンググルーブパターンのグ
ルーブ面を、原盤用基板の平滑面が露出した面より構成
する。
トレジストが被着され、所要のパターンの露光及び現像
がなされてこのフォトレジストが記録情報に対応するパ
ターンとして形成される光記録媒体作製用原盤にあっ
て、現像後にフォトレジストが残されるパターンとして
ピットパターンを形成し、現像後にフォトレジストが除
去されるパターンとしてウォブリンググルーブパターン
を形成して構成し、ウォブリンググルーブパターンのグ
ルーブ面を、原盤用基板の平滑面が露出した面より構成
する。
【００１７】また本発明は、原盤用基板の上にフォトレ
ジストを被着して、所要のパターンの露光及び現像によ
りこのフォトレジストを記録情報に対応するパターンと
して形成する光記録媒体作製用原盤の製造方法にあっ
て、現像後にフォトレジストが残されるパターンとして
ピットパターンを形成し、現像後にフォトレジストが除
去されるパターンとしてウォブリンググルーブパターン
を形成し、ウォブリンググルーブパターンのグルーブ面
を、原盤用基板の平滑面を露出した面として構成する。
ジストを被着して、所要のパターンの露光及び現像によ
りこのフォトレジストを記録情報に対応するパターンと
して形成する光記録媒体作製用原盤の製造方法にあっ
て、現像後にフォトレジストが残されるパターンとして
ピットパターンを形成し、現像後にフォトレジストが除
去されるパターンとしてウォブリンググルーブパターン
を形成し、ウォブリンググルーブパターンのグルーブ面
を、原盤用基板の平滑面を露出した面として構成する。
【００１８】更に本発明は、上述の製造方法において、
ピットパターンのパターン露光を行う際に、第１の露光
ビームにより記録情報に対応するパターニングを行うと
共に、第２の露光ビームによりピットパターン間の連続
露光を行い、第１及び第２の露光ビームの照射領域の一
部が重なるようにする。
ピットパターンのパターン露光を行う際に、第１の露光
ビームにより記録情報に対応するパターニングを行うと
共に、第２の露光ビームによりピットパターン間の連続
露光を行い、第１及び第２の露光ビームの照射領域の一
部が重なるようにする。
【００１９】また本発明は、原盤用基板の上にフォトレ
ジストが被着され、所要のパターンの露光及び現像がな
されてこのフォトレジストが記録情報に対応するパター
ンとして形成された光記録媒体作製用原盤を転写して作
製したマザースタンパにあって、光記録媒体作製用原盤
を、上述の製造方法により作製する。
ジストが被着され、所要のパターンの露光及び現像がな
されてこのフォトレジストが記録情報に対応するパター
ンとして形成された光記録媒体作製用原盤を転写して作
製したマザースタンパにあって、光記録媒体作製用原盤
を、上述の製造方法により作製する。
【００２０】すなわち、現像後にフォトレジストが残さ
れるパターンとしてピットパターンを形成して、現像後
にフォトレジストが除去されるパターンとしてウォブリ
ンググルーブパターンを形成して、ウォブリンググルー
ブパターンのグルーブ面を、原盤用基板の平滑面が露出
した面として構成した光記録媒体作製用原盤から、２回
の転写により作製する。
れるパターンとしてピットパターンを形成して、現像後
にフォトレジストが除去されるパターンとしてウォブリ
ンググルーブパターンを形成して、ウォブリンググルー
ブパターンのグルーブ面を、原盤用基板の平滑面が露出
した面として構成した光記録媒体作製用原盤から、２回
の転写により作製する。
【００２１】更に本発明は、原盤用基板の上にフォトレ
ジストを被着した後、現像後にこのフォトレジストが残
されるパターンとしてピットパターンを形成し、現像後
にフォトレジストが除去されるパターンとしてウォブリ
ンググルーブパターンを形成して、原盤用基板の平滑面
を露出した面としてウォブリンググルーブパターンのグ
ルーブ面を構成して光記録媒体作製用原盤を作製し、こ
の光記録媒体作製用原盤から２回の転写によりマザース
タンパを作製する。
ジストを被着した後、現像後にこのフォトレジストが残
されるパターンとしてピットパターンを形成し、現像後
にフォトレジストが除去されるパターンとしてウォブリ
ンググルーブパターンを形成して、原盤用基板の平滑面
を露出した面としてウォブリンググルーブパターンのグ
ルーブ面を構成して光記録媒体作製用原盤を作製し、こ
の光記録媒体作製用原盤から２回の転写によりマザース
タンパを作製する。
【００２２】また更に本発明は、原盤用基板の上にフォ
トレジストが被着され、所要のパターンの露光及び現像
がなされてフォトレジストが記録情報に対応するパター
ンとして形成された光記録媒体作製用原盤を転写して作
製した成形用スタンパにあって、光記録媒体作製用原盤
を、上述の製造方法により作製する。
トレジストが被着され、所要のパターンの露光及び現像
がなされてフォトレジストが記録情報に対応するパター
ンとして形成された光記録媒体作製用原盤を転写して作
製した成形用スタンパにあって、光記録媒体作製用原盤
を、上述の製造方法により作製する。
【００２３】すなわち、現像後にフォトレジストが残さ
れるパターンとしてピットパターンを形成して、現像後
にフォトレジストが除去されるパターンとしてウォブリ
ンググルーブパターンを形成して、ウォブリンググルー
ブパターンのグルーブ面を、原盤用基板の平滑面が露出
した面として光記録媒体製造原盤を構成し、この光記録
媒体作製用原盤から２回の転写により作製されたマザー
スタンパを用いて、更に２回の転写により作製する。
れるパターンとしてピットパターンを形成して、現像後
にフォトレジストが除去されるパターンとしてウォブリ
ンググルーブパターンを形成して、ウォブリンググルー
ブパターンのグルーブ面を、原盤用基板の平滑面が露出
した面として光記録媒体製造原盤を構成し、この光記録
媒体作製用原盤から２回の転写により作製されたマザー
スタンパを用いて、更に２回の転写により作製する。
【００２４】また本発明は、原盤用基板の上にフォトレ
ジストを被着した後、現像後にこのフォトレジストが残
されるパターンとしてピットパターンを形成し、現像後
にフォトレジストが除去されるパターンとしてウォブリ
ンググルーブパターンを形成して、原盤用基板の平滑面
を露出した面としてウォブリンググルーブパターンのグ
ルーブ面を構成して光記録媒体作製用原盤を作製し、光
記録媒体作製用原盤から２回の転写によりマザースタン
パを作製し、このマザースタンパから２回の転写により
成形用スタンパを製造する。
ジストを被着した後、現像後にこのフォトレジストが残
されるパターンとしてピットパターンを形成し、現像後
にフォトレジストが除去されるパターンとしてウォブリ
ンググルーブパターンを形成して、原盤用基板の平滑面
を露出した面としてウォブリンググルーブパターンのグ
ルーブ面を構成して光記録媒体作製用原盤を作製し、光
記録媒体作製用原盤から２回の転写によりマザースタン
パを作製し、このマザースタンパから２回の転写により
成形用スタンパを製造する。
【００２５】上述したように、本発明は、基板上にピッ
トとウォブリンググルーブとを有する光記録媒体におい
て、特にそのウォブリンググルーブのグルーブ面を、作
製時の原盤用基板の表面の平滑面を転写して形成した平
滑面、もしくはこの平滑面を踏襲してこの上に形成した
平滑面によって形成して、この平滑面より成るグルーブ
面を情報記録面とし、この上に形成された光透過性保護
膜側から再生光を照射して記録を読み取る構成とするこ
とから、再生時には、対物レンズをより記録層に近接し
て配置したニアーフィールド構成とすることが出来て、
高記録密度化をはかるために対物レンズの開口数ＮＡを
大きくしてもこま収差の増大を回避することができ、更
に、ＮＡを大きく、再生光の波長λを低減化しても、ス
