JPH09288848A - 光ディスク及び光ディスクの原盤露光機 - Google Patents
光ディスク及び光ディスクの原盤露光機Info
- Publication number
- JPH09288848A JPH09288848A JP8122338A JP12233896A JPH09288848A JP H09288848 A JPH09288848 A JP H09288848A JP 8122338 A JP8122338 A JP 8122338A JP 12233896 A JP12233896 A JP 12233896A JP H09288848 A JPH09288848 A JP H09288848A
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- JP
- Japan
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- groove
- recording
- depth
- substrate
- optical
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- Pending
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- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 Ｌ／Ｇ記録の高密度光ディスクにおいて、記
録された情報を正確に読み、安定してトラッキングでき
る光ディスク基板を提供する。 【解決手段】 レーザ管１から出射したレーザ光は光量
変調器２、パルス変調器３によって変調され、ビーム径
を対物レンズ８の回析限界まで絞るために、ビームエキ
スパンダ光学系４によって拡大される。拡大されたレー
ザ光はλ／２板５1，ＰＢＳ６1で分割され、一方の光軸
は偏向器７へ入射し、もう一方はそのまま合成光学系へ
入射する。偏向器７に入射したレーザ光は偏向変調によ
り、角度変調が可能となる。２分割されたレーザ光は再
びλ／２板５2，ＰＢＳ６2により合成されるが、この２
軸のレーザ光の光軸は同一ではなく、露光原盤の半径方
向に角度差を有する。その結果、対物レンズ８を通過後
の集光ビームスポット位置が半径方向にずれ、重なり合
って幅広の溝を形成する。
録された情報を正確に読み、安定してトラッキングでき
る光ディスク基板を提供する。 【解決手段】 レーザ管１から出射したレーザ光は光量
変調器２、パルス変調器３によって変調され、ビーム径
を対物レンズ８の回析限界まで絞るために、ビームエキ
スパンダ光学系４によって拡大される。拡大されたレー
ザ光はλ／２板５1，ＰＢＳ６1で分割され、一方の光軸
は偏向器７へ入射し、もう一方はそのまま合成光学系へ
入射する。偏向器７に入射したレーザ光は偏向変調によ
り、角度変調が可能となる。２分割されたレーザ光は再
びλ／２板５2，ＰＢＳ６2により合成されるが、この２
軸のレーザ光の光軸は同一ではなく、露光原盤の半径方
向に角度差を有する。その結果、対物レンズ８を通過後
の集光ビームスポット位置が半径方向にずれ、重なり合
って幅広の溝を形成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスク及び光
ディスクの原盤露光機、より詳細には、高密度記録が可
能な光ディスク及び該光ディスクの原盤露光機に関す
る。
ディスクの原盤露光機、より詳細には、高密度記録が可
能な光ディスク及び該光ディスクの原盤露光機に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】特開平４−３６２５２６号公報には、Ｌ
／Ｇの光ディスクの溝深さを再生波長の１／８以下（例
えば、１／１５〜１／２０）と設定することで良好な信
