JP2540582B2 - 光ディスク用マスタ―原盤の作成方法 - Google Patents
光ディスク用マスタ―原盤の作成方法Info
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- JP2540582B2 JP2540582B2 JP63026237A JP2623788A JP2540582B2 JP 2540582 B2 JP2540582 B2 JP 2540582B2 JP 63026237 A JP63026237 A JP 63026237A JP 2623788 A JP2623788 A JP 2623788A JP 2540582 B2 JP2540582 B2 JP 2540582B2
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Description
【発明の詳細な説明】 （イ）産業上の利用分野 この発明は、光ディスク用マスター原盤の作成方法に
関し、特にガラス基板上に塗布したレジスト膜のレーザ
露光方法に係る。
関し、特にガラス基板上に塗布したレジスト膜のレーザ
露光方法に係る。
（ロ）従来の技術 光ディスク、例えば、光磁気ディスクや追記型光ディ
スクの案内溝を作成する方法として、従来は、ガラス基
板上にレジストを塗布し、そのレジスト膜をレーザで露
光し、それを現像することによりレジスト膜に凹凸部を
作成し、その凹凸部を電鋳によって転写してスタンパを
作成し、スタンパの凹凸部を成形によって転写してプラ
スチック基板を案内溝を作成するという方法がとられて
いる。そして、最近ISOの標準化委員会においてこの案
内溝寸法が規格化されつつあり、その規格案によれば、
グルーブトラッキングの場合には、案内溝は、幅1.2〜
1.3μｍ、深さ80〜100nm、番地信号をあらかじめ記録し
ているヘッダー部のピット形状は、信号品質の点から、
幅0.3〜0.5μｍ深さ80〜130nmとなっている。つまり、
グルーブトラッキングの場合には、幅広の案内溝と幅狭
のピットを作成することが必要となる。
スクの案内溝を作成する方法として、従来は、ガラス基
板上にレジストを塗布し、そのレジスト膜をレーザで露
光し、それを現像することによりレジスト膜に凹凸部を
作成し、その凹凸部を電鋳によって転写してスタンパを
作成し、スタンパの凹凸部を成形によって転写してプラ
スチック基板を案内溝を作成するという方法がとられて
いる。そして、最近ISOの標準化委員会においてこの案
内溝寸法が規格化されつつあり、その規格案によれば、
グルーブトラッキングの場合には、案内溝は、幅1.2〜
1.3μｍ、深さ80〜100nm、番地信号をあらかじめ記録し
ているヘッダー部のピット形状は、信号品質の点から、
幅0.3〜0.5μｍ深さ80〜130nmとなっている。つまり、
グルーブトラッキングの場合には、幅広の案内溝と幅狭
のピットを作成することが必要となる。
（ハ）発明が解決しようとする課題 ところで、溝幅は主としてレーザのスポット径で決定
され、そのスポット径は対物レンズの開口数やレーザパ
ワーの強度によって制御される。しかしながら、幅0.3
〜0.5μｍの露光帯と幅1.2〜1.3μｍの露光帯を一本の
レーザビームでコントラスト良く形成することは容易で
はない。そこで、本願発明者は、複数のレーザビームを
ディスクの半径方向に並べて幅広の露光帯を形成する方
法をすでに出願している（昭和62年特許出願第208948
号）。しかしながら、この方法においては、露光帯は精
度良くまたコントラスト良く形成されるが、レーザビー
ムをディスク半径方法に移動させる場合に、その移動量
（ピッチ）にむらがあると、未露光帯の幅にばらつきを
生じ、現像した時に未露光帯に対応するランドの幅にむ
らが生じると共に、ランド高さの均一性が維持されない
という問題点がある。
され、そのスポット径は対物レンズの開口数やレーザパ
ワーの強度によって制御される。しかしながら、幅0.3
〜0.5μｍの露光帯と幅1.2〜1.3μｍの露光帯を一本の
レーザビームでコントラスト良く形成することは容易で
はない。そこで、本願発明者は、複数のレーザビームを
ディスクの半径方向に並べて幅広の露光帯を形成する方
法をすでに出願している（昭和62年特許出願第208948
号）。しかしながら、この方法においては、露光帯は精
度良くまたコントラスト良く形成されるが、レーザビー