キューマージンの低下を回避することができて、高記録
密度化従って大容量化をはかることができる。
トとウォブリンググルーブとを有する光記録媒体におい
て、特にそのウォブリンググルーブのグルーブ面を、作
製時の原盤用基板の表面の平滑面を転写して形成した平
滑面、もしくはこの平滑面を踏襲してこの上に形成した
平滑面によって形成して、この平滑面より成るグルーブ
面を情報記録面とし、この上に形成された光透過性保護
膜側から再生光を照射して記録を読み取る構成とするこ
とから、再生時には、対物レンズをより記録層に近接し
て配置したニアーフィールド構成とすることが出来て、
高記録密度化をはかるために対物レンズの開口数ＮＡを
大きくしてもこま収差の増大を回避することができ、更
に、ＮＡを大きく、再生光の波長λを低減化しても、ス
キューマージンの低下を回避することができて、高記録
密度化従って大容量化をはかることができる。
【００２６】また特に、原盤用基板の平滑面が転写され
た平滑面を情報記録面としたことによって、ノイズの低
減化がはかられ、再生時の出力を十分大とすることが出
来て、良好な再生特性を得る事ができる。
た平滑面を情報記録面としたことによって、ノイズの低
減化がはかられ、再生時の出力を十分大とすることが出
来て、良好な再生特性を得る事ができる。
【００２７】更に、光記録媒体作製用原盤のピットパタ
ーンの形状を凸状パターンとするため、射出成形法、ま
たは２Ｐ法等による基板の成形工程において、より高密
度化されて微細化されたピットも良好な形状をもって転
写することができ、凹状パターンのピットを有する原盤
により基板を転写形成した場合に比し、格段に光記録媒
体の歩留りの向上、生産性の向上をはかることができ
る。
ーンの形状を凸状パターンとするため、射出成形法、ま
たは２Ｐ法等による基板の成形工程において、より高密
度化されて微細化されたピットも良好な形状をもって転
写することができ、凹状パターンのピットを有する原盤
により基板を転写形成した場合に比し、格段に光記録媒
体の歩留りの向上、生産性の向上をはかることができ
る。
【００２８】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態の各例
を、図面を参照して詳細に説明する。これらの例におい
ては、ディスク状の光透過性の基板上に、ピットとウォ
ブリンググルーブとを設けて成る光記録媒体、この光記
録媒体を作製するために用いる光記録媒体作製用原盤、
原盤から成形したマザースタンパ及び成形用スタンパを
示すが、本発明はこれらの例に限定されるものではな
く、その他種々の形態を採り得ることはいうまでもな
い。
を、図面を参照して詳細に説明する。これらの例におい
ては、ディスク状の光透過性の基板上に、ピットとウォ
ブリンググルーブとを設けて成る光記録媒体、この光記
録媒体を作製するために用いる光記録媒体作製用原盤、
原盤から成形したマザースタンパ及び成形用スタンパを
示すが、本発明はこれらの例に限定されるものではな
く、その他種々の形態を採り得ることはいうまでもな
い。
【００２９】先ず、本発明による光記録媒体の一例の構
成を図１及び図２を参照して説明する。この例において
は、記録情報のフォーマット情報等のいわゆるＴＯＣ(T
ableOf Contents) をディスク内周部にピットとして設
け、その外側にウォブリンググルーブを設け、このグル
ーブ内に記録情報が記録されるグルーブ記録がなされ、
ウォブル情報としてアドレス情報が記録された場合を示
す。
成を図１及び図２を参照して説明する。この例において
は、記録情報のフォーマット情報等のいわゆるＴＯＣ(T
ableOf Contents) をディスク内周部にピットとして設
け、その外側にウォブリンググルーブを設け、このグル
ーブ内に記録情報が記録されるグルーブ記録がなされ、
ウォブル情報としてアドレス情報が記録された場合を示
す。
【００３０】この光記録媒体の略線的拡大断面図を図１
に示す。図１において、１は光透過性の基板で、その上
に、例えば反射層２、第１の誘電体層３、記録層４、第
２の誘電体層５及び光透過性保護膜６が順次積層形成さ
れて構成される。
に示す。図１において、１は光透過性の基板で、その上
に、例えば反射層２、第１の誘電体層３、記録層４、第
２の誘電体層５及び光透過性保護膜６が順次積層形成さ
れて構成される。
【００３１】基板１には、作製時に原盤用基板の鏡面加
工された表面、すなわち原盤用基板の平滑面が転写され
た平滑面が形成される。そして、各層２〜５が順次被着
されて、最上層の第２の誘電体層５の表面には、基板１
の平滑面を踏襲した平滑面９が形成されて成る。
工された表面、すなわち原盤用基板の平滑面が転写され
た平滑面が形成される。そして、各層２〜５が順次被着
されて、最上層の第２の誘電体層５の表面には、基板１
の平滑面を踏襲した平滑面９が形成されて成る。
【００３２】本発明においては、特にこの平滑面９を、
ウォブリンググルーブ７のグルーブ面７Ｓとして、ここ
に記録情報が記録される。
ウォブリンググルーブ７のグルーブ面７Ｓとして、ここ
に記録情報が記録される。
【００３３】一方、上述のＴＯＣ等が記録されたピット
８は、平滑面９に設けられた凹状パターンとして設けら
れる。
８は、平滑面９に設けられた凹状パターンとして設けら
れる。
【００３４】そして、これらウォブリンググルーブ７及
びピット８が形成された第２の誘電体層６上を覆って全
面的に、光透過性保護膜６が、その表面が平坦面となる
ように、また基板１に比し十分薄い膜厚をもって、例え
ばＵＶ硬化樹脂等がスピンコート法等により被着形成さ
れて、本発明による光記録媒体が構成される。
びピット８が形成された第２の誘電体層６上を覆って全
面的に、光透過性保護膜６が、その表面が平坦面となる
ように、また基板１に比し十分薄い膜厚をもって、例え
ばＵＶ硬化樹脂等がスピンコート法等により被着形成さ
れて、本発明による光記録媒体が構成される。
【００３５】そして、この光記録媒体の再生にあたって
は、再生用のレーザ光Ｌは、対物レンズ１０を介して、
光透過性保護膜６側から照射されて、記録情報の読み取
りが行われるようになされる。
は、再生用のレーザ光Ｌは、対物レンズ１０を介して、
光透過性保護膜６側から照射されて、記録情報の読み取
りが行われるようになされる。
【００３６】図２は、この光記録媒体におけるウォブリ
ンググルーブ７及びピット８の一部を光透過性保護膜側
からみた平面図として示した構成図である。ウォブリン
ググルーブ７は突出したパターンとして、グルーブ面７
Ｓが平滑面９、即ち上述したように、光記録媒体作製用
原盤の平滑面を転写してできた基板の平滑面を踏襲して
形成された平滑面９と同一平面となるように形成され、
一方ピット８は、この平滑面９からくぼんだ凹状パター
ンとして形成される。２０は記録領域、２１はＴＯＣ領
域をそれぞれ示す。
ンググルーブ７及びピット８の一部を光透過性保護膜側
からみた平面図として示した構成図である。ウォブリン
ググルーブ７は突出したパターンとして、グルーブ面７
Ｓが平滑面９、即ち上述したように、光記録媒体作製用
原盤の平滑面を転写してできた基板の平滑面を踏襲して
形成された平滑面９と同一平面となるように形成され、
一方ピット８は、この平滑面９からくぼんだ凹状パター
ンとして形成される。２０は記録領域、２１はＴＯＣ領
域をそれぞれ示す。
【００３７】次に、このような本発明による光記録媒体
を作製するための光記録媒体作製用原盤及び成形スタン
パについて説明する。図３Ａ〜Ｃは、上述したような凸
状パターンと凹状パターンとが混在する光記録媒体を作
製するための光記録媒体作製用原盤、マスタースタンパ
及びマザースタンパのそれぞれの一部を拡大した断面を
示す説明図である。
を作製するための光記録媒体作製用原盤及び成形スタン