号を得、また、Ｌ（ランド）とＧ（グルーブ）の幅を１
対１と設定して、ランド、グルーブに記録しても良好な
信号が得られ、高密度な記録メディアとすることができ
る光ディスクが記載されている。
／Ｇの光ディスクの溝深さを再生波長の１／８以下（例
えば、１／１５〜１／２０）と設定することで良好な信
号を得、また、Ｌ（ランド）とＧ（グルーブ）の幅を１
対１と設定して、ランド、グルーブに記録しても良好な
信号が得られ、高密度な記録メディアとすることができ
る光ディスクが記載されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記特開平４
−３６２５２６号公報に記載のような溝形状の範囲限定
では、Ｌ／Ｇ記録のような高密度光ディスクの場合、
Ｌ，Ｇの各々で良好な信号を得ることが難しく、不安定
な物となる。また、ランドとグルーブ比が１対１ではラ
ンド、グルーブで良好なトラッキング信号を得ることも
難しい。
−３６２５２６号公報に記載のような溝形状の範囲限定
では、Ｌ／Ｇ記録のような高密度光ディスクの場合、
Ｌ，Ｇの各々で良好な信号を得ることが難しく、不安定
な物となる。また、ランドとグルーブ比が１対１ではラ
ンド、グルーブで良好なトラッキング信号を得ることも
難しい。
【０００４】本発明は、上述のごとき実情に鑑みてなさ
れたもので、Ｌ／Ｇ記録の高密度光ディスクにおいて、
記録された情報を正確に読み、安定してトラッキングで
きる光ディスク基板を提供しようとするものである。
れたもので、Ｌ／Ｇ記録の高密度光ディスクにおいて、
記録された情報を正確に読み、安定してトラッキングで
きる光ディスク基板を提供しようとするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、Ｌ／
Ｇ記録の光ディイクにおいて、基板上に配置された溝形
状の溝深さをＤとする時、その深さの範囲が、 ０．１６λ／ｎ≦Ｄ≦０．２０λ／ｎ （λ：記録レーザ波長 ｎ：基板屈折率） であることを特徴とし、もって、記録された情報信号を
正確に読み取ることができるようにするものである。
Ｇ記録の光ディイクにおいて、基板上に配置された溝形
状の溝深さをＤとする時、その深さの範囲が、 ０．１６λ／ｎ≦Ｄ≦０．２０λ／ｎ （λ：記録レーザ波長 ｎ：基板屈折率） であることを特徴とし、もって、記録された情報信号を
正確に読み取ることができるようにするものである。
【０００６】請求項２の発明は、Ｌ／Ｇ記録の光ディス
クにおいて、基板上に配置された溝形状の溝幅をＷとす
る時、その溝幅の範囲が、 ０．３９ω≦Ｗ≦０．６４ω （ω：記録再生レーザビーム径） であることを特徴とし、もって、良好なトラッキング信
号を得ることができるようにするものである。
クにおいて、基板上に配置された溝形状の溝幅をＷとす
る時、その溝幅の範囲が、 ０．３９ω≦Ｗ≦０．６４ω （ω：記録再生レーザビーム径） であることを特徴とし、もって、良好なトラッキング信
号を得ることができるようにするものである。
【０００７】請求項３の発明は、Ｌ／Ｇ記録の光ディス
クにおいて、そのスタンパを製造する為の原盤露光機の
露光ビームは、２本のレーザ光を重ねて露光して溝形成
を行うものであることを特徴とし、もって、Ｌ／Ｇ対応
の幅広溝を形成するようにしたものである。
クにおいて、そのスタンパを製造する為の原盤露光機の
露光ビームは、２本のレーザ光を重ねて露光して溝形成
を行うものであることを特徴とし、もって、Ｌ／Ｇ対応
の幅広溝を形成するようにしたものである。
【０００８】請求項４の発明は、請求項３に記載の発明
において、２ビーム光学系、ビーム整形光学系を共通光
学系とし、ビーム整形後、２個のビームに分割、合成す
ることを特徴とし、もって、原盤露光を行う露光レーザ
光の変動を低減させるようにしたものである。
において、２ビーム光学系、ビーム整形光学系を共通光
学系とし、ビーム整形後、２個のビームに分割、合成す