ムをディスク半径方法に移動させる場合に、その移動量
（ピッチ）にむらがあると、未露光帯の幅にばらつきを
生じ、現像した時に未露光帯に対応するランドの幅にむ
らが生じると共に、ランド高さの均一性が維持されない
という問題点がある。
この発明は、このような事情を考慮してなされたもの
で、光ディスクの半径方向に所定間隔を有するレーザビ
ームをレジスト膜に照射し、その間隔によって未露光帯
を確保することにより、レーザビームの移動時にピッチ
が変化しても未露光帯の幅が変化することがなく、幅広
の露光部帯を得ることができる光ディスク用マスター原
盤の作成方法を提供するものである。
で、光ディスクの半径方向に所定間隔を有するレーザビ
ームをレジスト膜に照射し、その間隔によって未露光帯
を確保することにより、レーザビームの移動時にピッチ
が変化しても未露光帯の幅が変化することがなく、幅広
の露光部帯を得ることができる光ディスク用マスター原
盤の作成方法を提供するものである。
（ニ）課題を解決するための手段 この発明は、光ディスク用マスター原盤の作成時にお
けるレジスト膜の露光工程において、第１及び第２レー
ザビームを、基板上のレジスト膜に光ディスクの半径方
向に所定間隔を有して同時に照射して、それぞれ第１及
び第２露光帯を形成し、次に、第２露光帯の一部に第１
レーザビームの一部が重なり合うように前記２本のレー
ザビームを前記所定間隔を保持して光ディスクの半径方
向に移動して、第１及び第２レーザビームを同時に照射
し、順次、この作業を繰り返して、前記所定間隔に対応
する幅の非露光帯を確保しつつ第１および第２露光帯か
らなる幅広の露光帯を形成することを特徴とする光ディ
スク用マスター原盤の作成方法である。
けるレジスト膜の露光工程において、第１及び第２レー
ザビームを、基板上のレジスト膜に光ディスクの半径方
向に所定間隔を有して同時に照射して、それぞれ第１及
び第２露光帯を形成し、次に、第２露光帯の一部に第１
レーザビームの一部が重なり合うように前記２本のレー
ザビームを前記所定間隔を保持して光ディスクの半径方
向に移動して、第１及び第２レーザビームを同時に照射
し、順次、この作業を繰り返して、前記所定間隔に対応
する幅の非露光帯を確保しつつ第１および第２露光帯か
らなる幅広の露光帯を形成することを特徴とする光ディ
スク用マスター原盤の作成方法である。
（ホ）作 用 第１および第２レーザビームは光ディスクの半径方向
に所定間隔を有して同時に照射されるので、その所定間
隔によって決定される幅の未露光帯が形成される。ま
た、形成された第２露光帯の一部に、次に照射される第
１レーザビームの一部が重合するので、幅広の露光帯が
形成される。
に所定間隔を有して同時に照射されるので、その所定間
隔によって決定される幅の未露光帯が形成される。ま
た、形成された第２露光帯の一部に、次に照射される第
１レーザビームの一部が重合するので、幅広の露光帯が
形成される。
（ヘ）実施例 以下、図面に示す実施例に基づいて、この発明を詳述
する。これによって、この発明が限定されるものではな
い。
する。これによって、この発明が限定されるものではな
い。
第１図はこの発明の一実施例に適用されるレーザ光学
系の概略構成を示す構成説明図であり、11はレーザ装
置、12,18はビームスプリッタ、13,19は反射鏡、14,15
は光変調器、16は光偏向器、17は1/2波長板である。
系の概略構成を示す構成説明図であり、11はレーザ装
置、12,18はビームスプリッタ、13,19は反射鏡、14,15
は光変調器、16は光偏向器、17は1/2波長板である。
このような構成において、レーザ装置11から発射され
た１本のレーザビームは、スプリッタ12で２本のレーザ
ビーム4,5に分割される。そして、光変調器14及び光偏
向器16を通ったレーザビーム４と、反射鏡13で反射され
た光変調器15および1/2波長板17を通って反射鏡19で反
射されたレーザビーム５とが、ビームスプリッタ18で再
び合わされ対物レンズ３に入射する。
た１本のレーザビームは、スプリッタ12で２本のレーザ
ビーム4,5に分割される。そして、光変調器14及び光偏
向器16を通ったレーザビーム４と、反射鏡13で反射され
た光変調器15および1/2波長板17を通って反射鏡19で反
射されたレーザビーム５とが、ビームスプリッタ18で再
び合わされ対物レンズ３に入射する。
第２図は光ディスク用マスター原盤作成時のレジスト
