JPH09288848A - 光ディスク及び光ディスクの原盤露光機 - Google Patents
光ディスク及び光ディスクの原盤露光機Info
- Publication number
- JPH09288848A JPH09288848A JP8122338A JP12233896A JPH09288848A JP H09288848 A JPH09288848 A JP H09288848A JP 8122338 A JP8122338 A JP 8122338A JP 12233896 A JP12233896 A JP 12233896A JP H09288848 A JPH09288848 A JP H09288848A
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- JP
- Japan
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- groove
- recording
- depth
- substrate
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- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 L/G記録の高密度光ディスクにおいて、記
録された情報を正確に読み、安定してトラッキングでき
る光ディスク基板を提供する。 【解決手段】 レーザ管1から出射したレーザ光は光量
変調器2、パルス変調器3によって変調され、ビーム径
を対物レンズ8の回析限界まで絞るために、ビームエキ
スパンダ光学系4によって拡大される。拡大されたレー
ザ光はλ/2板51,PBS61で分割され、一方の光軸
は偏向器7へ入射し、もう一方はそのまま合成光学系へ
入射する。偏向器7に入射したレーザ光は偏向変調によ
り、角度変調が可能となる。2分割されたレーザ光は再
びλ/2板52,PBS62により合成されるが、この2
軸のレーザ光の光軸は同一ではなく、露光原盤の半径方
向に角度差を有する。その結果、対物レンズ8を通過後
の集光ビームスポット位置が半径方向にずれ、重なり合
って幅広の溝を形成する。
録された情報を正確に読み、安定してトラッキングでき
る光ディスク基板を提供する。 【解決手段】 レーザ管1から出射したレーザ光は光量
変調器2、パルス変調器3によって変調され、ビーム径
を対物レンズ8の回析限界まで絞るために、ビームエキ
スパンダ光学系4によって拡大される。拡大されたレー
ザ光はλ/2板51,PBS61で分割され、一方の光軸
は偏向器7へ入射し、もう一方はそのまま合成光学系へ
入射する。偏向器7に入射したレーザ光は偏向変調によ
り、角度変調が可能となる。2分割されたレーザ光は再
びλ/2板52,PBS62により合成されるが、この2
軸のレーザ光の光軸は同一ではなく、露光原盤の半径方
向に角度差を有する。その結果、対物レンズ8を通過後
の集光ビームスポット位置が半径方向にずれ、重なり合
って幅広の溝を形成する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスク及び光
ディスクの原盤露光機、より詳細には、高密度記録が可
能な光ディスク及び該光ディスクの原盤露光機に関す
る。
ディスクの原盤露光機、より詳細には、高密度記録が可
能な光ディスク及び該光ディスクの原盤露光機に関す
る。
【0002】
【従来の技術】特開平4−362526号公報には、L
/Gの光ディスクの溝深さを再生波長の1/8以下(例
えば、1/15〜1/20)と設定することで良好な信
号を得、また、L(ランド)とG(グルーブ)の幅を1
対1と設定して、ランド、グルーブに記録しても良好な
信号が得られ、高密度な記録メディアとすることができ
る光ディスクが記載されている。
/Gの光ディスクの溝深さを再生波長の1/8以下(例
えば、1/15〜1/20)と設定することで良好な信
号を得、また、L(ランド)とG(グルーブ)の幅を1
対1と設定して、ランド、グルーブに記録しても良好な
信号が得られ、高密度な記録メディアとすることができ
る光ディスクが記載されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記特開平4
−362526号公報に記載のような溝形状の範囲限定
では、L/G記録のような高密度光ディスクの場合、
L,Gの各々で良好な信号を得ることが難しく、不安定
な物となる。また、ランドとグルーブ比が1対1ではラ
ンド、グルーブで良好なトラッキング信号を得ることも
難しい。
−362526号公報に記載のような溝形状の範囲限定
では、L/G記録のような高密度光ディスクの場合、
L,Gの各々で良好な信号を得ることが難しく、不安定
な物となる。また、ランドとグルーブ比が1対1ではラ
ンド、グルーブで良好なトラッキング信号を得ることも
難しい。
【0004】本発明は、上述のごとき実情に鑑みてなさ
れたもので、L/G記録の高密度光ディスクにおいて、
記録された情報を正確に読み、安定してトラッキングで
きる光ディスク基板を提供しようとするものである。
れたもので、L/G記録の高密度光ディスクにおいて、
記録された情報を正確に読み、安定してトラッキングで
きる光ディスク基板を提供しようとするものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、L/
G記録の光ディイクにおいて、基板上に配置された溝形
状の溝深さをDとする時、その深さの範囲が、 0.16λ/n≦D≦0.20λ/n (λ:記録レーザ波長 n:基板屈折率) であることを特徴とし、もって、記録された情報信号を
正確に読み取ることができるようにするものである。
G記録の光ディイクにおいて、基板上に配置された溝形
状の溝深さをDとする時、その深さの範囲が、 0.16λ/n≦D≦0.20λ/n (λ:記録レーザ波長 n:基板屈折率) であることを特徴とし、もって、記録された情報信号を
正確に読み取ることができるようにするものである。
【0006】請求項2の発明は、L/G記録の光ディス
クにおいて、基板上に配置された溝形状の溝幅をWとす
る時、その溝幅の範囲が、 0.39ω≦W≦0.64ω (ω:記録再生レーザビーム径) であることを特徴とし、もって、良好なトラッキング信
号を得ることができるようにするものである。
クにおいて、基板上に配置された溝形状の溝幅をWとす
る時、その溝幅の範囲が、 0.39ω≦W≦0.64ω (ω:記録再生レーザビーム径) であることを特徴とし、もって、良好なトラッキング信
号を得ることができるようにするものである。
【0007】請求項3の発明は、L/G記録の光ディス
クにおいて、そのスタンパを製造する為の原盤露光機の
露光ビームは、2本のレーザ光を重ねて露光して溝形成
を行うものであることを特徴とし、もって、L/G対応
の幅広溝を形成するようにしたものである。
クにおいて、そのスタンパを製造する為の原盤露光機の
露光ビームは、2本のレーザ光を重ねて露光して溝形成
を行うものであることを特徴とし、もって、L/G対応
の幅広溝を形成するようにしたものである。
【0008】請求項4の発明は、請求項3に記載の発明
において、2ビーム光学系、ビーム整形光学系を共通光
学系とし、ビーム整形後、2個のビームに分割、合成す
ることを特徴とし、もって、原盤露光を行う露光レーザ
光の変動を低減させるようにしたものである。
において、2ビーム光学系、ビーム整形光学系を共通光
学系とし、ビーム整形後、2個のビームに分割、合成す
ることを特徴とし、もって、原盤露光を行う露光レーザ
光の変動を低減させるようにしたものである。
【0009】請求項5の発明は、請求項4に記載の発明
において、2軸の露光ビームの内1ビームに偏向装置を
有し、該偏向装置によって、角度調整を行うことを特徴
とし、もって、露光溝幅精度を向上させるようにしたも
のである。
において、2軸の露光ビームの内1ビームに偏向装置を
有し、該偏向装置によって、角度調整を行うことを特徴
とし、もって、露光溝幅精度を向上させるようにしたも
のである。
【0010】
(請求項1の発明)図1は、高密度光ディスクの溝形状
を説明するための要部拡大図、周知のように、Lはラン
ド(島)部、Gはグルーブ(溝)部を示す。図2は、ト
ラックピッチ1.48μmで形成された基板を記録再生
レーザの波長685nm,ビーム径0.93μmで測定
した「溝深さ−変調度」の結果を示す。図2によれば、
11T振幅が0.3以上となる時の溝形状は溝幅が0.
36〜0.60μmmの範囲で、0.36μmでも大き
な振幅を得るには、700Å以上の溝深さが必要である
ことがわかる。
を説明するための要部拡大図、周知のように、Lはラン
ド(島)部、Gはグルーブ(溝)部を示す。図2は、ト
ラックピッチ1.48μmで形成された基板を記録再生
レーザの波長685nm,ビーム径0.93μmで測定
した「溝深さ−変調度」の結果を示す。図2によれば、
11T振幅が0.3以上となる時の溝形状は溝幅が0.
36〜0.60μmmの範囲で、0.36μmでも大き
な振幅を得るには、700Å以上の溝深さが必要である
ことがわかる。
【0011】(請求項2の発明)図3は、図2と同条件
で測定した「溝深さ−FP/M」の結果を示す。図3に
よれば、安定してトラッキングがかかるためのプッシュ
プル信号(0.4以上)を得るための溝形状範囲は、溝
深さが200〜900Åであれば良く、この範囲であれ
ば、溝幅は0.36〜0.96μmの範囲で十分な振幅
を得ることができる。しかし、上記請求項1の結果の範
囲を加味して最適溝形状を選定すると、 溝幅 :0.36〜0.60μm 溝深さ :700〜900Å となる。
で測定した「溝深さ−FP/M」の結果を示す。図3に
よれば、安定してトラッキングがかかるためのプッシュ
プル信号(0.4以上)を得るための溝形状範囲は、溝
深さが200〜900Åであれば良く、この範囲であれ
ば、溝幅は0.36〜0.96μmの範囲で十分な振幅
を得ることができる。しかし、上記請求項1の結果の範
囲を加味して最適溝形状を選定すると、 溝幅 :0.36〜0.60μm 溝深さ :700〜900Å となる。
【0012】上記の結果から、トラックピッチにおける
最適溝形状が選定されたが、これは、記録再生ビームの
波長、ビーム径、基板屈折率で変わることが知られてお
り、その関係は以下の通りである。 溝深さD=k1×λ/n (λ:レーザ波長 n:基板屈折率1.58 k1:定
数) 溝幅W=k2×ω (ω:ビーム径 k2:定数) 従って、上記結果よりk1,k2を求めると 溝幅W:0.39ω≦W≦0.64ω 溝深さD:0.16λ/n≦D≦0.20λ/n となる。
最適溝形状が選定されたが、これは、記録再生ビームの
波長、ビーム径、基板屈折率で変わることが知られてお
り、その関係は以下の通りである。 溝深さD=k1×λ/n (λ:レーザ波長 n:基板屈折率1.58 k1:定
数) 溝幅W=k2×ω (ω:ビーム径 k2:定数) 従って、上記結果よりk1,k2を求めると 溝幅W:0.39ω≦W≦0.64ω 溝深さD:0.16λ/n≦D≦0.20λ/n となる。
【0013】(請求項3の発明)図4は、本発明による
幅広溝形状成法を説明するための概略構成図で、図示の
ように、原盤露光機の対物レンズ光軸に対して露光半径
方向に異なる入射角でレーザ光L1,L2を入射させるこ
とで、原盤10上の記録スポットは同一位置ではなく、
離れた位置に集光し集光ビーム径よりも広い溝露光を行
うことができる。対物レンズ8によって集光されるビー
ム径ωOは ωO=λ/NA で表わされ、λ=457.9nm,NA=0.9の条件
で実験したところ、1μm程度までの溝を形成した。
幅広溝形状成法を説明するための概略構成図で、図示の
ように、原盤露光機の対物レンズ光軸に対して露光半径
方向に異なる入射角でレーザ光L1,L2を入射させるこ
とで、原盤10上の記録スポットは同一位置ではなく、
離れた位置に集光し集光ビーム径よりも広い溝露光を行
うことができる。対物レンズ8によって集光されるビー
ム径ωOは ωO=λ/NA で表わされ、λ=457.9nm,NA=0.9の条件
で実験したところ、1μm程度までの溝を形成した。
【0014】(請求項4の発明)図5は、本発明の露光
光学系を説明するための図で、レーザ管1(Arレー
ザ)から出射したレーザ光は光量変調器2、パルス変調
器3によって変調され、ビーム径を対物レンズ8で回析
限界まで絞るために、ビームエキスパンダ光学系4によ
って拡大される。拡大されたレーザ光はその後、λ/2
板51を通した後、PBS61で分割され、一方の光は偏
向器7へ入射し、もう一方はそのまま合成光学系へ入射
する。偏向器7に入射したレーザ光は偏向変調により、
角度変調が可能となる。2分割されたレーザ光は再び合
成光学系λ/2板52(PBS62)により合成される
が、この2軸のレーザ光の光軸は同一ではなく、露光原
盤の半径方向に角度差がある。その結果、対物レンズ8
を通過後の集光ビームスポット位置は半径方向にずれ、
そのため、図4に示したように、重なり合って幅広の溝
を形成することができる。
光学系を説明するための図で、レーザ管1(Arレー
ザ)から出射したレーザ光は光量変調器2、パルス変調
器3によって変調され、ビーム径を対物レンズ8で回析
限界まで絞るために、ビームエキスパンダ光学系4によ
って拡大される。拡大されたレーザ光はその後、λ/2
板51を通した後、PBS61で分割され、一方の光は偏
向器7へ入射し、もう一方はそのまま合成光学系へ入射
する。偏向器7に入射したレーザ光は偏向変調により、
角度変調が可能となる。2分割されたレーザ光は再び合
成光学系λ/2板52(PBS62)により合成される
が、この2軸のレーザ光の光軸は同一ではなく、露光原
盤の半径方向に角度差がある。その結果、対物レンズ8
を通過後の集光ビームスポット位置は半径方向にずれ、
そのため、図4に示したように、重なり合って幅広の溝
を形成することができる。
【0015】(請求項5の発明)図6は、偏向変調器7
による角度変調を説明するための図で、図7は露光パワ
ーと溝幅の関係を示した図で、溝幅は露光パワーによっ
て溝幅を変えることが可能ではあるが、偏向器7の角度
変調によって2個のレーザスポットの位置を動かすこと
ができ、溝幅を調整することができる。そのため、露光
パワーの調整では調整しきれない微調整を補正すること
がてきる。また、レーザ出力も少なくて所望の溝幅を得
ることができる。
による角度変調を説明するための図で、図7は露光パワ
ーと溝幅の関係を示した図で、溝幅は露光パワーによっ
て溝幅を変えることが可能ではあるが、偏向器7の角度
変調によって2個のレーザスポットの位置を動かすこと
ができ、溝幅を調整することができる。そのため、露光
パワーの調整では調整しきれない微調整を補正すること
がてきる。また、レーザ出力も少なくて所望の溝幅を得
ることができる。
【0016】
【発明の効果】請求項1の発明によると、L/G記録の
光ディイクにおいて、基板上に配置された溝形状の溝深
さをDとする時、その深さの範囲を、 0.16λ/n≦D≦0.20λ/n (λ:記録レーザ波長 n:基板屈折率) と限定することで、11T振幅が0.3以上となり、記
録した情報を正確に読み取ることができる。
光ディイクにおいて、基板上に配置された溝形状の溝深
さをDとする時、その深さの範囲を、 0.16λ/n≦D≦0.20λ/n (λ:記録レーザ波長 n:基板屈折率) と限定することで、11T振幅が0.3以上となり、記
録した情報を正確に読み取ることができる。
【0017】請求項2の発明によると、L/G記録の光
ディスクにおいて、基板上に配置された溝形状の溝幅を
Wとする時、その溝幅の範囲を、 0.39ω≦W≦0.64ω (ω:記録再生レーザビーム径) と限定することで、プッシュプル信号が0.5以上とな
るため良好なトラッキング信号が得られ、記録再生ビー
ムが正確に溝にトラッキングしていくことが可能とな
る。
ディスクにおいて、基板上に配置された溝形状の溝幅を
Wとする時、その溝幅の範囲を、 0.39ω≦W≦0.64ω (ω:記録再生レーザビーム径) と限定することで、プッシュプル信号が0.5以上とな
るため良好なトラッキング信号が得られ、記録再生ビー
ムが正確に溝にトラッキングしていくことが可能とな
る。
【0018】請求項3の発明によると、L/G記録の光
ディスクにおいて、そのスタンパを製造する為の原盤露
光機の露光ビームは、2本のレーザ光を重ねて露光し溝
形成を行うことで、露光ビームスポットより幅広の溝を
露光することが可能となるため、例えば、溝0.74μ
m、ランド0.74μmといった基板溝形状を作ること
が可能となる。また、この時、請求項1,2の条件を満
たすことでランド及びグルーブに情報を正確に記録再生
することが可能となる。
ディスクにおいて、そのスタンパを製造する為の原盤露
光機の露光ビームは、2本のレーザ光を重ねて露光し溝
形成を行うことで、露光ビームスポットより幅広の溝を
露光することが可能となるため、例えば、溝0.74μ
m、ランド0.74μmといった基板溝形状を作ること
が可能となる。また、この時、請求項1,2の条件を満
たすことでランド及びグルーブに情報を正確に記録再生
することが可能となる。
【0019】請求項4の発明によると、2ビーム光学
系、ビーム整形光学系を共通光学系とし、ビーム整形後
2個のビームに分割、合成することで、一つのビーム形
状を分割しているため分割されたレーザ光のビーム形状
は同一となる。また、分割するまでの光学系が一つで良
いので、光学系の構成がシンプルで容易な調整が可能と
なる。
系、ビーム整形光学系を共通光学系とし、ビーム整形後
2個のビームに分割、合成することで、一つのビーム形
状を分割しているため分割されたレーザ光のビーム形状
は同一となる。また、分割するまでの光学系が一つで良
いので、光学系の構成がシンプルで容易な調整が可能と
なる。
【0020】請求項5の発明によると、2軸の露光ビー
ムの内1ビームに偏向装置があり、該偏向装置によっ
て、角度調整を行うことで、溝幅の調整が光量調整だけ
ではなく、2ビームのスポット位置により調整可能とな
るので、溝幅の微調整が可能となる。また、レーザ出力
を上げて露光する必要がないので、レーザチューブにダ
メージが少なくライフタイムが伸びる。
ムの内1ビームに偏向装置があり、該偏向装置によっ
て、角度調整を行うことで、溝幅の調整が光量調整だけ
ではなく、2ビームのスポット位置により調整可能とな
るので、溝幅の微調整が可能となる。また、レーザ出力
を上げて露光する必要がないので、レーザチューブにダ
メージが少なくライフタイムが伸びる。
【図1】 高密度光ディスクの溝形状を説明するための
図である。
図である。
【図2】 トラックピッチ1.48μmで形成された基
板を記録再生レーザの波長685nm,ビーム径0.9
3μmで測定した「溝深さ−変調度」の結果を示す図で
ある。
板を記録再生レーザの波長685nm,ビーム径0.9
3μmで測定した「溝深さ−変調度」の結果を示す図で
ある。
【図3】 図2と同条件で測定した「溝深さ−FP/
M」の結果を示す図である。
M」の結果を示す図である。
【図4】 本発明による幅広溝形状成法を説明するため
の図である。
の図である。
【図5】 本発明の露光光学系を説明するための図であ
る。
る。
【図6】 偏向変調器7による角度変調を説明するため
の図である。
の図である。
【図7】 露光パワーと溝幅の関係を示した図である。
1…Arビーム、2…光量変調器、3…パルス変調器、
4…ビームエキスパンダ、5…λ/2板、6…PBS、
7…偏向変調器、8…対物レンズ、9…駆動回路、10
…基板。
4…ビームエキスパンダ、5…λ/2板、6…PBS、
7…偏向変調器、8…対物レンズ、9…駆動回路、10
…基板。
Claims (5)
- 【請求項1】 L/G記録の光ディイクにおいて、基板
上に配置された溝形状の溝深さをDとすると、その深さ
の範囲が、 0.16λ/n≦D≦0.20λ/n (λ:記録レーザ波長 n:基板屈折率) であることを特徴とする光ディスク。 - 【請求項2】 L/G記録の光ディスクにおいて、基板
上に配置された溝形状の溝幅をWとすると、その溝幅の
範囲が、 0.39ω≦W≦0.64ω (ω:記録再生レーザビーム径) であることを特徴とする光ディスク。 - 【請求項3】 L/G記録の光ディスクにおいて、その
スタンパを製造する為の原盤露光機の露光ビームは、2
本のレーザ光を重ねて露光して溝形成を行うものである
ことを特徴とする光ディスクの原盤露光機。 - 【請求項4】 請求項3の光ディスクの原盤露光機にお
いて、前記レーザ光はビーム光学系、ビーム整形光学系
を共通光学系とし、ビーム整形後、2本のビームに分
割、合成するものであることを特徴とする光ディスクの
原盤露光機。 - 【請求項5】 請求項4のビーム光学系において、2軸
の露光ビームの内1ビームに偏向装置を有し、該偏向装
置によって、角度調整を行うことを特徴とする光ディス
クの原盤露光機。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8122338A JPH09288848A (ja) | 1996-04-18 | 1996-04-18 | 光ディスク及び光ディスクの原盤露光機 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8122338A JPH09288848A (ja) | 1996-04-18 | 1996-04-18 | 光ディスク及び光ディスクの原盤露光機 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09288848A true JPH09288848A (ja) | 1997-11-04 |
Family
ID=14833501
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8122338A Pending JPH09288848A (ja) | 1996-04-18 | 1996-04-18 | 光ディスク及び光ディスクの原盤露光機 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH09288848A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN100356465C (zh) * | 2000-11-10 | 2007-12-19 | 先锋株式会社 | 光盘 |
-
1996
- 1996-04-18 JP JP8122338A patent/JPH09288848A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN100356465C (zh) * | 2000-11-10 | 2007-12-19 | 先锋株式会社 | 光盘 |
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