パについて説明する。図３Ａ〜Ｃは、上述したような凸
状パターンと凹状パターンとが混在する光記録媒体を作
製するための光記録媒体作製用原盤、マスタースタンパ
及びマザースタンパのそれぞれの一部を拡大した断面を
示す説明図である。
【００３８】図３Ａにおいて、１１はガラス等より成る
原盤用基板を示す。この原盤１１の表面は、鏡面加工が
施された平滑面１１Ｓとされる。そしてこの上にポジ型
のフォトレジスト１２が被着形成され、後述する所定の
パターン露光によって、ウォブリンググルーブに対応す
るウォブリンググルーブパターン１３が、平滑面１１Ｓ
を露出するように、すなわちフォトレジスト１２が除去
されたいわば凹状パターンとして、また、ピットに対応
するピットパターン１４は、平滑面１１Ｓから突出する
ように、すなわちフォトレジスト１２が残存するいわば
凸状パターンとして形成され、光記録媒体作製用原盤１
５が構成される。
原盤用基板を示す。この原盤１１の表面は、鏡面加工が
施された平滑面１１Ｓとされる。そしてこの上にポジ型
のフォトレジスト１２が被着形成され、後述する所定の
パターン露光によって、ウォブリンググルーブに対応す
るウォブリンググルーブパターン１３が、平滑面１１Ｓ
を露出するように、すなわちフォトレジスト１２が除去
されたいわば凹状パターンとして、また、ピットに対応
するピットパターン１４は、平滑面１１Ｓから突出する
ように、すなわちフォトレジスト１２が残存するいわば
凸状パターンとして形成され、光記録媒体作製用原盤１
５が構成される。
【００３９】図３Ａ中、Ｌw はウォブリンググルーブパ
ターン１３のパターン露光用の露光ビームの強度分布を
模式的に示したもので、この場合、目的とするウォブリ
ンググルーブに対応する露光を行って、フォトレジスト
１２が除去されたパターンとしてウォブリンググルーブ
パターン１３が形成される。
ターン１３のパターン露光用の露光ビームの強度分布を
模式的に示したもので、この場合、目的とするウォブリ
ンググルーブに対応する露光を行って、フォトレジスト
１２が除去されたパターンとしてウォブリンググルーブ
パターン１３が形成される。
【００４０】同様に、Ｌp1はピットパターンに対応する
露光用の第１の露光ビームの強度分布、ＬP2はピットパ
ターン間を連続露光する第２の露光ビームの強度分布を
模式的に示す。図３Ａにおいては、ピットパターンに対
応する第１の露光ビームＬP1はＯＮ状態を示している
が、ピットパターン１４が存在する部分ではＯＦＦ状態
となるように、情報信号に対応したＯＮ／ＯＦＦを行っ
てパターン露光を行い、ピットが存在する部分のみがフ
ォトレジスト１２が残存するパターンとなるようにピッ
トパターン１４が形成される。
露光用の第１の露光ビームの強度分布、ＬP2はピットパ
ターン間を連続露光する第２の露光ビームの強度分布を
模式的に示す。図３Ａにおいては、ピットパターンに対
応する第１の露光ビームＬP1はＯＮ状態を示している
が、ピットパターン１４が存在する部分ではＯＦＦ状態
となるように、情報信号に対応したＯＮ／ＯＦＦを行っ
てパターン露光を行い、ピットが存在する部分のみがフ
ォトレジスト１２が残存するパターンとなるようにピッ
トパターン１４が形成される。
【００４１】また、ピットパターン間の露光を行う第２
の露光ビームＬP2は、第１の露光ビームＬP2のパターン
露光によって作製したピットパターン間を連続露光する
と共に、第１の露光ビームの照射領域の一部に重なるよ
うにして、ピットパターン１４間の不要なフォトレジス
ト１２の残存部分が生じないようになされる。
の露光ビームＬP2は、第１の露光ビームＬP2のパターン
露光によって作製したピットパターン間を連続露光する
と共に、第１の露光ビームの照射領域の一部に重なるよ
うにして、ピットパターン１４間の不要なフォトレジス
ト１２の残存部分が生じないようになされる。
【００４２】その後、図示しないが、このパターニング
されたフォトレジスト上を覆って、全面的に無電界メッ
キ法等により、ニッケル被膜等より成る導電化膜を被着
した後、導電化膜が被着された光記録媒体作製用原盤を
電鋳装置に取り付け、電気メッキ法により導電化膜層上
に例えば３００±５μｍ程度の厚さになるようにニッケ
ルメッキ層を形成する。
されたフォトレジスト上を覆って、全面的に無電界メッ
キ法等により、ニッケル被膜等より成る導電化膜を被着
した後、導電化膜が被着された光記録媒体作製用原盤を
電鋳装置に取り付け、電気メッキ法により導電化膜層上
に例えば３００±５μｍ程度の厚さになるようにニッケ
ルメッキ層を形成する。
【００４３】続いて、ニッケルメッキ層が厚く被着され
た原盤用基板１１から、ニッケルメッキ層をカッター等
で剥離し、凹状パターン及び凸状パターンが形成された
フォトレジストをアセトン等を用いて洗浄して、図３Ｂ
に示すように、原盤１１上でのウォブリンググルーブパ
ターン１３が反転したパターンの反転ウォブリンググル
ーブパターン１３ｎ、原盤１１上でのピットパターン１
４が反転したパターンの反転ピットパターン１４ｎが形
成された、マスタースタンパ１６が得られる。
た原盤用基板１１から、ニッケルメッキ層をカッター等
で剥離し、凹状パターン及び凸状パターンが形成された
フォトレジストをアセトン等を用いて洗浄して、図３Ｂ
に示すように、原盤１１上でのウォブリンググルーブパ
ターン１３が反転したパターンの反転ウォブリンググル
ーブパターン１３ｎ、原盤１１上でのピットパターン１
４が反転したパターンの反転ピットパターン１４ｎが形
成された、マスタースタンパ１６が得られる。
【００４４】その後、このマスタースタンパ１６の凹凸
パターンが形成された面上に例えば離型剤を塗布した
後、例えば無電界メッキ法、電気メッキ法により、図３
Ｃに示すように、マスタースタンパ１６の凹凸パターン
を転写したマザースタンパ１７を形成する。
パターンが形成された面上に例えば離型剤を塗布した
後、例えば無電界メッキ法、電気メッキ法により、図３
Ｃに示すように、マスタースタンパ１６の凹凸パターン
を転写したマザースタンパ１７を形成する。
【００４５】このマザースタンパ１７は、光記録媒体作
製用原盤１１のパターンと同様の、即ち原盤１１の平滑
面１１Ｓが転写された平滑面をグルーブパターン面１３
Ｓとするウォブリンググルーブパターン１３と、平滑面
１１Ｓが転写された平滑面から突出するパターンとして
設けられたピットパターン１４が形成されて成る。
製用原盤１１のパターンと同様の、即ち原盤１１の平滑
面１１Ｓが転写された平滑面をグルーブパターン面１３
Ｓとするウォブリンググルーブパターン１３と、平滑面
１１Ｓが転写された平滑面から突出するパターンとして
設けられたピットパターン１４が形成されて成る。
【００４６】次に、上述の図３Ａにおいて説明した、光
記録媒体作製用原盤の具体的な露光工程を、図４を参照
して、光学記録装置の構成例と共に詳細に説明する。
記録媒体作製用原盤の具体的な露光工程を、図４を参照
して、光学記録装置の構成例と共に詳細に説明する。
【００４７】先ず、この光学記録装置の構成について説
明する。本実施形態において使用できる光学記録装置と
しては、光源２５は特に限定されるものではなく、適宜
選択可能であるが、例えばＫｒレーザ（波長λ＝３５１
ｎｍ）を記録用露光ビームとして発振するレーザ源を使
用することができる。
明する。本実施形態において使用できる光学記録装置と
しては、光源２５は特に限定されるものではなく、適宜
選択可能であるが、例えばＫｒレーザ（波長λ＝３５１
ｎｍ）を記録用露光ビームとして発振するレーザ源を使
用することができる。
【００４８】この光源２５より出射された露光ビームＬ
Ｂ0 は、平行ビームのまま直進してビームスプリッタＢ
Ｓ１及びＢＳ２で反射され、２つの露光ビームＬＢ1 及