ることを特徴とし、もって、原盤露光を行う露光レーザ
光の変動を低減させるようにしたものである。
【０００９】請求項５の発明は、請求項４に記載の発明
において、２軸の露光ビームの内１ビームに偏向装置を
有し、該偏向装置によって、角度調整を行うことを特徴
とし、もって、露光溝幅精度を向上させるようにしたも
のである。
において、２軸の露光ビームの内１ビームに偏向装置を
有し、該偏向装置によって、角度調整を行うことを特徴
とし、もって、露光溝幅精度を向上させるようにしたも
のである。
【００１０】
（請求項１の発明）図１は、高密度光ディスクの溝形状
を説明するための要部拡大図、周知のように、Ｌはラン
ド（島）部、Ｇはグルーブ（溝）部を示す。図２は、ト
ラックピッチ１．４８μｍで形成された基板を記録再生
レーザの波長６８５ｎｍ，ビーム径０．９３μｍで測定
した「溝深さ−変調度」の結果を示す。図２によれば、
１１Ｔ振幅が０．３以上となる時の溝形状は溝幅が０．
３６〜０．６０μｍｍの範囲で、０．３６μｍでも大き
な振幅を得るには、７００Å以上の溝深さが必要である
ことがわかる。
を説明するための要部拡大図、周知のように、Ｌはラン
ド（島）部、Ｇはグルーブ（溝）部を示す。図２は、ト
ラックピッチ１．４８μｍで形成された基板を記録再生
レーザの波長６８５ｎｍ，ビーム径０．９３μｍで測定
した「溝深さ−変調度」の結果を示す。図２によれば、
１１Ｔ振幅が０．３以上となる時の溝形状は溝幅が０．
３６〜０．６０μｍｍの範囲で、０．３６μｍでも大き
な振幅を得るには、７００Å以上の溝深さが必要である
ことがわかる。
【００１１】（請求項２の発明）図３は、図２と同条件
で測定した「溝深さ−ＦＰ／Ｍ」の結果を示す。図３に
よれば、安定してトラッキングがかかるためのプッシュ
プル信号（０．４以上）を得るための溝形状範囲は、溝
深さが２００〜９００Åであれば良く、この範囲であれ
ば、溝幅は０．３６〜０．９６μｍの範囲で十分な振幅
を得ることができる。しかし、上記請求項１の結果の範
囲を加味して最適溝形状を選定すると、 溝幅 ：０．３６〜０．６０μｍ 溝深さ ：７００〜９００Å となる。
で測定した「溝深さ−ＦＰ／Ｍ」の結果を示す。図３に
よれば、安定してトラッキングがかかるためのプッシュ
プル信号（０．４以上）を得るための溝形状範囲は、溝
深さが２００〜９００Åであれば良く、この範囲であれ
ば、溝幅は０．３６〜０．９６μｍの範囲で十分な振幅
を得ることができる。しかし、上記請求項１の結果の範
囲を加味して最適溝形状を選定すると、 溝幅 ：０．３６〜０．６０μｍ 溝深さ ：７００〜９００Å となる。
【００１２】上記の結果から、トラックピッチにおける
最適溝形状が選定されたが、これは、記録再生ビームの
波長、ビーム径、基板屈折率で変わることが知られてお
り、その関係は以下の通りである。 溝深さＤ＝ｋ１×λ／ｎ （λ：レーザ波長 ｎ：基板屈折率１．５８ ｋ１：定
数） 溝幅Ｗ＝ｋ２×ω （ω：ビーム径 ｋ２：定数） 従って、上記結果よりｋ１，ｋ２を求めると 溝幅Ｗ：０．３９ω≦Ｗ≦０．６４ω 溝深さＤ：０．１６λ／ｎ≦Ｄ≦０．２０λ／ｎ となる。
最適溝形状が選定されたが、これは、記録再生ビームの
波長、ビーム径、基板屈折率で変わることが知られてお
り、その関係は以下の通りである。 溝深さＤ＝ｋ１×λ／ｎ （λ：レーザ波長 ｎ：基板屈折率１．５８ ｋ１：定
数） 溝幅Ｗ＝ｋ２×ω （ω：ビーム径 ｋ２：定数） 従って、上記結果よりｋ１，ｋ２を求めると 溝幅Ｗ：０．３９ω≦Ｗ≦０．６４ω 溝深さＤ：０．１６λ／ｎ≦Ｄ≦０．２０λ／ｎ となる。
【００１３】（請求項３の発明）図４は、本発明による
幅広溝形状成法を説明するための概略構成図で、図示の
ように、原盤露光機の対物レンズ光軸に対して露光半径
方向に異なる入射角でレーザ光Ｌ1，Ｌ2を入射させるこ
とで、原盤１０上の記録スポットは同一位置ではなく、
