JPH0773509A

JPH0773509A - 露光装置

Info

Publication number: JPH0773509A
Application number: JP5220070A
Authority: JP
Inventors: Sumio Kuroda; 純夫黒田; Kumiko Taguchi; 久美子田口
Original assignee: Fujitsu Ltd
Current assignee: Fujitsu Ltd
Priority date: 1993-09-03
Filing date: 1993-09-03
Publication date: 1995-03-17

Abstract

(57)【要約】【目的】光ディスクのグルーブ及びピットを形成する
ための露光装置に関し、形成する溝のエッジを記録パワ
ーによらず鋭利に形成できる露光装置を提供することを
目的とする。【構成】単一のレーザ光をハーフミラー等により複数
の光に分割し、分割した複数の光をリレーレンズ等を用
いて互いに変移させ、互いに変移させた複数の光を再び
ハーフミラー等により合成して一つの記録光とし、ガラ
ス原盤等に照射する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は露光装置に係り、特に、
光ディスクのグルーブ及びピットを形成するための露光
装置に関する。

【０００２】近年、コンピュータの扱う情報量の増大に
伴ない、ファイル装置にも高速化、大容量化が求められ
ている。このため、ファイル装置として光ディスク、光
磁気ディスクが用いられている。

【０００３】この、光ディスク、光磁気ディスクでは同
心円又は螺線状に形成されたトラックをトレースして情
報の読み書きを行なうため、安定したトラッキングサー
ボが行われる必要がある。

【０００４】

【従来の技術】このような大容量のファイル装置に用い
られる光ディスク、光磁気ディスク等はグルーブ及びピ
ットの反転パターンが形成されたスタンパに樹脂材を対
向させ、硬化させることによりグルーブ及びピットが形
成されたディスク基板を形成し、このディスク基板に反
射用金属膜や磁性膜を形成することにより作成されてい
た。

【０００５】また、スタンパはグルーブ及びピットが形
成されたガラス原盤を転写することにより形成される。

【０００６】ガラス原盤は次のように作成されていた。
まず、ガラス製の円盤にレジストをスピンコートする。
次に円盤を回転させつつ、光ディスク用露光装置によ
り、形成すべきグルーブ及びピットに応じた露光を行な
い、グルーブ及びピットに応じたレジストパターンを形
成することにより作成されていた。

【０００７】このとき、グルーブ及びピットの形状は主
に露光装置による露光時の記録光によって決定されてい
た。

【０００８】図１０に従来のこの種の露光装置の一例の
構成図を示す。同図中、１は記録光発生用レーザ（光発
生）装置、２〜４はハーフミラー、５〜７は全反射ミラ
ー、８，９は光変調器、１０，１１はビームエキスパン
ダ、１２はリレーレンズ，１３はダイクロイックミラ
ー、１４は対物レンズ、１５はガラス原盤、１６はフォ
ーカシング用レーザ光発生装置、１７はフォーカシング
信号検出用二分割ディテクタを示す。

【０００９】レーザ光発生装置１はガラス原盤１５に塗
布されたレジストに反応しやすい波長のレーザ光を発生
し、ハーフミラー２に供給する。ハーフミラー２はレー
ザ光発生装置１で発生されたレーザ光の一部を透過さ
せ、残りを反射させることにより、ピット記録用光とグ
ルーブ形成用光とに二分割する。

【００１０】ハーフミラー２を透過した光は光変調器８
に供給される。光変調器８は記録しようとする情報に応
じてハーフミラー２より供給された光の透過を制御して
ピット記録用の被変調光を生成する。光変調器８で変調
された光はビームエキスパンダ１０に供給される。ビー
ムエキスパンダ１０は光変調器８から供給された光のビ
ーム径を大きくし、必要とする径として、リレーレンズ
１２に供給する。

【００１１】リレーレンズ１２はビームエキスパンダ１
０から供給された光の光軸を変移させる。

【００１２】図１１にリレーレンズ１２の説明図を示
す。リレーレンズ１２は同一の一対の凸レンズ１２ａ，
１２ｂよりなり、一対の凸レンズ１２ａ，１２ｂは光を
変移させる量に応じて互いの中心軸が異なるように配置
されている。

【００１３】図１１（Ａ）に示すように凸レンズ１２ａ
の中心軸Ｉ_aと凸レンズ１２ｂの中心軸Ｉ_bとが一致す
る場合には入射光Ｌ₀は凸レンズ１２ａで屈折され、焦
点Ｏ ₁を通って凸レンズ１２ｂに到り、凸レンズ１２ｂ
で屈折され、入射光Ｌ₀と同一の光軸を有する出射光Ｌ
₁として出射される。したがって、図１１（Ａ）の状態
では光軸の変移は生じない。

【００１４】ここで、図１１（Ｂ）に示すように凸レン
ズ１２ｂの中心軸Ｉ_bを凸レンズ１２ａの中心軸Ｉ_aに
対して矢印Ｂ₂方向に変移量Ｄだけ変移させると、凸レ
ンズ１２ａの出射光の凸レンズ１２ｂへの入射角度が変
化するため、凸レンズ１２ｂからの出射角度が図１１
（Ａ）のときの光軸の角度に比べて矢印Ｂ₁方向に角度
θだけ変移する。このため、凸レンズ１２ｂを矢印Ｂ₂
方向に距離Ｄだけ変移させることにより例えば光軸を位
置Ｐ₀で、図１１（Ａ）に示す光軸より変移量ｄだけ矢
印Ｂ₁方向に変移させることができる。

【００１５】なお、このとき、対物レンズ１４の焦点距
離をｆ₀、リレーレンズ１２の焦点距離をｆ、リレーレ
ンズ１２の凸レンズ１２ｂの凸レンズ１２ａに対するず
れ量をＤとすると、リレーレンズ１２によるビームの中
心位置からのずれΔＸ（＝ｄ）は ΔＸ＝ｆ₀Ｄ／ｆで決定される。

【００１６】リレーレンズ１２で変移された光はハーフ
ミラー３に供給される。

【００１７】一方、ハーフミラー２で反射されたグルー
ブ形成用の光は全反射ミラー５に供給され、折曲された
後、ピット記録用光と同様にビームエキスパンダ９に供
給される。

【００１８】光変調器９はガラス原盤１５に同心円状に
グルーブを形成する場合などに異なるグルーブが連続し
てしまわないように光を遮断すべく、変調がかけられ
る。光変調器９により変調がかけられたビームはビーム
エキスパンダ１１に供給される。ビームエキスパンダ１
１は供給された光のビーム径を拡大して所定のビーム径
とする。

【００１９】光変調器１１から出射された光は全反射ミ
ラー６で光軸が折曲され、ハーフミラー３に供給され
る。ハーフミラー３は全反射ミラー６からのグルーブ形
成用光を反射させ、リレーレンズ１２からのピット記録
用光を透過させ、グルーブ形成用光とピット記録用光と
を合成する。

【００２０】このとき、ピット記録用光はリレーレンズ
１２によりその光軸がグルーブ形成用光の光軸に対して
変移されており、グルーブ間のトラック上にビットが形
成されるように合成される。

【００２１】ハーフミラー３で合成された記録用合成光
はダイクロイックミラー１３に供給される。ダイクロイ
ックミラー１３にはハーフミラー３からの合成光の他に
フォーカシング用の光が供給される。

【００２２】フォーカシング用の光はガラス原盤１５に
塗布されたレジストに反応しない波長に選ばれ、フォー
カシング用レーザ光発生装置１６からハーフミラー４を
介してダイクロイックミラー１３に供給される。ダイク
ロイックミラー１３はハーフミラー３からの合成光を透
過させ、フォーカシング用レーザ光を反射させることに
より、ハーフミラー３からの合成光とフォーカシング用
の光とを合成する。ダイクロイックミラー１３からの光
は全反射ミラー７で反射され、対物レンズ１４を介して
ガラス原盤１５に供給される。

【００２３】ガラス原盤１５はハーフミラー３からの合
成光により表面に塗布されたレジストが感光し、合成光
に応じたピット及びグルーブが形成される。また、ガラ
ス原盤１５に照射された光は一部が反射され、対物レン
ズ１４及び全反射ミラー７を介して再びダイクロイック
ミラー１３に供給される。