膜の露光状態を示す斜視図、第３図（ａ）および第４図
（ａ）は第１図に示す露光作業の各工程を示す部分拡大
断面図であり、第３図（ｂ）および第４図（ｂ）はそれ
ぞれ第３図（ａ），第４図（ｂ）に対応する原盤部分の
平面図である。これらの図において、１はディスク状の
ガラス基板、２はガラス基板１の上に塗布されたレジス
ト膜であり、ガラス基板１の上部近傍に露光用の対物レ
ンズ３が配置される。レーザビーム4,5は、レジスト膜
２に集光されたレジストスポットがレジスト膜２の上に
ディスク状ガラス基板１の半径方向に一定間隔ｄをなす
ように、対物レンズ３を介して照射される。２本のビー
ム4,5で挟まれた未露光帯が現像されるとランドとな
り、ビーム4,5で露光された露光帯7,8が現像されるとグ
ルーブとなる。
膜の露光状態を示す斜視図、第３図（ａ）および第４図
（ａ）は第１図に示す露光作業の各工程を示す部分拡大
断面図であり、第３図（ｂ）および第４図（ｂ）はそれ
ぞれ第３図（ａ），第４図（ｂ）に対応する原盤部分の
平面図である。これらの図において、１はディスク状の
ガラス基板、２はガラス基板１の上に塗布されたレジス
ト膜であり、ガラス基板１の上部近傍に露光用の対物レ
ンズ３が配置される。レーザビーム4,5は、レジスト膜
２に集光されたレジストスポットがレジスト膜２の上に
ディスク状ガラス基板１の半径方向に一定間隔ｄをなす
ように、対物レンズ３を介して照射される。２本のビー
ム4,5で挟まれた未露光帯が現像されるとランドとな
り、ビーム4,5で露光された露光帯7,8が現像されるとグ
ルーブとなる。
第３図（ａ）に示すように、ディスク１の半径方向に
間隔ｄだけ隔てて、ビーム4,5がレジスト膜２の上に照
射され、ガラス基板１が回転すると、第３図（ｂ）に示
すように幅ｄの未露光帯６を挟んで両側に露光帯7,8が
形成される。
間隔ｄだけ隔てて、ビーム4,5がレジスト膜２の上に照
射され、ガラス基板１が回転すると、第３図（ｂ）に示
すように幅ｄの未露光帯６を挟んで両側に露光帯7,8が
形成される。
次に、光学系を基板１の半径方向すなわち矢印Ａ方向
に移動させてレーザビーム５のスポットが露光帯７と距
離Ｌだけ重なり合うように配置し、基板１を回転させる
と、第４図（ａ）（ｂ）に示すように、露光帯７と一部
重合した露光帯8aによって幅広を露光帯９が形成される
と共に、幅ｄを有する新たな未露光帯6aを隔てて露光帯
7aが形成される。
に移動させてレーザビーム５のスポットが露光帯７と距
離Ｌだけ重なり合うように配置し、基板１を回転させる
と、第４図（ａ）（ｂ）に示すように、露光帯７と一部
重合した露光帯8aによって幅広を露光帯９が形成される
と共に、幅ｄを有する新たな未露光帯6aを隔てて露光帯
7aが形成される。
このような工程を順次繰り返すことにより、幅広の露
光帯がレジスト膜に形成される。なお、非露光帯の幅ｄ
はレーザビーム4,5の間隔を変えることによって制御さ
れ、光学系の移動ピッチと無関係であるので、未感光帯
の幅ｄは高精度に維持される。また、幅広の露光帯の幅
寸法はレーザビーム4,5の出力を制御することなく、光
学系の移動ピッチによって、レーザビーム4,5のスポッ
ト径の和まで広げることが可能である。
光帯がレジスト膜に形成される。なお、非露光帯の幅ｄ
はレーザビーム4,5の間隔を変えることによって制御さ
れ、光学系の移動ピッチと無関係であるので、未感光帯
の幅ｄは高精度に維持される。また、幅広の露光帯の幅
寸法はレーザビーム4,5の出力を制御することなく、光
学系の移動ピッチによって、レーザビーム4,5のスポッ
ト径の和まで広げることが可能である。
第５図（ａ）は光ディスク用マスター原盤のヘッダー
部の露光方法を示す部分断面図、第５図（ｂ）は第５図
（ａ）の原盤部の平面図、第６図はヘッダー部に形成さ
れるピット用露光部の配置説明図、第７図は第６図に対
応して示したレーザビームの変調信号および偏向信号の
タイムチャートである。これらの図において、レーザビ
ーム4,5の変調信号S1,S2が出力されてレジスト膜２の上
に露光帯7,8が形成されている時、時刻t1において変調
信号S1,S2がOFFしてレーザビーム４の偏向信号S3がONと
なると、レーザビーム４は第５図に示すように4aの位置
に偏向され、レーザビーム4,5の対物レンズ３への入射
が停止される。次に、期間T1〜T3においてレーザビーム
４の変調信号が出力され、それに対応してレーザビーム