びＬＢ2 に分割される。第１の露光ビームＬＢ1 は、第
１の変調光学系３０に導かれ、集光レンズＬ１１により
音響光学変調器３２に集光され、この音響光学変調器３
２によって強度変調されて発散し、再び光学レンズＬ１
２により平行ビームとなる。
Ｂ0 は、平行ビームのまま直進してビームスプリッタＢ
Ｓ１及びＢＳ２で反射され、２つの露光ビームＬＢ1 及
びＬＢ2 に分割される。第１の露光ビームＬＢ1 は、第
１の変調光学系３０に導かれ、集光レンズＬ１１により
音響光学変調器３２に集光され、この音響光学変調器３
２によって強度変調されて発散し、再び光学レンズＬ１
２により平行ビームとなる。
【００４９】同様に、第２の露光ビームＬＢ2 は、第２
の変調光学系４０に導かれ、集光レンズＬ２１により音
響光学変調器４２に集光されて強度変調されて発散し、
光学レンズＬ２２により平行ビームとして出射される。
の変調光学系４０に導かれ、集光レンズＬ２１により音
響光学変調器４２に集光されて強度変調されて発散し、
光学レンズＬ２２により平行ビームとして出射される。
【００５０】３１及び４１は、各露光ビームに強度変調
を施す駆動用ドライバで、例えばピットに対し、所定の
記録情報に対応したＯＮ／ＯＦＦを施し、また、グルー
ブが断続する場合等に対応して同様にグルーブに対し、
ＯＮ／ＯＦＦの信号を出力する。
を施す駆動用ドライバで、例えばピットに対し、所定の
記録情報に対応したＯＮ／ＯＦＦを施し、また、グルー
ブが断続する場合等に対応して同様にグルーブに対し、
ＯＮ／ＯＦＦの信号を出力する。
【００５１】第１の露光ビームＬＢ1 は、ミラーＭ１に
より反射されて進行方向が９０°曲げられた上で、λ／
２板ＨＷＰを通過した後、移動光学テーブル４５に水平
に且つ光軸に沿って導入され、偏光ビームスプリッタＰ
ＢＳに入射する。
より反射されて進行方向が９０°曲げられた上で、λ／
２板ＨＷＰを通過した後、移動光学テーブル４５に水平
に且つ光軸に沿って導入され、偏光ビームスプリッタＰ
ＢＳに入射する。
【００５２】第２の露光ビームＬＢ2 は、ミラーＭ２に
より反射されて進行方向が９０°曲げられた上で、同様
に移動光学テーブル４５に水平に且つ光軸に沿って導入
される。ウォブリンググルーブを露光する場合、偏向光
学系ＯＤによって、光学偏向が施された上で、ミラーＭ
４によって反射されて進行方向が９０°曲げられて、偏
光ビームスプリッタＰＢＳに入射する。ピットを露光す
る場合は、光学偏向せずにミラーＭ４で反射されて偏光
ビームスプリッタＰＢＳに入射する。
より反射されて進行方向が９０°曲げられた上で、同様
に移動光学テーブル４５に水平に且つ光軸に沿って導入
される。ウォブリンググルーブを露光する場合、偏向光
学系ＯＤによって、光学偏向が施された上で、ミラーＭ
４によって反射されて進行方向が９０°曲げられて、偏
光ビームスプリッタＰＢＳに入射する。ピットを露光す
る場合は、光学偏向せずにミラーＭ４で反射されて偏光
ビームスプリッタＰＢＳに入射する。
【００５３】そして、進行方向が同一方向となるように
再合成されて偏光ビームスプリッタＰＢＳから出射した
第１及び第２の露光ビームＬＢ1 及びＬＢ2 は、拡大レ
ンズＬ３によって所定のビーム径とされた上でミラーＭ
５によって反射されて対物レンズ５４へと導かれ、この
対物レンズ５４によって、原盤用基板１１の上にフォト
レジスト１２に集光される。原盤用基板１１は、図示し
ないが回転駆動手段により矢印ａで示すように回転され
る。一点鎖線ｃは、基板１１の回転の中心軸を示す。
再合成されて偏光ビームスプリッタＰＢＳから出射した
第１及び第２の露光ビームＬＢ1 及びＬＢ2 は、拡大レ
ンズＬ３によって所定のビーム径とされた上でミラーＭ
５によって反射されて対物レンズ５４へと導かれ、この
対物レンズ５４によって、原盤用基板１１の上にフォト
レジスト１２に集光される。原盤用基板１１は、図示し
ないが回転駆動手段により矢印ａで示すように回転され
る。一点鎖線ｃは、基板１１の回転の中心軸を示す。
【００５４】また、第１及び第２の露光ビームＬＢ1 及
びＬＢ2 の露光1 は、移動光学テーブル４５によって平
行移動される。これにより、第１及び第２の露光ビーム
ＬＢ 1 及びＬＢ2 の照射軌跡に応じた潜像が、フォトレ
ジスト１２の全面にわたって形成されることとなる。
びＬＢ2 の露光1 は、移動光学テーブル４５によって平
行移動される。これにより、第１及び第２の露光ビーム
ＬＢ 1 及びＬＢ2 の照射軌跡に応じた潜像が、フォトレ
ジスト１２の全面にわたって形成されることとなる。
【００５５】ここで、偏向光学系ＯＤは、ウェッジプリ
ズム４７、音響光学偏向器（ＡＯＤ：Acousto Optical
Deflector)４８、ウェッジプリズム４９により構成され
る。第２の露光ビームＬＢ2 は、ウェッジプリズム４７
を介して音響光学偏向器４８に入射し、この音響光学偏
向器４８によって、所望する露光パターンに対応するよ
うに光学偏向が施される。
ズム４７、音響光学偏向器（ＡＯＤ：Acousto Optical
Deflector)４８、ウェッジプリズム４９により構成され
る。第２の露光ビームＬＢ2 は、ウェッジプリズム４７
を介して音響光学偏向器４８に入射し、この音響光学偏
向器４８によって、所望する露光パターンに対応するよ
うに光学偏向が施される。
【００５６】この音響光学偏向器４８に使用される音響
光学素子としては、例えば、酸化テルル（ＴｅＯ2 ）か
ら成る音響光学素子が好適である。そして、音響光学偏
向器４８によって光学偏向が施された第２の露光ビーム
ＬＢ2 は、ウェッジプリズム４９を介して偏向光学系Ｏ
Ｄから出射される。
光学素子としては、例えば、酸化テルル（ＴｅＯ2 ）か
ら成る音響光学素子が好適である。そして、音響光学偏
向器４８によって光学偏向が施された第２の露光ビーム
ＬＢ2 は、ウェッジプリズム４９を介して偏向光学系Ｏ
Ｄから出射される。
【００５７】尚、ウェッジプリズム４７、４９は、音響
光学偏向器４８の音響光学素子の格子面に対してブラッ
グ条件を満たすように第２の露光ビームＬＢ2 が入射す
ると共に、音響光学偏向器４８によって第２の露光ビー
ムＬＢ2 に対して光学偏向を施しても、ビームの水平高
さが変わらないようにする機能を持つ。換言すれば、こ
れらウェッジプリズム４７、４９と音響光学偏向器４８
は、音響光学偏向器４８の音響光学素子の格子面が第２
の露光ビームＬＢ2 に対してブラッグ条件を満たし、且
つ偏向光学系ＯＤから出射されたときのビームの水平高
さが変わらないように配置される。
光学偏向器４８の音響光学素子の格子面に対してブラッ
グ条件を満たすように第２の露光ビームＬＢ2 が入射す
ると共に、音響光学偏向器４８によって第２の露光ビー
ムＬＢ2 に対して光学偏向を施しても、ビームの水平高
さが変わらないようにする機能を持つ。換言すれば、こ
れらウェッジプリズム４７、４９と音響光学偏向器４８
は、音響光学偏向器４８の音響光学素子の格子面が第２
の露光ビームＬＢ2 に対してブラッグ条件を満たし、且
つ偏向光学系ＯＤから出射されたときのビームの水平高
さが変わらないように配置される。
【００５８】ここで、音響光学偏向器４８には、この音
響光学偏向器４８を駆動するための駆動用ドライバ５０
が取り付けられており、この駆動用ドライバ５０には、
電圧制御発振器（ＶＣＯ：Voltage Controlled Oscilla
tor)５１からの高周波信号が、正弦波で変調され供給さ
れる。そして、フォトレジストの露光の際には、所望す
る露光パターンに応じた信号が電圧制御発振器５１から
駆動用ドライバ５０に入力され、この信号に応じて駆動
用ドライバ５０によって音響光学偏向器４８が駆動さ
れ、これにより、第２の露光ビームＬＢ2 に対して所望
のウォブリングに対応した光学偏向が施される。
響光学偏向器４８を駆動するための駆動用ドライバ５０
が取り付けられており、この駆動用ドライバ５０には、
電圧制御発振器（ＶＣＯ：Voltage Controlled Oscilla
tor)５１からの高周波信号が、正弦波で変調され供給さ
れる。そして、フォトレジストの露光の際には、所望す
る露光パターンに応じた信号が電圧制御発振器５１から
駆動用ドライバ５０に入力され、この信号に応じて駆動
用ドライバ５０によって音響光学偏向器４８が駆動さ
れ、これにより、第２の露光ビームＬＢ2 に対して所望
のウォブリングに対応した光学偏向が施される。
【００５９】尚、上述の偏光ビームスプリッタＰＢＳ
は、Ｓ偏光を反射し、Ｐ偏光を透過するようになされて
いる。そして、第１の変調光学系３０から出射された第
１の露光ビームＬＢ1 は、λ／２板ＨＷＰを透過するこ
とにより偏光方向が９０°回転させられているので、Ｐ
偏光となっており偏光ビームスプリッタＰＢＳを透過す
る。
は、Ｓ偏光を反射し、Ｐ偏光を透過するようになされて
いる。そして、第１の変調光学系３０から出射された第
１の露光ビームＬＢ1 は、λ／２板ＨＷＰを透過するこ
とにより偏光方向が９０°回転させられているので、Ｐ
偏光となっており偏光ビームスプリッタＰＢＳを透過す
る。
【００６０】また、第２の露光ビームＬＢ2 はＳ偏光で
あり、偏光ビームスプリッタＰＢＳによって反射され
る。
あり、偏光ビームスプリッタＰＢＳによって反射され
る。
【００６１】このような構成による光学記録装置を用い
て、図３Ａにおいて説明したような、凹状パターンのウ
ォブリンググルーブパターン１３と、凸状パターンのグ
ルーブパターン１４とを、露光することができる。
て、図３Ａにおいて説明したような、凹状パターンのウ
ォブリンググルーブパターン１３と、凸状パターンのグ
ルーブパターン１４とを、露光することができる。
【００６２】例えば、第１の露光ビームＬＢ1 によっ
て、ピットパターン間の連続露光を行い、第２の露光ビ
ームＬＢ2 によって、所定のピットパターンの反転パタ
ーンとなるパターン露光、即ちポジ型のフォトレジスト
を用いる場合はピットが存在する部分でＯＦＦ、ピット
が存在しない部分でＯＮとする露光を行い、第１及び第
２の露光ビームＬＢ1 及びＬＢ2 の照射領域の一部が重
なるようにする。このとき、ポジ型のフォトレジストを
用いる場合は、現像後に露光部分が除去されることか
ら、目的とするピットのパターンを、現像後にフォトレ
ジストが残されるパターンとされたピットパターン１４
として形成することができる。
て、ピットパターン間の連続露光を行い、第２の露光ビ
ームＬＢ2 によって、所定のピットパターンの反転パタ
ーンとなるパターン露光、即ちポジ型のフォトレジスト
を用いる場合はピットが存在する部分でＯＦＦ、ピット
が存在しない部分でＯＮとする露光を行い、第１及び第
２の露光ビームＬＢ1 及びＬＢ2 の照射領域の一部が重
なるようにする。このとき、ポジ型のフォトレジストを
用いる場合は、現像後に露光部分が除去されることか
ら、目的とするピットのパターンを、現像後にフォトレ
ジストが残されるパターンとされたピットパターン１４
として形成することができる。
【００６３】一方、第２の露光ビームＬＢ2 に所定のウ
ォブリングを施して露光を行うことによって、目的とす
るウォブリンググルーブパターン１３を、現像後に除去
されるパターンとして形成することができる。
ォブリングを施して露光を行うことによって、目的とす
るウォブリンググルーブパターン１３を、現像後に除去
されるパターンとして形成することができる。
【００６４】そして、上述の製造方法によりパターン露
光が施された原盤用基板１１を、フォトレジスト１２が
上部になるように現像機のターンテーブルに載置して、
この原盤用基板を水平に保持しつつ回転させ、フォトレ
ジスト１２上に現像液を滴下して、フォトレジスト１２
の現像処理を施す。これにより、原盤用基板の信号形成
面には、図３Ａにおいて説明した構成の記録信号に基づ
く凹凸パターンが形成され、本発明による光記録媒体作
製用原盤を得ることができる。
光が施された原盤用基板１１を、フォトレジスト１２が
上部になるように現像機のターンテーブルに載置して、
この原盤用基板を水平に保持しつつ回転させ、フォトレ
ジスト１２上に現像液を滴下して、フォトレジスト１２
の現像処理を施す。これにより、原盤用基板の信号形成
面には、図３Ａにおいて説明した構成の記録信号に基づ
く凹凸パターンが形成され、本発明による光記録媒体作
製用原盤を得ることができる。
【００６５】次に、本発明による実施例を説明する。
【００６６】この例においては、上述の方法により、光
記録媒体作製用原盤を作製するにあたり、原盤用基板と
してガラス板を用い、ポジ型のフォトレジストを塗布し
て、以下の条件により信号面のパターン露光を行った。
記録媒体作製用原盤を作製するにあたり、原盤用基板と
してガラス板を用い、ポジ型のフォトレジストを塗布し
て、以下の条件により信号面のパターン露光を行った。
【００６７】この場合、ウォブリング信号として、周波
数１９４．１ｋＨｚにてグルーブをウォブリングさせる
ことにより、グルーブにアドレス情報を付加する構成と
した例で、例えば中心周波数が２２４ＭＨｚの高周波信
号を周波数１９４．１ｋＨｚの制御信号にて正弦波信号
を、上述の図４において説明した装置において、電圧制
御発振器５１から駆動用ドライバ５０に供給する。
数１９４．１ｋＨｚにてグルーブをウォブリングさせる
ことにより、グルーブにアドレス情報を付加する構成と
した例で、例えば中心周波数が２２４ＭＨｚの高周波信
号を周波数１９４．１ｋＨｚの制御信号にて正弦波信号
を、上述の図４において説明した装置において、電圧制
御発振器５１から駆動用ドライバ５０に供給する。
【００６８】そして、この信号に応じて駆動用ドライバ
５０によって音響光学偏向器４８を駆動し、その音響光
学素子のブラッグ角を変化させ、これにより、周波数１
９４．１ｋＨｚのウォブリングに対応するように、第２
の露光ビームＬＢ2 に対して光学偏向を施す。これによ
り、フォトレジスト１２上に集光される第２の露光ビー
ムＬＢ2 の光スポットの位置が、周波数１９４．１ｋＨ
ｚ、振幅±６ｎｍにて、原盤用基板１１の半径方向に振
動するように光学偏向を行って、ウォブリンググルーブ
パターン１３の露光を行った。
５０によって音響光学偏向器４８を駆動し、その音響光
学素子のブラッグ角を変化させ、これにより、周波数１
９４．１ｋＨｚのウォブリングに対応するように、第２
の露光ビームＬＢ2 に対して光学偏向を施す。これによ
り、フォトレジスト１２上に集光される第２の露光ビー
ムＬＢ2 の光スポットの位置が、周波数１９４．１ｋＨ
ｚ、振幅±６ｎｍにて、原盤用基板１１の半径方向に振
動するように光学偏向を行って、ウォブリンググルーブ
パターン１３の露光を行った。
【００６９】また、ピットパターン１４は、上述の方法
によって、この場合ディスク状原盤の内周部にＴＯＣ情
報に対応するパターン露光を行った。
によって、この場合ディスク状原盤の内周部にＴＯＣ情
報に対応するパターン露光を行った。
【００７０】この例では、対物レンズ５４の開口数ＮＡ
を０．９とした。音響光学変調器３２及び４２の音響光
学素子は酸化テルル（ＴｅＯ2 ）を用いた。これら音響
光学変調器３２及び４２に入力される信号は、ピットを
形成する場合は２−７変調信号であり、グルーブを形成
する場合はＤＣ信号である。また、変調光学系３０及び
４０のレンズは同一のものを用い、集光レンズＬ１１及
びＬ２１の焦点距離を８０ｍｍ、コリメートレンズＬ２
１及び２２の焦点距離を１００ｍｍとした。また拡大レ
ンズＬ３の焦点距離を５０ｍｍとした。