【００２４】ダイクロイックミラー１３は供給された光
よりフォーカシング用レーザ光の波長の光のみを反射す
るように構成されており、ダイクロイックミラー１３で
反射された光はハーフミラー４を透過して二分割ディテ
クタ１７に供給される。二分割ディテクタ１７はフォー
カシング用レーザ光のガラス原盤１５からの反射光を検
出し、検出信号をフォーカス制御部１８に供給する。

【００２５】フォーカス制御部１８は二分割ディテクタ
１７からの検出信号に応じて対物レンズ１４を矢印Ａ方
向に駆動させ、記録光のガラス原盤１５上へのフォース
が最適となるようにフォーカシング制御を行なう。

【００２６】なお、ガラス原盤１５は露光時には一定方
向に回転される。

【００２７】図１２に従来の露光装置により露光され、
形成されたガラス原盤１５の構成図を示す。

【００２８】ガラス原盤１５には図１２（Ａ）に示すよ
うに同心円状にトラック１５ａが形成される。図１２
（Ｂ）の斜視図及び図１２（Ｃ）の断面図に示すように
トラック１５ａの一部には予め記憶させておきたいアド
レス等の情報に応じたピット１５ｂが形成される。

【００２９】また、トラック１５ａの間にはグルーブ１
５ｃが形成される。

【００３０】このとき、情報の読み取りを確実に行なえ
るようにするため、グルーブ１５ｃに比べてピット１５
ｂを深く形成する必要がある。このため、グルーブ１５
ｃを形成するためのグルーブ形成用光のパワーをピット
１５ｂを形成するためのピット記録用光に比べて小さく
していた。

【００３１】

【発明が解決しようとする課題】しかるに、従来のこの
種の露光装置はピット及びグルーブを夫々単一の光軸の
ビームで形成しており、特にグルーブにおいては、記録
パワーを下げて溝の深さがピットより浅くなるように形
成されるため、溝の断面形状がＶ字状となってしまい、
トラックとグルーブとの境界が不明確となり、それによ
って得られるトラッキングエラー信号の感度は鈍くなっ
てしまい、したがって、安定したトラッキングが行なえ
ない等の問題点があった。

【００３２】本発明は上記の点に鑑みてなされたもの
で、形成する溝のエッジを記録パワーによらず鋭利に形
成できる露光を行なえる露光装置を提供することを目的
とする。

【００３３】

【課題を解決するための手段】本発明は形成すべき溝に
対応した記録光を露光対象に照射する露光装置におい
て、光軸が互いに異なる位置に変移された複数の光を合
成することにより前記記録光を生成する記録光生成手段
を有してなる。

【００３４】

【作用】光軸が互いに異なる位置に変移した複数の光を
合成して露光対象に照射する記録光を生成することによ
り、記録光を露光対象に均一に照射することができるた
め、記録光のエッジ部分を鋭利にすることができ、した
がってそれにより形成される溝のエッジを鋭利にでき
る。

【００３５】

【実施例】図１に本発明の第１実施例の構成図を示す。
同図中、図１０と同一構成部分には同一符号を付し、そ
の説明は省略する。

【００３６】本実施例は図１０の全反射ミラー６に代え
て、記録光を変移させる変移手段２１を設けてなる。変
移手段２１は、ハーフミラー２２〜２７、リレーレンズ
２８〜３０、全反射ミラー３１，３２よりなる。ビーム
エキスパンダ１１の出射光はハーフミラー２２に供給さ
れる。ハーフミラー２２はビームエキスパンダ１１から
供給された光のうち四分の一を透過させ、残り四分の三
を反射する。

【００３７】ハーフミラー２２を透過した光はハーフミ
ラー２５に供給され、ハーフミラー２２で反射された光
はハーフミラー２３に供給される。

【００３８】ハーフミラー２３は供給された光の三分の
一を反射し、残りの三分の二を透過させる。ハーフミラ
ー２３で反射された光はリレーレンズ２８に供給され、
ハーフミラー２３を透過した光はハーフミラー２４に供
給される。リレーレンズ２８は供給された光の光軸をハ
ーフミラー２２を透過した光の光軸よりわずかにリレー
レンズ１２による光軸の変移方向とは逆方向に変移させ
る。リレーレンズ２８で変移された光はハーフミラー２
６に供給される。

【００３９】一方、ハーフミラー２４は供給された光の
二分の一を透過させ、残り二分の一を反射させる。ハー
フミラー２４で反射された光はリレーレンズ２９に供給
され、ハーフミラー２４で透過した光は全反射ミラー３
１に供給される。

【００４０】リレーレンズ２９は供給された光の光軸を
リレーレンズ２８により光軸が変移された光よりさらに
変移させる。リレーレンズ２９で変移された光はハーフ
ミラー２７に供給される。

【００４１】全反射ミラー３１は供給された光を反射さ
せ、リレーレンズ３０に供給する。リレーレンズ３０は
供給された光の光軸をリレーレンズ２９で変移された光
の光軸よりさらに変移させる。

【００４２】リレーレンズ３０で光軸が変移された光は
全反射ミラー３２に供給される。全反射ミラー３２はリ
レーレンズ３０からの光を反射させ、ハーフミラー２７
に供給する。

【００４３】ハーフミラー２７はリレーレンズ２９から
の光を反射させ全反射ミラー３２からの光を透過させ、
両光を合成して、ハーフミラー２６に供給する。ハーフ
ミラー２６はリレーレンズ２８からの光を反射させ、ハ
ーフミラー２７からの光を透過させることによりリレー
レンズ２８からの光とハーフミラー２７からの光とを合
成してハーフミラー２５に供給する。

【００４４】ハーフミラー２５はハーフミラー２２から
の光を反射させ、ハーフミラー２６からの光を透過させ
ることによりハーフミラー２２からの光とハーフミラー
２６からの光とを合成してハーフミラー３に供給する。
ハーフミラー３は前述したようにリレーレンズ１２から
供給されるピット記録用の光と、変移手段２１から供給
されるグルーブ形成用の光とを合成し、ダイクロイック
ミラー１３、反射ミラー７、対物レンズ１４を介して原
盤１５に供給する。

【００４５】次に変移手段２１の動作を説明する。図２
に変移手段２１の動作説明図を示す。なお、リレーレン
ズ２８〜３０の構成及び動作は図１０で説明したリレー
レンズ１２と同様であるため、その説明は省略する。

【００４６】まず、ハーフミラー２２を透過した光Ｌ₁₁
は光軸の変移はなく、例えば、図２（Ａ）に示すように
位置Ｘ₁上に光軸を有する。また、ハーフミラー２３で
反射された光Ｌ₁₂の光軸は図２（Ａ）に示すようにリレ
ーレンズ２８により位置Ｘ₁から位置Ｘ₂に変移され
る。

【００４７】ハーフミラー２４で反射された光Ｌ₁₃の光
軸は図２（Ａ）に示すようにリレーレンズ２９により位
置Ｘ₃に変移される。全反射ミラー３１で反射された光
Ｌ₁₄の光軸はリレーレンズ３０により位置Ｘ₄に変移さ
れる。このとき、光Ｌ₁₁〜Ｌ ₁₄の間隔は（Ｘ₂−Ｘ₁）
≒（Ｘ₄−Ｘ₃）≦（Ｘ₃−Ｘ₂）に設定され、均一な
光強度分布が得られるような構成とされている。

【００４８】合成した光Ｌ₁〜Ｌ₄の強度分布は図２
（Ｂ）に破線で示すように実線で示す各光Ｌ₁₁〜Ｌ₁₄の
強度分布を合成した特性となり、それによって形成され
る溝形状は図２（Ｃ）に示すように底面が平面となる形
状となる。

【００４９】このとき、光Ｌ₁₁〜Ｌ₁₄のパワーに応じて
形成される溝の形状が変形する。図３（Ｃ）に光パワー
に応じた溝形状の説明図を示す。図３（Ａ）は光Ｌ₁〜
Ｌ₄のパワーがすべて０．２３ｍＷ、図３（Ｂ）は光Ｌ
₁₂，Ｌ₁₃が０．２３ｍＷ、図３（Ｃ）は光Ｌ₁₂，Ｌ₁₃が
０．２３Ｗ、光Ｌ₁₁，Ｌ₁₄が０．３ｍＷで露光され、現
像された溝形状を示している。

【００５０】図３に示すようにパワーをあまり大きくす
ると、光Ｌ₁〜Ｌ₄の間隔設定の影響が表われ、中央の
部分の強度分布が低下して、溝形状がもり上がってしま
うため、０．２７ｍＷ程度で露光した場合に底面形状を
平坦にでき、良好な溝形状が得られる。また、ハーフミ
ラー２２，２３，２４の透過光と反射光との比を調整
し、中央の光を外側の光の光量に比べて低下させること
により、均一な光が得られる。

【００５１】図４（Ａ），（Ｂ）に本実施例の露光装置
により露光され、形成されたガラス原盤４０の構成図を
示す。ガラス原盤４０には予め記録しておきたいアドレ
ス等の情報に応じたピット４１が形成されたトラック４
２及びトラッキング制御を行なうためのグルーブ４３が
形成される。

【００５２】ピット４１は光Ｌ₁₁より矢印Ｃ₁方向に変
移量ａだけ変移したピット記録用光に対応して形成され
る。また、グルーブ４３はピット記録用光よりも低いパ
ワーの互いに移変した複数のビームスポット３１，３
２，３３，３４に対応して形成され、ピット４１より浅
く形成される。

【００５３】ビームスポット３１，３２，３３，３４に
よれば、光の強度分布を均一にできるため、グルーブ４
３の底面形状を平面状に構成できる。また本実施例によ
れば、図５に示すようにグルーブ４３の底面形状を平坦
にできるため、光磁気ディスクなどの媒体においてグル
ーブ４３上にＭＯ信号を書込むことができるようにな
り、高密度記録が可能となる。

【００５４】図６に本発明の第２実施例の構成図を示
す。同図中、図１と同一構成部分には同一符号を付し、
その説明は省略する。

【００５５】本実施例はピット記録用光を基準としてグ
ルーブ形成用光の光軸を変移させる構成としてなる。こ
のため、本実施例ではリレーレンズ１２を削除し、変移
手段５１をピット記録用光Ｌ₀を基準に変移させる構成
としてなる。

【００５６】変移手段５１は図１の変移手段２１のハー
フミラー２２とハーフミラー２５との間にリレーレンズ
５２を配してなる。ハーフミラー２２の透過光Ｌ₁₁はリ
レーレンズ５２により、ピット記録用光Ｌ₀に対して図
３における変移量ａだけ変移される。

【００５７】また、リレーレンズ２８，２９，３０はハ
ーフミラー２３の反射光Ｌ₁₂、ハーフミラー２４の反射
光Ｌ₁₃、全反射ミラー３１の反射光Ｌ₁₄が夫々、ピット
記録用光Ｌ₀に対して変移量ａ＋（Ｘ₂−Ｘ₁）、ａ＋
（Ｘ₃−Ｘ₁）、ａ＋（Ｘ₄−Ｘ₁）だけ変移するよう
に内部の一対のレンズの配置が決定される。

【００５８】本実施例によれば、第１実施例と同様な効
果が得られる。

【００５９】なお、基準となるビームスポットはピット
記録用光及びグルーブ形成用光を構成する複数のビーム
のうちのいずれかのビームでもよく、基準となるビーム
スポットに対して他のビームスポットの位置をリレーレ
ンズ等により所定の位置となるように変移させればよ
い。

【００６０】また、ビームスポットを変移させる手段も
リレーレンズに限ることはなく、ハーフミラー２２〜２
７及び全反射ミラー３１，３２の設置角度を変えること
によっても変移させることができる。

【００６１】図７に本発明の第３実施例の構成図を示
す。同図中、図１と同一構成部分には同一符号を付し、
その説明は省略する。

【００６２】本実施例は高密度化のためにトラック上の
ピットの他にグルーブ上に凸状のピットを形成可能な構
成としたものである。図１中の全反射ミラー５とハーフ
ミラー３との間に設けられた光変調器９、ビームエキス
パンダ１１、及び変移手段２１に代えて、グルーブ形成
手段６１を設けてなる。

【００６３】グルーブ形成手段６１は光変調器６２，６
３、ビームエキスパンダ６４，６５、ハーフミラー６６
〜７５、全反射ミラー７６〜７９、リレーレンズ８０〜
８４より構成される。

【００６４】全反射ミラー５で反射されたグルーブ形成
用光はハーフミラー６６に供給される。ハーフミラー６
６はグルーブ形成用光の一部を透過させ、他を反射させ
ることによりグルーブ形成用光を二分割する。ハーフミ
ラー６６を透過した光は光変調器６２に供給される。光
変調器６２はハーフミラー６６からの光をグルーブ上に
形成しようとする凸状のピットとして記憶させるアドレ
ス等の情報に応じて光の透過を制御し、ビームエキスパ
ンダ６４に供給する。ビームエキスパンダ６４は供給さ
れた光のビーム径を必要とする所定の径に拡大してハー
フミラー６７に供給する。

【００６５】ハーフミラー６７はビームエキスパンダ６
４から出射された変調光を一部透過し、他を反射させる
ことにより二分割する。ハーフミラー６７を透過した光
Ｌ₂₁はハーフミラー７５に供給され、ハーフミラー６７
で反射した光は全反射ミラー７７で反射され、リレーレ
ンズ８０に供給される。

【００６６】リレーレンズ８０は全反射ミラー７７から
の光を光Ｌ₂₁に対して変位量＋５Δｘだけ変位させる。
リレーレンズ８０により変移された光Ｌ₂₂はハーフミラ
ー７４に供給される。

【００６７】一方、ハーフミラー６６で反射された光は
全反射ミラー７６で反射され、光変調器６３に供給され
る。光変調器６３は同心円状のグルーブ形成時に隣接す
るグルーブが連続してしまわないように光を遮断すべ
く、入射光を変調し、ビームエキスパンダ６５に供給す
る。ビームエキスパンダ６５は入射された光のビーム径
を必要とする所定のビーム径として出射する。

【００６８】ビームエキスパンダ６３から出射された光
は光変調器６５に供給される。

【００６９】ビームエキスパンダ６５から出力された光
はハーフミラー６８に供給される。ハーフミラー６８は
ビームエキスパンダ６５からの光を一部を透過させ、他
を反射することにより、２分配する。

【００７０】ハーフミラー６８を透過した光はリレーレ
ンズ８１に供給され、光Ｌ₂₁に対して変移量＋Δｘだけ
変移される。リレーレンズ８１により変移された光Ｌ₂₃
はハーフミラー７３に供給される。また、ハーフミラー
６８で反射された光はハーフミラー６９に供給される。

【００７１】ハーフミラー６９はハーフミラー６８から
の光を一部透過させ、他を反射させ、２分配する。

【００７２】ハーフミラー６９で反射された光はリレー
レンズ８２により光Ｌ₂₁に対して変移量＋２Δｘだけ変
移される。リレーレンズ８２で変移された光Ｌ₂₄はハー
フミラー７２に供給される。ハーフミラー６９を透過し
た光はハーフミラー７０に供給される。

【００７３】ハーフミラー７０はハーフミラー６９から
の光の一部を透過させ、他を反射させ、２分配する。ハ
ーフミラー７０で反射された光はリレーレンズ８３に供
給され、リレーレンズ８３により光Ｌ₂₁に対して変移量
＋３Δｘだけ変移される。リレーレンズ８３により変移
された光Ｌ₂₅はハーフミラー７１に供給される。

【００７４】ハーフミラー７０を透過した光は全反射ミ
ラー７８で反射され、リレーレンズ８４に供給され、リ
レーレンズ８３により光Ｌ₂₁に対して変移量＋４Δｘだ
け変移される。リレーレンズ８４により変移された光Ｌ
₂₆は全反射ミラー７９に供給される。全反射ミラー７９
は光Ｌ₂₆を反射させ、ハーフミラー７１に供給する。ハ
ーフミラー７１は光Ｌ₂₆を透過させ、光Ｌ₂₅を同方向に
反射させることにより光Ｌ₂₆と光Ｌ₂₅とを合成し、その
合成光Ｌ₂₅＋Ｌ₂₆をハーフミラー７２に供給する。

【００７５】ハーフミラー７２はハーフミラー７１から
供給された合成光Ｌ₂₅＋Ｌ₂₆を透過させ、光Ｌ₂₄を同方
向に反射させることにより光Ｌ₂₅，Ｌ₂₆，Ｌ₂₄を合成し
た合成光Ｌ₂₄〜Ｌ₂₆を合成し、ハーフミラー７３に供給
する。ハーフミラー７３はハーフミラー７２からの合成
光Ｌ₂₄〜Ｌ₂₆を透過させ、光Ｌ₂₃を同方向に反射させる
より光Ｌ₂₃，Ｌ₂₄，Ｌ₂₅，Ｌ₂₆の合成光Ｌ₂₃〜Ｌ₂₆を合
成してハーフミラー７４に供給する。ハーフミラー７４
はハーフミラー７３からの合成光Ｌ₂₃〜Ｌ₂₆を透過さ
せ、光Ｌ₂₇を同方向に反射させることにより光Ｌ₂₂，Ｌ
₂₃，Ｌ₂₄，Ｌ₂₅，Ｌ₂₆の合成光Ｌ₂₂〜Ｌ₂₆を合成し、ハ
ーフミラー７５に供給する。ハーフミラー７５はハーフ
ミラー７４からの合成光Ｌ₂₂〜Ｌ₂₆を透過させ、光Ｌ₂₁
を同方向に反射させることにより光Ｌ₂₂，Ｌ₂₃，Ｌ₂₄，
Ｌ₂₅，Ｌ₂₆の合成光Ｌ₂₁〜Ｌ₂₆を合成し、グルーブ形成
用としてハーフミラー３に供給する。

【００７６】図８に本発明の第３実施例の動作説明図を
示す。図８（Ａ）は光Ｌ₂₁〜Ｌ₂₆のビームスポット位置
を示す、図８（Ｂ），（Ｃ）は光Ｌ₂₁〜Ｌ₂₆の強度分布
を示す。

【００７７】光Ｌ₂₁〜Ｌ₂₆により形成されるビームスポ
ットは図８（Ａ）に示すように互いに隣り合うスポット
間がΔｘずつずれて合成されることになる。図８（Ａ）
に示すビームスポット配置による、光強度分布は図８
（Ｂ）に実線で示す光Ｌ₂₁〜Ｌ ₂₆の各光強度分布をたし
合わせた分布となり、光Ｌ₂₁〜Ｌ₂₆をすべて合成した分
布は図６（Ｂ）に破線で示すようになる。

【００７８】また、光Ｌ₂₄，Ｌ₂₅をオフすることによ
り、図８（Ｃ）に実線で示す光Ｌ₂₃〜Ｌ₂₆を加えた分布
となり、光Ｌ₂₁〜Ｌ₂₆を合成した分布は図８（Ｃ）に破
線で示すように中央付近の光の強度が低下した分布を形
成することができる。

【００７９】図９に本実施例の露光装置を用いて作製さ
れたガラス原盤６０の構成図を示す。

【００８０】本実施例の露光装置によれば、グルーブ６
１を形成するためのグルーブ形成光を構成する複数の光
Ｌ₂₁〜Ｌ₂₆の中央の光Ｌ₂₁，Ｌ₂₂を光Ｌ₂₃〜Ｌ₂₆とは別
々に変調をかけられる構成とし、光Ｌ₂₁，Ｌ₂₂をアドレ
ス等の予め記憶しておきたい情報に応じて変調をかける
ことで、図８（Ｃ）に示すようなグルーブ形成用光が得
られ、グルーブ６１の中央部分のレジストを感光させな
い構成とすることができる。

【００８１】以上のような露光装置により露光されたガ
ラス原盤６０に現像等の処理を施すことにより、図９に
示すようにグルーブ６１上に凸状のピット６２を形成す
ることができる。

【００８２】したがって、トラック６３に形成された凹
状のピット６４と共に高密度の記録が可能となる。ま
た、このとき、トラック６３及びグルーブ６１上のピッ
ト６２，６４は同一工程で形成できるため、製造工程を
増加させることなく形成できる。

【００８３】このため、得にＲＯＭ・ＲＡＭ混在型の光
磁気ディスクの製造に用いた場合などにグルーブ上に凸
状のピットでアドレス等を書込めるため、高密度化が計
れると共に、グルーブ作成時にアドレスも書込めるた
め、製造工程も簡単になる。

【００８４】

【発明の効果】上述の如く、本発明によれば、記録光は
光軸が互いに異なる位置に変換した複数の光を合成する
ことにより生成されるため、記録光を均一に、かつ、エ
ッジが鋭利となるように形成することができ、したがっ
て記録光により形成される溝のエッジも鋭利な形状とす
ることができると共に、各位置での光の強度を変えるこ
とにより溝部内にピットを形成することも可能となり、
高密度記録が可能となる等の特長を有する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施例の構成図である。

【図２】本発明の第１実施例の動作説明図である。

【図３】本発明の第１実施例の動作説明図である。

【図４】本発明の第１実施例の動作説明図である。

【図５】本発明の第１実施例の動作説明図である。

【図６】本発明の第２実施例の構成図である。

【図７】本発明の第３実施例の構成図である。

【図８】本発明の第３実施例の動作説明図である。

【図９】本発明の第３実施例の動作説明図である。

【図１０】従来の一例の構成図である。

【図１１】リレーレンズの説明図である。

【図１２】従来の一例の動作説明図である。

【符号の説明】

１レーザ光発生装置２，３，２２〜２７ハーフミラー５，７，３１，３２全反射ミラー８，９ビームエキスパンダ１０，１１光変調器１２，２８〜３０リレーレンズ１４対物レンズ４０ガラス原盤

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】形成すべき溝に対応した記録光を露光対
象（１）に照射する露光装置において、光軸が互いに異なる位置に変位された複数の光（Ｌ₁₁〜
Ｌ₁₄；Ｌ₂₁〜Ｌ₂₆）を合成することにより前記記録光を
生成する記録光生成手段（１，２，５，９，１１，２
１，３；１，２，５，９，１１，５１，３；１，２，
５，６１，３）を有することを特徴とする露光装置。
【請求項２】前記記録光生成手段（１，２，５，９，
１１，２１，３）は所定の波長の光を出射する発光源
（１）と、前記発光源（１）から出射された光を複数の光に分割す
る分割手段（２）と、前記分割手段（２）で分割された複数の光の光軸を互い
に異なる位置に変移する光軸変移手段（２１，５１，６
１）と、前記光軸変移手段（２１，５１，６１）で光軸が互いに
異なる位置に変移された前記複数の光（Ｌ₁₁〜Ｌ₁₄，Ｌ
₂₁〜Ｌ₂₆）を合成し、記録光として出力する合成手段
（２５）とを有することを特徴とする請求項１記載の露
光装置。
【請求項３】前記光軸変移手段（２１）は一対のレン
ズ（２８）よりなり、該一対のレンズ（２８）の中心軸
を互いに変移させることにより、光の光軸を変移させる
ことを特徴とする請求項２記載の露光装置。
【請求項４】前記複数の光は中央のうち位置する光に
比べて端部に位置する光の強度を低くする手段（２２，
２３，２４）を有することを特徴とする請求項２記載の
露光装置。
【請求項５】前記複数の光（Ｌ₁₁〜Ｌ₂₆）のうち中央
に位置する光（Ｌ₂₁，Ｌ₂₂）の強度を情報に応じて端部
に位置する光（Ｌ₂₃〜Ｌ₂₆）の強度に比べて低下させ、
前記溝（６１）の中央に該情報に応じた凹凸を形成する
変調手段（６４）を有することを特徴とする請求項２記
載の露光装置。