4aがレジスト膜２に照射され、ヘッダー部の幅の狭いピ
ットに対応する露光7aが形成される。この時、レーザビ
ーム4aの出力がやや低下してスポット径が縮小する。そ
れと共に、ビームのスポット位置１が幅広の露光帯９の
中心の延長線上に位置するように偏向信号S3を受けた光
偏向器16によって、ビーム角度が偏向され、対物レンズ
３にビーム4aとして入射される。そして、再び時刻t2に
おいて偏向信号S3がOFFされレーザビーム4,5の変調信号
がONされると、再びレーザビーム4,5が対物レンズ３に
入射されて露光帯7,8がレジスト膜２の上に形成され
る。
部の露光方法を示す部分断面図、第５図（ｂ）は第５図
（ａ）の原盤部の平面図、第６図はヘッダー部に形成さ
れるピット用露光部の配置説明図、第７図は第６図に対
応して示したレーザビームの変調信号および偏向信号の
タイムチャートである。これらの図において、レーザビ
ーム4,5の変調信号S1,S2が出力されてレジスト膜２の上
に露光帯7,8が形成されている時、時刻t1において変調
信号S1,S2がOFFしてレーザビーム４の偏向信号S3がONと
なると、レーザビーム４は第５図に示すように4aの位置
に偏向され、レーザビーム4,5の対物レンズ３への入射
が停止される。次に、期間T1〜T3においてレーザビーム
４の変調信号が出力され、それに対応してレーザビーム
4aがレジスト膜２に照射され、ヘッダー部の幅の狭いピ
ットに対応する露光7aが形成される。この時、レーザビ
ーム4aの出力がやや低下してスポット径が縮小する。そ
れと共に、ビームのスポット位置１が幅広の露光帯９の
中心の延長線上に位置するように偏向信号S3を受けた光
偏向器16によって、ビーム角度が偏向され、対物レンズ
３にビーム4aとして入射される。そして、再び時刻t2に
おいて偏向信号S3がOFFされレーザビーム4,5の変調信号
がONされると、再びレーザビーム4,5が対物レンズ３に
入射されて露光帯7,8がレジスト膜２の上に形成され
る。
なお、前述の非露光帯の間隔ｄは、光偏向器16でレー
ザビーム４を偏向させるか又は反射鏡19を適度に回動さ
せることにより精度よく調整することができる。また、
1/2波長板17（第１図）はビーム４と５が互いに干渉し
ないように偏波面を変えるためのものである。
ザビーム４を偏向させるか又は反射鏡19を適度に回動さ
せることにより精度よく調整することができる。また、
1/2波長板17（第１図）はビーム４と５が互いに干渉し
ないように偏波面を変えるためのものである。
（ト）発明の効果 この発明によれば、非露光帯の幅が高精度に維持され
るので、幅および高さの均一なランドを得ることがで
き、幅広のグルーブを作成することができる。
るので、幅および高さの均一なランドを得ることがで
き、幅広のグルーブを作成することができる。
第１図はこの発明の一実施例に適用するレーザ光学系の
概略構成図、第２図はこの発明の一実施例における光デ
ィスク用マスター原盤作成時のレジスト膜の露光状態を
示す斜視図、第３図（ａ）および第４図（ａ）は第２図
に示す一実施例の工程を示す断面図、第３図（ｂ）およ
び第４図（ｂ）はそれぞれ第３図（ａ）および第４図
（ａ）に対応する部分平面図、第５図（ａ）は第２図に
示す一実施例の他の工程を示す断面図、第５（ｂ）は第
５図（ａ）に対応する部分平面図、第６図は第３図
（ａ）〜第５図（ａ）に示す工程によって形成される露
光帯の配置を示す配置説明図、第７図はレーザビームの
変調信号と偏向信号の時間的変化を第６図に対応して示
すタイムチャートである。 １……基板、２……レジスト膜、 ３……対物レンズ、4,5……レーザビーム、 ６……非露光帯、7,8……露光帯
概略構成図、第２図はこの発明の一実施例における光デ
ィスク用マスター原盤作成時のレジスト膜の露光状態を
示す斜視図、第３図（ａ）および第４図（ａ）は第２図
に示す一実施例の工程を示す断面図、第３図（ｂ）およ
び第４図（ｂ）はそれぞれ第３図（ａ）および第４図
（ａ）に対応する部分平面図、第５図（ａ）は第２図に
示す一実施例の他の工程を示す断面図、第５（ｂ）は第
５図（ａ）に対応する部分平面図、第６図は第３図
（ａ）〜第５図（ａ）に示す工程によって形成される露
光帯の配置を示す配置説明図、第７図はレーザビームの
変調信号と偏向信号の時間的変化を第６図に対応して示
すタイムチャートである。 １……基板、２……レジスト膜、 ３……対物レンズ、4,5……レーザビーム、 ６……非露光帯、7,8……露光帯