離れた位置に集光し集光ビーム径よりも広い溝露光を行
うことができる。対物レンズ８によって集光されるビー
ム径ωＯは ωＯ＝λ／ＮＡ で表わされ、λ＝４５７．９ｎｍ，ＮＡ＝０．９の条件
で実験したところ、１μｍ程度までの溝を形成した。
幅広溝形状成法を説明するための概略構成図で、図示の
ように、原盤露光機の対物レンズ光軸に対して露光半径
方向に異なる入射角でレーザ光Ｌ1，Ｌ2を入射させるこ
とで、原盤１０上の記録スポットは同一位置ではなく、
離れた位置に集光し集光ビーム径よりも広い溝露光を行
うことができる。対物レンズ８によって集光されるビー
ム径ωＯは ωＯ＝λ／ＮＡ で表わされ、λ＝４５７．９ｎｍ，ＮＡ＝０．９の条件
で実験したところ、１μｍ程度までの溝を形成した。
【００１４】（請求項４の発明）図５は、本発明の露光
光学系を説明するための図で、レーザ管１（Ａｒレー
ザ）から出射したレーザ光は光量変調器２、パルス変調
器３によって変調され、ビーム径を対物レンズ８で回析
限界まで絞るために、ビームエキスパンダ光学系４によ
って拡大される。拡大されたレーザ光はその後、λ／２
板５1を通した後、ＰＢＳ６1で分割され、一方の光は偏
向器７へ入射し、もう一方はそのまま合成光学系へ入射
する。偏向器７に入射したレーザ光は偏向変調により、
角度変調が可能となる。２分割されたレーザ光は再び合
成光学系λ／２板５2（ＰＢＳ６2）により合成される
が、この２軸のレーザ光の光軸は同一ではなく、露光原
盤の半径方向に角度差がある。その結果、対物レンズ８
を通過後の集光ビームスポット位置は半径方向にずれ、
そのため、図４に示したように、重なり合って幅広の溝
を形成することができる。
光学系を説明するための図で、レーザ管１（Ａｒレー
ザ）から出射したレーザ光は光量変調器２、パルス変調
器３によって変調され、ビーム径を対物レンズ８で回析
限界まで絞るために、ビームエキスパンダ光学系４によ
って拡大される。拡大されたレーザ光はその後、λ／２
板５1を通した後、ＰＢＳ６1で分割され、一方の光は偏
向器７へ入射し、もう一方はそのまま合成光学系へ入射
する。偏向器７に入射したレーザ光は偏向変調により、
角度変調が可能となる。２分割されたレーザ光は再び合
成光学系λ／２板５2（ＰＢＳ６2）により合成される
が、この２軸のレーザ光の光軸は同一ではなく、露光原
盤の半径方向に角度差がある。その結果、対物レンズ８
を通過後の集光ビームスポット位置は半径方向にずれ、
そのため、図４に示したように、重なり合って幅広の溝
を形成することができる。
【００１５】（請求項５の発明）図６は、偏向変調器７
による角度変調を説明するための図で、図７は露光パワ
ーと溝幅の関係を示した図で、溝幅は露光パワーによっ
て溝幅を変えることが可能ではあるが、偏向器７の角度
変調によって２個のレーザスポットの位置を動かすこと
ができ、溝幅を調整することができる。そのため、露光
パワーの調整では調整しきれない微調整を補正すること
がてきる。また、レーザ出力も少なくて所望の溝幅を得
ることができる。
による角度変調を説明するための図で、図７は露光パワ
ーと溝幅の関係を示した図で、溝幅は露光パワーによっ
て溝幅を変えることが可能ではあるが、偏向器７の角度
変調によって２個のレーザスポットの位置を動かすこと
ができ、溝幅を調整することができる。そのため、露光
パワーの調整では調整しきれない微調整を補正すること
がてきる。また、レーザ出力も少なくて所望の溝幅を得
ることができる。
【００１６】
【発明の効果】請求項１の発明によると、Ｌ／Ｇ記録の
光ディイクにおいて、基板上に配置された溝形状の溝深
さをＤとする時、その深さの範囲を、 ０．１６λ／ｎ≦Ｄ≦０．２０λ／ｎ （λ：記録レーザ波長 ｎ：基板屈折率） と限定することで、１１Ｔ振幅が０．３以上となり、記
録した情報を正確に読み取ることができる。
光ディイクにおいて、基板上に配置された溝形状の溝深
さをＤとする時、その深さの範囲を、 ０．１６λ／ｎ≦Ｄ≦０．２０λ／ｎ （λ：記録レーザ波長 ｎ：基板屈折率） と限定することで、１１Ｔ振幅が０．３以上となり、記
録した情報を正確に読み取ることができる。
【００１７】請求項２の発明によると、Ｌ／Ｇ記録の光
ディスクにおいて、基板上に配置された溝形状の溝幅を
Ｗとする時、その溝幅の範囲を、 ０．３９ω≦Ｗ≦０．６４ω （ω：記録再生レーザビーム径） と限定することで、プッシュプル信号が０．５以上とな
るため良好なトラッキング信号が得られ、記録再生ビー
ムが正確に溝にトラッキングしていくことが可能とな
る。
ディスクにおいて、基板上に配置された溝形状の溝幅を
Ｗとする時、その溝幅の範囲を、 ０．３９ω≦Ｗ≦０．６４ω （ω：記録再生レーザビーム径） と限定することで、プッシュプル信号が０．５以上とな
るため良好なトラッキング信号が得られ、記録再生ビー
ムが正確に溝にトラッキングしていくことが可能とな
る。
【００１８】請求項３の発明によると、Ｌ／Ｇ記録の光
ディスクにおいて、そのスタンパを製造する為の原盤露
光機の露光ビームは、２本のレーザ光を重ねて露光し溝
形成を行うことで、露光ビームスポットより幅広の溝を
露光することが可能となるため、例えば、溝０．７４μ
ｍ、ランド０．７４μｍといった基板溝形状を作ること
が可能となる。また、この時、請求項１，２の条件を満
たすことでランド及びグルーブに情報を正確に記録再生
することが可能となる。
ディスクにおいて、そのスタンパを製造する為の原盤露
光機の露光ビームは、２本のレーザ光を重ねて露光し溝
形成を行うことで、露光ビームスポットより幅広の溝を
露光することが可能となるため、例えば、溝０．７４μ
ｍ、ランド０．７４μｍといった基板溝形状を作ること
が可能となる。また、この時、請求項１，２の条件を満
たすことでランド及びグルーブに情報を正確に記録再生
することが可能となる。
【００１９】請求項４の発明によると、２ビーム光学
系、ビーム整形光学系を共通光学系とし、ビーム整形後
２個のビームに分割、合成することで、一つのビーム形
状を分割しているため分割されたレーザ光のビーム形状
は同一となる。また、分割するまでの光学系が一つで良
いので、光学系の構成がシンプルで容易な調整が可能と
なる。
系、ビーム整形光学系を共通光学系とし、ビーム整形後
２個のビームに分割、合成することで、一つのビーム形
状を分割しているため分割されたレーザ光のビーム形状
は同一となる。また、分割するまでの光学系が一つで良
いので、光学系の構成がシンプルで容易な調整が可能と
なる。
【００２０】請求項５の発明によると、２軸の露光ビー
ムの内１ビームに偏向装置があり、該偏向装置によっ
て、角度調整を行うことで、溝幅の調整が光量調整だけ
ではなく、２ビームのスポット位置により調整可能とな
るので、溝幅の微調整が可能となる。また、レーザ出力
を上げて露光する必要がないので、レーザチューブにダ
メージが少なくライフタイムが伸びる。
ムの内１ビームに偏向装置があり、該偏向装置によっ
て、角度調整を行うことで、溝幅の調整が光量調整だけ
ではなく、２ビームのスポット位置により調整可能とな
るので、溝幅の微調整が可能となる。また、レーザ出力
を上げて露光する必要がないので、レーザチューブにダ
メージが少なくライフタイムが伸びる。
【図１】 高密度光ディスクの溝形状を説明するための
図である。
図である。
【図２】 トラックピッチ１．４８μｍで形成された基
板を記録再生レーザの波長６８５ｎｍ，ビーム径０．９
３μｍで測定した「溝深さ−変調度」の結果を示す図で
ある。
板を記録再生レーザの波長６８５ｎｍ，ビーム径０．９
３μｍで測定した「溝深さ−変調度」の結果を示す図で
ある。
【図３】 図２と同条件で測定した「溝深さ−ＦＰ／
Ｍ」の結果を示す図である。
Ｍ」の結果を示す図である。
【図４】 本発明による幅広溝形状成法を説明するため
の図である。
の図である。
【図５】 本発明の露光光学系を説明するための図であ
る。
る。
【図６】 偏向変調器７による角度変調を説明するため
の図である。
の図である。
【図７】 露光パワーと溝幅の関係を示した図である。
１…Ａｒビーム、２…光量変調器、３…パルス変調器、
４…ビームエキスパンダ、５…λ／２板、６…ＰＢＳ、
７…偏向変調器、８…対物レンズ、９…駆動回路、１０
…基板。
４…ビームエキスパンダ、５…λ／２板、６…ＰＢＳ、
７…偏向変調器、８…対物レンズ、９…駆動回路、１０
…基板。
Claims (5)
- 【請求項１】 Ｌ／Ｇ記録の光ディイクにおいて、基板
上に配置された溝形状の溝深さをＤとすると、その深さ
の範囲が、 ０．１６λ／ｎ≦Ｄ≦０．２０λ／ｎ （λ：記録レーザ波長 ｎ：基板屈折率） であることを特徴とする光ディスク。 - 【請求項２】 Ｌ／Ｇ記録の光ディスクにおいて、基板
上に配置された溝形状の溝幅をＷとすると、その溝幅の
範囲が、 ０．３９ω≦Ｗ≦０．６４ω （ω：記録再生レーザビーム径） であることを特徴とする光ディスク。 - 【請求項３】 Ｌ／Ｇ記録の光ディスクにおいて、その
スタンパを製造する為の原盤露光機の露光ビームは、２
本のレーザ光を重ねて露光して溝形成を行うものである
ことを特徴とする光ディスクの原盤露光機。 - 【請求項４】 請求項３の光ディスクの原盤露光機にお
いて、前記レーザ光はビーム光学系、ビーム整形光学系
を共通光学系とし、ビーム整形後、２本のビームに分
割、合成するものであることを特徴とする光ディスクの
原盤露光機。 - 【請求項５】 請求項４のビーム光学系において、２軸
の露光ビームの内１ビームに偏向装置を有し、該偏向装
置によって、角度調整を行うことを特徴とする光ディス
クの原盤露光機。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8122338A JPH09288848A (ja) | 1996-04-18 | 1996-04-18 | 光ディスク及び光ディスクの原盤露光機 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8122338A JPH09288848A (ja) | 1996-04-18 | 1996-04-18 | 光ディスク及び光ディスクの原盤露光機 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09288848A true JPH09288848A (ja) | 1997-11-04 |
Family
ID=14833501
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8122338A Pending JPH09288848A (ja) | 1996-04-18 | 1996-04-18 | 光ディスク及び光ディスクの原盤露光機 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09288848A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100356465C (zh) * | 2000-11-10 | 2007-12-19 | 先锋株式会社 | 光盘 |
-
1996
- 1996-04-18 JP JP8122338A patent/JPH09288848A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100356465C (zh) * | 2000-11-10 | 2007-12-19 | 先锋株式会社 | 光盘 |
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