を０．９とした。音響光学変調器３２及び４２の音響光
学素子は酸化テルル（ＴｅＯ2 ）を用いた。これら音響
光学変調器３２及び４２に入力される信号は、ピットを
形成する場合は２−７変調信号であり、グルーブを形成
する場合はＤＣ信号である。また、変調光学系３０及び
４０のレンズは同一のものを用い、集光レンズＬ１１及
びＬ２１の焦点距離を８０ｍｍ、コリメートレンズＬ２
１及び２２の焦点距離を１００ｍｍとした。また拡大レ
ンズＬ３の焦点距離を５０ｍｍとした。
【００７１】また、このときの露光条件は、ウォブリン
ググルーブはレーザパワー０．４ｍｊ／ｍ、ピットはレ
ーザパワー０．２５ｍｊ／ｍ程度とした。
ググルーブはレーザパワー０．４ｍｊ／ｍ、ピットはレ
ーザパワー０．２５ｍｊ／ｍ程度とした。
【００７２】そしてピットは０．１３μｍ／ｂｉｔ（最
短ピット長３Ｔが０．２６１μｍ）の線密度、ピットの
トラックピッチを０．４０μｍとし、グルーブは０．１
３μｍ／ｂｉｔ（最短マーク長２Ｔが０．１７４μｍ）
の線密度、グルーブのトラックピッチを０．３３μｍと
して記録を行った。
短ピット長３Ｔが０．２６１μｍ）の線密度、ピットの
トラックピッチを０．４０μｍとし、グルーブは０．１
３μｍ／ｂｉｔ（最短マーク長２Ｔが０．１７４μｍ）
の線密度、グルーブのトラックピッチを０．３３μｍと
して記録を行った。
【００７３】このようにして、原盤用基板１１上のフォ
トレジスト１２にパターン露光を行った後、現像処理を
施して、図３Ａにおいて説明した構成の光記録媒体作製
用原盤を形成する。続いて、前述の図３Ｂ及びＣにおい
て説明したように、マスタースタンパ１６、マザースタ
ンパ１７を形成する。
トレジスト１２にパターン露光を行った後、現像処理を
施して、図３Ａにおいて説明した構成の光記録媒体作製
用原盤を形成する。続いて、前述の図３Ｂ及びＣにおい
て説明したように、マスタースタンパ１６、マザースタ
ンパ１７を形成する。
【００７４】その後、このマザースタンパ１７を用い
て、ポリカーボネート（屈折率１．５９）等より成る光
透過性樹脂を例えば射出成形法によって、マザースタン
パ１７の凹凸パターンが転写された基板１を厚さ例えば
１．１ｍｍとして形成する。この基板の形成方法として
は、その他例えば、マザースタンパ１７の上にフォトポ
リマーを塗布した後、ＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレ
ート）等のベースプレートを密着した後硬化、剥離して
形成するいわゆる２Ｐ法を用いることもできる。
て、ポリカーボネート（屈折率１．５９）等より成る光
透過性樹脂を例えば射出成形法によって、マザースタン
パ１７の凹凸パターンが転写された基板１を厚さ例えば
１．１ｍｍとして形成する。この基板の形成方法として
は、その他例えば、マザースタンパ１７の上にフォトポ
リマーを塗布した後、ＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレ
ート）等のベースプレートを密着した後硬化、剥離して
形成するいわゆる２Ｐ法を用いることもできる。
【００７５】いずれの成形方法を採る場合においても、
本発明によれば、マザースタンパ１７のピットパターン
１４が凸状パターンとされていることから、ピット形状
を良好に転写することができる。また大量に基板を転写
する場合には、マザースタンパ１７を更に２回転写し
て、成形用スタンパを形成し、この成形用スタンパによ
り基板１を形成しても同様に、良好にピット及びウォブ
リンググルーブを転写形成することができる。
本発明によれば、マザースタンパ１７のピットパターン
１４が凸状パターンとされていることから、ピット形状
を良好に転写することができる。また大量に基板を転写
する場合には、マザースタンパ１７を更に２回転写し
て、成形用スタンパを形成し、この成形用スタンパによ
り基板１を形成しても同様に、良好にピット及びウォブ
リンググルーブを転写形成することができる。
【００７６】そしてこの上に、Ａｌ合金等より成る光反
射層２、ＳｉＯ2 、ＺｎＳ−ＳｉＯ 2 等より成る第１の
誘電体層３、ＧｅＳｂＴｅ合金、ＡｇＩｎＳｂＴｅ合
金、ＧｅＴｎＳｂＴｅ合金等から成る相変化材料より成
る記録層４、ＳｉＯ2 、ＺｎＳ−ＳｉＯ2 等より成る第
２の誘電体層５を順次スパッタリング等により被着形成
する。そしてこれら各層を覆って全面的に紫外線硬化樹
脂等より成る光透過性保護膜７を、スピンコート法等に
より塗布し、紫外線照射により硬化させて、例えば厚さ
０．１ｍｍの光透過性保護膜７を形成し、本発明による
ＤＶＲ型構成の光記録媒体を得ることができる。
射層２、ＳｉＯ2 、ＺｎＳ−ＳｉＯ 2 等より成る第１の
誘電体層３、ＧｅＳｂＴｅ合金、ＡｇＩｎＳｂＴｅ合
金、ＧｅＴｎＳｂＴｅ合金等から成る相変化材料より成
る記録層４、ＳｉＯ2 、ＺｎＳ−ＳｉＯ2 等より成る第
２の誘電体層５を順次スパッタリング等により被着形成
する。そしてこれら各層を覆って全面的に紫外線硬化樹
脂等より成る光透過性保護膜７を、スピンコート法等に
より塗布し、紫外線照射により硬化させて、例えば厚さ
０．１ｍｍの光透過性保護膜７を形成し、本発明による
ＤＶＲ型構成の光記録媒体を得ることができる。
【００７７】このようにして作製された光記録媒体に対
し、波長４０６ｎｍ、対物レンズの開口数ＮＡ＝０．８
５の光ピックアップを備えたＤＶＲ評価機を用いて再生
特性の評価を行った。
し、波長４０６ｎｍ、対物レンズの開口数ＮＡ＝０．８
５の光ピックアップを備えたＤＶＲ評価機を用いて再生
特性の評価を行った。
【００７８】ピット８の再生は、ジッター８％程度再生
を行うことができ、良好な再生特性を実現できた。ま
た、ウォブリンググルーブ７に１−７変調で記録を行
い、その再生を上記評価機により行ったところ、光記録
媒体の記録領域全面においてジッター９％程度再生する
ことができ、良好な記録再生特性を得る事ができた。
を行うことができ、良好な再生特性を実現できた。ま
た、ウォブリンググルーブ７に１−７変調で記録を行
い、その再生を上記評価機により行ったところ、光記録
媒体の記録領域全面においてジッター９％程度再生する
ことができ、良好な記録再生特性を得る事ができた。
【００７９】更に、ウォブリンググルーブのアドレス情
報も安定に再生することを実現できた。
報も安定に再生することを実現できた。
【００８０】このように、本発明によれば原盤用基板の
平滑面が転写、踏襲された平滑面をグルーブ面の情報記
録面とすることによって、この記録情報及びウォブリン
グ信号によるアドレス情報に対し、共に良好な再生特性
をもって信号の再生を行うことができた。
平滑面が転写、踏襲された平滑面をグルーブ面の情報記
録面とすることによって、この記録情報及びウォブリン
グ信号によるアドレス情報に対し、共に良好な再生特性
をもって信号の再生を行うことができた。
【００８１】また、ピットパターンを、原盤用基板の平
滑面から突出するパターンとしたことから、原盤から２
回転写して作製したマザースタンパ、またはこのマザー
スタンパから更に２回転写して作製した成形用スタンパ
によって射出成形、２Ｐ法等により基板を成形する際
に、ピットが高密度化により微細パターンとされる場合
においても良好に転写形成することができ、作製した光
記録媒体のピット信号を良好な再生特性をもって読み取
ることができて、高記録密度化が可能となる。
滑面から突出するパターンとしたことから、原盤から２
回転写して作製したマザースタンパ、またはこのマザー
スタンパから更に２回転写して作製した成形用スタンパ
によって射出成形、２Ｐ法等により基板を成形する際
に、ピットが高密度化により微細パターンとされる場合
においても良好に転写形成することができ、作製した光
記録媒体のピット信号を良好な再生特性をもって読み取
ることができて、高記録密度化が可能となる。
【００８２】更に、上述したように本発明による光記録
媒体は、基板より十分厚さの小さい光透過性保護膜側か
ら、この保護膜に近接するウォブリンググルーブ面の情
報を読み取る構成とすることによって、対物レンズを記
録面に近接して配置したニアーフィールド構成となり、
高記録密度化をはかるために対物レンズの開口数ＮＡを
大きくしてもこま収差の増大を回避することができ、更
に、ＮＡを大きく、再生光の波長λを短くしても、スキ
ューマージンの低下を回避することができて、高記録密
度化、大容量化をはかることができる。
媒体は、基板より十分厚さの小さい光透過性保護膜側か
ら、この保護膜に近接するウォブリンググルーブ面の情
報を読み取る構成とすることによって、対物レンズを記
録面に近接して配置したニアーフィールド構成となり、
高記録密度化をはかるために対物レンズの開口数ＮＡを
大きくしてもこま収差の増大を回避することができ、更
に、ＮＡを大きく、再生光の波長λを短くしても、スキ
ューマージンの低下を回避することができて、高記録密
度化、大容量化をはかることができる。
【００８３】尚、上述の実施例においては、光記録媒体
の記録層として相変化材料を用いた場合を示したが、本
発明は、その他ＭＯ（光磁気）膜、色素層等による追記
もしくは書換え可能な記録層等、各種の材料による光記
録媒体に適用することができる。
の記録層として相変化材料を用いた場合を示したが、本
発明は、その他ＭＯ（光磁気）膜、色素層等による追記
もしくは書換え可能な記録層等、各種の材料による光記
録媒体に適用することができる。
【００８４】更に、光記録媒体内のピットとウォブリン
ググルーブの配置構成、ウォブリング信号の内容等、本
発明は上述の例において説明した構成に限ることなく、
その他種々の材料構成を採り得ることはいうまでもな
い。
ググルーブの配置構成、ウォブリング信号の内容等、本
発明は上述の例において説明した構成に限ることなく、
その他種々の材料構成を採り得ることはいうまでもな
い。
【００８５】
【発明の効果】上述したように、本発明によれば、平滑
面より成るグルーブ面を情報記録面とし、この上に形成
された光透過性保護膜側から再生光を照射して記録を読
み取る構成とすることから、再生時には、対物レンズを
より記録層に近接して配置したニアーフィールド構成と
することが出来て、高記録密度化をはかるために対物レ
ンズの開口数ＮＡを大きくしてもこま収差の増大を回避
することができ、更に、ＮＡを大きく、再生光の波長λ
を低減化しても、スキューマージンの低下を回避するこ
とができて、高記録密度化従って大容量化をはかること
ができる。
面より成るグルーブ面を情報記録面とし、この上に形成
された光透過性保護膜側から再生光を照射して記録を読
み取る構成とすることから、再生時には、対物レンズを
より記録層に近接して配置したニアーフィールド構成と
することが出来て、高記録密度化をはかるために対物レ
ンズの開口数ＮＡを大きくしてもこま収差の増大を回避
することができ、更に、ＮＡを大きく、再生光の波長λ
を低減化しても、スキューマージンの低下を回避するこ
とができて、高記録密度化従って大容量化をはかること
ができる。
【００８６】また特に、原盤用基板の平滑面が転写され
た平滑面もしくはこの平滑面を踏襲した平滑面を情報記
録面としたことによって、ノイズの低減化がはかられ、
再生時の出力を十分大とすることが出来て、グルーブ内
の記録情報もウォブリング信号も共に良好且つ安定な信
号出力をもって再生する事ができ、特にＤＶＲ等の高密
度光記録媒体に適用する場合においても良好な再生特性
を保持する事ができる。
た平滑面もしくはこの平滑面を踏襲した平滑面を情報記
録面としたことによって、ノイズの低減化がはかられ、
再生時の出力を十分大とすることが出来て、グルーブ内
の記録情報もウォブリング信号も共に良好且つ安定な信
号出力をもって再生する事ができ、特にＤＶＲ等の高密
度光記録媒体に適用する場合においても良好な再生特性
を保持する事ができる。
【００８７】更に、光記録媒体作製用原盤のピットパタ
ーンの形状を凸状パターンとするため、この原盤から２
回転写して作製されたマザースタンパ、またはこのマザ
ースタンパから２回転写して作製された成形用スタンパ
ーから射出成形法、または２Ｐ法等による基板の成形工
程において、より高密度化されて微細化されたピットも
良好な形状をもって転写することができ、凹状パターン
のピットを有する原盤により基板を転写形成した場合に
比し、格段に光記録媒体の歩留りの向上、生産性の向上
をはかることができるとともに、ピット信号の再生特性
の低下を回避することが出来て、更に高記録密度化を可
能とすることができる。
ーンの形状を凸状パターンとするため、この原盤から２
回転写して作製されたマザースタンパ、またはこのマザ
ースタンパから２回転写して作製された成形用スタンパ
ーから射出成形法、または２Ｐ法等による基板の成形工
程において、より高密度化されて微細化されたピットも
良好な形状をもって転写することができ、凹状パターン
のピットを有する原盤により基板を転写形成した場合に
比し、格段に光記録媒体の歩留りの向上、生産性の向上
をはかることができるとともに、ピット信号の再生特性
の低下を回避することが出来て、更に高記録密度化を可
能とすることができる。
【図１】光記録媒体の一例の断面図である。
【図２】光記録媒体の一例の構成図である。
【図３】光記録媒体作製用原盤、マザースタンパ又は成
形用スタンパの説明図である。
形用スタンパの説明図である。
【図４】光記録媒体作製用原盤の製造工程の説明図であ
る。
る。
１ 基板、２ 反射層、３ 第１の誘電体層、４ 記録
層、５ 第２の誘電体層、６ 光透過性保護膜、７ ウ
ォブリンググルーブ、７Ｓ グルーブ面、８ピット、９
平滑面、１０ 対物レンズ、１１ 原盤用基板、１１
Ｓ 平滑面、１２ フォトレジスト、１３ ウォブリン
ググルーブパターン、１３ｎ 反転ウォブリンググルー
ブパターン、１３Ｓ グルーブパターン面、１４ ピッ
トパターン、１４ｎ 反転ピットパターン、１５ 光記
録媒体作製用原盤、１６ マスタースタンパ、１７ マ
ザースタンパ、２０ 記録領域、２１ ＴＯＣ領域、２
５ 光源、３０ 変調光学系、３１ 駆動用ドライバ、
３２ 音響光学変調器、４０ 変調光学系、４１ 駆動
用ドライバ、４２ 音響光学変調器、４５ 移動光学テ
ーブル、４７ ウェッジプリズム、４８ 音響光学偏向
器、４９ ウェッジプリズム、５０ 駆動用ドライバ、
５１ 電圧制御発振器、５４ 対物レンズ
層、５ 第２の誘電体層、６ 光透過性保護膜、７ ウ
ォブリンググルーブ、７Ｓ グルーブ面、８ピット、９
平滑面、１０ 対物レンズ、１１ 原盤用基板、１１
Ｓ 平滑面、１２ フォトレジスト、１３ ウォブリン
ググルーブパターン、１３ｎ 反転ウォブリンググルー
ブパターン、１３Ｓ グルーブパターン面、１４ ピッ
トパターン、１４ｎ 反転ピットパターン、１５ 光記
録媒体作製用原盤、１６ マスタースタンパ、１７ マ
ザースタンパ、２０ 記録領域、２１ ＴＯＣ領域、２
５ 光源、３０ 変調光学系、３１ 駆動用ドライバ、
３２ 音響光学変調器、４０ 変調光学系、４１ 駆動
用ドライバ、４２ 音響光学変調器、４５ 移動光学テ
ーブル、４７ ウェッジプリズム、４８ 音響光学偏向
器、４９ ウェッジプリズム、５０ 駆動用ドライバ、
５１ 電圧制御発振器、５４ 対物レンズ
Claims (9)
- 【請求項１】 基板上にピットとウォブリンググルーブ
とを有する光記録媒体にあって、 少なくとも記録領域に、上記ウォブリンググルーブが形
成され、 作製時の原盤用基板の平滑面を転写して形成した平滑
面、もしくは該平滑面を踏襲してこの上に形成された平
滑面によって上記ウォブリンググルーブのグルーブ面が
形成されると共に、 上記ピットは、上記平滑面もしくは該平滑面を踏襲して
この上に形成された平滑面に設けられた凹状パターンと
して形成され、 上記ウォブリンググルーブ面が情報記録面とされ、 該情報記録面上を覆って全面的に、上記基板に比し十分
薄い薄膜の光透過性保護膜が形成され、 該光透過性保護膜側が、上記情報記録面に対する照射光
の入射面とされたことを特徴とする光記録媒体。 - 【請求項２】 原盤用基板の上にフォトレジストを被着
して、上記原盤用基板の平滑面を露出させるパターンと
してウォブリンググルーブパターンをパターニング形成
し、上記平滑面上の突起状パターンとしてピットパター
ンをパターニング形成して光記録媒体作製用原盤を作製
し、 上記光記録媒体作製用原盤を２回転写して作製したマザ
ースタンパ、又は該マザースタンパを２回転写して作製
した成形用スタンパを用いて基板を作製し、 上記基板上に、少なくとも記録層と、上記基板に比し十
分薄い薄膜の光透過性保護膜とを形成することを特徴と
する光記録媒体の製造方法。 - 【請求項３】 原盤用基板の上にフォトレジストが被着
され、所要のパターンの露光及び現像がなされて上記フ
ォトレジストが記録情報に対応するパターンとして形成
される光記録媒体作製用原盤にあって、 現像後に上記フォトレジストが残されるパターンとして
ピットパターンが形成され、 現像後に上記フォトレジストが除去されるパターンとし
てウォブリンググルーブパターンが形成されて成り、 上記ウォブリンググルーブパターンのグルーブ面が、上
記原盤用基板の平滑面が露出した面より成ることを特徴
とする光記録媒体作製用原盤。 - 【請求項４】 原盤用基板の上にフォトレジストを被着
して、所要のパターンの露光及び現像により上記フォト
レジストを記録情報に対応するパターンとして形成する
光記録媒体作製用原盤の製造方法にあって、 現像後に上記フォトレジストが残されるパターンとして
ピットパターンを形成し、 現像後に上記フォトレジストが除去されるパターンとし
てウォブリンググルーブパターンを形成し、 上記ウォブリンググルーブパターンのグルーブ面を、上
記原盤用基板の平滑面を露出した面として構成すること
を特徴とする光記録媒体作製用原盤の製造方法。 - 【請求項５】 上記ピットパターンのパターン露光を行
う際に、 第１の露光ビームにより記録情報に対応するパターニン
グを行うと共に、 第２の露光ビームにより上記ピットパターン間の連続露
光を行い、上記第１及び第２の露光ビームの照射領域の
一部が重なるようにすることを特徴とする上記請求項４
に記載の光記録媒体作製用原盤の製造方法。 - 【請求項６】 原盤用基板の上にフォトレジストが被着
され、所要のパターンの露光及び現像がなされて上記フ
ォトレジストが記録情報に対応するパターンとして形成
された光記録媒体作製用原盤を転写して作製したマザー
スタンパにあって、 上記光記録媒体作製用原盤は、 現像後に上記フォトレジストが残されるパターンとして
ピットパターンが形成され、 現像後に上記フォトレジストが除去されるパターンとし
てウォブリンググルーブパターンが形成されて成り、 上記ウォブリンググルーブパターンのグルーブ面が、上
記原盤用基板の平滑面が露出した面とされて成り、 上記光記録媒体作製用原盤から２回の転写により作製さ
れたことを特徴とするマザースタンパ。 - 【請求項７】 原盤用基板の上にフォトレジストを被着
した後、 現像後に上記フォトレジストが残されるパターンとして
ピットパターンを形成し、 現像後に上記フォトレジストが除去されるパターンとし
てウォブリンググルーブパターンを形成して、上記原盤
用基板の平滑面を露出した面として上記ウォブリンググ
ルーブパターンのグルーブ面を構成して光記録媒体作製
用原盤を作製し、 上記光記録媒体作製用原盤から２回の転写により作製す
ることを特徴とするマザースタンパの製造方法。 - 【請求項８】 原盤用基板の上にフォトレジストが被着
され、所要のパターンの露光及び現像がなされて上記フ
ォトレジストが記録情報に対応するパターンとして形成
された光記録媒体作製用原盤を転写して作製した成形用
スタンパにあって、 上記光記録媒体作製用原盤は、 現像後に上記フォトレジストが残されるパターンとして
ピットパターンが形成され、 現像後に上記フォトレジストが除去されるパターンとし
てウォブリンググルーブパターンが形成されて成り、 上記ウォブリンググルーブパターンのグルーブ面が、上
記原盤用基板の平滑面が露出した面とされて成り、 上記光記録媒体作製用原盤から２回の転写により作製さ
れたマザースタンパを用いて、２回の転写により作製さ
れたことを特徴とする成形用スタンパ。 - 【請求項９】 原盤用基板の上にフォトレジストを被着
した後、 現像後に上記フォトレジストが残されるパターンとして
ピットパターンを形成し、 現像後に上記フォトレジストが除去されるパターンとし
てウォブリンググルーブパターンを形成して、上記原盤
用基板の平滑面を露出した面として上記ウォブリンググ
ルーブパターンのグルーブ面を構成して光記録媒体作製
用原盤を作製し、 上記光記録媒体作製用原盤から２回の転写によりマザー
スタンパを作製し、 上記マザースタンパから２回の転写により作製すること
を特徴とする成形用スタンパの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001142182A JP2002334484A (ja) | 2001-05-11 | 2001-05-11 | 光記録媒体、光記録媒体作製用原盤、マザースタンパ、成形用スタンパとこれらの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001142182A JP2002334484A (ja) | 2001-05-11 | 2001-05-11 | 光記録媒体、光記録媒体作製用原盤、マザースタンパ、成形用スタンパとこれらの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002334484A true JP2002334484A (ja) | 2002-11-22 |
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ID=18988532
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001142182A Pending JP2002334484A (ja) | 2001-05-11 | 2001-05-11 | 光記録媒体、光記録媒体作製用原盤、マザースタンパ、成形用スタンパとこれらの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002334484A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013020663A (ja) * | 2011-07-07 | 2013-01-31 | Sony Corp | 光記録媒体 |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08106656A (ja) * | 1994-10-05 | 1996-04-23 | Hitachi Ltd | 光ディスク用スタンパおよび基板の作製方法 |
| JPH09326138A (ja) * | 1996-04-02 | 1997-12-16 | Sony Corp | 光記録媒体及びその記録再生方法、記録再生装置 |
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