Claims (1)
- 【請求項１】光ディスク用マスター原盤の作成時におけ
るレジスト膜の露光工程において、 第１及び第２レーザビームを、基板上のレジスト膜に光
ディスクの半径方向に所定間隔を有して照射し、それぞ
れ第１及び第２露光帯を形成し、次に、第２露光帯の一
部に第１レーザビームの一部が重なり合うように前記２
本のレーザビームを前記所定間隔を保持して光ディスク
の半径方向に移動した後、第１及び第２レーザビームを
照射し、順次、この作業を繰り返して、前記所定間隔に
対応する幅の非露光帯を確保しつつ第１および第２露光
帯からなる幅広の露光帯を形成することを特徴とする光
ディスク用マスター原盤の作成方法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63026237A JP2540582B2 (ja) | 1988-02-05 | 1988-02-05 | 光ディスク用マスタ―原盤の作成方法 |
| DE8888307691T DE3875423T2 (de) | 1987-08-21 | 1988-08-19 | Optische platte zur verwendung in optischen speichergeraeten. |
| CA000575204A CA1303740C (en) | 1987-08-21 | 1988-08-19 | Optical disk for use in optical memory devices |
| EP88307691A EP0304312B1 (en) | 1987-08-21 | 1988-08-19 | An optical disk for use in optical memory devices |
| US08/032,540 US5399461A (en) | 1987-08-21 | 1993-03-17 | Optical disk for use in optical memory devices |
| US08/346,173 US5500850A (en) | 1987-08-21 | 1994-11-22 | Optical disk with grooves and pits of different depths |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63026237A JP2540582B2 (ja) | 1988-02-05 | 1988-02-05 | 光ディスク用マスタ―原盤の作成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01201844A JPH01201844A (ja) | 1989-08-14 |
| JP2540582B2 true JP2540582B2 (ja) | 1996-10-02 |
Family
ID=12187709
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63026237A Expired - Fee Related JP2540582B2 (ja) | 1987-08-21 | 1988-02-05 | 光ディスク用マスタ―原盤の作成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2540582B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1997038421A1 (en) * | 1996-04-10 | 1997-10-16 | Hitachi Maxell, Ltd. | Optical recording medium |
| JP3104699B1 (ja) * | 1999-06-01 | 2000-10-30 | 株式会社ニコン | 細溝付き成形基板の製造方法 |
-
1988
- 1988-02-05 JP JP63026237A patent/JP2540582B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01201844A (ja) | 1989-08-14 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |